JP3479720B2 - Method for producing carbapenems - Google Patents

Method for producing carbapenems

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JP3479720B2
JP3479720B2 JP18114492A JP18114492A JP3479720B2 JP 3479720 B2 JP3479720 B2 JP 3479720B2 JP 18114492 A JP18114492 A JP 18114492A JP 18114492 A JP18114492 A JP 18114492A JP 3479720 B2 JP3479720 B2 JP 3479720B2
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好孝 藤原
智弘 秋山
修一 西村
俊光 畑野
年夫 熊谷
壽 清水
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Takeda Pharmaceutical Co Ltd
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Takeda Pharmaceutical Co Ltd
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    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は優れた抗菌作用を有する
1−メチルカルバペネム抗生物質等の製造に用いる合成
中間体の工業的多量生産に有利な製造法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a production method advantageous for industrial mass production of synthetic intermediates used for producing 1-methylcarbapenem antibiotics and the like having excellent antibacterial activity.

【0002】[0002]

【従来の技術】抗菌化合物として有用な1−メチルカル
バペネムの製造に用いる(1R,5S,6S)−p−ニ
トロベンジル−2−ジフェニルホスホリルオキシ−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カル
バペネム−3−カルボキシレートは、従来特開昭57−
123182に記載の反応式
2. Description of the Related Art (1R, 5S, 6S) -p-Nitrobenzyl-2-diphenylphosphoryloxy-6- used for the production of 1-methylcarbapenem which is useful as an antibacterial compound.
[(R) -1-Hydroxyethyl] -1-methyl-carbapenem-3-carboxylate has been previously disclosed in JP-A-57-
Reaction formula described in 123182

【0003】[0003]

【化15】 [Chemical 15]

【化16】 [Chemical 16]

【化17】 [Chemical 17]

【化18】 [Chemical 18]

【0004】[0004]

【化19】 [Chemical 19]

【化20】 [Chemical 20]

【化21】 [式中、R1、R2、R3及びR4は水素(R1及びR2が同
時に水素であることはない)、または置換及び非置換の
以下の基:1−10の炭素原子を有するアルキル、アル
ケニル及びアルキニル:シクロアルキル環部分の炭素数
が3−6で、アルキル部分の炭素数が1−6であるシク
ロアルキル、シクロアルキルアルキル及びアルキルシク
ロアルキル:3−6の炭素原子を有するスピロシクロア
ルキル:フェニル:アリール部分がフェニルであり、ア
ルキル鎖が1−6の炭素原子を有するアルアルキル、ア
ルアルケニル及びアルアルキニル:ヘテロアリール、ヘ
テロアルアルキル、ヘテロシクリル及びヘテロシクリル
アルキル(これらに対する単数又は複数の置換基は、ア
ミノ、モノ−、ジ−及びトリアルキルアミノ、ヒドロキ
シル、アルコオキシル、メルカプト、アルキルチオ、フ
ェニルチオ、スルファモイル、アミジノ、グアニジノ、
ニトロ、クロロ、ブロモ、フルオロ、ヨード、シアノ及
びカルボキシから成る群から選ばれる):上述のヘテロ
環部分の単数又は複数のヘテロ原子が、1−4の酸素、
窒素又は硫黄原子から成る群から選ばれる場合:上述の
置換基のアルキル部分が1−6の炭素原子を有する場
合:から成る群から独立して選択され、Roは容易に除
去し得る保護基を、R7は薬学的に許容されるエステル
部分または、容易に除去されるカルボキシル基の保護基
を、Xは脱離基を示す]で表わされる製造法や、特開昭
64−25779に記載の反応式
[Chemical 21] [Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are hydrogen (R 1 and R 2 are not hydrogen at the same time) or a substituted or unsubstituted group of the following: 1-10 carbon atoms Having alkyl, alkenyl and alkynyl: cycloalkyl having 3-6 carbon atoms in the cycloalkyl ring portion, and having 3-6 carbon atoms in the alkyl portion, cycloalkylalkyl and alkylcycloalkyl: having 3-6 carbon atoms Spirocycloalkyl: phenyl: aryl moieties are phenyl and the alkyl chain has 1-6 carbon atoms aralkyl, alkenyl and alkalkynyl: heteroaryl, heteroaralkyl, heterocyclyl and heterocyclylalkyl (to which one or more The substituents on are amino, mono-, di- and trialkylamino, hydroxyl, alcohol Hexyl, mercapto, alkylthio, phenylthio, sulfamoyl, amidino, guanidino,
Selected from the group consisting of nitro, chloro, bromo, fluoro, iodo, cyano and carboxy): wherein the heteroatom or heteroatoms of the above heterocycle moiety is 1-4 oxygen;
When selected from the group consisting of nitrogen or sulfur atoms: when the alkyl portion of the above-mentioned substituents has 1-6 carbon atoms: independently selected from the group consisting of: R o is a readily removable protecting group. R 7 is a pharmaceutically acceptable ester moiety or a protecting group for a carboxyl group which is easily removed, and X is a leaving group], and JP-A-64-25779. Reaction formula

【0005】[0005]

【化22】 [式中、R3はカルボキシ保護基を、R4は水素原子また
は低級アルキル基を、Raはアシル基を、Zはt−ブチ
ルジメチルシリル基を示す]で表わされる製造法により
製造されていた。
[Chemical formula 22] [Wherein R 3 represents a carboxy protecting group, R 4 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, R a represents an acyl group, and Z represents a t-butyldimethylsilyl group]. It was

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これら従来の
製造法は(1)収率が低い、(2)各ステップごとに中
間体を分離精製する必要があり、製造工程が複雑であ
る、(3)製造に要する時間(反応時間等)が長い等、
目的物を工業的に大量に製造する方法としては極めて不
十分なものであるため、改良製造法が求められていた。
However, in these conventional production methods, (1) the yield is low, (2) it is necessary to separate and purify the intermediate in each step, and the production process is complicated. 3) The time required for production (reaction time, etc.) is long, etc.
Since it is extremely insufficient as a method for industrially producing a large amount of a target product, an improved production method has been demanded.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この様な状況下で、本発
明者らは、鋭意研究を重ね努力した結果、(1)式
[Means for Solving the Problems] Under these circumstances, the inventors of the present invention have made diligent studies and as a result,

【0008】[0008]

【化23】 [式中、R1は水酸基の保護基を示す]で表される化合
物またはその塩と(i)N,N′−カルボニルジイミダ
ゾールとを反応させるか、または(ii)塩基の存在下に
ハロゲン化炭酸エステルとイミダゾールとを反応させ、
得られる式
[Chemical formula 23] [Wherein, R 1 represents a hydroxyl-protecting group] or a salt thereof is reacted with (i) N, N′-carbonyldiimidazole, or (ii) halogen in the presence of a base. Reacting a carboxylic ester with imidazole,
Expression obtained

【化24】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と無機塩と式 R2OOCCH2COOH (III) [式中、R2はカルボキシル基の保護基を示す]で表さ
れる化合物とを反応させ、得られる式
[Chemical formula 24] [Wherein the symbols have the same meanings as defined above], an inorganic salt, and the formula R 2 OOCCH 2 COOH (III) [wherein R 2 represents a protective group for a carboxyl group]. Formula obtained by reacting with a compound

【化25】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と(i)アジド化合物とを反応させ、得られる式
[Chemical 25] A compound obtained by reacting a compound represented by [the symbols in the formula have the same meanings as described above] and (i) an azide compound.

【0009】[0009]

【化26】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と酸とを反応させるか、または(ii)酸とを反応させ、
得られる式
[Chemical formula 26] [Wherein the symbols in the formula have the same meanings as described above], the compound is reacted with an acid, or (ii) the acid is reacted,
Expression obtained

【化27】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表わされる化合
物とアジド化合物とを反応させ、得られる式
[Chemical 27] A compound obtained by reacting a compound represented by [the symbols in the formula have the same meanings as described above] with an azide compound.

【化28】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
を閉環反応に付し、得られる式
[Chemical 28] A compound obtained by subjecting a compound represented by [the symbols in the formula have the same meanings as defined above] to a ring closure reaction

【0010】[0010]

【化29】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と式 R3OH [式中、R3はアシル基を示す]で表される酸またはそ
の反応性誘導体とを反応させると、予想外にも目的の式
[Chemical 29] When a compound represented by the formula [wherein the symbols have the same meaning as defined above] is reacted with an acid represented by the formula R 3 OH [wherein R 3 represents an acyl group] or a reactive derivative thereof. , Unexpectedly the target expression

【化30】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
が、(1)高収率で、(2)中間体を単離することなく
一貫した製造工程で、(3)製造(反応)時間が短く、
(4)副産物生成の抑制下に製造され極めて工業的に有
利な製造法であること、さらにこの製造法において、
[Chemical 30] The compound represented by [the symbols in the formula have the same meanings as described above], (1) in high yield, (2) in a consistent production process without isolation of the intermediate, (3) production ( Reaction) time is short,
(4) It is a very industrially advantageous production method that is produced while suppressing the production of by-products, and further, in this production method,

【0011】(イ)各反応における溶媒としてハロゲン
化炭化水素を用いる、(ロ)化合物(I)より化合物(I
V)を得る反応を炭酸ガスを除去しながら行う、(ハ)
化合物(IV)とジアゾ化合物との反応混合物にn−ヘキ
サン、n−ペンタン、石油エーテル、トルエン、キシレ
ンまたはイソプロピルエーテルを添加し化合物(V)を
分離する、(ニ)化合物(V)と酸との反応をジクロル
メタン、クロロホルム、アセトニトリルまたはアセトン
と低級アルコール、テトラヒドロフランまたはジオキサ
ンとの混合溶媒中で行う、(ホ)化合物(IV)と酸との
反応をジクロルメタン、クロロホルム、アセトニトリル
またはアセトンと低級アルコール、テトラヒドロフラン
またはジオキサンとの混合溶媒中で行う、または(およ
び)(ヘ)前記(イ)記載のハロゲン化炭化水素として
ジクロルメタンを用いると、化合物(VIII)の工業的多量
生産がより一層有利に行なえることを見出し、これに基
づいて本発明を完成した。
(A) Halogen as a solvent in each reaction
(B) Compound (I) from compound (I)
V) is carried out while removing carbon dioxide gas, (C)
The reaction mixture of the compound (IV) and the diazo compound was added with n-hex
Sun, n-pentane, petroleum ether, toluene, xyle
Compound or isopropyl ether was added to add compound (V)
Separate the reaction between (d) compound (V) and acid with dichloro
Methane, chloroform, acetonitrile or acetone
And lower alcohol, tetrahydrofuran or dioxa
Of (e) compound (IV) and an acid in a mixed solvent with
Reaction is dichloromethane, chloroform, acetonitrile
Or acetone and lower alcohol, tetrahydrofuran
Or in a mixed solvent with dioxane, or (and
And (f) As the halogenated hydrocarbon described in (a) above
With dichloromethane, a large amount of compound (VIII)
We found that production could be made even more advantageous, and based on this,
Based on this, the present invention has been completed.

