JP2002338572A - Method for producing carbapenems - Google Patents

Method for producing carbapenems

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JP2002338572A
JP2002338572A JP2002081966A JP2002081966A JP2002338572A JP 2002338572 A JP2002338572 A JP 2002338572A JP 2002081966 A JP2002081966 A JP 2002081966A JP 2002081966 A JP2002081966 A JP 2002081966A JP 2002338572 A JP2002338572 A JP 2002338572A
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compound
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Withdrawn
Application number
JP2002081966A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshitaka Fujiwara
好孝 藤原
Toshihiro Akiyama
智弘 秋山
Shuichi Nishimura
修一 西村
Toshimitsu Hatano
俊光 畑野
Toshio Kumagai
年夫 熊谷
Hisashi Shimizu
壽 清水
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Pfizer Japan Inc
Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Takeda Chemical Industries Ltd
Wyeth Lederle Japan Ltd
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Publication date
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    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for industrially advantageously producing carbapenems. SOLUTION: This method for producing the compound (VIII) in the formula comprises reacting a compound (I) (R<1> is a protective group of OH) in the formula with (i) N,N'-carbonyldiimidazole, or (ii) a halogenated carbonic acid ester and an imidazole in the presence of a base, reacting the product with an inorganic salt and R<2> OOCCH2 COOH (R<2> is a protective group of COOH), further reacting the obtained product with an azide compound, reacting the resultant product with an acid, subjecting the obtained product to a ring-closing reaction, and reacting the ring-closed product with R<3> OH (R<3> is an acyl group) or a reactive derivative thereof.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は優れた抗菌作用を有
する1−メチルカルバペネム抗生物質等の製造に用いる
合成中間体の工業的多量生産に有利な製造法に関する。
The present invention relates to a process which is advantageous for industrial mass production of synthetic intermediates used for producing 1-methylcarbapenem antibiotics having excellent antibacterial activity.

【0002】[0002]

【従来の技術】抗菌化合物として有用な1−メチルカル
バペネムの製造に用いる(1R,5S,6S)−p−ニ
トロベンジル−2−ジフェニルホスホリルオキシ−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カル
バペネム−3−カルボキシレートは、従来特開昭57−
123182に記載の反応式
2. Description of the Related Art (1R, 5S, 6S) -p-Nitrobenzyl-2-diphenylphosphoryloxy-6 used for producing 1-methylcarbapenem useful as an antibacterial compound.
[(R) -1-hydroxyethyl] -1-methyl-carbapenem-3-carboxylate is disclosed in
Reaction formula described in 123182

【0003】[0003]

【化25】 Embedded image

【化26】 Embedded image

【化27】 Embedded image

【化28】 Embedded image

【0004】[0004]

【化29】 Embedded image

【化30】 Embedded image

【化31】 [式中、R1、R2、R3及びR4は水素(R1及びR2が同
時に水素であることはない)、または置換及び非置換の
以下の基:1−10の炭素原子を有するアルキル、アル
ケニル及びアルキニル:シクロアルキル環部分の炭素数
が3−6で、アルキル部分の炭素数が1−6であるシク
ロアルキル、シクロアルキルアルキル及びアルキルシク
ロアルキル:3−6の炭素原子を有するスピロシクロア
ルキル:フェニル:アリール部分がフェニルであり、ア
ルキル鎖が1−6の炭素原子を有するアルアルキル、ア
ルアルケニル及びアルアルキニル:ヘテロアリール、ヘ
テロアルアルキル、ヘテロシクリル及びヘテロシクリル
アルキル(これらに対する単数又は複数の置換基は、ア
ミノ、モノ−、ジ−及びトリアルキルアミノ、ヒドロキ
シル、アルコオキシル、メルカプト、アルキルチオ、フ
ェニルチオ、スルファモイル、アミジノ、グアニジノ、
ニトロ、クロロ、ブロモ、フルオロ、ヨード、シアノ及
びカルボキシから成る群から選ばれる):上述のヘテロ
環部分の単数又は複数のヘテロ原子が、1−4の酸素、
窒素又は硫黄原子から成る群から選ばれる場合:上述の
置換基のアルキル部分が1−6の炭素原子を有する場
合:から成る群から独立して選択され、Roは容易に除
去し得る保護基を、R7は薬学的に許容されるエステル
部分または、容易に除去されるカルボキシル基の保護基
を、Xは脱離基を示す]で表わされる製造法や、特開昭
64−25779に記載の反応式
Embedded image [Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are hydrogen (R 1 and R 2 are not simultaneously hydrogen) or substituted and unsubstituted groups: Alkyl, alkenyl and alkynyl having: cycloalkyl having 3-6 carbon atoms in the cycloalkyl ring portion and cycloalkyl, cycloalkylalkyl and alkylcycloalkyl having 1-6 carbon atoms in the alkyl portion having 3-6 carbon atoms. Spirocycloalkyl: phenyl: aralkyl, alkenyl and alkynyl in which the aryl moiety is phenyl and the alkyl chain has 1-6 carbon atoms: heteroaryl, heteroaralkyl, heterocyclyl and heterocyclylalkyl (one or more of which Substituents are amino, mono-, di- and trialkylamino, hydroxyl, alcohol Hexyl, mercapto, alkylthio, phenylthio, sulfamoyl, amidino, guanidino,
Nitro, chloro, bromo, fluoro, iodo, cyano and carboxy): one or more heteroatoms of said heterocyclic moiety is 1-4 oxygen,
When selected from the group consisting of nitrogen or sulfur atoms: where the alkyl moiety of the substituents above has 1-6 carbon atoms: independently selected from the group consisting of: wherein Ro is a readily removable protecting group Wherein R 7 represents a pharmaceutically acceptable ester moiety or a carboxyl group-protecting group which is easily removed, and X represents a leaving group], and the method described in JP-A-64-25779. Reaction formula

【0005】[0005]

【化32】 [式中、R3はカルボキシ保護基を、R4は水素原子また
は低級アルキル基を、R aはアシル基を、Zはt−ブチ
ルジメチルシリル基を示す]で表わされる製造法により
製造されていた。
Embedded image[Wherein, RThreeIs a carboxy protecting group, RFourIs a hydrogen atom or
Represents a lower alkyl group, R aRepresents an acyl group, and Z represents t-butyl.
Shows a dimethylsilyl group]
Had been manufactured.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これら従来の
製造法は(1)収率が低い、(2)各ステップごとに中
間体を分離精製する必要があり、製造工程が複雑であ
る、(3)製造に要する時間(反応時間等)が長い等、
目的物を工業的に大量に製造する方法としては極めて不
十分なものであるため、改良製造法が求められていた。
However, these conventional production methods are (1) low in yield, (2) it is necessary to separate and purify intermediates at each step, and the production process is complicated. 3) The time required for production (reaction time, etc.) is long,
Since it is extremely insufficient as a method for industrially mass-producing the target product, an improved production method has been demanded.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この様な状況下で、本発
明者らは、鋭意研究を重ね努力した結果、(1)式
Under these circumstances, the inventors of the present invention have made intensive studies and made efforts to obtain the following equation (1).

