JP3499595B2 - Method for producing 2-cyanoimidazole compound - Google Patents

Method for producing 2-cyanoimidazole compound

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JP3499595B2
JP3499595B2 JP03313894A JP3313894A JP3499595B2 JP 3499595 B2 JP3499595 B2 JP 3499595B2 JP 03313894 A JP03313894 A JP 03313894A JP 3313894 A JP3313894 A JP 3313894A JP 3499595 B2 JP3499595 B2 JP 3499595B2
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武 大嶋
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、農薬又は医薬の活性成
分として有用なイミダゾール系化合物の製造方法に関
し、より詳しくは、その中間体である2−シアノイミダ
ゾール系化合物の製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing an imidazole compound useful as an active ingredient of agricultural chemicals or pharmaceuticals, and more particularly to a method for producing an intermediate 2-cyanoimidazole compound.
【0002】[0002]
【従来の技術】2−シアノイミダゾール系化合物の製造
方法に関して、特開平1−131163号公報に次の記
載がある。
2. Description of the Related Art A method for producing a 2-cyanoimidazole compound is described in JP-A-1-131163.
【化4】 [Chemical 4]
【化5】 しかし、これら記載において2−ジメトキシメチル基を
HClで加水分解する点が本発明と異なる。また、特開
平2−108670号公報には次の記載がある。
[Chemical 5] However, in these descriptions, the point that the 2-dimethoxymethyl group is hydrolyzed with HCl is different from the present invention. Further, Japanese Patent Laid-Open No. 2-108670 discloses the following.
【化6】 [Chemical 6]
【化7】 しかし、これら記載の出発原料が本発明と異なる。[Chemical 7] However, these described starting materials differ from the present invention.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】従来、2−シアノイミ
ダゾール系化合物を得る方法としては、前記特開平2−
108670号公報に記載の方法があった。しかしなが
ら、その出発原料である2位がホルミルの化合物を工業
的に製造するためには、ブチルリチウムのような高価な
試薬並びに極低温装置といった特殊な設備が必要であっ
た。
Conventionally, as a method for obtaining a 2-cyanoimidazole compound, the method described in JP-A-2-
There was a method described in Japanese Patent No. 108670. However, in order to industrially produce the starting material, a compound in which the 2-position is formyl, an expensive reagent such as butyllithium and special equipment such as a cryogenic device were required.
【0004】一方、前記特開平1−131163号公報
に記載の方法によれば高価な試薬及び特殊な設備は不要
であるものの、出発原料をHClで加水分解する工程を
含むため、反応生成物を一旦単離、精製さらに乾燥しな
ければ脱水反応を行うことができないなど、反応操作が
煩雑であり、また反応工程が長くなるために全収率の低
下が避けられなかった。
On the other hand, according to the method described in JP-A-1-131163 described above, although an expensive reagent and special equipment are not required, since a reaction material is hydrolyzed with HCl, a reaction product is generated. Since the dehydration reaction cannot be carried out without isolation, purification and drying once, the reaction procedure is complicated, and the reaction step becomes long, so that the total yield is inevitably reduced.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、2−シア
ノイミダゾール系化合物の工業的製造方法を確立すべく
鋭意研究を行った結果、これまでは出発原料として2−
ホルミルイミダゾール系化合物が用いられていたオキシ
ム化反応において、2−ジアルコキシメチルイミダゾー
ル系化合物を用いても反応が進行することを見出し、本
発明を完成した。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies conducted by the present inventors to establish an industrial production method for 2-cyanoimidazole compounds, as a starting material, 2-
In the oxime formation reaction in which the formyl imidazole compound was used, it was found that the reaction proceeded even when the 2-dialkoxymethyl imidazole compound was used, and the present invention was completed.
【0006】すなわち、本発明は、式(I)That is, the present invention is based on the formula (I)
【化8】 (式中、Zは置換されてもよいフェニル基である)で表
わされる2−シアノイミダゾール系化合物の製造方法で
あって、(1)溶媒の存在下に式(II)
[Chemical 8] A method for producing a 2-cyanoimidazole-based compound represented by the formula (wherein Z is a phenyl group which may be substituted), wherein the formula (II) is used in the presence of (1) a solvent.