【0012】前記式中、R1は水酸基の保護基を示し、
この様な保護基としてはたとえばペプチド化学、β−ラ
クタム化合物の分野で用いられるもの等を用いることが
でき、例えばホルミル、アセチル、クロロアセチル、ジ
クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロア
セチル、プロピオニル、ブチリル、4−トルオイル、4
−アニソイル、4−ニトロベンゾイル、2−ニトロベン
ゾイル基等のハロゲン(例えば塩素、臭素、フッ素等)
またはニトロ等で1〜3個置換されていてもよいC1-7
アシル基、例えばベンジル、4−メトキシベンジル、2
−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、ジフェニルメ
チル、トリフェニルメチル基等のC1-4アルコキシ(例
えばメトキシ、エトキシ等)またはニトロ等で1〜3個
置換されていてもよいC7-19アラルキル基、例えばメト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカ
ルボニル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、
2−トリメチルシリルエトキシカルボニル基等のC1-4
アルコキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、ハロゲン
(例えば塩素、臭素等)またはトリ−C1-4アルキルシ
リル(例えばトリメチルシリル等)等で1〜3個置換さ
れていてもよいC1-6アルキルオキシ−カルボニル基、
例えばベンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキ
シカルボニル、2−ニトロベンジルオキシカルボニル、
4−ニトロベンジルオキシカルボニル基等のC1-4アル
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)またはニトロ基
等で置換 されていてもよい、C7-19アラルキルオキシ
−カルボニル基、例えばビニルオキシカルボニル、アリ
ルオキシカルボニル基等のC2-6アルケニルオキシ−カ
ルボ ニル基、例えばメトキシメチル、t−ブトキシメ
チル、2−メトキシエトキシメチル、2,2,2−トリク
ロロエトキシメチル基等のハロゲン(例えば塩素、臭
素、フッ素等)で置換されていてもよいC1-4アルコキ
シ(例えばメトキシ、エト キシ等)等で1ないし3置
換されたメチル基、例えば1−エトキシエチル,1−メ
チル−1−メトキシエチル、2,2,2−トリクロロエチ
ル基等のC1-4アルコ キシ(例えばメトキシ、エトキシ
等)またはハロゲン(例えば、塩素、臭素、フッ素等)
等で1ないし3置換されたエチル基、例えばトリメチル
シリル、トリエチルシリル、ジメチルイソプロピルシリ
ル、t−ブチルジメチルシリル、トリイソプロピルシリ
ル基等のトリ−C1-4アルキルシリル基、例えばジフェ
ニルメチ ルシリル、ジフェニルエチルシリル基等のジ
フェニル−C1-4アルキルシリル基 が用いられ、好まし
くはC7-19アラルキルオキシカルボニル基(ベンジルオ
キシカルボニル基等)、C2-6アルケニルオキシカルボ
ニル基(ビニルオキシカルボ ニル基等)、トリ−C1-4
アルキルシリル基(トリメチルシリル基等)等が、よ
り好ましくはトリ−C1-4アルキルシリル基等が、特に
好ましくはt−ブチルジ メチルシリル基等が用いられ
る。
In the above formula, R 1 represents a hydroxyl-protecting group,
As such a protecting group, for example, those used in the field of peptide chemistry, β-lactam compounds and the like can be used, and for example, formyl, acetyl, chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, trifluoroacetyl, propionyl, butyryl, 4-toluoyl, 4
-Halogen such as anisoyl, 4-nitrobenzoyl and 2-nitrobenzoyl groups (eg chlorine, bromine, fluorine etc.)
Or C 1-7 optionally substituted with 1 to 3 nitro or the like
Acyl groups such as benzyl, 4-methoxybenzyl, 2
A C 7-19 aralkyl group which may be substituted with 1 to 3 C 1-4 alkoxy (eg, methoxy, ethoxy, etc.) such as -nitrobenzyl, 4-nitrobenzyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl group or nitro; , For example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl,
C 1-4 such as 2-trimethylsilylethoxycarbonyl group
C 1-6 alkyloxy- which may be substituted by 1 to 3 alkoxy (eg methoxy, ethoxy etc.), halogen (eg chlorine, bromine etc.) or tri-C 1-4 alkylsilyl (eg trimethylsilyl etc.) and the like. Carbonyl group,
For example, benzyloxycarbonyl, 4-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 2-nitrobenzyloxycarbonyl,
A C 7-19 aralkyloxy-carbonyl group, which may be substituted with a C 1-4 alkoxy (eg, methoxy, ethoxy, etc.) such as a 4- nitrobenzyloxycarbonyl group, or a nitro group, such as vinyloxycarbonyl, allyloxy. C 2-6 alkenyloxy-carbonyl group such as carbonyl group, halogen such as methoxymethyl, t-butoxymethyl, 2-methoxyethoxymethyl, 2,2,2-trichloroethoxymethyl group (eg chlorine, bromine, fluorine) Etc.), a methyl group having 1 to 3 substituents such as C 1-4 alkoxy (eg, methoxy, ethoxy, etc.) which may be substituted with, for example, 1-ethoxyethyl, 1-methyl-1-methoxyethyl, 2, C 1-4 alkoxy (e.g. methoxy, ethoxy, etc.), such as 2,2-trichloroethyl group or a halogen (e.g., Iodine, bromine, fluorine, etc.)
A tri-C 1-4 alkylsilyl group such as trimethylsilyl, triethylsilyl, dimethylisopropylsilyl, t-butyldimethylsilyl, triisopropylsilyl group, etc., such as diphenylmethylsilyl, diphenylethyl. A diphenyl-C 1-4 alkylsilyl group such as silyl group is used, and preferably C 7-19 aralkyloxycarbonyl group (benzyloxycarbonyl group etc.), C 2-6 alkenyloxycarbonyl group (vinyloxycarbonyl group etc.) ), Tri-C 1-4
Alkylsilyl group (trimethylsilyl group etc.)
More preferably, a tri-C 1-4 alkylsilyl group or the like is used, and particularly preferably, a t-butyldimethylsilyl group or the like is used.

【0013】R2はカルボキシル基の保護基を示し、こ
の様な保護基としては水酸基の保護基の脱離工程におい
て、水酸基の保護基よりも脱離されにくい基が用いら
れ、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−,iso−,sec−,tert−ブチル、n−ヘキシ
ル基等のC1-8アルキル基、ブロモ−t−ブチル、トリ
クロロエチル等のハロゲン(例えば、塩素、臭素、フッ
素、ヨウ素等)で1ないし3置換されたC1-6アルキル
基、ベンジル、p−ニトロベンジル、o−ニトロベンジ
ル、p−メトキシベンジル基、p−t−ブチルベンジル
等のニトロ、C1-4アルコキシ基(例えばメトキシ、エ
トキシ等)またはC1-4アルキル基(例えばメチル、エ
チル、n−又はiso−プロピル、n−、iso−、s
ec−又はtert−ブチル等)等で1または2置換さ
れていてもよいC7-14アラルキル基、アセトキシメチ
ル、プロピオニルオキシメチル、n−,iso−,ブチリ
ルオキシメチル、バレリルオキシメチル、ピバロイルオ
キシメチル、1−(または2−)アセトキシエチル,1
−(または2−または3−)アセトキシプロピル,1−
(または2−または3−または4−)アセトキシブチ
ル,1−(または2−)プロピオニルオキシエチル,1
−(または2−または3−)プロピオニルオキシプロピ
ル,1−(または2−)ブチリルオキシエチル,1−
(または2−)イソブチリルオキシエチル,1−(また
は2−)ピバロイルオキシエチル,1−(または2−)
ヘキサノイルオキシエチル、イソブチリルオキシメチ
ル、2−エチルブチリルオキシメチル,3,3−ジメチ
ルブチリルオキシメチル、1−(または2−)ペンタノ
イルオキシエチル等のC1-4アルカノイルオキシ−C1-4
アルキル基、例えば2−メシルエチル基等のC1-4アル
カンスルホニル−C1-4アルキル基,例えばメトキシカ
ルボニルオキシメチル,エトキシカルボニルオキシメチ
ル,プロポキシカルボニルオキシメチル,第三級ブトキ
シカルボニルオキシメチル,1−(または2−)メトキ
シカルボニルオキシエチル,1−(または2−)エトキ
シカルボニルオキシエチル,1−(または2−)イソプ
ロポキシカルボニルオキシエチル等のC1-4アルコキシ
カルボニルオキシ−C1-4アルキル基、t−ブチルジメ
チルシリル、トリメチルシリル等のトリC1-4アルキル
シリル基、アリル、メタ アリル等のC2-6アルケニル
基、メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシ メ
チル、イソプロポキシメチル等のC1-4アルコキシ−メ
チル基、(2−メチル チオ)−エチル等のC1-4アルキ
ルチオC1-4アルキル基、3−メチル−2−ブテニル
基、5−インダニル基、3−フタリジル基等が用いら
れ、好ましくは、例えばニトロ、C1-4アルキル基等で
1または2置換されていてもよいC7-14アラル キル基
等が、より好ましくは例えばp−ニトロベンジル基等が
用いられる。
R 2 represents a protecting group for a carboxyl group, and as such a protecting group, a group that is less likely to be removed than a protecting group for a hydroxyl group is used in the step of removing a protecting group for a hydroxyl group. C 1-8 alkyl groups such as ethyl, n-propyl, isopropyl, n-, iso-, sec-, tert-butyl and n-hexyl groups, halogens such as bromo-t-butyl and trichloroethyl (eg, chlorine, Bromine, fluorine, iodine, etc.) 1 to 3 substituted C 1-6 alkyl group, benzyl, p-nitrobenzyl, o-nitrobenzyl, p-methoxybenzyl group, nitro such as pt-butylbenzyl, C 1-4 alkoxy group (eg methoxy, ethoxy etc.) or C 1-4 alkyl group (eg methyl, ethyl, n- or iso-propyl, n-, iso-, s
ec- or tert-butyl etc.) or the like, which may be mono- or disubstituted with C 7-14 aralkyl group, acetoxymethyl, propionyloxymethyl, n-, iso-, butyryloxymethyl, valeryloxymethyl, pi Valoyloxymethyl, 1- (or 2-) acetoxyethyl, 1
-(Or 2- or 3-) acetoxypropyl, 1-
(Or 2- or 3- or 4-) acetoxybutyl, 1- (or 2-) propionyloxyethyl, 1
-(Or 2- or 3-) propionyloxypropyl, 1- (or 2-) butyryloxyethyl, 1-
(Or 2-) isobutyryloxyethyl, 1- (or 2-) pivaloyloxyethyl, 1- (or 2-)
C 1-4 alkanoyloxy-C such as hexanoyloxyethyl, isobutyryloxymethyl, 2-ethylbutyryloxymethyl, 3,3-dimethylbutyryloxymethyl, 1- (or 2-) pentanoyloxyethyl 1-4
Alkyl group, such as 2 Meshiruechiru C 1-4 alkanesulfonyl -C 1-4 alkyl group such as, for example, methoxycarbonyloxymethyl, ethoxycarbonyloxymethyl, propoxycarbonyl-oxymethyl, tert-butoxycarbonyl-oxy, 1- A C 1-4 alkoxycarbonyloxy-C 1-4 alkyl group such as (or 2-) methoxycarbonyloxyethyl, 1- (or 2-) ethoxycarbonyloxyethyl, 1- (or 2-) isopropoxycarbonyloxyethyl , t- butyl-dimethyl-silyl, tri C 1-4 alkylsilyl group such as trimethylsilyl, allyl, meta-C 2-6 alkenyl groups allyl and the like, methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxy methyl, C 1-4, such as isopropoxymethyl Alkoxy-methyl group, (2-methylthio)- A C 1-4 alkylthio C 1-4 alkyl group such as ethyl, a 3-methyl-2-butenyl group, a 5-indanyl group, a 3-phthalidyl group and the like are used, and preferably, for example, nitro and a C 1-4 alkyl group. And the like, a C 7-14 aralkyl group which may be mono- or disubstituted with etc., and more preferably a p-nitrobenzyl group, etc. are used.

【0014】R3はアシル基を示し、この様なアシル基
は酸よりOH基を除いて得られる基であって、単に有機
カルボン酸のカルボキシル基からOHを除いた残りの原
子団のみならず、広義に、有機スルホン酸や有機リン酸
から誘導されるアシル基をも包含し、例えば(i)アセ
チル、プロピオニル、ブチリル基等のC1-4アルカノイ
ル基、(ii)メタンスルホニル、トリフロオロメタンス
ルホニル基等のハロゲン(例えば塩素、フッ素等)で1
ないし3置換されていてもよいC1-4アルキルスルホニ
ル基、(iii)ベンゼンスルホニル、p−ニトロベンゼ
ンスルホニル、p−ブロモベンゼンスルホニル、トルエ
ンスルホニル、2,4,6−トリイソプロピルベンゼンス
ルホニル基等のニトロ基、ハロゲン(例えば臭素、塩
素、フッ素、ヨウ素等)、C1-4アルキル基(例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル等)等により
1ないし3置換されていてもよいアリールスルホニル
基、(iv)ジフェニルホスホリル基等が用いられ、好ま
しくは例えばジフェニルホスホリル基等が用いられる。
R 3 represents an acyl group, and such an acyl group is a group obtained by removing an OH group from an acid and is not limited to the rest of atomic groups obtained by removing OH from a carboxyl group of an organic carboxylic acid. In a broad sense, it also includes an acyl group derived from an organic sulfonic acid or an organic phosphoric acid. For example, (i) a C 1-4 alkanoyl group such as acetyl, propionyl, butyryl group, (ii) methanesulfonyl, trifluoromethane. 1 for halogen such as sulfonyl group (eg chlorine, fluorine, etc.)
To optionally substituted C 1-4 alkylsulfonyl group, (iii) benzenesulfonyl, p-nitrobenzenesulfonyl, p-bromobenzenesulfonyl, toluenesulfonyl, nitro such as 2,4,6-triisopropylbenzenesulfonyl group Group, halogen (eg, bromine, chlorine, fluorine, iodine, etc.), C 1-4 alkyl group (eg,
An arylsulfonyl group which may be substituted 1 to 3 with (methyl, ethyl, propyl, isopropyl, etc.) and the like, (iv) a diphenylphosphoryl group and the like are used, and preferably a diphenylphosphoryl group and the like are used.

