JP3506600B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板に所定の処理
を行う基板処理部を備えた基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板などの基板に所定の処理を行なうために、基板処理装
置が用いられている。例えば、半導体デバイスの製造プ
ロセスでは、生産効率を高めるために一連の処理の各々
をユニット化し、複数の処理ユニットを統合した基板処
理装置が用いられている。

【０００３】図１１は、従来の基板処理装置の構成を示
す斜視図である。図１１の基板処理装置は、処理領域
Ｅ，Ｆおよび搬送領域Ｇを有する。

【０００４】処理領域Ｅには、基板に処理液の塗布処理
を行なう回転式塗布ユニット（スピンコータ）５２ａお
よび基板に現像処理を行なう回転式現像ユニット（スピ
ンデベロッパ）５２ｂが並設されている。また、処理領
域Ｆには、基板に加熱処理を行なう加熱ユニット（ホッ
トプレート）ＨＰおよび基板に冷却処理を行なう冷却ユ
ニット（クーリングプレート）ＣＰが複数段に配置され
ている。搬送領域Ｇには、基板を搬送する搬送ユニット
５５が設けられている。

【０００５】これらの処理領域Ｅ，Ｆおよび搬送領域Ｇ
の一端部側には、基板Ｗを収納するとともに基板Ｗの搬
入および搬出を行なう搬入搬出装置（インデクサ）５１
が配置されている。搬入搬出装置５１は、基板Ｗを収納
する複数のカセット５３および基板Ｗの搬入および搬出
を行なう移載ロボット５４を備える。搬入搬出装置５１
の移載ロボット５４は、矢印Ｕ方向に移動し、カセット
５３から基板Ｗを取り出して搬送ユニット５５に渡し、
一連の処理が施された基板Ｗを搬送ユニット５５から受
け取ってカセット５３に戻す。

【０００６】搬送ユニット５５は、搬送領域Ｇ内で基板
Ｗを矢印Ｓ方向に搬送するとともに、上記の各処理ユニ
ットに対して基板Ｗの搬入および搬出を行ない、かつ移
載ロボット５４との間で基板Ｗの受渡しを行なう。

【０００７】近年では、基板を大量にかつ効率的に処理
するために、多数の処理ユニットが１台の基板処理装置
に搭載されている。また、生産性の向上のために基板が
大径化しており、これに伴って各処理ユニットの寸法も
大きくなる。それにより、多数の処理ユニットを統合し
た基板処理装置が大型化し、そのフットプリント（設置
面積）が大きくなる傾向がある。それゆえ、フットプリ
ントの増大を抑制してクリーンルーム内のスペースを有
効に使用することができる基板処理装置が望まれてい
る。

【０００８】そこで、各処理ユニットを上下方向に積層
することによってフットプリントの低減を図った基板処
理装置が提案されている。例えば、特開平８−４６０１
０号公報に開示された基板処理装置では、回転式塗布ユ
ニットと回転式現像ユニットとが上下に積層され、また
加熱ユニットおよび冷却ユニットが多段に積層されてい
る。

【０００９】積層された複数の処理ユニットの上方に
は、清浄な空気流を下降させる空気調整ユニットが設け
られている。これにより、基板の搬送領域等が清浄な雰
囲気に保たれている。また、上下に積層された回転式現
像ユニットと回転式塗布ユニットとの間にはフィルタが
設けられている。これにより、回転式塗布ユニットの内
部には、フィルタを通過した清浄な空気が供給され、回
転式塗布ユニットの処理空間が清浄な雰囲気に保たれ
る。

【００１０】このような基板処理装置において、例えば
回転式塗布ユニットの保守作業を行なう場合には、回転
式塗布ユニットの上部に配置されたフィルタを取り外
し、作業空間を確保して作業を行なう。取り外されたフ
ィルタは、通常、基板処理装置の周囲に受台を用意し、
その台上に載置される。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フィル
タは非常に繊細な構造を有し、フィルタの側面のみ把持
可能に構成されている。フィルタの上下表面が損傷する
と、パーティクル等の除去性能が低下する。このため
に、フィルタの取り外しおよび取り付け作業には細心の
注意が必要となり、保守作業が煩雑化し、作業時間が長
くなる。

【００１２】また、基板処理装置の周囲の雰囲気は、基
板処理装置の内部に比べて清浄度が低く、アンモニアや
微小なパーティクルが存在する。そこで、基板処理装置
の周囲にフィルタを載置すると、保守作業中にフィルタ
表面にアンモニアやパーティクル等が付着してフィルタ
の除去性能が低下する。さらに、保守作業の終了によ
り、パーティクル等が付着したフィルタが基板処理装置
の内部に再び取り付けられると、付着したパーティクル
等によって基板処理装置の処理雰囲気が汚染され、基板
処理に不良が生じるおそれがある。