【化9】 (式中、Rは低級アルキル基であり、Zは前述の通りで
ある)で表わされる化合物とヒドロキシルアミンとを反
応させ、次いで(2)(1)で得られる生成物と脱水剤
とを反応させる、前記2−シアノイミダゾール系化合物
の製造方法に関する。
[Chemical 9] (Wherein R is a lower alkyl group and Z is as described above) is reacted with hydroxylamine, and then the product obtained in (2) and (1) is reacted with a dehydrating agent. And a method for producing the 2-cyanoimidazole compound.
【0007】式(I)及び式(II)において、Zとして
の置換されてもよいフェニル基のその置換基は、反応に
悪影響を与えないものであればフェニル基に置換するこ
とができるいずれのものであってもよい。これらZとし
ては、具体的には低級アルキル基で置換されたフェニル
基、トリフルオロメチル基で置換されたフェニル基、低
級アルコキシ基で置換されたフェニル基、低級アルキル
チオ基で置換されたフェニル基、置換フェニル基などが
含まれる。Rとしての低級アルキル基、又はこの明細書
で用いられるその他の低級アルキル基及び低級アルキル
部分は、炭素数1〜6のアルキルを意味する。これらR
としては、具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルが挙げられ、それらは直鎖又は
枝分れ鎖のアルキルであってよく、なかでも、メチル、
エチルが望ましい。
In formulas (I) and (II), any substituent of the optionally substituted phenyl group as Z can be substituted with a phenyl group as long as it does not adversely affect the reaction. It may be one. As these Z, specifically, a phenyl group substituted with a lower alkyl group, a phenyl group substituted with a trifluoromethyl group, a phenyl group substituted with a lower alkoxy group, a phenyl group substituted with a lower alkylthio group, Substituted phenyl groups and the like are included. The lower alkyl group as R, or the other lower alkyl group and lower alkyl moiety used in the present specification means alkyl having 1 to 6 carbon atoms. These R
Specific examples thereof include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl and hexyl, which may be linear or branched alkyl, especially methyl,
Ethyl is preferred.
【0008】前記式(II)の化合物としては、具体的に
は次のものが挙げられる。 ・2−(ジエトキシメチル)−4(5)−(4−メチル
フェニル)イミダゾール ・2−(ジメトキシメチル)−4(5)−(4−メチル
フェニル)イミダゾール ・2−(ジエトキシメチル)−4(5)−(3−トリフ
ルオロメチルフェニル)イミダゾール ・2−(ジエトキシメチル)−4(5)−(4−メトキ
シフェニル)イミダゾール ・2−(ジメトキシメチル)−4(5)−フェニルイミ
ダゾール ・2−(ジエトキシメチル)−4(5)−(3−メチル
フェニル)イミダゾール ・2−(ジエトキシメチル)−4(5)−(3,4−ジ
メチルフェニル)イミダゾール ・2−(ジエトキシメチル)−4(5)−(4−エチル
フェニル)イミダゾール ・2−(ジエトキシメチル)−4(5)−(3−メトキ
シフェニル)イミダゾール ・2−(ジエトキシメチル)−4(5)−(4−イソプ
ロピルフェニル)イミダゾール ・2−(ジエトキシメチル)−4(5)−(4−メチル
チオフェニル)イミダゾール ・2−(ジエトキシメチル)−4(5)−(2−メチル
フェニル)イミダゾール ・2−(ジメトキシメチル)−4(5)−(4−エチル
フェニル)イミダゾール
