JP3507472B2 - 半導体装置、それを用いた固体撮像装置及び撮像システム - Google Patents
半導体装置、それを用いた固体撮像装置及び撮像システムInfo
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Description
レキシブル配線フィルム、それを用いた半導体装置及び
システムに関し、特に、ビデオカメラ、デジタルスチル
カメラなどの画像入力機器に用いられるフレキシブル配
線フィルム、それを用いた半導体装置、固体撮像装置及
びシステムに関する。
メラなどの画像入力機器に用いられるCCD撮像素子や
MOS型撮像素子は、シリコンウエハ等の半導体基板上
に形成されることが多い。半導体工程終了のシリコンウ
エハは、カラーフィルタ及びマイクロレンズ形成工程に
おいて、アクリル系材料等を用いて、カラーフィルタ、
マイクロレンズの順で形成される。
固体撮像素子チップは、セラミックパッケージなどに収
納され、ワイヤーボンディングにより、チップとリード
との間で電気的な接続がされ、ガラス基板のキャップが
パッケージ上に接着されている。
ある。図9に示すように、受光部を図面の上側に向けて
配置された複数のCCD撮像素子やMOS型撮像素子な
どの固体撮像素子及びそれらに光を集めるマイクロレン
ズ12が備えられた固体撮像素子チップ2上に、Auバ
ンプ4を介してポリイミドフィルムやガラスエポキシテ
ープ等の絶縁性ベースフィルム8,9とで挟まれた銅箔
などのリード3が電気的に接続されている。
隔だけ離れて平行に配置され、ARコート(Anti Refle
ction Coating)7aと称される屈折率の異なる1種類あ
るいは2種類の薄膜が施されているカバーガラス1の一
方の面と、リード3が接続された固体撮像素子チップ2
とが、遮光薄膜7bを介してフィラーが高充填されたエ
ポキシ系などのシール剤5により接着されている。この
ようなリード3を用いた固体撮像装置は、たとえばワイ
ヤーボンディングしたセラミックパッケージに比べ小型
で、薄型にすることができる。
施されたAuめっきとの結合力は弱いために、これらの
剥離が発生しやすい。このような界面剥離が発生すると
半導体装置の使用環境下において供給される水分が、搭
載した半導体素子の表面に浸入しやすくなるため素子上
の配線電極が腐食し、電気的ショート又はオープンを生
じやすい。よって、シール剤5とリード3との結合力を
弱めないようにする必要がある。
たようなリード3の平面図である。図10には、塗布し
たシール剤の流速の程度を矢印13で示している。本発
明者の知見によれば、図10に示すように、リード3上
を流れるシール剤は、リード3上以外の部分を流れるシ
ール剤よりも遅く流れることが判った。この速度の差
は、リード3の流動抵抗とリード3以外の部分との流動
抵抗との差に依存する。
リード3の先端3cでは、リード3上以外を流れるシー
ル剤の回り込みが生じ、このシール材とインナリード3
a側からリード3の上を流れてきたシール剤とが衝突
し、合流し、その際にその部分ではシール剤内に空気が
取り込まれ、リード3上、すなわち図10の楕円部分3
dで気泡が生じる。
ティング層7とリード3との結合力が弱まり、これらの
間で剥離が生じたり、パッケージ内外のリークパスが生
じたり、パッケージ内に透湿による結露が生じる場合が
ある。これが原因で固体撮像装置の電通等が確保され
ず、オープン不良が生じることが判った。
しないようなフレキシブル配線フィルムとそれを用いた
半導体装置及びシステムを提供することを目的とする。
ール剤5とリード3との結合力を強める必要がある。
フレキシブル配線フィルムとそれを用いた半導体装置及
びシステムを提供することにある。
フレキシブル配線フィルムのリードと、このリードに電
気的に接続される半導体素子チップと、前記半導体素子
チップの表面を保護する保護部材とを有し、これらを前
記半導体素子チップの周縁部で封止剤によって、前記リ
ード上を先端に向けて流れるように塗布して封止してな
る半導体装置において、前記リードは、封止剤と接する
部分に孔が形成されており、前記孔の一部が前記保護部
材よりも外側に位置していることを特徴とする。
導体装置からなる固体撮像装置であって、ARコート膜
と、遮光薄膜との少なくとも一方が、前記リードと前記
保護部材との間に形成されていることを特徴とする。
半導体装置からなる固体撮像装置と、前記固体撮像装置
へ光を結像する光学系と、前記固体撮像装置からの出力
信号を処理する信号処理回路とを有することを特徴とす
る。
図面を参照して説明する。
フィルムは、銅などの導電体からなる複数のリードと、
それらのリードを支持し且つ絶縁するポリイミドなどか
らなる絶縁膜とを有している。そして、絶縁膜から表面
が露出しているリードに貫通孔(アンカーホール)が形
成されている。
IC、LSI等の半導体素子チップ等に、テープオート
メーティッドボンディングされて用いられることが多
く、フレキシブル配線基板、TABテープなどと称され