【0008】[0008]

【化33】 [式中、R1は水酸基の保護基を示す]で表される化合
物またはその塩と(i)N,N′−カルボニルジイミダ
ゾールとを反応させるか、または(ii)塩基の存在下に
ハロゲン化炭酸エステルとイミダゾールとを反応させ、
得られる式
Embedded image Wherein R 1 represents a hydroxyl-protecting group or a salt thereof and (i) N, N'-carbonyldiimidazole, or (ii) halogen in the presence of a base. Reacting carbonized carbonate with imidazole,
The resulting expression

【化34】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と無機塩と式R2OOCCH2COOH (III)[式中、
2はカルボキシル基の保護基を示す]で表される化合
物とを反応させ、得られる式
Embedded image Wherein the symbols are as defined above, an inorganic salt and a compound represented by the formula R 2 OOCCH 2 COOH (III)
R 2 represents a carboxyl-protecting group] and a compound represented by the formula

【化35】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と(i)アジド化合物とを反応させ、得られる式
Embedded image [The symbols in the formula are as defined above] and (i) an azide compound are reacted to obtain a compound represented by the following formula:

【0009】[0009]

【化36】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と酸とを反応させるか、または(ii)酸とを反応させ、
得られる式
Embedded image [The symbols in the formula are as defined above] and an acid, or (ii) reacting with an acid;
The resulting expression

【化37】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表わされる化合
物とアジド化合物とを反応させ、得られる式
Embedded image [The symbols in the formula are as defined above] and an azide compound are reacted with each other to obtain a compound represented by the following formula:

【化38】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
を閉環反応に付し、得られる式
Embedded image [The symbols in the formula are as defined above.]

【0010】[0010]

【化39】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と式R3OH[式中、R3はアシル基を示す]で表される
酸またはその反応性誘導体とを反応させると、予想外に
も目的の式
Embedded image When the compound represented by the formula [wherein the symbols are as defined above] is reacted with an acid represented by the formula R 3 OH [wherein R 3 represents an acyl group] or a reactive derivative thereof. , Unexpectedly the desired expression

【化40】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
が、(1)高収率で、(2)中間体を単離することなく
一貫した製造工程で、(3)製造(反応)時間が短く、
(4)副産物生成の抑制下に製造され極めて工業的に有
利な製造法であること、さらにこの製造法において、
Embedded image The compound represented by the formula [wherein the symbols have the same meanings as described above] can be obtained by (1) high yield, (2) consistent production process without isolating the intermediate, and (3) production ( Reaction) time is short,
(4) It is a production method which is produced under suppression of by-product formation and is extremely industrially advantageous.

【0011】(イ)各反応における溶媒としてハロゲン
化炭化水素を用いる、(ロ)化合物(I)より化合物(I
V)を得る反応を炭酸ガスを除去しながら行う、(ハ)
化合物(IV)とジアゾ化合物との反応混合物にn−ヘキ
サン、n−ペンタン、石油エーテル、トルエン、キシレ
ンまたはイソプロピルエーテルを添加し化合物(V)を
分離する、(ニ)化合物(V)と酸との反応をジクロル
メタン、クロロホルム、アセトニトリルまたはアセトン
と低級アルコール、テトラヒドロフランまたはジオキサ
ンとの混合溶媒中で行う、(ホ)化合物(IV)と酸との
反応をジクロルメタン、クロロホルム、アセトニトリル
またはアセトンと低級アルコール、テトラヒドロフラン
またはジオキサンとの混合溶媒中で行う、または(およ
び)(ヘ)前記(イ)記載のハロゲン化炭化水素として
ジクロルメタンを用いると、化合物(VIII)の工業的多量
生産がより一層有利に行なえることを見出し、これに基
づいて本発明を完成した。
(A) A compound (I) is obtained from the compound (I) by using a halogenated hydrocarbon as a solvent in each reaction.
The reaction to obtain V) is performed while removing carbon dioxide gas.
N-Hexane, n-pentane, petroleum ether, toluene, xylene or isopropyl ether is added to the reaction mixture of compound (IV) and diazo compound to separate compound (V). (D) Compound (V) and acid Is carried out in a mixed solvent of dichloromethane, chloroform, acetonitrile or acetone and a lower alcohol, tetrahydrofuran or dioxane. (E) The reaction of the compound (IV) with an acid is performed with dichloromethane, chloroform, acetonitrile or acetone and a lower alcohol, tetrahydrofuran Alternatively, if the reaction is carried out in a mixed solvent with dioxane, or (and) (f) dichloromethane is used as the halogenated hydrocarbon described in (a), the industrial mass production of the compound (VIII) can be performed more advantageously. And completed the present invention based on this.

