JP3487610B2 - 微粒子の散布装置 - Google Patents
微粒子の散布装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、圧縮気体を用いて微粒
子を分散させ、基板等の物体表面に散布する装置に関す
るものである。 【０００２】 【従来の技術】従来、液晶用セルには、スペーサー材と
して使用される微粒子を基板上に均一に単分散させるこ
とが求められており、例えば、微粒子を気体と共に乾式
散布する装置等が知られている。 【０００３】本願出願人は、このような装置として、微
粒子分散室の一端に、外部から微粒子を圧縮気体と共に
受け入れる微粒子導入口を設け、該分散室の他端には微
粒子噴出口を備えて、同噴出口を散布室内に開口させ、
更に、前記分散室内であって前記微粒子導入口に対向す
る位置に、衝突体を近接して配設してなる微粒子の散布
装置を提案した（特開平４−２２３４４４号公報）。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】上記散布装置は、もと
より基板上に微粒子を均一に散布することを意図したも
のであるが、散布条件や微粒子の有する物性によって
は、上記装置内においてもファン・デル・ワールス力や
静電気力による凝集物が形成され、ガラス基板等の物体
表面に微粒子を均一に単分散させることが困難となるこ
とがある。 【０００５】本発明は前記問題点を解決するためのもの
であり、その目的は、微粒子の物性や散布条件等に左右
されることなく、基板上に微粒子を均一に単分散させる
ことができる散布装置を提供することにある。 【０００６】 【課題を解決するための手段】本発明に係る微粒子の散
布装置は、散布室下部に定置された物体表面に、上部散
布ノズルから微粒子を散布する装置であって、前記ノズ
ルを上部滞留室と下部混合室とに区画して構成し、上部
滞留室に圧縮ガスの導入口を設け、一方、下部混合室に
はその上部に微粒子導入口を、その下部に微粒子散布口
をそれぞれ設けるとともに、前記微粒子導入口の周囲に
上部滞留室と下部混合室とを連結する複数の通孔を該微
粒子導入口に対して傾斜させ且つ均等に配設し、圧縮ガ
スの噴出時には当該微粒子導入口の近辺を負圧とし、か
つ、下部混合室内に旋回流を生じさせることを可能とし
てなるという手段を採用することにより課題を解決した
ものである。 【０００７】 【０００８】 【０００９】 【作用】圧縮ガスを散布ノズルへ供給すると、圧縮ガス
が混合室内に噴出して生じるエジェクター効果により、
微粒子導入口を介して混合室と連通する微粒子導入ライ
ンが負圧となる。このため、予め秤量された微粒子が導
入口から混合室内に吸引、導入される。 【００１０】滞留室を具えた散布ノズルにあっては、供
給された圧縮ガスは滞留室に一旦入り、複数の通孔を均
等に流れた後、混合室内に導かれる。混合室では、軸心
線に対して通孔が傾斜角を有しているので、微粒子を同
伴したガスが旋回流となり、微粒子の凝集を防止して、
単分散状態にまで十分に混合分散する。 【００１１】微粒子を同伴したガスは散布口から散布ボ
ックス内に入り急激に圧力が低下して膨張し、降下す
る。このようにして、微粒子が更に拡散し、物体表面に
均一に散布される。 【００１２】 【実施例】以下、図面に基づいて本発明の好適な実施例
を説明する。図１は本発明に係る微粒子の散布装置全体
のシステム構成図であり、この散布装置は、基板表面に
微粒子を散布するための散布部３０と、この散布部３０
へ供給される微粒子を秤量するための計量部１０とから
構成されている。 【００１３】計量部１０において、倒置円錐形のホッパ
ー１１内には、下半部に撹拌羽根１２と下端部にブラシ
１３を具え、モータ１４により回転駆動される撹拌機１
５が懸垂設置されている。ブラシ１３は所要の長さと適
度の弾性を有し、例えば、テフロンやナイロン等の素材
で構成されている。 【００１４】ホッパー１１の底面には網状のスクリーン
１６が設けられ、このスクリーン１６にブラシ１３の先
端部が軽く接触するような位置関係に設定されている。
スクリーン１６の目開きは、微粒子が網目から自然落下
せず、しかも、ブラシ１３により押圧されると落下する
ような大きさにする。従って、目開きの開度は微粒子の