【0015】本発明方法においては、まず化合物(I)
またはその塩と(i)N,N′−カルボニルジイミダゾー
ルとを反応させるまたは(ii)塩基の存在下にハロゲン
化炭酸エステルとイミダゾールとを反応させて化合物
(II)を得る。この工程において用いられる塩基として
は、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、N,
N−ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、
トリオクチルアミン、トリアリルアミン、ジメチルベン
ジルアミン、テトラメチル−1,3−ジアミノプロパ
ン、N−メチルモルホリン、N−メチルピロリジン、N
−メチルピペリジン、N,N−ジメチルアニリン、1,8
−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデカ−7−エン(D
BU),1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノナ−5
−エン(DBN)等の第3級脂肪族アミン、ピリジン、
4−ジメチル−アミノピリジン、ピコリン、ルチジン、
キノリン、イソキノリン等の芳香族アミン等が用いら
れ、好ましくは、例えばトリエチルアミン、N,N−ジ
イソプロピルエチルアミン等のC1-4アルキル基で1な
いし3置換された第3級脂肪族アミン、ピリジン、4−
ジメチルアミノピリジン等のジC1-4アルキルアミノ基
で置換されていてもよいピリジン等が、好ましくはトリ
エチルアミン等のトリC1-4アルキルアミン等が用いら
れる。ハロゲン化炭酸エステルとしては、クロロ炭酸メ
チル、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸プロピル、ブロモ
炭酸メチル、ブロモ炭酸エチル、ブロモ炭酸プロピル等
のハロゲン化炭酸C1-4アルキルエステル、クロロ炭酸
フェニル、ブロモ炭酸フェニル等のハロゲン化炭酸フェ
ニルエステル等が用いられ、好ましくはクロロ炭酸エチ
ルが用いられる。反応溶媒としては、例えばベンゼン、
トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶
媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメト
キシエタン等のエーテル系溶媒、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン、1,2−ジ
クロルエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジメチル
ホルムアミド、アセトニトリル等の高非極プロトン性溶
媒等の反応溶媒が使用されるが、特に塩化メチレン、ア
セトニトリル、テトラヒドロフラン等が好ましい。更に
は反応後の分液精製操作を考えれば、工業的には水に溶
けにくい塩化メチレンが最も好ましい。
In the method of the present invention, first, the compound (I) is used.
Alternatively, compound (II) is obtained by reacting the salt thereof with (i) N, N'-carbonyldiimidazole or (ii) reacting the halogenated carbonate with imidazole in the presence of a base. Examples of the base used in this step include trimethylamine, triethylamine, N,
N-diisopropylethylamine, tributylamine,
Trioctylamine, triallylamine, dimethylbenzylamine, tetramethyl-1,3-diaminopropane, N-methylmorpholine, N-methylpyrrolidine, N
-Methylpiperidine, N, N-dimethylaniline, 1,8
-Diazabicyclo [5,4,0] undec-7-ene (D
BU), 1,5-diazabicyclo [4,3,0] nona-5
-Tertiary aliphatic amines such as ene (DBN), pyridine,
4-dimethyl-aminopyridine, picoline, lutidine,
Aromatic amines such as quinoline and isoquinoline are used, and preferably tertiary aliphatic amines substituted with 1 to 3 C 1-4 alkyl groups such as triethylamine and N, N-diisopropylethylamine, pyridine, and 4 are used. −
Good pyridine optionally substituted by di-C 1-4 alkylamino group such as dimethylamino pyridine and, preferably tri C 1-4 alkyl amines such as triethylamine are used. Examples of the halogenated carbonic acid ester include halogenated carbonic acid C 1-4 alkyl ester such as methyl chlorocarbonate, ethyl chlorocarbonate, propyl carbonate, methyl bromocarbonate, ethyl bromocarbonate and propyl bromocarbonate, phenyl chlorocarbonate, phenyl bromocarbonate and the like. The halogenated carbonic acid phenyl ester and the like are used, and ethyl chlorocarbonate is preferably used. As the reaction solvent, for example, benzene,
Hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and cyclohexane, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane and 1,2-dimethoxyethane, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, trichloroethylene and 1,2-dichloroethane. A reaction solvent such as a system solvent and a highly aprotic solvent such as dimethylformamide and acetonitrile is used, and methylene chloride, acetonitrile and tetrahydrofuran are particularly preferable. Further, considering the separation and purification operation after the reaction, methylene chloride, which is industrially insoluble in water, is most preferable.

【0016】(ii)の反応においては、化合物(I)、
塩基、ハロゲン炭酸エステルおよびイミダゾールを同時
に反応させてもよいが、塩基とハロゲン化炭酸エステル
を混和した後に化合物(I)と反応させ、ついでイミダ
ゾールと反応させるのが好ましい。化合物(I)の塩と
しては、例えば、セフェム系抗生物質の製造において、
通常用いられる塩が用いられ、例えばアルカリ金属(例
えばリチウム、カリウム、ナトリウム等)、アルカリ土
類金属(例えば、カルシウム、マグネシウム等)、アン
モニウム類(例えばトリエチルアンモニウム、ジイソプ
ロピルエチルアンモニウム等のC1-4アルキル基によっ
て1ないし3置換されたアンモニウム等)等との塩が、
好ましくは、例えばカリウム、ナトリウム等のアルカリ
金属との塩が用いられる。
In the reaction (ii), the compound (I),
The base, the halogen carbonate and the imidazole may be reacted at the same time, but it is preferable that the base and the halogenated carbonate are mixed and then reacted with the compound (I) and then with the imidazole. Examples of the salt of compound (I) include, for example, in the production of cephem antibiotics,
Commonly used salts are used, for example, C 1-4 such as alkali metal (eg lithium, potassium, sodium etc.), alkaline earth metal (eg calcium, magnesium etc.), ammonium (eg triethylammonium, diisopropylethylammonium etc.). A salt with an alkyl group having 1 to 3 substituents such as ammonium),
Preferably, a salt with an alkali metal such as potassium or sodium is used.

【0017】本反応における、化合物(I)またはその
塩とN,N′−カルボニルジイミダゾールとの使用割合
(モル比)は1:1〜3、好ましくは1:1〜1.5で
ある。化合物(I)と溶媒との使用割合(重量比)は、
1:50〜1000、好ましくは1:100〜500で
ある。化合物(I)と塩基との使用割合(モル比)は、
1:1〜5、好ましくは1:1〜2である。化合物
(I)とハロゲン化炭酸エステルとの使用割合(モル
比)は、1:1〜5、好ましくは1:1〜2である。化
合物(I)とイミダゾールとの使用割合(モル比)は、
1:1〜5、好ましくは1:1〜2である。反応時間は
0.5〜20時間、好ましくは1〜5時間である。反応
温度は−70〜20℃、好ましくは−40〜0℃であ
る。本反応は、水分により悪影響を受けるため、空気中
の水分を吸湿しないように、例えば窒素ガス、アルゴン
ガス等の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。本反
応で得られる化合物(II)は、常法に従って分離精製後
次の反応に用いることもできるが、反応混合物のまま次
の反応に用いるのが有利である。本反応で原料として用
いられる化合物(I)またはその塩は、例えば有機化学
協会誌47巻,606頁,1989年発行または49
巻,104頁,1991年発行等に記載の方法またはそ
れに準じる方法により合成できる。
In this reaction, the ratio (molar ratio) of compound (I) or its salt to N, N'-carbonyldiimidazole is 1: 1 to 3, preferably 1: 1 to 1.5. The ratio (weight ratio) of the compound (I) and the solvent is
It is 1:50 to 1000, preferably 1: 100 to 500. The usage ratio (molar ratio) of the compound (I) and the base is
It is 1: 1 to 5, preferably 1: 1 to 2. The use ratio (molar ratio) of the compound (I) and the halogenated carbonate is 1: 1 to 5, preferably 1: 1 to 2. The use ratio (molar ratio) of compound (I) and imidazole is
It is 1: 1 to 5, preferably 1: 1 to 2. The reaction time is 0.5 to 20 hours, preferably 1 to 5 hours. The reaction temperature is -70 to 20 ° C, preferably -40 to 0 ° C. Since this reaction is adversely affected by moisture, it is preferable to carry out this reaction in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas or argon gas so as not to absorb moisture in the air. The compound (II) obtained by this reaction can be used for the next reaction after separation and purification according to a conventional method, but it is advantageous to use it as it is for the next reaction. The compound (I) or a salt thereof used as a starting material in this reaction is described in, for example, Journal of Organic Chemistry Vol. 47, page 606, published in 1989 or 49
Volume, p. 104, published in 1991, etc., or a method analogous thereto.

【0018】つぎに、前記反応で得られる化合物(II)
と無機塩と化合物(III)とを反応させて化合物(IV)
を得る。この工程において用いられる無機塩としては、
例えば、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化
マグネシウム等のアルカリ土類金属のハロゲン化物等が
用いられ、好ましくは、塩化マグネシウム等が用いられ
る。反応溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キ
シレン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン等
のエーテル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、四塩
化炭素、トリクロロエチレン、1,2−ジクロルエタン
等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジメチルホルムアミ
ド、アセトニトリル等の高非極プロトン性溶媒等の反応
溶媒が使用されるが、特に塩化メチレン、アセトニトリ
ル、テトラヒドロフラン等が好ましい。更には反応後の
分液精製操作を考えれば、工業的には水に溶けにくい塩
化メチレンが最も好ましい。
Next, the compound (II) obtained by the above reaction
To react compound (IV) with an inorganic salt and compound (III)
To get As the inorganic salt used in this step,
For example, halides of alkaline earth metals such as magnesium chloride, magnesium bromide and magnesium iodide are used, and magnesium chloride is preferably used. Examples of the reaction solvent include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene and cyclohexane, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane and 1,2-dimethoxyethane, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, trichloroethylene and 1,2. A reaction solvent such as a halogenated hydrocarbon solvent such as dichloroethane or a highly aprotic solvent such as dimethylformamide or acetonitrile is used, and methylene chloride, acetonitrile or tetrahydrofuran is particularly preferable. Further, considering the separation and purification operation after the reaction, methylene chloride, which is industrially insoluble in water, is most preferable.

【0019】本反応は塩基の存在下に行うのが好まし
く、そのような塩基としては例えば、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチル
アミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、トリ
アリルアミン、ジメチルベンジルアミン、テトラメチル
−1,3−ジアミノプロパン、N−メチルモルホリン、
N−メチルピロリジン、N−メチルピペリジン、N,N
−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,
0]ウンデカ−7−エン(DBU),1,5−ジアザビ
シクロ[4,3,0]ノナ−5−エン(DBN)等の第3
級脂肪族アミン、ピリジン、4−ジメチル−アミノピリ
ジン、ピコリン、ルチジン、キノリン、イソキノリン等
の芳香族アミン等が用いられ、好ましくは例えば、トリ
エチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン等
のC1-4アルキル基で1ないし3置換された第3級脂肪
族アミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の
ジC1-4アルキルアミノ基で置換されていてもよいピリ
ジン等が、好ましくはトリエチルアミン等のトリC1-4
アルキルアミン等が用いられる。化合物(II)と無機塩
と化合物(III)との反応は同時に行ってもよく、任意
の順序で行ってもよいが、化合物(II)に無機塩を加
え、ついで、化合物(III)を加えて反応させるのが好ま
しい。また塩基は無機塩と同時かまたは無機塩を加えた
後で化合物(III)を加える前に加えるのが好ましい。
本反応は、窒素ガス、アルゴンガスのような不活性ガス
雰囲気下で行うのが好ましく、また、単に雰囲気下で反
応させるよりも、これらの不活性ガスを通気すること等
により本反応で生ずる炭酸ガスを除去しながら行うのが
より好ましい。
This reaction is preferably carried out in the presence of a base, and examples of such a base include trimethylamine, triethylamine, N, N-diisopropylethylamine, tributylamine, trioctylamine, triallylamine, dimethylbenzylamine and tetra. Methyl-1,3-diaminopropane, N-methylmorpholine,
N-methylpyrrolidine, N-methylpiperidine, N, N
-Dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5,4,
Third] such as [0] undec-7-ene (DBU) and 1,5-diazabicyclo [4,3,0] non-5-ene (DBN)
Aromatic amines such as higher aliphatic amines, pyridine, 4-dimethyl-aminopyridine, picoline, lutidine, quinoline and isoquinoline are used, and preferably C 1-4 alkyl such as triethylamine and N, N-diisopropylethylamine. A tertiary aliphatic amine substituted with 1 to 3 groups, pyridine, pyridine optionally substituted with a di C 1-4 alkylamino group such as 4-dimethylaminopyridine, etc., preferably tri-C such as triethylamine. 1-4
An alkylamine or the like is used. The reaction of the compound (II) with the inorganic salt and the compound (III) may be carried out simultaneously or in any order. However, the inorganic salt is added to the compound (II), and then the compound (III) is added. It is preferable to react with each other. The base is preferably added at the same time as the inorganic salt or after the inorganic salt is added and before the compound (III) is added.
This reaction is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas or argon gas, and the carbon dioxide generated in this reaction can be generated by aeration of these inert gases rather than simply reacting in an atmosphere. It is more preferable to carry out while removing the gas.