Specific examples of the compound of the above formula (II) include the following. 2- (diethoxymethyl) -4 (5)-(4-methylphenyl) imidazole 2- (dimethoxymethyl) -4 (5)-(4-methylphenyl) imidazole 2- (diethoxymethyl)- 4 (5)-(3-Trifluoromethylphenyl) imidazole 2- (diethoxymethyl) -4 (5)-(4-methoxyphenyl) imidazole 2- (dimethoxymethyl) -4 (5) -phenylimidazole 2- (diethoxymethyl) -4 (5)-(3-methylphenyl) imidazole 2- (diethoxymethyl) -4 (5)-(3,4-dimethylphenyl) imidazole 2- (diethoxy) Methyl) -4 (5)-(4-ethylphenyl) imidazole 2- (diethoxymethyl) -4 (5)-(3-methoxyphenyl) imidazole 2- (di Toxoxymethyl) -4 (5)-(4-isopropylphenyl) imidazole-2- (diethoxymethyl) -4 (5)-(4-methylthiophenyl) imidazole-2- (diethoxymethyl) -4 (5)- (2-Methylphenyl) imidazole 2- (dimethoxymethyl) -4 (5)-(4-ethylphenyl) imidazole
【0009】本発明の2−シアノイミダゾール系化合物
の製造方法は、前記式(II)の化合物を出発原料とし、
(1)オキシム化反応及び(2)脱水反応の2工程から
なる。
The method for producing a 2-cyanoimidazole-based compound of the present invention uses a compound of the formula (II) as a starting material,
It consists of two steps: (1) oxime formation reaction and (2) dehydration reaction.
【0010】オキシム化反応は、溶媒の存在下に式(I
I)の化合物とヒドロキシルアミンとを反応させる。こ
の反応に使用される溶媒としては、例えばメタノール、
エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、モノ
グライム、ジグライム、ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエ
チレングリコール等のエーテル類、ジクロロエタン、ク
ロロホルム、テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、モノクロロベンゼン、ニトロベンゼ
ン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、アセトニトリル
などのニトリル類、ジメチルスルホキシド、ジメチルホ
ルムアミド、ピリジンなどが挙げられ、なかでもジメチ
ルホルムアミドが好ましい。さらにはこれらから選択さ
れる溶媒を組合せた混合溶媒を使用してもよい。混合溶
媒を使用して二相反応を行う場合には、トリエチルベン
ジルアンモニウムクロライド、トリオクチルメチルアン
モニウムクロライドなどの相間移動触媒を使用すること
もできる。溶媒は式(II)の化合物に対して通常6倍容
量以上使用することが望ましく、6倍容量未満の場合で
あって使用量が少くなればなるほど収率の低下をまね
く。一方その上限は10倍容量以下であることが望まし
い。10倍容量を越える量の溶媒を使用しても極端な場
合を除いては、収率の低下をまねくわけではないが、利
点も認められない。ヒドロキシルアミンはそれ自体単独
で使用しても良いし、或はその塩酸塩、硫酸塩などの鉱
酸塩として使用しても良いが、その鉱酸塩を使用する方
が望ましい。その鉱酸塩を使用する場合には、反応系に
塩基を加えることが望ましい。塩基は鉱酸塩をヒドロキ
シルアミンに戻す能力のあるものであればいずれのもの
でもよい。塩基としては、具体的には無機塩基或は有機
塩基を使用することができ、例えば無機塩基としては炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸水
素ナトリウムなどのアルカリ金属又はアルカリ土類金属
の炭酸塩、及び水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化カルシウム、水素化リチウムなどのアルカリ金属又
はアルカリ土類金属の水酸化物又は水素化物が挙げられ
る。有機塩基としては、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンなどが挙
げられ、なかでも、ピリジンが好ましい。ヒドロキシル
アミンは式(II)の化合物に対して理論上は1当量消費
されるが、その損失などを考慮して通常1.2から1.