粒径、その他の物性を考慮して決定される。 【００１５】このような微粒子の計量機構において、撹
拌羽根１２は微粒子のブリッジングを防止し、また、ブ
ラシ１３はスクリーン１６との間に微粒子を挟み込み、
その微小量を掃くようにして定量的に網目から落下させ
ることができる。微粒子の落下量は目開きの大きさおよ
び撹拌機１５の回転速度により調整可能である。また、
ブラシ１３は回転して微粒子を落下させると同時にスク
リーン１６の網目を清掃する。 【００１６】ホッパー１１の上部には、このホッパー１
１と連通するシュート１７が設けられている。シュート
１７に接続された符号１８は微粒子の防湿用Ｎ2 ガスの
パージラインである。 【００１７】スクリーン１６の下方位置には、上部が開
放された容器２０を設置し、この容器２０の側部には後
段の散布部３０に至る微粒子導入ライン２１が接続され
ている。また、容器２０内において、微粒子の落下点に
は、ロードセル２２の検出部２３が設けられている。符
号２５はロードセル２２からの検出信号を入力して、モ
ータ１４の駆動・停止および回転速度を制御する信号を
出力するコントローラである。 【００１８】次に、この散布装置の散布部３０は、頂部
に散布ノズル３２を具えたボックス４０により主体が構
成され、この円筒状の散布ボックス４０内において微粒
子の散布が行われる。 【００１９】散布ノズル３２は、図２の断面図に示すよ
うに、上部滞留室３３と下部混合室３４とに区画して構
成され、混合室３４は滞留室３３よりもその容量が大き
く、混合室３４の下部はロート状に形成されている。滞
留室３３には圧縮ガスの導入口３５が設けられており、
一方、混合室３４には上部に微粒子導入口３６を、下部
に微粒子散布口３７がそれぞれ設けられている。符号３
８は滞留室と混合室とを連結する通孔であり、この通孔
３８を前記微粒子導入口３６に至る鉛直な導入ライン２
１と等間隔を保ちながら傾斜させることにより混合室３
４内で旋回流となった圧縮ガスを流出させることができ
るようになっている。 【００２０】通孔３８の個数は任意に設定可能である
が、この実施例では、４本の通孔３８を円周上に穿設
し、通孔３８は前記鉛直な導入ライン２１から等距離に
あり、かつ、円筒状の混合室３４の半径方向に対して３
５〜５５度程度の傾斜角を有している。 【００２１】散布ノズル３２の微粒子導入口３６には、
微粒子導入ライン２１が接続され、同ライン２１には電
磁弁５１が介装されている。電磁弁５１はコントローラ
２５からの出力信号を受けて、当該ライン２１を開閉す
ることができる。 【００２２】また、散布ノズル３２の圧縮ガス導入口３
５には、Ｎ2 ガス等の圧縮ガス導入ライン５２が接続さ
れている。符号５３は、導入ライン５２の途中に設けら
れたアキュムレータであり、その下流位置には導入ライ
ン５２を開閉する電磁弁５４が介装されている。この導
入ライン５２から分岐してアキュムレータ５３を迂回す
るライン５５は、散布ノズル３２等を含む散布部３０を
洗浄するためのＮ2 ガスのパージラインであり、その途
中には同ライン５５を開閉する電磁弁５６が介装されて
いる。 【００２３】散布ボックス４０内下部には基板４２を水
平に支持するためのグリッド４３が設けられ、また、基
板４２とグリッド４３との間には、基板４２の面積と同
等またはそれより大きい面積を有する導電性材料からな
る平板４４を敷き、その上に基板４２を載置する。 【００２４】前記微粒子導入ライン２１の外周面および
散布ボックス４０の外壁面など、静電気の発生しやすい
箇所には、アース４５、４６をそれぞれ設けている。ま
た、散布ボックス４０の内壁面には帯電防止材を塗布し
ておくとよい。 【００２５】散布ボックス４０の底部には、バルブ６１
を有する排気ガスライン６０が接続されている。 【００２６】次に、この実施例の作用を説明する。ホッ
パー１１内には、シュート１７から投入された微粒子が
予め収容されており、この微粒子を撹拌機１５により、
１回の散布に必要な所定量だけ容器２０内に落下させ
る。 【００２７】即ち、モータ１４を駆動して撹拌機１５を
緩速回転させれば、撹拌羽根１２によりホッパー１１内
の微粒子が混合されるとともに、ブラシ１３が微粒子を
スクリーン１６の上面に押圧するので、微粒子は微小量
ずつ定量的にスクリーン１６の網目を通過して容器２０
内に落下する。そして、ロードセル２２の検出部２３
