JP3488099B2 - 置換縮合複素環化合物 - Google Patents
置換縮合複素環化合物Info
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Description
ン抵抗性改善作用、血糖低下作用、抗炎症作用、免疫調
節作用、アルドース還元酵素阻害作用、5−リポキシゲ
ナーゼ阻害作用、過酸化脂質生成抑制作用、PPAR活
性化作用、抗骨粗鬆症作用、ロイコトリエン拮抗作用、
脂肪細胞化促進作用、ガン細胞増殖抑制作用、カルシウ
ム拮抗作用を有する置換縮合複素環化合物又はその薬理
上許容される塩に関する。
物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有す
る、上記作用により改善される疾病、例えば、糖尿病、
高脂血症、肥満症、耐糖能不全、高血圧症、脂肪肝、糖
尿病合併症(例えば、網膜症、腎症、神経症、白内障、
冠動脈疾患等である。)、動脈硬化症、妊娠糖尿病、多
嚢胞卵巣症候群、心血管性疾患(例えば、虚血性心疾患
等である。)、アテローム性動脈硬化症又は虚血性心疾
患により惹起される細胞損傷(例えば、脳卒中により惹
起される脳損傷等である。)、痛風、炎症性疾患(例え
ば、骨関節炎、疼痛、発熱、リウマチ性関節炎、炎症性
腸炎、アクネ、日焼け、乾癬、湿疹、アレルギー性疾
患、喘息、GI潰瘍、悪液質、自己免疫疾患、膵炎等で
ある。)、ガン、骨粗鬆症、白内障等の予防剤及び/又
は治療剤に関する。
物若しくはその薬理上許容される塩と、α−グルコシダ
ーゼ阻害剤、アルドース還元酵素阻害剤、ビグアナイド
剤、スタチン系化合物、スクアレン合成阻害剤、フィブ
ラート系化合物、LDL異化促進剤及びアンジオテンシ
ン変換酵素阻害剤の少なくとも1 種を組み合わせてなる
医薬組成物(特に好適には、糖尿病又は糖尿病合併症の
予防剤及び/又は治療剤である。)に関する。
リジン系化合物等は、糖尿病、高脂血症のような様々な
疾病の予防剤又は治療剤として有用であることが報告さ
れている。例えば、数多くの血糖低下作用を有するチア
ゾリジン系化合物が、Chem. Pharm. Bull., 30, 3580-3
600 (1982)、Prog.Clin. Biol. Res., 265, 177-192 (1
988)、Diabetes, 37(11), 1549-1558 (1988),Arzneim.
-Forsch., 40(1), 37-42 (1990) 、EP0441605
A号等に開示されている。
作用が、Diabetes, 40(12), 1669-1674 (1991)、Am.J.P
hysiol., 267(1 Pt 1), E95-E101(1994)、Diabetes, 4
3(10), 1203-1210(1994)等に報告されている。
アゾリジン系化合物の作用が、Arzneim.-Forsch., 40(2
Pt 1), 156-162 (1990)、Metabolism, 40(10), 1025-
1230(1991)、Diabetes, 43(2), 204-211 (1994)等で報
告されている。
スリン抵抗性を有する正常人が糖尿病を発症すること及
びインスリン抵抗性を改善する医薬は上記のような正常
人の糖尿病発症の予防剤としても有用であることがN.En
gl.J.Med., 331(18), 1226-1227 (1994)で報告されてい
る。
作用が、Metabolism, 42(1), 75-80(1993)、Am.J.Physi
ol., 265(4 Pt 2), R726-R732(1993)、Diabetes, 43
(2),204-211 (1994)等で報告されている。
の作用が、Am.J.Physiol., 265(4 Pt 2), R726-R732 (1
993)、Hypertension, 24(2), 170-175(1994)等で報告さ
れている。
の作用が、Am.J.Physiol., 265(4Pt 2), R726-R732(19
93)等で報告されている。
用が、Endocrinology, 135(5), 2279-2282(1994)、Endr
ocrinology, 136(4), 1474-1481(1995)等に報告されて
いる。
系化合物の中でも、複素環基を有する化合物が、WO9
2/07839A号、WO92/07850A号、EP
00745600A号に、血糖低下作用を有するオキサ
ゾリジン−2,4−ジオン化合物が、WO92/025
20A号等に開示されている。
キサジアゾリジン−2−イルメチルフェニル基を有する
化合物又はN−ヒドロキシウレイド基を有する化合物
が、WO92/03425A号に開示されている。
−{4−[5−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニルチオ)−3−メチル−3H−イミダゾ
[4,5−b]ピリジン−2−イルメトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2,4−ジオンが例示化合物として
のみ開示されている。
亘り、一連の置換縮合複素環化合物の合成とそれらの薬
理活性について検討してきた結果、新規な構造を有する
置換縮合複素環化合物が、優れた、インスリン抵抗性改
善作用、血糖低下作用、抗炎症作用、免疫調節作用、ア
ルドース還元酵素阻害作用、5−リポキシゲナーゼ阻害
作用、過酸化脂質生成抑制作用、PPAR活性化作用、
抗骨粗鬆症作用、ロイコトリエン拮抗作用、脂肪細胞化
促進作用、ガン細胞増殖抑制作用、カルシウム拮抗作用
を有しており、副作用も少なく、更に、脂溶性が高いと
いう特徴を有していることを見出し、本発明を完成する
に至った。
化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含
有する、上記作用により改善される疾病、例えば、糖尿
病、高脂血症、肥満症、耐糖能不全、高血圧症、脂肪
肝、糖尿病合併症(例えば、網膜症、腎症、神経症、白
内障、冠動脈疾患等である。)、動脈硬化症、妊娠糖尿
病、多嚢胞卵巣症候群、心血管性疾患(例えば、虚血性
心疾患等である。)、アテローム性動脈硬化症又は虚血
性心疾患により惹起される細胞損傷(例えば、脳卒中に
より惹起される脳損傷等である。)、痛風、炎症性疾患
(例えば、骨関節炎、疼痛、発熱、リウマチ性関節炎、
炎症性腸炎、アクネ、日焼け、乾癬、湿疹、アレルギー
性疾患、喘息、GI潰瘍、悪液質、自己免疫疾患、膵炎
等である。)、ガン、骨粗鬆症、白内障等の予防剤及び
/又は治療剤を提供することである。
複素環化合物若しくはその薬理上許容される塩と、α−
グルコシダーゼ阻害剤、アルドース還元酵素阻害剤、ビ
グアナイド剤、スタチン系化合物、スクアレン合成阻害
剤、フィブラート系化合物、LDL異化促進剤及びアン
ジオテンシン変換酵素阻害剤の少なくとも1 種を組み合
わせてなる医薬組成物(特に好適には、糖尿病又は糖尿
病合併症の予防剤及び/又は治療剤である。)を提供す
ることである。
化合物は、一般式(I)を有する。
る基で1乃至5個置換されたフェニル基又は置換基群α
から選択される基で1乃至4個置換されてもよいピリジ
ル基を示し、R5 は、水素原子又は置換基群αから選択
される基を示し、R6 は、水素原子、C1 −C6 アルキ
ル基、置換基群βから選択される基で1乃至3個置換さ
れてもよいC6 −C10アリール基又は置換基群βから選
択される基で1乃至3個置換されてもよいC7 −C16ア
ラルキル基を示し、Dは、酸素原子又は硫黄原子を示
し、Eは、CHを有する基又は窒素原子を示す。]を有
する基を示し、R2 は、水素原子又は置換基群αから選
択される基を示し、R3 は、式
キレン基を示し、Bは、酸素原子又は硫黄原子を示す。
但し、5−{4−[5−(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニルチオ)−3−メチル−3H−イミ
ダゾ[4,5−b]ピリジン−2−イルメトキシ]ベン
ジル}チアゾリジン−2,4−ジオンは除く。 <置換基群α>ハロゲン原子;ヒドロキシ基;C1 −C
6 アルキル基;ハロゲノC1 −C6 アルキル基;C1 −
C6 アルコキシ基;C1 −C6 アルキルチオ基;置換基
群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基;置
換基群βから選択される基で1乃至3個置換されてもよ
い、C3 −C10シクロアルキル、C6 −C10アリール、
C7 −C16アラルキル、C6 −C10アリールオキシ、C
7 −C16アラルキルオキシ及びC6 −C10アリールチオ
基;C1 −C7 脂肪族アシルオキシ基;窒素原子を含有
する4乃至7員飽和複素環基;窒素原子を含有する5乃
至6員芳香複素環基;ニトロ基;並びにシアノ基。 <置換基群β>ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1 −C
6 アルキル基、ハロゲノC1 −C6 アルキル基、C1 −
C6 アルコキシ基、置換基群γから選択される基で置換
されてもよいアミノ基、C6 −C10アリール基、及びニ
トロ基。 <置換基群γ>C1 −C10アルキル基、置換されてもよ
い、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル基並
びに、アシル基(該アシル基は、C1 −C7 脂肪族アシ
ル基並びに置換されてもよい、C7 −C11芳香族アシ
ル、C8 −C12芳香脂肪族アシル、C4 −C11シクロア
ルキルカルボニル及び窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環カルボニル基を示す。)。
おける「ハロゲン原子」は、弗素原子、塩素原子、臭素
原子又は沃素原子であり、好適には、弗素原子又は塩素
原子である。
βの定義における「C1 −C6 アルキル基」は、炭素数
1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を示し、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、
イソペンチル、2−メチルブチル、ネオペンチル、1−
エチルプロピル、ヘキシル、4−メチルペンチル、3−
メチルペンチル、2−メチルペンチル、1−メチルペン
チル、3,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチ
ル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチ
ル、1,3−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチ
ル、2−エチルブチル基であり、R6 において、好適に
はC1 −C4 アルキル基であり、更に好適にはC1 −C
2 アルキル基であり、特に好適にはメチル基である。置
換基群αにおいて、好適には、メチル又はt−ブチル基
であり、置換基群βにおいて、好適には、メチル、エチ
ル又はt−ブチル基である。
おける「ハロゲノC1 −C6 アルキル基」は、前記C1
−C6 アルキル基に1乃至3個の前記ハロゲン原子が結
合した基を示し、例えば、トリフルオロメチル、トリク
ロロメチル、トリブロモメチル、ジフルオロメチル、ジ
クロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチル、2,
2,2−トリクロロエチル、2,2,2−トリフルオロ
エチル、2−ブロモエチル、2−クロロエチル、2−フ
ルオロエチル、2−ヨードエチル、3−クロロプロピ
ル、4−フルオロブチル、6−ヨードヘキシル、2,2
−ジブロモエチル基であり、好適にはハロゲノC1 −C
2 アルキル基であり、特に好適にはトリフルオロメチル
基である。
おける「C1 −C6 アルコキシ基」は、前記C1 −C6
アルキル基が酸素原子に結合した基を示し、例えば、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブト
キシ、イソブトキシ、s−ブトキシ、t−ブトキシ、ペ
ントキシ、イソペントキシ、2−メチルブトキシ、ネオ
ペントキシ、1−エチルプロポキシ、ヘキシルオキシ、
4−メチルペントキシ、3−メチルペントキシ、2−メ
チルペントキシ、3,3−ジメチルブトキシ、2,2−
ジメチルブトキシ、1,1−ジメチルブトキシ、1,2
−ジメチルブトキシ、1,3−ジメチルブトキシ、2,
3−ジメチルブトキシ、2−エチルブトキシ基であり、
好適にはC1 −C2 アルコキシ基であり、特に好適には
メトキシ基である。
「C1 −C6 アルキルチオ基」は、前記C1 −C6 アル
キル基が硫黄原子に結合した基を示し、例えば、メチル
チオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、
ブチルチオ、イソブチルチオ、s−ブチルチオ、t−ブ
チルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、2−メチ
ルブチルチオ、ネオペンチルチオ、1−エチルプロピル
チオ、ヘキシルチオ、4−メチルペンチルチオ、3−メ
チルペンチルチオ、2−メチルペンチルチオ、1−メチ
ルペンチルチオ、3,3−ジメチルブチルチオ、2,2
−ジメチルブチルチオ、1,1−ジメチルブチルチオ、
1,2−ジメチルブチルチオ、1,3−ジメチルブチル
チオ、2,3−ジメチルブチルチオ、2−エチルブチル
チオ基であり、好適にはC1 −C2 アルキルチオ基であ
り、特に好適にはメチルチオ基である。
おける「置換基群γから選択される基で置換されてもよ
いアミノ基」は、C1 −C10アルキル基、置換されても
よい、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル基
( 該置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 アル
キル、ハロゲノC1 −C6 アルキル、C1 −C6 アルコ
キシ及びC1 −C6 アルキルチオから成る群から選択さ
れる1乃至3個の基である。) 並びに、アシル基(C1
−C7 脂肪族アシル基並びに、ハロゲン、ヒドロキシ、
C1 −C6 アルキル、ハロゲノC1 −C6 アルキル、C
1 −C6 アルコキシ及びC1 −C6 アルキルチオから成
る群から選択される基で1乃至3個置換されてもよい、
C7 −C11芳香族アシル、C8−C12芳香脂肪族アシ
ル、C4 −C11シクロアルキルカルボニル及び窒素原子
を含有する5乃至6員芳香複素環カルボニル基を示
す。)から成る置換基群γから選択される基で、同一又
は異なって1 乃至2 個置換されてもよいアミノ基を示
す。
「 C1 −C10アルキル基」 は、炭素数1 乃至10個の直
鎖又は分岐鎖アルキル基を示し、例えば、前記C1 −C
6 アルキル、ヘプチル、1−メチルヘキシル、2−メチ
ルヘキシル、3−メチルヘキシル、4−メチルヘキシ
ル、5−メチルヘキシル、1−プロピルブチル、4,4
−ジメチルペンチル、オクチル、1−メチルヘプチル、
2−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、4−メチル
ヘプチル、5−メチルヘプチル、6−メチルヘプチル、
1−プロピルペンチル、2−エチルヘキシル、5,5−
ジメチルヘキシル、ノニル、3−メチルオクチル、4−
メチルオクチル、5−メチルオクチル、6−メチルオク
チル、1−プロピルヘキシル、2−エチルヘプチル、
6,6−ジメチルヘプチル、デシル、1−メチルノニ
ル、3−メチルノニル、8−メチルノニル、3−エチル
オクチル、3,7−ジメチルオクチル、7,7−ジメチ
ルオクチル基であり、好適にはC1 −C8 アルキル基で
あり、特に好適には、メチル、ブチル、イソブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、ヘプチル又はオクチル基である。
「置換されてもよいC6 −C10アリール」のC6 −C10
アリール部分は、炭素数6乃至10個の芳香族炭化水素
基を示し、例えば、フェニル、インデニル、ナフチル基
であり、好適にはフェニル基である。
「置換されてもよいC7 −C16アラルキル」のC7 −C
16アラルキル部分は、前記C6 −C10アリール基が前記
C1 −C6 アルキル基に結合した基を示し、例えば、ベ
ンジル、ナフチルメチル、インデニルメチル、ジフェニ
ルメチル、1−フェネチル、2−フェネチル、1−ナフ
チルエチル、2−ナフチルエチル、1−フェニルプロピ
ル、2−フェニルプロピル、3−フェニルプロピル、1
−ナフチルプロピル、2−ナフチルプロピル、3−ナフ
チルプロピル、1−フェニルブチル、2−フェニルブチ
ル、3−フェニルブチル、4−フェニルブチル、1−ナ
フチルブチル、2−ナフチルブチル、3−ナフチルブチ
ル、4−ナフチルブチル、5−フェニルペンチル、5−
ナフチルペンチル、6−フェニルヘキシル、6−ナフチ
ルヘキシル基であり、好適にはベンジル基である。
「C1 −C7 脂肪族アシル基」は、水素原子又は飽和若
しくは不飽和のC1 −C6 鎖状炭化水素基がカルボニル
基に結合した基を示し、例えば、ホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イ
ソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、アクリロイ
ル、メタクリロイル、クロトノイル基であり、好適に
は、アセチル、プロピオニル又はピバロイル基であり、
特に好適にはアセチル基である。
「置換されてもよいC7 −C11芳香族アシル」のC7 −
C11芳香族アシル部分は、C6 −C10アリール基がカル
ボニル基に結合した基を示し、例えば、ベンゾイル、1
−インダンカルボニル、2−インダンカルボニル、1−
若しくは2−ナフトイル基であり、好適には、ベンゾイ
ル又はナフトイル基である。
「置換されてもよいC8 −C12芳香脂肪族アシル」のC
8 −C12芳香脂肪族アシル部分は、フェニル基がC2 −
C6 脂肪族アシル基に結合した基を示し、例えば、フェ
ニルアセチル、3−フェニルプロピオニル、4−フェニ
ルブチリル、5−フェニルペンタノイル、6−フェニル
ヘキサノイル基であり、好適には、フェニルアセチル基
である。
「置換されてもよいC4 −C11シクロアルキルカルボニ
ル」のC4 −C11シクロアルキルカルボニル部分は、C
3 −C10シクロアルキル基(縮環していてもよい3乃至
10員飽和環状炭化水素基を示し、例えば、シクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチル、ノルボルニル、アダマンチル基で
あり、好適にはC3 −C6 シクロアルキル基である。)
にカルボニル基が結合した基を示し、例えば、シクロプ
ロパノイル、シクロブチリル、シクロペンタノイル、シ
クロヘキサノイル、シクロヘプチルカルボニル、ノルボ
ルニルカルボニル、アダマンチルカルボニル基であり、
好適には、C4 −C7 シクロアルキルカルボニル基であ
り、特に好適には、シクロペンタノイル又はシクロヘキ
サノイル基である。
「置換されてもよい窒素原子を含有する5乃至6員芳香
複素環カルボニル」の窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環カルボニル部分は、窒素原子を少なくとも1個
含み、更に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から成るヘ
テロ原子群から選択されたヘテロ原子を含有してもよい
5乃至6員芳香複素環(例えば、ピロリル、イミダゾリ
ル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジ
ル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、チアゾ
リル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリ
ル基である。)にカルボニル基が結合した基を示し、例
えば、ピロリルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、
ピラゾリルカルボニル、トリアゾリルカルボニル、テト
ラゾリルカルボニル、ニコチノイル、イソニコチノイ
ル、ピラジニルカルボニル、ピリミジニルカルボニル、
ピリダジニルカルボニル、チアゾリルカルボニル、オキ
サゾリルカルボニル、オキサジアゾリルカルボニル、チ
アジアゾリルカルボニル基であり、好適には、ピリジル
カルボニル基であり、特に好適には、ニコチノイル又は
イソニコチノイル基である。
る「置換基群γから選択される基で置換されてもよいア
ミノ基」は、例えば、アミノ;メチルアミノ、エチルア
ミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルア
ミノ、s−ブチルアミノ、t−ブチルアミノ、ペンチル
アミノ、ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、N−エチル−N−メチルアミノ、ジプロピルアミ
ノ、ジブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルア
ミノ、フェニルアミノ、2−,3−若しくは4−フルオ
ロフェニルアミノ、2−,3−若しくは4−クロロフェ
ニルアミノ、2−,3−若しくは4−ブロモフェニルア
ミノ、2,3−ジフルオロフェニルアミノ、2,4−ジ
フルオロフェニルアミノ、2,4−ジクロロフェニルア
ミノ、1−若しくは2−インデニルアミノ、1−若しく
は2−ナフチルアミノ、ジフェニルアミノ、ベンジルア
ミノ、2−,3−若しくは4−フルオロベンジルアミ
ノ、2−,3−若しくは4−クロロベンジルアミノ、2
−,3−若しくは4−ブロモベンジルアミノ、2,3−
ジフルオロベンジルアミノ、2,4−ジフルオロベンジ
ルアミノ、2,4−ジクロロベンジルアミノ、1−若し
くは2−ナフチルメチルアミノ、1−インデニルメチル
アミノ、1−若しくは2−フェネチルアミノ、1−、2
−若しくは3−フェニルプロピルアミノ、4−フェニル
ブチルアミノ、1−フェニルブチルアミノ、5−フェニ
ルペンチルアミノ、6−フェニルヘキシルアミノ、ジベ
ンジルアミノ、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、プロ
ピオニルアミノ、ブチリルアミノ、イソブチリルアミ
ノ、バレリルアミノ、イソバレリルアミノ、ピバロイル
アミノ、ヘキサノイルアミノ、アクリロイルアミノ、メ
タクリロイルアミノ、クロトイルアミノ、ベンゾイルア
ミノ、1−インダンカルボニルアミノ、1−若しくは2
−ナフトイルアミノ、2−,3−若しくは4−フルオロ
ベンゾイルアミノ、2−,3−若しくは4−クロロベン
ゾイルアミノ、2−,3−若しくは4−ブロモベンゾイ
ルアミノ、2,3−ジフルオロベンゾイルアミノ、2,
4−ジフルオロベンゾイルアミノ、2,4−ジクロロベ
ンゾイルアミノ、2,6−ジイソプロピルベンゾイルア
ミノ、4−トリフルオロメチルベンゾイルアミノ、4−
ヒドロキシー3,5−ジメチルベンゾイルアミノ、4−
ヒドロキシー3,5−ジ−t−ブチルベンゾイルアミ
ノ、1−インダンカルボニルアミノ、1−若しくは2−
ナフトイルアミノ、フェニルアセチルアミノ、3−フェ
ニルプロピオニルアミノ、4−フェニルブチリルアミ
ノ、5−フェニルペンタノイルアミノ、6−フェニルヘ
キサノイルアミノ、2−,3−若しくは4−フルオロフ
ェニルアセチルアミノ、2−,3−若しくは4−クロロ
フェニルアセチルアミノ、2−,3−若しくは4−ブロ
モフェニルアセチルアミノ、2,3−ジフルオロフェニ
ルアセチルアミノ、2,4−ジフルオロフェニルアセチ
ルアミノ、2,4−ジクロロフェニルアセチルアミノ、
シクロプロピオニルアミノ、シクロブチリルアミノ、シ
クロペンタノイルアミノ、シクロヘキサノイルアミノ、
ピロリルカルボニルアミノ、イミダゾリルカルボニルア
ミノ、ピラゾリルカルボニルアミノ、トリアゾリルカル
ボニルアミノ、テトラゾリルカルボニルアミノ、ニコチ
ノイルアミノ、イソニコチノイルアミノ、ピラジニルカ
ルボニルアミノ、ピリミジニルカルボニルアミノ、ピリ
ダジニルカルボニルアミノ、チアゾリルカルボニルアミ
ノ、オキサゾリルカルボニルアミノ、オキサジアゾリル
カルボニルアミノ、チアジアゾリルカルボニルアミノ、
N,N−ジアセチルアミノ、N−ホルミル−N−ヘキシ
ルアミノ、N−アセチル−N−メチルアミノ、N−アセ
チル−N−エチルアミノ、N−アセチル−N−プロピル
アミノ、N−アセチル−N−ブチルアミノ、N−アセチ
ル−N−ペンチルアミノ、N−アセチル−N−ヘキシル
アミノ、N−ベンゾイル−N−メチルアミノ、N−ベン
ゾイル−N−エチルアミノ、N−ベンゾイル−N−プロ
ピルアミノ、N−ベンゾイル−N−ブチルアミノ、N−
ベンゾイル−N−ペンチルアミノ、N−ベンゾイル−N
−ヘキシルアミノ、N−ベンゾイル−N−フェニルアミ
ノ、N−ベンジル−N−ベンゾイルアミノ、N−4−ト
リフルオロメチルベンジル−N−2,4−ジフルオロベ
ンゾイルアミノ、N−2,4−ジフルオロベンジル−N
−ニコチノイルアミノ、N−3−クロロベンゾイル−N
−メチルアミノ、N−3−クロロベンゾイル−N−ヘキ
シルアミノ、N−3−クロロベンジル−N−アセチルア
ミノ、N−2,4−ジフルオロベンゾイル−N−ヘキシ
ルアミノ、N−2,4−ジフルオロベンゾイル−N−フ
ェニルアミノ、N−2,4−ジフルオロベンゾイル−N
−フェニルアミノ、N−4−トリフルオロメチルベンゾ
イル−N−ブチルアミノ、N−3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシベンゾイル−N−ヘキシルアミノ、N
−ヘキシル−N−1−ナフトイルアミノ、N−ヘキシル
−N−2−ナフトイルアミノ、N−ヘキシル−N−フェ
ニルアセチルアミノ、N−イソブチル−N−シクロヘプ
タノイルアミノ、N−ブチル−N−ニコチノイルアミ
ノ、N−ヘキシル−N−ニコチノイルアミノ、N−イソ
ニコチノイル−N−ヘキシルアミノ基であり、好適に
は、アミノ基、1若しくは2 個の基で置換されたアミノ
基(該置換基は、同一又は異なって、C1−C10アルキ
ル基並びに、置換されてもよい、C6 −C10アリール及
びC7 −C16アラルキル基から成る群から選択される基
である。)又は、置換基群γから選択される基で置換さ
れてもよいアシルアミノ基(該アシルアミノ基とは、上
記アシル基で置換されたアミノ基を示す。)であり、更
に好適には、アミノ基、モノ若しくはジ−C1 −C10ア
ルキルアミノ基或いは、C1 −C10アルキル又は置換さ
れてもよいC7 −C16アラルキルで置換されてもよいア
シルアミノ基であり、更により好適には、アミノ基、モ
ノ若しくはジ−C1 −C10アルキルアミノ基或いは、置
換されてもよい、C7 −C11芳香族アシルアミノ、C4
−C11シクロアルキルカルボニルアミノ又は窒素原子を
含有する5乃至6員芳香複素環カルボニルアミノ基であ
り、特に好適には、アミノ、ジメチルアミノ、ヘキシル
アミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、3−クロ
ロベンゾイルアミノ、2,4−ジフルオロベンゾイルア
ミノ、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンゾ
イルアミノ、ナフトイルアミノ、シクロペンタノイルア
ミノ、シクロヘキサノイルアミノ、ニコチノイルアミ
ノ、イソニコチノイルアミノ、N−アセチル−N−ヘキ
シルアミノ又はアダマンチルカルボニルアミノ基であ
る。
「置換基群βから選択される基で1乃至3個置換されて
もよいC3 −C10シクロアルキル基」のC3 −C10シク
ロアルキル部分は前述したものと同意義を示し、好適に
は、置換基群βから選択される基で1個置換されてもよ
いC3 −C10シクロアルキル基であり、更に好適には、
ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 アルキル及びハロゲ
ノC1 −C6 アルキルから成る群から選択される基で1
個置換されてもよいC3 −C10シクロアルキル基であ
り、より好適には、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、
エチル、t−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、
アミノ、メチルアミノ又はジメチルアミノで1 個置換さ
れてもよいアダマンチル基であり、特に好適には、アダ
マンチル基である。
における「置換基群βから選択される基で1乃至3個置
換されてもよいC6 −C10アリール基」及び置換基群β
の定義における「C6 −C10アリール基」のC6 −C10
アリール部分は前述したものと同意義を示し、R6 にお
いて、好適には、ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 ア
ルキル及びハロゲノC1 −C6 アルキルから成る群から
選択される基で1 乃至3個置換されてもよいフェニル基
であり、特に好適には、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチ
ル、エチル及びトリフルオロメチル基から成る群から選
択される基で1 個置換されてもよいフェニル基である。
置換基群αにおいて、好適には、置換基群βから選択さ
れる基で1個置換されてもよいC6 −C10アリール基で
あり、更に好適には、ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C
6 アルキル、ハロゲノC1 −C6 アルキル、C1 −C6
アルコキシ又は置換気群γから選択される基で置換され
てもよいアミノで1 個置換されてもよいC6 −C10アリ
ール基であり、より好適には、弗素、塩素、ヒドロキ
シ、メチル、エチル、t−ブチル、トリフルオロメチ
ル、メトキシ、アミノ、メチルアミノ又はジメチルアミ
ノで1 個置換されてもよいフェニル基であり、特に好適
には、フェニル又は4−ヒドロキシフェニル基である。
置換基群βにおいて、好適にはフェニル基である。
における「置換基群βから選択される基で1乃至3個置
換されてもよいC7 −C16アラルキル基」のC7 −C16
アラルキル部分は前述したものと同意義を示し、R6 に
おいて、好適には、ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6
アルキル及びハロゲノC1 −C6 アルキルから成る群か
ら選択される基で1 乃至3 個置換されてもよいベンジル
基であり、特に好適には、弗素、塩素、ヒドロキシ、メ
チル、エチル及びトリフルオロメチル基から成る群から
選択される基で置換されてもよいベンジル基である。置
換基群αにおいて、好適には、置換基群βから選択され
る基で1個置換されてもよいC7 −C16アラルキル基で
あり、更に好適には、ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C
6 アルキル、ハロゲノC1 −C6 アルキル、C1 −C6
アルコキシ又は置換気群γから選択される基で置換され
てもよいアミノで1 個置換されてもよいベンジル基であ
り、より好適には、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、
エチル、t−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、
アミノ、メチルアミノ又はジメチルアミノで1 個置換さ
れてもよいベンジル基であり、特に好適には、ベンジル
基である。
「置換基群βから選択される基で1乃至3個置換されて
もよいC6 −C10アリールオキシ基」のC6 −C10アリ
ールオキシ部分は、前記C6 −C10アリールが酸素原子
に結合した基を示し、例えば、フェノキシ、1−インデ
ニルオキシ、2−インデニルオキシ、3−インデニルオ
キシ、1−ナフチルオキシ、2−ナフチルオキシ基であ
り、好適にはフェノキシ基である。
「置換基群βから選択される基で1乃至3個置換されて
もよいC7 −C16アラルキルオキシ基」のC7 −C16ア
ラルキルオキシ部分は、前記C7 −C16アラルキル基が
酸素原子に結合した基を示し、例えば、ベンジルオキ
シ、ナフチルメトキシ、インデニルメトキシ、ジフェニ
ルメトキシ、1−フェネチルオキシ、2−フェネチルオ
キシ、1−ナフチルエトキシ、2−ナフチルエトキシ、
1−フェニルプロポキシ、2−フェニルプロポキシ、3
−フェニルプロポキシ、1−ナフチルプロポキシ、2−
ナフチルプロポキシ、3−ナフチルプロポキシ、1−フ
ェニルブトキシ、2−フェニルブトキシ、3−フェニル
ブトキシ、4−フェニルブトキシ、1−ナフチルブトキ
シ、2−ナフチルブトキシ、3−ナフチルブトキシ、4
−ナフチルブトキシ、5−フェニルペンチルオキシ、5
−ナフチルペンチルオキシ、6−フェニルヘキシルオキ
シ、6−ナフチルヘキシルオキシ基であり、好適にはベ
ンジルオキシ基である。
「置換基群βから選択される基で1乃至3個置換されて
もよいC6 −C10アリールチオ基」のC6 −C10アリー
ルチオ部分は、前記C6 −C10アリール基が硫黄原子に
結合した基を示し、例えば、フェニルチオ、1−インデ
ニルチオ、2−インデニルチオ、3−インデニルチオ、
1−ナフチルチオ、2−ナフチルチオ基であり、好適に
はフェニルチオ基である。
「C1 −C7脂肪族アシルオキシ基」は、前記C1 −C
7脂肪族アシル基に酸素原子が結合した基を示し、例え
ば、ホルミルオキシ、アセトキシ、プロピオニルオキ
シ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ、バレリルオ
キシ、イソバレリルオキシ、ピバロイルオキシ、ヘキサ
ノイルオキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオ
キシ、クロトイルオキシ基であり、好適にはアセトキシ
基である。
「窒素原子を含有する4乃至7員飽和複素環基」は、窒
素原子を少なくとも1個含み、更に窒素原子、酸素原子
及び硫黄原子から成るヘテロ原子群から選択されたヘテ
ロ原子を含有してもよい4乃至7員飽和複素環基を示
し、例えば、アゼチジニル、ピロリジニル、イミダゾリ
ジニル、チアゾリジニル、ピラゾリジニル、ピペリジニ
ル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピペラジニル、
ホモピペラジニル基であり、好適には、ピロリジニル、
ピペリジニル又はモルホリニル基であり、特に好適に
は、ピロリジン―1―イル、ピペリジン−1−イル又は
モルホリン―4―イル基である。
「窒素原子を含有する5乃至6員芳香複素環基」は、前
述したものと同意義を示し、好適には、イミダゾリル、
テトラゾリル又はピリジニル基であり、特に好適には、
ピリジン−2−イル又はピリジン―3―イル基である。
基群αから選択される基で1乃至5個置換されたフェニ
ル基」とは、ハロゲン原子;ヒドロキシ基;C1 −C6
アルキル基;ハロゲノC1 −C6 アルキル基;C1 −C
6 アルコキシ基;C1 −C6 アルキルチオ基;置換基群
γから選択される基で置換されてもよいアミノ基;置換
基群βから選択される基で1乃至3個置換されてもよ
い、C3 −C10シクロアルキル、C6 −C10アリール、
C7 −C16アラルキル、C6 −C10アリールオキシ、C
7 −C16アラルキルオキシ及びC6 −C10アリールチオ
基;C1 −C7 脂肪族アシルオキシ基;窒素原子を含有
する4乃至7員飽和複素環基;窒素原子を含有する5乃
至6員芳香複素環基;ニトロ基;並びにシアノ基から成
る群から選択される基で1乃至5個置換されたフェニル
基であり、例えば、2−,3−若しくは4−フルオロフ
ェニル、2−,3−若しくは4−クロロフェニル、2
−,3−若しくは4−ブロモフェニル、2−,3−若し
くは4−ヨードフェニル、2,4−ジフルオロフェニ
ル、3,5−ジフルオロフェニル、ペンタフルオロフェ
ニル、3,5−ジクロロフェニル、2−,3−若しくは
4−ヒドロキシフェニル、3,5−ジヒドロキシフェニ
ル、2−,3−若しくは4−メチルフェニル、2−,3
−若しくは4−エチルフェニル、2−,3−若しくは4
−プロピルフェニル、2−,3−若しくは4−イソプロ
ピルフェニル、2−,3−若しくは4−ブチルフェニ
ル、2−,3−若しくは4−s−ブチルフェニル、2
−,3−若しくは4−t−ブチルフェニル、2−,3−
若しくは4−トリフルオロメチルフェニル、2−,3−
若しくは4−メトキシフェニル、2−,3−若しくは4
−エトキシフェニル、2−,3−若しくは4−プロポキ
シフェニル、2−,3−若しくは4−イソプロポキシフ
ェニル、2−,3−若しくは4−ブトキシフェニル、2
−,3−若しくは4−s−ブトキシフェニル、2−,3
−若しくは4−t−ブトキシフェニル、2−,3−若し
くは4−メチルチオフェニル、2−,3−若しくは4−
エチルチオフェニル、2−,3−若しくは4−イソプロ
ピルチオフェニル、2−,3−若しくは4−アミノフェ
ニル、3,5−ジアミノフェニル、2−,3−若しくは
4−メチルアミノフェニル、2−,3−若しくは4−ジ
メチルアミノフェニル、2−,3−若しくは4−(N−
エチル−N−メチルアミノ)フェニル、2−,3−若し
くは4−ジエチルアミノフェニル、2−,3−若しくは
4−(n−ペンチルアミノ)フェニル、2−,3−若し
くは4−(n−ヘキシルアミノ)フェニル、2−,3−
若しくは4−フェニルアミノフェニル、2−,3−若し
くは4−ベンジルアミノフェニル、2−,3−若しくは
4−ホルミルアミノフェニル、2−,3−若しくは4−
アセチルアミノフェニル、2−,3−若しくは4−プロ
ピオニルアミノフェニル、2−,3−若しくは4−ベン
ゾイルアミノフェニル、2−,3−若しくは4−(2
−,3−若しくは4−フルオロベンゾイルアミノ)フェ
ニル、2−,3−若しくは4−(2−,3−若しくは4
−クロロベンゾイルアミノ)フェニル、2−,3−若し
くは4−(2,4−ジフルオロベンゾイルアミノ)フェ
ニル、2−,3−若しくは4−(4−ヒドロキシ−3,
5−ジメチルベンゾイルアミノ)フェニル、2−,3−
若しくは4−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチ
ルベンゾイルアミノ)フェニル、2−,3−若しくは4
−(1−若しくは2−ナフトイルアミノ)フェニル、2
−,3−若しくは4−フェニルアセチルアミノフェニ
ル、2−,3−若しくは4−(2−,3−若しくは4−
フルオロフェニルアセチルアミノ)フェニル、2−,3
−若しくは4−(2−,3−若しくは4−クロロフェニ
ルアセチルアミノ)フェニル、2−,3−若しくは4−
(3−フェニルプロピオニルアミノ)フェニル、2−,
3−若しくは4−シクロペンタノイルアミノフェニル、
2−,3−若しくは4−シクロヘキサノイルアミノフェ
ニル、2−,3−若しくは4−ニコチノイルアミノフェ
ニル、2−,3−若しくは4−イソニコチノイルアミノ
フェニル、2−,3−若しくは4−(N−アセチル−N
−メチルアミノ)フェニル、2−,3−若しくは4−
(N−アセチル−N−ペンチルアミノ)フェニル、2
−,3−若しくは4−(N−アセチル−N−ヘキシルア
ミノ)フェニル、2−,3−若しくは4−(N−ベンゾ
イル−N−ヘキシルアミノ)フェニル、2−,3−若し
くは4−(N−3−クロロベンゾイル−N−メチルアミ
ノ)フェニル、2−,3−若しくは4−(N−3−クロ
ロベンゾイル−N−ヘキシルアミノ)フェニル、2−,
3−若しくは4−(N−2,4−ジフルオロベンゾイル
−N−ヘキシルアミノ)フェニル、2−,3−若しくは
4−[N−(1−若しくは2−ナフトイル)−N−ヘキ
シルアミノ]フェニル、2−,3−若しくは4−(N−
ヘキシル−N−フェニルアセチルアミノ)フェニル、2
−,3−若しくは4−(N−イソブチル−N−シクロヘ
プタノイルアミノ)フェニル、2−,3−若しくは4−
(N−ブチル−N−ニコチノイルアミノ)フェニル、2
−,3−若しくは4−シクロペンチルフェニリル、2
−,3−若しくは4−シクロヘキシルフェニリル、2
−,3−若しくは4−(1−アダマンチル)フェニル、
2−,3−若しくは4−ビフェニリル、2−,3−若し
くは4−(2´−,3´−若しくは4´−ヒドロキシ)
ビフェニリル、2−,3−若しくは4−(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)フェニル、2−,3−
若しくは4−(4−ヒドロキシ−3,5−ジイソプロピ
ルフェニル)フェニル、2−,3−若しくは4−(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)フェニ
ル、2−,3−若しくは4−ベンジルフェニル、2−,
3−若しくは4−(4−ヒドロキシベンジル)フェニ
ル、2−,3−若しくは4−(4−ヒドロキシ−3,5
−ジメチルベンジル)フェニル、2−,3−若しくは4
−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)フェニル、2−,3−若しくは4−フェノキシフェ
ニル、2−,3−若しくは4−(4−ヒドロキシフェノ
キシ)フェニル、2−,3−若しくは4−(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルフェノキシ)フェニル、2−,
3−若しくは4−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフェノキシ)フェニル、2−,3−若しくは4−
ベンジルオキシフェニル、2−,3−若しくは4−(4
−ヒドロキシベンジルオキシ)フェニル、2−,3−若
しくは4−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジ
ルオキシ)フェニル、2−,3−若しくは4−(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルオキシ)フ
ェニル、2−,3−若しくは4−フェニルチオフェニ
ル、2−,3−若しくは4−(4−ヒドロキシフェニル
チオ)フェニル、2−,3−若しくは4−(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニルチオ)フェニル、2
−,3−若しくは4−(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェニルチオ)フェニル、2−,3−若しく
は4−ホルミルオキシフェニル、2−,3−若しくは4
−アセトキシフェニル、2−,3−若しくは4−プロピ
オニルオキシフェニル、2−,3−若しくは4−(1−
アゼチジニル)フェニル、2−,3−若しくは4−(1
−,2−若しくは3−ピロリジニル)フェニル、2−,
3−若しくは4−(1−,2−,3−若しくは4−ピペ
リジニル)フェニル、2−,3−若しくは4−(2−,
3−若しくは4−モルホリニル)フェニル、2−,3−
若しくは4−(2−,3−若しくは4−チオモルホリニ
ル)フェニル、2−,3−若しくは4−(1−若しくは
2−ピペラジニル)フェニル、2−,3−若しくは4−
(1−,2−若しくは4−イミダゾリル)フェニル、2
−,3−若しくは4−(テトラゾール−5−イル)フェ
ニル、2−,3−若しくは4−(2−,3−若しくは4
−ピリジル)フェニル、2−,3−若しくは4−ニトロ
フェニル、2−,3−若しくは4−シアノフェニル、2
−若しくは3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル、4−
クロロ−3,5−ジヒドロキシフェニル、3,5−ジク
ロロ−4−ヒドロキシフェニル、2−フルオロ−4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジメチルフェニル、3−フルオロ−
5−ヒドロキシ−2,6−ジメチルフェニル、4−フル
オロ−3−ヒドロキシ−2,5−ジメチルフェニル、2
−クロロ−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル、3−クロロ−5−ヒドロキシ−2,6−ジメチルフ
ェニル、4−クロロ−3−ヒドロキシ−2,5−ジメチ
ルフェニル、2−若しくは3−アミノ−4−クロロフェ
ニル、2,3−ジクロロ−4−アミノフェニル、2−若
しくは3−クロロ−4−メチルアミノフェニル、2−ヒ
ドロキシ−3−若しくは4−メチルフェニル、2−ヒド
ロキシ−3,4−ジメチルフェニル、3−ヒドロキシ−
4−若しくは5−メチルフェニル、3−ヒドロキシ−
2,4−ジメチルフェニル、4−ヒドロキシ−2−若し
くは3−メチルフェニル、2−若しくは3−エチル−4
−ヒドロキシフェニル、4−ヒドロキシ−2−若しくは
3−プロピルフェニル、4−ヒドロキシ−2−若しくは
3−イソプロピルフェニル、2−若しくは3−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル、4−ヒドロキシ−2,3
−ジメチルフェニル、4−ヒドロキシ−2,5−ジメチ
ルフェニル、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル、3,5−ジエチル−4−ヒドロキシフェニル、3−
t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル、4
−ヒドロキシ−3,5−ジプロピルフェニル、4−ヒド
ロキシ−3,5−ジイソプロピルフェニル、2,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル、3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル、4−ヒドロキシ
−2,3,5−トリメチルフェニル、4−ヒドロキシ−
2,3,6−トリメチルフェニル、4−ヒドロキシ−
2,3,5,6−テトラメチルフェニル、4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメトキシフェニル、2−若しくは3−ヒ
ドロキシ−4−ジメチルアミノフェニル、4−ベンジル
−(2−若しくは3−ヒドロキシ)フェニル、3−,5
−若しくは6−ベンジル−2−ヒドロキシフェニル、3
−ヒドロキシ−4−ニトロフェニル、3−アミノ−4−
メチルフェニル、4−アミノ−2,3−ジメチルフェニ
ル、4−アミノ−2,6−ジメチルフェニル、4−アミ
ノ−3,5−ジメチルフェニル、4−アミノ−3,5−
ジエチルフェニル、4−アミノ−3,5−ジプロピルフ
ェニル、4−アミノ−3,5−ジイソプロピルフェニ
ル、4−アミノ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル、4
−メチルアミノ−3,5−ジメチルフェニル、4−(N
−エチル−N−メチルアミノ)−3,5−ジメチルフェ
ニル、4−アセチルアミノ−3,5−ジメチルフェニ
ル、4−アセチルアミノ−3,5−ジ−t−ブチルフェ
ニル、4−ベンゾイルアミノ−3,5−ジメチルフェニ
ル、4−アセトキシ−3,5−ジメチルフェニル、4−
アセトキシ−2,3,5−トリメチルフェニル、3,5
−ジメチル−4−ニトロフェニル基を挙げることができ
る。
基群αから選択される基で1乃至4個置換されてもよい
ピリジル基」は、ハロゲン原子;ヒドロキシ基;C1 −
C6アルキル基;ハロゲノC1 −C6 アルキル基;C1
−C6 アルコキシ基;C1 −C6 アルキルチオ基;置換
基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基;
置換基群βから選択される基で1乃至3個置換されても
よい、C3 −C10シクロアルキル、C6 −C10アリー
ル、C7 −C16アラルキル、C6 −C10アリールオキ
シ、C7 −C16アラルキルオキシ及びC6 −C10アリー
ルチオ基;C1 −C7 脂肪族アシルオキシ基;窒素原子
を含有する4乃至7員飽和複素環基;窒素原子を含有す
る5乃至6員芳香複素環基;ニトロ基;並びにシアノ基
から成る群から選択される基で1乃至4個置換されても
よいピリジル基であり、例えば、2−,3−若しくは4
−ピリジル、3−,4−,5−若しくは6−フルオロ−
2−ピリジル、2−,4−,5−若しくは6−フルオロ
−3−ピリジル、2−若しくは3−フルオロ−4−ピリ
ジル、3−,4−,5−若しくは6−クロロ−2−ピリ
ジル、2−,4−,5−若しくは6−クロロ−3−ピリ
ジル、2−若しくは3−クロロ−4−ピリジル、3−,
4−,5−若しくは6−ブロモ−2−ピリジル、2−,
4−,5−若しくは6−ブロモ−3−ピリジル、2−若
しくは3−ブロモ−4−ピリジル、3−,4−,5−若
しくは6−ヨード−2−ピリジル、2−,4−,5−若
しくは6−ヨード−3−ピリジル、2−若しくは3−ヨ
ード−4−ピリジル、3−,4−,5−若しくは6−ヒ
ドロキシ−2−ピリジル、2−,4−,5−若しくは6
−ヒドロキシ−3−ピリジル、2−若しくは3−ヒドロ
キシ−4−ピリジル、3−,4−,5−若しくは6−メ
チル−2−ピリジル、2−,4−,5−若しくは6−メ
チル−3−ピリジル、2−若しくは3−メチル−4−ピ
リジル、3,5−ジメチル−4−ピリジル、3−,4
−,5−若しくは6−エチル−2−ピリジル、2−,4
−,5−若しくは6−エチル−3−ピリジル、2−若し
くは3−エチル−4−ピリジル、3,5−ジエチル−4
−ピリジル、3−,4−,5−若しくは6−プロピル−
2−ピリジル、2−,4−,5−若しくは6−プロピル
−3−ピリジル、2−若しくは3−プロピル−4−ピリ
ジル、3,5−ジプロピル−4−ピリジル、3−,4
−,5−若しくは6−イソプロピル−2−ピリジル、2
−,4−,5−若しくは6−イソプロピル−3−ピリジ
ル、2−若しくは3−イソプロピル−4−ピリジル、
3,5−ジイソプロピル−4−ピリジル、3−,4−,
5−若しくは6−t−ブチル−2−ピリジル、2−,4
−,5−若しくは6−t−ブチル−3−ピリジル、2−
若しくは3−t−ブチル−4−ピリジル、3,5−ジ−
t−ブチル−4−ピリジル、3−,4−,5−若しくは
6−トリフルオロメチル−2−ピリジル、2−,4−,
5−若しくは6−トリフルオロメチル−3−ピリジル、
2−若しくは3−トリフルオロメチル−4−ピリジル、
3−,4−,5−若しくは6−メトキシ−2−ピリジ
ル、2−,4−,5−若しくは6−メトキシ−3−ピリ
ジル、2−若しくは3−メトキシ−4−ピリジル、3
−,4−,5−若しくは6−エトキシ−2−ピリジル、
2−,4−,5−若しくは6−エトキシ−3−ピリジ
ル、2−若しくは3−エトキシ−4−ピリジル、3−,
4−,5−若しくは6−プロポキシ−2−ピリジル、2
−,4−,5−若しくは6−プロポキシ−3−ピリジ
ル、2−若しくは3−プロポキシ−4−ピリジル、3
−,4−,5−若しくは6−イソプロポキシ−2−ピリ
ジル、2−,4−,5−若しくは6−イソプロポキシ−
3−ピリジル、2−若しくは3−イソプロポキシ−4−
ピリジル、3−,4−,5−若しくは6−t−ブトキシ
−2−ピリジル、2−,4−,5−若しくは6−t−ブ
トキシ−3−ピリジル、2−若しくは3−t−ブトキシ
−4−ピリジル、4−メチルチオ−2−ピリジル、6−
イソプロピルチオ−3−ピリジル、6−t−ブチルチオ
−2−ピリジル、3−,4−,5−若しくは6−アミノ
−2−ピリジル、2−,4−,5−若しくは6−アミノ
−3−ピリジル、2−若しくは3−アミノ−4−ピリジ
ル、3−,4−,5−若しくは6−メチルアミノ−2−
ピリジル、2−,4−,5−若しくは6−メチルアミノ
−3−ピリジル、2−若しくは3−メチルアミノ−4−
ピリジル、5−フェニルアミノ−2−ピリジル、5−ベ
ンジルアミノ−2−ピリジル、5−アセチルアミノ−2
−ピリジル、5−ベンゾイルアミノ−2−ピリジル、5
−フェニルアセチルアミノ−2−ピリジル、6−フェニ
ル−2−ピリジル、6−(4−ヒドロキシフェニル)−
2−ピリジル、6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルフェニル)−2−ピリジル、6−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−ピリジル、6
−ベンジル−2−ピリジル、6−(4−ヒドロキシベン
ジル)−2−ピリジル、6−(4−ヒドロキシ−3,5