【0012】前記式中、R1は水酸基の保護基を示し、
この様な保護基としてはたとえばペプチド化学、β−ラ
クタム化合物の分野で用いられるもの等を用いることが
でき、例えばホルミル、アセチル、クロロアセチル、ジ
クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロア
セチル、プロピオニル、ブチリル、4−トルオイル、4
−アニソイル、4−ニトロベンゾイル、2−ニトロベン
ゾイル基等のハロゲン(例えば塩素、臭素、フッ素等)
またはニトロ等で1〜3個置換されていてもよいC1-7
アシル基、例えばベンジル、4−メトキシベンジル、2
−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、ジフェニルメ
チル、トリフェニルメチル基等のC1-4アルコキシ(例
えばメトキシ、エトキシ等)またはニトロ等で1〜3個
置換されていてもよいC7-19アラルキル基、例えばメト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカ
ルボニル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、
2−トリメチルシリルエトキシカルボニル基等のC1-4
アルコキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、ハロゲン
(例えば塩素、臭素等)またはトリ−C1-4アルキルシ
リル(例えばトリメチルシリル等)等で1〜3個置換さ
れていてもよいC1- 6アルキルオキシ−カルボニル基、
例えばベンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキ
シカルボニル、2−ニトロベンジルオキシカルボニル、
4−ニトロベンジルオキシカルボニル基等のC1-4アル
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)またはニトロ基
等で置換 されていてもよい、C7-19アラルキルオキシ
−カルボニル基、例えばビニルオキシカルボニル、アリ
ルオキシカルボニル基等のC2-6アルケニルオキシ−カ
ルボ ニル基、例えばメトキシメチル、t−ブトキシメ
チル、2−メトキシエトキシメチル、2,2,2−トリク
ロロエトキシメチル基等のハロゲン(例えば塩素、臭
素、フッ素等)で置換されていてもよいC1-4アルコキ
シ(例えばメトキシ、エト キシ等)等で1ないし3置
換されたメチル基、例えば1−エトキシエチル,1−メ
チル−1−メトキシエチル、2,2,2−トリクロロエチ
ル基等のC1- 4アルコ キシ(例えばメトキシ、エトキシ
等)またはハロゲン(例えば、塩素、臭素、フッ素等)
等で1ないし3置換されたエチル基、例えばトリメチル
シリル、トリエチルシリル、ジメチルイソプロピルシリ
ル、t−ブチルジメチルシリル、トリイソプロピルシリ
ル基等のトリ−C1-4アルキルシリル基、例えばジフェ
ニルメチ ルシリル、ジフェニルエチルシリル基等のジ
フェニル−C1-4アルキルシリル基 が用いられ、好まし
くはC7-19アラルキルオキシカルボニル基(ベンジルオ
キシカルボニル基等)、C2-6アルケニルオキシカルボ
ニル基(ビニルオキシカルボ ニル基等)、トリ−C1-4
アルキルシリル基(トリメチルシリル基等)等が、よ
り好ましくはトリ−C1-4アルキルシリル基等が、特に
好ましくはt−ブチルジ メチルシリル基等が用いられ
る。
In the above formula, R1Represents a hydroxyl-protecting group,
Such protecting groups include, for example, peptide chemistry, β-la
It is possible to use those used in the field of
For example, formyl, acetyl, chloroacetyl, di
Chloroacetyl, trichloroacetyl, trifluoroa
Cetyl, propionyl, butyryl, 4-toluoyl, 4
-Anisoyl, 4-nitrobenzoyl, 2-nitroben
Halogen such as zoyl group (for example, chlorine, bromine, fluorine, etc.)
Or C 1-3 optionally substituted with nitro or the like1-7
Acyl groups such as benzyl, 4-methoxybenzyl, 2
-Nitrobenzyl, 4-nitrobenzyl, diphenylmethyl
C such as tyl and triphenylmethyl groups1-4Alkoxy (example
For example, methoxy, ethoxy, etc.) or nitro, etc.
Optionally substituted C7-19Aralkyl groups such as meth
Xoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxyca
Rubonyl, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl,
C such as 2-trimethylsilylethoxycarbonyl group1-4
Alkoxy (eg, methoxy, ethoxy, etc.), halogen
(Eg, chlorine, bromine, etc.) or tri-C1-4Alkylsi
1 to 3 substituents such as ril (for example, trimethylsilyl etc.)
C that may be1- 6An alkyloxy-carbonyl group,
For example, benzyloxycarbonyl, 4-methoxybenzyl
Leoxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxy
Cicarbonyl, 2-nitrobenzyloxycarbonyl,
C such as 4-nitrobenzyloxycarbonyl group1-4Al
Coxy (eg methoxy, ethoxy, etc.) or nitro group
And the like; C7-19Aralkyloxy
A carbonyl group, for example vinyloxycarbonyl, ant
C such as luoxycarbonyl group2-6Alkenyloxy-ca
Carbonyl group such as methoxymethyl, t-butoxime
Chill, 2-methoxyethoxymethyl, 2,2,2-tric
Halogen such as loroethoxymethyl group (eg chlorine, odor
C which may be substituted with1-4Alkoki
1 to 3 positions (e.g., methoxy, ethoxy, etc.)
A substituted methyl group such as 1-ethoxyethyl, 1-methyl
Tyl-1-methoxyethyl, 2,2,2-trichloroethyl
C such as1- FourAlkoxy (eg methoxy, ethoxy)
Etc.) or halogen (eg, chlorine, bromine, fluorine, etc.)
An ethyl group substituted by 1 to 3 such as trimethyl
Silyl, triethylsilyl, dimethylisopropylsilyl
, T-butyldimethylsilyl, triisopropylsilyl
Tri-C such as1-4Alkylsilyl groups such as diphe
Dimethylsilyl and diphenylethylsilyl groups
Phenyl-C1-4Alkylsilyl groups are used and are preferred
Kuha C7-19Aralkyloxycarbonyl group (benzylo
Xycarbonyl group), C2-6Alkenyloxycarbo
Nyl group (vinyloxycarbonyl group etc.), tri-C1-4
Alkylsilyl groups (such as trimethylsilyl groups)
More preferably tri-C1-4Alkylsilyl group etc.
Preferably, a t-butyldimethylsilyl group or the like is used.
You.

【0013】R2はカルボキシル基の保護基を示し、こ
の様な保護基としては水酸基の保護基の脱離工程におい
て、水酸基の保護基よりも脱離されにくい基が用いら
れ、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−,iso−,sec−,tert−ブチル、n−ヘキシ
ル基等のC1-8アルキル基、ブロモ−t−ブチル、トリ
クロロエチル等のハロゲン(例えば、塩素、臭素、フッ
素、ヨウ素等)で1ないし3置換されたC1-6アルキル
基、ベンジル、p−ニトロベンジル、o−ニトロベンジ
ル、p−メトキシベンジル基、p−t−ブチルベンジル
等のニトロ、C1- 4アルコキシ基(例えばメトキシ、エ
トキシ等)またはC1-4アルキル基(例えばメチル、エ
チル、n−又はiso−プロピル、n−、iso−、s
ec−又はtert−ブチル等)等で1または2置換さ
れていてもよいC7-14アラルキル基、アセトキシメチ
ル、プロピオニルオキシメチル、n−,iso−,ブチリ
ルオキシメチル、バレリルオキシメチル、ピバロイルオ
キシメチル、1−(または2−)アセトキシエチル,1
−(または2−または3−)アセトキシプロピル,1−
(または2−または3−または4−)アセトキシブチ
ル,1−(または2−)プロピオニルオキシエチル,1
−(または2−または3−)プロピオニルオキシプロピ
ル,1−(または2−)ブチリルオキシエチル,1−
(または2−)イソブチリルオキシエチル,1−(また
は2−)ピバロイルオキシエチル,1−(または2−)
ヘキサノイルオキシエチル、イソブチリルオキシメチ
ル、2−エチルブチリルオキシメチル,3,3−ジメチ
ルブチリルオキシメチル、1−(または2−)ペンタノ
イルオキシエチル等のC1-4アルカノイルオキシ−C1-4
アルキル基、例えば2−メシルエチル基等のC1-4アル
カンスルホニル−C1-4アルキル基,例えばメトキシカ
ルボニルオキシメチル,エトキシカルボニルオキシメチ
ル,プロポキシカルボニルオキシメチル,第三級ブトキ
シカルボニルオキシメチル,1−(または2−)メトキ
シカルボニルオキシエチル,1−(または2−)エトキ
シカルボニルオキシエチル,1−(または2−)イソプ
ロポキシカルボニルオキシエチル等のC1-4アルコキシ
カルボニルオキシ−C1-4アルキル基、t−ブチルジメ
チルシリル、トリメチルシリル等のトリC1-4アルキル
シリル基、アリル、メタ アリル等のC2-6アルケニル
基、メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシ メ
チル、イソプロポキシメチル等のC1-4アルコキシ−メ
チル基、(2−メチル チオ)−エチル等のC1-4アルキ
ルチオC1-4アルキル基、3−メチル−2−ブテニル
基、5−インダニル基、3−フタリジル基等が用いら
れ、好ましくは、例えばニトロ、C1-4アルキル基等で
1または2置換されていてもよいC7-14アラル キル基
等が、より好ましくは例えばp−ニトロベンジル基等が
用いられる。
RTwoRepresents a carboxyl-protecting group.
Protecting groups such as in the step of removing hydroxyl protecting groups
Therefore, a group that is harder to leave than a protecting group for a hydroxyl group is used.
For example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl
Pill, n-, iso-, sec-, tert-butyl, n-hexyl
C such as1-8Alkyl group, bromo-t-butyl, tri
Halogen such as chloroethyl (eg, chlorine, bromine, fluorine)
Substituted with 1 to 3 carbon atoms1-6Alkyl
Group, benzyl, p-nitrobenzyl, o-nitrobenzyl
, P-methoxybenzyl group, pt-butylbenzyl
Nitro such as C1- FourAlkoxy groups (eg methoxy, d
Toxi) or C1-4Alkyl groups (eg, methyl, d
Chill, n- or iso-propyl, n-, iso-, s
ec- or tert-butyl) or the like.
C that may be7-14Aralkyl group, acetoxymethyl
, Propionyloxymethyl, n-, iso-, butyric
Ruoxymethyl, valeryloxymethyl, pivaloylo
Xymethyl, 1- (or 2-) acetoxyethyl, 1
-(Or 2- or 3-) acetoxypropyl, 1-
(Or 2- or 3- or 4-) acetoxybuty
1,1- (or 2-) propionyloxyethyl, 1
-(Or 2- or 3-) propionyloxypropyl
1,1- (or 2-) butyryloxyethyl, 1-
(Or 2-) isobutyryloxyethyl, 1- (also
Is 2-) pivaloyloxyethyl, 1- (or 2-)
Hexanoyloxyethyl, isobutyryloxymethyl
, 2-ethylbutyryloxymethyl, 3,3-dimethyl
Rubutyryloxymethyl, 1- (or 2-) pentano
C such as iloxyethyl1-4Alkanoyloxy-C1-4
An alkyl group such as a 2-mesylethyl group;1-4Al
Cansulfonyl-C1-4Alkyl groups such as methoxyca
Rubonyloxymethyl, ethoxycarbonyloxymethyl
, Propoxycarbonyloxymethyl, tertiary butoxy
Cicarbonyloxymethyl, 1- (or 2-) methoxy
Cicarbonyloxyethyl, 1- (or 2-) ethoxy
Cycarbonyloxyethyl, 1- (or 2-) isoprop
C such as ropoxycarbonyloxyethyl1-4Alkoxy
Carbonyloxy-C1-4Alkyl group, t-butyldim
Tri-C such as tylsilyl and trimethylsilyl1-4Alkyl
C such as silyl group, allyl and methallyl2-6Alkenyl
Group, methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymeth
C such as tyl and isopropoxymethyl1-4Alkoxy-meth
C such as a tyl group and (2-methylthio) -ethyl1-4Archi
Lucio C1-4Alkyl group, 3-methyl-2-butenyl
Group, 5-indanyl group, 3-phthalidyl group and the like are used.
And preferably, for example, nitro, C1-4With an alkyl group, etc.
C which may be substituted by 1 or 27-14Aralkyl group
And more preferably a p-nitrobenzyl group and the like.
Used.