が、所定重量の微粒子が落下したことを検知すると、コ
ントローラ２５が制御信号を出力してモータ１４の駆動
を停止する。以後微粒子は落下することはないから、容
器２０内に１回の散布に必要な量が貯留されることにな
る。 【００２８】続いて、圧縮ガス導入ライン５２の電磁弁
５４を開くと、アキュムレータ５３に蓄圧されたＮ2 ガ
スがライン５２を通って散布ノズル３２へと供給され
る。このＮ2 ガスは滞留室３３に一旦入り、複数の通孔
３８を均等に流れて、混合室３４内に導かれる。このと
き、微粒子導入口３６を介して混合室３４と連通する微
粒子導入ライン２１は、圧縮ガスが通孔３８から混合室
３４内に噴出して生じるエジェクター効果により、負圧
となる。 【００２９】そこで、電磁弁５１を開くと、容器２０内
の微粒子は空気とともに吸引され、微粒子導入ライン２
１を通り、導入口３６を経て混合室３４内に導かれる。
このとき微粒子の移動に伴い、微粒子導入ライン２１お
よび微粒子には静電気が発生する。微粒子自体の静電気
は、粒子間の反発作用として働くので粒子の分散に寄与
するが、微粒子導入ライン２１の静電気は微粒子が凝集
する原因となる。しかしながら、本実施例ではアース４
５が取ってあるので、微粒子導入ライン２１の静電気の
発生が抑制され、また、微粒子の静電気の変化も少な
い。 【００３０】混合室３４においては、通孔３８が傾斜角
を有しているので、微粒子を同伴したガスが旋回流とな
り、微粒子の凝集を防止して、単分散状態にまで十分に
分散した後、散布口３７から散布ボックス４０内に散布
される。この微粒子を同伴したガスは散布ボックス４０
内に入ると、急激に圧力が低下して膨張する。この結
果、単分散状態の微粒子は更に拡散し、散布ボックス４
０内を降下し、基板４２上に均一に散布される。 【００３１】基板４２は平板４４によりアースされてい
るので、基板４２の有する表面抵抗の影響を受けず、電
荷密度が偏ることがないので、静電気を帯びた微粒子が
均一に基板４２上に定着する。 【００３２】容器２０内の微粒子が全量散布されたら、
排気ライン６０のバルブ６１を開放してボックス４０内
のガスを排気する。このとき、基板４２上に乗らずにボ
ックス４０内に残留した微粒子も排気ライン６０から回
収する。回収した微粒子はホッパー１１に送給して再度
使用することができる。以上の操作を繰り返すことによ
り、基板４２上に微粒子を定量的に散布することができ
る。 【００３３】散布部３０を構成する系を洗浄するには、
基板４２を散布ボックス４０から取り出した後、電磁弁
５１と電磁弁５４を閉鎖し、かつ、電磁弁５６を開放し
てパージライン５５にＮ2 ガスを流すことにより洗浄を
行う。 【００３４】なお、本発明において計量部１０として
は、前記特開平４−２２３４４４号公報記載の微粒子の
定量供給装置を採用することも可能である。 【００３５】〔実験例１〕上記実施例において説明した
装置を用いて、平均粒径６．０μｍのシリカ微粒子を、
３００ｍｍ×３００ｍｍサイズのガラス基板上に散布し
た。散布条件としては、シリカ微粒子の散布量は１５ｍ
ｇ、散布時間は２．５秒であった。スペーサチェッカー
（ボクスイ（株）製）を用いて散布密度などを基板上の
１６箇所で測定した。そのときの散布結果を表１に示
す。 【００３６】〔実験例２〕平均粒径４．８μｍの樹脂微
粒子７ｍｇを用いた以外は実験例１と同じ散布条件で、
ガラス基板上に微粒子を散布した。そのときの散布結果
を表１に示す。 【００３７】 【表１】 【００３８】表１から、本発明装置を使用して微粒子を
散布すると、ガラス基板上には微粒子が均一に分散さ
れ、２個の凝集粒子も極めて僅かであり、３個の凝集粒
子は全く観察されなかったことが分かる。 【００３９】 【発明の効果】本発明の微粒子の散布装置は、圧縮ガス
の噴出流によって生じる負圧を利用し、秤量された微粒
子を混合室内に導入して単分散状態とした上で、基板上
に微粒子を均一に散布することができるという効果を有
する。また、散布密度のばらつきも少なく、微粒子の物
性や散布条件等に左右されることもない。 【００４０】従って、ガラス基板等の表面に散布密度の
ばらつきを小さくしてスペーサーを散布することがで
き、液晶用セルに用いられるガラス基板上に微粒子を散
布する装置として好適である。
子を分散させ、基板等の物体表面に散布する装置に関す