3当量使用されることが望ましい。また、塩基の使用量
はヒドロキシルアミンと同当量である。この反応の反応
温度は通常50〜150℃、望ましくは70〜90℃で
あり、普通0.1〜24時間で反応が終了する。この反
応により、式(III)
The oximation reaction is carried out by the reaction of the formula (I
The compound of I) is reacted with hydroxylamine. As the solvent used in this reaction, for example, methanol,
Alcohols such as ethanol and isopropanol, ethers such as monoglyme, diglyme, diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane and diethylene glycol, halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, chloroform and tetrachloroethane, benzene, monochlorobenzene, nitrobenzene, toluene Examples thereof include aromatic hydrocarbons, nitriles such as acetonitrile, dimethylsulfoxide, dimethylformamide, pyridine and the like, and among them, dimethylformamide is preferable. Furthermore, a mixed solvent in which solvents selected from these are combined may be used. When the two-phase reaction is carried out using a mixed solvent, a phase transfer catalyst such as triethylbenzylammonium chloride or trioctylmethylammonium chloride can be used. The solvent is usually used in an amount of 6 times or more the volume of the compound of the formula (II), and in the case of less than 6 times the volume, the smaller the amount used, the lower the yield. On the other hand, the upper limit is preferably 10 times or less. The use of a solvent in an amount exceeding 10 times the volume does not lead to a decrease in yield except in an extreme case, but no advantage is recognized. Hydroxylamine may be used by itself or may be used as a mineral acid salt such as a hydrochloride or a sulfate thereof, but it is preferable to use the mineral acid salt. When using the mineral acid salt, it is desirable to add a base to the reaction system. The base may be any as long as it has the ability to convert the mineral acid salt back to hydroxylamine. As the base, specifically, an inorganic base or an organic base can be used. For example, as the inorganic base, carbonates of alkali metals or alkaline earth metals such as sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate and sodium hydrogen carbonate. , And alkali metal or alkaline earth metal hydroxides or hydrides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, lithium hydride and the like. Examples of the organic base include diethylamine, triethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine and the like, and among them, pyridine is preferable. Hydroxylamine is theoretically consumed in an amount of 1 equivalent to the compound of formula (II), but it is usually 1.2 to 1.
It is desirable to use 3 equivalents. The amount of the base used is the same as that of hydroxylamine. The reaction temperature of this reaction is usually 50 to 150 ° C, preferably 70 to 90 ° C, and the reaction is usually completed in 0.1 to 24 hours. By this reaction, the formula (III)
【化10】 (式中、Zは前述の通りである)で表わされる化合物が
生成する。
[Chemical 10] A compound represented by the formula (in the formula, Z is as described above) is produced.
【0011】前記式(III)の化合物としては、具体的に
は次のものが挙げられる。 ・2−(ヒドロキシイミノメチル)−4(5)−(4−
メチルフェニル)イミダゾール ・2−(ヒドロキシイミノメチル)−4(5)−(3−
トリフルオロメチルフェニル)イミダゾール ・2−(ヒドロキシイミノメチル)−4(5)−(4−
メトキシフェニル)イミダゾール ・2−(ヒドロキシイミノメチル)−4(5)−フェニ
ルイミダゾール ・2−(ヒドロキシイミノメチル)−4(5)−(3−
メチルフェニル)イミダゾール ・2−(ヒドロキシイミノメチル)−4(5)−(3,