【００１３】本発明の目的は、上方にフィルタが配置さ
れた基板処理部の保守作業が容易な基板処理装置を提供
することである。

【００１４】本発明の他の目的は、保守作業中にフィル
タが周囲の雰囲気中のパーティクル等により汚染される
ことのない基板処理装置を提供することである。

【００１５】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板処理装置は、処理空間を有し、処理空間
内で基板に所定の処理を行なう基板処理部と、基板処理
部の処理空間の上方から下方への空気流を通過させるよ
うに処理空間の上方に設けられたフィルタと、フィルタ
を処理空間の上方位置と処理空間の外方で上方から下方
へ清浄な空気流が供給される所定位置とに水平方向に移
動自在に支持する支持手段とを備えたものである。

【００１６】 第１の発明に係る基板処理装置において
は、基板処理部の処理空間の上方から下方への空気流を
通過させるように処理空間の上方にフィルタが設けられ
ており、フィルタを通過した清浄な空気が処理空間内に
供給されることにより、基板処理部の処理空間が清浄な
状態に保持される。フィルタは支持手段により処理空間
の上方位置と処理空間の外方で上方から下方へ清浄な空
気流が供給される所定位置とに移動自在に支持されてい
る。このため、保守時にフィルタを処理空間の外方に移
動させることにより、処理空間の上方に大きな空間を確
保することができ、基板処理部の保守作業のための作業
空間が拡大する。これにより、基板処理部の保守作業が
容易となる。また、フィルタは処理空間の外方において
支持手段により支持されている。このため、基板処理装
置からフィルタを取り外す必要がなくなり、基板処理部
の保守作業が簡素化される。さらに、基板処理装置の周
囲に取り外したフィルタを載置するスペースを設ける必
要がなくなり、基板処理装置の周囲の省スペース化を図
ることができる。加えて、基板処理装置の周囲にフィル
タを載置している間にフィルタが損傷されることが防止
される。また、基板処理部の保守時には、上方から下方
へ清浄な空気流が供給される所定領域にフィルタが移動
される。このため、フィルタは清浄な雰囲気中に支持さ
れることにより、パーティクル等による汚染から防止さ
れ、パーティクル等の除去性能の低下が防止されるとと
もに、保守終了時に基板処理部内にパーティクル等を持
ち込み、基板処理部の雰囲気を汚染させることを防止す
ることができる。

【００１７】 第２の発明に係る基板処理装置は、第１
の発明に係る基板処理装置の構成において、基板処理部
に隣接する隣接領域に上方から下方へ清浄な空気流を供
給する空気供給部をさらに備え、所定位置が、隣接領域
内に設けられるものである。

【００１８】 この場合、基板処理部の保守時には、空
気調整部により上方から下方へ清浄な空気流が供給され
る隣接領域にフィルタが移動される。このため、フィル
タは清浄な雰囲気中に支持されることにより、パーティ
クル等による汚染から防止され、パーティクル等の除去
性能の低下が防止されるとともに、保守終了時に基板処
理部内にパーティクル等を持ち込み、基板処理部の雰囲
気を汚染させることを防止することができる。

【００１９】 第３の発明に係る基板処理装置は、第１
の発明に係る基板処理装置の構成において、基板処理部
に隣接する搬送領域に配設され、基板処理部に基板を搬
送する搬送手段と、搬送領域に上方から下方へ清浄な空
気流を供給する空気調整部とをさらに備え、所定位置が
搬送領域に設けられるものである。

【００２０】 この場合、基板処理部の保守時には、フ
ィルタが搬送領域に移動される。搬送領域には空気調整
部により上方から下方へ清浄な空気流が供給されてい
る。このため、フィルタは清浄な雰囲気中に保持され、
パーティクル等により汚染されることが防止される。そ
れにより、パーティクル等の除去性能の低下が防止され
るとともに、基板処理部へのパーティクル等の持ち込み
が防止される。

【００２１】 第４の発明に係る基板処理装置は、第１
の発明に係る基板処理装置の構成において、基板処理部
に基板を搬送する搬送手段と、基板を収納する基板収納
容器が載置される載置部と、基板処理部に隣接する搬入
搬出領域に配設され、搬送手段と載置部との間で基板の
搬入搬出を行なう搬入搬出手段と、搬入搬出領域に上方
から下方へ清浄な空気流を供給する空気調整部とをさら
に備え、所定位置が搬入搬出領域内に設けられるもので
ある。

【００２２】 この場合、基板処理部の保守時には、フ
ィルタが搬入搬出領域に移動され、支持される。搬入搬
出領域には空気調整部により上方から下方へ清浄な空気
流が供給されている。そのため、フィルタは清浄な雰囲
気中に保持される。それにより、パーティクル等の付着
によるフィルタの除去性能の低下が防止されるととも
に、基板処理部へのパーティクル等の持ち込みが防止さ
れる。

【００２３】 第５の発明に係る基板処理装置は、第１
の発明に係る基板処理装置の構成において、基板処理部
に基板を搬送する搬送手段と、基板処理部に隣接する受
け渡し領域に配設され、搬送手段と外部装置との間で基
板の受け渡しを行なう受け渡し手段と、受け渡し領域に
上方から下方へ清浄な空気流を供給する空気調整部とを
さらに備え、所定位置が、受け渡し領域内に設けられる
ものである。