−ジメチルベンジル)−2−ピリジル、6−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ピリ
ジル、6−フェノキシ−2−ピリジル、6−(4−ヒド
ロキシフェノキシ)−2−ピリジル、6−(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルフェノキシ)−2−ピリジル、
6−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノ
キシ)−2−ピリジル、6−ベンジルオキシ−2−ピリ
ジル、6−(4−ヒドロキシベンジルオキシ)−2−ピ
リジル、6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベン
ジルオキシ)−2−ピリジル、6−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシベンジルオキシ)−2−ピリジ
ル、6−フェニルチオ−2−ピリジル、6−(4−ヒド
ロキシフェニルチオ)−2−ピリジル、6−(4−ヒド
ロキシ−3,5−ジメチルフェニルチオ)−2−ピリジ
ル、6−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニルチオ)−2−ピリジル、3−,4−,5−若しく
は6−ホルミルオキシ−2−ピリジル、2−,4−,5
−若しくは6−ホルミルオキシ−3−ピリジル、2−若
しくは3−ホルミルオキシ−4−ピリジル、3−,4
−,5−若しくは6−アセトキシ−2−ピリジル、2
−,4−,5−若しくは6−アセトキシ−3−ピリジ
ル、2−若しくは3−アセトキシ−4−ピリジル、6−
(1−ピロリジニル)−2−ピリジル、6−(1−ピペ
リジニル)−2−ピリジル、6−(4−モルホリニル)
−2−ピリジル、3−,4−,5−若しくは6−ニトロ
−2−ピリジル、2−,4−,5−若しくは6−ニトロ
−3−ピリジル、2−若しくは3−ニトロ−4−ピリジ
ル、5−アミノ−6−フルオロ−2−ピリジル、5−ア
ミノ−6−クロロ−2−ピリジル、6−クロロ−3−ニ
トロ−2−ピリジル、6−メトキシ−5−メチル−3−
ピリジル、6−メチル−2−ニトロ−3−ピリジル、6
−クロロ−3−ニトロ−2−ピリジル、6−メトキシ−
3−ニトロ−2−ピリジル、6−イソプロポキシ−3−
ニトロ−2−ピリジル、6−t−ブトキシ−3−ニトロ
−2−ピリジル、6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメ
チルフェノキシ)−5−ニトロ−2−ピリジル基を挙げ
ることができる。
で1乃至4個置換されてもよいピリジル基」としては、
好適には、下記置換基で1 個置換されてもよいピリジル
基(該置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 ア
ルキル、ハロゲノC1 −C6アルキル、C1 −C6 アル
コキシ、C1 −C6 アルキルチオ、置換基群γから選択
される基で置換されてもよいアミノ又はニトロであ
る。)であり、更に好適には、下記置換基で1 個置換さ
れてもよいピリジル基(該置換基は、弗素、塩素、ヒド
ロキシ、メチル、エチル、t−ブチル、トリフルオロメ
チル、メトキシ、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミ
ノ又はニトロである。)であり、特に好適には、ピリジ
ル基である。
C6 アルキレン基」は、炭素数1乃至6個の直鎖又は分
岐鎖のアルキレン基を示し、例えば、メチレン、メチル
メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、メチ
ルエチレン、エチルエチレン、テトラメチレン、1−メ
チルトリメチレン、2−メチルトリメチレン、3−メチ
ルトリメチレン、1,1−ジメチルエチレン、ペンタメ
チレン、1−メチルテトラメチレン、2−メチルテトラ
メチレン、3−メチルテトラメチレン、4−メチルテト
ラメチレン、プロピルエチレン、1,1−ジメチルトリ
メチレン、2,2−ジメチルトリメチレン、3,3−ジ
メチルトリメチレン、ヘキサメチレン、1−メチルペン
タメチレン、2−メチルペンタメチレン、3−メチルペ
ンタメチレン、4−メチルペンタメチレン、5−メチル
ペンタメチレン、1,1−ジメチルテトラメチレン、
2,2−ジメチルテトラメチレン、3,3−ジメチルテ
トラメチレン、4,4−ジメチルテトラメチレン、ブチ
ルエチレン、イソブチルエチレン基であり、好適にはC
1 −C4 アルキレン基であり、更に好適にはC1 −C2
アルキレン基であり、特に好適にはメチレン基である。
にすることができる。そのような塩としては、例えば、
ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカ
リ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のようなアル
カリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅
塩、ニッケル塩、コバルト塩等の金属塩;アンモニウム
塩のような無機塩、t−オクチルアミン塩、ジベンジル
アミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグ
リシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、N−
メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン
塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、
N,N' −ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロ
カイン塩、プロカイン塩、ジエタノールアミン塩、N−
ベンジル−N−フェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テ
トラメチルアンモニウム塩、トリス(ヒドロキシメチ
ル)アミノメタン塩のような有機塩等のアミン塩;弗化
水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のよう
なハロゲン化水素酸塩;硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、
燐酸塩等の無機酸塩;メタンスルホン酸塩、トリフルオ
ロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩のような低
級アルカンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p-ト
ルエンスルホン酸塩のようなアリ−ルスルホン酸塩、酢
酸、りんご酸、フマ−ル酸塩、コハク酸塩、クエン酸
塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩等の有機酸塩;及
び、オルニチン酸塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸
塩のようなアミノ酸塩を挙げることができ、好適には、
ハロゲン化水素酸塩又は有機酸塩である。
置しておいたり、再結晶することにより、水分を吸収
し、吸着水が付いたり、水和物となる場合があり、その
ような溶媒和物を形成する場合には、これら全て本発明
に包含される。更に、本発明の化合物(I)は、他のあ
る種の溶媒を吸収し、溶媒和物となる場合があるが、そ
のようなものも本発明に包含される。更に、生体内にお
いて代謝されて本発明の化合物(I)またはその薬理上
許容される塩に変換される化合物、いわゆるプロドラッ
グも全て含むものである。
性体を有する。即ち、R3 が、2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル基(IV−2)又は2,4−ジ
オキソオキサゾリジン−5−イルメチル基(IV−3)
を示す場合、該チアゾリジン環又はオキサゾリジン環の
5位は不斉炭素原子を有し、R配位、S配位である立体
異性体が存在する。その各々、或はそれらの任意の割合
の化合物いずれも本発明に包含される。そのような立体
異性体は、光学分割された原料化合物を用いて化合物
(I)を合成するか又は合成した化合物(I)を所望に
より通常の光学分割法若しくは分離法を用いて光学分割
することができる。また、本発明の化合物(I)におい
て、R3 が、2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イル
メチル基(IV−2)、2,4−ジオキソオキサゾリジ
ン−5−イルメチル基(IV−3)又は3,5−ジオキ
ソオキサジアゾリジン−2−イルメチル基(IV−4)
である場合、種々の互変異性体の存在が考えられ、その
各々、或はそれらの任意の割合の化合物いずれも本発明
に含有される。そのような異性体は、例えば、以下に示
す通りである。
上許容される塩と組み合わせて医薬組成物をなす薬剤と
しては、α−グルコシダーゼ阻害剤、アルドース還元酵
素阻害剤、ビグアナイド剤、スタチン系化合物、スクア
レン合成阻害剤、フィブラート系化合物、LDL異化促
進剤およびアンジオテンシン変換酵素阻害剤を挙げるこ
とができる。
とは、アミラーゼ、マルターゼ、α−デキストリナー
ゼ、スクラーゼなどの消化酵素を阻害して、澱粉や蔗糖
の消化を遅延させる作用を有する薬剤であり、例えば、
アカルボース、N−(1,3−ジヒドロキシ−2−プロ
ピル)バリオールアミン(一般名:ボグリボース)、ミ
グリトール等を挙げることができる。
とは、ポリオール経路の最初のステップの律速酵素を阻
害することにより糖尿病性合併症を阻止する薬剤であ
り、例えば、トルレスタット、エパルレスタット、2,
7−ジフルオロ−スピロ(9H−フルオレン−9, 4'
−イミダゾリジン)−2',5' −ジオン(一般名:イミ
レスタット)、3−〔(4−ブロモ−2−フルオロフェ
ニル)メチル〕−7−クロロ−3, 4−ジヒドロ−2,
4−ジオキソ−1(2H)−キナゾリン酢酸(一般名:
ゼナレスタット)、6−フルオロ−2, 3−ジヒドロ−
2',5' −ジオキソ−スピロ〔4H−1−ベンゾピラン
−4, 4' −イミダゾリジン〕−2−カルボキサミド
(SNK−860)、ゾポルレスタット、ソルビニル、
1−〔(3−ブロモ−2−ベンゾフラニル)スルフォニ
ル〕−2, 4−イミダゾリジンジオン(M−1620
9)等を挙げることができる。
性解糖促進作用、抹消でのインスリン作用増強、腸管か
らのグルコース吸収抑制、肝糖新生の抑制、脂肪酸酸化
阻害などの作用を有する薬剤であり、例えば、フェンホ
ルミン、メトホルミン、ブホルミン等を挙げることがで
きる。
ドロキシメチルグルタリルCoA(HMG−CoA)リ
ダクターゼを阻害することにより、血中コレステロール
を低下させる薬剤であり、例えば、プラバスタチンおよ
びそのナトリウム塩、シンバスタチン、ロバスタチン、
アトルバスタチン、フルバスタチン等を挙げることがで
きる。
は、スクアレン合成を阻害することにより、血中コレス
テロールを低下させる薬剤であり、例えば、(S)−α
−〔ビス(2, 2−ジメチル−1−オキソプロポキシ)
メトキシ〕ホスフィニル−3−フェノキシベンゼンブタ
ンスルホン酸モノカリウム塩(BMS−188494)
等を挙げることができる。
は、肝臓でのトリグリセリド合成および分泌を抑制し、
リポタンパク質リパーゼを活性化することにより、血中
トリグリセリドを低下させる薬剤であり、例えば、ベザ
フィブラート、ベクロブラート、ビニフィブラート、シ
プロフィブラート、クリノフィブラート、クロフィブラ
ート、クロフィブリン酸、エトフィブラート、フェノフ
ィブラート、ゲムフィブロジル、ニコフィブラート、ピ
リフィブラート、ロニフィブラート、シムフィブラー
ト、テオフィブラート等を挙げることができる。
DL(低密度リポタンパク質)受容体を増加することに
より血中コレステロールを低下させる薬剤であり、例え
ば、特開平7−316144に記載された化合物または
その塩、具体的にはN−〔2−〔4−ビス(4−フルオ
ロフェニル)メチル−1−ピペラジニル〕エチル〕−
7, 7−ジフェニル−2, 4, 6−ヘプタトリエン酸ア
ミド等を挙げることができる。
成阻害剤、フィブラート系化合物およびLDL異化促進
剤は、血中のコレステロールやトリグリセリドを低下さ
せる作用を有する他の薬剤と置き換えてもよい。このよ
うな薬剤としては、例えばニコモールやニセリトロール
等のニコチン酸誘導体製剤;プロブコール等の抗酸化
剤;コレスチラミン等のイオン交換樹脂製剤などを挙げ
ることができる。
阻害剤とは、アンジオテンシン変換酵素を阻害すること
により、血圧を低下させると同時に糖尿病患者において
部分的に血糖を低下させる薬剤であり、例えば、カプト
プリル、エナラプリル、アラセプリル、デラプリル、ラ
ミプリル、リジノプリル、イミダプリル、ベナゼプリ
ル、セロナプリル、シラザプリル、エナラプリラート、
フォシノプリル、モベルトプリル、ペリンドプリル、キ
ナプリル、スピラプリル、テモカプリル、トランドラプ
リル等を挙げることができる。
合物としては、(1)R1 が、一般式(II)を有する
基である化合物、(2)R2 及びR5 が、同一又は異な
って、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1 −
C6 アルキル基、ハロゲノC1 −C6 アルキル基、C1
−C6 アルコキシ基、C1 −C6 アルキルチオ基又は置
換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基
である化合物、(3)R2 及びR5 が、同一又は異なっ
て、水素原子、弗素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、メ
チル基、エチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ
基、メチルチオ基又はアミノ基である化合物、(4)R
2 及びR5 が、水素原子である化合物、(5)R3 が、
式(IV−1)乃至(IV−3)を有する基である化合
物、(6)R3 が、式(IV−2)又は(IV−3)を
有する基である化合物、(7)R3 が、式(IV−2)
を有する基である化合物、(8)R4 が、下記置換基で
1 個置換されてもよいピリジル基(該置換基は、ハロゲ
ン、ヒドロキシ、C1 −C6 アルキル、ハロゲノC1 −
C6 アルキル、C1−C6 アルコキシ、C1 −C6 アル
キルチオ、置換基群γから選択される基で置換されても
よいアミノ又はニトロである。)である化合物、(9)
R4 が、下記置換基で1 個置換されてもよいピリジル基
(該置換基は、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、エチ
ル、t−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、メチ
ルチオ、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ又はニ
トロである。)である化合物、(10)R4 が、ピリジ
ル基である化合物、(11)R4 が、下記置換基群から
選択される基で少なくとも1 個置換されたフェニル基
(該置換基群は、置換基群βから選択される基で1乃至
3個置換されてもよい、C3 −C10シクロアルキル、C
6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル、窒素原子
を含有する4乃至7員飽和複素環並びに窒素原子を含有
する5乃至6員芳香複素環から成る。)である化合物、
(12)R4 が、下記置換基で1 個置換されたフェニル
基(該置換基群は、置換基群βから選択される基で1個
置換されてもよい、C3 −C10シクロアルキル、C6 −
C10アリール若しくはC7 −C16アラルキル、窒素原子
を含有する4乃至7員飽和複素環又は窒素原子を含有す
る5乃至6員芳香複素環である。)である化合物、(1
3)R4 が、下記置換基で1 個置換されたフェニル基
(該置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 アル
キル、ハロゲノC1 −C6 アルキル、C1 −C6 アルコ
キシ又は置換基群γから選択される基で置換されてもよ
いアミノで1 個置換されてもよい、C3 −C10シクロア
ルキル、C6 −C10アリール若しくはC7 −C16アラル
キル、窒素原子を含有する4乃至7員飽和複素環又は窒
素原子を含有する5乃至6員芳香複素環である。)であ
る化合物、(14)R4 が、下記置換基で1 個置換され
たフェニル基(該置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、C
1 −C6 アルキル、ハロゲノC1 −C6 アルキル、C1
−C6 アルコキシ若しくは置換基群γから選択される基
で置換されてもよいアミノで1 個置換されてもよい、フ
ェニル若しくはベンジル、アダマンチル、ピロリジニ
ル、モルホリニル、ピペリジニル、イミダゾリル、テト
ラゾリル又はピリジニル基である。)である化合物、
(15)R4 が、下記置換基で1 個置換されたフェニル
基(該置換基は、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、エ
チル、t−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、ア
ミノ、メチルアミノ若しくはジメチルアミノで1 個置換
されてもよい、フェニル若しくはベンジル、アダマンチ
ル、ピロリジニル、モルホリニル、ピペリジニル、イミ
ダゾリル、テトラゾリル又はピリジニル基である。)で
ある化合物、(16)R4 が、4−ビフェニリル、4−
ベンジルフェニル、4‘−ヒドロキシビフェニリル、
(ピロリジン−1−イル)フェニル、(モルホリン−4
−イル)フェニル、(ピペリジン−1−イル)フェニ
ル、(ピリジン−2−イル)フェニル、(ピリジン−3
−イル)フェニル又は4−(1−アダマンチル)フェニ
ル基である化合物、(17)R4 が、置換基群γから選
択される基で置換されてもよいアシルアミノで1 個置換
され、更に、下記置換基群から選択される基で1 乃至3
個置換されてもよいフェニル基(該置換基群は、ハロゲ
ン、ヒドロキシ、C1 −C6 アルキル、ハロゲノC1 −
C6 アルキル、C1 −C6 アルコキシ及びC1 −C6 ア
ルキルチオから成る。)である化合物、(18)R4
が、置換基群γから選択される基で置換されてもよいア
シルアミノで1 個置換され、更に、下記置換基群から選
択される基で1 乃至3 個置換されてもよいフェニル基
(該置換基群は、ハロゲン及びC1 −C6 アルキルから
成る。)である化合物、(19)R4 が、C1 −C10ア
ルキルまたは置換されてもよいC7 −C12アラルキルで
置換されてもよいアシルアミノで1 個置換され、更に、
C1 −C6 アルキルで1 乃至3 個置換されてもよいフェ
ニル基である化合物、(20)R4 が、下記置換基で1
個置換されたフェニル基(該置換基は、置換されてもよ
い、C7 −C11芳香族アシルアミノ、C4 −C11シクロ
アルキルカルボニルアミノ又は窒素原子を含有する5乃
至6員芳香複素環カルボニルアミノである。)である化
合物、(21)R4 が、ベンゾイルアミノ、3−クロロ
ベンゾイルアミノ、2,4−ジフルオロベンゾイルアミ
ノ、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンゾイ
ルアミノ、ナフトイルアミノ、シクロペンタノイルアミ
ノ、シクロヘキサノイルアミノ、ニコチノイルアミノ、
イソニコチノイルアミノ、N−アセチル−N−ヘキシル
アミノ又はアダマンチルカルボニルアミノで置換された
フェニル基である化合物、(22)R4 が、アミノ、1
乃至2 個の基で置換されたアミノ(該置換基は、同一又
は異なって、C1 −C10アルキル並びに、置換されても
よい、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキルか
ら選択される基である。)、ニトロ又はシアノで1 個置
換され、更に、下記置換基群から選択される基で1 乃至
3 個置換されてもよいフェニル基(該置換基群は、ハロ
ゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 アルキル、ハロゲノC1
−C6 アルキル、C1 −C6 アルコキシ及びC1 −C6
アルキルチオから成る。)である化合物、(23)R4
が、アミノ、モノ若しくはジ−C1 −C10アルキルアミ
ノ又はシアノで1 個で置換され、更に、C1 −C6 アル
キルで1 乃至2 個置換されてもよいフェニル基である化
合物、(24)R4 が、4−アミノフェニル、4−アミ
ノ−3,5−ジメチルフェニル、4−アミノ−3,5−
ジ−t−ブチルフェニル、3−若しくは4−ジメチルア
ミノフェニル又は4−シアノフェニル基である化合物、
(25)R4 が、置換基群βから選択される基で1乃至
3個置換されてもよい、C6 −C10アリールオキシ、C
7 −C16アラルキルオキシ又はC6 −C10アリールチオ
で1 個置換され、更に、下記置換基群から選択される基
で1 乃至3 個置換されてもよいフェニル基(該置換基群
は、ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 アルキル、ハロ
ゲノC1 −C6 アルキル、C1 −C6 アルコキシ及びC
1 −C6 アルキルチオから成る。)である化合物、(2
6)R4 が、置換基群βから選択される基で1乃至3個
置換されてもよいC6 −C10アリールオキシで置換さ
れ、更に、C1 −C6 アルキルで1乃至2個置換されて
もよいフェニル基である化合物、(27)R4 が、置換
基群βから選択される基で1個置換されてもよいC6 −
C10アリールオキシで置換されたフェニル基である化合
物、(28)R4 が、4−フェノキシフェニルである化
合物、(29)R4 が、下記置換基群から選択される基
で1 乃至5個置換されたフェニル基(該置換基群は、ハ
ロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 アルキル、ハロゲノC
1 −C6 アルキル、C1 −C6 アルコキシ、C1 −C6
アルキルチオ及びC1 −C7 脂肪族アシルオキシから成
る。)である化合物、(30)R4 が、ハロゲン、ヒド
ロキシ、C1 −C6 アルキル、ハロゲノC1 −C6 アル
キル、C1 −C6 アルコキシ、C1 −C6 アルキルチオ
又はC1 −C7脂肪族アシルオキシで1 個置換され、更
に、下記置換基群から選択される基で1乃至4個置換さ
れてもよいフェニル基(該置換基群は、ハロゲン、C1
−C6 アルキル及びハロゲノC1 −C6 アルキルから成
る。)である化合物、(31)R4 が、C1 −C6 アル
キル、ハロゲノC1 −C6 アルキル、C1 −C6 アルコ
キシ若しくはC1 −C6 アルキルチオで1 個置換された
フェニル基又は1 乃至5 個のハロゲンで置換されたフェ
ニル基である化合物、(32)R4 が、ハロゲノC1 −
C2 アルキル、C1 −C2 アルコキシ若しくはC1 −C
2 アルキルチオで1 個置換されたフェニル基又は1 乃至
5 個の弗素原子若しくは塩素原子で置換されたフェニル
基である化合物、(33)R4 が、4−トリフルオロメ
チルフェニル、4−メチルチオフェニル、4−メトキシ
フェニル又はペンタフルオロフェニル基である化合物、
(34)R4 が、ヒドロキシ若しくはC1 −C7 脂肪族
アシルオキシで1 個置換され、更に、下記置換基群から
選択される基で1 乃至3個置換されてもよいフェニル基
(該置換基群は、ハロゲン及びC1 −C6 アルキルから
成る。)である化合物、(35)R4 が、ヒドロキシで
1 個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で
1 乃至3個置換されてもよいフェニル基(該置換基群
は、ハロゲン及びC1 −C6 アルキルから成る。)であ
る化合物、(36)R4 が、ヒドロキシで1 個置換さ
れ、更に、下記置換基群から選択される基で1 乃至3個
置換されてもよいフェニル基(該置換基群は、弗素、塩
素、メチル及びt−ブチルから成る。)である化合物、
(37)R4 が、4−ヒドロキシフェニル、4−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルフェニル、4−ヒドロキシ−
3,5−ジ−t−ブチルフェニル、4−ヒドロキシ−
2,3,5−トリメチルフェニル、2―クロロ−4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジメチルフェニル基である化合物、
(38)R6 が、水素原子、C1 −C6 アルキル基、又
は下記置換基群から選択される基で1 乃至3 個置換され
てもよい置換されてもよい、フェニル若しくはベンジル
基(該置換基群は、ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6
アルキル及びハロゲノC1 −C6 アルキルから成る。)
である化合物、(39)R6 が、水素原子、C1 −C4
アルキル基、又は下記置換基で1 個置換されてもよい、
フェニル若しくはベンジル基(該置換基は、弗素、塩
素、ヒドロキシ、メチル又はエチルである。)である化
合物、(40)R6 が、水素原子又はC1 −C4 アルキ
ル基である化合物、(41)R6 が、C1 −C2 アルキ
ル基である化合物、(42)R6 が、メチル基である化
合物、(43)Aが、C1 −C4 アルキレン基である化
合物、(44)Aが、C1 −C2 アルキレン基である化
合物、(45)Aが、メチレン基である化合物、(4
6)Bが、酸素原子である化合物、(47)Dが、酸素
原子である化合物、(48)Dが、硫黄原子である化合
物、(49)Eが、CHを有する基である化合物、(5
0)Eが、窒素原子である化合物を挙げることができ
る。
(7)、(8)−(37)、(38)−(42)、(4
3)−(45)、(46)、(47)−(48)及び
(49)−(50)から2乃至9個選択し、それらを任
意に組み合わせたものも好適である。
10に記載する化合物を挙げることができるが、本発明
はこれらの化合物に限定されるものではない。なお、表
1−表10の化合物は、それぞれ式(I−1)−(I−
10)の構造式を有する。但し、表中の略記は以下の通
りである。
CH 1-1077 H Pyr(4) 5-MeO Me -CH2- O O CH 1-1078 H Pyr(4) 5-MeS Me -CH2- O O CH 1-1079 3-F Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1080 2-Cl Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1081 3-Cl Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1082 2-Me Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1083 3-Me Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1084 3-CF3 Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1085 2-MeO Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1086 3-MeO Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1087 H 2-F-Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1088 H 2-F-Pyr(4) H Me -CH2- O S CH 1-1089 H 2-Cl-Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1090 H 2-Cl-Pyr(4) H Me -CH2- O S CH 1-1091 H 2-Me-Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1092 H 2-Me-Pyr(4) H Me -CH2- O O N 1-1093 H 2-Me-Pyr(4) H Me -CH2- O S CH 1-1094 H 2-Me-Pyr(4) H Et -CH2- O O CH 1-1095 H 2-Me-Pyr(4) H Et -CH2- O S CH 1-1096 H 2-Et-Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1097 H 2-Et-Pyr(4) H Me -CH2- O S CH 1-1098 H 2,6-diMe-Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1099 H 2,6-diMe-Pyr(4) H Me -CH2- O O N 1-1100 H 2,6-diMe-Pyr(4) H Me -CH2- O S CH 1-1101 H 2,6-diMe-Pyr(4) H Me -(CH2)2- O O CH 1-1102 H 2,6-diMe-Pyr(4) H Et -CH2- O O CH 1-1103 H 2,6-diMe-Pyr(4) H Et -CH2- O S CH 1-1104 H 2,6-diMe-Pyr(4) H tBu -CH2- O O CH 1-1105 H 3,6-diMe-Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1106 H 3,6-diMe-Pyr(4) H Me -CH2- O O N 1-1107 H 3,6-diMe-Pyr(4) H Me -CH2- O S CH 1-1108 H 3,6-diMe-Pyr(4) H Et -CH2- O O CH 1-1109 H 3,6-diMe-Pyr(4) H Et -CH2- O S CH 1-1110 H 2-MeO-Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1111 H 2-MeO-Pyr(4) H Me -CH2- O O N 1-1112 H 2-MeO-Pyr(4) H Me -CH2- O S CH 1-1113 H 2-MeO-Pyr(4) H Et -CH2- O O CH 1-1114 H 2-MeO-Pyr(4) H Et -CH2- O S CH 1-1115 H 2-EtO-Pyr(4) H Me -CH2- O O CH 1-1116 H 2-Imid(1)-Ph H Me -CH2- O O N 1-1117 H 2-Imid(1)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1118 H 2-Imid(1)-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1119 H 2-Imid(1)-Ph H Me -CH2- O S N 1-1120 H 3-Imid(1)-Ph H Me -CH2- O O N 1-1121 H 3-Imid(1)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1122 H 3-Imid(1)-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1123 H 3-Imid(1)-Ph H Me -CH2- O S N 1-1124 H 4-Imid(1)-Ph H H -CH2- O O CH 1-1125 H 4-Imid(1)-Ph H H -CH2- O S CH 1-1126 H 4-Imid(1)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1127 H 4-Imid(1)-Ph H Me -CH2- O O N 1-1128 H 4-Imid(1)-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1129 H 4-Imid(1)-Ph H Me -CH2- O S N 1-1130 H 4-Imid(1)-Ph H Me -CH2- S O CH 1-1131 H 4-Imid(1)-Ph H Me -CH2- S O N 1-1132 H 4-Imid(1)-Ph H Me -CH2- S S CH 1-1133 H 4-Imid(1)-Ph H Me -CH2- S S N 1-1134 H 4-Imid(1)-Ph H Me -(CH2)2- O O CH 1-1135 H 4-Imid(1)-Ph H Me -(CH2)2- O O N 1-1136 H 4-Imid(1)-Ph H Me -(CH2)2- O S CH 1-1137 H 4-Imid(1)-Ph H Me -(CH2)2- O S N 1-1138 H 4-Imid(1)-Ph H Et -CH2- O O CH 1-1139 H 4-Imid(1)-Ph H Et -CH2- O O N 1-1140 H 4-Imid(1)-Ph H Et -CH2- O S CH 1-1141 H 4-Imid(1)-Ph H Et -CH2- O S N 1-1142 H 4-Imid(1)-Ph H Ph -CH2- O O CH 1-1143 H 4-Imid(1)-Ph H Bz -CH2- O O CH 1-1144 H 2-Tz-Ph H Me -CH2- O O N 1-1145 H 2-Tz-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1146 H 2-Tz-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1147 H 2-Tz-Ph H Me -CH2- O S N 1-1148 H 3-Tz-Ph H Me -CH2- O O N 1-1149 H 3-Tz-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1150 H 3-Tz-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1151 H 3-Tz-Ph H Me -CH2- O S N 1-1152 H 4-Tz-Ph H H -CH2- O O CH 1-1153 H 4-Tz-Ph H H -CH2- O S CH 1-1154 H 4-Tz-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1155 H 4-Tz-Ph H Me -CH2- O O N 1-1156 H 4-Tz-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1157 H 4-Tz-Ph H Me -CH2- O S N 1-1158 H 4-Tz-Ph H Me -CH2- S O CH 1-1159 H 4-Tz-Ph H Me -CH2- S O N 1-1160 H 4-Tz-Ph H Me -CH2- S S CH 1-1161 H 4-Tz-Ph H Me -CH2- S S N 1-1162 H 4-Tz-Ph H Me -(CH2)2- O O CH 1-1163 H 4-Tz-Ph H Me -(CH2)2- O O N 1-1164 H 4-Tz-Ph H Me -(CH2)2- O S CH 1-1165 H 4-Tz-Ph H Me -(CH2)2- O S N 1-1166 H 4-Tz-Ph H Et -CH2- O O CH 1-1167 H 4-Tz-Ph H Et -CH2- O O N 1-1168 H 4-Tz-Ph H Et -CH2- O S CH 1-1169 H 4-Tz-Ph H Et -CH2- O S N 1-1170 H 4-Tz-Ph H Ph -CH2- O O CH 1-1171 H 4-Tz-Ph H Bz -CH2- O O CH 1-1172 H 2-Ada(1)-Ph H Me -CH2- O O N 1-1173 H 2-Ada(1)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1174 H 2-Ada(1)-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1175 H 2-Ada(1)-Ph H Me -CH2- O S N 1-1176 H 3-Ada(1)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1177 H 3-Ada(1)-Ph H Me -CH2- O O N 1-1178 H 3-Ada(1)-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1179 H 3-Ada(1)-Ph H Me -CH2- O S N 1-1180 H 4-Ada(1)-Ph H H -CH2- O O CH 1-1181 H 4-Ada(1)-Ph H H -CH2- O S CH 1-1182 H 4-Ada(1)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1183 H 4-Ada(1)-Ph H Me -CH2- O O N 1-1184 H 4-Ada(1)-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1185 H 4-Ada(1)-Ph H Me -CH2- O S N 1-1186 H 4-Ada(1)-Ph H Me -CH2- S O CH 1-1187 H 4-Ada(1)-Ph H Me -CH2- S O N 1-1188 H 4-Ada(1)-Ph H Me -CH2- S S CH 1-1189 H 4-Ada(1)-Ph H Me -CH2- S S N 1-1190 H 4-Ada(1)-Ph H Me -(CH2)2- O O CH 1-1191 H 4-Ada(1)-Ph H Me -(CH2)2- O O N 1-1192 H 4-Ada(1)-Ph H Me -(CH2)2- O S CH 1-1193 H 4-Ada(1)-Ph H Me -(CH2)2- O S N 1-1194 H 4-Ada(1)-Ph H Et -CH2- O O CH 1-1195 H 4-Ada(1)-Ph H Et -CH2- O O N 1-1196 H 4-Ada(1)-Ph H Et -CH2- O S CH 1-1197 H 4-Ada(1)-Ph H Et -CH2- O S N 1-1198 H 4-Ada(1)-Ph H Ph -CH2- O O CH 1-1199 H 4-Ada(1)-Ph H Bz -CH2- O O CH 1-1200 H 2-CN-Ph H Me -CH2- O O N 1-1201 H 2-CN-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1202 H 2-CN-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1203 H 2-CN-Ph H Me -CH2- O S N 1-1204 H 3-CN-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1205 H 3-CN-Ph H Me -CH2- O O N 1-1206 H 3-CN-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1207 H 3-CN-Ph H Me -CH2- O S N 1-1208 H 4-CN-Ph H H -CH2- O O CH 1-1209 H 4-CN-Ph H H -CH2- O S CH 1-1210 H 4-CN-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1211 H 4-CN-Ph H Me -CH2- O O N 1-1212 H 4-CN-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1213 H 4-CN-Ph H Me -CH2- O S N 1-1214 H 4-CN-Ph H Me -CH2- S O CH 1-1215 H 4-CN-Ph H Me -CH2- S O N 1-1216 H 4-CN-Ph H Me -CH2- S S CH 1-1217 H 4-CN-Ph H Me -CH2- S S N 1-1218 H 4-CN-Ph H Me -(CH2)2- O O CH 1-1219 H 4-CN-Ph H Me -(CH2)2- O O N 1-1220 H 4-CN-Ph H Me -(CH2)2- O S CH 1-1221 H 4-CN-Ph H Me -(CH2)2- O S N 1-1222 H 4-CN-Ph H Et -CH2- O O CH 1-1223 H 4-CN-Ph H Et -CH2- O O N 1-1224 H 4-CN-Ph H Et -CH2- O S CH 1-1225 H 4-CN-Ph H Et -CH2- O S N 1-1226 H 4-CN-Ph H Ph -CH2- O O CH 1-1227 H 4-CN-Ph H Bz -CH2- O O CH 1-1228 H 4-Bz-2-OH-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1229 H 4-Bz-2-OH-Ph H Me -CH2- O O N 1-1230 H 4-Bz-3-OH-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1231 H 4-Bz-3-OH-Ph H Me -CH2- O O N 1-1232 H 4-Bz-3-OH-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1233 H 4-Bz-3-OH-Ph H Me -CH2- O S N 1-1234 H 4-OH-2,5-ditBu-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1235 H pentaF-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1236 H pentaF-Ph H Me -CH2- O O N 1-1237 H pentaF-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1238 H pentaF-Ph H Me -CH2- O S N 1-1239 H 4-NHPn-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1240 H 2-NHHx-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1241 H 3-NHHx-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1242 H 4-NHHx-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1243 H 4-NHHx-Ph H Me -CH2- O O N 1-1244 H 4-NHHx-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1245 H 4-NHHx-Ph H Me -CH2- O S N 1-1246 H 2-NHCOPh-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1247 H 3-NHCOPh-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1248 H 4-NHCOPh-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1249 H 4-NHCOPh-Ph H Me -CH2- O O N 1-1250 H 4-NHCOPh-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1251 H 4-NHCOPh-Ph H Me -CH2- O S N 1-1252 H 4-NHCO(3-F-Ph)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1253 H 4-NHCO(2-Cl-Ph)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1254 H 2-NHCO(3-Cl-Ph)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1255 H 3-NHCO(3-Cl-Ph)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1256 H 4-NHCO(3-Cl-Ph)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1257 H 4-NHCO(3-Cl-Ph)-Ph H Me -CH2- O O N 1-1258 H 4-NHCO(3-Cl-Ph)-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1259 H 4-NHCO(3-Cl-Ph)-Ph H Me -CH2- O S N 1-1260 H 4-NHCO(4-Cl-Ph)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1261 H 2-NHCO(2,4-diF-Ph)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1262 H 3-NHCO(2,4-diF-Ph)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1263 H 4-NHCO(2,4-diF-Ph)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1264 H 4-NHCO(2,4-diF-Ph)-Ph H Me -CH2- O O N 1-1265 H 4-NHCO(2,4-diF-Ph)-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1266 H 4-NHCO(2,4-diF-Ph)-Ph H Me -CH2- O S N 1-1267 H 2-NHCO(4-OH-3,5-ditBu-Ph)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1268 H 3-NHCO(4-OH-3,5-ditBu-Ph)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1269 H 4-NHCO(4-OH-3,5-ditBu-Ph)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1270 H 4-NHCO(4-OH-3,5-ditBu-Ph)-Ph H Me -CH2- O O N 1-1271 H 4-NHCO(4-OH-3,5-ditBu-Ph)-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1272 H 4-NHCO(4-OH-3,5-ditBu-Ph)-Ph H Me -CH2- O S N 1-1273 H 4-NHCONp(1)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1274 H 4-NHCONp(1)-Ph H Me -CH2- O O N 1-1275 H 4-NHCONp(1)-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1276 H 4-NHCONp(1)-Ph H Me -CH2- O S N 1-1277 H 4-NHCONp(2)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1279 H 4-NHCONp(2)-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1280 H 4-NHCONp(2)-Ph H Me -CH2- O S N 1-1281 H 4-NHCOBz-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1282 H 4-NHCO(2-Cl-Bz)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1283 H 2-NHCO(3-Cl-Bz)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1284 H 3-NHCO(3-Cl-Bz)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1285 H 4-NHCO(3-Cl-Bz)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1286 H 4-NHCO(3-Cl-Bz)-Ph H Me -CH2- O O N 1-1287 H 4-NHCO(3-Cl-Bz)-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1288 H 4-NHCO(3-Cl-Bz)-Ph H Me -CH2- O S N 1-1289 H 4-NHCO(4-Cl-Bz)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1290 H 2-NHCOcPn-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1291 H 3-NHCOcPn-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1292 H 4-NHCOcPn-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1293 H 4-NHCOcPn-Ph H Me -CH2- O O N 1-1294 H 4-NHCOcPn-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1295 H 4-NHCOcPn-Ph H Me -CH2- O S N 1-1296 H 2-NHCOcHx-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1297 H 3-NHCOcHx-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1298 H 4-NHCOcHx-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1299 H 4-NHCOcHx-Ph H Me -CH2- O O N 1-1300 H 4-NHCOcHx-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1301 H 4-NHCOcHx-Ph H Me -CH2- O S N 1-1302 H 4-NHCOPyr(2)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1303 H 2-NHCOPyr(3)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1304 H 3-NHCOPyr(3)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1305 H 4-NHCOPyr(3)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1306 H 4-NHCOPyr(3)-Ph H Me -CH2- O O N 1-1307 H 4-NHCOPyr(3)-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1308 H 4-NHCOPyr(3)-Ph H Me -CH2- O S N 1-1309 H 2-NHCOPyr(4)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1310 H 3-NHCOPyr(4)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1311 H 4-NHCOPyr(4)-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1312 H 4-NHCOPyr(4)-Ph H Me -CH2- O O N 1-1313 H 4-NHCOPyr(4)-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1314 H 4-NHCOPyr(4)-Ph H Me -CH2- O S N 1-1315 H 4-N(Ac)Pn-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1316 H 2-N(Ac)Hx-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1317 H 3-N(Ac)Hx-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1318 H 4-N(Ac)Hx-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1319 H 4-N(Ac)Hx-Ph H Me -CH2- O O N 1-1320 H 4-N(Ac)Hx-Ph H Me -CH2- O S CH 1-1321 H 4-N(Ac)Hx-Ph H Me -CH2- O S N 1-1322 H 4-N(COPh)Hx-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1323 H 4-N[CO(3-Cl-Ph)]Hx-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1324 H 4-N[CO(2,4-diF-Ph)]Hx-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1325 H 4-N[CONp(1)]Hx-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1326 H 4-N(COBz)Hx-Ph H Me -CH2- O O CH 1-1327 H 2-Ph-Ph H Me -CH2- O O CH 。