るものである。 【０００２】 【従来の技術】従来、液晶用セルには、スペーサー材と
して使用される微粒子を基板上に均一に単分散させるこ
とが求められており、例えば、微粒子を気体と共に乾式
散布する装置等が知られている。 【０００３】本願出願人は、このような装置として、微
粒子分散室の一端に、外部から微粒子を圧縮気体と共に
受け入れる微粒子導入口を設け、該分散室の他端には微
粒子噴出口を備えて、同噴出口を散布室内に開口させ、
更に、前記分散室内であって前記微粒子導入口に対向す
る位置に、衝突体を近接して配設してなる微粒子の散布
装置を提案した（特開平４−２２３４４４号公報）。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】上記散布装置は、もと
より基板上に微粒子を均一に散布することを意図したも
のであるが、散布条件や微粒子の有する物性によって
は、上記装置内においてもファン・デル・ワールス力や
静電気力による凝集物が形成され、ガラス基板等の物体
表面に微粒子を均一に単分散させることが困難となるこ
とがある。 【０００５】本発明は前記問題点を解決するためのもの
であり、その目的は、微粒子の物性や散布条件等に左右
されることなく、基板上に微粒子を均一に単分散させる
ことができる散布装置を提供することにある。 【０００６】 【課題を解決するための手段】本発明に係る微粒子の散
布装置は、散布室下部に定置された物体表面に、上部散
布ノズルから微粒子を散布する装置であって、前記ノズ
ルを上部滞留室と下部混合室とに区画して構成し、上部
滞留室に圧縮ガスの導入口を設け、一方、下部混合室に
はその上部に微粒子導入口を、その下部に微粒子散布口
をそれぞれ設けるとともに、前記微粒子導入口の周囲に
上部滞留室と下部混合室とを連結する複数の通孔を該微
粒子導入口に対して傾斜させ且つ均等に配設し、圧縮ガ
スの噴出時には当該微粒子導入口の近辺を負圧とし、か
つ、下部混合室内に旋回流を生じさせることを可能とし
てなるという手段を採用することにより課題を解決した
ものである。 【０００７】 【０００８】 【０００９】 【作用】圧縮ガスを散布ノズルへ供給すると、圧縮ガス
が混合室内に噴出して生じるエジェクター効果により、
微粒子導入口を介して混合室と連通する微粒子導入ライ
ンが負圧となる。このため、予め秤量された微粒子が導
入口から混合室内に吸引、導入される。 【００１０】滞留室を具えた散布ノズルにあっては、供
給された圧縮ガスは滞留室に一旦入り、複数の通孔を均
等に流れた後、混合室内に導かれる。混合室では、軸心
線に対して通孔が傾斜角を有しているので、微粒子を同
伴したガスが旋回流となり、微粒子の凝集を防止して、
単分散状態にまで十分に混合分散する。 【００１１】微粒子を同伴したガスは散布口から散布ボ
ックス内に入り急激に圧力が低下して膨張し、降下す
る。このようにして、微粒子が更に拡散し、物体表面に
均一に散布される。 【００１２】 【実施例】以下、図面に基づいて本発明の好適な実施例
を説明する。図１は本発明に係る微粒子の散布装置全体
のシステム構成図であり、この散布装置は、基板表面に
微粒子を散布するための散布部３０と、この散布部３０
へ供給される微粒子を秤量するための計量部１０とから
構成されている。 【００１３】計量部１０において、倒置円錐形のホッパ
ー１１内には、下半部に撹拌羽根１２と下端部にブラシ
１３を具え、モータ１４により回転駆動される撹拌機１
５が懸垂設置されている。ブラシ１３は所要の長さと適
度の弾性を有し、例えば、テフロンやナイロン等の素材
で構成されている。 【００１４】ホッパー１１の底面には網状のスクリーン
１６が設けられ、このスクリーン１６にブラシ１３の先
端部が軽く接触するような位置関係に設定されている。
スクリーン１６の目開きは、微粒子が網目から自然落下
せず、しかも、ブラシ１３により押圧されると落下する
ような大きさにする。従って、目開きの開度は微粒子の
粒径、その他の物性を考慮して決定される。 【００１５】このような微粒子の計量機構において、撹
拌羽根１２は微粒子のブリッジングを防止し、また、ブ
ラシ１３はスクリーン１６との間に微粒子を挟み込み、
その微小量を掃くようにして定量的に網目から落下させ
ることができる。微粒子の落下量は目開きの大きさおよ