【0020】本反応における化合物(II)と無機塩との
使用割合(モル比)は1:1〜5、好ましくは1:1〜
2である。化合物(II)と溶媒との使用割合(重量比)
は1:50〜1000、好ましくは1:100〜500
である。化合物(II)と化合物(III)との使用割合
(モル比)は1:1〜5、好ましくは1:1〜3であ
る。化合物(II)と塩基との使用割合(モル比)は、
1:1〜5、好ましくは1:1〜3である。反応時間は
0.5〜20時間、好ましくは1〜5時間である。反応
温度は15〜100℃、好ましくは30〜60℃であ
る。本反応で得られる化合物(IV)は、常法に従って分
離精製後次の反応に用いることもできるが、反応混合物
のまま次の反応に用いるのが好都合である。また、反応
溶媒が水に不溶である場合には、反応混合物を適量(反
応混合物と水との使用割合(容量比)は1:0.1〜1
0、好ましくは1:0.5〜5)の水に懸濁、ついで水
層と目的化合物(IV)を含む溶媒層に分液することで、
水溶性の不純物を除去することもできる。
In the reaction, the compound (II) and the inorganic salt are used in a ratio (molar ratio) of 1: 1 to 5, preferably 1: 1.
It is 2. Use ratio of compound (II) and solvent (weight ratio)
Is 1:50 to 1000, preferably 1: 100 to 500
Is. The use ratio (molar ratio) of the compound (II) and the compound (III) is 1: 1 to 5, preferably 1: 1 to 3. The ratio (molar ratio) of the compound (II) and the base is
It is 1: 1 to 5, preferably 1: 1 to 3. The reaction time is 0.5 to 20 hours, preferably 1 to 5 hours. reaction
The temperature is 15 to 100 ° C, preferably 30 to 60 ° C. The compound (IV) obtained in this reaction can be used for the next reaction after separation and purification according to a conventional method, but it is convenient to use it as it is for the next reaction. When the reaction solvent is insoluble in water, an appropriate amount of the reaction mixture (the ratio of the reaction mixture and water (volume ratio) is 1: 0.1 to 1) is used.
0, preferably 1: 0.5 to 5) in water, and then separated into a water layer and a solvent layer containing the target compound (IV),
It is also possible to remove water-soluble impurities.

【0021】従来、化合物(IV)は化合物(II)と(R
2OOCCH2COO)2 Mg[式中、R2はカルボキシ
ル基の保護基を、Mgはマグネシウムを示す]で表わさ
れるマグネシウムマロネート化合物とを反応させて得て
いたが、この場合、収率が十分でなかった。従って、本
発明者らは化合物(IV)を得る方法を種々検討した結
果、化合物(II)と無機塩と化合物(III)とを同一系
内で反応させるワンポット反応が、予想外に収率向上に
効果的であることを見いだした。すなわち化合物(II)
を含む溶液中に、無機塩を加え、ついで化合物(III)
を加えて反応させる方法が収率の点で優れている。この
ワンポット反応においては化合物(II)、無機塩、塩
基、化合物(III)の混合順序は、厳密には制限される
ものではないが、上記の順序において実施することが好
ましい。
Conventionally, the compound (IV) is the compound (II) and (R
2 OOCCH 2 COO) 2 Mg [wherein R 2 is a protecting group for a carboxyl group, and Mg is magnesium], and was obtained by reacting with a magnesium malonate compound. It wasn't enough. Therefore, as a result of various studies on the method for obtaining the compound (IV), the present inventors unexpectedly improved the yield in the one-pot reaction in which the compound (II), the inorganic salt and the compound (III) were reacted in the same system. Found to be effective. That is, compound (II)
Inorganic salt is added to the solution containing
The method of adding and reacting is excellent in terms of yield. In this one-pot reaction, the mixing order of the compound (II), the inorganic salt, the base and the compound (III) is not strictly limited, but it is preferably carried out in the above order.

【0022】この化合物(II)を用いたワンポット反応
は増炭反応であって、空気中の水分が悪影響を与えるた
め従来法では吸湿しない条件下、例えば窒素ガス、アル
ゴンガスのような不活性ガス雰囲気下で行われている。
しかしながらこのような条件下では、この増炭反応の収
率は一定せず、時として極端な収率低下を生じることが
ある。従って、本発明者らは化合物(IV)の収率を向上
させる方法を種々検討した結果、窒素ガス、アルゴンガ
スのような不活性ガスを通気させることによって発生す
る炭酸ガスを反応系外に除去すると、予想外にもより低
温でより速やかに反応を完結させることができかつ高い
収率が得られることを見いだした。この増炭反応をジク
ロルメタンのような低沸点溶媒を使用して行なうと、反
応を比較的短時間に終了させることも可能である。
The one-pot reaction using this compound (II) is a carbon-increasing reaction, and under the condition that moisture is not adversely affected by the conventional method, for example, an inert gas such as nitrogen gas or argon gas, is adversely affected. It is done in an atmosphere.
However, under such a condition, the yield of this carbon-boosting reaction is not constant, and sometimes the yield is extremely lowered. Therefore, as a result of various studies on the method for improving the yield of the compound (IV), the present inventors removed carbon dioxide gas generated by aeration of an inert gas such as nitrogen gas or argon gas to the outside of the reaction system. Then, unexpectedly, it was found that the reaction can be completed more rapidly at a lower temperature and a high yield can be obtained. It is also possible to complete the reaction in a relatively short time by carrying out this carbon-boosting reaction using a low boiling point solvent such as dichloromethane.

【0023】つぎに、前記反応で得られる化合物(IV)
とアジド化合物とを反応させ、化合物(V)を得る。こ
の工程において、使用される反応溶媒としては、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭化水素
系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジ
メトキシエタン等のエーテル系溶媒、塩化メチレン、ク
ロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン、1,2
−ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジメ
チルホルムアミド、アセトニトリル等の高非極プロトン
性溶媒等の反応溶媒が使用されるが、特に塩化メチレ
ン、アセトニトリル、テトラヒドロフランが好ましい。
更には反応後の分液精製操作を考えれば、工業的には水
に溶けにくい塩化メチレンが最も好ましい。アジド化合
物としては、トルエンスルホニルアジド、ドデシルベン
ゼンスルホニルアジド、p−カルボキシベンゼンスルホ
ニルアジド、メタンスルホニルアジド等のスルホニルア
ジド類が使用できるが、工業的には、これらの中で最も
安定で、爆発等の危険の少いドデシルベンゼンスルホニ
ルアジド等が好ましい。
Next, the compound (IV) obtained by the above reaction
And azide compound are reacted to obtain compound (V). In this step, reaction solvents used include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene and cyclohexane, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane and 1,2-dimethoxyethane, methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride. , Trichlorethylene, 1,2
A reaction solvent such as a halogenated hydrocarbon solvent such as dichloroethane or a highly aprotic solvent such as dimethylformamide or acetonitrile is used, and methylene chloride, acetonitrile or tetrahydrofuran is particularly preferable.
Further, considering the separation and purification operation after the reaction, methylene chloride, which is industrially insoluble in water, is most preferable. As the azide compound, sulfonyl azides such as toluene sulfonyl azide, dodecylbenzene sulfonyl azide, p-carboxybenzene sulfonyl azide, methane sulfonyl azide can be used. Dodecylbenzenesulfonyl azide and the like, which are less dangerous, are preferable.

【0024】本反応は塩基の存在下で行うことが好まし
く、そのような塩基としてはトリエチルアミン、ジエチ
ルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン等のC
1-4アルキル基で1ないし3置換されたアミン、ピリジ
ン、4−ジエチルアミノピリジン等のジC1-4アルキル
アミノで置換されていてもよいピリジン等が用いられ、
好ましくはトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピル
エチルアミン等が用いられる。塩基は、化合物(IV)と
アジド化合物とを混和した後に加えるのが好ましい。本
反応における化合物(IV)とアジド化合物との使用割合
(モル比)は1:1〜5、好ましくは1:1〜2であ
る。化合物(IV)と溶媒との使用割合(重量比)は1:
1〜100、好ましくは1:2〜50である。化合物
(IV)と塩基との使用割合(モル比)は1:0.1〜
2、好ましくは1:0.2〜1である。反応時間は0.5
〜24時間、好ましくは、1〜10時間である。反応温
度は−20〜100℃、好ましくは0〜50℃である。
本反応は、水分により悪影響を受けるため、空気中の水
分を吸湿しないように、例えば窒素ガス、アルゴンガス
等の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。通常、こ
のジアゾ化反応終了液には、ジアゾ化合物(V)とスル
ホンアミドが等モル含まれており、ジアゾ化合物(V)
のみを単離精製するために、シリカゲルクロマトグラフ
ィー等が用いられていたが、純度、収率の点で満足でき
るものではない。発明者等はこの点について、鋭意研究
した結果、反応終了後溶媒を適度に濃縮した後、n−ヘ
キサン、n−ペンタン、石油エーテル、トルエン、キシ
レン、イソプロピルエーテル等の溶媒を添加すると、ジ
アゾ化合物(V)のみが高純度の結晶として選択的に得
られることを見いだした。特に反応時の溶媒としてジク
ロルメタンを用いて反応後にn−ヘキサンを添加するの
が、化合物(V)の選択的な製法として最も好ましい。
また、化合物(IV′)とジアゾ化合物とを反応させ、化
合物(VI)を得る工程も前記化合物(IV)とジアゾ化合
物との反応と同様にして実施できる。
This reaction is preferably carried out in the presence of a base, and examples of such a base include C such as triethylamine, diethylamine and N, N-diisopropylethylamine.
Amine which is 1 to 3 substituted with 1-4 alkyl group, pyridine, pyridine which may be substituted with di C 1-4 alkylamino such as 4-diethylaminopyridine and the like are used,
Preferably, triethylamine, N, N-diisopropylethylamine and the like are used. The base is preferably added after mixing the compound (IV) and the azide compound. The ratio (molar ratio) of the compound (IV) to the azide compound used in this reaction is 1: 1 to 5, preferably 1: 1 to 2. The ratio (weight ratio) of the compound (IV) and the solvent used is 1:
It is 1 to 100, preferably 1: 2 to 50. The use ratio (molar ratio) of the compound (IV) and the base is 1: 0.1 to
2, preferably 1: 0.2-1. Reaction time is 0.5
-24 hours, preferably 1-10 hours. The reaction temperature is -20 to 100 ° C, preferably 0 to 50 ° C.
Since this reaction is adversely affected by moisture, it is preferable to carry out this reaction in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas or argon gas so as not to absorb moisture in the air. Usually, this diazotization reaction completed liquid contains equimolar amounts of diazo compound (V) and sulfonamide.
Silica gel chromatography and the like have been used to isolate and purify only that, but it is not satisfactory in terms of purity and yield. As a result of earnest studies on this point, the inventors of the present invention have found that the solvent is appropriately concentrated after completion of the reaction, and then a solvent such as n-hexane, n-pentane, petroleum ether, toluene, xylene, or isopropyl ether is added to the diazo compound. It was found that only (V) was selectively obtained as a high-purity crystal. In particular, it is most preferable as a selective production method of the compound (V) to use dichloromethane as a solvent during the reaction and add n-hexane after the reaction.
Further, the step of reacting the compound (IV ′) with a diazo compound to obtain the compound (VI) can also be carried out in the same manner as the reaction between the compound (IV) and the diazo compound.