4−ジメチルフェニル)イミダゾール ・2−(ヒドロキシイミノメチル)−4(5)−(4−
エチルフェニル)イミダゾール ・2−(ヒドロキシイミノメチル)−4(5)−(3−
メトキシフェニル)イミダゾール ・2−(ヒドロキシイミノメチル)−4(5)−(4−
イソプロピルフェニル)イミダゾール ・2−(ヒドロキシイミノメチル)−4(5)−(4−
メチルチオフェニル)イミダゾール ・2−(ヒドロキシイミノメチル)−4(5)−(2−
メチルフェニル)イミダゾール
Specific examples of the compound of the formula (III) include the following. -2- (hydroxyiminomethyl) -4 (5)-(4-
Methylphenyl) imidazole 2- (hydroxyiminomethyl) -4 (5)-(3-
Trifluoromethylphenyl) imidazole 2- (hydroxyiminomethyl) -4 (5)-(4-
Methoxyphenyl) imidazole 2- (hydroxyiminomethyl) -4 (5) -phenylimidazole 2- (hydroxyiminomethyl) -4 (5)-(3-
Methylphenyl) imidazole 2- (hydroxyiminomethyl) -4 (5)-(3
4-Dimethylphenyl) imidazole 2- (hydroxyiminomethyl) -4 (5)-(4-
Ethylphenyl) imidazole 2- (hydroxyiminomethyl) -4 (5)-(3-
Methoxyphenyl) imidazole 2- (hydroxyiminomethyl) -4 (5)-(4-
Isopropylphenyl) imidazole 2- (hydroxyiminomethyl) -4 (5)-(4-
Methylthiophenyl) imidazole 2- (hydroxyiminomethyl) -4 (5)-(2-
Methylphenyl) imidazole
【0012】脱水反応は、前記オキシム化反応で得られ
る生成物と脱水剤とを反応させる。前記オキシム化反応
で得られる生成物は、単離、精製された上で脱水反応に
供されてもよいが、この脱水反応は、前記オキシム化反
応の後生成物を単離、精製することなく、そのまま連続
して行うこともでき、そのような連続反応が有利な結果
をもたらすことが期待できる。脱水剤としては、例えば
無水酢酸、無水トリクロロ酢酸、トリクロロアセトニト
リル、トリクロロアセチルクロライド、オキサリルクロ
ライド、塩化チオニル、オキシ塩化リン、三塩化リン、
五酸化リン、ホスホニトリリッククロライド、ホスゲン
(二量体)、シアヌルクロライド、四塩化チタン、ギ酸
などを使用することができ、なかでも、無水酢酸が好ま
しい。脱水剤は式(II)の化合物に対して通常1.5か
ら2.5当量、望ましくは1.5〜2当量使用する。こ
の反応の反応温度は通常50〜150℃、望ましくは8
0〜100℃であり、普通1〜24時間で反応が終了す
る。反応終了後、通常の後処理操作、例えば反応混合物
を水中に投入し、析出した固体を濾取し、洗浄すること
により、高純度の式(I)で表わされる2−シアノイミ
ダゾール系化合物を取得することができる。
In the dehydration reaction, the product obtained in the oxime-forming reaction is reacted with a dehydrating agent. The product obtained by the oximation reaction may be subjected to a dehydration reaction after being isolated and purified, but this dehydration reaction does not require isolation and purification of the product after the oximation reaction. Alternatively, it can be carried out continuously as it is, and it can be expected that such a continuous reaction will bring advantageous results. As the dehydrating agent, for example, acetic anhydride, trichloroacetic anhydride, trichloroacetonitrile, trichloroacetyl chloride, oxalyl chloride, thionyl chloride, phosphorus oxychloride, phosphorus trichloride,
Phosphorus pentoxide, phosphonitrilic chloride, phosgene (dimer), cyanuric chloride, titanium tetrachloride, formic acid and the like can be used, and acetic anhydride is preferable. The dehydrating agent is usually used in an amount of 1.5 to 2.5 equivalents, preferably 1.5 to 2 equivalents, relative to the compound of formula (II). The reaction temperature of this reaction is usually 50 to 150 ° C., preferably 8
The reaction temperature is 0 to 100 ° C., and the reaction is usually completed in 1 to 24 hours. After completion of the reaction, a usual post-treatment operation, for example, the reaction mixture is put into water, the precipitated solid is collected by filtration and washed to obtain a highly pure 2-cyanoimidazole compound represented by the formula (I). can do.
【0013】なお、出発原料の式(II)で表わされる化
合物は、次の方法によって製造することができる。
The compound represented by the formula (II) as the starting material can be produced by the following method.
【化11】 (式中、Z及びRは前述の通りであり、Aは低級アルキ
ル基である)
[Chemical 11] (In the formula, Z and R are as described above, and A is a lower alkyl group.)