び撹拌機１５の回転速度により調整可能である。また、
ブラシ１３は回転して微粒子を落下させると同時にスク
リーン１６の網目を清掃する。 【００１６】ホッパー１１の上部には、このホッパー１
１と連通するシュート１７が設けられている。シュート
１７に接続された符号１８は微粒子の防湿用Ｎ2 ガスの
パージラインである。 【００１７】スクリーン１６の下方位置には、上部が開
放された容器２０を設置し、この容器２０の側部には後
段の散布部３０に至る微粒子導入ライン２１が接続され
ている。また、容器２０内において、微粒子の落下点に
は、ロードセル２２の検出部２３が設けられている。符
号２５はロードセル２２からの検出信号を入力して、モ
ータ１４の駆動・停止および回転速度を制御する信号を
出力するコントローラである。 【００１８】次に、この散布装置の散布部３０は、頂部
に散布ノズル３２を具えたボックス４０により主体が構
成され、この円筒状の散布ボックス４０内において微粒
子の散布が行われる。 【００１９】散布ノズル３２は、図２の断面図に示すよ
うに、上部滞留室３３と下部混合室３４とに区画して構
成され、混合室３４は滞留室３３よりもその容量が大き
く、混合室３４の下部はロート状に形成されている。滞
留室３３には圧縮ガスの導入口３５が設けられており、
一方、混合室３４には上部に微粒子導入口３６を、下部
に微粒子散布口３７がそれぞれ設けられている。符号３
８は滞留室と混合室とを連結する通孔であり、この通孔
３８を前記微粒子導入口３６に至る鉛直な導入ライン２
１と等間隔を保ちながら傾斜させることにより混合室３
４内で旋回流となった圧縮ガスを流出させることができ
るようになっている。 【００２０】通孔３８の個数は任意に設定可能である
が、この実施例では、４本の通孔３８を円周上に穿設
し、通孔３８は前記鉛直な導入ライン２１から等距離に
あり、かつ、円筒状の混合室３４の半径方向に対して３
５〜５５度程度の傾斜角を有している。 【００２１】散布ノズル３２の微粒子導入口３６には、
微粒子導入ライン２１が接続され、同ライン２１には電
磁弁５１が介装されている。電磁弁５１はコントローラ
２５からの出力信号を受けて、当該ライン２１を開閉す
ることができる。 【００２２】また、散布ノズル３２の圧縮ガス導入口３
５には、Ｎ2 ガス等の圧縮ガス導入ライン５２が接続さ
れている。符号５３は、導入ライン５２の途中に設けら
れたアキュムレータであり、その下流位置には導入ライ
ン５２を開閉する電磁弁５４が介装されている。この導
入ライン５２から分岐してアキュムレータ５３を迂回す
るライン５５は、散布ノズル３２等を含む散布部３０を
洗浄するためのＮ2 ガスのパージラインであり、その途
中には同ライン５５を開閉する電磁弁５６が介装されて
いる。 【００２３】散布ボックス４０内下部には基板４２を水
平に支持するためのグリッド４３が設けられ、また、基
板４２とグリッド４３との間には、基板４２の面積と同
等またはそれより大きい面積を有する導電性材料からな
る平板４４を敷き、その上に基板４２を載置する。 【００２４】前記微粒子導入ライン２１の外周面および
散布ボックス４０の外壁面など、静電気の発生しやすい
箇所には、アース４５、４６をそれぞれ設けている。ま
た、散布ボックス４０の内壁面には帯電防止材を塗布し
ておくとよい。 【００２５】散布ボックス４０の底部には、バルブ６１
を有する排気ガスライン６０が接続されている。 【００２６】次に、この実施例の作用を説明する。ホッ
パー１１内には、シュート１７から投入された微粒子が
予め収容されており、この微粒子を撹拌機１５により、
１回の散布に必要な所定量だけ容器２０内に落下させ
る。 【００２７】即ち、モータ１４を駆動して撹拌機１５を
緩速回転させれば、撹拌羽根１２によりホッパー１１内
の微粒子が混合されるとともに、ブラシ１３が微粒子を
スクリーン１６の上面に押圧するので、微粒子は微小量
ずつ定量的にスクリーン１６の網目を通過して容器２０
内に落下する。そして、ロードセル２２の検出部２３
が、所定重量の微粒子が落下したことを検知すると、コ
ントローラ２５が制御信号を出力してモータ１４の駆動
を停止する。以後微粒子は落下することはないから、容
器２０内に１回の散布に必要な量が貯留されることにな
る。 【００２８】続いて、圧縮ガス導入ライン５２の電磁弁