【0025】つぎに、化合物(IV)のジアゾ化により得
られる化合物(V)と酸とを反応させて水酸基の保護基
であるRを脱離させ、化合物(VI)を得る。この加水
分解反応において、使用される酸としては、例えば、ハ
ロゲン化水素酸(塩酸、フッ化水素酸等)、硫酸、リン
酸等の無機酸、酢酸等の有機酸等であり、好ましくは例
えば塩酸等のハロゲン化水素酸等が用いられる。
Next, the compound (V) obtained by the diazotization of the compound (IV) is reacted with an acid to eliminate R 1 which is a hydroxyl-protecting group to obtain a compound (VI). Examples of the acid used in this hydrolysis reaction include hydrohalic acid (hydrochloric acid, hydrofluoric acid, etc.), inorganic acids such as sulfuric acid and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, etc. Hydrohalic acid such as hydrochloric acid is used.

【0026】本加水分解反応は、通常水または水とメタ
ノール、エタノール等の低級アルコール系溶媒、もしく
はテトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒
との混合溶媒を用いて行われ、好ましくは例えばメタノ
ール−水−塩酸の混合溶媒等を用いて行われる。本反応
における化合物(V)と酸との使用割合(モル比)は、
1:0.5〜10、好ましくは1:1〜5である。酸と
溶媒との使用割合(容量比)は1:0.5〜1000、
好ましくは1:5〜100である。例えば、前記したメ
タノール−水−塩酸の3成分系において、塩酸と混合溶
媒の割合(容量比)は、1:1〜100、好ましくは
1:5〜50である。また、メタノールと水との比率
(容量比)は1:0.01〜100、好ましくは1:0.
05〜1:1である。用いる塩酸の濃度は35%(w/
w)である。反応時間は0.5〜20時間、好ましくは
1〜10時間である。反応温度は0〜100℃、好まし
くは0〜40℃である。さらに、化合物(V)を5〜7
0%(w/v)(25℃)、好ましくは30〜50%
(w/v)(25℃)以上溶解する溶媒を添加するのが
よい。ここで添加するのに適した溶媒としては、例えば
塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系
溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等の低級ケトン系
溶媒、またはジメチルホルムアミド、アセトニトリル等
の高非極プロトン性溶媒等が用いられるが、好ましくは
例えば塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒が用
いられる。化合物(V)と化合物(V)を溶解する溶媒と
の割合(重量比)は1:0.1〜30、好ましくは1:
1〜10である。酸もしくはその混合溶媒と化合物
(V)を溶解する溶媒との割合(容量比)は1:0.01
〜10、好ましくは1:0.1〜1である。具体的に
は、例えば塩化メチレン−メタノール−水−塩酸の4成
分系において、化合物(V)が溶解して、2層に分液し
ない混合割合(容量比)である1:0.01〜0.8が好
ましく、より好ましくは1:0.05〜0.5である。通
常、本反応は、化合物(V)が酸もしくは溶媒に溶解し
にくいため、反応に長時間を要し、後の工程で反応を阻
害する分解物を生成する。これらの分解物は、特に閉環
反応工程において使用する高価な貴金属触媒の使用量を
増大させることになる。従って本発明者等は不用な分解
物の生成をおさえる化合物(VI)の製造法を種々検討し
た結果、化合物(VI)を溶解する溶媒を反応系に添加す
れば、均一系で緩和な条件下において反応が進行するこ
とを見いだした。
This hydrolysis reaction is usually carried out using water or a mixed solvent of water and a lower alcohol solvent such as methanol or ethanol, or an ether solvent such as tetrahydrofuran or dioxane, and preferably methanol-water- It is carried out using a mixed solvent of hydrochloric acid or the like. The ratio (molar ratio) of the compound (V) and the acid used in this reaction is
It is 1: 0.5-10, preferably 1: 1-5. The use ratio (volume ratio) of the acid and the solvent is 1: 0.5 to 1000,
It is preferably 1: 5 to 100. For example, in the above-mentioned three-component system of methanol-water-hydrochloric acid, the ratio (volume ratio) of hydrochloric acid to the mixed solvent is 1: 1 to 100, preferably 1: 5 to 50. The ratio of methanol to water (volume ratio) is 1: 0.01 to 100, preferably 1: 0.
It is 05 to 1: 1. The concentration of hydrochloric acid used is 35% (w /
w). The reaction time is 0.5 to 20 hours, preferably 1 to 10 hours. The reaction temperature is 0 to 100 ° C, preferably 0 to 40 ° C. Furthermore, compound (V) is added to 5 to 7
0% (w / v) (25 ° C), preferably 30-50%
It is preferable to add a solvent that dissolves at least (w / v) (25 ° C.). Suitable solvents to be added here include halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride and chloroform, lower ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, or highly aprotic solvents such as dimethylformamide and acetonitrile. Is used, but a halogenated hydrocarbon solvent such as methylene chloride is preferably used. The ratio (weight ratio) of the compound (V) to the solvent in which the compound (V) is dissolved is 1: 0.1 to 30, preferably 1 :.
1 to 10. The ratio (volume ratio) of the acid or the mixed solvent thereof and the solvent in which the compound (V) is dissolved is 1: 0.01.
-10, preferably 1: 0.1-1. Specifically, for example, in a four-component system of methylene chloride-methanol-water-hydrochloric acid, the mixing ratio (volume ratio) in which the compound (V) is dissolved and the liquid is not separated into two layers is 1: 0.01 to 0. 0.8 is preferable, and more preferably 1: 0.05 to 0.5. Usually, in this reaction, since the compound (V) is difficult to dissolve in an acid or a solvent, the reaction requires a long time, and a decomposition product that inhibits the reaction is produced in a subsequent step. These decomposition products increase the amount of expensive noble metal catalyst used especially in the ring closure reaction step. Therefore, the present inventors have conducted various studies on the production method of the compound (VI) which suppresses the generation of unnecessary decomposition products, and as a result, if a solvent dissolving the compound (VI) is added to the reaction system, a homogeneous system under mild conditions is obtained. I found that the reaction proceeded in.

【0027】得られる(VI)は、常法に従って単離する
こともできるが、反応混合物のまま次の工程の原料とし
て用いるのが有利である。特に、塩化メチレンを使用す
る反応の場合、反応終了液に水を添加すれば2層に分液
し、塩化メチレン層に化合物(VI)が選択的に抽出され
る利点がある。この方法によれば、濃縮乾固、シリカゲ
ルクロマトグラフィーのような複雑な操作を経ることな
く、塩化メチレン溶液のままで次の閉環反応に付すこと
が出来る。また、必要により、本反応後に塩化メチレン
を適度に濃縮留去後、n−ヘキサン、イソプロピルエー
テル等の溶媒を加えることにより、高純度の(VI)結晶
を得ることもできる。また、化合物(IV)と酸とを反応
させ、化合物(IV′)を得る工程も前記化合物(V)と
酸との反応と同様にして実施できる。
The obtained (VI) can be isolated according to a conventional method, but it is advantageous to use it as a reaction mixture as a raw material in the next step. In particular, in the case of a reaction using methylene chloride, there is an advantage that if water is added to the reaction completed liquid, the liquid is separated into two layers, and the compound (VI) is selectively extracted into the methylene chloride layer. According to this method, the methylene chloride solution as it is can be subjected to the next ring-closing reaction without undergoing complicated operations such as concentration to dryness and silica gel chromatography. Further, if necessary, after the reaction, methylene chloride is appropriately concentrated and distilled off, and then a solvent such as n-hexane or isopropyl ether is added to obtain a highly pure (VI) crystal. Further, the step of reacting the compound (IV) with an acid to obtain the compound (IV ′) can also be carried out in the same manner as the reaction between the compound (V) and the acid.

【0028】つぎに、前記の反応によって得られる化合
物(VI)を閉環反応に付すことにより化合物(VII)を
得ることができる。この反応は、例えばベンゼン、トル
エン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル
等のエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、
1,2−ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水素系溶
媒、 テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系
溶媒等、好ましくはトルエン等の炭化水素系溶媒、塩化
メチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒中で放置してお
くだけでも進行するが、反応を促進させるために通常
は、酢酸ロジウム、ロジウムオクタノエート、酢酸パラ
ジウム、ビス(アセチルアセトナート)Cu(II),Cu
SO4 ,Cu等、好ましくは酢酸ロジウム、ロジウムオ
クタノエート、酢酸パラジウム等の金属触媒の存在下に
実施される。化合物(VI)と触媒との使用割合(モル
比)は0.05〜5モル%、好ましくは0.1〜3モル%
である。反応時間は、通常、0.5〜20時間、好まし
くは1〜5時間である。反応温度は、通常、20〜10
0℃、好ましくは30〜80℃である。本反応は、水分
により悪影響を受けるため、空気中の水分を吸湿しない
ように、例えば窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス
雰囲気下で行うのが好ましい。この反応により得られる
(VII)は、反応混合物のままで次のアシル化反応に付
すことが出来るが、必要により反応溶媒を適度に濃縮留
去し固体として得ることもできる。
Next, the compound (VI) obtained by the above reaction is subjected to a ring closure reaction to obtain the compound (VII). This reaction is carried out by using, for example, a hydrocarbon solvent such as benzene, toluene, cyclohexane, an ester solvent such as ethyl acetate, methylene chloride, chloroform,
Leave it in a halogenated hydrocarbon solvent such as 1,2-dichloroethane, an ether solvent such as tetrahydrofuran or dioxane, preferably a hydrocarbon solvent such as toluene, a halogenated hydrocarbon solvent such as methylene chloride. However, in order to accelerate the reaction, rhodium acetate, rhodium octanoate, palladium acetate, bis (acetylacetonato) Cu (II), Cu are usually used to accelerate the reaction.
It is carried out in the presence of a metal catalyst such as SO 4 or Cu, preferably rhodium acetate, rhodium octanoate or palladium acetate. The use ratio (molar ratio) of the compound (VI) and the catalyst is 0.05 to 5 mol%, preferably 0.1 to 3 mol%
Is. The reaction time is usually 0.5 to 20 hours, preferably 1 to 5 hours. The reaction temperature is usually 20 to 10
The temperature is 0 ° C, preferably 30 to 80 ° C. Since this reaction is adversely affected by moisture, it is preferable to carry out this reaction in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas or argon gas so as not to absorb moisture in the air. The (VII) obtained by this reaction can be subjected to the next acylation reaction as it is as the reaction mixture, but if necessary, the reaction solvent can be appropriately concentrated and distilled off to obtain a solid.

【0029】そして、前記反応で得られる化合物(VI
I)と式R3OH[式中の記号は前記と同意義を示す]で
表わされる酸またはその反応性誘導体とを反応させ、目
的化合物(VIII)を得る。この工程において、式R3
Hで示される酸またはその反応性誘導体としては、アセ
チルクロリド、プロピオニルクロリド、トルエンスルホ
ニルクロリド、p−ブロモベンゼンスルホニルクロリ
ド、ジフェニルクロロホスフェート、無水酢酸、メタン
スルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水
物、p−トルエンスルホン酸無水物、p−ニトロベンゼ
ンスルホン酸無水物、2,4,6−トリイソプロピルベン
ゼンスルホン酸無水物等が用いられ、特にジフェニルリ
ン酸クロリドが好適である。
Then, the compound (VI
I) is reacted with an acid represented by the formula R 3 OH [where the symbols have the same meanings as defined above] or a reactive derivative thereof to obtain the target compound (VIII). In this step, the formula R 3 O
Examples of the acid represented by H or a reactive derivative thereof include acetyl chloride, propionyl chloride, toluenesulfonyl chloride, p-bromobenzenesulfonyl chloride, diphenylchlorophosphate, acetic anhydride, methanesulfonic anhydride, trifluoromethanesulfonic anhydride, p-Toluenesulfonic anhydride, p-nitrobenzenesulfonic anhydride, 2,4,6-triisopropylbenzenesulfonic anhydride and the like are used, and diphenylphosphoric chloride is particularly preferable.