1、1-13、1-18、1-25、1-41、1-42、1-43、1-48、1-5
1、1-60、1-68、1-69、1-70、1-71、1-72、1-77、1-8
0、1-86、1-89、1-90、1-94、1-97、1-104 、1-127 、1
-128 、1-129 、1-130 、1-131 、1-132 、1-133 、1-1
34 、1-135 、1-136 、1-137 、1-141 、1-142 、1-143
、1-144 、1-148 、1-149 、1-150 、1-153 、1-154
、1-155 、1-156 、1-157 、1-159 、1-160 、1-161
、1-162 、1-163 、1-164 、1-165 、1-168 、1-169
、1-170 、1-171 、1-172 、1-175 、1-181 、1-182
、1-184 、1-185 、1-186 、1-191 、1-193 、1-195
、1-199 、1-200 、1-201 、1-206 、1-208 、1-213
、1-214 、1-215 、1-216 、1-221 、1-223 、1-230
、1-236 、1-241 、1-242 、1-243 、1-244 、1-245
、1-246 、1-248 、1-249 、1-250 、1-251 、1-253
、1-256 、1-257 、1-258 、1-259 、1-260 、1-264
、1-267 、1-269 、1-282 、1-284 、1-285 、1-286
、1-287 、1-288 、1-289 、1-290 、1-292 、1-293
、1-294 、1-295 、1-296 、1-297 、1-298 、1-299
、1-300 、1-302 、1-303 、1-304 、1-305 、1-307
、1-309 、1-312 、1-325 、1-329 、1-330 、1-331
、1-332 、1-333 、1-335 、1-339 、1-342 、1-344
、1-351 、1-354 、1-357 、1-358 、1-359 、1-362
、1-363 、1-366 、1-367 、1-368 、1-369 、1-370
、1-371 、1-375 、1-378 、1-408 、1-421 、1-429
、1-430 、1-433 、1-438 、1-439 、1-440 、1-441
、1-442 、1-447 、1-458 、1-463 、1-465 、1-468
、1-469 、1-470 、1-476 、1-481 、1-482 、1-483
、1-486 、1-487 、1-488 、1-489 、1-497 、1-499
、1-501 、1-502 、1-503 、1-504 、1-506 、1-507
、1-508 、1-513 、1-514 、1-515 、1-519 、1-520
、1-521 、1-522 、1-523 、1-528 、1-538 、1-540
、1-541 、1-543 、1-544 、1-560 、1-561 、1-565
、1-566 、1-567 、1-569 、1-572 、1-574 、1-575
、1-577 、1-578 、1-579 、1-590 、1-592 、1-593
、1-594 、1-595 、1-597 、1-598 、1-599 、1-600
、1-601 、1-602 、1-603 、1-607 、1-608 、1-609
、1-610 、1-613 、1-624 、1-627 、1-631 、1-633
、1-634 、1-635 、1-636 、1-637 、1-638 、1-639
、1-640 、1-641 、1-642 、1-643 、1-644 、1-645
、1-646 、1-647 、1-650 、1-651 、1-652 、1-653
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、1-671 、1-690 、1-692 、1-693 、1-696 、1-697
、1-698 、1-705 、1-706 、1-707 、1-708 、1-710
、1-711 、1-713 、1-715 、1-722 、1-723 、1-724
、1-727 、1-728 、1-729 、1-738 、1-739 、1-740
、1-741 、1-742 、1-743 、1-747 、1-748 、1-749
、1-757 、1-758 、1-759 、1-764 、1-765 、1-767
、1-773 、1-777 、1-779 、1-786 、1-796 、1-800
、1-808 、1-809 、1-812 、1-814 、1-820 、1-821
、1-822 、1-823 、1-824 、1-829 、1-830 、1-831
、1-832 、1-839 、1-840 、1-841 、1-846 、1-859
、1-877 、1-878 、1-879 、1-881 、1-883 、1-888
、1-895 、1-897 、1-907 、1-909 、1-910 、1-911
、1-912 、1-913 、1-916 、1-917 、1-920 、1-922
、1-925 、1-926 、1-927 、1-930 、1-932 、1-937
、1-938 、1-939 、1-940 、1-941 、1-946 、1-948
、1-954 、1-956 、1-957 、1-958 、1-979 、1-984
、1-988 、1-989 、1-994 、1-998 、1-1001、1-100
6、1-1010、1-1018、1-1019、1-1020、1-1021、1-102
6、1-1028、1-1030、1-1110、1-1111、1-1112、1-111
5、1-1126、1-1127、1-1128、1-1154、1-1182、1-118
3、1-1184、1-1185、1-1210、1-1211、1-1212、1-121
3、1-1230、1-1234、1-1235、1-1236、1-1237、1-124
2、1-1248、1-1249、1-1256、1-1263、1-1264、1-126
5、1-1269、1-1270、1-1271、1-1277、1-1285、1-128
6、1-1287、1-1292、1-1293、1-1294、1-1298、1-129
9、1-1305、1-1306、1-1307、1-1311、1-1312、1-131
3、1-1318、1-1319、1-1320、1-1327、2-18、2-19、2-2
0、2-21、2-22、2-55、2-56、2-57、2-58、2-59、2-6
0、2-76、2-77、2-78、2-81、2-83、2-86、2-87、2-8
8、2-94、2-95、2-96、2-99、2-105、2-115 、2-116 、
2-117 、2-119 、2-121 、2-122 、2-123 、2-127 、2-
134、2-135 、2-153 、2-154 、2-155 、2-173 、2-185
、2-186 、2-187 、2-205、2-206 、2-218 、2-219 、
2-229 、2-230 、2-231 、2-232 、2-233 、2-234、2-2
62 、2-263 、2-264 、2-265 、2-266 、2-267 、2-270
、2-286 、2-292、2-296 、2-297 、2-298 、2-299 、
2-300 、2-325 、2-326 、2-334 、2-335、2-339 、2-3
40 、2-341 、2-342 、2-378 、2-379 、2-380 、2-381
、2-384、2-385 、2-406 、2-430 、2-431 、2-432 、
2-433 、2-513 、2-534 、2-541、2-545 、2-547 、2-5
48 、2-549 、2-552 、2-553 、3-1 、3-2 、3-3 、3-
4、3-6 、3-10、3-19、3-20、3-21、3-22、3-53、3-5
4、3-55、3-56、3-57、3-58、3-59、3-60、3-69、3-7
6、3-78、3-81、3-83、3-86、3-87、3-88、3-94、3-9
5、3-96、3-105 、3-106 、3-107 、3-115 、3-116 、3
-117 、3-119 、3-120 、3-127 、3-134 、3-136 、3-1
37 、3-142 、3-148 、3-149 、3-153 、3-154 、3-155
、3-156 、3-184 、3-188 、3-189 、3-205 、3-206
、3-218 、3-219 、3-229 、3-230 、3-231 、3-232
、3-234 、3-239 、3-241 、3-248 、3-250 、3-263
、3-264 、3-265 、3-266 、3-267 、3-272 、3-275
、3-276 、3-296 、3-297 、3-298 、3-299 、3-306
、3-326 、3-334 、3-335 、3-338 、3-339 、3-340
、3-341 、3-342 、3-344 、3-349 、3-351 、3-378
、3-379 、3-380 、3-381 、3-383 、3-385 、3-388
、3-406 、3-408 、3-430 、3-431 、3-432 、3-433
、3-521 、3-522 、3-530 、3-531 、3-532 、3-534
、3-540 、3-541 、3-542 、3-545 、3-547 、3-552
、3-553 、4-11、4-13、4-24、4-25、4-32、4-38、4-4
4、4-49、4-59、4-60、4-62、4-63、4-66、4-87、4-9
0、4-105 、4-118、4-120 、4-121 、4-131 、4-132 、
4-133 、4-134 、4-135 、4-145 、4-146、4-147 、4-15
9 、4-166 、4-167 、4-168 、4-180 、4-181 、4-182
、4-200、4-201 、4-202 、4-238 、4-239 、4-243 、
4-245 、4-247 、4-252 、5-11、5-13、5-24、5-25、5-
32、5-33、5-35、5-39、5-44、5-45、5-49、5-50、5-5
1、5-59、5-60、5-62、5-63、5-65、5-66、5-71、5-7
7、5-78、5-79、5-80、5-105、5-112 、5-118 、5-119
、5-120 、5-122 、5-131 、5-132 、5-133 、5-134、
5-135 、5-137 、5-145 、5-146 、5-147 、5-148 、5-
159 、5-163 、5-166、5-167 、5-168 、5-170 、5-171
、5-180 、5-181 、5-182 、5-183 、5-192、5-200 、
5-201 、5-202 、5-236 、5-238 、5-242 、5-245 、5-
247 、5-252、5-253 、6-7 、6-8 、6-9 、6-26、6-4
5、6-47、6-48、6-58、6-59、6-60、6-67、6-82、6-9
3、6-107 、6-108 、6-109 、6-116 、6-117 、6-134
、6-149 、6-166 、6-199 、6-200 、6-208 、7-1 、7
-2 、7-3 、7-4 、7-11、7-13、7-24、7-25、7-32、7-3
8、7-44、7-49、7-59、7-60、7-62、7-63、7-66、7-8
7、7-90、7-105 、7-118 、7-120 、7-121 、7-131 、7
-132 、7-133 、7-134 、7-135、7-145 、7-146 、7-14
7 、7-159 、7-166 、7-167 、7-168 、7-180 、7-18
1、7-182 、7-200 、7-201 、7-202 、7-236 、7-238
、7-239 、7-241 、7-242、7-243 、7-244 、7-245 、
7-247 、7-248 、7-249 、7-250 、7-251 、7-252、7-2
53 、8-7 、8-9 、8-19、8-26、8-31、8-34、8-38、8-4
5、8-47、8-48、8-51、8-58、8-67、8-82、8-93、8-9
5、8-96、8-105 、8-106 、8-107 、8-108 、8-109 、8
-117 、8-118 、8-119 、8-130 、8-137 、8-138 、8-1
39 、8-149 、8-150 、8-151 、8-166 、8-167 、8-168
、8-199 、8-206 、8-213 、9-11、9-13、9-24、9-3
2、9-33、9-35、9-39、9-44、9-45、9-49、9-50、9-5
1、9-59、9-60、9-62、9-63、9-65、9-66、9-71、9-7
7、9-78、9-79、9-80、9-105 、9-118、9-119 、9-120
、9-122 、9-131 、9-132 、9-133 、9-134 、9-135
、9-137、9-145 、9-146 、9-147 、9-148 、9-159 、
9-163 、9-166 、9-167 、9-168、9-170 、9-171 、9-1
80 、9-181 、9-182 、9-183 、9-192 、9-200 、9-20
1、9-202 、9-236 、9-238 、9-239 、9-242 、9-245
、9-247 、9-250 、9-252、10-7、10-8、10-9、10-26
、10-45 、10-47 、10-48 、10-58 、10-59 、10-60
、10-67 、10-82 、10-93 、10-107、10-108、10-10
9、10-116、10-117、10-133、10-149、10-166、10-19
7、10-200、10-203、10-211及び10-213の化合物を挙げ
ることができ、更に好適には、 化合物番号1-69、1-70、1-72、1-131 、1-132 、1-136
、1-137 、1-142 、1-149 、1-150 、1-153 、1-154
、1-155 、1-157 、1-160 、1-161 、1-164 、1-168
、1-169 、1-171 、1-172 、1-184 、1-185 、1-193
、1-199 、1-200 、1-201 、1-214 、1-215 、1-216
、1-221 、1-241 、1-242 、1-243 、1-246 、1-257
、1-258 、1-259 、1-284 、1-285 、1-286 、1-290
、1-292 、1-302 、1-329 、1-330 、1-357 、1-368
、1-369 、1-370 、1-371 、1-375 、1-378 、1-408
、1-476 、1-481 、1-486 、1-501 、1-502 、1-503
、1-506 、1-513 、1-514 、1-515 、1-520 、1-521
、1-522 、1-523 、1-560 、1-577 、1-593 、1-594
、1-595 、1-603 、1-607 、1-609 、1-633 、1-634
、1-640 、1-650 、1-651 、1-652 、1-653 、1-660
、1-708 、1-727 、1-729 、1-739 、1-740 、1-741
、1-742 、1-747 、1-757 、1-759 、1-808 、1-821
、1-822 、1-823 、1-824 、1-831 、1-877 、1-878
、1-879 、1-938 、1-939 、1-940 、1-1126、1-118
2、1-1210、1-1211、1-1212、1-1234、1-1235、1-123
6、1-1237、1-1242、1-1248、1-1263、1-1269、1-127
0、1-1271、1-1277、1-1285、1-1292、1-1298、1-130
5、1-1306、1-1307、1-1311、1-1312、1-1313、1-131
8、2-19、2-76、2-115 、2-121 、2-153 、2-185 、2-2
05 、2-229 、2-233 、2-264 、2-266 、2-267 、2-296
、2-298 、2-339 、2-378 、2-545 、2-547 、3-94、3
-115 、3-153 、3-229 、3-231 、3-263 、3-266 、3-2
67 、3-298 、3-339 、3-340 、3-341 、3-342 、3-430
、3-432 、3-530 、5-11、5-44、5-78、5-118 、5-133
、5-135 、5-145 、5-146 、5-147 、5-166 、5-180
、5-236 、5-245 、9-11、9-44、9-78、9-118 、9-133
、9-135 、9-145 、9-147 、9-180 、9-238 及び9-239
の化合物を挙げることができ、特に好適には、 化合物番号1-70:5−{4−[6−(4−ヒドロキシフ
ェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−
2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−
ジオン、 化合物番号1-131 :5−{4−[1−メチル−6−(4
−トリフルオロメチルフェノキシ)−1H−ベンツイミ
ダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン
−2、4−ジオン、 化合物番号1-132 :5−{4−[1−メチル−6−(4
−メトキシフェノキシ)−1H−ベンツイミダゾール−
2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−
ジオン、 化合物番号1-136 :5−{4−[1−メチル−6−(4
−メチルチオフェノキシ)−1H−ベンツイミダゾール
−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4
−ジオン、 化合物番号1-142 :5−{4−[6−(4−アミノフェ
ノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジ
オン、 化合物番号1-153 :5−{4−[6−(3−ジメチルア
ミノフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾ
ール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン、 化合物番号1-164 :5−{4−[6−(4−アセチルア
ミノフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾ
ール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン、 化合物番号1-169 :5−{4−[1−メチル−6−(4
−フェニルフェノキシ)−1H−ベンツイミダゾール−
2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−
ジオン、 化合物番号1-171 :5−{4−[6−(4' −ヒドロキ
シビフェニル−4−イルオキシ)−1−メチル−1H−
ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チ
アゾリジン−2、4−ジオン、 化合物番号1-184 :5−{4−[6−(4−ベンジルフ
ェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−
2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−
ジオン、 化合物番号1-199 :5−{4−(6−[2−(ピロリジ
ン−1−イル)フェノキシ]−1−メチル−1H−ベン
ツイミダゾール−2−イルメトキシ)ベンジル}チアゾ
リジン−2,4−ジオン、化合物番号1-241 :5−{4
−(6−[2−(ピペリジン−1−イル)フェノキシ]
−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメ
トキシ)ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン、 化合物番号1-284 :5−{4−(6−[2−(モルホリ
ン−4−イル)フェノキシ]−1−メチル−1H−ベン
ツイミダゾール−2−イルメトキシ)ベンジル}チアゾ
リジン−2,4−ジオン、 化合物番号1-292 :5−{4−(1−メチル−6−[3
−(モルホリン−4−イル)フェノキシ]−1H−ベン
ツイミダゾール−2−イルメトキシ)ベンジル}チアゾ
リジン−2,4−ジオン、 化合物番号1-368 :5−{4−[6−(2−クロロ−4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェノキシ)−1−メ
チル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン、 化合物番号1-481 :5−{4−[6−(4−ヒドロキシ
−2−メチルフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツ
イミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリ
ジン−2、4−ジオン、 化合物番号1-486 :5−{4−[6−(4−ヒドロキシ
−3−メチルフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツ
イミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリ
ジン−2、4−ジオン、 化合物番号1-513 :5−{4−[6−(4−ヒドロキシ
−2,5−ジメチルフェノキシ)−1−メチル−1H−
ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チ
アゾリジン−2、4−ジオン、 化合物番号1-520 :5−{4−[6−(4−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェノキシ)−1−メチル−1H−
ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チ
アゾリジン−2,4−ジオン、 化合物番号1-593 :5−{4−[6−(3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1−メチル−
1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2、4−ジオン、 化合物番号1-595 :5−{4−[6−(3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニルチオ)−1−メチル
−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベン
ジル}チアゾリジン−2,4−ジオン、 化合物番号1-650 :5−{4−[6−(4−ヒドロキシ
−2,3,5−トリメチルフェノキシ)−1−メチル−
1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2,4−ジオン、 化合物番号1-651 :5−{4−[5−(4−ヒドロキシ
−2,3,5−トリメチルフェノキシ)−3−メチル−
3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−2−イルメト
キシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン、 化合物番号1-739 :5−{4−[6−(4−アミノ−
3,5−ジメチルフェノキシ)−1−メチル−1H−ベ
ンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チア
ゾリジン−2,4−ジオン、 化合物番号1-808 :5−{4−[6−(4−アセチルア
ミノ−3,5−ジメチルフェノキシ)−1−メチル−1
H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2,4−ジオン、 化合物番号1-821 :5−{4−[6−(ピリジン−2−
イルオキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール
−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4
−ジオン、 化合物番号1-823 :5−{4−[1−メチル−6−(ピ
リジン−2−イルチオ)−1H−ベンツイミダゾール−
2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−
ジオン、 化合物番号1-938 :5−{4−[1−メチル−6−(ピ
リジン−3−イルオキシ)−1H−ベンツイミダゾール
−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4
−ジオン、 化合物番号1-1126:5−{4−(6−[4−(イミダゾ
ール−1−イル)フェノキシ]−1−メチル−1H−ベ
ンツイミダゾール−2−イルメトキシ)ベンジル}チア
ゾリジン−2、4−ジオン、 化合物番号1-1182:5−{4−(6−[4−(1−アダ
マンチル)フェノキシ]−1−メチル−1H−ベンツイ
ミダゾール−2−イルメトキシ)ベンジル}チアゾリジ
ン−2、4−ジオン、 化合物番号1-1210:5−{4−[6−(4−シアノフェ
ノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジ
オン、 化合物番号1-1234:5−{4−[6−(2,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1−メチル−
1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2、4−ジオン、 化合物番号1-1235:5−[4−(6−ペンタフルオロフ
ェノキシ−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ)ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジ
オン、 化合物番号1-1248:5−{4−[6−(4−ベンゾイル
アミノフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン、 化合物番号1-1263:5−[4−{6−[4−(2、4−
ジフルオロベンゾイルアミノ)フェノキシ]−1−メチ
ル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ}ベ
ンジル]チアゾリジン−2、4−ジオン、 化合物番号1-1292:5−{4−[6−(4−シクロペン
タノイルアミノフェノキシ)−1−メチル−1H−ベン
ツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾ
リジン−2、4−ジオン、 化合物番号1-1305:5−{4−[6−(4−ニコチノイ
ルアミノフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミ
ダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン
−2、4−ジオン、及び 化合物番号5-135 :5−{4−[6−(3、5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニルチオ)−1−メチル
−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベン
ジリデン}チアゾリジン−2、4−ジオンである。
合物は、以下の方法に従って容易に製造することができ
る。
したものと同意義を示し、R1aは、R1 の基の定義に含
まれるアミノ基及び/又は水酸基が、保護されていても
よいアミノ基及び/又は水酸基である他、R1 の基の定
義における基と同様の基を示し、R2aは、R2 の基の定
義に含まれるアミノ基及び/又は水酸基が、保護されて
いてもよいアミノ基及び/又は水酸基である他、R2 の
基の定義における基と同様の基を示し、R3aは、
基を示す。)を示し、R3bは、
る「保護されてもよいアミノ基」の「保護基」は、有機
合成化学の分野で使用されるアミノ基の保護基であれば
特に限定はされないが、例えば、前記C1 −C7 脂肪族
アシル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリク
ロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノ
C2 −C7 アルキルカルボニル基、メトキシアセチルの
ようなC1 −C6 アルコキシで置換されたC2 −C7 ア
ルキルカルボニル基等の「脂肪族アシル類」;前記C7
−C11芳香族アシル基、2−ブロモベンゾイル、4−ク
ロロベンゾイルのようなハロゲノC7 −C11芳香族アシ
ル基、2,4,6−トリメチルベンゾイル、4−トルオ
イルのようなC1 −C6 アルキルで置換されたC7 −C
11芳香族アシル基、4−アニソイルのようなC1 −C6
アルコキシで置換されたC7 −C11芳香族アシル基、4
−ニトロベンゾイル、2−ニトロベンゾイルのようなニ
トロで置換されたC7 −C11芳香族アシル基、2−(メ
トキシカルボニル)ベンゾイルのようなC2 −C7 アル
コキシカルボニルで置換されたC7 −C11芳香族アシル
基、4−フェニルベンゾイルのようなC6 −C10アリ−
ルで置換されたC7−C11芳香族アシル基等の「芳香族
アシル類」;前記C2 −C7 アルコキシカルボニル基、
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、2−トリ
メチルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲン又は
トリC1 −C6 アルキルシリルで置換されたC2 −C7
アルコキシカルボニル基等の「アルコキシカルボニル
類」;ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニ
ルのような「アルケニルオキシカルボニル類」;ベンジ
ルオキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシカル
ボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニ
ル、2−ニトロベンジルオキシカルボニル、4−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルのような、「1乃至2個のC
1 −C6 アルコキシ又はニトロでアリ−ル環が置換され
ていてもよいアラルキルオキシカルボニル類」;トリメ
チルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチル
シリル、t−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロ
ピルシリル、メチルジ−t−ブチルシリル、トリイソプ
ロピルシリルのようなトリC1 −C6 アルキルシリル
基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリ
ル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプ
ロピルシリルのようなアリ−ル及びC1 −C6 アルキル
から選択された基で3個置換されたシリル基等の「シリ
ル類」;ベンジル、フェネチル、3−フェニルプロピ
ル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェ
ニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェ
ニルメチル、9−アンスリルメチルのような1乃至3個
のアリ−ル基で置換されたC1 −C6 アルキル基、4−
メチルベンジル、2,4,6−トリメチルベンジル、
3,4,5−トリメチルベンジル、4−メトキシベンジ
ル、4−メトキシフェニルジフェニルメチル、2−ニト
ロベンジル、4−ニトロベンジル、4−クロロベンジ
ル、4−ブロモベンジル、4−シアノベンジル、4−シ
アノベンジルジフェニルメチル、ビス(2−ニトロフェ
ニル)メチル、ピペロニルのようなC1 −C6 アルキ
ル、C1 −C6 アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シアノ
でアリ−ル環が置換された1乃至3個のアリ−ル基で置
換されたC1 −C6 アルキル基等の「アラルキル類」;
又はN,N−ジメチルアミノメチレン、ベンジリデン、
4−メトキシベンジリデン、4−ニトロベンジリデン、
サリシリデン、5−クロロサリシリデン、ジフェニルメ
チレン、(5−クロロ−2−ヒドロキシフェニル)フェ
ニルメチレンのような「シッフ塩基を形成する置換され
たメチレン基」;であり、好適には、C1 −C7 脂肪族
アシル基、C7 −C11芳香族アシル基又はC2 −C7 ア
ルコキシカルボニル基であり、更に好適にはC2 −C7
アルコキシカルボニル基であり、特に好適にはt−ブト
キシカルボニル基である。
護されてもよい水酸基」の「保護基」は、有機合成化学
の分野で使用される水酸基の保護基であれば特に限定は
されないが、例えば、前記C1 −C7 脂肪族アシル基、
スクシノイル、グルタロイル、アジポイルのようなカル
ボキシで置換されたC2 −C7 アルキルカルボニル基、
クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノC2 −C7
アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのようなC1
−C6 アルコキシで置換されたC2 −C7 アルキルカル
ボニル基等の「脂肪族アシル類」;前記C7 −C11芳香
族アシル基、2−ブロモベンゾイル、4−クロロベンゾ
イルのようなハロゲノC7 −C11芳香族アシル基、2,
4,6−トリメチルベンゾイル、4−トルオイルのよう
なC1 −C6 アルキルで置換されたC7 −C11芳香族ア
シル基、4−アニソイルのようなC1 −C6 アルコキシ
で置換されたC7 −C11芳香族アシル基、2−カルボキ
シベンゾイル、3−カルボキシベンゾイル、4−カルボ
キシベンゾイルのようなカルボキシで置換されたC7 −
C11芳香族アシル基、4−ニトロベンゾイル、2−ニト
ロベンゾイルのようなニトロで置換されたC7 −C11芳
香族アシル基、2−(メトキシカルボニル)ベンゾイル
のようなC2 −C7 アルコキシカルボニルで置換された
C7 −C11芳香族アシル基、4−フェニルベンゾイルの
ようなC6 −C10アリ−ルで置換されたC7 −C11芳香
族アシル基等の「芳香族アシル類」;テトラヒドロピラ
ン−2−イル、3−ブロモテトラヒドロピラン−2−イ
ル、4−メトキシテトラヒドロピラン−4−イル、テト
ラヒドロチオピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒ
ドロチオピラン−4−イルのような「テトラヒドロピラ
ニル又はテトラヒドロチオピラニル類」;テトラヒドロ
フラン−2−イル、テトラヒドロチオフラン−2−イル
のような「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオ
フラニル類」;トリメチルシリル、トリエチルシリル、
イソプロピルジメチルシリル、t−ブチルジメチルシリ
ル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−t−ブチ
ルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリC1 −
C6 アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフ
ェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、
フェニルジイソプロピルシリルのようなアリ−ル及びC
1 −C6 アルキルから選択された基で3個置換されたシ
リル基等の「シリル類」;メトキシメチル、1,1−ジ
メチル−1−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポ
キシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、
t−ブトキシメチルのような(C1 −C6 アルコキシ)
メチル基、2−メトキシエトキシメチルのようなC1 −
C6 アルコキシで置換された(C1 −C6 アルコキシ)
メチル基、2,2,2−トリクロロエトキシメチル、ビ
ス(2−クロロエトキシ) メチルのようなハロゲノ(C
1 −C6アルコキシ)メチル等の「アルコキシメチル
類」;1−エトキシエチル、1−(イソプロポキシ) エ
チルのような(C1 −C6 アルコキシ)エチル基、2,
2,2−トリクロロエチルのようなハロゲン化エチル基
等の「置換エチル類」;ベンジル、α−ナフチルメチ
ル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェ
ニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、9−アン
スリルメチルのような1乃至3個のアリ−ル基で置換さ
れたC1 −C6 アルキル基、4−メチルベンジル、2,
4,6−トリメチルベンジル、3,4,5−トリメチル
ベンジル、4−メトキシベンジル、4−メトキシフェニ
ルジフェニルメチル、2−ニトロベンジル、4−ニトロ
ベンジル、4−クロロベンジル、4−ブロモベンジル、
4−シアノベンジル、メチル、ピペロニルのようなC1
−C6 アルキル、C1 −C6 アルコキシ、ハロゲン、シ
アノでアリ−ル環が置換された1乃至3個のアリ−ル基
で置換されたC1 −C6 アルキル基等の「アラルキル
類」;前記C2 −C7 アルコキシカルボニル基、2,
2,2−トリクロロエトキシカルボニル、2−トリメチ
ルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲン又はトリ
C1 −C6 アルキルシリル基で置換されたC2 −C7 ア
ルコキシカルボニル基等の「アルコキシカルボニル
類」;ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニ
ルのような「アルケニルオキシカルボニル類」;ベンジ
ルオキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシカル
ボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニ
ル、2−ニトロベンジルオキシカルボニル、4−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルのような、1乃至2個のC1
−C6 アルコキシ又はニトロでアリ−ル環が置換されて
いてもよい「アラルキルオキシカルボニル類」であり、
好適には、C1 −C7 脂肪族アシル基、C7 −C11芳香
族アシル基、C2 −C7 アルコキシカルボニル基又は
(C1 −C6 アルコキシ)メチル基であり、更に好適に
は、C7 −C11芳香族アシル基又は(C1 −C6 アルコ
キシ)メチル基であり、特に好適にはベンゾイル基又は
メトキシメチル基である。
(IV−1)乃至(IV−4)を有する基である化合物
(Ia)を製造する方法である。第A1工程は、一般式
(VII)を有する化合物を製造する工程であり、不活
性溶媒中、ホスフィン類(好適には、トリブチルホスフ
ィン又はトリフェニルホスフィンである。)及びアゾジ
カルボン酸化合物類(好適には、アゾジカルボン酸ジエ
チル又は1,1−アゾジカルボン酸ジピペリジンであ
る。)の存在下、一般式(V' )を有する化合物と一般
式(VI)を有する化合物を反応させることにより行わ
れる。
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロ
メタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル
のようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのような
アミド類;又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適に
は、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化
炭化水素類、エーテル類又は上記溶媒の混合溶媒(更に
好適には、芳香族炭化水素類又はエーテル類であり、特
に好適には、トルエン又はテトラヒドロフラン)であ
る。
なるが、通常、−20℃乃至150℃(好適には、0℃
乃至60℃)である。反応時間は、原料化合物、溶媒、
反応温度等により異なるが、通常、30分間乃至5日間
(好適には、5時間乃至72時間)である。
I)は常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、
水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目
的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫
酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナ
トリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得ら
れる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば
再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用
されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応
用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製
することができる。
合物を製造する工程であり、不活性溶媒の存在下又は非
存在下(好適には、存在下)、化合物(VII)を酸と
反応させ、R8 におけるトリフェニルメチル基を除去し
た後、所望によりR1a及びR2aにおけるアミノ基及び/
又は水酸基の保護基を除去することにより行われる。
反応において酸触媒として使用されるものであれば特に
限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩
素酸、燐酸のような無機酸;酢酸、蟻酸、蓚酸、メタン
スルホン酸、p−トルエンスルホン酸、カンファースル
ホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホ
ン酸のような有機酸等のブレンステッド酸;塩化亜鉛、
四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリ
ド、ボロントリブロミドのようなルイス酸;酸性イオン
交換樹脂;であり、好適には、無機酸又は有機酸(特に
好適には、塩酸、酢酸又はトリフルオロ酢酸)である。
は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされない
が、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
ーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類;クロロホル
ム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化
炭素のようなハロゲン化炭化水素類;酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよ
うなエステル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシ
エタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのよう
なエーテル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ
−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ
−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチ
レングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘ
キサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;
ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド
類;水;或は水又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適
には、エーテル類、アルコ−ル類又は水(特に好適に
は、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エタノール又は
水)である。
溶媒等により異なるが、通常、−20℃乃至沸点温度
(好適には、0℃乃至100℃)である。反応時間は、
原料化合物、使用される酸、溶媒、反応温度等により異
なるが、通常、15分間乃至48時間(好適には、30
分間乃至20時間)である。
乃至加圧下(好適には、加圧下)化合物(VII)に接
触還元反応を行い、R8 におけるトリフェニルメチル基
を除去した後、所望によりR1a及びR2aにおけるアミノ
基及び/又は水酸基の保護基を除去することにより、目
的化合物(Ia)を製造することもできる。上記接触還
元反応に使用される触媒は、通常の接触還元反応におい
て使用されるものであれば特に限定はされないが、例え
ば、パラジウム−炭素、ラネ−ニッケル、ロジウム−酸
化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−酸化ロジウ
ム、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム黒、酸化白
金、白金黒であり、好適には、パラジウム−炭素であ
る。
は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされない
が、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
ーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類;クロロホル
ム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化
炭素のようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエーテル類;メタノ−ル、エタ
ノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブ
タノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミ
ルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オ
クタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブの
ようなアルコ−ル類;ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリ
アミドのようなアミド類;酢酸、トリフルオロ酢酸のよ
うな有機酸類;又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適
には、エーテル類、アルコ−ル類又は有機酸類(特に好
適には、アルコ−ル類)である。
媒、溶媒等により異なるが、通常、0℃乃至100℃
(好適には、10℃乃至50℃)である。反応時間は、
原料化合物、使用される触媒、溶媒、反応温度等により
異なるが、通常、30分間乃至48時間(好適には、1
時間乃至24時間)である。
種類によって異なるが、一般に有機合成化学の技術にお
いて周知の方法、例えば、T.W.Green,(Protective Gro
upsin Organic Synthesis),John Wiley & Sons:J.F.W.