【0014】式(II)の鉱酸塩としては塩酸塩、硫酸塩
が含まれる。式(IV)の化合物と式(V)の化合物との
量比は化学量論的には1:1であるが、例えば公知の方
法により合成した式(V)の化合物を単離することなく
上記反応に用いるような場合には、式(V)の化合物は
式(IV)の化合物に対して1当量以上用いてもよい。
Mineral salts of formula (II) include hydrochlorides and sulfates. The stoichiometric ratio between the compound of formula (IV) and the compound of formula (V) is 1: 1, but without isolating the compound of formula (V) synthesized by a known method. When used in the above reaction, the compound of the formula (V) may be used in an amount of 1 equivalent or more with respect to the compound of the formula (IV).
【0015】上記反応は溶媒及び酸受容体の存在下に行
われる。酸受容体の使用量は式(IV)の化合物に対して
1当量以上であればよい。この反応の反応温度は通常2
0〜150℃、望ましくは50〜120℃であり反応時
間は普通1〜24時間である。上記式(II)で表わされ
る化合物の製造例を参考例として記載する。
The above reaction is carried out in the presence of a solvent and an acid acceptor. The amount of the acid acceptor used may be 1 equivalent or more with respect to the compound of the formula (IV). The reaction temperature for this reaction is usually 2
The temperature is 0 to 150 ° C, preferably 50 to 120 ° C, and the reaction time is usually 1 to 24 hours. A production example of the compound represented by the above formula (II) will be described as a reference example.
【0016】参考例1 2−(ジエトキシメチル)−4
(5)−(4−メチルフェニル)イミダゾールの合成 メタノール12mlに28%ナトリウムメチラートメタ
ノール溶液0.77gを加え、室温でジエトキシアセト
ニトリル2.58g(0.02モル)を滴下した。滴下
終了後室温で1時間反応させてメチルジエトキシアセト
イミデートのメタノール溶液を得、これに、室温で4−
メチルフェナシルアミン塩酸塩1.85g(0.01モ
ル)を少量ずつ加えた。次に28%ナトリウムメチラー
トメタノール溶液1.93gを滴下し、更にメタノール
18mlを加えた。反応混合物を室温で1時間反応させ
た後、加熱還流下2時間反応させた。反応終了後反応混
合物を冷却し、減圧下溶媒を留去した。残留物を塩化メ
チレンで抽出し、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下溶媒を留去し、残留物をヘキサン洗浄し、固
体をろ取し、融点103〜105℃の目的物1.65g
(収率64%)を得た。
Reference Example 1 2- (diethoxymethyl) -4
Synthesis of (5)-(4-methylphenyl) imidazole To 12 ml of methanol was added 0.77 g of 28% sodium methylate methanol solution, and 2.58 g (0.02 mol) of diethoxyacetonitrile was added dropwise at room temperature. After completion of the dropwise addition, the mixture was reacted at room temperature for 1 hour to obtain a methanol solution of methyldiethoxyacetimidate.
Methylphenacylamine hydrochloride 1.85 g (0.01 mol) was added in small portions. Next, 1.93 g of 28% sodium methylate methanol solution was added dropwise, and further 18 ml of methanol was added. The reaction mixture was reacted at room temperature for 1 hour and then heated under reflux for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was extracted with methylene chloride, washed with water, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was washed with hexane, the solid was collected by filtration, and 1.65 g of the desired product having a melting point of 103 to 105 ° C.
(Yield 64%) was obtained.
【0017】参考例2 2−(ジメトキシメチル)−4
(5)−(4−メチルフェニル)イミダゾールの合成 原料のジエトキシアセトニトリル2.58gの代わりに
ジメトキシアセトニトリル2.02g(0.02モル)
を使用した以外は参考例1の場合と同様に反応、後処理
して、融点127〜129℃の目的物1.42g(収率
61%)を得た。次に上記参考例によって得られる式
(II)で表わされる化合物を出発原料とする本発明の実
施例を記載するが、本発明はそれらのみに限定されるも
のではない。
Reference Example 2 2- (dimethoxymethyl) -4
2.05 g (0.02 mol) of dimethoxyacetonitrile instead of 2.58 g of diethoxyacetonitrile as a starting material for the synthesis of (5)-(4-methylphenyl) imidazole.