【0030】反応溶媒としては、例えばベンゼン、トル
エン、キシレン、クロルベンゼン、シクロヘキサン等の
炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
1,2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、塩化メ
チレン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレ
ン、1,2−ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水素溶
媒、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル等の高非極
プロトン性溶媒が使用され、好ましくは、例えばテトラ
ヒドロフラン、塩化メチレン、アセトニトリル等が用い
られる。本反応は塩基の存在下に行うのが好ましく、そ
のような塩基としては例えば、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、
トリブチルアミン、トリオクチルアミン、トリアリルア
ミン、ジメチルベンジルアミン、テトラメチル−1,3
−ジアミノプロパン、N−メチルモルホリン、N−メチ
ルピロリジン、N−メチルピペリジン、N,N−ジメチ
ルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウン
デカ−7−エン(DBU),1,5−ジアザビシクロ
[4,3,0]ノナ−5−エン(DBN)等の第3級脂肪
族アミン、ピリジン、4−ジメチル−アミノピリジン、
ピコリン、ルチジン、キノリン、イソキノリン等の芳香
族アミン等が用いられ、好ましくは、例えば、N,N−
ジイソプロピルエチルアミン等のC1-4アルキル基で1
ないし3置換された第3級脂肪族アミン、4−ジメチル
アミノピリジン等のジC1-4アルキルアミノ基で置換さ
れたピリジン等が用いられる。化合物(VII)と酸また
はその反応性誘導体との使用割合(モル比)は1:1〜
5、好ましくは1:1〜3である。化合物(VII)と溶
媒との使用割合(重量比)は1:5〜300、好ましく
は1:10〜100である。化合物(VII)と塩基との
使用割合(モル比)は1:0.5〜5、好ましくは1:
1〜3である。反応時間は10分〜10時間、好ましく
は0.5〜3時間である。反応温度は、−70〜40
℃、好ましくは−40〜10℃である。本反応は、水分
により悪影響を受けるため、空気中の水分を吸湿しない
ように、例えば窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス
雰囲気下で行うのが好ましい。この様にして得られる化
合物(VII)は、常法に従って、例えば濃縮、クロマト
グラフィー等によって単離することができる。特に、ジ
クロルメタンを反応溶媒として使用した場合、反応終了
後水を添加し分液を行えば、ジクロルメタン層に生成物
(VIII)が抽出され、この有機層を適度に濃縮し、n−
ヘキサン等の溶媒を添加すれば、目的物(VIII)の結晶
が得られる。この方法によれば、濃縮乾固、シリカゲル
クロマトグラフィー等の複雑な操作を経ずして、良好な
純度の化合物(VIII)の結晶が得られる。
Examples of the reaction solvent include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, chlorobenzene and cyclohexane, tetrahydrofuran, dioxane,
Uses ether solvents such as 1,2-dimethoxyethane, halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, trichloroethylene, and 1,2-dichloroethane, and highly non-polar protic solvents such as dimethylformamide and acetonitrile. Preferably, for example, tetrahydrofuran, methylene chloride, acetonitrile, etc. are used. This reaction is preferably carried out in the presence of a base, and examples of such a base include trimethylamine, triethylamine, N, N-diisopropylethylamine,
Tributylamine, trioctylamine, triallylamine, dimethylbenzylamine, tetramethyl-1,3
-Diaminopropane, N-methylmorpholine, N-methylpyrrolidine, N-methylpiperidine, N, N-dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7-ene (DBU), 1,5 -Tertiary aliphatic amines such as diazabicyclo [4,3,0] non-5-ene (DBN), pyridine, 4-dimethyl-aminopyridine,
Aromatic amines such as picoline, lutidine, quinoline, and isoquinoline are used, and preferably, for example, N, N-
1 with a C 1-4 alkyl group such as diisopropylethylamine
To tri-substituted tertiary aliphatic amine, pyridine substituted with a di-C 1-4 alkylamino group such as 4-dimethylaminopyridine, and the like are used. The ratio (molar ratio) of the compound (VII) to the acid or its reactive derivative is 1: 1 to
5, preferably 1: 1-3. The use ratio (weight ratio) of the compound (VII) and the solvent is 1: 5 to 300, preferably 1:10 to 100. The ratio (molar ratio) of the compound (VII) and the base used is 1: 0.5 to 5, preferably 1 :.
1-3. The reaction time is 10 minutes to 10 hours, preferably 0.5 to 3 hours. The reaction temperature is -70 to 40
C, preferably -40 to 10 ° C. Since this reaction is adversely affected by moisture, it is preferable to carry out this reaction in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas or argon gas so as not to absorb moisture in the air. The compound (VII) thus obtained can be isolated according to a conventional method, for example, by concentration, chromatography and the like. In particular, when dichloromethane is used as a reaction solvent, after the reaction is completed, water is added to carry out liquid separation to extract the product (VIII) in the dichloromethane layer, and the organic layer is appropriately concentrated and n-
Crystals of the desired product (VIII) can be obtained by adding a solvent such as hexane. According to this method, crystals of compound (VIII) with good purity can be obtained without complicated operations such as concentration to dryness and silica gel chromatography.

【0031】かくして、本発明製造法の目的化合物(VI
II)が得られる。該化合物(VIII)は例えば1−メチル
カルバペネム抗生物質の製造の合成中間体として好適に
使用される。例えば、特開昭64−25779には、化
合物(VIII)を用いて、有用な抗菌剤である式
Thus, the target compound (VI
II) is obtained. The compound (VIII) is suitably used, for example, as a synthetic intermediate in the production of 1-methylcarbapenem antibiotics. For example, in JP-A-64-25779, a compound (VIII) is used to formulate a useful antibacterial agent.

【化31】 または陰イオン電荷を示す]で表される(1R,5S,
6S)−2−置換チオ−6−[(1R)−1−ヒドロキ
シエチル]−1−メチル−カルバペネム−3−カルボン
酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩を得る方法
が記載されている。得られたカルバペネム化合物および
その薬理学的に許容される塩は、種々の病原菌による細
菌感染症の治療、予防等のための抗菌剤として極めて有
用であり、それを抗菌剤として使用するに際して、その
抗菌的有効量を含有する薬剤学的組成物の形で人間をは
じめとする哺乳動物に安全に投与することができる。そ
の投与量は処置すべき患者の年令、体重、症状、薬剤の
投与形態、医師の診断等に応じて広い範囲にわたり変え
ることができるが、一般に、成人に対しては一日当り約
200〜約3,000mgの範囲内の用量が標準的であ
り、通常これを1日1回または数回に分けて経口的、非
経口的または局所的に投与することができる。また、例
えば、特開昭60−104088または特開昭60−2
33076等に記載の有用な抗菌剤であるカルバペネム
化合物も本発明の製造法により得られる化合物(VIII)
を合成中間体として用いて好適に製造できる。以下具体
例を上げて本発明をさらに詳細に説明するが、これらの
具体例によって本発明が限定されるものではない。
[Chemical 31] Or represents an anionic charge] (1R, 5S,
A method for obtaining a 6S) -2-substituted thio-6-[(1R) -1-hydroxyethyl] -1-methyl-carbapenem-3-carboxylic acid derivative or a pharmaceutically acceptable salt thereof is described. . The obtained carbapenem compound and a pharmacologically acceptable salt thereof are extremely useful as an antibacterial agent for the treatment, prevention, etc. of bacterial infections caused by various pathogenic bacteria, and when using it as an antibacterial agent, It can be safely administered to mammals including humans in the form of a pharmaceutical composition containing an antibacterial effective amount. The dose can be varied over a wide range depending on the age, weight, symptoms of the patient to be treated, dosage form of the drug, diagnosis by a doctor, etc. A dose in the range of 3,000 mg is standard, and usually it can be administered orally, parenterally or topically in one or several divided doses per day. Further, for example, JP-A-60-104088 or JP-A-60-2
The carbapenem compound, which is a useful antibacterial agent described in 33076, is also the compound (VIII) obtained by the production method of the present invention.
Can be suitably produced by using as a synthetic intermediate. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples, but the present invention is not limited to these specific examples.

【0032】[0032]

【実施例】以下の実施例のNMRスペクトルは内部基準
としてテトラメチルシランを用いてジェミニ(Gemini)
200(200MHz)型スペクトロメーターで測定し、
全δ値を ppm で示した。実施例中の記号は次のような
意味を有する。 s : シングレット d : ダブレット t : トリプレット ABq : AB型クワルテット dd : ダブル ダフレット m : マルチプレット br. : 幅広い J : カップリング定数 sh : ショルダー +>si : t−ブチルジメチルシリル基 PNB : p−ニトロベンジル基 % : 特にことわらない限り重量%を示す
EXAMPLES The NMR spectra of the following examples are Gemini using tetramethylsilane as an internal standard.
Measured with a 200 (200MHz) type spectrometer,
All δ values are given in ppm. The symbols in the examples have the following meanings. s: singlet d: doublet t: triplet ABq: AB type quartet dd: double doublet m: multiplet br .: wide J: coupling constant sh: shoulder +> si: t-butyldimethylsilyl group PNB: p-nitrobenzyl Base%: Indicates weight% unless otherwise specified

【0033】実施例1 (1) (3S,4S)−3−[(R)−1−(t−ブ
チルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−[(R)−
1−イミダゾリル−エチル]−アゼチジン−2−オンの
製造
Example 1 (1) (3S, 4S) -3-[(R) -1- (t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(R)-
Preparation of 1-imidazolyl-ethyl] -azetidin-2-one

【化32】 2雰囲気下、無水塩化メチレン1182mlにクロロ炭
酸エチル28.65g(0.264モル)を加え−20℃
に冷却した。−20℃でトリエチルアミン26.71g
(0.264モル)を10分間かけて滴下し、その後1
0分間撹拌した。(3S,4S)−3−[(R)−1−
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−
[(R)−1−カルボキシエチル]−アゼチジン−2−
オン72.35g(0.240モル)を加え、−20℃で
30分間反応させた後、イミダゾール22.87g(0.
336モル)を加え、−20℃で30分間反応させ、標
記化合物を含む反応溶液を得た。
[Chemical 32] Under N 2 atmosphere, 28.65 g (0.264 mol) of ethyl chlorocarbonate was added to 1182 ml of anhydrous methylene chloride at -20 ° C.
Cooled to. 26.71 g of triethylamine at -20 ° C
(0.264 mol) was added dropwise over 10 minutes, and then 1
Stir for 0 minutes. (3S, 4S) -3-[(R) -1-
(T-Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-
[(R) -1-Carboxyethyl] -azetidine-2-
After 72.35 g (0.240 mol) of ON was added and reacted at -20 ° C for 30 minutes, 22.87 g of imidazole (0.20 mol) was added.
(336 mol) was added, and the mixture was reacted at −20 ° C. for 30 minutes to obtain a reaction solution containing the title compound.

【0034】(2) (3S,4R)−3−[(R)−
1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4
−[(R)−1−メチル−3−p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル−2−オキソ−プロピル]−アゼチジン−
2−オンの製造
(2) (3S, 4R) -3-[(R)-
1- (t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4
-[(R) -1-Methyl-3-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-oxo-propyl] -azetidine-
2-on manufacturing

【化33】 前記(1)で得られた反応溶液に無水塩化マグネシウム
22.85g(0.240モル)を加え、−20℃で10
分間撹拌した後、トリエチルアミン48.57g(0.4
80モル)を10分間で滴下し、−20℃で10分間撹
拌した。モノ−p−ニトロベンジルマロネート97.5
9g(0.408モル)を加え、加熱還流しN2 を0.6
l/分で通気しながら2時間反応させた。塩化メチレン
を減圧下で濃縮留去し、1N HCl 762mlを加え
洗浄・分液した。有機層を水318ml,3% NaHC
3 水720ml、5% NaCl 水300mlで順次洗浄
・分液した。塩化メチレンを減圧下で濃縮留去し、標記
化合物110.31gを含む塩化メチレン溶液を得た。
(収率96.0%) 尚、標記化合物は、上記溶液を濃縮乾固後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー(CHCl3:アセトン=7:
1)により分離・精製され、白色結晶として得た。 NMR(δ,CDCl3):0.06(6H,s), 0.87(9H,s), 1.
16(3H,d), 1.20(3H,d),3.63(2H,s), 5.27(2H,s), 5.92
(1H,bs), 7.56,8.24(4H,aromatic protons)
[Chemical 33] 22.85 g (0.240 mol) of anhydrous magnesium chloride was added to the reaction solution obtained in (1) above, and the mixture was stirred at -20 ° C for 10 minutes.
After stirring for a minute, 48.57 g of triethylamine (0.4
(80 mol) was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred at -20 ° C for 10 minutes. Mono-p-nitrobenzyl malonate 97.5
9 g (0.408 mol) was added, the mixture was heated to reflux and N 2 was added to 0.6
The reaction was carried out for 2 hours while aerating at 1 / min. Methylene chloride was concentrated and distilled off under reduced pressure, and 762 ml of 1N HCl was added for washing and liquid separation. The organic layer is 318 ml of water, 3% NaHC
The mixture was washed successively with 720 ml of O 3 water and 300 ml of 5% NaCl water and separated. Methylene chloride was concentrated and distilled off under reduced pressure to obtain a methylene chloride solution containing 110.31 g of the title compound.
(Yield 96.0%) The title compound was obtained by concentrating and drying the above solution, followed by silica gel column chromatography (CHCl 3 : acetone = 7:
It was separated and purified by 1) to obtain white crystals. NMR (δ, CDCl 3 ): 0.06 (6H, s), 0.87 (9H, s), 1.
16 (3H, d), 1.20 (3H, d), 3.63 (2H, s), 5.27 (2H, s), 5.92
(1H, bs), 7.56,8.24 (4H, aromatic protons)