McOmis,(Protective Groups in OrganicChemistry),
Plenum Pressに記載の方法により以下のように行うこ
とができる。
には、通常、弗化テトラブチルアンモニウム、弗化水素
酸、弗化水素酸−ピリジン、弗化カリウムのような弗素
アニオンを生成する化合物で処理することにより除去さ
れる。上記反応に使用される溶媒は、反応を阻害しない
ものであれば特に限定はないが、例えば、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコール
ジメチルエーテルのようなエ−テル類が好適である。反
応温度及び反応時間は、特に限定はないが、通常、0℃
乃至50℃で10時間乃至18時間実施される。
香族アシル類、アルコキシカルボニル類又はシッフ塩基
を形成する置換されたメチレン基である場合には、水性
溶媒の存在下に、酸又は塩基で処理することにより除去
することができる。上記反応に使用される酸としては、
通常酸として使用されるもので反応を阻害しないもので
あれば特に限定はないが、例えば、臭化水素酸、塩酸、
硫酸、過塩素酸、燐酸、硝酸のような無機酸であり、好
適には塩酸である。
物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定は
ないが、好適には、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアル
カリ金属水酸化物類;リチウムメトキシド、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−t−ブ
トキシドのような金属アルコキシド類;アンモニア水、
濃アンモニア−メタノ−ルのようなアンモニア類;が用
いられる。
の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はな
いが、例えば、メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ
−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ
−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチ
レングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘ
キサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;
水;水と上記有機溶媒との混合溶媒;であり、好適には
エーテル類(特に好適にはジオキサン)である。反応温
度及び反応時間は、原料化合物、溶媒及び使用される酸
若しくは塩基等により異なり、特に限定はないが、副反
応を抑制するために、通常、0℃乃至150℃で、1 時
間乃至10時間反応させる。
ラルキルオキシカルボニル類である場合には、通常、不
活性溶媒中、還元剤と接触させることにより(好適に
は、触媒下、常温にて接触還元)除去する方法又は酸化
剤を用いて除去する方法が好適である。
ては、本反応に不活性なものであれば特に限定はない
が、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
ーテルのような脂肪族炭化水素類;トルエン、ベンゼ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル
のようなエステル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロ
パノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブ
タノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジ
エチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シク
ロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル
類;酢酸のような有機酸類;水;上記溶媒と水との混合
溶媒;であり、好適には、アルコ−ル類、エーテル類、
有機酸類又は水(特に好適には、アルコール類又は有機
酸類)である。
る触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるもの
であれば、特に限定はないが、好適には、パラジウム−
炭素、ラネ−ニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−
酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジ
ウム、パラジウム−硫酸バリウムが用いられる。圧力
は、特に限定はないが、通常1乃至10気圧で行なわれ
る。反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒
等により異なるが、通常、0℃乃至100℃で、5分間
乃至24時間実施される。
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。このような有機
溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロ
ゲン化炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル
類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類;アセトンのようなケトン類;ホルムアミド、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
リン酸トリアミドのようなアミド類;及びジメチルスル
ホキシドのようなスルホキシド類;スルホラン;であ
り、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エ−テル類又は
スルホキシド類(特に好適には、ハロゲン化炭化水素類
又はスルホキシド類)である。
れる化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫
酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウム
ナイトレイト(CAN)、2,3−ジクロロ−5,6−
ジシアノ−p−ベンゾキノン(DDQ)が用いられる。
反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等に
より異なるが、通常、0℃乃至150℃で、10分間乃
至24時間実施される。
ボニル類である場合は、通常、アミノ基の保護基が前記
の脂肪族アシル類、芳香族アシル類、アルコキシカルボ
ニル類又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基
である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理
することにより行われる。尚、アリルオキシカルボニル
基の場合は、特に、パラジウム、及びトリフェニルホス
フィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除
去する方法が簡便で、副反応が少なく実施することがで
きる。
た場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウム、弗
化水素酸、弗化水素酸−ピリジン、弗化カリウムのよう
な弗素アニオンを生成する化合物で処理するか、又は、
塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような無機
酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、p−トル
エンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ
酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸で
処理することにより除去できる。尚、弗素アニオンによ
り除去する場合に、蟻酸、酢酸、プロピオン酸のような
有機酸を加えることによって、反応が促進することがあ
る。
は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされない
が、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのよ
うなニトリル類;酢酸のような有機酸;水;上記溶媒の
混合溶媒;である。反応温度及び反応時間は、原料化合
物、触媒、溶媒等により異なるが、通常、0℃乃至10
0℃(好適には、10℃乃至50℃)で、1時間乃至2
4時間実施される。
ルキルオキシカルボニル類である場合には、通常、不活
性溶媒中、還元剤と接触させることにより(好適には、
触媒下、常温にて接触還元)除去する方法又は酸化剤を
用いて除去する方法が好適である。接触還元による除去
に使用される溶媒としては、本反応に関与しないもので
あれば特に限定はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロ
イン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;トルエ
ン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢
酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;ジエチル
エ−テル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエ−テル類;メタノ−
ル、エタノ−ル、n−プロパノール、イソプロパノ−
ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グ
リセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチル
セロソルブのようなアルコ−ル類;ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチル
−2−ピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミドのよ
うなアミド類;蟻酸、酢酸のような脂肪酸類;水;上記
溶媒の混合溶媒;であり、好適にはアルコ−ル類(特に
好適にはメタノール)である。
ては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、
特に限定はないが、例えば、パラジウム−炭素、パラジ
ウム−黒、ラネ−ニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウ
ム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化
ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムであり、好適には
パラジウム−炭素である。圧力は、特に限定はないが、
通常1乃至10気圧で行なわれる。反応温度及び反応時
間は、原料化合物、触媒、溶媒等により異なるが、通
常、0℃乃至100℃(好適には、20℃乃至70
℃)、5分間乃至48時間(好適には、1時間乃至24
時間)である。
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。このような有機
溶媒として好適には、アセトンのようなケトン類、メチ
レンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロ
ゲン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル
類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのよう
なアミド類及びジメチルスルホキシドのようなスルホキ
シド類を挙げることができる。
れる化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫
酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウム
ナイトレイト(CAN)、2,3−ジクロロ−5,6−
ジシアノ−p−ベンゾキノン(DDQ)が用いられる。
反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等に
より異なるが、通常、0℃乃至150℃で、10分間乃
至24時間実施される。
ル、エタノ−ル、n−プロプアノール、イソプロパノ−
ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グ
リセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチル
セロソルブのようなアルコ−ル類中において、−78℃
乃至0℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのようなア
ルカリ金属類を作用させることによっても除去できる。
トリウム又はトリメチルシリルイオダイドのようなアル
キルシリルハライド類を用いて除去することができる。
使用される溶媒としては、本反応に関与しないものであ
れば特に限定はないが、好適には、メチレンクロリド、
クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素
類;アセトニトリルのようなニトリル類;上記溶媒の混
合溶媒;が挙げられる。反応温度及び反応時間は、原料
化合物、溶媒等により異なるが、通常は0℃乃至50℃
で、5分間乃至72時間実施される。尚、反応基質が硫
黄原子を有する場合は、好適には、塩化アルミニウム−
沃化ナトリウムが用いられる。
族アシル類又はアルコキシカルボニル基類である場合に
は、溶媒中、塩基で処理することにより除去される。上
記反応において使用される塩基としては、化合物の他の
部分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、
例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
のようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素リチウム、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ
金属重炭酸塩類;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類;リチ
ウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウム−t−ブトキシドのような金属アル
コキシド類;アンモニア水、濃アンモニア−メタノ−ル
のようなアンモニア類;であり、好適には、アルカリ金
属水酸化物類、金属アルコキシド類又はアンモニア類
(特に好適には、アルカリ金属水酸化物類又は金属アル
コキシド類)である。
反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノール、イソ
プロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−
ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;水;上記
溶媒の混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間
は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なり
特に限定はないが、副反応を抑制するために、通常、−
20℃乃至150℃で、1時間乃至10時間実施され
る。
テトラヒドロピラニル類、テトラヒドロチオピラニル
類、テトラヒドロフラニル類、テトラヒドロチオフラニ
ル類又は置換されたエチル類である場合には、通常、溶
媒中、酸で処理することにより除去される。使用される
酸としては、通常、ブレンステッド酸又はルイス酸とし
て使用されるものであれば特に限定はなく、好適には、
塩化水素;塩酸、硫酸、硝酸のような無機酸;又は酢
酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、p−トルエ
ンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸:三
弗化ホウ素のようなルイス酸であるが、ダウエックス5
0Wのような強酸性の陽イオン交換樹脂も使用すること
ができる。
応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、
ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのよう
な脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸
エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸
ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ−テル、ジイ
ソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテルのようなエ−テル類;メタノ−ル、エタノ−
ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ
−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルア
ルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタ
ノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのよう
なアルコ−ル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンの
ようなケトン類;水;上記溶媒の混合溶媒;であり、好
適には、エ−テル類(特に好適には、テトラヒドロフラ
ン)又はアルコール類(特に好適には、メタノール)で
ある。反応温度及び反応時間は、原料化合物、使用され
る酸、溶媒等により異なるが、通常、−10℃乃至20
0℃(好適には、0乃至150℃)で、5分間乃至48
時間(好適には、30分間乃至10時間)である。
ボニル類である場合は、通常、水酸基の保護基が前記の
脂肪族アシル類、芳香族アシル類又はアルコキシカルボ
ニル類である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基
と処理することにより達成される。尚、アリルオキシカ
ルボニル基の場合は、特にパラジウム、及びトリフェニ
ルホスフィン、又はビス(メチルジフェニルホスフィ
ン)(1,5−シクロオクタジエン)イリジウム(I)
・ヘキサフルオロホスフェートを使用して除去する方法
が簡便で、副反応が少なく実施することができる。
を接触させる反応又は化合物(VII)に接触還元反応
を行うことにより、アミノ基及び/又は水酸基の保護基
が同時に除去されることもある。また、アミノ基及び/
又は水酸基の保護基の除去は、順不同で希望する除去反
応を順次実施することができる。
は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、
反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合に
は濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和
しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離
し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナ
トリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有
機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合
せ、クロマトグラフィーを応用し適切な溶離剤で溶出す
ることによって分離、精製することができる。
びBは、前述したものと同意義を示し、Xは、前記ハロ
ゲン原子を示し、Yは、酸素原子又は硫黄原子を示す。
式(IV−2)又は(IV−3)を有する基である化合
物(Ib)或は式(IV−1)を有する基である化合物
(Ic)を製造する工程である。第B1工程は、一般式
(IX)を有する化合物を製造する工程であり、不活性
溶媒の存在下又は非存在下(好適には存在下)、化合物
(V)と塩基を反応させた後、一般式(VIII)を有
する化合物と反応させることにより行われる。
酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸
塩類;水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムのようなアルカリ金属水素化物類;水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカ
リ金属水酸化物類;リチウムメトキシド、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキ
シドのようなアルカリ金属アルコキシド類;トリエチル
アミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4−(N,N−
ジメチルアミノ)ピリジン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジエチルアニリン、1,5−ジアザビシク
ロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,4−ジアザビシ
クロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、1,8−
ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DB
U)のような有機アミン類;であり、好適にはアルカリ
金属水素化物類(特に好適には水素化ナトリウム)であ
る。
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテルのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド
のようなアミド類;又は上記溶媒の混合溶媒;であり、
好適には、アミド類(特に好適にはジメチルホルムアミ
ド)である。
温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異
なるが、通常、−50℃乃至200℃(好適には、0℃
乃至120℃)である。化合物(V)と塩基を反応させ
る際の反応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶
媒、反応温度等により異なるが、通常、15分間乃至2
4時間(好適には、1時間分乃至10時間)である。化
合物(V)と化合物(VIII)を反応させる際の反応
温度は、通常、−20℃乃至200℃(好適には、0℃
乃至150℃)である。化合物(V)と化合物(VII
I)を反応させる際の反応時間は、通常、30分間乃至
48時間(好適には、1時間乃至24時間)である。
は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、
反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合に
は濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和
しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離
し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナ
トリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有
機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合
せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出
することによって分離、精製することができる。
合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、酢酸ナトリ
ウム、ピペリジニウムアセテート、ピペリジニウムベン
ゾエートのような触媒の存在下又は非存在下(好適には
存在下)、化合物(IX)と一般式(X)を有する化合
物を反応させることにより行われる。
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロ
メタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル
類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソ
プロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−
ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;
又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には、アミド類
(特に好適には、ジメチルホルムアミド又はジメチルア
セトアミド)である。
媒、溶媒等により異なるが、通常、0℃乃至200℃
(好適には、10℃乃至150℃)である。反応時間
は、原料化合物、使用される触媒、溶媒、反応温度等に
より異なるが、通常、1時間乃至50時間(好適には、
2時間乃至24時間)である。
は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、
反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合に
は濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和
しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離
し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナ
トリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有
機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合
せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出
することによって分離、精製することができる。
合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(X
I)に接触還元反応を行った後、所望によりR1a及びR
2aにおけるアミノ基及び/又は水酸基の保護基を除去す
ることにより行われる。接触還元反応及び所望によりア
ミノ基及び/又は水酸基の保護基を除去する反応は、前
記A法第A2工程と同様に行われる。また、本工程は、
化合物(XI)と金属水素化物を反応させた後、所望に
よりR1a及びR2aにおけるアミノ基及び/又は水酸基の
保護基を除去することによっても行われる。化合物(X
I)と金属水素化物を反応させる方法は、WO93/1
309Aに開示された方法に準じて行うことができる。
合物を製造する工程であり、化合物(XI)において、
Yが硫黄原子である化合物(XIa)のR1a及びR2aに
おけるアミノ基及び/又は水酸基の保護基を除去するこ
とにより行われ、本工程は、前記A法第A2工程のアミ
ノ基及び/又は水酸基の保護基を除去する方法と同様に
行われる。
びBは、前述したものと同意義を示す。
(IV−4)を有する基である化合物(Id)又は式
(IV−5)を有する基である化合物(Ie)を製造す
る方法である。第C1工程は、一般式(XII)を有す
る化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物
(IX)とヒドロキシルアミン(塩酸塩)と反応させた
後、還元剤と接触させることにより行われる。
酸塩)を反応させる際に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロ
メタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル
類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソ
プロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−
ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;
水;又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には、アル
コール類との混合溶媒(特に好適には、メタノール又は
エタノール)である。
酸塩)を反応させる際の反応温度は、原料化合物、使用
される触媒、溶媒等により異なるが、通常、−20℃乃
至200℃(好適には、10℃乃至120℃)である。
化合物(IX)とヒドロキシルアミン(塩酸塩)を反応
させる際の反応時間は、原料化合物、使用される触媒、
溶媒、反応温度等により異なるが、通常、1時間乃至5
0時間(好適には、2時間乃至24時間)である。
例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウ
ム、水素化シアノホウ素ナトリウムのような水素化ホウ
素アルカリ金属、水素化ジイソブチルアルミニウム、水
素化アルミニウムリチウム、水素化リチウムトリエトキ
シドアルミニウムのような水素化アルミニウム化合物で
あり、好適には水素化ホウ素アルカリ金属類(特に好適
には水素化ホウ素ナトリウム)である。
に使用される溶媒は、本反応に不活性なものであれば特
に限定はされないが、好適には、化合物(IX)とヒド
ロキシルアミン(塩酸塩)と反応させる際に使用される
溶媒と同様である。後段の反応において還元剤と接触さ
せる際の反応温度は、原料化合物、使用される還元剤、
溶媒等により異なるが、通常、−50℃乃至200℃
(好適には、0℃乃至120℃)である。後段の反応に
おいて還元剤と接触させる際の反応時間は、原料化合
物、使用される還元剤、溶媒、反応温度等により異なる
が、通常、15分乃至24時間(好適には、1時間乃至
12時間)である。
I)は常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場
合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を
分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫
酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶
剤を留去することによって得られる。得られた目的化合
物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通
常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜
組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で
溶出することによって分離、精製することができる。
る化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物
(XII)とトリメチルシリルイソシアネートを反応さ
せることにより行われる。上記反応に使用される不活性
溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされ
ないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石
油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素類;クロロホル
ム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化
炭素のようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエーテル類;ホルムアミド、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミドのようなアミド類;又は上記溶媒
の混合溶媒;であり、好適には、芳香族炭化水素類、エ
ーテル類又はアミド類(特に好適には、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン又はジメチルホルムアミド)で
ある。
なるが、通常、−50℃乃至200℃(好適には、0℃
乃至120℃)である。反応時間は、原料化合物、溶
媒、反応温度等により異なるが、通常、15分間乃至4
8時間(好適には、1時間乃至24時間)である。
I)は常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場
合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を
分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫
酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶
剤を留去することによって得られる。得られた目的化合
物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通
常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜
組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で
溶出することによって分離、精製することができる。
合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(X
III)とカルボニル化剤を反応させた後、所望により
R1a及びR2aにおけるアミノ基及び/又は水酸基の保護
基を除去することにより行われる。上記反応に使用され
るカルボニル化剤は、通常、カルボニル化反応に使用さ
れるものであれば特に限定はないが、例えば、ホスゲ
ン、ジホスゲン、トリホスゲン、1,1' −カルボニル
ジイミダゾールである。
応させる際に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性
なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロメタン、
1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン
化炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;アセ
トニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;
ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド
類;又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には、芳香
族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類又は
アミド類(特に好適には、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン又はジメチルホルムアミド)である。
応させる際の反応温度は、原料化合物、溶媒等により異
なるが、通常、−50℃乃至200℃(好適には、0℃
乃至120℃)である。化合物(XIII)とカルボニ
ル化剤を反応させる際の反応時間は、原料化合物、溶
媒、反応温度等により異なるが、通常、15分間乃至5
0時間(好適には、1時間乃至24時間)である。所望
によりR1a及びR2aにおけるアミノ基及び/又は水酸基
の保護基を除去する方法は、前記A法第A2工程のアミ
ノ基及び/又は水酸基の保護基を除去する方法と同様に
行われる。
は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、
反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合に
は濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和
しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離
し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナ
トリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有
機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合
せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出
することによって分離、精製することができる。
合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(X
III)のR1a及びR2aにおけるアミノ基及び/又は水
酸基の保護基を除去することにより行われ、本工程は前
記A法第A2工程のアミノ基及び/又は水酸基の保護基
を除去する方法と同様に行われる。
合物を別途製造する工程であり、不活性溶媒の存在下又
は非存在下(好適には、存在下)、化合物(XII)を
N−(クロロカルボニル)イソシアネートと反応させた
後、所望によりR1a及びR2aにおけるアミノ基及び/又
は水酸基の保護基を除去することにより行われる。
ル)イソシアネートと反応させる際に使用される不活性
溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされ
ないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石
油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素類;クロロホル
ム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化
炭素のようなハロゲン化炭化水素類;酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよ
うなエステル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシ
エタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのよう
なエーテル類;アセトニトリル、イソブチロニトリルの
ようなニトリル類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリア
ミドのようなアミド類;又は上記溶媒の混合溶媒;であ
り、好適には、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素
類、エーテル類又はアミド類(特に好適には、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン又はジメチルホルムアミド)で
ある。
なるが、通常、−50℃乃至100℃(好適には、−2
0℃乃至50℃)である。反応時間は、原料化合物、溶
媒、反応温度等により異なるが、通常、15分間乃至5
0時間(好適には、1時間乃至24時間)である。所望
によりR1a及びR2aにおけるアミノ基及び/又は水酸基
の保護基を除去する方法は、前記A法第A2工程のアミ
ノ基及び/又は水酸基の保護基を除去する方法と同様に
行われる。
は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、
反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合に
は濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和
しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離
し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナ
トリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有
機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合
せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出
することによって分離、精製することができる。
6 、A、B、D、E及びYは、前述したものと同意義を
示し、R4aは、R4 の基の定義に含まれるアミノ基及び
/又は水酸基が、保護されていてもよいアミノ基及び/
又は水酸基である他、R4 の基の定義における基と同様
の基を示し、R5aは、R5 の基の定義に含まれるアミノ
基及び/又は水酸基が、保護されていてもよいアミノ基
及び/又は水酸基である他、R5 の基の定義における基
と同様の基を示し、R7 は、ホルミル基、カルボキシ基
又はC2 −C7 アルコキシカルボニル基を示し、Boc
はt−ブトキシカルボニル基を示す。
般式(II)を有する基であり、R3が式(IV−2)
又は(IV−3)を有する基である化合物(Ifa)或
はR1が一般式(III)を有する基であり、R3 が式
(IV−2)又は(IV−3)を有する基である化合物
(Ifb)を製造する方法である。第D1工程は、一般
式(Ifa)を有する化合物を製造する工程であり、一
般式(XIV)を有する化合物と一般式(XVa)を有
する化合物を反応させた後、所望によりR2a、R4a及び
R5aにおけるアミノ基及び/又は水酸基の保護基を除去
することにより行われる。
基である場合、不活性溶媒中、化合物(XIV)と化合
物(XVa)を反応させた後、アミノ基の保護基である
t−ブトキシカルボニル基を酸を用いて除去して閉環さ
せ、更に酸化剤と反応させることにより行われる。
物(XVa)を反応させた後、アミノ基の保護基である
t−ブトキシカルボニル基を酸を用いて除去して閉環さ
せることによって得られる中間体を単離精製した後、酸
化剤と接触させることによっても行うことができる。
応させる際に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性
なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキ
シエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのよ
うなエーテル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパ
ノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタ
ノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエ
チレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロ
ヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル
類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなア
ミド類;酢酸、プロピオン酸のような酸類;ジメチルス
ルホキシドのようなスルホキシド類;スルホラン;又は
上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には、エーテル類
(特に好適にはテトラヒドロフラン)である。
応させる際の反応温度は、原料化合物、使用される塩
基、溶媒等により異なるが、通常、0℃乃至200℃
(好適には、10℃乃至120℃)である。化合物(X
IV)と化合物(XVa)を反応させる際の反応時間
は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等に
より異なるが、通常、1時間乃至50時間(好適には、
5時間乃至24時間)である。酸を用いてアミノ基の保
護基であるt−ブトキシカルボニル基を除去する方法
は、前記A法第A2工程のアミノ基の保護基がアルコキ
シカルボキシ類である場合の酸を用いて除去する方法と
同様に行われる。
常、酸化反応に使用されるものであれば特に限定はない
が、例えば、過マンガン酸カリウム、二酸化マンガンの
ような酸化マンガン類;四酸化ルテニウムのような酸化
ルテニウム類;二酸化ゼレンのようなゼレン化合物;塩
化鉄のような鉄化合物;四酸化オスミウム、オスミン酸
カリウム・二水和物(K2OsO4・2H2O) のようなオスミウム
化合物;酸化銀のような銀化合物;酢酸水銀のような水
銀化合物;酸化鉛、四酢酸鉛のような酸化鉛化合物;ク
ロム酸カリウム、クロム酸−硫酸錯体、クロム酸−ピリ
ジン錯体のようなクロム酸化合物、アンモニウムセリウ
ムナイトレイト(CAN)のようなセリウム化合物等の
無機金属酸化剤;塩素分子、臭素分子、沃素分子のよう
なハロゲン分子;過沃素酸ナトリウムのような過沃素酸
類;オゾン;過酸化水素水;亜硝酸のような亜硝酸化合
物;亜塩素酸カリウム、亜塩素酸ナトリウムのような亜
塩素酸化合物;過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムのよ
うな過硫酸化合物等の無機酸化剤;DMSO酸化に使用
される試薬類(ジメチルスルホキシドとジシクロヘキシ
ルカルボジイミド、オキザリルクロリド、無水酢酸若し
くは五酸化燐との錯体又はピリジン−無水硫酸の錯
体);t−ブチルヒドロパーオキシドのようなパーオキ
シド類とバナジウム又はモリブデン錯体との組合せ;ト
リフェニルメチルカチオンのような安定なカチオン類;
N−ブロモコハク酸イミドのようなコハク酸イミド類と
アルカリの組合せ;ジメチルジオキシランのようなオキ
シラン類;次亜塩素酸t−ブチルのような次亜塩素酸化
合物;アゾジカルボン酸エステルのようなアゾジカルボ
ン酸化合物;m−クロロ過安息香酸、過フタル酸のよう
な過酸類;ジメチルジスルフィド、ジフェニルジスルフ
ィド、ジピリジルジスルフィドのようなジスルフィド類
とトリフェニルホスフィン;亜硝酸メチルのような亜硝
酸エステル類;四臭化メタンのようなテトラハロゲン化
炭素、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ベン
ゾキノン(DDQ)のようなキノン化合物等の有機酸化
剤;であり、好適には、ハロゲン分子(特に好適には沃
素分子)である。
は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされない
が、好適には、化合物(XIV)と化合物(XVa)を
反応させる際に使用される溶媒である。酸化剤と接触さ
せる際の反応温度及び反応時間は、化合物(XIV)と
化合物(XVa)を反応させる際の反応温度及び反応時
間と同様である。
シ基である場合、不活性溶媒中、一般式(XIV)を有
する化合物またはその反応性誘導体(酸ハライド類、活
性エステル類または混合酸無水物類)と一般式(XV
a)を有する化合物またはその酸付加塩(例えば、塩酸
塩、硝酸塩、硫酸塩のような鉱酸塩)を反応させた後、
アミノ基の保護基であるt−ブトキシカルボニル基を酸
を用いて除去し、閉環させることにより行われる。
ド化合物を単離精製した後、上記反応と同様にアミノ基
の保護基であるt−ブトキシカルボニル基を酸を用いて
除去し、次いで閉環させることによっても行われる。
(XIV)をハロゲン化剤(例えば、塩化チオニル、臭
化チオニル、シュウ酸クロリド、シュウ酸ジクロリド、
オキシ塩化リン、三塩化リン、五塩化リン等)と反応さ
せ、酸ハライド類を製造し、その酸ハライド類と化合物
(XVa)またはその酸付加塩を、不活性溶媒中、塩基
の存在下又は非存在下(好適には存在下)、反応させる
ことにより行われる。
酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸
塩類;水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムのようなアルカリ金属水素化物類;水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカ
リ金属水酸化物類;リチウムメトキシド、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキ
シドのようなアルカリ金属アルコキシド類;トリエチル
アミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4−(N,N−
ジメチルアミノ)ピリジン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジエチルアニリン、1,5−ジアザビシク
ロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,4−ジアザビシ
クロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、1,8−
ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DB
U)のような有機アミン類であり、好適には、有機アミ
ン類(特に好適には、トリエチルアミン)である。
応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、
ヘキサン、ヘプタン、リグロインまたは石油エ−テルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;ジクロロメタン、クロロ
ホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル
のようなエーテル類;アセトンのようなケトン類;ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;
ジメチルスルホキシドようなスルホキシド類;スルホラ
ン;であり、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エーテ
ル類又はアミド類(特に好適には、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、テトラヒドロフラン又はジメチルホルムア
ミド)である。
なるが、ハロゲン化剤と化合物(XIV)の反応および
酸ハライド類と化合物(XVa)またはその酸付加塩と
の反応とも、通常、−20℃乃至150℃であり、好適
には、ハロゲン化剤と化合物(XIV)との反応は−1
0℃乃至100℃であり、酸ハライド類と化合物(XV
a)またはその酸付加塩との反応は−20℃乃至100
℃である。反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度等
により異なるが、ハロゲン化剤と化合物(XIV)の反
応および酸ハライド類と化合物(XVa)またはその酸
付加塩との反応とも、通常、30分間乃至80時間(好
適には、1時間乃至48時間)である。
(XIV)と活性エステル化剤を反応させ、活性エステ
ル類を製造した後、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非
存在下(好適には存在下)、化合物(XVa)またはそ
の酸付加塩と反応させることによって行われる。
は、例えば、N−ヒドロキシサクシンイミド、1−ヒド
ロキシベンゾトリアゾール、N−ヒドロキシ−5−ノル
ボルネン−2,3−ジカルボキシイミドのようなN−ヒ
ドロキシ化合物;ジピリジルジスルフィドのようなジス
ルフィド化合物;ジシクロヘキシルカルボジイミドのよ
うなカルボジイミド;カルボニルジイミダゾール;トリ
フェニルホスフィン;のような縮合剤の存在下に好適に
行われる。
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロインまたは石油エ−テ
ルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;ジクロロメタン、
1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン
化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エーテル類;アセトンのようなケトン類;ホルムアミ
ド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;ジメチ
ルスルホキシドのようなスルホキシド類;スルホラン;
であり、好適には、エーテル類又はアミド類(特に好適
には、ジオキサン、テトラヒドロフラン又はジメチルホ
ルムアミド)である。
記酸ハライド法において使用されるものと同様の塩基を
挙げることができる。反応温度は、原料化合物、試薬等
により異なるが、通常、活性エステル化反応では、−7
0℃乃至150℃(好適には、−10℃乃至100℃)
であり、活性エステル類と化合物(XVa)またはその
酸付加塩との反応では、−20℃乃至100℃(好適に
は、0℃乃至50℃)である。反応時間は、原料化合
物、試薬、反応温度等により異なるが、活性エステル化
反応及び活性エステル類と化合物(XVa)またはその
酸付加塩との反応ともに、通常、30分間乃至80時間
(好適には、1時間乃至48時間)である。
在下または非存在下(好適には、存在下)、化合物(X
IV)と混合酸無水物化剤を反応させ、混合酸無水物類
を製造した後、不活性溶媒中、混合酸無水物類と化合物
(XVa)またはその酸付加塩を反応させることにより
行われる。上記反応に使用される塩基は、例えば、炭酸
リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアル
カリ金属炭酸塩類;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩
類;水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムのようなアルカリ金属水素化物類;水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金
属水酸化物類;リチウムメトキシド、ナトリウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド
のようなアルカリ金属アルコキシド類;トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
N−メチルモルホリン、ピリジン、4−(N,N−ジメ
チルアミノ)ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、
N,N−ジエチルアニリン、1,5−ジアザビシクロ
[4.3.0]ノナ−5−エン、1,4−ジアザビシク
ロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、1,8−ジ
アザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DB
U)のような有機アミン類であり、好適には有機アミン
類(特に好適には、トリエチルアミン)である。
は、例えば、クロル炭酸エチル、クロル炭酸イソブチル
のような炭酸C1 −C4 アルキルハライド;ピバロイル
クロリドのようなC1 −C5 アルカノイルハライド;シ
アノホスホン酸ジエチル、シアノホスホン酸ジフェニル
のようなジC1 −C4 アルキル若しくはジC6 −C14ア
リールシアノリン酸であり、好適には、ジC1 −C4 ア
ルキル若しくはジC6 −C14アリールシアノリン酸(特
に好適には、シアノホスホン酸ジエチル)である。
不活性溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶
解する物であれば特に限定はないが、例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロインまたは石油エ−テルのような
脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな芳香族炭化水素類;ジクロロメタン、1,2−ジク
ロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素
類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル
類;アセトンのようなケトン類;ホルムアミド、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
リン酸トリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキ
シドのようなスルホキシド類;スルホラン;であり、好
適には、エーテル類又はアミド類(特に好適には、テト
ラヒドロフラン又はジメチルホルムアミド)である。
応温度は、原料化合物、試薬等により異なるが、通常、
−50℃乃至100℃(好適には、0℃乃至60℃)で
ある。
応時間は、原料化合物、試薬、反応温度等により異なる
が、通常、30分間乃至72時間(好適には、1時間乃
至24時間)である。
その酸付加塩との反応は、不活性溶媒中、塩基の存在下
または非存在下(好適には、存在下)で行われ、使用さ
れる塩基および不活性溶媒は、前述された混合酸無水物
類を製造する反応において使用されるものと同様であ
る。混合酸無水物類と化合物(XVa)またはその酸付
加塩の反応に於ける反応温度は、原料化合物、試薬等に
より異なるが、通常、−30℃乃至100℃(好適に
は、0℃乃至80℃)である。混合酸無水物類と化合物
(XVa)またはその酸付加塩の反応に於ける反応時間
は、原料化合物、試薬、反応温度等により異なるが、通
常、5分間乃至24時間(好適には、30分間乃至16
時間)である。また、本反応において、ジC1 −C4 ア
ルキルシアノリン酸またはジC6 −C14アリールシアノ
リン酸を使用する場合には、塩基の存在下、化合物(X
IV)と化合物(XVa)を直接反応させることもでき
る。
トキシカルボニル基を除去し閉環させる方法は、前記A
法第A2工程のアミノ基の保護基がアルコキシカルボキ
シ類である場合の酸を用いて除去する方法と同様に行わ
れる。
7 アルコキシカルボニル基である場合、不活性溶媒の存
在下又は非存在下(好適には非存在下)、塩基の存在下
又は非存在下、化合物(XIV)と化合物(XVa)を
反応させた後、酸を用いてアミノ基の保護基であるt−
ブトキシカルボニル基を除去し、閉環させることにより
行われる。
ド化合物を単離精製した後、上記反応と同様にアミノ基
の保護基であるt−ブトキシカルボニル基を酸を用いて
除去し、次いで閉環させることによっても行われる。
応させる反応において使用される塩基は、例えば、炭酸
リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアル
カリ金属炭酸塩類;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩
類;水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムのようなアルカリ金属水素化物類;水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金
属水酸化物類;リチウムメトキシド、ナトリウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド
のようなアルカリ金属アルコキシド類;トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
N−メチルモルホリン、ピリジン、4−(N,N−ジメ
チルアミノ)ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、
N,N−ジエチルアニリン、1,5−ジアザビシクロ
[4.3.0]ノナ−5−エン、1,4−ジアザビシク
ロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、1,8−ジ
アザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DB
U)のような有機アミン類であり、好適には有機アミン
類(特に好適にはトリエチルアミン)である。
応させる反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活
性なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキ
サン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂
肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのよう
な芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロ
パノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブ
タノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジ
エチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シク
ロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル
類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなア
ミド類;又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には、
エーテル類又はアミド類(特に好適には、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン又はジメチルホルムアミド)であ
る。
基、溶媒等により異なるが、通常、0℃乃至200℃
(好適には、50℃乃至150℃)である。反応時間
は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等に
より異なるが、通常、1時間乃至50時間(好適には、
5時間乃至24時間)である。酸を用いてアミノ基の保
護基であるt−ブトキシカルボニル基を除去し閉環させ
る方法は、前記A法第A2工程のアミノ基の保護基がア
ルコキシカルボキシ類である場合の酸を用いて除去する
方法と同様に行われる。
ミノ基及び/又は水酸基の保護基を除去する方法は、前
記A法第A2工程のアミノ基及び/又は水酸基の保護基
を除去する方法と同様に行われる。
a)は常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場
合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を
分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫
酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶
剤を留去することによって得られる。得られた目的化合
物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通
常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜
組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で
溶出することによって分離、精製することができる。
化合物を製造する工程であり、前記D法第D1工程と同
様に行われ、一般式(XIV)を有する化合物と一般式
(XVb)を有する化合物を反応させた後、所望により
R2a、R4a及びR5aにおけるアミノ基及び/又は水酸基
の保護基を除去することにより行われる工程である。
り得られた化合物(Ia)、(Ib)、(Ic)、(I
d)、(Ie)、(Ifa)及び(Ifb)のR4 がア
ミノ基で置換されたフェニル基又はピリジル基である場
合、更に所望によりアミノ基に、アルキル化、アリール
化、アラルキル化又はアシル化を行うことができる。こ
れらの反応は、公知か、公知の方法又はそれに類似した
方法に従って容易に製造される[The Chemistry of the
Amino Group, chapter6, 1968,John Wiley &Sons 、T
he Chemistry of the Amino Group, chapter2, 1970,J
ohn Wiley &Sons 等。]。
(VIII)、(X)、(XIV)、(XVa)及び
(XVb)は、公知か、公知の方法又はそれに類似した
方法に従って容易に製造される。
V)、(XVa)及び(XVb)は、例えば、以下の方
法によっても製造できる。
B、D、E及びBocは前述したものと同意義を示す。
造する工程である。第E1工程は、化合物(Va)を製
造する工程であり、一般式(XVI)を有する化合物と
化合物(XVa)を反応させ、酸を用いてアミノ基の保
護基であるt−ブトキシカルボニル基を除去し、閉環さ
せることにより行われる。本工程は、前記D法第D1工
程において、化合物(XIV)と化合物(XVa)を反
応させ、酸を用いてアミノ基の保護基であるt−ブトキ
シカルボニル基を除去し、閉環させる方法と同様に行わ
れる。特に、化合物(XVa)においてEが窒素原子で
ある場合、閉環させる方法において、好適には化合物
(XVI)を大過剰に用いて溶媒の非存在下に行われ
る。
工程であり、化合物(XVI)と化合物(XVb)を反
応させ、酸を用いてアミノ基の保護基であるt−ブトキ
シカルボニル基を除去することにより行われる。本工程
は、前記D法第D1工程において、R7 がカルボキシ基
である場合の化合物(XIV)と化合物(XVa)を反
応させ、酸を用いてアミノ基の保護基であるt−ブトキ
シカルボニル基を除去する方法と同様に行われる。閉環
させる方法においても前記D法第D1工程と同様に行わ
れるが、化合物(XVa)においてEが窒素原子である
場合、好適には化合物(XVI)を大過剰に用いて溶媒
の非存在下に行われる。
及び(Vb)は常法に従って、反応混合物から採取され
る。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存
在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチル
のような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む
有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で
乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得られ
た目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈
殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方
法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な
溶離剤で溶出することによって分離、精製することがで
きる。
及びYは前述したものと同意義を示し、R7aは、R7 の
基の定義に含まれるホルミル基又はカルボキシ基が、保
護されてもよいホルミル基又はカルボキシ基である他、
R7 の定義における基と同様の基を示す。
ル基」の「保護基」は、有機合成化学の分野で使用され
るホルミル基の保護基であれば特に限定はされないが、
例えば、ジメトキシメチル、ジエトキシメチル、ジプロ
ポキシメチル、ジブトキシメチルのような前記C1 −C
6 アルコキシで置換されたメチル基、1,3−ジオキサ
ン−2−イル、1、3−ジオキソラン−2−イル、1,
3−ジチアン−2−イル、1,3−ジチオラン−2−イ
ルであり、好適には、ジメトキシメチル、ジエトキシメ
チル、1、3−ジオキソラン−2−イル又は1,3−ジ
チアン−2−イルである。
キシ基」の「保護基」は、有機合成化学の分野で使用さ
れるカルボキシ基の保護基であれば特に限定はされない
が、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、s−ブチル、t−ブチルのようなC1 −C
6 アルキル基、ベンジル、フェネチル、3−フェニルプ
ロピル、1−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリ
フェニルメチル、4−メチルベンジル、4−メトキシベ
ンジル、4−ニトロベンジル、4−フルオロベンジル、
4−シアノベンジルのようなC1 −C6 アルキル、C1
−C6 アルコキシ、ニトロ、ハロゲン若しくはシアノで
置換されてもよい1乃至3個のC6 −C10アリールで置
換されたC1 −C6 アルキル基であり、好適には、C1
−C6 アルキル基又はベンジル基である。
である。第F1工程は、化合物(XIV)を製造する工
程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般式(XV
II)を有する化合物を一般式(XVIII)を有する
化合物と反応させた後、R7aにおけるホルミル基又はカ
ルボキシ基が保護されたホルミル基又はカルボキシ基で
ある場合、その保護基を除去することにより行われる。
式(XVIII)を有する化合物と反応させる際に使用
される塩基は、前記B法第B1工程で使用されるものと
同様であり、好適にはアルカリ金属水素化物(特に好適
には水素化ナトリウム)である。一般式(XVII)を
有する化合物を一般式(XVIII)を有する化合物と
反応させる際に使用される溶媒は、前記B法第B1工程
で使用されるものと同様であり、好適には、アミド類又
はアミド類と他の混合溶媒(特に好適にはジメチルホル
ムアミド)である。一般式(XVII)を有する化合物
を一般式(XVIII)を有する化合物と反応させる際
の反応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等に
より異なるが、通常、−50℃乃至200℃(好適に
は、0℃乃至120℃)である。一般式(XVII)を
有する化合物を一般式(XVIII)を有する化合物と
反応させる際の反応時間は、原料化合物、使用される塩
基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、30分間
乃至24時間(好適には、1時間乃至10時間)であ
る。
保護基の除去はその種類によって異なるが、一般に有機
合成化学の技術において周知の方法、例えば、T.W.Gree
n,(Protective Groups in Organic Synthesis), John
Wiley & Sons; J.F.W.Mcomie,(Protective Groups in
Organic Synthesis), Plenum Pressに準じて行うこと
ができる。
(XVIII)のR7aがカルボキシ基である化合物は、
R7 又はR7aが、ホルミル基、保護されたホルミル基で
ある化合物から、常法に従って容易に製造することがで
きる。反応終了後、本反応の目的化合物(XIV)は常
法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応
混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾
過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しな
い有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離し、
水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリ
ウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去
することによって得られる。得られた目的化合物は必要
ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化
合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合せ、ク
ロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出するこ
とによって分離、精製することができる。
及びYは前述したものと同意義を示し、R9 は、カルボ
キシ基の保護基(前述したものと同意義を示す。)を示
す。
製造する方法である。第G1工程は、一般式(XXI)
を有する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、
塩基の存在下、一般式(XIX)を有する化合物を一般
式(XX)を有する化合物と反応させることにより行わ
れ、本工程は前記F法第F1工程と同様に行われる。
る化合物を製造する工程であり、化合物(XXI)を還
元することにより行われる。本反応は、接触還元反応又
は一般的なニトロ基の還元法である亜鉛−酢酸法、錫−
アルコール法若しくは錫−塩酸法を用いることにより行
われる。
する化合物を製造する工程であり、化合物(XXII)
にMeerwein Arylation反応を行うことにより、達成され
る。Meerwein Arylation反応は、特開昭55−2265
7号公報(USP4258193)及びS.Oae らの方法
[Bull. Chem. Soc. Jpn., 53, 1065 (1980)等。]に記
載された方法に準じて行われる。
る工程であり、化合物(XXIII)と一般式(XXI
V)を有する化合物とを反応させた後、加水分解した
後、所望によりR7aの基の定義におけるホルミル基又は
カルボキシ基の保護基を除去することにより行われる。
V)を有する化合物とを反応させた後、加水分解する反
応は、特開昭55−22657号公報(USP4258
193)に記載された方法に準じて行われる。
ルボキシ基の保護基を除去する方法は、前記F法におけ
るホルミル基又はカルボキシ基の保護基を除去する方法
と同様に行われる。
V)は常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場
合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を
分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫
酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶
剤を留去することによって得られる。得られた目的化合
物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通
常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜
組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で
溶出することによって分離、精製することができる。
及びBocは前述したものと同意義を示す。
を製造する方法である。第H1工程は、一般式(XXV
IIa)を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の
存在下、一般式(XXV)を有する化合物を一般式(X
XVIa)を有する化合物と反応させることにより行わ
れ、本工程は前記F法第F1工程と同様に行われる。
る工程であり、化合物(XXVIIa)を還元すること
により行われ、本工程は、前記G法第G2工程と同様に
行われる。
製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化
合物(XXV)を有する化合物を一般式(XXVIb)
を有する化合物と反応させることにより行われ、本工程
は前記F法第F1工程と同様に行われる。
る工程であり、化合物(XXVIIb)を還元すること
により行われ、本工程は、前記G法第G2工程と同様に
行われる。
a)及び(XVb)は常法に従って、反応混合物から採
取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶
物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸
エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物
を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム
等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得
られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、
再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されてい
る方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適
切な溶離剤で溶出することによって分離、精製すること
ができる。
は前述したものと同意義を示す。
VIb)を製造する方法である。
する化合物を製造する工程であり、一般式(XXVII
Ia)を有する化合物のアミノ基をt−ブトキシカルボ
ニル基で保護することにより行われ、その方法は一般に
有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、T.W.