The reaction and post-treatment were carried out in the same manner as in Reference Example 1 except that was used to obtain 1.42 g (yield 61%) of the desired product having a melting point of 127 to 129 ° C. Next, examples of the present invention will be described in which the compound represented by the formula (II) obtained by the above-mentioned reference example is used as a starting material, but the present invention is not limited thereto.
【0018】[0018]
【実施例】【Example】
実施例1 2−シアノ−4(5)−(4−メチルフェニ
ル)イミダゾールの製造2−(ジエトキシメチル)−4
(5)−(4−メチルフェニル)イミダゾール0.5g
(0.00192mol)をジメチルホルムアミド5m
lに溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩0.16g
(0.0023mol)とピリジン0.183g(0.
0023mol)とを加え、80℃で1時間反応させ
た。次いで無水酢酸0.393g(0.00384mo
l)を滴下し、滴下終了後90℃で3時間反応させた。
反応終了後、室温まで冷却した反応物を水30mlに投
入し、析出した固体を濾取し、水及びヘキサンで洗浄
し、目的物0.306g(0.00167mol,収率
87%)を得た。
Example 1 Preparation of 2-cyano-4 (5)-(4-methylphenyl) imidazole 2- (diethoxymethyl) -4
0.5 g of (5)-(4-methylphenyl) imidazole
(0.00192 mol) of dimethylformamide 5m
dissolved in 1, 0.16 g of hydroxylamine hydrochloride
(0.0023 mol) and pyridine 0.183 g (0.
And 0023 mol) were added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 1 hour. Then, acetic anhydride 0.393 g (0.00384 mo
1) was added dropwise, and after completion of the addition, the mixture was reacted at 90 ° C. for 3 hours.
After completion of the reaction, the reaction product cooled to room temperature was poured into 30 ml of water, and the precipitated solid was collected by filtration and washed with water and hexane to obtain 0.306 g of the desired product (0.00167 mol, yield 87%). .
【0019】実施例2 2−シアノ−4(5)−(4−
メチルフェニル)イミダゾールの製造 原料として2−(ジエトキシメチル)−4(5)−(4
−メチルフェニル)イミダゾール0.5gの代わりに、
2−(ジメトキシメチル)−4(5)−(4−メチルフ
ェニル)イミダゾール0.446g(0.00192m
ol)を使用した以外は実施例1の場合と同様にして反
応を行ない、後処理して、目的物0.27gを得た。
Example 2 2-Cyano-4 (5)-(4-
2- (diethoxymethyl) -4 (5)-(4 as a raw material for producing methylphenyl) imidazole
Instead of 0.5 g of -methylphenyl) imidazole,
2- (dimethoxymethyl) -4 (5)-(4-methylphenyl) imidazole 0.446 g (0.00192 m)
ol) was used and the reaction was carried out in the same manner as in Example 1 and post-treatment was carried out to obtain 0.27 g of the desired product.

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】(57) [Claims]
  1. 【請求項1】式(I) 【化1】 (式中、Zは低級アルキル基、トリフルオロメチル基、
    低級アルコキシ基若しくは低級アルキルチオ基により置
    換されてもよいフェニル基である)で表わされる2−シ
    アノイミダゾール系化合物の製造方法であって、(1)
    溶媒の存在下に式(II) 【化2】 (式中、Rは低級アルキル基であり、Zは前述の通りで
    ある)で表わされる化合物とヒドロキシルアミンとを反
    応させ、次いで(2)(1)で得られる生成物と脱水剤
    とを反応させることを特徴とする、前記2−シアノイミ
    ダゾール系化合物の製造方法。
    1. A compound represented by the formula (I): (In the formula, Z is a lower alkyl group, a trifluoromethyl group,
    A phenyl group which may be substituted with a lower alkoxy group or a lower alkylthio group), and a method for producing a 2-cyanoimidazole compound, which comprises (1)
    Formula (II) in the presence of a solvent (Wherein R is a lower alkyl group and Z is as described above) is reacted with hydroxylamine, and then the product obtained in (2) and (1) is reacted with a dehydrating agent. The method for producing a 2-cyanoimidazole-based compound described above.