【0014】R3はアシル基を示し、この様なアシル基
は酸よりOH基を除いて得られる基であって、単に有機
カルボン酸のカルボキシル基からOHを除いた残りの原
子団のみならず、広義に、有機スルホン酸や有機リン酸
から誘導されるアシル基をも包含し、例えば(i)アセ
チル、プロピオニル、ブチリル基等のC1-4アルカノイ
ル基、(ii)メタンスルホニル、トリフロオロメタンス
ルホニル基等のハロゲン(例えば塩素、フッ素等)で1
ないし3置換されていてもよいC1-4アルキルスルホニ
ル基、(iii)ベンゼンスルホニル、p−ニトロベンゼ
ンスルホニル、p−ブロモベンゼンスルホニル、トルエ
ンスルホニル、2,4,6−トリイソプロピルベンゼンス
ルホニル基等のニトロ基、ハロゲン(例えば臭素、塩
素、フッ素、ヨウ素等)、C1-4アルキル基(例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル等)等により
1ないし3置換されていてもよいアリールスルホニル
基、(iv)ジフェニルホスホリル基等が用いられ、好ま
しくは例えばジフェニルホスホリル基等が用いられる。
R 3 represents an acyl group, and such an acyl group is a group obtained by removing an OH group from an acid. In a broad sense, it also includes an acyl group derived from an organic sulfonic acid or an organic phosphoric acid, such as (i) a C 1-4 alkanoyl group such as acetyl, propionyl, and butyryl group, (ii) methanesulfonyl, trifluoromethane. 1 with a halogen such as a sulfonyl group (eg, chlorine, fluorine, etc.)
To 3 optionally substituted C 1-4 alkylsulfonyl group, (iii) benzenesulfonyl, p- nitrobenzenesulfonyl, p- bromobenzenesulfonyl, toluenesulfonyl, nitro, such as 2,4,6-triisopropyl benzenesulfonyl group Group, halogen (eg, bromine, chlorine, fluorine, iodine, etc.), C 1-4 alkyl group (eg,
An arylsulfonyl group optionally substituted by 1 to 3 with methyl, ethyl, propyl, isopropyl and the like, (iv) a diphenylphosphoryl group and the like are used, and preferably, for example, a diphenylphosphoryl group and the like are used.

【0015】本発明方法においては、まず化合物(I)
またはその塩と(i)N,N′−カルボニルジイミダゾー
ルとを反応させるまたは(ii)塩基の存在下にハロゲン
化炭酸エステルとイミダゾールとを反応させて化合物
(II)を得る。この工程において用いられる塩基として
は、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、N,
N−ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、
トリオクチルアミン、トリアリルアミン、ジメチルベン
ジルアミン、テトラメチル−1,3−ジアミノプロパ
ン、N−メチルモルホリン、N−メチルピロリジン、N
−メチルピペリジン、N,N−ジメチルアニリン、1,8
−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデカ−7−エン(D
BU),1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノナ−5
−エン(DBN)等の第3級脂肪族アミン、ピリジン、
4−ジメチル−アミノピリジン、ピコリン、ルチジン、
キノリン、イソキノリン等の芳香族アミン等が用いら
れ、好ましくは、例えばトリエチルアミン、N,N−ジ
イソプロピルエチルアミン等のC1 -4アルキル基で1な
いし3置換された第3級脂肪族アミン、ピリジン、4−
ジメチルアミノピリジン等のジC1-4アルキルアミノ基
で置換されていてもよいピリジン等が、好ましくはトリ
エチルアミン等のトリC1-4アルキルアミン等が用いら
れる。ハロゲン化炭酸エステルとしては、クロロ炭酸メ
チル、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸プロピル、ブロモ
炭酸メチル、ブロモ炭酸エチル、ブロモ炭酸プロピル等
のハロゲン化炭酸C1-4アルキルエステル、クロロ炭酸
フェニル、ブロモ炭酸フェニル等のハロゲン化炭酸フェ
ニルエステル等が用いられ、好ましくはクロロ炭酸エチ
ルが用いられる。反応溶媒としては、例えばベンゼン、
トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶
媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメト
キシエタン等のエーテル系溶媒、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン、1,2−ジ
クロルエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジメチル
ホルムアミド、アセトニトリル等の高非極プロトン性溶
媒等の反応溶媒が使用されるが、特に塩化メチレン、ア
セトニトリル、テトラヒドロフラン等が好ましい。更に
は反応後の分液精製操作を考えれば、工業的には水に溶
けにくい塩化メチレンが最も好ましい。
In the method of the present invention, first, compound (I)
Or a salt thereof and (i) N, N'-carbonyldiimidazo
Or (ii) halogen in the presence of a base
Reaction between imidated carbonate and imidazole
(II) is obtained. As the base used in this step
Is, for example, trimethylamine, triethylamine, N,
N-diisopropylethylamine, tributylamine,
Trioctylamine, triallylamine, dimethylben
Dilamine, tetramethyl-1,3-diaminopropa
, N-methylmorpholine, N-methylpyrrolidine, N
-Methylpiperidine, N, N-dimethylaniline, 1,8
-Diazabicyclo [5,4,0] undec-7-ene (D
BU), 1,5-diazabicyclo [4,3,0] nona-5
Tertiary aliphatic amines such as -ene (DBN), pyridine,
4-dimethyl-aminopyridine, picoline, lutidine,
Aromatic amines such as quinoline and isoquinoline are used.
Preferably, for example, triethylamine, N, N-di
C such as isopropylethylamine1 -Four1 in alkyl group
Cis-substituted tertiary aliphatic amine, pyridine, 4-
Di-C such as dimethylaminopyridine1-4Alkylamino group
Pyridine and the like which may be substituted with
Tri-C such as ethylamine1-4Alkylamine etc. are used
It is. Halogenated carbonates include chlorocarbonate
Chill, ethyl chlorocarbonate, propyl chlorocarbonate, bromo
Methyl carbonate, ethyl bromocarbonate, propyl bromocarbonate, etc.
Halogenated carbonic acid C1-4Alkyl ester, chlorocarbonic acid
Halogenated carbonates such as phenyl and phenyl bromocarbonate
Nyl ester or the like is used, and preferably chlorocarbonate is used.
Is used. As a reaction solvent, for example, benzene,
Hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and cyclohexane
Medium, tetrahydrofuran, dioxane, 1,2-dimethoate
Ether solvents such as xyethane, methylene chloride, chloro
Form, carbon tetrachloride, trichloroethylene, 1,2-di
Halogenated hydrocarbon solvents such as chloroethane, dimethyl
Highly aprotic solvents such as formamide and acetonitrile
A reaction solvent such as a solvent is used.
Setonitrile, tetrahydrofuran and the like are preferred. Further
Is industrially soluble in water, considering the separation and purification procedure after the reaction.
Most difficult is methylene chloride.