Green,(Protective Groups in Organic Synthesis),
John Wiley & Sons; J.F.W.Mcomie,(Protective Group
s in Organic Synthesis), Plenum Pressに準じて行う
ことができる。
造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合
物(XXIXa)を一般式(XXX)を有する化合物と
反応させることにより行われる。上記反応において使用
される塩基は、前記B法第B1工程で使用されるものと
同様であり、好適にはアルカリ金属水素化物(特に好適
には水素化ナトリウム)である。上記反応において使用
される溶媒は、前記B法第B1工程で使用されるものと
同様であり、好適には、エ−テル類又はアミド類(特に
好適には、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はジメチ
ルホルムアミド)である。
基、溶媒等により異なるが、通常、−50℃乃至200
℃(好適には、0℃乃至120℃)である。反応時間
は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等に
より異なるが、通常、30分間乃至24時間(好適に
は、1時間乃至10時間)である。
する化合物を製造する工程であり、一般式(XXVII
Ib)を有する化合物のアミノ基をt−ブトキシカルボ
ニル基で保護することにより行われ、本工程は前記I法
第I1工程と同様に行われる。
造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合
物(XXIXb)を一般式(XXX)を有する化合物と
反応させることにより行われ、本工程は前記I法第I2
工程と同様に行われる。
Ia)及び(XXVIb)は常法に従って、反応混合物
から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、
又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、
水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目
的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫
酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナ
トリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得ら
れる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば
再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用
されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応
用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製
することができる。
は前述したものと同意義を示し、R10は、水素原子又は
トリフェニルメチル基を示し、式
基で1 乃至4 個置換されてもよいフェニル基又は置換基
群αから選択される基で1 乃至3個置換されてもよいピ
リジル基を示す。
てもよいテトラゾリル基で置換されたフェニル基又はピ
リジル基ある化合物(XVd)または(XVf)を製造
する方法である。
化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物
(XVa)において、R4aがシアノ基で置換されたフェ
ニル基又はピリジル基ある化合物(XVc)とアジド化
合物を反応させた後、所望により、得られた化合物のテ
トラゾリル基を保護することにより行われる。
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロ
メタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリ
ル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジ
エチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類;アセトンのようなケトン類;ホルムアミド、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
リン酸トリアミドのようなアミド類;及びジメチルスル
ホキシドのようなスルホキシド類;であり、好適には芳
香族炭化水素類(特に好適にはトルエン)である。
えば、ジフェニル燐酸アジドのようなジアリール燐酸ア
ジド誘導体;トリメチルシリルアジド、トリエチルシリ
ルアジドのようなトリアルキルシリルアジド類又はアジ
化ナトリウム、アジ化カリウムのようなアジ化アルカリ
金属塩類;アジ化トリ−n−ブチル錫のようなトリアル
キル錫アジド;であり、好適にはトリアルキル錫アジド
(特に好適にはアジ化トリ−n−ブチル錫)である。
単独で用いる他、例えば、トリメチルシリルトリフレ−
ト、トリエチルシリルトリフレ−トのようなトリアルキ
ルシリルトリフレ−ト類、トリフルオロボランエテレ−
ト、塩化アルミニウム、塩化亜鉛のようなルイス酸と併
用してもよい。
ド類、溶媒の種類等により異なるが、通常、−10℃乃
至200℃(好適には、50℃乃至150℃)である。
反応時間は、原料化合物、使用されるアジド類、溶媒の
種類、反応温度等により異なるが、通常、15分乃至4
8時間(好適には30分乃至30時間)である。
する反応は、不活性溶媒中、塩基の存在下、上記反応に
より得られた化合物とハロゲン化トリフェニルメタンを
反応させることにより行われる。
使用されものと同様であり、好適には、有機アミン類
(特に好適には、トリエチルアミン)である。使用され
る不活性溶媒は、化合物(XVc)とアジド化合物を反
応させる際に使用されるものと同様であり、好適には、
エ−テル類とアミド類の混合溶媒(特に好適には、テト
ラヒドロフラン及びジメチルホルムアミドの混合溶媒)
である。
類等により異なるが、通常、−10℃乃至150℃(好
適には、0℃乃至60℃)である。反応時間は、原料化
合物、塩基、溶媒の種類、反応温度等により異なるが、
通常、15分乃至48時間(好適には30分乃至30時
間)である。
化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物
(XVb)において、R4aがシアノ基で置換されたフェ
ニル基又はピリジル基ある化合物(XVe)とアジド化
合物を反応させた後、所望により、得られた化合物のテ
トラゾリル基を保護することにより行われ、本工程は前
記J法第J1工程と同様に行われる。
d)及び(XVf)は常法に従って、反応混合物から採
取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶
物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸
エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合物
を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム
等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得
られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、
再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用されてい
る方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適
切な溶離剤で溶出することによって分離、精製すること
ができる。
(XVIII)、(XIX)、(XX)、(XXI
V)、(XXV)、(XXVIIIa)、(XXVII
Ib)及び(XXX)は、公知か、公知の方法又はそれ
に類似した方法に従って容易に製造される[例えば、特
開平9−188669号公報(EP543662A)
等]。
又はその薬理上許容される塩は、優れた、インスリン抵
抗性改善作用、血糖低下作用、抗炎症作用、免疫調節作
用、アルドース還元酵素阻害作用、5−リポキシゲナー
ゼ阻害作用、過酸化脂質生成抑制作用、PPAR活性化
作用、抗骨粗鬆症作用、ロイコトリエン拮抗作用、脂肪
細胞化促進作用、ガン細胞増殖抑制作用、カルシウム拮
抗作用を有し、糖尿病、高脂血症、肥満症、耐糖能不
全、高血圧症、脂肪肝、糖尿病合併症(例えば、網膜
症、腎症、神経症、白内障、冠動脈疾患等である。)、
動脈硬化症、妊娠糖尿病、多嚢胞卵巣症候群、心血管性
疾患(例えば、虚血性心疾患等である。)、非アテロー
ム性動脈硬化症又は虚血性心疾患により惹起される細胞
損傷(例えば、脳卒中により惹起される脳損傷等であ
る。)、痛風、炎症性疾患(例えば、骨関節炎、疼痛、
発熱、リウマチ性関節炎、炎症性腸炎、アクネ、日焼
け、乾癬、湿疹、アレルギー性疾患、喘息、GI潰瘍、
悪液質、自己免疫疾患、膵炎である。)、ガン、骨粗鬆
症、白内障等;の予防剤及び/又は治療剤として有用で
ある。
化合物又はその薬理上許容される塩と、α−グルコシダ
ーゼ阻害剤、アルドース還元酵素阻害剤、ビグアナイド
剤、スタチン系化合物、スクアレン合成阻害剤、フィブ
ラート系化合物、LDL異化促進剤及びアンジオテンシ
ン変換酵素阻害剤の少なくとも1 種を組み合わせてなる
医薬組成物(特に好適には、糖尿病又は糖尿病合併症の
予防剤及び/又は治療剤である。)も有用である。
又はその薬理上許容される塩を、上記治療剤又は予防剤
として使用する場合には、それ自体或は適宜の薬理学的
に許容される、賦形剤、希釈剤等と混合し、例えば、錠
剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等に
よる経口的又は注射剤若しくは坐剤等による非経口的に
投与することができる。
白糖、葡萄糖、マンニトール、ソルビトールのような糖
誘導体;トウモロコシデンプン、バレイショデンプン、
α澱粉、デキストリンのような澱粉誘導体;結晶セルロ
ースのようなセルロース誘導体;アラビアゴム;デキス
トラン;プルランのような有機系賦形剤:及び、軽質無
水珪酸、合成珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、メタ
珪酸アルミン酸マグネシウムのような珪酸塩誘導体;燐
酸水素カルシウムのような燐酸塩;炭酸カルシウムのよ
うな炭酸塩;硫酸カルシウムのような硫酸塩等の無機系
賦形剤を挙げることができる。)、滑沢剤(例えば、ス
テアリン酸、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マ
グネシウムのようなステアリン酸金属塩;タルク;コロ
イドシリカ;ビーガム、ゲイ蝋のようなワックス類;硼
酸;アジピン酸;硫酸ナトリウムのような硫酸塩;グリ
コール;フマル酸;安息香酸ナトリウム;DLロイシ
ン;脂肪酸ナトリウム塩;ラウリル硫酸ナトリウム、ラ
ウリル硫酸マグネシウムのようなラウリル硫酸塩;無水
珪酸、珪酸水和物のような珪酸類;及び、上記澱粉誘導
体を挙げることができる。)、結合剤(例えば、ヒドロ
キシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロース、ポリビニルピロリドン、マクロゴール、及
び、前記賦形剤と同様の化合物を挙げることができ
る。)、崩壊剤(例えば、低置換度ヒドロキシプロピル
セルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロースカルシウム、内部架橋カルボキシメチ
ルセルロースナトリウムのようなセルロース誘導体;カ
ルボキシメチルスターチ、カルボキシメチルスターチナ
トリウム、架橋ポリビニルピロリドンのような化学修飾
されたデンプン・セルロース類を挙げることができ
る。)、安定剤(メチルパラベン、プロピルパラベンの
ようなパラオキシ安息香酸エステル類;クロロブタノー
ル、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコールの
ようなアルコール類;塩化ベンザルコニウム;フェノー
ル、クレゾールのようなフェノール類;チメロサール;
デヒドロ酢酸;及び、ソルビン酸を挙げることができ
る。)、矯味矯臭剤(例えば、通常使用される、甘味
料、酸味料、香料等を挙げることができる。)、希釈剤
等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。
り異なるが、例えば、経口投与の場合には、1回当り、
下限として0.001mg/kg 体重(好ましくは、0.0
1mg/kg 体重)、上限として、500mg/kg 体重(好ま
しくは、50mg/kg 体重)を、静脈内投与の場合には、
1回当り、下限として0.005mg/kg 体重(好ましく
は、0.05mg/kg 体重)、上限として、50mg/kg 体
重(好ましくは、5mg/kg 体重)を1日当り1乃至数回
症状に応じて投与することが望ましい。
し、本発明を更に詳細に説明するが、本発明の範囲はこ
れらに限定するものではない。
メチルフェノキシ)−3−メチル−3H−イミダゾ
[4,5−b]ピリジン−2−イルメトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2,4−ジオンおよびその塩酸塩
(例示化合物番号1−651) (1−1)5−{4−[5−(4−アセトキシ−2,
3,5−トリメチルフェノキシ)−3−メチル−3H−
イミダゾ[4,5−b]ピリジン−2−イルメトキシ]
ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−
2,4−ジオン 16.4gの5−(4−アセトキシ−2,3,5−トリ
メチルフェノキシ)−2−ヒドロキシメチル−3−メチ
ル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン、32.2
gの5−(4−ヒドロキシベンジル)−3−トリフェニ
ルメチルチアゾリジン−2,4−ジオン、17.5gの
アゾジカルボニルジピペリジンおよび400mlのトル
エンの混合物中に、トリブチルホスフィン17.2ml
のトルエン溶液50mlを、室温で滴下し、超音波照射
で1時間、室温で3時間攪拌した後、室温で1晩放置し
た。反応液より不溶物をろ別し、ろ液を濃縮した後、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
出溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=2/1→1/1)
で分離精製し、n−ヘキサン/酢酸エチル(2/1)の
混合溶剤で結晶化させた。得られた結晶をろ取し、3
1.7gの標記化合物を得た。 融点:190−191℃。
ロキシ−2,3,5−トリメチルフェノキシ)−3−メ
チル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン 27.0gの5−{4−[5−(4−アセトキシ−2,
3,5−トリメチルフェノキシ)−3−メチル−3H−
イミダゾ[4,5−b]ピリジン−2−イルメトキシ]
ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−
2,4−ジオン、150mlの6規定塩酸および200
mlの酢酸の混合液を、80℃で5時間攪拌した後、氷
水中に注ぎ、炭酸ナトリウムを加え中和した。混合液に
酢酸エチルを加え、不溶物をろ別した後、エタノ−ルで
洗浄し、10.2gの標記化合物を得た。また、ろ液よ
り有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した。有機
層および抽出液を合わせ飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥させた後、減圧下、溶媒を留去した。
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1→1/
2→酢酸エチル)で分離精製し、エタノールで結晶化さ
せ、結晶をろ取し、6.90gの標記化合物を得た。 融点:21-1217℃。
ロキシ−2,3,5−トリメチルフェノキシ)−3−メ
チル−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン
塩酸塩 10.2gの5−{4−[5−(4−ヒドロキシ−2,
3,5−トリメチルフェノキシ)−3−メチル−3H−
イミダゾ[4,5−b]ピリジン−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン、100ml
の酢酸エチルおよび100mlの4規定塩酸/酢酸エチ
ルの混合物を、室温で6時間攪拌した後、反応液を室温
で一晩放置した。反応混合物より結晶をろ取し、10.
7gの標記化合物を得た。 融点:148−150℃。
メチルフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2,4−ジオンおよびその塩酸塩(例示化合物番号1−
650) (2−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミノ]
−5−(4−メトキシメトキシ−2,3,5−トリメチ
ルフェノキシ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル 18.7gのN−[2−アミノ−5−(4−メトキシメ
トキシ−2,3,5−トリメチルフェノキシ)フェニ
ル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、
12.6gの4−(2,4−ジオキソチアゾリジン−5
−イルメチル)フェノキシ酢酸、4.55gのトリエチ
ルアミンおよび300mlの無水テトラヒドロフランの
混合物に、7.34gのシアノホスホン酸ジエチルを加
え、室温で17時間攪拌した。反応液を濃縮し、水を加
え、酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥させた。減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:n−ヘキ
サン/酢酸エチル=1/1)で分離精製し、23.1g
の標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=2/3):Rf値=0.41。
ロキシ−2,3,5−トリメチルフェノキシ)−1−メ
チル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン 0.49gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−メトキシメトキシ−2,3,5−トリ
メチルフェノキシ)フェニル}−N−メチルカルバミン
酸 t−ブチルエステルを10mlの4規定塩酸/ジオ
キサン溶液に溶解させ、室温で2日間放置した。反応液
に、水、重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した後、抽出
液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留
去した。得られた残渣を酢酸エチルを溶出溶剤とするシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、0.
27gの標記化合物を得た。 軟化点:137−147℃ シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.21。
ロキシ−2,3,5−トリメチルフェノキシ)−1−メ
チル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン塩酸塩 18.0gの5−{4−[6−(4−ヒドロキシ−2,
3,5−トリメチルフェノキシ)−1−メチル−1H−
ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チ
アゾリジン−2,4−ジオンの粗生成物を酢酸エチルを
溶出溶剤とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
分離精製し、100mlの4規定塩酸/酢酸エチル溶液
に懸濁させ、室温で一晩攪拌した。混合物より結晶をろ
取し、酢酸エチルで洗浄し、14.7gの標記化合物を
得た。 融点:160−165℃。
メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化
合物番号1−70) (3−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミノ]
−5−(4−ヒドロキシフェノキシ)フェニル}−N−
メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 0.79gのN−[2−アミノ−5−(4−ヒドロキシ
フェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t
−ブチルエステル、0.84gの4−(2,4−ジオキ
ソチアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、
0.49gのシアノホスホン酸ジエチル、0.30gの
トリエチルアミンおよび60mlの無水テトラヒドロフ
ランを用いて、実施例(2−1)と同様に反応させ、精
製して、1.49gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.35。
キシフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾ
ール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2,4−ジオン 1.49gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−ヒドロキシフェノキシ)フェニル}−
N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルおよび1
0mlの4規定塩酸/ジオキサン溶液を用いて、実施例
(2−2a)と同様に反応させ、精製して、0.26g
の標記化合物を得た。 融点:126−131℃ シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/3):Rf値=0.13。
フェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール
−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4
−ジオンおよびその塩酸塩(例示化合物番号1−52
0) (4−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミノ]
−5−(4−メトキシメトキシ−3,5−ジメチルフェ
ノキシ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブ
チルエステル 0.96gのN−[2−アミノ−5−(4−メトキシメ
トキシ−3,5−ジメチルフェノキシ)フェニル]−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.84
gの4−(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメ
チル)フェノキシ酢酸、0.49gのシアノホスホン酸
ジエチル、0.30gのトリエチルアミンおよび60m
lの無水テトラヒドロフランを用いて、実施例(2−
1)と同様に反応させ、精製して、1.44gの標記化
合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.27。
ロキシ−3,5−ジメチルフェノキシ)−1−メチル−
1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2,4−ジオン 1.44gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−メトキシメトキシ−3,5−ジメチル
フェノキシ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t
−ブチルエステルおよび10mlの4規定塩酸/ジオキ
サン溶液を用いて、実施例(2−2a)と同様に反応さ
せ、精製して、0.62gの標記化合物を得た。 融点:147−157℃ シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.21。
ロキシ−3,5−ジメチルフェノキシ)−1−メチル−
1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2,4−ジオン塩酸塩 3.11gの5−{4−[6−(4−ヒドロキシ−3,
5−ジメチルフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツ
イミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリ
ジン−2,4−ジオンおよび50mlの4規定塩酸/酢
酸エチル溶液を用いて、実施例(2−2b)と同様に反
応させ、精製して、標記化合物を3.18g得た。 融点:206−209℃。
5−ジメチルフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツ
イミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリ
ジン−2,4−ジオンおよびその塩酸塩(例示化合物番
号1−368)(5a)5−{4−[6−(2−クロロ
−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェノキシ)−1
−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン 9.19gのN−[5−(2−クロロ−4−メトキシメ
トキシ−3,5−ジメチルフェノキシ)−2−ニトロフ
ェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステ
ル、2.5gの10%パラジウム−炭素および400m
lのメタノールの混合物を、水素雰囲気下、室温で90
分間激しく攪拌した後、触媒をろ去し、減圧下、溶媒を
留去した。得られた残渣を250mlの無水テトラヒド
ロフランに溶解させ、15.8gの4−(2,4−ジオ
キソチアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、
9.18gのシアノホスホン酸ジエチルおよび5.69
gのトリエチルアミンを加え、室温で64時間攪拌し
た。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した
後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、
溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル
=1/1)で分離精製した後、200mlの2規定塩酸
/ジオキサン溶液に溶解させ、室温で19時間放置し
た。反応液を濃縮し、重曹水で中和した後、酢酸エチル
とテトラヒドロフランの混合溶媒で抽出し、得られた抽
出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を
留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶出溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/
2)および逆層分取高速液体クロマトグラフィー(展開
溶剤:アセトニトリル/水=7/3)で分離精製し、
2.56gの標記化合物を得た。 融点:240−243℃ シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.21。
4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェノキシ)−1−
メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン塩酸塩 2.54gの5−{4−[6−(2−クロロ−4−ヒド
ロキシ−3,5−ジメチルフェノキシ)−1−メチル−
1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2,4−ジオンおよび50mlの4
規定塩酸/酢酸エチル溶液を用いて、実施例(2−2
b)と同様に反応させ、精製して、標記化合物を2.6
7g得た。 融点:174−176℃。
メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化
合物番号1−821) (6−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミノ]
−5−(ピリジン−2−イルオキシ)フェニル}−N−
メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 0.34gのN−[2−ニトロ−5−(ピリジン−2−
イルオキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t
−ブチルエステル、50mgの10%パラジウム−炭素
および10mlのメタノールの混合物を、水素雰囲気
下、室温で90分間激しく攪拌した。反応液より触媒を
ろ去し、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣を10
mlの無水テトラヒドロフランに溶解させ、0.34g
の4−(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチ
ル)フェノキシ酢酸、0.20gのシアノホスホン酸ジ
エチルおよび0.12gのトリエチルアミンを加え、室
温で18時間攪拌した。反応液を濃縮し、水を加え、酢
酸エチルで抽出した後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで
乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2)で分離精製し、0.37
gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.36。
2−イルオキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾ
ール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2,4−ジオン 0.37gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(ピリジン−2−イルオキシ)フェニル}−
N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルおよび2
0mlの4規定塩酸/ジオキサン溶液を用いて、実施例
(2−2a)と同様に反応させ、精製して、0.20g
の標記化合物を得た。 融点:200−210℃ シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:酢酸エ
チル):Rf値=0.28。
ロキシフェニルチオ)−1−メチル−1H−ベンツイミ
ダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン
−2,4−ジオン1/2塩酸塩および塩酸塩(例示化合
物番号1−595) (7−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミノ]
−5−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニルチオ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−
ブチルエステル359mgのN−[2−ニトロ−5−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルチ
オ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル、360mgの10%パラジウム−炭素および
50mlのメタノールの混合物を、水素雰囲気下、室温
で9時間激しく攪拌した。反応液より触媒をろ去し、減
圧下、溶媒を留去した。得られた残渣を20mlの無水
テトラヒドロフランに溶解させ、248mgの4−
(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)フ
ェノキシ酢酸、144mgのシアノホスホン酸ジエチル
および89mgのトリエチルアミンを加え、室温で15
時間放置した。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチル
で抽出した後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥さ
せ、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:n−ヘキサン
/酢酸エチル=3/2)で分離精製し、275mgの標
記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.44。
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルチオ)−1−
メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン1/2塩
酸塩 259mgのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルチオ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステルを10mlの4規定塩酸/ジオキサ
ン溶液に溶解させ、室温で18時間放置した。反応液を
減圧下乾固させ、エーテルを加えて不溶物をろ取した
後、エーテルを用いて洗浄した。得られた固体物質を逆
層分取薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:アセトニト
リル/水=5/1)で分離精製し、115mgの標記化
合物を得た。 融点:120−123℃。
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルチオ)−1−
メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン塩酸塩 2.29gの5−{4−[6−(3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニルチオ)−1−メチル−1H
−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}
チアゾリジン−2,4−ジオンおよび4規定塩酸/酢酸
エチル溶液を用いて、実施例(2−2b)と同様に反応
させ、精製して、1.25gの標記化合物を得た。 融点:144−146℃。
ノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジ
オンおよびその2塩酸塩(例示化合物番号1−739) (8−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミノ]
−5−(4−t−ブトキシカルボニルアミノ−3,5−
ジメチルフェノキシ)フェニル}−N−メチルカルバミ
ン酸 t−ブチルエステル 1.56gのN−[2−アミノ−5−(4−t−ブトキ
シカルボニルアミン−3,5−ジメチルフェノキシ)フ
ェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステ
ル、1.05gの4−(2,4−ジオキソチアゾリジン
−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、0.61gのシア
ノホスホン酸ジエチル、0.38gのトリエチルアミン
および30mlの無水テトラヒドロフランを用いて、実
施例(2−1)と同様に反応させ、精製して、1.89
gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=3/2):Rf値=0.19。
ノ−3,5−ジメチルフェノキシ)−1−メチル−1H
−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}
チアゾリジン−2,4−ジオン 1.88gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−t−ブトキシカルボニルアミノ−3,
5−ジメチルフェノキシ)フェニル}−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステルおよび20mlの4規定
塩酸/ジオキサン溶液を用いて、実施例(2−2a)と
同様に反応させ、精製して、0.26gの標記化合物を
得た。 融点:209−211℃ シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.29。
ノ−3,5−ジメチルフェノキシ)−1−メチル−1H
−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}
チアゾリジン−2,4−ジオン2塩酸塩 0.25gの5−{4−[6−(4−アミノ−3,5−
ジメチルフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミ
ダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン
−2,4−ジオンおよび50mlの4規定塩酸/酢酸エ
チル溶液を用いて、実施例(2−2b)と同様に反応さ
せ、精製して、0.25gの標記化合物を得た。 融点:165−175℃。
チルフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾ
ール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2,4−ジオン塩酸塩(例示化合物番号1−808) 155mgの5−{4−[6−(4−アミノ−3,5−
ジメチルフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミ
ダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン
−2,4−ジオン・2塩酸塩、36mgの無水酢酸、1
07mgのピリジン、7.3mgの4−(N,N−ジメ
チルアミノ)ピリジン及び5mlの無水テトラヒドロフ
ランの混合物を2時間加熱還流した。反応液を濃縮し、
水を加え、酢酸エチルで抽出した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣
に、10mlの4規定塩酸/酢酸エチルを加え、室温で
21時間攪拌した。不溶性の成績体をろ取した後、エー
テルで洗浄し、97mgの標記化合物を得た。 軟化点:160−165℃。
−イル)フェノキシ]−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ)ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジ
オン及びその2塩酸塩(例示化合物番号1−284) (10−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−[2−(モルホリン−4−イル)フェノキ
シ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル 1.18gのN−{2−アミノ−5−[2−(モルホリ
ン−4−イル)フェノキシ]フェニル}−N−メチルカ
ルバミン酸 t−ブチルエステル、0.92gの4−
(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)フ
ェノキシ酢酸、0.53gのシアノホスホン酸ジエチ
ル、0.33gのトリエチルアミン及び30mlの無水
テトラヒドロフランを用いて、実施例(2−1)と同様
に反応させ、精製して、1.47gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.30。
6−[2−(モルホリン−4−イル)フェノキシ]−1
H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ)ベンジ
ル}チアゾリジン−2,4−ジオン 1.45gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−[2−(モルホリン−4−イル)フェノキ
シ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル及び20mlの4規定塩酸/ジオキサンを用い
て、実施例2aと同様に反応させ、精製して、0.94
gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.33。
6−[2−(モルホリン−4−イル)フェノキシ]−1
H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ)ベンジ
ル}チアゾリジン−2,4−ジオン・2塩酸塩 0.64gの5−{4−(1−メチル−6−[2−(モ
ルホリン−4−イル)フェノキシ]−1H−ベンツイミ
ダゾール−2−イルメトキシ)ベンジル}チアゾリジン
−2,4−ジオンを、30mlの濃塩酸及び30mlの
1,4−ジオキサンの混合液に溶解させ、室温で90分
間攪拌した。得られた反応液を、減圧下乾固させ、エー
テルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、エーテル
で洗浄し、0.71gの標記化合物を得た。 軟化点:120−130℃。
−イル)フェノキシ]−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ)ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジ
オン・2塩酸塩(例示化合物番号1−292) (11−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−[3−(モルホリン−4−イル)フェノキ
シ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル 1.18gのN−{2−アミノ−5−[3−(モルホリ
ン−4−イル)フェノキシ]フェニル}−N−メチルカ
ルバミン酸 t−ブチルエステル、0.92gの4−
(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)フ
ェノキシ酢酸、0.53gのシアノホスホン酸ジエチ
ル、0.33gのトリエチルアミン及び30mlの無水
テトラヒドロフランを用いて、実施例(2−1)と同様
に反応させ、精製して、1.48gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.26。
−[3−(モルホリン−4−イル)フェノキシ]−1H
−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ)ベンジル}
チアゾリジン−2,4−ジオン・2塩酸塩 1.44gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−[3−(モルホリン−4−イル)フェノキ
シ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル及び20mlの4規定塩酸/ジオキサンの混合
物を室温で3時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、
エーテルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、エー
テルで洗浄し、1.27gの標記化合物を得た。 軟化点:150−160℃。
−イル)フェノキシ]−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ)ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジ
オン・2塩酸塩(例示化合物番号1−241) (12−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−[2−(ピペリジン−1−イル)フェノキ
シ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル 1.19gのN−{2−アミノ−5−[2−(ピペリジ
ン−1−イル)フェノキシ]フェニル}−N−メチルカ
ルバミン酸 t−ブチルエステル、0.93gの4−
(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)フ
ェノキシ酢酸、0.54gのシアノホスホン酸ジエチ
ル、0.33gのトリエチルアミンおよび20mlの無
水テトラヒドロフランを用いて、実施例(2−1)と同
様に反応させ、精製して、1.80gの標記化合物を得
た。
溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=
0.39。
−[2−(ピペリジン−1−イル)フェノキシ]−1H
−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ)ベンジル}
チアゾリジン−2、4−ジオン・2塩酸塩 1.80gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−[2−(ピペリジン−1−イル)フェノキ
シ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステルおよび20mlの4規定塩酸/ジオキサンの混
合物を室温で19時間攪拌した。反応液を減圧下乾固さ
せ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した
後、逆層分取高速液体クロマトグラフィー(溶出溶剤:
アセトニトリル/水=1/1)で分離精製し、4規定塩
酸/酢酸エチルで処理して0.47gの標記化合物を得
た。
オ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオンおよびその2
塩酸塩(例示化合物番号1−823) (13−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(ピリジン−2−イルチオ)フェニル}−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 0.78gのN−[2−アミノ−5−(ピリジン−2−
イルチオ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−
ブチルエステル、1.06gの4−(2,4−ジオキソ
チアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、0.
61gのシアノホスホン酸ジエチル、0.38gのトリ
エチルアミンおよび20mlの無水テトラヒドロフラン
を用いて、実施例(2−1)と同様に反応させ、精製し
て、0.68gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.51。
6−(ピリジン−2−イルチオ)−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン 0.63gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(ピリジン−2−イルチオ)フェニル}−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルおよび20
mlの4規定塩酸/ジオキサンを用いて、実施例(2−
2a)と同様に反応させ、精製して、0.20gの標記
化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:酢酸エ
チル):Rf値=0.26。
6−(ピリジン−2−イルチオ)−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン・2塩酸塩 0.20gの5−{4−[1−メチル−6−(ピリジン
−2−イルチオ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
および50mlの4規定塩酸/酢酸エチルを用いて、実
施例(2−2b)と同様に反応させ、精製して、0.2
1gの標記化合物を得た。 融点:139−147℃。
−イル)フェノキシ]−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ)ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジ
オン(例示化合物番号1−199) (14−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−[2−(ピロリジン−1−イル)フェノキ
シ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル 0.77gのN−{2−アミノ−5−[2−(ピロリジ
ン−1−イル)フェノキシ]フェニル}−N−メチルカ
ルバミン酸 t−ブチルエステル、0.90gの4−
(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)フ
ェノキシ酢酸、0.52gのシアノホスホン酸ジエチ
ル、0.32gのトリエチルアミンおよび30mlの無
水テトラヒドロフランを用いて、実施例(2−1)と同
様に反応させ、精製して、1.26gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.40。
−[2−(ピロリジン−1−イル)フェノキシ]−1H
−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ)ベンジル}
チアゾリジン−2、4−ジオン 1.25gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−[2−(ピロリジン−1−イル)フェノキ
シ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステルおよび25mlの4規定塩酸/ジオキサンを用
いて、実施例(2−2a)と同様に反応させ、精製し
て、0.94gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.27。
メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩
(例示化合物番号1−11) (15−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(2−ヒドロキシフェノキシ)フェニル}−
N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 0.99gのN−[2−アミノ−5−(2−ヒドロキシ
フェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t
−ブチルエステル、0.93gの4−(2,4−ジオキ
ソチアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、
0.54gのシアノホスホン酸ジエチル、0.33gの
トリエチルアミンおよび20mlの無水テトラヒドロフ
ランを用いて、実施例(2−1)と同様に反応させ、精
製して、1.18gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=2/3):Rf値=0.47。
−(2−ヒドロキシフェノキシ)−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン塩酸塩 1.16gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(2−ヒドロキシフェノキシ)フェニル}−
N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルおよび2
0mlの4規定塩酸/ジオキサンを用いて、実施例(2
−2a)と同様に反応させ、精製した。引き続き20m
lの4規定塩酸/酢酸エチルを用いて、実施例(2−2
b)と同様に反応させ、精製して、0.79gの標記化
合物を得た。 融点:155−165℃。
シ]−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ)ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
塩酸塩(例示化合物番号1−1182) (16−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−[4−(1−アダマンチル)フェノキシ]フ
ェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステ
ル 1.34gのN−{2−アミノ−5−[4−(1−アダ
マンチル)フェノキシ]フェニル}−N−メチルカルバ
ミン酸 t−ブチルエステル、0.93gの4−(2,
4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)フェノキ
シ酢酸、0.54gのシアノホスホン酸ジエチル、0.