５４を開くと、アキュムレータ５３に蓄圧されたＮ2 ガ
スがライン５２を通って散布ノズル３２へと供給され
る。このＮ2 ガスは滞留室３３に一旦入り、複数の通孔
３８を均等に流れて、混合室３４内に導かれる。このと
き、微粒子導入口３６を介して混合室３４と連通する微
粒子導入ライン２１は、圧縮ガスが通孔３８から混合室
３４内に噴出して生じるエジェクター効果により、負圧
となる。 【００２９】そこで、電磁弁５１を開くと、容器２０内
の微粒子は空気とともに吸引され、微粒子導入ライン２
１を通り、導入口３６を経て混合室３４内に導かれる。
このとき微粒子の移動に伴い、微粒子導入ライン２１お
よび微粒子には静電気が発生する。微粒子自体の静電気
は、粒子間の反発作用として働くので粒子の分散に寄与
するが、微粒子導入ライン２１の静電気は微粒子が凝集
する原因となる。しかしながら、本実施例ではアース４
５が取ってあるので、微粒子導入ライン２１の静電気の
発生が抑制され、また、微粒子の静電気の変化も少な
い。 【００３０】混合室３４においては、通孔３８が傾斜角
を有しているので、微粒子を同伴したガスが旋回流とな
り、微粒子の凝集を防止して、単分散状態にまで十分に
分散した後、散布口３７から散布ボックス４０内に散布
される。この微粒子を同伴したガスは散布ボックス４０
内に入ると、急激に圧力が低下して膨張する。この結
果、単分散状態の微粒子は更に拡散し、散布ボックス４
０内を降下し、基板４２上に均一に散布される。 【００３１】基板４２は平板４４によりアースされてい
るので、基板４２の有する表面抵抗の影響を受けず、電
荷密度が偏ることがないので、静電気を帯びた微粒子が
均一に基板４２上に定着する。 【００３２】容器２０内の微粒子が全量散布されたら、
排気ライン６０のバルブ６１を開放してボックス４０内
のガスを排気する。このとき、基板４２上に乗らずにボ
ックス４０内に残留した微粒子も排気ライン６０から回
収する。回収した微粒子はホッパー１１に送給して再度
使用することができる。以上の操作を繰り返すことによ
り、基板４２上に微粒子を定量的に散布することができ
る。 【００３３】散布部３０を構成する系を洗浄するには、
基板４２を散布ボックス４０から取り出した後、電磁弁
５１と電磁弁５４を閉鎖し、かつ、電磁弁５６を開放し
てパージライン５５にＮ2 ガスを流すことにより洗浄を
行う。 【００３４】なお、本発明において計量部１０として
は、前記特開平４−２２３４４４号公報記載の微粒子の
定量供給装置を採用することも可能である。 【００３５】〔実験例１〕上記実施例において説明した
装置を用いて、平均粒径６．０μｍのシリカ微粒子を、
３００ｍｍ×３００ｍｍサイズのガラス基板上に散布し
た。散布条件としては、シリカ微粒子の散布量は１５ｍ
ｇ、散布時間は２．５秒であった。スペーサチェッカー
（ボクスイ（株）製）を用いて散布密度などを基板上の
１６箇所で測定した。そのときの散布結果を表１に示
す。 【００３６】〔実験例２〕平均粒径４．８μｍの樹脂微
粒子７ｍｇを用いた以外は実験例１と同じ散布条件で、
ガラス基板上に微粒子を散布した。そのときの散布結果
を表１に示す。 【００３７】 【表１】 【００３８】表１から、本発明装置を使用して微粒子を
散布すると、ガラス基板上には微粒子が均一に分散さ
れ、２個の凝集粒子も極めて僅かであり、３個の凝集粒
子は全く観察されなかったことが分かる。 【００３９】 【発明の効果】本発明の微粒子の散布装置は、圧縮ガス
の噴出流によって生じる負圧を利用し、秤量された微粒
子を混合室内に導入して単分散状態とした上で、基板上
に微粒子を均一に散布することができるという効果を有
する。また、散布密度のばらつきも少なく、微粒子の物
性や散布条件等に左右されることもない。 【００４０】従って、ガラス基板等の表面に散布密度の
ばらつきを小さくしてスペーサーを散布することがで
き、液晶用セルに用いられるガラス基板上に微粒子を散
布する装置として好適である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る微粒子の散布装置の一実施例を示
すシステム構成図である。 【図２】散布ノズルの一実施例を拡大して示す縦断側面