【0016】(ii)の反応においては、化合物(I)、
塩基、ハロゲン炭酸エステルおよびイミダゾールを同時
に反応させてもよいが、塩基とハロゲン化炭酸エステル
を混和した後に化合物(I)と反応させ、ついでイミダ
ゾールと反応させるのが好ましい。化合物(I)の塩と
しては、例えば、セフェム系抗生物質の製造において、
通常用いられる塩が用いられ、例えばアルカリ金属(例
えばリチウム、カリウム、ナトリウム等)、アルカリ土
類金属(例えば、カルシウム、マグネシウム等)、アン
モニウム類(例えばトリエチルアンモニウム、ジイソプ
ロピルエチルアンモニウム等のC1-4アルキル基によっ
て1ないし3置換されたアンモニウム等)等との塩が、
好ましくは、例えばカリウム、ナトリウム等のアルカリ
金属との塩が用いられる。
In the reaction (ii), the compound (I)
The base, the halogenated carbonate and the imidazole may be reacted simultaneously, but it is preferable to mix the base and the halogenated carbonate, react with the compound (I), and then react with the imidazole. As the salt of compound (I), for example, in the production of cephem antibiotics,
Commonly used salts are used, for example, alkali metals (eg, lithium, potassium, sodium, etc.), alkaline earth metals (eg, calcium, magnesium, etc.), and ammoniums (eg, C 1-4 such as triethylammonium, diisopropylethylammonium, etc.). Such as ammonium substituted with 1 to 3 alkyl groups, etc.)
Preferably, a salt with an alkali metal such as potassium or sodium is used.

【0017】本反応における、化合物(I)またはその
塩とN,N′−カルボニルジイミダゾールとの使用割合
(モル比)は1:1〜3、好ましくは1:1〜1.5で
ある。化合物(I)と溶媒との使用割合(重量比)は、
1:50〜1000、好ましくは1:100〜500で
ある。化合物(I)と塩基との使用割合(モル比)は、
1:1〜5、好ましくは1:1〜2である。化合物
(I)とハロゲン化炭酸エステルとの使用割合(モル
比)は、1:1〜5、好ましくは1:1〜2である。化
合物(I)とイミダゾールとの使用割合(モル比)は、
1:1〜5、好ましくは1:1〜2である。反応時間は
0.5〜20時間、好ましくは1〜5時間である。反応
温度は−70〜20℃、好ましくは−40〜0℃であ
る。本反応は、水分により悪影響を受けるため、空気中
の水分を吸湿しないように、例えば窒素ガス、アルゴン
ガス等の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。本反
応で得られる化合物(II)は、常法に従って分離精製後
次の反応に用いることもできるが、反応混合物のまま次
の反応に用いるのが有利である。本反応で原料として用
いられる化合物(I)またはその塩は、例えば有機化学
協会誌47巻,606頁,1989年発行または49
巻,104頁,1991年発行等に記載の方法またはそ
れに準じる方法により合成できる。
In this reaction, the ratio (molar ratio) of compound (I) or a salt thereof to N, N'-carbonyldiimidazole is from 1: 1 to 3, preferably from 1: 1 to 1.5. The use ratio (weight ratio) of the compound (I) and the solvent is
It is 1: 50-1000, preferably 1: 100-500. The use ratio (molar ratio) of compound (I) and base is
The ratio is 1: 1 to 5, preferably 1: 1 to 2. The usage ratio (molar ratio) of the compound (I) and the halogenated carbonate is 1: 1 to 5, preferably 1: 1 to 2. The use ratio (molar ratio) of compound (I) and imidazole is
The ratio is 1: 1 to 5, preferably 1: 1 to 2. The reaction time is 0.5 to 20 hours, preferably 1 to 5 hours. The reaction temperature is -70 to 20C, preferably -40 to 0C. Since this reaction is adversely affected by moisture, it is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas or argon gas so as not to absorb moisture in the air. The compound (II) obtained in this reaction can be used for the next reaction after separation and purification according to a conventional method, but it is advantageous to use the reaction mixture as it is for the next reaction. Compound (I) or a salt thereof used as a starting material in this reaction can be obtained, for example, in the journal of the Society of Organic Chemistry, Vol. 47, p. 606, published in 1989 or 49.
Volume, p. 104, published in 1991, or the like or a method analogous thereto.

【0018】つぎに、前記反応で得られる化合物(II)
と無機塩と化合物(III)とを反応させて化合物(IV)
を得る。この工程において用いられる無機塩としては、
例えば、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化
マグネシウム等のアルカリ土類金属のハロゲン化物等が
用いられ、好ましくは、塩化マグネシウム等が用いられ
る。反応溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キ
シレン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン等
のエーテル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、四塩
化炭素、トリクロロエチレン、1,2−ジクロルエタン
等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジメチルホルムアミ
ド、アセトニトリル等の高非極プロトン性溶媒等の反応
溶媒が使用されるが、特に塩化メチレン、アセトニトリ
ル、テトラヒドロフラン等が好ましい。更には反応後の
分液精製操作を考えれば、工業的には水に溶けにくい塩
化メチレンが最も好ましい。
Next, the compound (II) obtained by the above reaction
Is reacted with an inorganic salt and a compound (III) to give a compound (IV)
Get. As the inorganic salt used in this step,
For example, alkali earth metal halides such as magnesium chloride, magnesium bromide, and magnesium iodide are used, and preferably, magnesium chloride and the like are used. Examples of the reaction solvent include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene and cyclohexane, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane and 1,2-dimethoxyethane, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, trichloroethylene and 1,2. Reaction solvents such as halogenated hydrocarbon solvents such as dichloroethane and highly aprotic solvents such as dimethylformamide and acetonitrile are used, and methylene chloride, acetonitrile, tetrahydrofuran and the like are particularly preferable. Further, considering the separation and purification operation after the reaction, methylene chloride which is hardly soluble in water is most preferable industrially.