33gのトリエチルアミンおよび20mlの無水テトラ
ヒドロフランを用いて、実施例(2−1)と同様に反応
させ、精製して、1.83gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.29。
−アダマンチル)フェノキシ]−1−メチル−1H−ベ
ンツイミダゾール−2−イルメトキシ)ベンジル}チア
ゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩 1.82gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−[4−(1−アダマンチル)フェノキシ]フ
ェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステ
ルおよび20mlの4規定塩酸/ジオキサンの混合物を
室温で29時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、エ
ーテルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、エーテ
ルで洗浄し、1.35gの標記化合物を得た。 融点:160−165℃。
1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメト
キシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン(例示
化合物番号1−153) (17−1)N−{5−(3−ジメチルアミノフェノキ
シ)−2−[4−(2,4−ジオキソチアゾリジン−5
−イルメチル)フェノキシアセチルアミノ]フェニル}
−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 1.00gのN−[2−アミノ−5−(3−ジメチルア
ミノフェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル、1.57gの4−(2,4−ジ
オキソチアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢
酸、0.91gのシアノホスホン酸ジエチル、0.57
gのトリエチルアミンおよび40mlの無水テトラヒド
ロフランを用いて、実施例(2−1)と同様に反応さ
せ、精製して、1.69gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.26。
チルアミノフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイ
ミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジ
ン−2、4−ジオン 1.68gのN−{5−(3−ジメチルアミノフェノキ
シ)−2−[4−(2,4−ジオキソチアゾリジン−5
−イルメチル)フェノキシアセチルアミノ]フェニル}
−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルおよび
30mlの4規定塩酸/ジオキサンを用いて、実施例
(2−2a)と同様に反応させ、精製して、0.57g
の標記化合物を得た。 融点:180−186℃。
キシ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン・2塩酸
塩(例示化合物番号1−938) (18−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(ピリジン−3−イルオキシ)フェニル}−
N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 0.63gのN−[2−アミノ−5−(ピリジン−3−
イルオキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t
−ブチルエステル、0.62gの4−(2,4−ジオキ
ソチアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、
0.36gのシアノホスホン酸ジエチル、0.22gの
トリエチルアミンおよび15mlの無水テトラヒドロフ
ランを用いて、実施例(2−1)と同様に反応させ、精
製して、0.88gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.38。
−(ピリジン−3−イルオキシ)−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン・2塩酸塩 0.87gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(ピリジン−3−イルオキシ)フェニル}−
N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルおよび1
5mlの4規定塩酸/ジオキサンの混合物を室温で4.
5時間攪拌した後、同温で9日間放置した。不溶性の成
績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄し、0.77gの
標記化合物を得た。 融点:146−156℃。
ェノキシ]−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−
2−イルメトキシ)ベンジル}チアゾリジン−2、4−
ジオン・2塩酸塩(例示化合物番号1−1126) (19−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−[4−(イミダゾール−1−イル)フェノキ
シ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル 1.14gのN−{2−アミノ−5−[4−(イミダゾ
ール−1−イル)フェノキシ]フェニル}−N−メチル
カルバミン酸 t−ブチルエステル、0.93gの4−
(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)フ
ェノキシ酢酸、0.54gのシアノホスホン酸ジエチ
ル、0.33gのトリエチルアミンおよび30mlの無
水テトラヒドロフランを用いて、実施例(2−1)と同
様に反応させ、精製して、1.75gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:酢酸エ
チル/メタノール=10/1):Rf値=0.51。
ミダゾール−1−イル)フェノキシ]−1−メチル−1
H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ)ベンジ
ル}チアゾリジン−2、4−ジオン・2塩酸塩 1.75gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−[4−(イミダゾール−1−イル)フェノキ
シ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステルおよび20mlの4規定塩酸/ジオキサンの混
合物を室温で19時間攪拌した。反応液を減圧下乾固さ
せ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した
後、逆層分取高速液体クロマトグラフィー(溶出溶剤:
アセトニトリル/水=7/13)で分離精製し、4規定
塩酸/酢酸エチルで処理して0.20gの標記化合物を
得た。
シ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩(例示
化合物番号1−1327) (20−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(2−フェニルフェノキシ)フェニル}−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 1.60gのN−[2−アミノ−5−(2−フェニルフ
ェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−
ブチルエステル、1.26gの4−(2,4−ジオキソ
チアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、0.
73gのシアノホスホン酸ジエチル、0.45gのトリ
エチルアミンおよび20mlの無水テトラヒドロフラン
を用いて、実施例(2−1)と同様に反応させ、精製し
て、2.33gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=3/2):Rf値=0.25。
−(2−フェニルフェノキシ)−1H−ベンツイミダゾ
ール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン塩酸塩 2.33gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(2−フェニルフェノキシ)フェニル}−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルおよび20
mlの4規定塩酸/ジオキサンの混合物を室温で20時
間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加
えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄
し、1.87gの標記化合物を得た。 融点:142−152℃。
フェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール
−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4
−ジオン塩酸塩(例示化合物番号1−506) (21−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−ヒドロキシ−2,3−ジメチルフェノ
キシ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチ
ルエステル 1.60gのN−[2−アミノ−5−(4−ヒドロキシ
−2,3−ジメチルフェノキシ)フェニル]−N−メチ
ルカルバミン酸 t−ブチルエステル、1.38gの4
−(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)
フェノキシ酢酸、0.80gのシアノホスホン酸ジエチ
ル、0.50gのトリエチルアミンおよび20mlの無
水テトラヒドロフランを用いて、実施例(2−1)と同
様に反応させ、精製して、2.35gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.54。
ロキシ−2,3−ジメチルフェノキシ)−1−メチル−
1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩 2.35gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−ヒドロキシ−2,3−ジメチルフェノ
キシ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチ
ルエステルおよび20mlの4規定塩酸/ジオキサンの
混合物を室温で44時間攪拌した。反応液を減圧下乾固
させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した
後、酢酸エチルで洗浄し、1.82gの標記化合物を得
た。 融点:168−170℃。
キシ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩
(例示化合物番号1−193) (22−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−フェノキシフェノキシ)フェニル}−
N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 1.66gのN−[2−アミノ−5−(4−フェノキシ
フェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t
−ブチルエステル、1.26gの4−(2,4−ジオキ
ソチアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、
0.73gのシアノホスホン酸ジエチル、0.45gの
トリエチルアミンおよび20mlの無水テトラヒドロフ
ランを用いて、実施例(2−1)と同様に反応させ、精
製して、1.99gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.62。
−(4−フェノキシフェノキシ)−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン塩酸塩 1.99gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−フェノキシフェノキシ)フェニル}−
N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルおよび2
0mlの4規定塩酸/ジオキサンの混合物を室温で22
時間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを
加えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗
浄し、1.57gの標記化合物を得た。 融点:190−200℃。
−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオンおよびそ
の塩酸塩(例示化合物番号1−72) (23−2a)5−{4−[6−(4−ヒドロキシフェ
ニルチオ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−
2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−
ジオン 2.36gのN−[2−アミノ−5−(4−ヒドロキシ
フェニルチオ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル、2.87gの4−(2,4−ジオ
キソチアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、
1.67gのシアノホスホン酸ジエチル、1.03gの
トリエチルアミンおよび60mlの無水テトラヒドロフ
ランを用いて、実施例(2−1)と同様に反応させ、精
製した。引き続き20mlの4規定塩酸/ジオキサンを
用いて、実施例(2−2a)と同様に反応させ、精製し
て、0.72gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.19。
ドロキシフェニルチオ)−1−メチル−1H−ベンツイ
ミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジ
ン−2、4−ジオン塩酸塩 0.72gの5−{4−[6−(4−ヒドロキシフェニ
ルチオ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジ
オンおよび40mlの4規定塩酸/酢酸エチルを用い
て、実施例(2−2b)と同様に反応させ、精製して、
0.63gの標記化合物を得た。 融点:204−207℃。
シ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩(例示
化合物番号1−168) (24−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(3−フェニルフェノキシ)フェニル}−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 1.60gのN−[2−アミノ−5−(3−フェニルフ
ェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−
ブチルエステル、1.26gの4−(2,4−ジオキソ
チアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、0.
73gのシアノホスホン酸ジエチル、0.45gのトリ
エチルアミンおよび20mlの無水テトラヒドロフラン
を用いて、実施例(2−1)と同様に反応させ、精製し
て、2.57gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.32。
−(3−フェニルフェノキシ)−1H−ベンツイミダゾ
ール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン塩酸塩 2.57gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(3−フェニルフェノキシ)フェニル}−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルおよび30
mlの4規定塩酸/ジオキサンの混合物を室温で63時
間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加
えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄
し、2.01gの標記化合物を得た。 融点:150−160℃。
ェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−
2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−
ジオン塩酸塩(例示化合物番号1−501) (25−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノキ
シ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル 1.11gのN−[2−アミノ−5−(3−t−ブチル
−4−ヒドロキシフェノキシ)フェニル]−N−メチル
カルバミン酸 t−ブチルエステル、0.89gの4−
(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)フ
ェノキシ酢酸、0.52gのシアノホスホン酸ジエチ
ル、0.32gのトリエチルアミンおよび20mlの無
水テトラヒドロフランを用いて、実施例(2−1)と同
様に反応させ、精製して、1.75gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.26。
ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1−メチル−1
H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩 1.75gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノキ
シ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステルおよび20mlの4規定塩酸/ジオキサンの混
合物を室温で14時間攪拌した。反応液を減圧下乾固さ
せ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した
後、酢酸エチルで洗浄し、1.11gの標記化合物を得
た。 融点:160−170℃。
ェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−
2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−
ジオン塩酸塩(例示化合物番号1−499) (26−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(2−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノキ
シ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル 0.95gのN−[2−アミノ−5−(2−t−ブチル
−4−ヒドロキシフェノキシ)フェニル]−N−メチル
カルバミン酸 t−ブチルエステル、0.76gの4−
(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)フ
ェノキシ酢酸、0.44gのシアノホスホン酸ジエチ
ル、0.27gのトリエチルアミンおよび20mlの無
水テトラヒドロフランを用いて、実施例(2−1)と同
様に反応させ、精製して、1.24gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.19。
ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1−メチル−1
H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩 1.24gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(2−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノキ
シ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステルおよび20mlの4規定塩酸/ジオキサンの混
合物を室温で14時間攪拌した。反応液を減圧下乾固さ
せ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した
後、酢酸エチルで洗浄し、0.75gの標記化合物を得
た。 融点:167−172℃。
シ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩(例示
化合物番号1−169) (27−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−フェニルフェノキシ)フェニル}−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 1.60gのN−[2−アミノ−5−(4−フェニルフ
ェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−
ブチルエステル、1.26gの4−(2,4−ジオキソ
チアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、0.
73gのシアノホスホン酸ジエチル、0.45gのトリ
エチルアミンおよび20mlの無水テトラヒドロフラン
を用いて、実施例(2−1)と同様に反応させ、精製し
て、2.39gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.32。
−(4−フェニルフェノキシ)−1H−ベンツイミダゾ
ール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン塩酸塩 2.39gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−フェニルフェノキシ)フェニル}−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルおよび20
mlの4規定塩酸/ジオキサンの混合物を室温で21時
間攪拌した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加
えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄
し、1.90gの標記化合物を得た。 融点:170−180℃。
フェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール
−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4
−ジオン塩酸塩(例示化合物番号1−513) (28−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−ヒドロキシ−2,5−ジメチルフェノ
キシ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチ
ルエステル 0.54gのN−[2−アミノ−5−(4−ヒドロキシ
−2,5−ジメチルフェノキシ)フェニル]−N−メチ
ルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.51gの4
−(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)
フェノキシ酢酸、0.29gのシアノホスホン酸ジエチ
ル、0.18gのトリエチルアミンおよび10mlの無
水テトラヒドロフランを用いて、実施例(2−1)と同
様に反応させ、精製して、0.71gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.68。
ロキシ−2,5−ジメチルフェノキシ)−1−メチル−
1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩 0.71gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−ヒドロキシ−2,5−ジメチルフェノ
キシ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチ
ルエステルおよび10mlの4規定塩酸/ジオキサンの
混合物を室温で17時間攪拌した。反応液を減圧下乾固
させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した
後、逆層分取高速液体クロマトグラフィー(溶出溶剤:
アセトニトリル/水=9/11)で分離精製し、4規定
塩酸/酢酸エチルで処理して0.41gの標記化合物を
得た。 融点:170−171℃。
ロキシフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン塩酸塩(例示化合物番号1−593) (29−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェノキシ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t
−ブチルエステル0.55gのN−[2−アミノ−5−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノキ
シ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル、0.42gの4−(2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、0.24g
のシアノホスホン酸ジエチル、0.15gのトリエチル
アミンおよび20mlの無水テトラヒドロフランを用い
て、実施例(2−1)と同様に反応させ、精製して、
0.72gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.68。
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1−メ
チル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩 0.72gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェノキシ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t
−ブチルエステルおよび20mlの4規定塩酸/ジオキ
サンの混合物を室温で17時間攪拌した。反応液を減圧
下乾固させ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体をろ
取した後、酢酸エチルで洗浄し、0.41gの標記化合
物を得た。 融点:173−178℃。
イルオキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール
−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4
−ジオン塩酸塩(例示化合物番号1−171) (30−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4' −ヒドロキシビフェニル−4−イルオ
キシ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチ
ルエステル 0.61gのN−[2−アミノ−5−(4' −ヒドロキ
シビフェニル−1−イルオキシ)フェニル]−N−メチ
ルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.51gの4
−(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)
フェノキシ酢酸、0.29gのシアノホスホン酸ジエチ
ル、0.18gのトリエチルアミンおよび10mlの無
水テトラヒドロフランの混合物を室温で2日間攪拌し
た。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧下溶媒を留
去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1)
で分離精製し、標記化合物を得た。 (30−2)5−{4−[6−(4' −ヒドロキシビフ
ェニル−4−イルオキシ)−1−メチル−1H−ベンツ
イミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリ
ジン−2、4−ジオン塩酸塩 20mlのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミノ]
−5−(4' −ヒドロキシビフェニル−4−イルオキ
シ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステルを4規定塩酸/ジオキサンに溶解し、室温で4
日間放置した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを
加えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗
浄し、0.23gの標記化合物を得た。 融点:160−163℃。
キシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−
イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオ
ン塩酸塩(例示化合物番号1−481)および5−{4
−[6−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェノキシ)−
1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメト
キシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩
(例示化合物番号1−486) (31−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−ヒドロキシ−2−メチルフェノキシ)
フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエス
テル 1.88gのN−[2−アミノ−5−(4−ヒドロキシ
−2−メチルフェノキシ)フェニル]−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステルおよびN−[2−アミノ
−5−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェノキシ)フェ
ニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル
の混合物、1.69gの4−(2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、0.98g
のシアノホスホン酸ジエチル、0.61gのトリエチル
アミンおよび20mlの無水テトラヒドロフランを用い
て、実施例(2−1)と同様に反応させ、精製して、
1.57gの標記化合物の混合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.53。
ドロキシ−2−メチルフェノキシ)−1−メチル−1H
−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}
チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩および (31−2b)5−{4−[6−(4−ヒドロキシ−3
−メチルフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミ
ダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン
−2、4−ジオン塩酸塩 1.57gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−ヒドロキシ−2−メチルフェノキシ)
フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエス
テルおよびN−{2−[4−(2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミノ]
−5−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェノキシ)フェ
ニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル
の混合物を20mlの4規定塩酸/ジオキサンに溶解
し、室温で66時間攪拌した。反応液を減圧下乾固さ
せ、酢酸エチルを加えた。不溶性の成績体1.24gを
ろ取した後、逆層分取高速液体クロマトグラフィー[溶
出溶媒:アセトニトリル/水(含0.2%酢酸および
0.2%トリエチルアミン)=2/3]で分離精製し、
4規定塩酸/酢酸エチルで処理して、50mgの5−
{4−[6−(4−ヒドロキシ−2−メチルフェノキ
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
塩酸塩および183mgの5−{4−[6−(4−ヒド
ロキシ−3−メチルフェノキシ)−1−メチル−1H−
ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チ
アゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩を得た。
−ヒドロキシベンゾイルアミノ)フェノキシ]−1−メ
チル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ}
ベンジル]チアゾリジン−2、4−ジオン(例示化合物
番号1−1269) 400mgの5−{4−[6−(4−アミノフェノキ
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
・2塩酸塩、204mgのシクロペンタンカルボン酸お
よび304mgのトリエチルアミンを8mlの無水N、
N−ジメチルホルムアミドに溶解させた後、287mg
の1−エチル−3−(3‘−ジメチルアミノプロピル)
カルボジイミド塩酸塩を加え、室温で1時間攪拌した
後、同温で二晩放置した。反応液を濃縮した後、水を加
え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去し、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/2〜1/
3)で分離精製した。目的物を含む画分を濃縮して、得
られた残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(1:3)より
再結晶して、176mgの標記化合物を得た。 融点:159.8−162.0℃。
ノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジ
オン塩酸塩(例示化合物番号1−1230) (33−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−ベンジル−3−ヒドロキシフェノキ
シ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステルおよびN−{2−[4−(2,4−ジオキソチ
アゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェノキシ)
フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエス
テル 1.8gのN−[2−アミノ−5−(4−ベンジル−3
−ヒドロキシフェノキシ)フェニル]−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステル、1.16gの4−
(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)フ
ェノキシ酢酸、0.99gのシアノホスホン酸ジエチ
ル、0.76gのトリエチルアミンおよび30mlの無
水テトラヒドロフランを用いて、実施例(2−1)と同
様に反応させ、精製して、1.5gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.32。
ジル−3−ヒドロキシフェノキシ)−1−メチル−1H
−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}
チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩 1.4gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミノ]
−5−(4−ベンジル−3−ヒドロキシフェノキシ)フ
ェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステ
ルおよび20mlの4規定塩酸/ジオキサンの混合物を
室温で3日間攪拌した。反応液に酢酸エチルおよびn−
ヘキサンを加え、不溶性の成績体をろ取して、1.5g
の標記化合物を得た。 融点:205−219℃。
キシ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオンおよびそ
の塩酸塩(例示化合物番号1−136) (34−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−メチルチオフェノキシ)フェニル}−
N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 1.93gのN−[2−アミノ−5−(4−メチルチオ
フェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t
−ブチルエステル、3.01gの4−(2,4−ジオキ
ソチアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、
1.75gのシアノホスホン酸ジエチル、1.08gの
トリエチルアミンおよび80mlの無水テトラヒドロフ
ランを用いて、実施例(2−1)と同様に反応させ、精
製して、2.96gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=7/3):Rf値=0.11。
6−(4−メチルチオフェノキシ)−1H−ベンツイミ
ダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン
−2、4−ジオン 2.95gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−メチルチオフェノキシ)フェニル}−
N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルおよび6
0mlの4規定塩酸/ジオキサンを用いて、実施例(2
−2a)と同様に反応させ、精製して、2.15gの標
記化合物を得た。 融点:199−200℃。
6−(4−メチルチオフェノキシ)−1H−ベンツイミ
ダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン
−2、4−ジオン・塩酸塩 1.15gの5−{4−[1−メチル−6−(4−メチ
ルチオフェノキシ)−1H−ベンツイミダゾール−2−
イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオ
ンおよび20mlの4規定塩酸/酢酸エチルを用いて、
実施例(2−2b)と同様に反応させ、精製して、1.
06gの標記化合物を得た。 融点:137−147℃。
シ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオンおよびその塩
酸塩(例示化合物番号1−132) (35−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−メトキシフェノキシ)フェニル}−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 2.0gのN−[2−アミノ−5−(4−メトキシフェ
ノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブ
チルエステル、2.0gの4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、1.3g
のシアノホスホン酸ジエチル、0.81gのトリエチル
アミンおよび50mlの無水テトラヒドロフランを用い
て、実施例(2−1)と同様に反応させ、精製して、
3.3gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.61。
6−(4−メトキシフェノキシ)−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン 3.28gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−メトキシフェノキシ)フェニル}−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルを50ml
のトリフルオロ酢酸に溶解させ、65℃で8時間攪拌し
た後、室温で一晩放置した。反応液を濃縮し、水を加
え、5%重曹水で中和した後、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した後、溶媒を留去した。得られた残渣にエーテル−
酢酸エチル(1:1)混合溶媒を加え、析出した結晶を
ろ取して、1.91gの標記化合物を得た。 融点:122−126℃。
6−(4−メトキシフェノキシ)−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン・塩酸塩 1.8gの5−{4−[1−メチル−6−(4−メトキ
シフェノキシ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イル
メトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオンお
よび50mlの4規定塩酸/酢酸エチルを用いて、実施
例(2−2b)と同様に反応させ、精製して、1.85
gの標記化合物を得た。 融点:148−151℃。
ルフェノキシ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イル
メトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオンお
よびその塩酸塩(例示化合物番号1−131) (36−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−トリフルオロメチルフェノキシ)フェ
ニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 0.68gのN−[2−アミノ−5−(4−トリフルオ
ロメチルフェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミ
ン酸 t−ブチルエステル、0.73gの4−(2,4
−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ
酢酸、0.49gのシアノホスホン酸ジエチル、0.3
0gのトリエチルアミンおよび50mlの無水テトラヒ
ドロフランを用いて、実施例(2−1)と同様に反応さ
せ、精製して、0.97gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=2/1):Rf値=0.23。
6−(4−トリフルオロメチルフェノキシ)−1H−ベ
ンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チア
ゾリジン−2、4−ジオン 0.95gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−トリフルオロメチルフェノキシ)フェ
ニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル
を20mlのトリフルオロ酢酸に溶解させ、60℃で3
時間攪拌した後、室温で一晩放置した。反応液を濃縮
し、水を加え、5%重曹水で中和した後、酢酸エチルで
抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した後、溶媒を留去した。得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:n−
ヘキサン/酢酸エチル=1/2)で精製して、0.60
gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.29。
6−(4−トリフルオロメチルフェノキシ)−1H−ベ
ンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チア
ゾリジン−2、4−ジオン・塩酸塩 0.58gの5−{4−[1−メチル−6−(4−トリ
フルオロメチルフェノキシ)−1H−ベンツイミダゾー
ル−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、
4−ジオンおよび20mlの4規定塩酸/酢酸エチルを
用いて、実施例(2−2b)と同様に反応させ、精製し
て、0.55gの標記化合物を得た。 融点:145−147℃。
チル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩(例示
化合物番号1−184) (37−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−ベンジルフェノキシ)フェニル}−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 0.61gのN−[2−アミノ−5−(4−ベンジルフ
ェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−
ブチルエステル、0.51gの4−(2,4−ジオキソ
チアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、0.
29gのシアノホスホン酸ジエチル、0.18gのトリ
エチルアミンおよび10mlの無水テトラヒドロフラン
を用いて、実施例(2−1)と同様に反応させ、精製し
て、0.91gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.26。
ジルフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾ
ール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン塩酸塩 0.91gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(4−ベンジルフェノキシ)フェニル}−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルおよび10
mlの4規定塩酸/ジオキサンの混合物を室温で3日間
放置した。反応液を減圧下乾固させ、酢酸エチルを加え
た。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エチルで洗浄
し、0.69gの標記化合物を得た。 融点:170−180℃。
メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩
(例示化合物番号1−41) (38−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(3−ヒドロキシフェノキシ)フェニル}−
N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 0.95gのN−[2−アミノ−5−(3−ヒドロキシ
フェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t
−ブチルエステル、0.89gの4−(2,4−ジオキ
ソチアゾリジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、
0.52gのシアノホスホン酸ジエチル、0.32gの
トリエチルアミンおよび30mlの無水テトラヒドロフ
ランを用いて、実施例(2−1)と同様に反応させ、精
製して、1.18gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.28。
ロキシフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン塩酸塩 1.18gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(3−ヒドロキシフェノキシ)フェニル}−
N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルおよび2
0mlの4規定塩酸/ジオキサンの混合物を室温で18
時間放置した。反応液を濃縮した後、酢酸エチルを加
え、超音波を照射した。不溶性の成績体をろ取した後、
酢酸エチルで洗浄して、0.86gの標記化合物を得
た。 融点:192−195℃。
ェノキシ]−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−
2−イルメトキシ}ベンジル]チアゾリジン−2、4−
ジオン塩酸塩(例示化合物番号1−1154) (39−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−[4−(テトラゾール−5−イル)フェノキ
シ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル 0.69gのN−{2−アミノ−5−[4−(テトラゾ
ール−5−イル)フェノキシ]フェニル}−N−メチル
カルバミン酸 t−ブチルエステル、0.37gの4−
(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)フ
ェノキシ酢酸、0.21gのシアノホスホン酸ジエチ
ル、0.13gのトリエチルアミンおよび30mlの無
水テトラヒドロフランを用いて、実施例(2−1)と同
様に反応させ、精製して、0.76gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.49。
トラゾール−5−イル)フェノキシ]−1−メチル−1
H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ}ベンジ
ル]チアゾリジン−2、4−ジオン塩酸塩 0.76gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−[4−(テトラゾール−5−イル)フェノキ
シ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステルおよび20mlの4規定塩酸/ジオキサンの混
合物を室温で24時間攪拌した。反応液を濃縮し、酢酸
エチルを加えた。不溶性の成績体をろ取した後、酢酸エ
チルで洗浄して、0.44gの標記化合物を得た。 融点:232−235℃。
ル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベ
ンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン塩酸塩(例示化
合物番号1−1210) 0.69gの5−{4−[6−(4−シアノフェノキ
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチア
ゾリジン−2,4−ジオン、25mlの80%酢酸水の
混合物を70℃で3時間攪拌した。反応液を濃縮し、2
50mlの10%重曹水を加え、室温で数時間攪拌した
後、不溶性の成績体をろ取、水洗し、風乾した。得られ
た5−{4−[6−(4−シアノフェノキシ)−1−メ
チル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオンに10mlの
4N塩酸/ジオキサンを加え、室温で2時間攪拌した
後、不溶性の成績体をろ取し、酢酸エチルで洗浄して、
0.41gの標記成績体を得た。 融点:215−218℃。
ル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ)ベ
ンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン塩酸塩(例示化
合物番号1−1235) (41−1a)5−[4−(6−ペンタフルオロフェノ
キシ−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ)ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン 1.17gの2−ヒドロキシメチル−1−メチル−6−
ペンタフルオロフェノキシ−1H−ベンツイミダゾー
ル、1.86gの5−(4−ヒドロキシベンジル)−3
−トリフェニルメチルチアゾリジン−2,4−ジオン、
1.01gのアゾジカルボニルジピペリジン、0.81
gのトリ−n−ブチルホスフィンおよび50mlのトル
エンの混合物を室温で16時間攪拌した。反応液をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン
/酢酸エチル=3/2で溶出された画分を集め、溶媒を
留去した。得られた5−[4−(6−ペンタフルオロフ
ェノキシ−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ)ベンジル]−3−トリフェニルメチル
チアゾリジン−2,4−ジオンに100mlの80%酢
酸水を加え、70℃で1時間攪拌した。反応液を濃縮し
た後、10%重曹水で中和して、析出した結晶をろ取
し、水洗した。得られた粗結晶をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル
=1/1)で分離精製して、1.29gの標記化合物を
得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.42。
ルオロフェノキシ−1−メチル−1H−ベンツイミダゾ
ール−2−イルメトキシ)ベンジル]チアゾリジン−
2,4−ジオン塩酸塩 1.29gの5−[4−(6−ペンタフルオロフェノキ
シ−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イル
メトキシ)ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジオンお
よび30mlの4規定塩酸/酢酸エチルを用いて、実施
例(2−2b)と同様に反応させ、精製して、1.13
gの標記化合物を得た。 融点:169−172℃。
ロキシフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオンおよびその塩酸塩(例示化合物番号1−
1234) (42−1)N−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェノキシ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t
−ブチルエステル0.71gのN−[2−アミノ−5−
(2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノキ
シ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル、0.68gの4−(2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル)フェノキシ酢酸、0.39g
のシアノホスホン酸ジエチル、0.24gのトリエチル
アミンおよび30mlの無水テトラヒドロフランを用い
て、実施例(2−1)と同様に反応させ、精製して、
1.13gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.41。
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1−
メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン 1.12gのN−{2−[4−(2,4−ジオキソチア
ゾリジン−5−イルメチル)フェノキシアセチルアミ
ノ]−5−(2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェノキシ)フェニル}−N−メチルカルバミン酸 t
−ブチルエステルおよび25mlの4規定塩酸/ジオキ
サンを用いて、実施例(2−2a)と同様に反応させ、
精製して、0.73gの標記化合物を得た 。
溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=
0.19。
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1−
メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン・塩酸塩 0.73gの5−{4−[6−(2,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1−メチル−1H−
ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チ
アゾリジン−2、4−ジオンおよび20mlの4規定塩
酸/酢酸エチルを用いて、実施例(2−2b)と同様に
処理して、0.31gの標記化合物を得た。 融点:182−195℃。
ロキシフェニルチオ)−1−メチル−1H−ベンツイミ
ダゾール−2−イルメトキシ]ベンジリデン}チアゾリ
ジン−2、4−ジオン(例示化合物番号5−135) 502mgの4−[6−(3、5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニルチオ)−1−メチル−1H−ベン
ツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンツアルデヒ
ド、234mgのチアゾリジン−2、4−ジオン、17
0mgのピペリジンおよび60mlのエタノールの混合
物を19時間加熱還流した。反応終了後、得られた反応
液を乾固し、注水した。不溶性の成績体をろ取し、水お
よびジイソプロピルエーテルで洗浄して、517mgの
標記化合物を得た。 融点:247−249℃。
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
(例示化合物番号1−1242) 4.10gのN−[2−アミノ−5−(4−t−ブトキ
シカルボニル−n−ヘキシルアミノフェノキシ)フェニ
ル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、
2.81gの4−(2,4−ジオキソチアゾリジン−5
−イルメチル)フェノキシ酢酸、1.63gのシアノホ
スホン酸ジエチル、1.01gのトリエチルアミンおよ
び100mlの無水テトラヒドロフランの混合物を室温
で28時間攪拌した。反応液を濃縮した後、水を加え、
酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。抽出液より溶剤を留去し、得られた残渣に50
mlの4規定塩酸/ジオキサンを加え、室温で66時間
攪拌した。反応混合物を水に注ぎ、重曹で中和した後、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、溶剤を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出溶剤:n−ヘキサン/酢酸
エチル=2/3)で精製して、2.89gの標記化合物
を得た。 融点:177−179℃。
シルアミノ)フェノキシ]−1−メチル−1H−ベンツ
イミダゾール−2−イルメトキシ)ベンジル}チアゾリ
ジン−2、4−ジオン塩酸塩(例示化合物番号1−13
18) 502mgの5−{4−[6−(4−n−ヘキシルアミ
ノフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾー
ル−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、
4−ジオン、112mgの無水酢酸、356mgのピリ
ジン、37mgの4−ジメチルアミノピリジンおよび3
0mlの無水テトラヒドロフランの混合溶液を室温で1
4時間放置した。反応液を濃縮した後、水を加え、酢酸
エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。抽出液より溶剤を留去し、得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:n−ヘキサン
/酢酸エチル=1/3)で精製後、20mlの4規定塩
酸/酢酸エチルで処理して、410mgの標記化合物を
得た。
ル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベ
ンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン・2塩酸塩(例
示化合物番号1−142) (46−1)N−{5−(4−アミノフェノキシ)−2
−[4−(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメ
チル)フェノキシアセチルアミノ]フェニル}−N−メ
チルカルバミン酸 t−ブチルエステル 500mgのN−[2−アミノ−5−(4−t−ブトキ
シカルボニルアミノフェノキシ)フェニル]−N−メチ
ルカルバミン酸 t−ブチルエステル、366mgの4
−(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル)
フェノキシ酢酸、212mgのシアノホスホン酸ジエチ
ル、132mgのトリエチルアミンおよび10mlの無
水テトラヒドロフランを用いて、実施例(2−1)と同
様に反応させ、精製して、395mgの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=2/3):Rf値=0.51。
ノフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾー
ル−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、
4−ジオン・2塩酸塩 27.08gのN−{5−(4−アミノフェノキシ)−
2−[4−(2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イル
メチル)フェノキシアセチルアミノ]フェニル}−N−
メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルを50mlの
1、4−ジオキサンに溶解し、150mlの4規定塩酸
/ジオキサンを加え、室温で2日間攪拌した。析出した
成績体をろ取し、酢酸エチルで洗浄して、14.43g
の標記化合物を得た。 融点:195℃(分解点)。
1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメト
キシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン(例示
化合物番号1−164) 400mgの5−{4−[6−(4−アミノフェノキ
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
・2塩酸塩、71mgの塩化アセチル、263mgのト
リエチルアミンおよび8mlの無水N、N−ジメチルホ
ルムアミドの混合物を室温で1時間攪拌した。反応終了
後、反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥させた後、溶剤を留去し、得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:n−ヘキサ
ン/酢酸エチル=1/4→酢酸エチル→酢酸エチル/メ
タノール=1/10)で精製して、320mgの標記化
合物を得た。 融点:92.2−95.0℃。
−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメ
トキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン(例
示化合物番号1−1248) 400mgの5−{4−[6−(4−アミノフェノキ
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
・2塩酸塩、126mgの塩化ベンゾイル、263mg
のトリエチルアミンおよび8mlの無水N、N−ジメチ
ルホルムアミドを用いて、実施例47と同様に反応さ
せ、精製して、247mgの標記化合物を得た。 融点:200.2−204.4℃。
ノ)フェノキシ]−1−メチル−1H−ベンツイミダゾ
ール−2−イルメトキシ}ベンジル]チアゾリジン−
2、4−ジオン(例示化合物番号1−1256) 400mgの5−{4−[6−(4−アミノフェノキ
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
・2塩酸塩、123mgの塩化3−クロロベンゾイル、
263mgのトリエチルアミンおよび8mlの無水N、
N−ジメチルホルムアミドを用いて、実施例47と同様
に反応させ、精製して、232mgの標記化合物を得
た。 融点:237.8−238.8℃。
キシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−
イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオ
ン(例示化合物番号1−1311) 400mgの5−{4−[6−(4−アミノフェノキ
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
・2塩酸塩、142mgの塩化イソニコチノイル塩酸
塩、232mgのトリエチルアミンおよび8mlの無水
N、N−ジメチルホルムアミドを用いて、実施例47と
同様に反応させ、精製して、306mgの標記化合物を
得た。 融点:222℃(分解点)。
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
(例示化合物番号1−1305) 400mgの5−{4−[6−(4−アミノフェノキ
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
・2塩酸塩、195mgの塩化ニコチノイル塩酸塩、3
54mgのトリエチルアミンおよび8mlの無水N、N
−ジメチルホルムアミドを用いて、実施例47と同様に
反応させ、精製して、297mgの標記化合物を得た。 融点:213.0−214.7℃。
ルアミノ)フェノキシ]−1−メチル−1H−ベンツイ
ミダゾール−2−イルメトキシ}ベンジル]チアゾリジ
ン−2、4−ジオン(例示化合物番号1−1263) 400mgの5−{4−[6−(4−アミノフェノキ
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
・2塩酸塩、141mgの塩化2、4−ジフルオロベン
ゾイル、232mgのトリエチルアミンおよび8mlの
無水N、N−ジメチルホルムアミドを用いて、実施例4
7と同様に反応させ、精製して、251mgの標記化合
物を得た。
ノキシ]−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ}ベンジル]チアゾリジン−2、4−ジ
オン(例示化合物番号1−1277) 400mgの5−{4−[6−(4−アミノフェノキ
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
・2塩酸塩、153mgの塩化2−ナフトイル、232
mgのトリエチルアミンおよび8mlの無水N、N−ジ
メチルホルムアミドを用いて、実施例47と同様に反応
させ、精製して、337mgの標記化合物を得た。 融点:220.7−222.7℃。
ノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジ
オン(例示化合物番号1−1298) 90mgのシクロヘキサンカルボン酸および232mg
のトリエチルアミンを8mlの無水N、N−ジメチルホ
ルムアミドに溶解させた後、87mgのクロロ蟻酸エチ
ルを室温下滴下し、同温で1.5時間攪拌した。次いで
400mgの5−{4−[6−(4−アミノフェノキ
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
・2塩酸塩を少しづつ加え、室温で2時間、50℃で
1.5時間攪拌した。反応液を濃縮した後、水を加え、
酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。抽出液より溶媒を留去し、得られた残渣に酢酸
エチルを加え、析出した結晶をろ取、酢酸エチルで洗浄
して、262mgの標記化合物を得た。 融点:181.7−183.7℃。
ノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジ
オン(例示化合物番号1−1292) 90mgのシクロペンタンカルボン酸および232mg
のトリエチルアミンを8mlの無水N、N−ジメチルホ
ルムアミドに溶解させた後、87mgのクロロ蟻酸エチ
ルを室温下滴下し、同温で1.5時間攪拌した。次いで
400mgの5−{4−[6−(4−アミノフェノキ
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
・2塩酸塩を少しづつ加え、室温で5時間攪拌した後、
同温で一晩放置した。反応液を濃縮した後、水を加え、
析出した結晶をろ取し、水および酢酸エチルで洗浄し
て、236mgの標記化合物を得た。 融点:227.3−228.4℃。
ール 50gの水素化ナトリウム(55重量%)をn−ヘキサ
ンで洗浄し、2000mlの無水テトラヒドロフランを
加え、この混合液に、氷冷下、2,3,6−トリメチル
−4−ピバロイルオキシフェノール240gの無水テト
ラヒドロフラン溶液500mlを90分間かけて滴下
し、室温で2時間攪拌した。氷冷下、反応液に86ml
のクロロメチルメチルエーテルを30分間かけて滴下
し、室温で1時間攪拌した後、減圧下、テトラヒドロフ
ランを約50%留去し、氷水中へ注ぎ、酢酸エチルで抽
出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水酢酸ナトリ
ウムで乾燥させた後、減圧下、溶媒を留去し、294g
の黄色油状物を得た。得られた黄色油状物に1000m
lのメタノールを加え、氷冷下、水酸化カリウム116
gのメタノール溶液500mlを滴下し、室温で1時間
攪拌した。減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣を氷水
中に注ぎ、6規定塩酸水溶液を用いて中和した後、酢酸
エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧下、溶媒を留去し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=5/1→3
/1)で分離精製し、193gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=3/1):Rf値=0.47。
フェノキシ)−2−メチルアミノ−3−ニトロピリジン 4−メトキシメトキシ−2,3,5−トリメチルフェノ
ール193gの無水N,N−ジメチルホルムアミド溶液
300mlを、50gの水素化ナトリウム(55重量
%、n−ヘキサンで洗浄)と1000mlの無水N,N
−ジメチルホルムアミドの懸濁液中に、氷冷下、1時間
かけて滴下した後、室温で2時間攪拌した。反応液に6
−クロロ−2−メチルアミノ−3−ニトロピリジン19
7gの無水N,N−ジメチルホルムアミド溶液800m
lを、氷冷下、1時間かけて滴下し、室温で2時間攪拌
した。減圧下、溶媒を留去し、残渣を氷水中に注ぎ、酢
酸エチルおよび水を加え、不溶物をろ取した後、水、エ
タノールで洗浄し、141gの標記化合物を得た。ま
た、ろ液より有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出
した後、有機層と抽出液を合わせ、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧下、溶媒を
留去し、エタノールで洗浄し、126gの標記化合物を
得た。 融点:102−103℃。
3,5−トリメチルフェノキシ)−3−メチル−3H−
イミダゾ[4,5−b]ピリジン 288gの6−(4−メトキシメトキシ−2,3,5−
トリメチルフェノキシ)−2−メチルアミノ−3−ニト
ロピリジン、14gの10%パラジウム−炭素および1
500mlのメタノールの混合液を、水素雰囲気下、室
温で2時間攪拌した。反応液に、14gの10%パラジ
ウム−炭素、500mlのメタノールおよび500ml
のテトラヒドロフランを加え、水素雰囲気下、更に50
℃で8時間攪拌した。反応液より触媒をろ別し、ろ液を
濃縮した後、得られた残渣に500gのグリコール酸を
加え、150℃で6時間攪拌した。反応液に、1000
mlの4規定塩酸水溶液を加え、120℃で1時間攪拌
し、室温で一晩放置した。反応液を、氷水中に注ぎ、水
酸化ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液を用いて
中和し、不溶物をろ別した。得られた固型物をテトラヒ
ドロフランを溶出溶剤とするシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで分離精製し、得られた固型物をエタノール
で洗浄し、45.5gの標記化合物を得た。 融点:181−182℃。
3,5−トリメチルフェノキシ)−3−メチル−3H−
イミダゾ[4,5−b]ピリジン 2−ヒドロキシメチル−5−(4−ヒドロキシ−2,
3,5−トリメチルフェノキシ)−3−メチル−3H−
イミダゾ[4,5−b]ピリジン38.0gのピリジン
溶液400mlに、氷冷下、69mlの無水酢酸を滴下
し、室温で3時間攪拌した後、室温で一晩放置した。減
圧下、溶媒を留去し、水を加え、酢酸エチルで抽出した
後、抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥させた。減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:n−
ヘキサン/酢酸エチル=1/2)で分離精製し、39.