ている。
キシブル配線基板を用いれば、リード上をインナリード
側から流れる封止剤と、リード以外のパスからアウタリ
ード側に流れ込む封止剤との流速の差が少なくなり、リ
ード上で気泡が発生しにくくなる。
性の封止剤により、フレキシブル配線フィルムの接着性
が高まる。
例に挙げて説明する。
固体撮像装置の模式的な斜視図である。図1に示すよう
に本参考形態の固体撮像装置は、CCD撮像素子やMO
S型撮像素子などの固体撮像素子を複数搭載した固体撮
像素子チップ2のパッド電極15上に、Auバンプ4を
介してフレキシブル配線フィルムであるTABテープ1
1が接続されている。
やガラスエポキシテープ等の絶縁性ベースフィルム8
と、アンカーホール6が形成された銅箔などのリード3
との積層体であり、リード3は、インナリード3aの先
端3cでAuバンプ4と接続されており、アウタリード
3bで絶縁性ベースフィルム8と積層されている。
ト(Anti Reflection Coating)と称される屈折率の異な
る1種類あるいは2種類の薄膜が施されている保護部材
であるカバーガラス1と接続された状態で、絶縁性ベー
スフィルム8のないデバイスホール10内に設けられて
いる。
本参考形態の固体撮像装置は、固体撮像素子チップ2の
受光面上にマイクロレンズ12が備えられており、さら
に、上記のようにARコート7aが施されている。ま
た、カバーガラス1は、遮光薄膜7bが施されている。
カバーガラス1側と固体撮像素子チップ2側とはフィラ
ーが高充填されたエポキシ系などのシール剤5により接
着されており、リード3とカバーガラス1との間にはコ
ーティング層7が形成されている。なお、図2において
図1と同様の部分には同一符号を付している。
縁部の拡大図である。図3に示すように、固体撮像素子
チップ2の周縁部では、リード3のうち、シール剤5に
接する部分にアンカーホール6を形成している。なお、
図3において図1等と同様の部分には同一符号を付して
いる。
図4に示すように、リード3を、インナリード3aの先
端3cと、インナリード3aのアウタリード3b側の部
分とに便宜上分けて説明すると、インナリード3aの幅
広部には、アンカーホール6が形成されているので、こ
の部分を流れるシール剤5は、リード3上以外の部分を
流れるシール剤5とさほど流速に差が生じない。
は、アンカーホール6が形成されていないので、この部
分を流れるシール剤5は、リード3上以外の部分を流れ
るシール剤5と流速に差が生じるようになる。ただし、
上述したようにインナリード3aの幅広部分までは、シ
ール剤5の流速がリード3上であるかどうかに拘わら
ず、ほぼ同じであるので、リード3上を流れるシール剤
5とリード3上以外の部分を流れるシール剤5とのぶつ
かる位置が、リード3より先、すなわち図4の楕円部分
3dになり、したがって、リード3上では気泡が生じな
いようになる。
造工程について説明する。まず、TABテープ11を製
造する。TABテープ11は、厚さがたとえば50μm
〜125μm、幅がたとえば48mmの樹脂テープ、た
とえばポリイミドの絶縁性ベースフィルム8に、半導体
チップを載置するための開アンカーホール部であるデバ
イスホール10及びテープキャリアを搬送するための位
置決めアンカーホールである図示しないパーフォレーシ
ョンアンカーホールを、金型等によるパンチング加工に
より形成する。
素子実装では、シール剤5の塗布を考慮し、固体撮像素
子チップ2とデバイスホール10との間距離を、1.5
〜2.0mm程度と広くする。さらに、固体撮像素子チ
ップ2上に形成されたAuバンプ4に接合されたTAB
テープ11のインナリード3aは高強度が保てるよう
に、アウタリード3bとインナリード3aの先端3cと
の間のデバイスホール10が形成されている部分を、イ
ンナリード3aの先端3cの寸法よりも広くする。
8〜35μm程度の圧延銅箔あるいは電解銅箔を接着剤
により貼り合わせてラミネートする。つぎに、銅箔には
パターンやリード3の形成のために、フォトレジストを
塗布し、各種配線のパターンやリード3を形成するため
の露光、現像を施す。それから、パンチング加工により
むき出しとなったデバイスホール10内の銅箔インナリ
ード3aの裏面をエッチングから保護するため裏止めレ
ジストを塗布する。その後、銅箔にエッチング工程を施
して、パターンやリード3を形成する。
ト、裏止めレジストをアルカリ液により溶解除去して、
接合部以外の銅配線パターンの保護、絶縁のため、ソル
ダーレジスト印刷を行い、銅配線パターンには、ボンデ
イング性を良くさせるため、電気メッキ法によりSnや
Au等のめっき処理を施す。
11の銅箔エッチングの工程と同様の工程で製造する。
ただし、アンカーホール6の最小幅は[1.0×T
(T:銅箔厚)]としている。さらに、アンカーホール
6は、たとえばインナリード3aの先端3cの寸法より
広くしたアウタリード3bの幅が35μmの場合には、
長手方向の長さは任意とし、短手方向(幅方向)の長さ