【0035】(3) (3S,4R)−3−[(R)−
1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4
−[(R)−1−メチル−3−ジアゾ−3−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−2−オキソ−プロピル]−
アゼチジン−2−オンの製造
(3) (3S, 4R) -3-[(R)-
1- (t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4
-[(R) -1-Methyl-3-diazo-3-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-oxo-propyl]-
Production of azetidin-2-one

【化34】 ドデシルベンゼンスルホニルアジド105.33g(0.
300モル)を無水塩化メチレン200mlに溶解し、N
2雰囲気下、前記(2)で得た(3S,4R)−3−
[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エ
チル]−4−[(R)−1−メチル−3−p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル−2−オキソ−プロピル]−ア
ゼチジン−2−オン(0.231モル)の塩化メチレン
溶液620mlに添加した。25℃でトリエチルアミン
6.97g(0.069モル)を10分間で滴下し、2時
間反応させた。塩化メチレンを減圧下で濃縮留去し、n
−ヘキサン1740mlを滴下し晶出させた。晶出液を減
圧下で濃縮した後、濾取・乾燥して標記化合物101.
68gを含む純度99.2%の白色結晶102.50gを
得た。(収率87.4)
[Chemical 34] Dodecylbenzenesulfonyl azide 105.33 g (0.3
300 mol) was dissolved in 200 ml of anhydrous methylene chloride, and N was added.
(3S, 4R) -3-obtained in (2) above under 2 atmospheres
[(R) -1- (t-Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(R) -1-methyl-3-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-oxo-propyl] -azetidin-2-one (0.231 mol) was added to 620 ml of methylene chloride solution. At 25 ° C., 6.97 g (0.069 mol) of triethylamine was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was reacted for 2 hours. The methylene chloride was concentrated and distilled off under reduced pressure.
-1740 ml of hexane was added dropwise to crystallize. The crystallized solution was concentrated under reduced pressure, filtered and dried to give the title compound 101.
102.50 g of 99.2% pure white crystals containing 68 g was obtained. (Yield 87.4)

【0036】(4) (3S,4R)−3−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−[(R)−1−メチル−
3−ジアゾ−3−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−2−オキソ−プロピル]−アゼチジン−2−オンの製
(4) (3S, 4R) -3-[(R)-
1-hydroxyethyl] -4-[(R) -1-methyl-
Preparation of 3-diazo-3-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-oxo-propyl] -azetidin-2-one

【化35】 前記(3)で得た(3S,4R)−3−[(R)−1−
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−
[(R)−1−メチル−3−ジアゾ−3−p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル−2−オキソ−プロピル]−ア
ゼチジン−2−オン75.69g(0.150モル)を塩
化メチレン227mlに溶解し、メタノール454ml、水
76mlを添加した。25℃で濃塩酸45.57gを10
分間で滴下し、3時間反応させた。6.5% NaHC
3 水溶液757mlを10分間で滴下し、塩化メチレン
530mlを加え、抽出・分液した。有機層を15% N
aCl水溶液530ml、水265mlで順次、洗浄・分液し
た。塩化メチレンを減圧下で濃縮留去し、標記化合物5
7.38gを含む塩化メチレン溶液を得た。(収率98.
0%) IR(cm-1,CHCl3):2150, 1750, 1720, 1650 NMR(δ,CDCl3):1.23(3H,d), 1.30(3H,d), 2.
92(1H,m), 3.50~4.30(3H,m), 5.38(2H,s), 6.40(1H,b
s), 7.57 及び 8.30(4H,aromatic protons)
[Chemical 35] (3S, 4R) -3-[(R) -1- obtained in (3) above.
(T-Butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-
75.69 g (0.150 mol) of [(R) -1-methyl-3-diazo-3-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-oxo-propyl] -azetidin-2-one was dissolved in 227 ml of methylene chloride. , 454 ml of methanol and 76 ml of water were added. Concentrated hydrochloric acid 45.57g 10 at 25 ℃
The mixture was added dropwise for 1 minute and reacted for 3 hours. 6.5% NaHC
757 ml of an O 3 aqueous solution was added dropwise over 10 minutes, 530 ml of methylene chloride was added, and the mixture was extracted and separated. 15% N organic layer
The mixture was washed and separated with 530 ml of aCl aqueous solution and 265 ml of water successively. Methylene chloride was distilled off under reduced pressure to give the title compound 5
A methylene chloride solution containing 7.38 g was obtained. (Yield 98.
0%) IR (cm -1 , CHCl 3 ): 2150, 1750, 1720, 1650 NMR (δ, CDCl 3 ): 1.23 (3H, d), 1.30 (3H, d), 2.
92 (1H, m), 3.50 ~ 4.30 (3H, m), 5.38 (2H, s), 6.40 (1H, b
s), 7.57 and 8.30 (4H, aromatic protons)

【0037】(5) (1R,3R,5R,6S)−6
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−2−オキソ−1
−メチル−3−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−
カルバペネムの製造
(5) (1R, 3R, 5R, 6S) -6
-[(R) -1-hydroxyethyl] -2-oxo-1
-Methyl-3-p-nitrobenzyloxycarbonyl-
Carbapenem manufacturing

【化36】 2雰囲気下、前記(4)で得た(3S,4R)−3−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−[(R)−1
−メチル−3−ジアゾ−3−p−ニトロベンジルオキシ
カルボニル−2−オキソ−プロピル]−アゼチジン−2
−オン(0.147モル)の塩化メチレン溶液610ml
に、無水塩化メチレン757mlを加え、40℃に加熱・
還流した。ロジウムオクタノエート340mg(0.00
3モル)を無水塩化メチレン57mlに懸濁し、40℃で
還流下滴下した後、4時間反応させた。反応液を−15
℃に冷却し、標記化合物の塩化メチレン溶液1430ml
を得た。 IR(cm-1,CHCl3):2950, 2925, 1760, 1730 NMR(δ,CDCl3):1.22(3H,d,J=8.0Hz), 1.37(3
H,d,J=6.0Hz), 2.40(1H,bs), 2.83(1H,q,J=8.0Hz), 3.2
8(1H,dd), 4.00~4.50(2H,m), 4.75(1H,s), 5.28及び 5.
39(2H,ABq,J=12Hz), 7.58 及び 8.24(4H,ar
omatic protons)
[Chemical 36] (3S, 4R) -3-obtained in (4) above under N 2 atmosphere.
[(R) -1-Hydroxyethyl] -4-[(R) -1
-Methyl-3-diazo-3-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-oxo-propyl] -azetidine-2
610 ml of methylene chloride solution of -one (0.147 mol)
To this, add 757 ml of anhydrous methylene chloride and heat to 40 ° C.
Refluxed. Rhodium octanoate 340 mg (0.00
(3 mol) was suspended in 57 ml of anhydrous methylene chloride, added dropwise under reflux at 40 ° C., and then reacted for 4 hours. The reaction solution is -15
Cool to ℃, 1430 ml of methylene chloride solution of the title compound
Got IR (cm -1 , CHCl 3 ): 2950, 2925, 1760, 1730 NMR (δ, CDCl 3 ): 1.22 (3H, d, J = 8.0Hz), 1.37 (3
H, d, J = 6.0Hz), 2.40 (1H, bs), 2.83 (1H, q, J = 8.0Hz), 3.2
8 (1H, dd), 4.00 ~ 4.50 (2H, m), 4.75 (1H, s), 5.28 and 5.
39 (2H, ABq, J = 12Hz), 7.58 and 8.24 (4H, ar
(omatic protons)

【0038】(6) (1R,5R,6S)−p−ニト
ロベンジル−2−ジフェニルホスホリルオキシ−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カル
バペネム−3−カルボキシレートの製造
(6) (1R, 5R, 6S) -p-nitrobenzyl-2-diphenylphosphoryloxy-6-
Preparation of [(R) -1-hydroxyethyl] -1-methyl-carbapenem-3-carboxylate

【化37】 前記(5)で得られた溶液1430mlに、N2 雰囲気
下−15℃でジフェニルクロロホスフェート43.44
g(0.162モル)を加えた。ジイソプロピルエチル
アミン25.08g(0.194モル),4−ジメチルア
ミノピリジン360mg(0.003モル)を無水塩化メ
チレン287mlに溶解し、−15℃,30分間で滴下し
30分間反応した。10℃以下に保ちながら0.3N
HCl 574ml,5% NaHCO3 水溶液574mlで
順次、洗浄・分液した。塩化メチレンを減圧下で濃縮留
去し、n−ヘキサン402mlを滴下し晶出させた。結晶
を濾取・乾燥し、標記化合物75.16gを得た。(収
率86.0%) NMR(δ,CDCl3):1.24(3H,d), 1.34(3H,d), 3.
30(1H,q), 3.52(1H,m),4.10~4.40(2H,m), 5.20 及び 5.
35(2H,q), 7.29(10H,m), 7.58 及び 8.18(4H,d)
[Chemical 37] To 1430 ml of the solution obtained in (5) above was added diphenylchlorophosphate 43.44 at -15 ° C under N 2 atmosphere.
g (0.162 mol) was added. 25.08 g (0.194 mol) of diisopropylethylamine and 360 mg (0.003 mol) of 4-dimethylaminopyridine were dissolved in 287 ml of anhydrous methylene chloride, and the mixture was added dropwise at -15 ° C for 30 minutes and reacted for 30 minutes. 0.3N while keeping below 10 ℃
The mixture was washed and separated with 574 ml of HCl and 574 ml of 5% NaHCO 3 aqueous solution. Methylene chloride was concentrated and distilled off under reduced pressure, and 402 ml of n-hexane was added dropwise for crystallization. The crystals were collected by filtration and dried to obtain 75.16 g of the title compound. (Yield 86.0%) NMR (δ, CDCl 3 ): 1.24 (3H, d), 1.34 (3H, d), 3.
30 (1H, q), 3.52 (1H, m), 4.10 ~ 4.40 (2H, m), 5.20 and 5.
35 (2H, q), 7.29 (10H, m), 7.58 and 8.18 (4H, d)

【0039】実施例2 (3S,4R)−3−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−4−[(R)−1−メチル−3−ジアゾ−3−p
−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−オキソ−プロ
ピル]−アゼチジン−2−オンの製造 実施例1の(4)と同様にして得られた溶液600mlを、
減圧下で濃縮した後、n−ヘキサン1135mlを滴下し
晶出させた。晶出液を減圧下で濃縮した後、濾取・乾燥
して、標記化合物51.53gを含む純度96.0%の白
色結晶53.68gを得た。(収率88.0%)
Example 2 (3S, 4R) -3-[(R) -1-hydroxyethyl] -4-[(R) -1-methyl-3-diazo-3-p
Preparation of -nitrobenzyloxycarbonyl-2-oxo-propyl] -azetidin-2-one 600 ml of a solution obtained in the same manner as in Example 1 (4)
After concentrating under reduced pressure, 1135 ml of n-hexane was added dropwise to crystallize. The crystallized solution was concentrated under reduced pressure, collected by filtration and dried to give 53.68 g of white crystals with a purity of 96.0% containing 51.53 g of the title compound. (Yield 88.0%)

【0040】実施例3 (1R,3R,5R,6S)−6−[(R)−1−ヒド
ロキシエチル]−2−オキソ−1−メチル−3−p−ニ
トロベンジルカルボニル−カルバペネムの製造実施例1
の(5)と同様にして得られた標記化合物の塩化メチレン
溶液1450mlを減圧下で濃縮し純度93.0%の標記
化合物80.34gを得た。(収率85.5%)
Example 3 Preparation Example of (1R, 3R, 5R, 6S) -6-[(R) -1-hydroxyethyl] -2-oxo-1-methyl-3-p-nitrobenzylcarbonyl-carbapenem 1
1450 ml of a methylene chloride solution of the title compound obtained in the same manner as in (5) above was concentrated under reduced pressure to obtain 80.34 g of the title compound having a purity of 93.0%. (Yield 85.5%)

【0041】参考例1 (3S,4R)−3−[(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル]−4−[(R)−1−メチ
ル−3−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−オ
キソ−プロピル]−アゼチジン−2−オンの製造 無水塩化マグネシウム、トリエチルアミンおよびモノ−
p−ニトロベンジルマロネートを加える代りにマグネシ
ウム[モノ−p−ニトロベンジルマロネート](0.4
08モル)を用いる以外は実施例1の(2)と同様にし
て、合成し80%の収率で標記化合物を得た。
Reference Example 1 (3S, 4R) -3-[(R) -1- (t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(R) -1-methyl-3-p-nitrobenzyloxy Preparation of carbonyl-2-oxo-propyl] -azetidin-2-one anhydrous magnesium chloride, triethylamine and mono-
Instead of adding p-nitrobenzyl malonate, magnesium [mono-p-nitrobenzyl malonate] (0.4
(8 mol) was used and the synthesis was conducted in the same manner as in (2) of Example 1 to obtain the title compound in a yield of 80%.