5gの標記化合物を得た。 融点:128−129℃。
キシ)−2−ヒドロキシメチル−3−メチル−3H−イ
ミダゾ[4,5−b]ピリジン 2−アセトキシメチル−5−(4−アセトキシ−2,
3,5−トリメチルフェノキシ)−3−メチル−3H−
イミダゾ[4,5−b]ピリジン26.0gのメタノー
ル溶液500mlに、−18℃で1.2mlのナトリウ
ムメトキシドのメタノール溶液(28%)を滴下し、同
温で1時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで
抽出した後、抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥させた。減圧下、溶媒を留去し、得られ
た残渣をエタノールで結晶化させ、結晶をろ取し、2
0.5gの標記化合物を得た。 融点:179−180℃。
メチルフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチ
ルカルバミン酸 t−ブチルエステル 6.11gの水素化ナトリウム(55重量%)を300
mlのN,N−ジメチルホルムアミドに懸濁させ、2
7.5gの4−メトキシメトキシ−2,3,5−トリメ
チルフェノールを加え、室温で1時間攪拌した。次いで
反応液に、40.1gのN−(5−クロロ−2−ニトロ
フェニル)−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエス
テルを少しずつ加え、120℃で2時間攪拌し、濃縮し
た後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水
硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した
後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=5/1)で
分離精製し、57.0gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=4/1):Rf値=0.55。
3,5−トリメチルフェノキシ)フェニル]−N−メチ
ルカルバミン酸 t−ブチルエステル 57.0gのN−[5−(4−メトキシメトキシ−2,
3,5−トリメチルフェノキシ)−2−ニトロフェニ
ル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、
3gの10%パラジウム−炭素および500mlのメタ
ノ−ル混合物を、水素雰囲気下、室温で8時間激しく攪
拌した。反応液より触媒をろ去し、ろ液を濃縮した後、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で分
離精製し、52.5gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=3/1):Rf値=0.31。
ール 12.08gの3,5−ジメチル−4−ニトロフェノー
ル、11.45gの酸化第一銅、100mlの1,4−
ジオキサン、10mlのアセトンおよび100mlの6
規定塩酸の混合液を2時間加熱還流した。反応液を氷水
中へ注ぎ、エーテルで抽出し、得られた抽出液を無水硫
酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧下、溶媒を留去し
た。得られた残渣を150mlのジクロロメタンに溶解
させ、氷冷下、3.61gの水素化ホウ素ナトリウムを
加えた後、50mlのメタノールを内温10℃以下で滴
下し、室温で90分間攪拌した。反応液を濃縮し、氷水
中へ注ぎ、3規定塩酸を用いて酸性にして析出した生成
物をろ取した後、水洗し、さらにn−ヘキサンで洗浄
し、5.93gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=4/1):Rf値=0.35。
フェノール 5.91gの2−クロロ−3,5−ジメチルベンゼン−
1,4−ジオール、8.13gのピリジンおよび30m
lのジクロロメタンの混合物に、氷冷下、ピバリン酸ク
ロリド4.54gを含有するジクロロメタン溶液10m
lを滴下し、同温で1時間、室温で90分間攪拌した。
反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=10/1)
で分離精製し、8.02gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=4/1):Rf値=0.53。
フェノール 1.78gの水素化ナトリウム(55重量%)を含有す
る20mlの無水テトラヒドロフラン懸濁液に、3−ク
ロロ−2,6−ジメチル−4−ピバロイルオキシフェノ
ール8.02gの無水テトラヒドロフラン溶液30ml
を滴下し、室温で30分攪拌した。反応液に3.28g
のクロロメチルメチルエーテルを加え、室温で13時間
攪拌した後、反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで
抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減
圧下、溶媒を留去した後、得られた残渣9.30gを3
0mlのメタノールに溶解させ、水酸化カリウム3.5
1gのメタノール溶液30mlを滴下し、室温で30分
間攪拌した。反応液を濃縮し、3規定塩酸および重曹を
用いて中和し、酢酸エチルで抽出した後、抽出液を無水
硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去した。
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=10/1)で
分離精製し、5.65gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=10/1):Rf値=0.29。
ール、6.63gのピバリン酸クロリド、11.85g
のピリジンおよび60mlのジクロロメタンを用いて、
参考例9と同様に反応させ、精製して、6.77gの標
記化合物を得た。 融点:92−94℃。
0mlの無水テトラヒドロフランの懸濁液に、6.75
gの2,6−ジメチル−4−ピバロイルオキシフェノ−
ルを少しずつ加え、室温で30分間攪拌した後、反応液
に3.18gのクロロメチルメチルエーテルを加え、同
温で3時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで
抽出した後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、
減圧下、溶媒を留去し、8.17gの粗製ピバリン酸
4−メトキシメトキシ−3,5−ジメチルフェニルエス
テルを得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=10/1):Rf値=0.39 8.09gの粗製ピバリン酸 4−メトキシメトキシ−
3,5−ジメチルフェニルエステルを30mlのメタノ
ールに溶解させ、水酸化カリウム3.40gのメタノー
ル溶液30mlを滴下し、室温で4時間攪拌した。反応
液を濃縮して、水を加え、3規定塩酸および重曹を用い
て中和した後、酢酸エチルで抽出し、抽出液を無水硫酸
ナトリウムで乾燥させた。減圧下、溶媒を留去し、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で分離精製
し、5.58gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=10/1):Rf値=0.10。
トロフェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル 1.60gの4−ベンジルオキシフェノール、2.29
gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メ
チルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.35gの
水素化ナトリウム(55%重量)および20mlの無水
N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同
様に反応させ、精製して、3.33gの標記化合物を得
た。 融点:108−110℃ シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=5/1):Rf値=0.36。
フェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステル 1.46gの4−メトキシメトキシ−3,5−ジメチル
フェノール、2.29gのN−(5−クロロ−2−ニト
ロフェニル)−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエ
ステル、0.35gの水素化ナトリウム(55%重量)
および30mlの無水N,N−ジメチルホルムアミドを
用いて、参考例6と同様に反応させ、精製して、3.1
4gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=5/1):Rf値=0.29。
5−ジメチルフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 5.65gの2−クロロ−4−メトキシメトキシ−3,
5−ジメチルフェノール、8.88gのN−(5−クロ
ロ−2−ニトロフェニル)−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル、1.35gの水素化ナトリウム
(55%重量)および100mlの無水N,N−ジメチ
ルホルムアミドを用いて、参考例6と同様に反応させ、
精製して、9.19gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=4/1):Rf値=0.47。
フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエス
テル 0.76gの2−ヒドロキシピリジン、2.29gのN
−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチルカ
ルバミン酸 t−ブチルエステル、0.35gの水素化
ナトリウム(55%重量)および10mlの無水N,N
−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同様に反
応させ、精製して、0.36gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=4/1):Rf値=0.32。
フェニルチオ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカ
ルバミン酸 t−ブチルエステル 476mgの3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンゼンチオール、573mgのN−(5−クロロ−2
−ニトロフェニル)−N−メチルカルバミン酸t−ブチ
ルエステル、175mgの水素化ナトリウム(55%重
量)および10mlの無水N,N−ジメチルホルムアミ
ドを用いて、参考例6と同様に反応させ、精製して、3
71mgの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=4/1):Rf値=0.59。
シ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル 1.10gの4−アミノ−3,5−ジメチルフェノー
ル、2.29gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニ
ル)−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、
0.35gの水素化ナトリウム(55%重量)および3
0mlの無水N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、
参考例6と同様に反応させ、精製して、2.27gの標
記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=3/1):Rf値=0.24。
5−ジメチルフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 2.27gのN−[5−(4−アミノ−3,5−ジメチ
ルフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカ
ルバミン酸 t−ブチルエステル、1.28gの重炭酸
ジ−t−ブチル、0.59gのトリエチルアミンおよび
20mlの無水テトラヒドロフランの混合物を、6時間
加熱還流した。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチル
で抽出した後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥さ
せ、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:n−ヘキサン
/酢酸エチル=10/1)で分離精製し、1.74gの
標記化合物を得た。 融点:154−156℃。
フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエス
テル 3.32gのN−[5−(4−ベンジルオキシフェノキ
シ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル、0.39gの10%パラジウム
−炭素、100mlのメタノールおよび100mlの
1,4−ジオキサンを用いて、参考例7と同様に反応さ
せ、精製して、2.40gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.59。
5−ジメチルフェノキシ)フェニル]−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステル 3.12gのN−[5−(4−メトキシメトキシ−3,
5−ジメチルフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.33
gの10%パラジウム−炭素および30mlのメタノー
ルを用いて、参考例7と同様に反応させ、精製して、
2.72gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=3/1):Rf値=0.14。
アミノ−3,5−ジメチルフェノキシ)フェニル]−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル1.71g
のN−[5−(4−t−ブトキシカルボニルアミノ−
3,5−ジメチルフェノキシ)−2−ニトロフェニル]
−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.
2gの10%パラジウム−炭素および100mlのメタ
ノールの混合液を、水素雰囲気下、室温で11時間激し
く攪拌した。反応液より触媒をろ去し、ろ液を濃縮し、
1.56gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=3/1):Rf値=0.14。
シ]−2−ニトロフェニル}−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル 0.72gの2−(4−モルホリノ)フェノール、1.
15gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.17
gの水素化ナトリウム(55重量%)及び10mlの無
水N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と
同様に反応させ、精製して、1.44gの標記化合物を
得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=4/1):Rf値=0.34。
シ]−2−ニトロフェニル}−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル 2.16gの3−(4−モルホリノ)フェノール、3.
37gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル及び15m
lの無水N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、参考
例6と同様に反応させ、精製して、5.0gの標記化合
物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ベンゼ
ン/酢酸エチル=10/1):Rf値=0.34。
ル)フェノキシ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル 1.44gのN−{5−[2−(モルホリン−4−イ
ル)フェノキシ]−2−ニトロフェニル}−N−メチル
カルバミン酸 t−ブチルエステル、0.20gの10
%パラジウム−炭素及び50mlのメタノールを用い
て、参考例7と同様に反応させ、精製して、1.20g
の標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=2/1):Rf値=0.25。
ル)フェノキシ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル 5.0gのN−{5−[3−(モルホリン−4−イル)
フェノキシ]−2−ニトロフェニル}−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステル、0.5gの10%パラ
ジウム−炭素、30mlのメタノール及び70mlのト
ルエン混合溶媒を用いて、参考例7と同様に反応させ、
精製して、4.5gの標記化合物を得た。
溶剤:ベンゼン/酢酸エチル=4/1):Rf値=0.
23。
フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエス
テル 窒素雰囲気中氷冷下に1.04gの水素化ナトリウム
(55重量%)を3.4gの2−ピペリジノフェノール
を含む35mlのN,N−ジメチルホルムアミドに加
え、室温で15分間攪拌した。ついで反応液に、5.2
5gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−
メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルを少しづつ加
え、約60℃で2時間攪拌した。反応終了後、溶媒を留
去し水を加え、濃塩酸で中和した後、酢酸エチルで抽出
した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧
下、溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出溶剤:c−ヘキサン/イソ
プロピルエーテル=5/1)で分離精製し、Rf値=
0.27[シリカゲル薄層クロマトグラフィー(c−ヘ
キサン/イソプロピルエーテル=5/1)]を有するN
−[2−ニトロ−5−(2−ピペリジノフェノキシ)フ
ェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステ
ルを得た。このニトロ化合物を100mlのトルエン−
メタノール(7:3)混合溶媒に溶解し、0.63gの
10%パラジウム−炭素を加え、水素雰囲気下、室温で
14.5時間激しく攪拌した。反応液より触媒をろ去し
た後、溶媒を留去し、得られた残渣を氷冷したメタノー
ルおよびn−ヘキサンで洗浄し、4.2gの標記化合物
を得た。 融点:108−110℃。
イルチオ)フェニル]カルバミン酸 t−ブチルエステ
ル 0.89gの2−メルカプトピリジン、2.29gのN
−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチルカ
ルバミン酸 t−ブチルエステル、0.11gの水素化
ナトリウム(55重量%)および40mlの無水N,N
−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同様に反
応させ、精製して、1.13gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=5/1):Rf値=0.20。
フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエス
テル 1.88gの2−ピロリジノフェノール、3.34gの
N−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチル
カルバミン酸 t−ブチルエステル、0.52gの水素
化ナトリウム(55重量%)、および22mlの無水
N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例27と
同様に反応させ、精製して、Rf値=0.25[シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー(c−ヘキサン/酢酸エチ
ル=10/1)]を有するN−[2−ニトロ−5−(2
−ピロリジノフェノキシ)フェニル]−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステルを得た。さらに、0.4
5gの10%パラジウム−炭素および50mlのトルエ
ン−メタノール(7:3)混合溶媒を用いて、参考例2
7と同様に反応させ、精製して、3.0gの標記化合物
を得た。 融点:136−138℃。
トロフェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル 2.00gの2−ベンジルオキシフェノール、2.87
gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メ
チルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.44gの
水素化ナトリウム(55重量%)および20mlの無水
N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同
様に反応させ、精製して、4.16gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=3/1):Rf値=0.62。
2−ニトロフェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−
ブチルエステル 2.28gの4−(1−アダマンチル)フェノール、
2.87gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)
−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.
44gの水素化ナトリウム(55重量%)および40m
lの無水N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、参考
例6と同様に反応させ、精製して、4.30gの標記化
合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=3/1):Rf値=0.76。
トロフェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル 0.82gの3−ジメチルアミノフェノール、1.72
gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メ
チルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.26gの
水素化ナトリウム(55重量%)および50mlの無水
N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同
様に反応させ、精製して、2.17gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=9/1):Rf値=0.21。
フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエス
テル 3.1gの3−ヒドロキシピリジン、9.3gのN−
(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステル、1.4gの水素化ナト
リウム(55重量%)、および25mlの無水N,N−
ジメチルホルムアミドを用いて、参考例27と同様に反
応させ、精製して、N−[2−ニトロ−5−(ピリジン
−3−イルオキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン
酸 t−ブチルエステルを9.2g得た。さらに、1.
0gの10%パラジウム−炭素および100mlのトル
エン−メタノール(7:3)混合溶媒を用いて、参考例
27と同様に反応させ、精製して、7.5gの標記化合
物を得た。 融点:101−102℃。
シ]−2−ニトロフェニル}−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル 4.1gの4−(イミダゾール−1−イル)フェノー
ル、7.85gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニ
ル)−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、
1.25gの水素化ナトリウム(55重量%)および4
5mlの無水N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、
参考例6と同様に反応させ、精製して、8.8gの標記
化合物を得た。 融点:182−184℃。
ェノキシ)フェニル]カルバミン酸 t−ブチルエステ
ル 3.5gの2−フェニルフェノール、5.6gのN−
(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステル、1.08gの水素化ナ
トリウム(55重量%)および35mlの無水N,N−
ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同様に反応
させ、精製して、8.3gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:トルエ
ン/酢酸エチル=10/1):Rf値=0.56。
キシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン
酸 t−ブチルエステル 1.38gの2、3−ジメチルヒドロキノン、2.87
gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メ
チルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.87gの
水素化ナトリウム(55重量%)および20mlの無水
N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同
様に反応させ、精製して、1.92gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=3/1):Rf値=0.35。
フェノキシ)フェニル]カルバミン酸 t−ブチルエス
テル 4.0gの4−フェノキシフェノール、5.8gのN−
(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステル、1.1gの水素化ナト
リウム(55重量%)および35mlの無水N,N−ジ
メチルホルムアミドを用いて、参考例6と同様に反応さ
せ、精製して、8.6gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:トルエ
ン/イソプロピルエーテル=20/1):Rf値=0.
41。
ロフェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエ
ステル 1.26gの4−ヒドロキシチオフェノール、2.87
gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メ
チルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.87gの
水素化ナトリウム(55重量%)および20mlの無水
N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同
様に反応させ、精製して、2.86gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=3/1):Rf値=0.27。
ェノキシ)フェニル]カルバミン酸 t−ブチルエステ
ル 4.0gの3−フェニルフェノール、6.5gのN−
(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステル、1.13gの水素化ナ
トリウム(55重量%)および35mlの無水N,N−
ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同様に反応
させ、精製して、8.7gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=10/1):Rf値=0.22。
シ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステルおよびN−[5−(2―t―ブチ
ル−4−ヒドロキシフェノキシ)−2−ニトロフェニ
ル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 1.66gのt−ブチルヒドロキノン、2.87gのN
−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチルカ
ルバミン酸 t−ブチルエステル、0.87gの水素化
ナトリウム(55重量%)および20mlの無水N,N
−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同様に反
応させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶
剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1)にて分離精製
し、1.35gのN−[5−(3―t―ブチル−4−ヒ
ドロキシフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メ
チルカルバミン酸 t−ブチルエステル[シリカゲル薄
層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘキサン/酢酸
エチル=3/1):Rf値=0.45]および1.11
gのN−[5−(2―t―ブチル−4−ヒドロキシフェ
ノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミ
ン酸 t−ブチルエステル[シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー(展開溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=3/
1):Rf値=0.35]を得た。
ェノキシ)フェニル]カルバミン酸 t−ブチルエステ
ル 4.0gの4−フェニルフェノール、6.5gのN−
(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステル、1.13gの水素化ナ
トリウム(55重量%)および35mlの無水N,N−
ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同様に反応
させ、精製して、5.5gの標記化合物を得た。 融点:166−167℃。
フェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステル 4.44gの2、6−ジ−t−ブチルヒドロキノン、
8.60gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)
−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、2.
18gの水素化ナトリウム(55重量%)および50m
lの無水N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、参考
例6と同様に反応させ、精製して、0.60gの標記化
合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=10/1):Rf値=0.22。
キシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン
酸 t−ブチルエステル 1.38gの2、5−ジメチルヒドロキノン、2.87
gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メ
チルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.87gの
水素化ナトリウム(55重量%)および20mlの無水
N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同
様に反応させ、精製して、1.72gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:トルエ
ン/酢酸エチル=5/1):Rf値=0.58。
フェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t
−ブチルエステルおよびN−[2−アミノ−5−(4−
ヒドロキシ−3―メチルフェノキシ)フェニル]−N−
メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 0.87gの水素化ナトリウム(55重量%)を20m
lのN,N−ジメチルホルムアミドに懸濁させ、1.2
4gのメチルヒドロキノンを加え、室温で15分間攪拌
した。ついで反応液に、2.87gのN−(5−クロロ
−2−ニトロフェニル)−N−メチルカルバミン酸 t
−ブチルエステルを少しづつ加え、120℃で2時間攪
拌し、濃縮した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下、溶媒
を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出溶剤:n−ヘキサン/酢酸エリル=
3/1)で分離精製し、N−[5−(4−ヒドロキシ−
2−メチルフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−
メチルカルバミン酸 t−ブチルエステルおよびN−
[5−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェノキシ)−2
−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブ
チルエステルの混合物2.20gを得た。この混合物を
40mlのメタノールに溶解し、0.21gの10%パ
ラジウム−炭素を加え、水素雰囲気下、室温で2時間激
しく攪拌した。反応終了後、反応液より触媒をろ去し、
溶媒を留去して、1.88gの標記化合物の混合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=2/1):Rf値=0.16。
ルオキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカルバ
ミン酸 t−ブチルエステル 11.07gの4' −ベンジルオキシビフェニル−4−
オール、11.5gのN−(5−クロロ−2−ニトロフ
ェニル)−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステ
ル、2.2gの水素化ナトリウム(55重量%)、36
0mlの無水N,N−ジメチルホルムアミド−無水テト
ラヒドロフラン−無水トルエン(1:1:1)混合溶媒
を用いて、参考例6と同様に反応させ、精製して、1
4.75gの標記化合物を得た。 融点:123−125℃。
ニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 5.1gの4−シアノフェノール、11.5gのN−
(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステル、1.19gの水素化ナ
トリウム(55重量%)および80mlの無水N,N−
ジメチルホルムアミド−無水テトラヒドロフラン(5:
3)混合溶媒を用いて、参考例6と同様に反応させ、精
製して、8.45gの標記化合物を得た。 融点:141−143℃。
フェノキシ)フェニル]アミン 1.66gの水素化ナトリウム(55重量%)を50m
lの無水N,N−ジメチルホルムアミドに懸濁させ、
6.38gのペンタフルオロフェノールを加え、室温で
数分間攪拌した。次いで反応液に、10gのN−(5−
クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチルカルバミン
酸 t−ブチルエステルを少しづつ加え、150℃にて
15時間加熱し、溶媒を留去した後、水を加え、酢酸エ
チルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥さ
せ、減圧下、溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:n−ヘキサ
ン/トルエン=4/1)で分離精製し、2.2gの標記
化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/トルエン=2/1):Rf値=0.14。
ェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステ
ル 1.08gのN−メチル−N−[2−ニトロ−5−(ピ
リジン−2−イルチオ)フェニル]カルバミン酸 t−
ブチルエステル、1.00gの10%パラジウム−炭素
および20mlのメタノールを用いて、参考例7と同様
に反応させ、精製して、0.78gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=3/2):Rf値=0.33。
フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエス
テル 4.14gのN−[5−(2−ベンジルオキシフェノキ
シ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル、0.41gの10%パラジウム
−炭素および60mlのメタノールを用いて、参考例7
と同様に反応させ、精製して、2.89gの標記化合物
を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=2/1):Rf値=0.26。
2−アミノフェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−
ブチルエステル 4.28gのN−{5−[4−(1−アダマンチル)フ
ェノキシ]−2−ニトロフェニル}−N−メチルカルバ
ミン酸 t−ブチルエステル、0.42gの10%パラ
ジウム−炭素および60mlのメタノールを用いて、参
考例7と同様に反応させ、精製して、4.00gの標記
化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=2/1):Rf値=0.49。
シ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル 2.14gのN−[5−(3−ジメチルアミノフェノキ
シ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル、2.14gの10%パラジウム
−炭素および40mlのメタノールを用いて、参考例7
と同様に反応させ、精製して、1.63gの標記化合物
を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=2/1):Rf値=0.41。
ル)フェノキシ]フェニル}−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル 8.8gのN−{5−[4−(イミダゾール−1−イ
ル)フェノキシ]−2−ニトロフェニル}−N−メチル
カルバミン酸 t−ブチルエステル、0.8gの10%
パラジウム−炭素および160mlのN,N−ジメチル
ホルムアミドを用いて、参考例7と同様に反応させ、精
製して、5.7gの標記化合物を得た。 融点:115−116℃。
ェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステ
ル 8.3gのN−メチル−N−[2−ニトロ−5−(2−
フェニルフェノキシ)フェニル]カルバミン酸 t−ブ
チルエステル、0.66gの10%パラジウム−炭素お
よび100mlのトルエン−メタノール(7:3)混合
溶媒を用いて、参考例7と同様に反応させ、精製して、
6.9gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ベンゼ
ン/酢酸エチル=4/1):Rf値=0.30。
メチルフェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン
酸 t−ブチルエステル 1.90gのN−[5−(4−ヒドロキシ−2,3−ジ
メチルフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチ
ルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.20gの1
0%パラジウム−炭素および20mlのメタノールを用
いて、参考例7と同様に反応させ、精製して、1.61
gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=2/1):Rf値=0.13。
フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエス
テル 8.6gのN−[2−ニトロ−5−(4−フェノキシフ
ェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−
ブチルエステル、0.6gの10%パラジウム−炭素お
よび190mlのトルエン−メタノール(16:3)混
合溶媒を用いて、参考例7と同様に反応させ、精製し
て、7.2gの標記化合物を得た。 融点:105−106℃。
オ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル 2.84gのN−[5−(4−ヒドロキシフェニルチ
オ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル、1.52gの10%パラジウム
−炭素および50mlのメタノールを用いて、参考例7
と同様に反応させ、精製して、2.37gの標記化合物
を得た。 融点:62−67℃。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/2):Rf値=0.59。
ェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステ
ル 8.7gのN−[2−ニトロ−5−(3−フェニルフェ
ノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブ
チルエステル、0.69gの10%パラジウム−炭素お
よび100mlのトルエン−メタノール(7:3)混合
溶媒を用いて、参考例7と同様に反応させ、精製して、
6.06gの標記化合物を得た。 融点:114−115℃。
キシフェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル 1.29gのN−[5−(3−t−ブチル−4−ヒドロ
キシフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチル
カルバミン酸 t−ブチルエステル、0.16gの10
%パラジウム−炭素および40mlのメタノールを用い
て、参考例7と同様に反応させ、精製して、1.11g
の標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=2/1):Rf値=0.18。
キシフェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル 1.09gのN−[5−(2−t−ブチル−4−ヒドロ
キシフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチル
カルバミン酸 t−ブチルエステル、0.15gの10
%パラジウム−炭素および20mlのメタノールを用い
て、参考例7と同様に反応させ、精製して、0.95g
の標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=2/1):Rf値=0.18。
ェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステ
ル 5.32gのN−[2−ニトロ−5−(4−フェニルフ
ェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−
ブチルエステル、0.68gの10%パラジウム−炭素
および140mlのトルエン−酢酸エチル(1:1)混
合溶媒を用いて、参考例7と同様に反応させ、精製し
て、4.82gの標記化合物を得た。 融点:122−123℃。
メチルフェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン
酸 t−ブチルエステル 1.73gのN−[5−(4−ヒドロキシ−2,5−ジ
メチルフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチ
ルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.17gの1
0%パラジウム−炭素および50mlのメタノールを用
いて、参考例7と同様に反応させ、精製して、1.44
gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=2/1):Rf値=0.17。
−4−イルオキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン
酸 t−ブチルエステル 14.75gのN−[5−(4' −ベンジルオキシビフ
ェニル−4−イルオキシ)−2−ニトロフェニル]−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.86
gの10%パラジウム−炭素および140mlのトルエ
ン−酢酸エチル(1:1)混合溶媒を用いて、参考例7
と同様に反応させ、精製して、10.2gの標記化合物
を得た。 融点:89−91℃。
−t−ブチルフェノキシ)フェニル]−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステル 0.58gのN−[5−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ
−t−ブチルフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.12
gの10%パラジウム−炭素および20mlのメタノー
ルを用いて、参考例7と同様に反応させ、精製して、
0.55gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=3/1):Rf値=0.29。
ル]メチルアミン 3.29gのN−[5−(4−シアノフェノキシ)−2
−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブ
チルエステルおよび10.06gの塩化すず(II)二水
和物を100mlのt−ブタノール−酢酸エチル(1:
9)混合溶媒に溶解させ、60℃で1時間攪拌した後、
0.17gの水素化ホウ素ナトリウムを加え、さらに同
温で2.5時間攪拌した。反応液を濃縮した後、氷水に
注ぎ、重曹で中和した。酢酸エチルを加え、不溶物をセ
ライトでろ去した後、有機層を水層から分離し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、溶媒を留去し、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
溶媒:n−ヘキサン/酢酸エチル=3/2)で分離精製
し、1.49gの標記化合物を得た。 融点:80−82℃。
シ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル 4.5gの2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、6.
0gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−
メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、1.75g
の水素化ナトリウム(55重量%)および130mlの
無水N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6
と同様に反応させ、精製して、2.2gの標記化合物を
得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=5/1):Rf値=0.36。
シフェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸
t−ブチルエステル 2.1gのN−[5−(4−ベンゾイル−3−ヒドロキ
シフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカ
ルバミン酸 t−ブチルエステルを80mlのメタノー
ル−テトラヒドロフラン(5:3)混合溶媒に溶解さ
せ、0.5gの20%パラジウム−炭素を加え、水素雰
囲気下、室温で4時間攪拌した。反応液より触媒をろ去
した後、ろ液より溶媒を留去して、1.8gの標記化合
物を得た。
溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=2/1):Rf値=
0.26。
−2−ニトロフェニル]カルバミン酸 t−ブチルエス
テル 0.98gの4−メチルチオフェノール、2.00gの
N−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチル
カルバミン酸 t−ブチルエステル、0.31gの水素
化ナトリウム(55重量%)および60mlの無水N,
N−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同様に
反応させ、精製して、2.56gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=9/1):Rf値=0.17。
2−ニトロフェニル]カルバミン酸 t−ブチルエステ
ル 5.0gの4−メトキシフェノール、10.9gのN−
(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステル、2.2gの水素化ナト
リウム(55重量%)および120mlの無水N,N−
ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同様に反応
させ、精製して、12.2gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=8/1):Rf値=0.32。
ロメチルフェノキシ)フェニル]カルバミン酸 t−ブ
チルエステル 3.0gの4−トリフルオロメチルフェノール、4.3
gのN−(5−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メ
チルカルバミン酸 t−ブチルエステル、1.1gの水
素化ナトリウム(55重量%)および70mlの無水
N,N−ジメチルホルムアミドを用いて、参考例6と同
様に反応させ、精製して、1.26gの標記化合物を得
た。 融点:92−93℃。
2−ニトロフェニル]カルバミン酸 t−ブチルエステ
ル 7gの4−ベンジルフェノール、9.15gのN−(5
−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチルカルバミ
ン酸 t−ブチルエステル、1.74gの水素化ナトリ
ウム(55重量%)および70mlの無水N,N−ジメ
チルホルムアミドを用いて、参考例6と同様に反応さ
せ、精製して、12.2gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:トルエ
ン/ジイソプロピルエーテル=20/1):Rf値=
0.40。
シ)−2−ニトロフェニル]カルバミン酸 t−ブチル
エステル 5gの3−ベンジルオキシフェノール、6gのN−(5
−クロロ−2−ニトロフェニル)−N−メチルカルバミ
ン酸 t−ブチルエステル、1.1gの水素化ナトリウ
ム(55重量%)および40mlの無水N,N−ジメチ
ルホルムアミドを用いて、参考例6と同様に反応させ、
精製して、7.8gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=5/1):Rf値=0.32。
フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエス
テル 2.53gのN−メチル−N−[5−(4−メチルチオ
フェノキシ)−2−ニトロフェニル]カルバミン酸 t
−ブチルエステル、2.5gの10%パラジウム−炭素
および55mlのメタノールを用いて、参考例7と同様
に反応させ、精製して、1.94gの標記化合物を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=4/1):Rf値=0.15。
ェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステ
ル 7.2gのN−[5−(4−メトキシフェノキシ)−2
−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブ
チルエステル、0.5gの10%パラジウム−炭素およ
び100mlのメタノールを用いて、参考例7と同様に
反応させ、精製して、6.23gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=5/1):Rf値=0.18。
ノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブ
チルエステル 1.24gのN−メチル−N−[5−(4−トリフルオ
ロメチルフェノキシ)−2−ニトロフェニル]カルバミ
ン酸 t−ブチルエステルを60mlの水−ジオキサン
(1:5)混合溶媒に溶解させた後、4.2gの重曹お
よび3.5gの亜二チオン酸ナトリウムを加え、1時間
加熱還流した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽
出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後、減圧下、溶媒を留去し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:
n−ヘキサン/酢酸エチル=3/1〜2/1)で精製し
て、0.7gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=4/1):Rf値=0.27。
ェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステ
ル 12.2gのN−[5−(4−ベンジルフェノキシ)−
2−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−
ブチルエステル、0.91gの10%パラジウム−炭素
および140mlのトルエン−酢酸エチル(1:1)混
合溶媒を用いて、参考例7と同様に反応させ、精製し
て、10.1gの標記化合物を得た。 融点:114−115℃。
フェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエス
テル 7.8gのN−[5−(3−ヒドロキシフェノキシ)−
2−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−
ブチルエステル、0.9gの10%パラジウム−炭素お
よび140mlのトルエン−酢酸エチル(1:1)混合
溶媒を用いて、参考例7と同様に反応させ、精製して、
6gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1):Rf値=0.50。
ル−5−イルフェノキシ)フェニル]カルバミン酸 t
−ブチルエステル 2.95gのN−[5−(4−シアノフェノキシ)−2
−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン酸 t−ブ
チルエステル、7.97gのアジ化トリ−n−ブチル錫
および30mlの無水トルエンの混合物を23時間加熱
還流した。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽
出した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、溶
媒を留去し、得られた残渣を逆層分取液体クロマトグラ
フィー(溶出溶剤:水/アセトニトリル=1/1)で精
製して、3.20gの標記化合物を得た。 融点:81−84℃。
フェニルメチルテトラゾール−5−イル)フェノキシ]
フェニル}カルバミン酸 t−ブチルエステル 3.22gのN−メチル−N−[2−ニトロ−5−(4
−テトラゾール−5−イルフェノキシ)フェニル]カル
バミン酸 t−ブチルエステル、2.18gの塩化トリ
フェニルメタン、0.79gのトリエチルアミン、30
mlの無水テトラヒドロフランおよび30mlの無水
N,N−ジメチルホルムアミドの混合物を室温で24時
間攪拌した。反応液を濃縮し、水を加え、酢酸エチルで
抽出した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、
溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=
5/1)で精製して、3.15gの標記化合物を得た。 融点:161−163℃。
フェニルメチルテトラゾール−5−イル)フェノキシ]
フェニル}カルバミン酸 t−ブチルエステル 0.98gのN−メチル−N−{2−ニトロ−5−[4
−(2−トリフェニルメチルテトラゾール−5−イル)
フェノキシ]フェニル}カルバミン酸 t−ブチルエス
テル、0.13gの10%パラジウム−炭素および10
0mlの酢酸エチルを用いて、参考例7と同様に反応さ
せ、精製して、0.70gの標記化合物を得た。 融点:192−193℃。
ロフェノキシ−1H−ベンツイミダゾール 2.10gのN−メチル−N−[2−ニトロ−5−(ペ
ンタフルオロフェノキシ)フェニル]アミン、0.23
gの10%パラジウム−炭素、300mlのメタノール
の混合物を水素雰囲気下、室温で4時間攪拌した。反応
液より触媒をろ別し、ろ液を濃縮した後、得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:n
−ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で分離精製して、R
f値0.26(展開溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=
4/1)を有するN−[2−アミノ−5−(ペンタフル
オロフェノキシ)フェニル]−N−メチルアミンを1.