【0019】本反応は塩基の存在下に行うのが好まし
く、そのような塩基としては例えば、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチル
アミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、トリ
アリルアミン、ジメチルベンジルアミン、テトラメチル
−1,3−ジアミノプロパン、N−メチルモルホリン、
N−メチルピロリジン、N−メチルピペリジン、N,N
−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,
0]ウンデカ−7−エン(DBU),1,5−ジアザビ
シクロ[4,3,0]ノナ−5−エン(DBN)等の第3
級脂肪族アミン、ピリジン、4−ジメチル−アミノピリ
ジン、ピコリン、ルチジン、キノリン、イソキノリン等
の芳香族アミン等が用いられ、好ましくは例えば、トリ
エチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン等
のC1-4アルキル基で1ないし3置換された第3級脂肪
族アミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の
ジC1-4アルキルアミノ基で置換されていてもよいピリ
ジン等が、好ましくはトリエチルアミン等のトリC1-4
アルキルアミン等が用いられる。化合物(II)と無機塩
と化合物(III)との反応は同時に行ってもよく、任意
の順序で行ってもよいが、化合物(II)に無機塩を加
え、ついで、化合物(III)を加えて反応させるのが好ま
しい。また塩基は無機塩と同時かまたは無機塩を加えた
後で化合物(III)を加える前に加えるのが好ましい。
本反応は、窒素ガス、アルゴンガスのような不活性ガス
雰囲気下で行うのが好ましく、また、単に雰囲気下で反
応させるよりも、これらの不活性ガスを通気すること等
により本反応で生ずる炭酸ガスを除去しながら行うのが
より好ましい。
This reaction is preferably carried out in the presence of a base. Examples of such a base include trimethylamine, triethylamine, N, N-diisopropylethylamine, tributylamine, trioctylamine, triallylamine, dimethylbenzylamine and tetramethylamine. Methyl-1,3-diaminopropane, N-methylmorpholine,
N-methylpyrrolidine, N-methylpiperidine, N, N
-Dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5,4,
0] undec-7-ene (DBU), 3,5-diazabicyclo [4,3,0] non-5-ene (DBN)
Aromatic amines such as lower aliphatic amines, pyridine, 4-dimethyl-aminopyridine, picoline, lutidine, quinoline, isoquinoline and the like are used, preferably, for example, C 1-4 alkyl such as triethylamine, N, N-diisopropylethylamine and the like. Tertiary aliphatic amines which are substituted with 1 to 3 groups, pyridines which may be substituted with a diC 1-4 alkylamino group such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine, etc .; 1-4
An alkylamine or the like is used. The reaction of the compound (II), the inorganic salt and the compound (III) may be carried out simultaneously or in any order, but the inorganic salt is added to the compound (II), and then the compound (III) is added. Preferably, the reaction is carried out. The base is preferably added simultaneously with the inorganic salt or after adding the inorganic salt and before adding the compound (III).
This reaction is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas or argon gas. It is more preferable to carry out while removing the gas.

【0020】本反応における化合物(II)と無機塩との
使用割合(モル比)は1:1〜5、好ましくは1:1〜
2である。化合物(II)と溶媒との使用割合(重量比)
は1:50〜1000、好ましくは1:100〜500
である。化合物(II)と化合物(III)との使用割合
(モル比)は1:1〜5、好ましくは1:1〜3であ
る。化合物(II)と塩基との使用割合(モル比)は、
1:1〜5、好ましくは1:1〜3である。反応時間は
0.5〜20時間、好ましくは1〜5時間である。反応
温度は15〜100℃、好ましくは30〜60℃であ
る。本反応で得られる化合物(IV)は、常法に従って分
離精製後次の反応に用いることもできるが、反応混合物
のまま次の反応に用いるのが好都合である。また、反応
溶媒が水に不溶である場合には、反応混合物を適量(反
応混合物と水との使用割合(容量比)は1:0.1〜1
0、好ましくは1:0.5〜5)の水に懸濁、ついで水
層と目的化合物(IV)を含む溶媒層に分液することで、
水溶性の不純物を除去することもできる。
The use ratio (molar ratio) of the compound (II) to the inorganic salt in this reaction is 1: 1 to 5, preferably 1: 1 to 5.
2. Use ratio of compound (II) and solvent (weight ratio)
Is 1:50 to 1000, preferably 1: 100 to 500
It is. The use ratio (molar ratio) of compound (II) to compound (III) is 1: 1 to 5, preferably 1: 1 to 3. The use ratio (molar ratio) of compound (II) and base is
The ratio is 1: 1 to 5, preferably 1: 1 to 3. The reaction time is 0.5 to 20 hours, preferably 1 to 5 hours. The reaction temperature is 15 to 100 ° C, preferably 30 to 60 ° C. The compound (IV) obtained in this reaction can be used for the next reaction after separation and purification according to a conventional method, but it is convenient to use the reaction mixture as it is for the next reaction. When the reaction solvent is insoluble in water, an appropriate amount of the reaction mixture (the use ratio of the reaction mixture to water (volume ratio) is 1: 0.1 to 1: 1).
0, preferably 1: 0.5-5), and then separated into an aqueous layer and a solvent layer containing the target compound (IV),
Water-soluble impurities can also be removed.

【0021】従来、化合物(IV)は化合物(II)と(R
2OOCCH2COO)2 Mg[式中、R2はカルボキシ
ル基の保護基を、Mgはマグネシウムを示す]で表わさ
れるマグネシウムマロネート化合物とを反応させて得て
いたが、この場合、収率が十分でなかった。従って、本
発明者らは化合物(IV)を得る方法を種々検討した結
果、化合物(II)と無機塩と化合物(III)とを同一系
内で反応させるワンポット反応が、予想外に収率向上に
効果的であることを見いだした。すなわち化合物(II)
を含む溶液中に、無機塩を加え、ついで化合物(III)
を加えて反応させる方法が収率の点で優れている。この
ワンポット反応においては化合物(II)、無機塩、塩
基、化合物(III)の混合順序は、厳密には制限される
ものではないが、上記の順序において実施することが好
ましい。
Conventionally, compound (IV) is compound (II) and (R
2 OOCCH 2 COO) 2 Mg [wherein R 2 represents a carboxyl-protecting group and Mg represents magnesium], and is obtained by reacting with a magnesium malonate compound represented by the following formula: Was not enough. Therefore, the present inventors have studied various methods for obtaining the compound (IV). As a result, the one-pot reaction of reacting the compound (II) with the inorganic salt and the compound (III) in the same system unexpectedly improved the yield. Was found to be effective. That is, compound (II)
In a solution containing, an inorganic salt is added, and then the compound (III)
Is excellent in terms of yield. In this one-pot reaction, the mixing order of the compound (II), the inorganic salt, the base and the compound (III) is not strictly limited, but it is preferable to carry out in the order described above.