はたとえば25μmとなるようにしている。
は、リード本体の強度や、インナリード3aの先端3c
の幅や、リード本体の流動抵抗に応じて決定すればよ
く、また、アンカーホール6の形状は、図4に示すよう
な長穴の形状に限定されるものではなく、たとえば直径
が25μmの円状のものあるいはそれを少なくとも2つ
以上並べたものであってもよい。
ド電極15上にAuバンプ4を設け、Auバンプ4側を
予め150℃程度に加熱しておき、TABテープ11の
インナリード3aの先端3cを、シングルポイントボン
ディング法によりボンディングツールを用いて接合す
る。なお、TABテープ11のインナリード3aの先端
3cを、超音波併用熱圧着等により接続してもよい。
着を防止するためのカバーガラス1を、所定間隔だけ離
して固体撮像素子と平行に配置する。それから、固体撮
像素子チップ2の周縁部に、たとえば熱硬化型樹脂や紫
外線硬化型樹脂であるシール剤5をディスペンサ等によ
り塗布してから、カバーガラス1側と固体撮像素子チッ
プ2側とを貼り合わせ、シール剤5に熱を付与したり、
キュアや紫外線光を照射したりして硬化させる。
た場合には、遮光薄膜7bが紫外線光のマスクとなり、
紫外線を照射させながら硬化させることで遮光薄膜7b
内側の有効撮像エリアへの樹脂の流れ込みを防止するこ
とができるので、ここでは、シール剤5として紫外線硬
化型樹脂を用いている。
を例に挙げて説明する。
体撮像装置の斜視図であり、図3に相当するものであ
る。図5と図3とを比較すると、図5の方がアンカーホ
ール6の長手方向の長さが異なり、長くなっている。す
なわち、図3に示したアンカーホール6は、全てがカバ
ーガラス1の下に納まっているのに対して、図5に示す
アンカーホール6は、一部がカバーガラス1の下から外
側に延びている。
を形成すると、図3に示した態様でアンカーホール6を
形成した場合に比して、リード3とAuバンプ4との接
続部にかかる力を減らすことができる。すなわち、アン
カーホール6側にも応力がかかるようにして、相対的に
Auバンプ4にかかるストレスを少なくしている。
1の下に納まる構成では、シール剤5がインナリード3
aに形成されたアンカーホール6に達するまでは流動抵
抗が異なるため塗布した時点では流速が異なり、シール
剤5がアンカーホール6に達した後は同じ流速で流れ
る。つまりホールの距離にも依るがタイムラグが生じ
る。
長された長いアンカーホール6を形成すると、ホール内
部とリード3外部との流動抵抗が一致するので、タイム
ラグが生じ難くなり、この部分での流れ込みはより均一
にすることができる。
図である。図6において、21はレンズのプロテクトと
メインスイッチを兼ねるバリア、22は被写体の光学像
を固体撮像素子24に結像させるレンズ、23はレンズ
を通った光量を可変するための絞り、24はレンズ22
で結像された被写体を画像信号として取り込むための実
施形態1で説明した固体撮像素子、25は固体撮像素子
24から出力される画像信号に各種の補正、クランプ等
の処理を行う撮像信号処理回路、26は固体撮像素子2
4より出力される画像信号のアナログ/ディジタル変換
を行うA/D変換器、27はA/D変換器26より出力
された画像データに各種の補正を行ったりデータを圧縮
する信号処理部、28は固体撮像素子24,撮像信号処
理回路25,A/D変換器26,信号処理部27に各種
タイミング信号を出力するタイミング発生部、29は各
種演算とスチルビデオカメラ全体を制御する全体制御・
演算部、30は画像データを一時的に記憶するためのメ
モリ部、31は記録媒体に記録又は読み出しを行うため
の記録媒体制御インターフェース部、32は画像データ
の記録又は読み出しを行うための半導体メモリ等の着脱
可能な記録媒体、33は外部コンピュータ等と通信する
ための外部インターフェース(I/F)部である。
リア21がオープンされるとメイン電源がオンされ、つ
ぎにコントロール系の電源がオンし、さらに、A/D変
換器26などの撮像系回路の電源がオンされる。それか
ら、露光量を制御するために、全体制御・演算部29は
絞り23を開放にし、固体撮像素子24から出力された
信号は、撮像信号処理回路25をスルーしてA/D変換
器26へ出力される。A/D変換器26は、その信号を
A/D変換して、信号処理部27に出力する。信号処理
部27は、そのデータを基に露出の演算を全体制御・演
算部29で行う。
し、その結果に応じて全体制御・演算部29は絞りを制
御する。つぎに、固体撮像素子24から出力された信号
をもとに、高周波成分を取り出し被写体までの距離の演
算を全体制御・演算部29で行う。その後、レンズ22
を駆動して合焦か否かを判断し、合焦していないと判断
したときは、再びレンズ22を駆動し測距を行う。
まる。露光が終了すると、固体撮像素子24から出力さ
れた画像信号は、撮像信号処理回路25において補正等
がされ、さらにA/D変換器26でA/D変換され、信
号処理部27を通り全体制御・演算部29によりメモリ
部30に蓄積される。その後、メモリ部30に蓄積され