  2. 【請求項2】 式(I)の化合物及び式(II)の化合物
    中Zが低級アルキル基で置換されたフェニル基である、
    請求項1に記載の製造方法。
    2. In the compound of formula (I) and the compound of formula (II), Z is a phenyl group substituted with a lower alkyl group,
    The manufacturing method according to claim 1.
  3. 【請求項3】 溶媒がジメチルホルムアミドである請求
    項1に記載の製造方法。
    3. The production method according to claim 1, wherein the solvent is dimethylformamide.
  4. 【請求項4】 ヒドロキシルアミンとしてその鉱酸塩を
    使用し、かつ塩基を使用する請求項1に記載の製造方
    法。
    4. The process according to claim 1, wherein the mineral acid salt thereof is used as hydroxylamine and a base is used.
  5. 【請求項5】 塩基がピリジンである請求項4に記載の
    製造方法。
    5. The production method according to claim 4, wherein the base is pyridine.
  6. 【請求項6】 (1)の反応が、式(II)の化合物に対
    して6から10倍容量の溶媒の存在下に、式(II) の化
    合物と、式(II)の化合物に対して1.2から1.3当
    量のヒドロキシルアミン鉱酸塩及びその塩と同当量の塩
    基とを、50から150℃の温度範囲で混合することに
    より達成される請求項1に記載の製造方法。
    6. The reaction of (1) comprises reacting a compound of formula (II) with a compound of formula (II) in the presence of a solvent in an amount of 6 to 10 times that of the compound of formula (II). The production method according to claim 1, which is achieved by mixing 1.2 to 1.3 equivalents of a hydroxylamine mineral acid salt and its salt with an equivalent amount of a base in a temperature range of 50 to 150 ° C.
  7. 【請求項7】 (1)で得られる生成物が式(III) 【化3】 (式中、Zは前述の通りである)で表わされる化合物で
    ある請求項1に記載の製造方法。
    7. The product obtained in (1) has the formula (III): The production method according to claim 1, which is a compound represented by the formula (wherein Z is as described above).
  8. 【請求項8】 脱水剤が無水酢酸である請求項1に記載
    の製造方法。
    8. The production method according to claim 1, wherein the dehydrating agent is acetic anhydride.
  9. 【請求項9】 (2)の反応が、(1)の反応の後連続
    して行われる請求項1に記載の製造方法。
    9. The production method according to claim 1, wherein the reaction (2) is continuously performed after the reaction (1).
  10. 【請求項10】 (2)の反応が、(1)で得られる生
    成物と式(II)の化合物に対して1.5〜2.5当量の
    無水酢酸とを、50〜150℃の温度範囲で混合するこ
    とにより達成される請求項1に記載の製造方法。
    10. The reaction of (2) is carried out by adding the product obtained in (1) and 1.5 to 2.5 equivalents of acetic anhydride to the compound of formula (II) at a temperature of 50 to 150 ° C. The manufacturing method according to claim 1, which is achieved by mixing within the range.
  11. 【請求項11】 溶媒の存在下に式(II) 【化4】 (式中、Rは低級アルキル基であり、Zは低級アルキル
    基、トリフルオロメチル基、低級アルコキシ基若しくは
    低級アルキルチオ基により置換されてもよいフェニル基
    である)で表わされる化合物とヒドロキシルアミンとを
    反応させることを特徴とする式(III) 【化5】 (式中、Zは前述の通りである)で表わされる化合物の
    製造方法。
    11. A compound of the formula (II) in the presence of a solvent: (In the formula, R is a lower alkyl group and Z is a lower alkyl group.
    Group, trifluoromethyl group, lower alkoxy group or
    Phenyl group optionally substituted by lower alkylthio group
    Expression, wherein the compound and reacting the hydroxylamine represented by the a) (III) embedded image (Wherein Z is as described above) .
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