図である。 【符号の説明】 １０ 計量部 １１ ホッパー １５ 撹拌機 ２０ 容器 ２１ 微粒子導入ライン ２２ ロードセル ３０ 散布部 ３２ 散布ノズル ３３ 滞留室 ３４ 混合室 ３５ 圧縮ガス導入口 ３６ 微粒子導入口 ３７ 微粒子散布口 ３８ 通孔 ４０ 散布ボックス
すシステム構成図である。 【図２】散布ノズルの一実施例を拡大して示す縦断側面
図である。 【符号の説明】 １０ 計量部 １１ ホッパー １５ 撹拌機 ２０ 容器 ２１ 微粒子導入ライン ２２ ロードセル ３０ 散布部 ３２ 散布ノズル ３３ 滞留室 ３４ 混合室 ３５ 圧縮ガス導入口 ３６ 微粒子導入口 ３７ 微粒子散布口 ３８ 通孔 ４０ 散布ボックス
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 光尾 豊
福岡県北九州市若松区北湊町13−２ 触
媒化成工業株式会社 若松工場内
(56)参考文献 特開 平３−153215（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−155026（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 散布室下部に定置された物体表面に、上
部散布ノズルから微粒子を散布する装置であって、前記
ノズルを上部滞留室と下部混合室とに区画して構成し、
上部滞留室に圧縮ガスの導入口を設け、一方、下部混合
室にはその上部に微粒子導入口を、その下部に微粒子散
布口をそれぞれ設けるとともに、前記微粒子導入口の周
囲に上部滞留室と下部混合室とを連結する複数の通孔を
該微粒子導入口に対して傾斜させ且つ均等に配設し、圧
縮ガスの噴出時には当該微粒子導入口の近辺を負圧と
し、かつ、下部混合室内に旋回流を生じさせることを可
能としてなる微粒子の散布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11210493A JP3487610B2 (ja) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | 微粒子の散布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11210493A JP3487610B2 (ja) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | 微粒子の散布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06301041A JPH06301041A (ja) | 1994-10-28 |
| JP3487610B2 true JP3487610B2 (ja) | 2004-01-19 |
Family
ID=14578248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11210493A Expired - Lifetime JP3487610B2 (ja) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | 微粒子の散布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3487610B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3107972B2 (ja) * | 1994-07-22 | 2000-11-13 | アルプス電気株式会社 | 微粒子分散装置 |
| JP4843771B2 (ja) * | 2000-11-13 | 2011-12-21 | 株式会社ゼビオス | 乾式スペーサ散布装置 |
| JP2006051491A (ja) * | 2004-07-16 | 2006-02-23 | Nisshin Engineering Co Ltd | 粉体の散布装置 |
-
1993
- 1993-04-15 JP JP11210493A patent/JP3487610B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06301041A (ja) | 1994-10-28 |
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