【００２４】 この場合、基板処理部の保守時には、フ
ィルタが受け渡し領域に移動され支持される。受け渡し
領域には空気調整部により上方から下方へ清浄な空気流
が供給されている。このため、フィルタは清浄な雰囲気
中に保持される。これにより、粉塵等が付着することに
よりフィルタのパーティクル等の除去性能が低下するこ
とが防止されるとともに、基板処理部にパーティクル等
を持ち込むことが防止される。

【００２５】第６の発明に係る基板処理装置は、第３の
発明に係る基板処理装置の構成において、搬送手段が、
基板を保持して少なくとも上下方向に移動し、基板処理
部との間で基板の受け渡しを行なう基板保持部を有し、
基板処理部の保守時に、基板保持部がフィルタと干渉し
ないように基板保持部の動作を制御する制御手段をさら
に備えたものである。

【００２６】この場合、基板処理部の保守時に、フィル
タが搬送領域に移動される。搬送領域には上下方向に移
動する基板保持部を有する搬送手段が配設されている。
そこで、制御手段は、搬送領域へ移動されるフィルタが
搬送手段の基板保持部と干渉しないように基板保持部の
動作を制御する。これにより、基板処理部の保守時に、
フィルタと基板保持部とが干渉する事故を防止すること
ができる。

【００２７】第７の発明に係る基板処理装置は、第６の
発明に係る基板処理装置の構成において、フィルタの移
動を検出する検出手段をさらに備え、制御手段が、検出
手段によりフィルタの移動が検出された際に、基板保持
部がフィルタと干渉しない位置に基板保持部を退避させ
るものである。

【００２８】この場合、フィルタは作業者の手動により
搬送領域へ移動される。検出手段はこのフィルタの移動
を検出する。そして、フィルタの移動が検出されると、
制御手段は基板保持部をフィルタと干渉しない位置に退
避させる。これにより、作業者が基板保持部の位置を確
認せずにフィルタを移動させた場合であっても、フィル
タが基板保持部に干渉する事故を防止することができ
る。

【００２９】第８の発明に係る基板処理装置は、第３の
発明に係る基板処理装置の構成において、搬送手段が、
基板を保持して少なくとも上下方向に移動し、基板処理
部との間で基板の受け渡しを行なう基板保持部を有し、
基板処理部の保守のための指令を入力する入力手段と、
フィルタの保守指令が入力された場合に、基板保持部が
フィルタと干渉しないように基板保持部の動作を制御す
る制御手段とをさらに備えたものである。

【００３０】この場合、基板処理部の保守時に、保守指
令を入力手段から入力すると、制御手段が入力された保
守指令に基づいて、基板保持部がフィルタと干渉しない
ように基板保持部の動作を制御する。これにより、作業
者がフィルタを移動させる前に基板保持部がフィルタと
干渉しないように動作され、フィルタが基板保持部に干
渉する事故を未然に防止することができる。

【００３１】第９の発明に係る基板処理装置は、第３の
発明に係る基板処理装置の構成において、搬送手段が、
基板を保持して少なくとも上下方向に移動し、基板処理
部との間で基板の受け渡しを行なう基板保持部を有し、
基板保持部が所定位置にある場合に、フィルタの移動を
禁止する禁止手段をさらに備えたものである。

【００３２】この場合、禁止手段は、基板保持部がフィ
ルタと干渉する位置にある場合に、フィルタの移動を禁
止する。これにより、フィルタが基板保持部に干渉する
事故を未然に防止することができる。

【００３３】第１０の発明に係る基板処理装置は、第１
〜第９のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成にお
いて、支持手段が、基板処理部の処理空間の上方に固定
され、水平方向に延びる案内部材と、フィルタを支持
し、案内部材に沿って移動自在な移動部材とを含むもの
である。

【００３４】この場合、作業者が移動部材を処理空間の
外方の所定位置に向けて押すと、移動部材がフィルタを
支持した状態で案内部材に沿って移動する。また、作業
者が移動部材を基板処理部の処理空間の上方位置に向け
て引き戻すと、移動部材はフィルタを支持した状態で案
内部材に沿って基板処理部の処理空間の上方位置に移動
する。これにより、簡便な操作によってフィルタを処理
空間の上方位置と処理空間の外方の所定位置とに移動さ
せることができ、基板処理部の保守作業を短時間でかつ
容易に行なうことができる。

【００３５】第１１の発明に係る基板処理装置は、第１
０の発明に係る基板処理装置の構成において、基板処理
部が処理空間を取り囲む筐体をさらに備え、フィルタは
筐体の天板下面に着脱自在に取り付けられており、移動
部材が、天板から取り外されたフィルタを移動可能に支
持するものである。

【００３６】この場合、作業者は、基板処理部の筐体の
天板下面からフィルタを取り外すと、フィルタが移動部
材に支持される。そして、作業者は移動部材を移動させ
ることによりフィルタを基板処理部の処理空間の上方位
置と処理空間の外方の所定位置とに移動させることがで
きる。これにより、簡便な操作でフィルタを移動させる
ことができる。