たデータは、全体制御・演算部29の制御により記録媒
体制御I/F部31を通り半導体メモリ等の着脱可能な
記録媒体32に記録される。また外部I/F部33を通
り直接コンピュータ等に入力して画像の加工を行っても
よい。
もに、符号25〜28の回路をCMOSプロセスにより
集積化することも好ましい。
固体撮像装置の模式図であり、図1,図2に示した部分
と同様の部分には同一符号を付している。
縁フィルム9がなく、アンカーホール6においても、カ
バーガラス1と接着されている点である。この構成によ
れば、アンカーホール6の部分でカバーガラスとの接着
性を向上させることができる。
置及びシステムにTABテープ11を用いる場合を例に
説明したが、固体撮像装置以外の半導体装置にTABテ
ープ11を用いることもできる。
フレキシブル配線フィルムのリードには、封止剤と接す
る部分に孔が形成されており、前記孔の一部が保護部材
よりも外側に位置しているため、リード上を通る封止剤
と、リード上以外を通る封止剤の流速がほぼ同じとな
り、リード上で気泡が発生しにくくなる。また、孔側に
も応力がかかるようにして、リードとバンプとの接続部
にかかる力を減らすことができる。
視図である。
ある。
撮像素子チップの周縁部の拡大図である。
図である。
図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 フレキシブル配線フィルムのリードと、
このリードに電気的に接続される半導体素子チップと、
前記半導体素子チップの表面を保護する保護部材とを有
し、これらを前記半導体素子チップの周縁部で封止剤に
よって、前記リード上を先端に向けて流れるように塗布
して封止してなる半導体装置において、前記リードは、
封止剤と接する部分に孔が形成されており、前記孔の一
部が前記保護部材よりも外側に位置していることを特徴
とする半導体装置。 - 【請求項2】 前記孔は、前記リードの先端より幅が広
い部分に形成されていることを特徴とする請求項1記載
の半導体装置。 - 【請求項3】 ARコート膜と、遮光薄膜との少なくと
も一方が、前記リードと前記保護部材との間に形成され
ていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置より
なる固体撮像装置。 - 【請求項4】 請求項1から3のいずれか1項記載の半
導体装置からなる固体撮像装置と、前記固体撮像装置へ
光を結像する光学系と、 前記固体撮像装置からの出力信号を処理する信号処理回
路とを有することを特徴とする撮像システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001371553A JP3507472B2 (ja) | 2000-12-14 | 2001-12-05 | 半導体装置、それを用いた固体撮像装置及び撮像システム |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000-380572 | 2000-12-14 | ||
JP2000380572 | 2000-12-14 | ||
JP2001371553A JP3507472B2 (ja) | 2000-12-14 | 2001-12-05 | 半導体装置、それを用いた固体撮像装置及び撮像システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002246412A JP2002246412A (ja) | 2002-08-30 |
JP3507472B2 true JP3507472B2 (ja) | 2004-03-15 |
Family
ID=26605840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
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JP (1) | JP3507472B2 (ja) |
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US6943423B2 (en) * | 2003-10-01 | 2005-09-13 | Optopac, Inc. | Electronic package of photo-image sensors in cellular phone camera modules, and the fabrication and assembly thereof |
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2001
- 2001-12-05 JP JP2001371553A patent/JP3507472B2/ja not_active Expired - Fee Related
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