48g得た。この中間体に0.76gのグリコール酸、
25mlの4N塩酸および25mlのジオキサンを加
え、16時間加熱還流した。反応液を濃縮し、水を加
え、重曹で中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液
を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去し、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出溶剤:酢酸エチル/メタノール=20/1)に付
した。溶媒留去後、超音波照射下n−ヘキサンより析出
する結晶をろ取し、n−ヘキサンで洗浄して、1.17
gの標記化合物を得た。 融点:121−128℃。
チル−1H−ベンツイミダゾール 1.08gのN−[2−アミノ−5−(4−シアノフェ
ノキシ)フェニル]−N−メチルアミン、0.68gの
グリコール酸、20mlの4N塩酸および20mlの
1,4−ジオキサンの混合物を9時間加熱還流した。反
応液を濃縮し、水を加え、重曹で中和した後、酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出溶剤:酢酸エチル/メタノール
=20/1)で精製して、0.86gの標記化合物を得
た。 融点:183−185℃。
ル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベ
ンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2,
4−ジオン 279mgの4−シアノフェノキシ−2−ヒドロキシメ
チル−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール、558
mgの5−(4−ヒドロキシベンジル)−3−トリフェ
ニルメチルチアゾリジン−2,4−ジオン、378mg
のアゾジカルボニルジピペリジン、303mgのトリ−
n−ブチルホスフィンおよび20mlのトルエンの混合
物を室温で15時間攪拌した。反応液をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出溶剤:n−ヘキサン/酢酸
エチル=1/1)で分離精製して、706mgの標記化
合物を得た。 融点:135−138℃。
ェニルエステル 5.3gの酢酸 2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニルエステルを40mlのアセトンに溶解させ
た後、5.17gの臭化ベンジルおよび4.15gの炭
酸カリウムを加え、室温で48時間攪拌した。反応終了
後、注水し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:c−ヘ
キサン/ジイソプロピルエーテル=10/1)で精製し
て、4.9gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:c−ヘ
キサン/ジイソプロピルエーテル=10/1):Rf値
=0.35。
ル 1.51gの水酸化カリウムを12mlのメタノールに
溶解させた後、4.9gの酢酸 4−ベンジルオキシ−
2,5−ジ−t−ブチルフェニルエステルを加え、室温
で一晩放置した。反応混合物に希塩酸を加え中和し、酢
酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を留去して、4.3gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:c−ヘ
キサン/ジイソプロピルエーテル=10/1):Rf値
=0.44。
チルフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチル
カルバミン酸 t−ブチルエステル 4.3gの4−ベンジルオキシ−2,5−ジ−t−ブチ
ルフェノール、3.51gのN−(5−クロロ−2−ニ
トロフェニル)−N−メチルカルバミン酸 t−ブチル
エステル、0.72gの水素化ナトリウム(55重量
%)および15mlの無水N,N−ジメチルホルムアミ
ドを用いて、参考例6と同様に反応させ、精製して、
7.1gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:c−ヘ
キサン/ジイソプロピルエーテル=10/1):Rf値
=0.20。
−ヒドロキシフェノキシ)フェニル]−N−メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステル 7.1gのN−[5−(4−ベンジルオキシ−2,5−
ジ−t−ブチルフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−
N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル、0.7
gの10%パラジウム−炭素および57mlのトルエン
−メタノール−酢酸エチル(16:16:25)混合溶
媒を用いて、参考例7と同様に反応させ、精製して、
3.65gの標記化合物を得た。 融点:208−210℃。
ニルチオ−2−ヒドロキシメチル−1−メチル−1H−
ベンツイミダゾール N −[5−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N −メチルカル
バミン酸 t−ブチルエステルを水素添加および酸処理
することにより得られる[2−アミノ−5−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒエオドロキシフェニルチオ)フ
ェニル]メチルアミン11.68gを4規定塩酸300
mlに溶解し、7.43gのグリコール酸を加え、6時
間加熱還流した。反応混合物を氷水に注ぎ、重曹で中和
した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナト
リウムで乾燥させた後、溶媒を留去し、得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:酢酸
エチル/メタノール=20/1)で精製して、8.66
gの標記化合物を得た。 融点:195−198℃。
フェニルチオ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾー
ル−2−イルメトキシ]ベンツアルデヒド 5.33gの6−(3、5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ)フェニルチオ−2−ヒドロキシメチル−1−メ
チル−1H−ベンツイミダゾール、2.22gの4−ヒ
ドロキシベンツアルデヒド、4.59gの1、1' −
(アゾジカルボニル)ジピペリジン、3.68gのトリ
−n−ブチルホスフィンおよび300mlの無水トルエ
ンの混合物を室温で64時間攪拌した。反応混合物を濃
縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
溶剤:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し
て、3.74gの標記化合物を得た。 融点:219−221℃。
キシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチルカルバミン
酸 t−ブチルエステル 15.6gの(4−ヒドロキシフェニル)カルバミン酸
t−ブチルエステル、21gのN−(5−クロロ−2
−ニトロフェニル)−N−メチルカルバミン酸t−ブチ
ルエステル、3.22gの水素化ナトリウム(55重量
%)および130mlの無水N,N−ジメチルホルムア
ミドを用いて、参考例6と同様に反応させ、精製して、
27.7gの標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:トルエ
ン/ジイソプロピルエーテル=10/1):Rf値=
0.33。
アミノフェノキシ)フェニル]−N−メチルカルバミン
酸 t−ブチルエステル 27.7gのN−[5−(4−t−ブトキシカルボニル
アミノフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチ
ルカルバミン酸 t−ブチルエステル、1.07gの1
0%パラジウム−炭素および170mlのテトラヒドロ
フラン−酢酸エチル(9:8)混合溶媒を用いて、参考
例7と同様に反応させ、精製して、26.2gの標記化
合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:c−ヘ
キサン/テトラヒドロフラン=2/1):Rf値=0.
37。
シルアミノ)フェノキシ]−2−ニトロフェニル}−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 1.26gの水素化ナトリウム(55重量%)を100
mlの無水N、N−ジメチルホルムアミドに懸濁させ、
12.1gのN−[5−(4−t−ブトキシカルボニル
アミノフェノキシ)−2−ニトロフェニル]−N−メチ
ルカルバミン酸t−ブチルエステルを加え、室温で数分
間攪拌した。次いで6.5gの臭化ヘキシルを氷冷下加
え、同温で30分間さらに室温で1時間攪拌した。反応
混合物を濃縮した後、注水し、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留
去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出溶剤:トルエン/ジイソプロピルエーテル=
100/7)で精製して、13.8gの標記成績体を得
た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:トルエ
ン/ジイソプロピルエーテル=100/7):Rf値=
0.32。
ル−n−ヘキシルアミノ)フェノキシ]フェニル}−N
−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステル 13.8gのN−{5−[4−(t−ブトキシカルボニ
ル−n−ヘキシルアミノ)フェノキシ]−2−ニトロフ
ェニル}−N−メチルカルバミン酸 t−ブチルエステ
ル、1.0gの10%パラジウム−炭素および140m
lのトルエン−酢酸エチル(1:1)混合溶媒を用い
て、参考例7と同様に反応させ、精製して、13.1g
の標記化合物を得た。 シリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:トルエ
ン/酢酸エチル=3/1):Rf値=0.44。
果を調べた。緩衝液[0.1Mトリス(ヒドロキシメチ
ル)アミノメタン水溶液に塩酸を加えpH7.4に調製
した水溶液]と0.15M塩化カリウム水溶液の1:2
混合液400μlに、一定濃度の試験化合物のジメチル
スルホキサイド溶液5μlとWisterラット(10
週齢)から調整した肝ミクロゾーム100μlを加え、
37℃で5分間攪拌した。これに、反応を開始させるた
めに、0.5mM硫酸第1鉄7水和物水溶液と50mM
システイン水溶液1:1混合溶液10μlを加え、37
℃で30分間攪拌した。攪拌液に10%トリクロロ酢酸
水溶液1mlを加え、反応を停止させた。反応液を、5
℃で3000rpmで10分間遠心分離し、上清を分取
した。上清1.0mlに、0.67%のチオバルビツル
酸を含む50%水性酢酸1.0mlを加え、100℃で
15分間煮沸した。室温で15分間放置した後、535
nmの波長における吸光度を測定した。試験化合物を用
いずに求めたコントロールの吸光度と一定濃度の試験化
合物を用いた時の吸光度から阻害率(%)を求め、過酸
化脂質を50%阻害する試験化合物の濃度を調べた。そ
の結果を表11に示す。
質作用を示すことが明らかとなった。
1/15Mリン酸緩衡液[リン酸緩衡液用粉末(ヤトロ
ン)1包を水10mlに溶解させ、pH7.4に調製し
た水溶液]750μl、30mM塩化カルシウム水溶液
40μl、20mMGSH(還元型グルタチオン)水溶
液50μl、40mMATP(アデノシン−5−トリフ
ォスフェート)水溶液50μl及びモルモット多形核白
血球酵素100μlを加え、25℃で5分間攪拌した。
これに反応を開始させるため、アラキドン酸(10mg
/mlエタノール)5μlを加え、25℃で5分間攪拌
した。攪拌液に2規定塩酸50μlを加え反応を停止さ
せた。内部標準物質入り酢酸エチル2.0ml(内部標
準物質:イソアミルパラベン2μg/ml)を加えた
後、ミキサーを用いて1分間抽出した後、3000rp
mで5分間遠心分離した。酢酸エチル層を分取した後、
減圧下蒸発乾固し、アセトニトリル200μlに溶解さ
せた後、高速液体クロマトグラフィーにて生成した5−
HETEを定量した。試験化合物を用いないコントロー
ルの5−HETEの定量と、試験化合物を用いた時の5
−HETEの定量から阻害率(%)を求め、5−リポキ
シゲナーゼを50%阻害する試験化合物の濃度を調べ
た。その結果を表12に示す。
キシゲナーゼ阻害作用を示すことが明らかとなった。
より血液を採取し、その血糖値を測定した。次に、各群
のマウスの血糖値の平均が同じになるようにマウスを郡
分け(1群4匹)した後、試験化合物を0.01%含む
ように調整したマウス用粉末飼料(F−1,船橋農場)
をマウスに3日間与えた。試験化合物を与えたマウス群
を薬物投与群とした。なお、試験化合物を含まない粉末
飼料を与えた群を対照群とした。3日後にマウスの尾静
脈より血液を採取し、遠心分離により得られた血漿中の
グルコース濃度を、グルコースアナライザー(グルコロ
ーダー,A&T社)にて測定した。下記の式より、血糖
低下率を求めた。
−薬物投与群の平均血糖値)×100/対照群の血糖値
作用を示すことが明らかとなった。
物又はその薬理上許容される塩は、優れた、インスリン
抵抗性改善作用、血糖低下作用、抗炎症作用、免疫調節
作用、アルドース還元酵素阻害作用、5−リポキシゲナ
ーゼ阻害作用、過酸化脂質生成抑制作用、PPAR活性
化作用、抗骨粗鬆症作用、ロイコトリエン拮抗作用、脂
肪細胞化促進作用、ガン細胞増殖抑制作用、カルシウム
拮抗作用を有し、糖尿病、高脂血症、肥満症、耐糖能不
全、高血圧症、脂肪肝、糖尿病合併症(例えば、網膜
症、腎症、神経症、白内障、冠動脈疾患等である。)、
動脈硬化症、妊娠糖尿病、多嚢胞卵巣症候群、心血管性
疾患(例えば、虚血性心疾患等である。)、非アテロー
ム性動脈硬化症又は虚血性心疾患により惹起される細胞
損傷(例えば、脳卒中により惹起される脳損傷等であ
る。)、痛風、炎症性疾患(例えば、骨関節炎、疼痛、
発熱、リウマチ性関節炎、炎症性腸炎、アクネ、日焼
け、乾癬、湿疹、アレルギー性疾患、喘息、GI潰瘍、
悪液質、自己免疫疾患、膵炎である。)、ガン、骨粗鬆
症、白内障等;の予防剤及び/又は治療剤として有用で
ある。
化合物又はその薬理上許容される塩と、α−グルコシダ
ーゼ阻害剤、アルドース還元酵素阻害剤、ビグアナイド
剤、スタチン系化合物、スクアレン合成阻害剤、フィブ
ラート系化合物、LDL異化促進剤及びアンジオテンシ
ン変換酵素阻害剤の少なくとも1 種を組み合わせてなる
医薬組成物(特に好適には、糖尿病又は糖尿病合併症の
予防剤及び/又は治療剤である。)も有用である。
Claims (53)
- 【請求項1】一般式(I) 【化1】 [上記式中、R1 は、一般式 【化2】 又は一般式 【化3】 [式中、R4 は、置換基群αから選択される基で1乃至
5個置換されたフェニル基又は置換基群αから選択され
る基で1乃至4個置換されてもよいピリジル基を示し、
R5 は、水素原子又は置換基群αから選択される基を示
し、R6 は、水素原子、C1 −C6 アルキル基、置換基
群βから選択される基で1乃至3個置換されてもよいC
6 −C10アリール基又は置換基群βから選択される基で
1乃至3個置換されてもよいC7 −C16アラルキル基を
示し、Dは、酸素原子又は硫黄原子を示し、Eは、CH
を有する基又は窒素原子を示す。]を有する基を示し、
R2 は、水素原子又は置換基群αから選択される基を示
し、R3 は、式 【化4】 を有する基を示し、Aは、C1 −C6 アルキレン基を示
し、Bは、酸素原子又は硫黄原子を示す。但し、 D が硫
黄原子であり、かつ、 E が窒素原子である化合物を除
く。]を有する置換縮合複素環化合物又はその薬理上許
容される塩。 <置換基群α>ハロゲン原子;ヒドロキシ基;C1 −C
6 アルキル基;ハロゲノC1 −C6 アルキル基;C1 −
C6 アルコキシ基;C1 −C6 アルキルチオ基;置換基
群γから選択される基で置換されてもよいアミノ基;置
換基群βから選択される基で1乃至3個置換されてもよ
い、C3 −C10シクロアルキル、C6 −C10アリール、
C7 −C16アラルキル、C6 −C10アリールオキシ、C
7 −C16アラルキルオキシ及びC6 −C10アリールチオ
基;C1 −C7 脂肪族アシルオキシ基;窒素原子を含有
する4乃至7員飽和複素環基;窒素原子を含有する5乃
至6員芳香複素環基;ニトロ基;並びにシアノ基。 <置換基群β>ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1 −C
6 アルキル基、ハロゲノC1 −C6 アルキル基、C1 −
C6 アルコキシ基、置換基群γから選択される基で置換
されてもよいアミノ基、C6 −C10アリール基、及びニ
トロ基。 <置換基群γ>C1 −C10アルキル基、置換されてもよ
い、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル基並
びに、アシル基(該アシル基は、C1 −C7 脂肪族アシ
ル基並びに置換されてもよい、C7 −C11芳香族アシ
ル、C8−C12芳香脂肪族アシル、C4−C11シクロア
ルキルカルボニル及び窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環カルボニル基を示す。)。 - 【請求項2】請求の範囲第1項において、R1 が、一般
式(II)を有する基である置換縮合複素環化合物又は
その薬理上許容される塩。 - 【請求項3】請求の範囲第1項又は第2項において、R
2 及びR5 が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン
原子、ヒドロキシ基、C1 −C6 アルキル基、ハロゲノ
C1−C6 アルキル基、C1 −C6 アルコキシ基、C1
−C6 アルキルチオ基又は置換基群γから選択される基
で置換されてもよいアミノ基である置換縮合複素環化合
物又はその薬理上許容される塩。 <置換基群γ>C1 −C10アルキル基、置換されてもよ
い、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル基並
びに、アシル基(該アシル基は、C1 −C7 脂肪族アシ
ル基並びに置換されてもよい、C7 −C11芳香族アシ
ル、C8−C12芳香脂肪族アシル、C4 −C11シクロア
ルキルカルボニル及び窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環カルボニル基を示す。)。 - 【請求項4】請求の範囲第1項又は第2項において、R
2 及びR5 が、同一又は異なって、水素原子、弗素原
子、塩素原子、ヒドロキシ基、メチル基、エチル基、ト
リフルオロメチル基、メトキシ基、メチルチオ基又はア
ミノ基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容
される塩。 - 【請求項5】請求の範囲第1項又は第2項において、R
2 及びR5 が、水素原子である置換縮合複素環化合物又
はその薬理上許容される塩。 - 【請求項6】請求の範囲第1項乃至第5項において、R
3 が、式(IV−1)乃至(IV−3)を有する基であ
る置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項7】請求の範囲第1項乃至第5項において、R
3 が、式(IV−2)又は(IV−3)を有する基であ
る置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項8】請求の範囲第1項乃至第5項において、R
3 が、式(IV−2)を有する基である置換縮合複素環
化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項9】請求の範囲第1項乃至第8項において、R
4 が、下記置換基で1 個置換されてもよいピリジル基
(該置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 アル
キル、ハロゲノC1 −C6 アルキル、C1 −C6 アルコ
キシ、C1 −C6 アルキルチオ、置換基群γから選択さ
れる基で置換されてもよいアミノ又はニトロである。)
である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される
塩。 <置換基群γ>C1 −C10アルキル基、置換されてもよ
い、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル基並
びに、アシル基(該アシル基は、C1 −C7 脂肪族アシ
ル基並びに置換されてもよい、C7 −C11芳香族アシ
ル、C8−C12芳香脂肪族アシル、C4 −C11シクロア
ルキルカルボニル及び窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環カルボニル基を示す。)。 - 【請求項10】請求の範囲第1項乃至第8項において、
R4 が、下記置換基で1 個置換されてもよいピリジル基
(該置換基は、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、エチ
ル、t−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、メチ
ルチオ、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ又はニ
トロである。)である置換縮合複素環化合物又はその薬
理上許容される塩。 - 【請求項11】請求の範囲第1項乃至第8項において、
R4 が、ピリジル基である置換縮合複素環化合物又はそ
の薬理上許容される塩。 - 【請求項12】請求の範囲第1項乃至第8項において、
R4 が、下記置換基群から選択される基で少なくとも1
個置換されたフェニル基(該置換基群は、置換基群βか
ら選択される基で1乃至3個置換されてもよい、C3 −
C10シクロアルキル、C6 −C10アリール及びC7 −C
16アラルキル、窒素原子を含有する4乃至7員飽和複素
環並びに窒素原子を含有する5乃至6員芳香複素環から
成る。)である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許
容される塩。 <置換基群β>ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1 −C
6 アルキル基、ハロゲノC1 −C6 アルキル基、C1 −
C6 アルコキシ基、置換基群γから選択される基で置換
されてもよいアミノ基、C6 −C10アリール基、及びニ
トロ基。 <置換基群γ>C1 −C10アルキル基、置換されてもよ
い、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル基並
びに、アシル基(該アシル基は、C1 −C7 脂肪族アシ
ル基並びに置換されてもよい、C7 −C11芳香族アシ
ル、C8−C12芳香脂肪族アシル、C4 −C11シクロア
ルキルカルボニル及び窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環カルボニル基を示す。)。 - 【請求項13】請求の範囲第12項において、R4 が、
下記置換基で1 個置換されたフェニル基(該置換基群
は、置換基群βから選択される基で1個置換されてもよ
い、C3 −C10シクロアルキル、C6 −C10アリール若
しくはC7 −C16アラルキル、窒素原子を含有する4乃
至7員飽和複素環又は窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環である。)である置換縮合複素環化合物又はそ
の薬理上許容される塩。 <置換基群β>ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1 −C
6 アルキル基、ハロゲノC1 −C6 アルキル基、C1 −
C6 アルコキシ基、置換基群γから選択される基で置換
されてもよいアミノ基、C6 −C10アリール基、及びニ
トロ基。 <置換基群γ>C1 −C10アルキル基、置換されてもよ
い、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル基並
びに、アシル基(該アシル基は、C1 −C7 脂肪族アシ
ル基並びに置換されてもよい、C7 −C11芳香族アシ
ル、C8−C12芳香脂肪族アシル、C4 −C11シクロア
ルキルカルボニル及び窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環カルボニル基を示す。)。 - 【請求項14】請求の範囲第12項において、R4 が、
下記置換基で1 個置換されたフェニル基(該置換基は、
ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 アルキル、ハロゲノ
C1 −C6 アルキル、C1 −C6 アルコキシ又は置換基
群γから選択される基で置換されてもよいアミノで1 個
置換されてもよい、C3 −C10シクロアルキル、C6 −
C10アリール若しくはC7 −C16アラルキル、窒素原子
を含有する4乃至7員飽和複素環又は窒素原子を含有す
る5乃至6員芳香複素環である。)である置換縮合複素
環化合物又はその薬理上許容される塩。 <置換基群γ>C1 −C10アルキル基、置換されてもよ
い、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル基並
びに、アシル基(該アシル基は、C1 −C7 脂肪族アシ
ル基並びに置換されてもよい、C7 −C11芳香族アシ
ル、C8−C12芳香脂肪族アシル、C4 −C11シクロア
ルキルカルボニル及び窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環カルボニル基を示す。)。 - 【請求項15】請求の範囲第12項において、R4 が、
下記置換基で1 個置換されたフェニル基(該置換基は、
ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 アルキル、ハロゲノ
C1 −C6 アルキル、C1 −C6 アルコキシ若しくは置
換基群γから選択される基で置換されてもよいアミノで
1 個置換されてもよい、フェニル若しくはベンジル、ア
ダマンチル、ピロリジニル、モルホリニル、ピペリジニ
ル、イミダゾリル、テトラゾリル又はピリジニル基であ
る。)である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容
される塩。 <置換基群γ>C1 −C10アルキル基、置換されてもよ
い、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル基並
びに、アシル基(該アシル基は、C1 −C7 脂肪族アシ
ル基並びに置換されてもよい、C7 −C11芳香族アシ
ル、C8−C12芳香脂肪族アシル、C4 −C11シクロア
ルキルカルボニル及び窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環カルボニル基を示す。)。 - 【請求項16】請求の範囲第12項において、R4 が、
下記置換基で1 個置換されたフェニル基(該置換基は、
弗素、塩素、ヒドロキシ、メチル、エチル、t−ブチ
ル、トリフルオロメチル、メトキシ、アミノ、メチルア
ミノ若しくはジメチルアミノで1個置換されてもよい、
フェニル若しくはベンジル、アダマンチル、ピロリジニ
ル、モルホリニル、ピペリジニル、イミダゾリル、テト
ラゾリル又はピリジニル基である。)である置換縮合複
素環化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項17】請求の範囲第12項において、R4 が、
4−ビフェニリル、4−ベンジルフェニル、4‘−ヒド
ロキシビフェニリル、(ピロリジン−1−イル)フェニ
ル、(モルホリン−4−イル)フェニル、(ピペリジン
−1−イル)フェニル、(ピリジン−2−イル)フェニ
ル、(ピリジン−3−イル)フェニル又は4−(1−ア
ダマンチル)フェニル基である置換縮合複素環化合物又
はその薬理上許容される塩。 - 【請求項18】請求の範囲第1項乃至第8項において、
R4 が、置換基群γから選択される基で置換されてもよ
いアシルアミノで1 個置換され、更に、下記置換基群か
ら選択される基で1 乃至3 個置換されてもよいフェニル
基(該置換基群は、ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6
アルキル、ハロゲノC1 −C6 アルキル、C1 −C6 ア
ルコキシ及びC1 −C6 アルキルチオから成る。)であ
る置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩。 <置換基群γ>C1 −C10アルキル基、置換されてもよ
い、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル基並
びに、アシル基(該アシル基は、C1 −C7 脂肪族アシ
ル基並びに置換されてもよい、C7 −C11芳香族アシ
ル、C8−C12芳香脂肪族アシル、C4 −C11シクロア
ルキルカルボニル及び窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環カルボニル基を示す。)。 - 【請求項19】請求の範囲第18項において、R4 が、
置換基群γから選択される基で置換されてもよいアシル
アミノで1 個置換され、更に、下記置換基群から選択さ
れる基で1 乃至3 個置換されてもよいフェニル基(該置
換基群は、ハロゲン及びC1 −C6 アルキルから成
る。)である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容
される塩。 <置換基群γ>C1 −C10アルキル基、置換されてもよ
い、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル基並
びに、アシル基(該アシル基は、C1 −C7 脂肪族アシ
ル基並びに置換されてもよい、C7 −C11芳香族アシ
ル、C8−C12芳香脂肪族アシル、C4 −C11シクロア
ルキルカルボニル及び窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環カルボニル基を示す。)。 - 【請求項20】請求の範囲第18項において、R4 が、
C1 −C10アルキルまたは置換されてもよいC7 −C12
アラルキルで置換されてもよいアシルアミノで1 個置換
され、更に、C1 −C6 アルキルで1 乃至3 個置換され
てもよいフェニル基である置換縮合複素環化合物又はそ
の薬理上許容される塩。 - 【請求項21】請求の範囲第18項において、R4 が、
下記置換基で1 個置換されたフェニル基(該置換基は、
置換されてもよい、C7 −C11芳香族アシルアミノ、C
4 −C11シクロアルキルカルボニルアミノ又は窒素原子
を含有する5乃至6員芳香複素環カルボニルアミノであ
る。)である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容
される塩。 - 【請求項22】請求の範囲第18項において、R4 が、
ベンゾイルアミノ、3−クロロベンゾイルアミノ、2,
4−ジフルオロベンゾイルアミノ、4−ヒドロキシ−
3,5−ジ−t−ブチルベンゾイルアミノ、ナフトイル
アミノ、シクロペンタノイルアミノ、シクロヘキサノイ
ルアミノ、ニコチノイルアミノ、イソニコチノイルアミ
ノ、N−アセチル−N−ヘキシルアミノ又はアダマンチ
ルカルボニルアミノで置換されたフェニル基である置換
縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項23】請求の範囲第1項乃至第8項において、
R4 が、アミノ、1 乃至2 個の基で置換されたアミノ
(該置換基は、同一又は異なって、C1 −C10アルキル
並びに、置換されてもよい、C6 −C10アリール及びC
7 −C16アラルキルから成る。)、ニトロ又はシアノで
1 個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で
1乃至3 個置換されてもよいフェニル基(該置換基群
は、ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 アルキル、ハロ
ゲノC1 −C6 アルキル、C1 −C6 アルコキシ及びC
1 −C6 アルキルチオから成る。)である置換縮合複素
環化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項24】請求の範囲第23項において、R4 が、
アミノ、モノ若しくはジ−C1 −C10アルキルアミノ又
はシアノで1 個で置換され、更に、C1 −C6 アルキル
で1 乃至2 個置換されてもよいフェニル基である置換縮
合複素環化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項25】請求の範囲第23項において、R4 が、
4−アミノフェニル、4−アミノ−3,5−ジメチルフ
ェニル、4−アミノ−3,5−ジ−t−ブチルフェニ
ル、3−ジメチルアミノフェニル、4−ジメチルアミノ
フェニル又は4−シアノフェニル基である置換縮合複素
環化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項26】請求の範囲第1 項乃至第8項において、
R4 が、置換基群βから選択される基で1乃至3個置換
されてもよい、C6 −C10アリールオキシ、C7 −C16
アラルキルオキシ又はC6 −C10アリールチオで1 個置
換され、更に、下記置換基群から選択される基で1 乃至
3 個置換されてもよいフェニル基(該置換基群は、ハロ
ゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 アルキル、ハロゲノC1
−C6 アルキル、C1 −C6 アルコキシ及びC1 −C6
アルキルチオから成る。)である置換縮合複素環化合物
又はその薬理上許容される塩。 <置換基群β>ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1 −C
6 アルキル基、ハロゲノC1 −C6 アルキル基、C1 −
C6 アルコキシ基、置換基群γから選択される基で置換
されてもよいアミノ基、C6 −C10アリール基、及びニ
トロ基。 <置換基群γ>C1 −C10アルキル基、置換されてもよ
い、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル基並
びに、アシル基(該アシル基は、C1 −C7 脂肪族アシ
ル基並びに置換されてもよい、C7 −C11芳香族アシ
ル、C8−C12芳香脂肪族アシル、C4 −C11シクロア
ルキルカルボニル及び窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環カルボニル基を示す。)。 - 【請求項27】請求の範囲第26項において、R4 が、
置換基群βから選択される基で1乃至3個置換されても
よいC6 −C10アリールオキシ1 個で置換され、更に、
C1 −C6 アルキルで1乃至2個置換されてもよいフェ
ニル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容
される塩。 <置換基群β>ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1 −C
6 アルキル基、ハロゲノC1 −C6 アルキル基、C1 −
C6 アルコキシ基、置換基群γから選択される基で置換
されてもよいアミノ基、C6 −C10アリール基、及びニ
トロ基。 <置換基群γ>C1 −C10アルキル基、置換されてもよ
い、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル基並
びに、アシル基(該アシル基は、C1 −C7 脂肪族アシ
ル基並びに置換されてもよい、C7 −C11芳香族アシ
ル、C8−C12芳香脂肪族アシル、C4 −C11シクロア
ルキルカルボニル及び窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環カルボニル基を示す。)。 - 【請求項28】請求の範囲第26項において、R4 が、
置換基群βから選択される基で1個置換されてもよいC
6 −C10アリールオキシ1 個で置換されたフェニル基で
ある置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される
塩。 <置換基群β>ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1 −C
6 アルキル基、ハロゲノC1 −C6 アルキル基、C1 −
C6 アルコキシ基、置換基群γから選択される基で置換
されてもよいアミノ基、C6 −C10アリール基、及びニ
トロ基。 <置換基群γ>C1 −C10アルキル基、置換されてもよ
い、C6 −C10アリール及びC7 −C16アラルキル基並
びに、アシル基(該アシル基は、C1 −C7 脂肪族アシ
ル基並びに置換されてもよい、C7 −C11芳香族アシ
ル、C8−C12芳香脂肪族アシル、C4 −C11シクロア
ルキルカルボニル及び窒素原子を含有する5乃至6員芳
香複素環カルボニル基を示す。)。 - 【請求項29】請求の範囲第26項において、R4 が、
4−フェノキシフェニルである置換縮合複素環化合物又
はその薬理上許容される塩。 - 【請求項30】請求の範囲第1 項乃至第8項において、
R4 が、下記置換基群から選択される基で1 乃至5個置
換されたフェニル基(該置換基群は、ハロゲン、ヒドロ
キシ、C1 −C6 アルキル、ハロゲノC1 −C6 アルキ
ル、C1 −C6 アルコキシ、C1 −C6 アルキルチオ及
びC1 −C7 脂肪族アシルオキシから成る。)である置
換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項31】請求の範囲第30項において、R4 が、
ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 アルキル、ハロゲノ
C1 −C6 アルキル、C1 −C6 アルコキシ、C1 −C
6 アルキルチオ又はC1 −C7 脂肪族アシルオキシで1
個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で1
乃至4個置換されてもよいフェニル基(該置換基群は、
ハロゲン、C1 −C6 アルキル及びハロゲノC1 −C6
アルキルから成る。)である置換縮合複素環化合物又は
その薬理上許容される塩。 - 【請求項32】請求の範囲第30項において、R4 が、
C1 −C6 アルキル、ハロゲノC1 −C6 アルキル、C
1 −C6 アルコキシ若しくはC1 −C6 アルキルチオで
1 個置換されたフェニル基又は1 乃至5 個のハロゲンで
置換されたフェニル基である置換縮合複素環化合物又は
その薬理上許容される塩。 - 【請求項33】請求の範囲第30項において、R4 が、
ハロゲノC1 −C2 アルキル、C1 −C2 アルコキシ若
しくはC1 −C2 アルキルチオで1 個置換されたフェニ
ル基又は1 乃至5 個の弗素原子若しくは塩素原子で置換
されたフェニル基である置換縮合複素環化合物又はその
薬理上許容される塩。 - 【請求項34】請求の範囲第30項において、R4 が、
4−トリフルオロメチルフェニル、4−メチルチオフェ
ニル、4−メトキシフェニル又はペンタフルオロフェニ
ル基である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容さ
れる塩。 - 【請求項35】請求の範囲第30項において、R4 が、
ヒドロキシ若しくはC1 −C7 脂肪族アシルオキシで1
個置換され、更に、下記置換基群から選択される基で1
乃至3個置換されてもよいフェニル基(該置換基群は、
ハロゲン及びC1 −C6 アルキルから成る。)である置
換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項36】請求の範囲第30項において、R4 が、
ヒドロキシで1 個置換され、更に、下記置換基群から選
択される基で1 乃至3個置換されてもよいフェニル基
(該置換基群は、ハロゲン及びC1 −C6 アルキルから
成る。)である置換縮合複素環化合物又はその薬理上許
容される塩。 - 【請求項37】請求の範囲第30項において、R4 が、
ヒドロキシで1 個置換され、更に、下記置換基群から選
択される基で1 乃至3個置換されてもよいフェニル基
(該置換基群は、弗素、塩素、メチル及びt−ブチルか
ら成る。)である置換縮合複素環化合物又はその薬理上
許容される塩。 - 【請求項38】請求の範囲第30項において、R4 が、
4−ヒドロキシフェニル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブ
チルフェニル、4−ヒドロキシ−2,3,5−トリメチ
ルフェニル又は2―クロロ−4−ヒドロキシ−3,5−
ジメチルフェニル基である置換縮合複素環化合物又はそ
の薬理上許容される塩。 - 【請求項39】請求の範囲第1 項乃至第38項におい
て、R6 が、水素原子、C1 −C6 アルキル基、又は下
記置換基群から選択される基で1 乃至3 個置換されても
よい置換されてもよい、フェニル若しくはベンジル基
(該置換基群は、ハロゲン、ヒドロキシ、C1 −C6 ア
ルキル及びハロゲノC1 −C6 アルキルから成る。)で
ある置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される
塩。 - 【請求項40】請求の範囲第1 項乃至第38項におい
て、R6 が、水素原子、C1 −C4 アルキル基、又は下
記置換基で1 個置換されてもよい、フェニル若しくはベ
ンジル基(該置換基は、弗素、塩素、ヒドロキシ、メチ
ル又はエチルである。)である置換縮合複素環化合物又
はその薬理上許容される塩。 - 【請求項41】請求の範囲第1 項乃至第38項におい
て、R6 が、水素原子又はC1 −C4 アルキル基である
置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項42】請求の範囲第1 項乃至第38項におい
て、R6 が、C1 −C2 アルキル基である置換縮合複素
環化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項43】請求の範囲第1 項乃至第38項におい
て、R6 が、メチル基である置換縮合複素環化合物又は
その薬理上許容される塩。 - 【請求項44】請求の範囲第1 項乃至第43項におい
て、Aが、C1 −C4 アルキレン基である置換縮合複素
環化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項45】請求の範囲第1 項乃至第43項におい
て、Aが、C1 −C2 アルキレン基である置換縮合複素
環化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項46】請求の範囲第1 項乃至第43項におい
て、Aが、メチレン基である置換縮合複素環化合物又は
その薬理上許容される塩。 - 【請求項47】請求の範囲第1 項乃至第46項におい
て、Bが、酸素原子である置換縮合複素環化合物又はそ
の薬理上許容される塩。 - 【請求項48】請求の範囲第1 項乃至第47項におい
て、Dが、酸素原子である置換縮合複素環化合物又はそ
の薬理上許容される塩。 - 【請求項49】請求の範囲第1 項乃至第47項におい
て、Dが、硫黄原子である置換縮合複素環化合物又はそ
の薬理上許容される塩。 - 【請求項50】請求の範囲第1 項乃至第49項におい
て、Eが、CHを有する基である置換縮合複素環化合物
又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項51】請求の範囲第1 項乃至第48項におい
て、Eが、窒素原子である置換縮合複素環化合物又はそ
の薬理上許容される塩。 - 【請求項52】請求の範囲第1項において、下記の化合
物群から選択される化合物又はその薬理上許容される
塩。5−{4−[6−(4−ヒドロキシフェノキシ)−
1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメト
キシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン、 5−{4−[1−メチル−6−(4−トリフルオロメチ
ルフェノキシ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イル
メトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン、 5−{4−[1−メチル−6−(4−メトキシフェノキ
シ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン、 5−{4−[1−メチル−6−(4−メチルチオフェノ
キシ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン、 5−{4−[6−(4−アミノフェノキシ)−1−メチ
ル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベ
ンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン、 5−{4−[6−(3−ジメチルアミノフェノキシ)−
1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメト
キシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン、 5−{4−[6−(4−アセチルアミノフェノキシ)−
1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメト
キシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン、 5−{4−[1−メチル−6−(4−フェニルフェノキ
シ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン、 5−{4−[6−(4' −ヒドロキシビフェニル−4−
イルオキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール
−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4
−ジオン、 5−{4−[6−(4−ベンジルフェノキシ)−1−メ
チル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン、 5−{4−(6−[2−(ピロリジン−1−イル)フェ
ノキシ]−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ)ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジ
オン、 5−{4−(6−[2−(ピペリジン−1−イル)フェ
ノキシ]−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ)ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジ
オン、 5−{4−(6−[2−(モルホリン−4−イル)フェ
ノキシ]−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ)ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジ
オン、 5−{4−(1−メチル−6−[3−(モルホリン−4
−イル)フェノキシ]−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ)ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジ
オン、 5−{4−[6−(2−クロロ−4−ヒドロキシ−3,
5−ジメチルフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツ
イミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリ
ジン−2,4−ジオン、 5−{4−[6−(4−ヒドロキシ−2−メチルフェノ
キシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−
イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオ
ン、 5−{4−[6−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェノ
キシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−
イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオ
ン、 5−{4−[6−(4−ヒドロキシ−2,5−ジメチル
フェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール
−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4
−ジオン、 5−{4−[6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル
フェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール
−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4
−ジオン、 5−{4−[6−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン、 5−{4−[6−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニルチオ)−1−メチル−1H−ベンツイミ
ダゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン
−2,4−ジオン、 5−{4−[6−(4−ヒドロキシ−2,3,5−トリ
メチルフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2,4−ジオン、 5−{4−[5−(4−ヒドロキシ−2,3,5−トリ
メチルフェノキシ)−3−メチル−3H−イミダゾ
[4,5−b]ピリジン−2−イルメトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2,4−ジオン、 5−{4−[6−(4−アミノ−3,5−ジメチルフェ
ノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジ
オン、 5−{4−[6−(4−アセチルアミノ−3,5−ジメ
チルフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾ
ール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2,4−ジオン、 5−{4−[6−(ピリジン−2−イルオキシ)−1−
メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン、 5−{4−[1−メチル−6−(ピリジン−2−イルチ
オ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン、 5−{4−[1−メチル−6−(ピリジン−3−イルオ
キシ)−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン、 5−{4−(6−[4−(イミダゾール−1−イル)フ
ェノキシ]−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−
2−イルメトキシ)ベンジル}チアゾリジン−2、4−
ジオン、 5−{4−(6−[4−(1−アダマンチル)フェノキ
シ]−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ)ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオ
ン、 5−{4−[6−(4−シアノフェノキシ)−1−メチ
ル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベ
ンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン、 5−{4−[6−(2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフェノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダ
ゾール−2−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2、4−ジオン、 5−[4−(6−ペンタフルオロフェノキシ−1−メチ
ル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメトキシ)ベ
ンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン、 5−{4−[6−(4−ベンゾイルアミノフェノキシ)
−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イルメ
トキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン、 5−[4−{6−[4−(2、4−ジフルオロベンゾイ
ルアミノ)フェノキシ]−1−メチル−1H−ベンツイ
ミダゾール−2−イルメトキシ}ベンジル]チアゾリジ
ン−2、4−ジオン、 5−{4−[6−(4−シクロペンタノイルアミノフェ
ノキシ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2
−イルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジ
オン、 5−{4−[6−(4−ニコチノイルアミノフェノキ
シ)−1−メチル−1H−ベンツイミダゾール−2−イ
ルメトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオ
ン、及び5−{4−[6−(3、5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニルチオ)−1−メチル−1H−ベ
ンツイミダゾール−2−イルメトキシ]ベンジリデン}
チアゾリジン−2、4−ジオン。 - 【請求項53】請求の範囲第1項乃至第52項における
置換縮合複素環化合物又はその薬理上許容される塩を有
効成分として含有する医薬。
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