【００３７】

【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
基板処理装置の斜視図、図２は図１の基板処理装置の正
面断面図、図３は図２におけるＨ−Ｈ線断面図、図４は
図２におけるＩ−Ｉ線断面図である。

【００３８】図１〜図４において、基板処理装置は、処
理領域Ａ、搬入搬出領域Ｂおよび受け渡し領域Ｄを有す
る。搬入搬出領域Ｂは処理領域Ａの一端部側に配置さ
れ、受け渡し領域Ｄは処理領域Ａの他端部側に配置され
ている。また、処理領域Ａには搬送領域Ｃが配置されて
いる。なお、以下では、処理領域Ａ、搬入搬出領域Ｂお
よび受け渡し領域Ｄの整列方向をＹ軸方向とし、Ｙ軸方
向に直交する方向をＸ軸方向とし、垂直方向をＺ軸方向
とする。

【００３９】処理領域Ａは、下から上へ順に配置された
第１の階層Ａ１、第２の階層Ａ２、第３の階層Ａ３およ
び第４の階層Ａ４を含む。第１の階層Ａ１には、化学系
ユニット１が配置されている。化学系ユニット１は、各
種処理液（薬液）、廃液、ポンプおよび排気系を収納す
る。

【００４０】第２の階層Ａ２には、複数の回転処理系ユ
ニットが配置され、本実施例では、基板に処理液の回転
塗布処理を行なう回転式塗布ユニット（スピンコータ）
２ａおよび基板に現像処理を行なう回転式現像ユニット
（スピンデベロッパ）２ｂがそれぞれ２台配置されてい
る。

【００４１】第３の階層Ａ３には、ＵＬＰＡ（Ultra Lo
w Penetration Air)フィルタ、化学吸着フィルタ等のフ
ィルタを含むフィルタユニット３２およびファンユニッ
ト３１からなる空気調整ユニット３が配置されている。
なお、この空気調整ユニット３の構造については後で詳
述する。

【００４２】第４の階層Ａ４には、複数の熱処理系ユニ
ットが配置され、本実施例では、基板に冷却処理を行な
う複数の冷却ユニット（クーリングプレート）ＣＰおよ
び基板に加熱処理を行なう複数の加熱ユニット（ホット
プレート）ＨＰが複数段に配置されている。

【００４３】第２〜第４の階層Ａ２〜Ａ４において多段
に積層された処理ユニット群は、搬送領域Ｃの周りを取
り囲むように配置されている。搬送領域Ｃの中央には下
部搬送ユニット４および上部搬送ユニット５が配置され
ている。下部搬送ユニット４は、基板Ｗを保持して水平
方向に進退移動可能な２本のアーム１４ａおよびアーム
１４ａを進退移動させる移動部１４ｂからなる基板保持
部１４を備える。基板保持部１４は昇降機構および回動
機構に接続されており、搬送領域Ｃ内で昇降移動しかつ
垂直軸の周りで回動する。

【００４４】上部搬送ユニット５は、基板Ｗを保持して
水平方向に進退移動可能な２本のアーム１５ａおよび２
本のアーム１５ａを進退移動させる移動部１５ｂからな
る基板保持部１５を備える。基板保持部１５は昇降機構
および旋回機構に接続されており、搬送領域Ｃ内で昇降
および旋回移動する。

【００４５】搬入搬出領域Ｂは、下から上へ順に配置さ
れた第１の階層Ｂ１、第２の階層Ｂ２および第３の階層
Ｂ３を含む。搬入搬出領域Ｂの第１の階層Ｂ１には、基
板を収納するとともに基板の搬入および搬出を行なう搬
入搬出装置（インデクサ）６が配置されている。搬入搬
出装置６は、基板Ｗを収納する複数のカセット９および
基板の搬入、搬出を行なう移載ロボット１０を備える。
移載ロボット１０は、カセット９から基板Ｗを取り出し
て搬送領域Ｃの下部搬送ユニット４に渡し、一連の処理
が施された基板Ｗを下部搬送ユニット４から受け取って
カセット９に戻す。

【００４６】第２の階層Ｂ２には、フィルタおよびファ
ンからなる空気調整ユニット７が配置されている。ま
た、第３の階層Ｂ３には、電気的制御ユニット８が配置
されている。

【００４７】受け渡し領域Ｄは、基板の受け渡しを行な
う受け渡し手段（図示せず）を備え、外部の装置との間
で基板の受け渡しを行なう。

【００４８】搬送領域Ｃの上部には、フィルタおよびフ
ァンからなる空気調整ユニット１２が配置されている。
空気調整ユニット１２は、搬送領域Ｃの上方から下方へ
向かう清浄な空気流（ダウンフロー）を供給する。これ
により、搬送領域Ｃは清浄な雰囲気に保持されている。

【００４９】また、搬入搬出領域Ｂでは、空気調整ユニ
ット７により移載ロボット１０の移動領域周辺に清浄な
空気流が供給されている。これにより、移載ロボット１
０の移動領域周辺も清浄な雰囲気に保持される。