【0042】参考例2 (3S,4R)−3−[(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル]−4−[(R)−1−メチ
ル−3−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−オ
キソ−プロピル]−アゼチジン−2−オンの製造 N2ガスを通気しない以外は、実施例1の(2)と同様に
して、N2雰囲気下で反応し、83%の収率で標記化合
物を得た。
Reference Example 2 (3S, 4R) -3-[(R) -1- (t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(R) -1-methyl-3-p-nitrobenzyloxy Production of carbonyl-2-oxo-propyl] -azetidin-2-one The reaction was conducted under N 2 atmosphere in the same manner as in (2) of Example 1 except that N 2 gas was not bubbled through, and the yield was 83%. To give the title compound.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明の製造法は、細菌感染症治療剤と
して有用なカルバペネム化合物の製造に好適に用いるこ
とのできる中間体を工業的に有用に製造する方法を提供
する。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The production method of the present invention provides a method for industrially producing an intermediate which can be suitably used for producing a carbapenem compound useful as a therapeutic agent for bacterial infections.

フロントページの続き (72)発明者 秋山 智弘 山口県光市光井4丁目5番1号 武田薬 品青雲寮内 (72)発明者 西村 修一 山口県光市光井4丁目5番1号 武田薬 品青雲寮内 (72)発明者 畑野 俊光 埼玉県志木市 柏町1丁目6番6号 (72)発明者 熊谷 年夫 埼玉県川越市小仙波町3丁目15番37号 (72)発明者 清水 壽 埼玉県新座市新座1丁目17番33号 コー ポ桐202号 (56)参考文献 特開 平1−203367(JP,A) 特開 平1−25779(JP,A) J. Am. Chem. So c., 1980, 102, p.6161− 6163 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 477/00 - 477/26 (72) Inventor Tomohiro Akiyama 4-5-1 Mitsui, Hikari-shi, Yamaguchi Takeda Yakuhin Seiun Dormitory (72) Inventor Shuichi Nishimura 4-5-1, Mitsui Hikari-shi, Yamaguchi Takeda Yakuhin Seiun Dormitory (72) Inventor Toshimitsu Hatano 1-6-6 Kashiwa-cho, Shiki City, Saitama Prefecture (72) Inventor Toshio Kumagai 3-153-37, Kosenba Town, Kawagoe City, Saitama Prefecture (72) Inventor, Toshi Shimizu Niiza, Saitama Prefecture 1-33-33, Niiza, Ichigo Co., Ltd. 202, Kopo-Kiri (56) References JP-A 1-203367 (JP, A) JP-A 1-25779 (JP, A) J. Am. Chem. So c. , 1980, 102, p. 6161-6163 (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C07D 477/00-477/26

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】式 【化1】 [式中、R1は水酸基の保護基を示す]で表される化合
物またはその塩と、塩基の存在下にハロゲン化炭酸エス
テルとイミダゾールとを反応させ、得られる式 【化2】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
アルカリ土類金属ハロゲン化物と式 R2OOCCH2COOH (III) [式中、R2はカルボキシル基の保護基を示す]で表さ
れる化合物とを反応させ、得られる式 【化3】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
とアジド化合物とを反応させ、得られる式 【化4】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と酸とを反応させ、得られる式 【化5】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
を閉環反応に付し、得られる式 【化6】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と式 R3OH [式中、R3はアシル基を示す]で表される酸またはそ
の反応性誘導体とを反応させることを特徴とする、式 【化7】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
の製造法。
1. The formula: [Wherein R 1 represents a hydroxyl-protecting group] or a salt thereof and a halogenated carbonic acid ester and imidazole are reacted in the presence of a base to obtain a compound of the formula: [Wherein the symbols have the same meanings as defined above], an alkaline earth metal halide, and the formula R 2 OOCCH 2 COOH (III) [wherein R 2 represents a protective group for a carboxyl group] A compound represented by the following formula: A compound represented by the formula [wherein the symbols have the same meanings as defined above] is reacted with an azide compound to give a compound of the formula: [Wherein the symbols in the formula have the same meanings as defined above] The compound represented by the formula: A compound represented by the formula [wherein the symbols have the same meanings as defined above] is subjected to a ring closure reaction to obtain a compound of the formula: Reacting a compound represented by the formula [wherein the symbols have the same meanings as defined above] with an acid represented by the formula R 3 OH [wherein R 3 represents an acyl group] or a reactive derivative thereof. Which is characterized by the formula: The manufacturing method of the compound represented by [the symbol in a formula shows the same meaning as the above].
【請求項2】式 【化8】 [式中、R1は水酸基の保護基を示す]で表される化合
物またはその塩と、塩基の存在下にハロゲン化炭酸エス
テルとイミダゾールとを反応させ、得られる式 【化9】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
アルカリ土類金属ハロゲン化物と式 R2OOCCH2COOH (III) [式中、R2はカルボキシル基の保護基を示す]で表さ
れる化合物とを反応させ、得られる式 【化10】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と酸とを反応させ、得られる式 【化11】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
とアジド化合物とを反応させ、得られる式 【化12】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
を閉環反応に付し、得られる式 【化13】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と式 R3OH [式中、R3はアシル基を示す]で表される酸またはそ
の反応性誘導体とを反応させることを特徴とする、式 【化14】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
の製造法。
2. The formula: [Wherein R 1 represents a hydroxyl-protecting group] or a salt thereof is reacted with a halogenated carbonic acid ester and imidazole in the presence of a base to obtain a compound of the formula: [Wherein the symbols have the same meanings as defined above], an alkaline earth metal halide, and the formula R 2 OOCCH 2 COOH (III) [wherein R 2 represents a protective group for a carboxyl group] A compound represented by the following formula: [Wherein the symbols in the formula have the same meanings as defined above] The compound represented by the formula: A compound represented by the formula [wherein the symbols have the same meanings as defined above] is reacted with an azide compound to obtain a compound represented by the formula: A compound represented by the formula [wherein the symbols have the same meanings as defined above] is subjected to a ring closure reaction to obtain a compound of the formula: Reacting a compound represented by the formula [wherein the symbols have the same meanings as defined above] with an acid represented by the formula R 3 OH [wherein R 3 represents an acyl group] or a reactive derivative thereof. Characterized by the formula: The manufacturing method of the compound represented by [the symbol in a formula shows the same meaning as the above].
【請求項3】各反応における溶媒としてハロゲン化炭化
水素を用いることを特徴とする請求項1または2記載の
製造法。
3. The method according to claim 1, wherein a halogenated hydrocarbon is used as a solvent in each reaction.
【請求項4】化合物(I)より化合物(IV)を得る各反
応を炭酸ガスを除去しながら行うことを特徴とする請求
項1または2記載の製造法。
4. The method according to claim 1 or 2, wherein each reaction for obtaining compound (IV) from compound (I) is carried out while removing carbon dioxide gas.
【請求項5】化合物(IV)とジアゾ化合物との反応混合
物にn−ヘキサン、n−ペンタン、石油エーテル、トル
エン、キシレンまたはイソプロピルエーテルを添加して
化合物(V)を分離することを特徴とする請求項1記載
の製造法。
5. A compound (V) is separated by adding n-hexane, n-pentane, petroleum ether, toluene, xylene or isopropyl ether to a reaction mixture of the compound (IV) and a diazo compound. The manufacturing method according to claim 1.
【請求項6】化合物(V)と酸との反応をジクロルメタ
ン、クロロホルム、アセトニトリルまたはアセトンと低
級アルコール、テトラヒドロフランまたはジオキサンと
の混合溶媒中で行うことを特徴とする請求項1記載の製
造法。
6. The method according to claim 1, wherein the reaction of the compound (V) with an acid is carried out in a mixed solvent of dichloromethane, chloroform, acetonitrile or acetone and a lower alcohol, tetrahydrofuran or dioxane.
【請求項7】化合物(IV)と酸との反応をジクロルメタ
ン、クロロホルム、アセトニトリルまたはアセトンと低
級アルコール、テトラヒドロフランまたはジオキサンと
の混合溶媒中で行うことを特徴とする請求項2記載の製
造法。
7. The process according to claim 2, wherein the reaction of the compound (IV) with an acid is carried out in a mixed solvent of dichloromethane, chloroform, acetonitrile or acetone and a lower alcohol, tetrahydrofuran or dioxane.
【請求項8】ハロゲン化炭化水素がジクロルメタンであ
る請求項3記載の製造法。
8. The method according to claim 3, wherein the halogenated hydrocarbon is dichloromethane.
【請求項9】アルカリ土類金属ハロゲン化物がマグネシ9. An alkaline earth metal halide is magnesi.
ウムハロゲン化物である請求項1または2記載の製造The production according to claim 1 or 2, which is a umhalide.
法。Law.
JP18114492A 1992-07-08 1992-07-08 Method for producing carbapenems Expired - Lifetime JP3479720B2 (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007125788A1 (en) 2006-04-28 2007-11-08 Kaneka Corporation Improved method for the crystallization of intermediates of carbapenem antibiotics
CN101906115A (en) * 2010-08-13 2010-12-08 浙江海翔药业股份有限公司 Preparation method of beta-methyl carbapenem antibiotic intermediate
WO2011048583A1 (en) 2009-10-23 2011-04-28 Ranbaxy Laboratories Limited Process for the preparation of carbapenem compounds
US8841444B2 (en) 2008-07-30 2014-09-23 Ranbaxy Laboratories Limited Process for the preparation of carbapenem compounds

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2003301425A1 (en) * 2002-10-18 2004-05-04 Meiji Seika Kaisha, Ltd. Process for producing carbapenem derivative and intermediate for use in the production
JP4463520B2 (en) * 2003-10-02 2010-05-19 高砂香料工業株式会社 Method for producing carbapenem derivatives
JP2008303143A (en) * 2005-08-19 2008-12-18 Shionogi & Co Ltd Method for producing carbapenem derivative by continuous reaction
KR100934785B1 (en) * 2007-12-03 2009-12-31 (주)대웅제약 New of (1R, 5R, 6S) -J-nitrobenzyl-2- (diphenylphosphoryloxy) -6-[(R) -1-hydroxyethyl] -1-methyl-carbapenem-3-carboxylate One crystalline form and its preparation
KR100967341B1 (en) * 2008-04-01 2010-07-05 주식회사 이매진 Process for preparing a synthetic intermediate of carbapenems
CN102690282A (en) * 2011-07-07 2012-09-26 深圳市海滨制药有限公司 Crystal-form 1beta methylcarbapenem antibiotic intermediate and preparation method thereof
CN105061508A (en) * 2015-09-06 2015-11-18 苏州卡加生物科技有限公司 Synthesis method of carbapenem antibiotic parent nucleus MAP

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J. Am. Chem. Soc., 1980, 102, p.6161−6163

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007125788A1 (en) 2006-04-28 2007-11-08 Kaneka Corporation Improved method for the crystallization of intermediates of carbapenem antibiotics
US8093378B2 (en) 2006-04-28 2012-01-10 Kaneka Corporation Crystallization method for intermediates of carbapenem antibiotics
US8841444B2 (en) 2008-07-30 2014-09-23 Ranbaxy Laboratories Limited Process for the preparation of carbapenem compounds
WO2011048583A1 (en) 2009-10-23 2011-04-28 Ranbaxy Laboratories Limited Process for the preparation of carbapenem compounds
CN101906115A (en) * 2010-08-13 2010-12-08 浙江海翔药业股份有限公司 Preparation method of beta-methyl carbapenem antibiotic intermediate

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