【0022】この化合物(II)を用いたワンポット反応
は増炭反応であって、空気中の水分が悪影響を与えるた
め従来法では吸湿しない条件下、例えば窒素ガス、アル
ゴンガスのような不活性ガス雰囲気下で行われている。
しかしながらこのような条件下では、この増炭反応の収
率は一定せず、時として極端な収率低下を生じることが
ある。従って、本発明者らは化合物(IV)の収率を向上
させる方法を種々検討した結果、窒素ガス、アルゴンガ
スのような不活性ガスを通気させることによって発生す
る炭酸ガスを反応系外に除去すると、予想外にもより低
温でより速やかに反応を完結させることができかつ高い
収率が得られることを見いだした。この増炭反応をジク
ロルメタンのような低沸点溶媒を使用して行なうと、反
応を比較的短時間に終了させることも可能である。
The one-pot reaction using this compound (II) is a carbon-enrichment reaction, and the moisture in the air has an adverse effect, so that the conventional method does not absorb moisture under an inert gas such as nitrogen gas or argon gas. It is performed under the atmosphere.
However, under such conditions, the yield of this carbon increase reaction is not constant, and sometimes the yield may extremely decrease. Accordingly, the present inventors have studied various methods for improving the yield of compound (IV) and found that carbon dioxide gas generated by passing an inert gas such as nitrogen gas or argon gas was removed to the outside of the reaction system. Then, it was unexpectedly found that the reaction can be completed more quickly at a lower temperature and a higher yield can be obtained. When the carbon-rich reaction is carried out using a low-boiling solvent such as dichloromethane, the reaction can be completed in a relatively short time.

【0023】つぎに、前記反応で得られる化合物(IV)
とアジド化合物とを反応させ、化合物(V)を得る。こ
の工程において、使用される反応溶媒としては、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭化水素
系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジ
メトキシエタン等のエーテル系溶媒、塩化メチレン、ク
ロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン、1,2
−ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジメ
チルホルムアミド、アセトニトリル等の高非極プロトン
性溶媒等の反応溶媒が使用されるが、特に塩化メチレ
ン、アセトニトリル、テトラヒドロフランが好ましい。
更には反応後の分液精製操作を考えれば、工業的には水
に溶けにくい塩化メチレンが最も好ましい。アジド化合
物としては、トルエンスルホニルアジド、ドデシルベン
ゼンスルホニルアジド、p−カルボキシベンゼンスルホ
ニルアジド、メタンスルホニルアジド等のスルホニルア
ジド類が使用できるが、工業的には、これらの中で最も
安定で、爆発等の危険の少いドデシルベンゼンスルホニ
ルアジド等が好ましい。
Next, the compound (IV) obtained by the above reaction
And azide compound to give compound (V). In this step, the reaction solvent used includes hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene and cyclohexane, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane and 1,2-dimethoxyethane, methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride. , Trichlorethylene, 1,2
Reaction solvents such as halogenated hydrocarbon solvents such as dichloroethane and the like and highly aprotic solvents such as dimethylformamide and acetonitrile are used, and methylene chloride, acetonitrile and tetrahydrofuran are particularly preferable.
Further, considering the separation and purification operation after the reaction, methylene chloride which is hardly soluble in water is most preferable industrially. As the azide compound, sulfonyl azides such as toluenesulfonyl azide, dodecylbenzenesulfonyl azide, p-carboxybenzenesulfonyl azide, and methanesulfonyl azide can be used. Less dangerous dodecylbenzenesulfonyl azide and the like are preferred.

【0024】本反応は塩基の存在下で行うことが好まし
く、そのような塩基としてはトリエチルアミン、ジエチ
ルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン等のC
1-4アルキル基で1ないし3置換されたアミン、ピリジ
ン、4−ジエチルアミノピリジン等のジC1-4アルキル
アミノで置換されていてもよいピリジン等が用いられ、
好ましくはトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピル
エチルアミン等が用いられる。塩基は、化合物(IV)と
アジド化合物とを混和した後に加えるのが好ましい。本
反応における化合物(IV)とアジド化合物との使用割合
(モル比)は1:1〜5、好ましくは1:1〜2であ
る。化合物(IV)と溶媒との使用割合(重量比)は1:
1〜100、好ましくは1:2〜50である。化合物
(IV)と塩基との使用割合(モル比)は1:0.1〜
2、好ましくは1:0.2〜1である。反応時間は0.5
〜24時間、好ましくは、1〜10時間である。反応温
度は−20〜100℃、好ましくは0〜50℃である。
本反応は、水分により悪影響を受けるため、空気中の水
分を吸湿しないように、例えば窒素ガス、アルゴンガス
等の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。通常、こ
のジアゾ化反応終了液には、ジアゾ化合物(V)とスル
ホンアミドが等モル含まれており、ジアゾ化合物(V)
のみを単離精製するために、シリカゲルクロマトグラフ
ィー等が用いられていたが、純度、収率の点で満足でき
るものではない。発明者等はこの点について、鋭意研究
した結果、反応終了後溶媒を適度に濃縮した後、n−ヘ
キサン、n−ペンタン、石油エーテル、トルエン、キシ
レン、イソプロピルエーテル等の溶媒を添加すると、ジ
アゾ化合物(V)のみが高純度の結晶として選択的に得
られることを見いだした。特に反応時の溶媒としてジク
ロルメタンを用いて反応後にn−ヘキサンを添加するの
が、化合物(V)の選択的な製法として最も好ましい。
また、化合物(IV′)とジアゾ化合物とを反応させ、化
合物(VI)を得る工程も前記化合物(IV)とジアゾ化合
物との反応と同様にして実施できる。
This reaction is preferably carried out in the presence of a base, such as triethylamine, diethylamine, C, such as N, N-diisopropylethylamine.
1 1-4 alkyl group to 3-substituted amine, pyridine, 4-di C 1-4 good pyridine optionally substituted with alkyl amino such as diethylamino pyridine or the like is used,
Preferably, triethylamine, N, N-diisopropylethylamine and the like are used. The base is preferably added after mixing the compound (IV) with the azide compound. The ratio (molar ratio) of the compound (IV) to the azide compound in this reaction is from 1: 1 to 5, preferably from 1: 1 to 2. The use ratio (weight ratio) of the compound (IV) and the solvent is 1:
It is 1 to 100, preferably 1: 2 to 50. The use ratio (molar ratio) of the compound (IV) to the base is 1: 0.1 to
2, preferably 1: 0.2-1. Reaction time is 0.5
2424 hours, preferably 1-10 hours. The reaction temperature is -20 to 100C, preferably 0 to 50C.
Since this reaction is adversely affected by moisture, it is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas or argon gas so as not to absorb moisture in the air. Usually, the diazotization reaction completed solution contains equimolar amounts of the diazo compound (V) and the sulfonamide, and the diazo compound (V)
Although silica gel chromatography and the like have been used to isolate and purify only the product, it is not satisfactory in terms of purity and yield. The present inventors have conducted intensive studies on this point, and as a result, after appropriately concentrating the solvent after completion of the reaction, adding a solvent such as n-hexane, n-pentane, petroleum ether, toluene, xylene, or isopropyl ether, the diazo compound Only (V) was found to be selectively obtained as high purity crystals. In particular, it is most preferable to add n-hexane after the reaction using dichloromethane as a solvent at the time of the reaction as a selective production method of the compound (V).
The step of reacting the compound (IV ') with the diazo compound to obtain the compound (VI) can be carried out in the same manner as in the reaction of the compound (IV) with the diazo compound.