【００５０】さらに、受け渡し領域Ｄの上部には、フィ
ルタおよびファンからなる空気調整ユニット（図示せ
ず）が配置されている。これにより、受け渡し領域Ｄの
内部が清浄な雰囲気に保持される。

【００５１】基板処理装置は、各処理ユニット、搬入搬
出装置６、下部搬送ユニット４および上部搬送ユニット
５等の動作を制御する制御部４９（図６参照）を備えて
いる。制御部４９には、基板処理の各種データや指令を
入力するための入力部が接続されている。

【００５２】次に、処理領域Ａの空気調整ユニット３に
ついて説明する。以下では、回転式塗布ユニット２ａに
設けられた空気調整ユニット３を例に説明する。図５は
空気調整ユニットの正面断面図である。また、図６はフ
ィルタユニットの主要部の斜視図である。空気調整ユニ
ット３は、上方側に配置されるファンユニット３１と、
下方側に配置されるフィルタユニット３２とから構成さ
れる。

【００５３】ファンユニット３１は空気を下降させるフ
ァン３１ａを備える。ファン３１ａにより供給される空
気流はファンユニット３１の底板３１ｂの開口部３１ｃ
を通りフィルタユニット３２側に導かれる。

【００５４】フィルタユニット３２はフィルタ３３およ
びスライド機構３６から構成される。フィルタ３３はＵ
ＬＰＡフィルタあるいは化学吸着フィルタ等からなる。
ここで、回転式塗布ユニット２ａはフレーム２１，２
２、外板（図示せず）および天板２０等からなる筐体を
有しており、フィルタ３３は、取り付けボルト３５によ
り回転式塗布ユニット２ａの天板２０の下面に取り付け
られている。

【００５５】フィルタ３３の上面および下面はフィルタ
の素材面が露出しており、側部外周面は金属材料で囲ま
れている。フィルタ３３の両側面には断面Ｌ字型のフレ
ーム３４が固定されている。

【００５６】天板２０にはファンユニット３１から下降
する空気を通過させる開口が形成されており、フィルタ
３３は天板２０の開口を通り下降した空気を透過させて
下方の回転式塗布ユニット２ａの処理空間１６に導く。

【００５７】スライド機構３６は天板２０から取り外さ
れたフィルタ３３を水平方向に移動させるものであり、
固定レール３７および可動フレーム４０を有する。一対
の固定レール３７は断面Ｓ字型の板状部材からなり、回
転式塗布ユニット２ａのフレーム２２に取り付けられて
いる。固定レール３７の下部の水平面３７ａは可動フレ
ーム４０の移動を案内する案内面となる。

【００５８】可動フレーム４０は一対の可動レール４１
および一対の可動レール４１の一方端部を連結する連結
フレーム４２からなる門型形状に形成されている。各可
動レール４１は断面Ｌ字型の板状部材からなり、その垂
直壁面に上ガイド溝４３および下ガイド溝４４が形成さ
れている。また、可動レール４１の水平面４１ａがフィ
ルタ３３の側面に形成されたフレーム３４を支持する支
持面となる。

【００５９】可動フレーム４０は、固定レール３７の案
内面３７ａ上に摺動自在に載置される。この状態で、固
定レール３７のガイド溝３８と可動レール４１の下ガイ
ド溝４４の位置が一致し、各ガイド溝３８，４４を貫通
して連結ボルト４６が挿入されている。連結ボルト４６
のねじ部にはナットがねじ込まれ、この連結ボルト４６
およびナットにより固定レール３７と可動レール４１が
連結される。ボルト４６およびナットを緩めることによ
り、可動レール４１が固定レール３７に沿って摺動可能
となり、ボルト４６およびナットを締結することによ
り、可動レール４１が固定レール３７に固定される。

【００６０】また、可動レール４１の上ガイド溝４３に
は固定ボルト４５が挿入されている。固定ボルト４５は
上ガイド溝４３を通り固定レール３７に形成されたねじ
孔３９にねじ込まれている。この固定ボルト４５および
上ガイド溝４３により可動フレーム４０の水平方向の移
動量が規制される。すなわち、可動フレーム４０上のフ
ィルタ３３を搬送領域Ｃ側に押すと、上ガイド溝４３の
一端部４３ａが固定ボルト４５に当接した位置で可動フ
レーム４０の移動が停止され、可動フレーム４０を引き
戻すと、上ガイド溝４３の他端部４３ｂが固定ボルト４
５に当接した位置で可動フレーム４０の移動が停止され
る。

【００６１】本実施例において、回転式塗布ユニット２
ａおよび現像ユニット２ｂが本発明の基板処理部に相当
し、スライド機構３６が支持手段に相当し、下部搬送ユ
ニット４が搬送手段に相当し、移載ロボット１０が搬入
搬出手段に相当し、搬入搬出装置６の一部が載置部に相
当し、制御部４９が制御手段に相当する。また、搬送領
域Ｃの空気調整ユニット１２が本発明の搬送領域の空気
調整部に相当し、搬入搬出領域Ｂの空気調整ユニット７
が搬入搬出領域の空気調整部に相当し、受け渡し領域Ｄ
の空気調整ユニットが受け渡し領域の空気調整部に相当
する。

【００６２】ここで、フィルタユニット３２が設けられ
た回転式塗布ユニット２ａの保守作業について説明す
る。図７は回転式塗布ユニットの保守作業時の基板処理
装置の断面図である。図７では、図３と同じ基板処理装
置の断面が示されている。以下、図５〜図７を参照して
回転式塗布ユニット２ａの保守作業について説明する。

【００６３】まず、回転式塗布ユニット２ａの筐体側部
の外板（図示せず）を取り外す。これにより、図５に示
すようなフィルタユニット３２の側面が露出する。次
に、フィルタ３３の取り付けボルト３５を取り外す。こ
れにより、フィルタ３３は天板２０から落下し、フィル
タ３３のフレーム３４が可動レール４１の載置面４１ａ
に支持される。

【００６４】さらに、固定ボルト４５および連結ボルト
４６を緩める。これにより、可動レール４１が固定レー
ル３７に対して移動可能となる。この状態で、可動フレ
ーム４０上のフィルタ３３の側面を搬送領域Ｃ側に押し
出す。フィルタ３３を載置した可動フレーム４０は水平
移動し、フィルタ３３が搬送領域Ｃに移動する。これに
より、回転式塗布ユニット２ａの上部の空間が拡大さ
れ、保守作業のためのスペースが広がり、回転式塗布ユ
ニット２ａの保守作業が容易となる。

【００６５】回転式塗布ユニット２ａの保守作業が終了
すると、フィルタ３３を搬送領域Ｃから元の位置に引き
戻す。この時、可動フレーム４０の前面の折曲部４７に
指を掛けることにより、容易に可動フレーム４０を引き
戻すことができる。

【００６６】その後、再び取り付けボルト３５をフィル
タ３３に貫通させて天板２０に締め付ける。これによ
り、フィルタ３３が天板２０に固定される。その後、連
結ボルト４６および固定ボルト４５を締め込み、可動レ
ール４１を固定レール３７に固定する。これにより、フ
ィルタユニット３２が元の状態に復帰する。

【００６７】このように、回転式塗布ユニット２ａの保
守作業時に、回転式塗布ユニット２ａの上部に配設され
たフィルタ３３が搬送領域Ｃに水平移動されるので、回
転式塗布ユニット２ａの上方空間が広がり、保守時の作
業性が向上する。

【００６８】また、搬送領域Ｃの上部には空気調整ユニ
ット１２が配置されており、空気調整ユニット１２から
清浄な空気の下降流が供給され、搬送領域Ｃが清浄な状
態に保持されている。このため、搬送領域Ｃに押し出さ
れたフィルタ３３はパーティクル等により汚染されるこ
とがない。

【００６９】さらに、フィルタ３３は作業者が触れにく
い位置に保持されるため、フィルタ３３の表面が誤って
破損されることが防止される。さらに、従来のように基
板処理装置の周囲にフィルタ３３の受台を設置する必要
が無くなり、これにより基板処理装置の周囲の省スペー
ス化を図ることができる。

【００７０】上記実施例では、保守作業時に、フィルタ
３３を搬送領域Ｃに移動させる例について説明したが、
本発明では、フィルタ３３を基板処理装置の清浄な雰囲
気に移動させればよく、このためにさらに以下のような
例に適用することができる。

【００７１】図８はフィルタの移動状態を示す基板処理
装置の平面図である。上記実施例のようにフィルタ３３
はＸ軸方向に沿って搬送領域Ｃに水平移動させてもよ
く、またＹ軸方向に沿って搬送領域Ｃに水平移動させて
もよい。

【００７２】また、図９はフィルタの他の移動状態を示
す基板処理装置の平面図である。図９に示すように、フ
ィルタ３３を搬送領域Ｃ以外の領域、例えば搬入搬出領
域Ｂに水平移動させてもよく、また受け渡し領域Ｄに水
平移動させてもよい。この場合、搬入搬出領域Ｂの上部
には空気調整ユニット７（図１参照）が設けられてお
り、搬入搬出領域Ｂ内の雰囲気は清浄な状態に保たれて
いる。また、受け渡し領域Ｄの上部にも同様に空気調整
ユニット（図示せず）が設けられており、その雰囲気が
清浄な状態に保たれている。このため、保守作業時にフ
ィルタ３３を水平移動させた場合、雰囲気中のパーティ
クル等などによりフィルタ３３が汚染されることが防止
される。

【００７３】さらに、図１０はフィルタの他の移動状態
を示す基板処理装置の平面図である。図示の基板処理装
置では、基板処理領域Ａの両側に、外部との間で基板の
受け渡しを行なうための受け渡し領域Ｅが配置されてい
る。受け渡し領域Ｅには外部装置との間で基板の受け渡
しを行うための受け渡し手段（図示せず）が設けられて
いる。受け渡し領域Ｅの上部には空気調整ユニット（図
示せず）が設けられ、その雰囲気が清浄な状態に保たれ
ていく。そこで、保守作業時に、フィルタ３３を受け渡
し領域Ｅに引き出して保持することができる。なお、こ
の例の受け渡し領域Ｅが本発明の受け渡し領域に相当す
る。

【００７４】次に、フィルタユニット３２の移動動作の
インタロック機構について説明する。例えば、図３に示
すように、保守作業時に、下部搬送ユニット４の基板保
持部が少なくともフィルタユニット３２と同じ高さに上
昇していると、搬送領域Ｃに押し出されたフィルタ３３
が基板保持部に干渉する。そこで、フィルタ３３と下部
搬送ユニット４との干渉を回避させるためにインタロッ
ク機構が設けられている。

【００７５】インタロック機構の第１の例では、フィル
タ３３の移動を検知する検知手段を用いて、下部搬送ユ
ニット４とフィルタ３３との干渉を回避する。

【００７６】検知手段としては、図６に示すようにスラ
イド機構３６の固定レール３７の搬送領域Ｃ側に透過型
センサ４８を設けてもよい。この場合、フィルタ３３が
可動フレーム４０とともに搬送領域Ｃ側に押し出される
と、透過型センサ４８がフィルタ３３を検知し、検知信
号を制御部４９に出力する。

【００７７】また、フィルタユニット３２にフィルタ３
３の移動を知らせるためのスイッチを設けてもよい。作
業者はフィルタ３３を移動させる前に、このスイッチを
オンする。スイッチのオン信号は制御部４９に出力され
る。

【００７８】さらに、フィルタ３３の取り付けボルト３
５が天板２０から離脱したことを検出するセンサ、フィ
ルタ３３が可動レール４１の載置面４１ａに載置された
ことを検出するセンサ、あるいは固定ボルト４５および
連結ボルト４６が緩められたことを検出するセンサを設
けてもよい。これらのセンサの出力信号は制御部４９に
出力される。さらに、下部搬送ユニット４にフィルタ３
３を検出するセンサを設けてもよい。

【００７９】フィルタ３３の移動等を検出した信号を受
けると、制御部４９は下部搬送ユニット４をフィルタ３
３と干渉しない位置まで下降させ、さらにファンユニッ
ト３１を停止させる。また、警報を発生させてもよい。

【００８０】さらに、搬送領域Ｃ側への可動フレーム４
０の移動を禁止するロック部材（図示せず）を設けても
よい。制御部４９は、下部搬送ユニット４が、フィルタ
３３を移動させると干渉するような位置にあることを検
出した信号を受けると、ロック部材を移動させて可動フ
レーム４０の移動を阻止する。さらに、下部搬送ユニッ
ト４が所定の位置に退避すると、ロック部材を復帰させ
て可動フレーム４０の移動を許容する位置に移動させ
る。

【００８１】また、インタロック機構の第２の例では、
基板処理装置の入力部から保守作業の指令が入力される
と、フィルタ３３の移動前に下部搬送ユニット４がフィ
ルタ３３と干渉しない位置に退避される。

【００８２】本実施例では、透過型センサ４８等の上記
センサが本発明の検出手段の相当し、ロック部材が禁止
手段に相当する。

【００８３】なお、上部搬送ユニット５とフィルタ３３
とが干渉しうる場合には、上記のインタロック構造を上
部搬送ユニット５に適用し、上部搬送ユニット５と下部
搬送ユニット４の双方がフィルタ３３と干渉しうる場合
には、双方に対してインタロック構造を適用すればよ
い。

【００８４】また、回転式塗布ユニット２ａや回転式現
像ユニット２ｂ等の処理ユニットが隣接して配置されて
いる場合には、一方の処理ユニットのフィルタ３３を他
方の処理ユニットのフィルタ３３の下方に移動させるよ
うに構成してもよい。

【００８５】さらに、上記実施例においては、搬送領域
Ｃの周囲を取り囲むように複数の処理ユニットが配置さ
れた基板処理装置を例に説明したが、本発明に係るフィ
ルタユニット３２の構造は、所定方向に整列配置された
処理ユニットに沿って延びる直線状の搬送領域を有する
基板処理装置に対しても適用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例における基板処理装置の斜視図
である。

【図２】図１の基板処理装置の正面断面図である。

【図３】図２におけるＨ−Ｈ線断面図である。

【図４】図２におけるＩ−Ｉ線断面図である。

【図５】空気調整ユニットの正面断面図である。

【図６】フィルタユニットの主要部の斜視図である。

【図７】フィルタの移動状態を示す基板処理装置の断面
図である。

【図８】フィルタの移動状態を示す基板処理装置の平面
図である。

【図９】フィルタ材の他の移動状態を示す基板処理装置
の平面図である。

【図１０】フィルタのさらに他の移動例を示す基板処理
装置の平面図である。

【図１１】従来の基板処理装置の斜視図である。

【符号の説明】

２ａ 回転式塗布ユニット ２ｂ 回転式現像ユニット ３ 空気調整ユニット ４ 下部搬送ユニット ５ 上部搬送ユニット ６ 搬入搬出装置 ７ 空気調整ユニット ３１ ファンユニット ３２ フィルタユニット ３３ フィルタ ３５ 取り付けボルト ３６ スライド機構 ３７ 固定レール ３８ ガイド溝 ４０ 可動フレーム ４１ 可動レール ４２ 連結フレーム ４３ 上ガイド溝 ４４ 下ガイド溝 ４５ 固定ボルト ４６ 連結ボルト ４８ 透過型センサ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−226454（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−320915（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/02 H01L 21/027 H01L 21/68

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理空間を有し、前記処理空間内で基板
   に所定の処理を行う基板処理部と、 前記基板処理部の前記処理空間の上方から下方への空気
   流を通過させるように前記処理空間の上方に設けられた
   フィルタと、 前記フィルタを前記処理空間の上方位置と前記処理空間
   の外方で上方から下方へ清浄な空気流が供給される所定
   位置とに水平方向に移動自在に支持する支持手段とを備
   えたこと特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 前記基板処理部に隣接する隣接領域に上
   方から下方へ清浄な空気流を供給する空気調整部をさら
   に備え、 前記所定位置は、前記隣接領域内に設けられることを特
   徴とする請求項１記載の基板処理装置。
3. 【請求項３】 前記基板処理部に隣接する搬送領域に配
   設され、前記基板処理部に基板を搬送する搬送手段と、 前記搬送領域に上方から下方へ清浄な空気流を供給する
   空気調整部とをさらに備え、前記所定位置は、前記搬送
   領域に設けられることを特徴とする請求項１記載の基板
   処理装置。
4. 【請求項４】 前記基板処理部に基板を搬送する搬送手
   段と、 基板を収納する基板収納容器が載置される載置部と、 前記基板処理部に隣接する搬入搬出領域に配設され、前
   記搬送手段と前記載置部との間で基板の搬入搬出を行な
   う搬入搬出手段と、 前記搬入搬出領域に上方から下方へ清浄な空気流を供給
   する空気調整部とをさらに備え、 前記所定位置は、前記搬入搬出領域内に設けられること
   を特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
5. 【請求項５】 前記基板処理部に基板を搬送する搬送手
   段と、 前記基板処理部に隣接する受け渡し領域に配設され、前
   記搬送手段と外部装置との間で基板の受け渡しを行なう
   受け渡し手段と、 前記受け渡し領域に上方から下方へ清浄な空気流を供給
   する空気調整部とをさらに備え、 前記所定位置は、前記受け渡し領域内に設けられること
   を特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
6. 【請求項６】 前記搬送手段は、基板を保持して少なく
   とも上下方向に移動し、前記基板処理部との間で前記基
   板の受け渡しを行なう基板保持部を有し、 前記基板処理部の保守時に、前記基板保持部が前記フィ
   ルタと干渉しないように前記基板保持部の動作を制御す
   る制御手段をさらに備えたことを特徴とする請求項３記
   載の基板処理装置。
7. 【請求項７】 前記フィルタの移動を検出する検出手段
   をさらに備え、 前記制御手段は、前記検出手段により前記フィルタの移
   動が検出された際に、前記基板保持部が前記フィルタと
   干渉しない位置に前記基板保持部を退避させることを特
   徴とする請求項６記載の基板処理装置。
8. 【請求項８】 前記搬送手段は、基板を保持して少なく
   とも上下方向に移動し、前記基板処理部との間で前記基
   板の受け渡しを行なう基板保持部を有し、 前記基板処理部の保守のための指令を入力する入力手段
   と、 前記フィルタの保守指令が入力された場合に、前記基板
   保持部が前記フィルタと干渉しないように前記基板保持
   部の動作を制御する制御手段とをさらに備えたことを特
   徴とする請求項３記載の基板処理装置。
9. 【請求項９】 前記搬送手段は、基板を保持して少なく
   とも上下方向に移動し、前記基板処理部との間で前記基
   板の受け渡しを行なう基板保持部を有し、 前記基板保持部が前記所定位置にある場合に、前記フィ
   ルタの移動を禁止する禁止手段をさらに備えたことを特
   徴とする請求項３記載の基板処理装置。
10. 【請求項１０】 前記支持手段は、前記基板処理部の前
    記処理空間の上方に固定され、水平方向に延びる案内部
    材と、 前記フィルタを支持し、前記案内部材に沿って移動自在
    な移動部材とを含むことを特徴とする請求項１〜９のい
    ずれかに記載の基板処理装置。
11. 【請求項１１】 前記基板処理部は前記処理空間を取り
    囲む筐体をさらに備え、 前記フィルタは前記筐体の天板下面に着脱自在に取り付
    けられており、 前記移動部材は、前記天板から取り外された前記フィル
    タを移動可能に支持することを特徴とする請求項１０記
    載の基板処理装置。