【0025】つぎに、化合物(IV)のジアゾ化により得
られる化合物(V)と酸とを反応させて水酸基の保護基
であるR1を脱離させ、化合物(VI)を得る。この加水
分解反応において、使用される酸としては、例えば、ハ
ロゲン化水素酸(塩酸、フッ化水素酸等)、硫酸、リン
酸等の無機酸、酢酸等の有機酸等であり、好ましくは例
えば塩酸等のハロゲン化水素酸等が用いられる。
Next, the compound (V) obtained by diazotizing the compound (IV) is reacted with an acid to remove R 1 which is a protecting group for a hydroxyl group, to obtain a compound (VI). In the hydrolysis reaction, examples of the acid used include inorganic acids such as hydrohalic acid (hydrochloric acid, hydrofluoric acid and the like), sulfuric acid, phosphoric acid and the like, and organic acids such as acetic acid and the like. Hydrohalic acid such as hydrochloric acid is used.

【0026】本加水分解反応は、通常水または水とメタ
ノール、エタノール等の低級アルコール系溶媒、もしく
はテトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒
との混合溶媒を用いて行われ、好ましくは例えばメタノ
ール−水−塩酸の混合溶媒等を用いて行われる。本反応
における化合物(V)と酸との使用割合(モル比)は、
1:0.5〜10、好ましくは1:1〜5である。酸と
溶媒との使用割合(容量比)は1:0.5〜1000、
好ましくは1:5〜100である。例えば、前記したメ
タノール−水−塩酸の3成分系において、塩酸と混合溶
媒の割合(容量比)は、1:1〜100、好ましくは
1:5〜50である。また、メタノールと水との比率
(容量比)は1:0.01〜100、好ましくは1:0.
05〜1:1である。用いる塩酸の濃度は35%(w/
w)である。反応時間は0.5〜20時間、好ましくは
1〜10時間である。反応温度は0〜100℃、好まし
くは0〜40℃である。さらに、化合物(V)を5〜7
0%(w/v)(25℃)、好ましくは30〜50%
(w/v)(25℃)以上溶解する溶媒を添加するのが
よい。ここで添加するのに適した溶媒としては、例えば
塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系
溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等の低級ケトン系
溶媒、またはジメチルホルムアミド、アセトニトリル等
の高非極プロトン性溶媒等が用いられるが、好ましくは
例えば塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒が用
いられる。化合物(V)と化合物(V)を溶解する溶媒と
の割合(重量比)は1:0.1〜30、好ましくは1:
1〜10である。酸もしくはその混合溶媒と化合物
(V)を溶解する溶媒との割合(容量比)は1:0.01
〜10、好ましくは1:0.1〜1である。具体的に
は、例えば塩化メチレン−メタノール−水−塩酸の4成
分系において、化合物(V)が溶解して、2層に分液し
ない混合割合(容量比)である1:0.01〜0.8が好
ましく、より好ましくは1:0.05〜0.5である。通
常、本反応は、化合物(V)が酸もしくは溶媒に溶解し
にくいため、反応に長時間を要し、後の工程で反応を阻
害する分解物を生成する。これらの分解物は、特に閉環
反応工程において使用する高価な貴金属触媒の使用量を
増大させることになる。従って本発明者等は不用な分解
物の生成をおさえる化合物(VI)の製造法を種々検討し
た結果、化合物(VI)を溶解する溶媒を反応系に添加す
れば、均一系で緩和な条件下において反応が進行するこ
とを見いだした。
This hydrolysis reaction is usually carried out using water or a mixed solvent of water and a lower alcohol solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent of ether solvents such as tetrahydrofuran or dioxane, and preferably methanol-water- This is performed using a mixed solvent of hydrochloric acid or the like. The use ratio (molar ratio) of the compound (V) and the acid in this reaction is as follows:
1: 0.5 to 10, preferably 1: 1 to 5. The use ratio (volume ratio) of the acid and the solvent is 1: 0.5 to 1000,
Preferably it is 1: 5-100. For example, in the above-mentioned three-component system of methanol-water-hydrochloric acid, the ratio (volume ratio) of hydrochloric acid and the mixed solvent is 1: 1 to 100, preferably 1: 5 to 50. The ratio (volume ratio) of methanol to water is 1: 0.01 to 100, preferably 1: 0.0.
05 to 1: 1. The concentration of hydrochloric acid used is 35% (w /
w). The reaction time is 0.5 to 20 hours, preferably 1 to 10 hours. The reaction temperature is 0-100 ° C, preferably 0-40 ° C. In addition, compound (V) is
0% (w / v) (25 ° C.), preferably 30 to 50%
It is preferable to add a solvent that dissolves (w / v) (25 ° C.) or more. Examples of suitable solvents to be added here include halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride and chloroform, lower ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, and highly aprotic solvents such as dimethylformamide and acetonitrile. And a halogenated hydrocarbon solvent such as methylene chloride is preferably used. The ratio (weight ratio) of the compound (V) to the solvent in which the compound (V) is dissolved is 1: 0.1 to 30, preferably 1:
1 to 10. The ratio (by volume) of the acid or a mixed solvent thereof to the solvent dissolving the compound (V) is 1: 0.01.
-10, preferably 1: 0.1-1. Specifically, for example, in a four-component system of methylene chloride-methanol-water-hydrochloric acid, the mixing ratio (volume ratio) of the compound (V) that does not dissolve and separate into two layers is 1: 0.01 to 0: 1. 0.8, more preferably 1: 0.05 to 0.5. In general, this reaction requires a long time for the reaction because the compound (V) is hardly dissolved in an acid or a solvent, and generates a decomposition product that inhibits the reaction in a later step. These decomposition products increase the amount of expensive noble metal catalyst used particularly in the ring closure reaction step. Therefore, the present inventors have studied various methods for producing compound (VI) which suppresses generation of unnecessary decomposed products. Was found to proceed.

【0027】得られる(VI)は、常法に従って単離する
こともできるが、反応混合物のまま次の工程の原料とし
て用いるのが有利である。特に、塩化メチレンを使用す
る反応の場合、反応終了液に水を添加すれば2層に分液
し、塩化メチレン層に化合物(VI)が選択的に抽出され
る利点がある。この方法によれば、濃縮乾固、シリカゲ
ルクロマトグラフィーのような複雑な操作を経ることな
く、塩化メチレン溶液のままで次の閉環反応に付すこと
が出来る。また、必要により、本反応後に塩化メチレン
を適度に濃縮留去後、n−ヘキサン、イソプロピルエー
テル等の溶媒を加えることにより、高純度の(VI)結晶
を得ることもできる。また、化合物(IV)と酸とを反応
させ、化合物(IV′)を得る工程も前記化合物(V)と
酸との反応と同様にして実施できる。
The resulting (VI) can be isolated according to a conventional method, but it is advantageous to use the reaction mixture as a raw material in the next step. In particular, in the case of a reaction using methylene chloride, if water is added to the reaction-terminated liquid, there is an advantage that the liquid is separated into two layers and the compound (VI) is selectively extracted into the methylene chloride layer. According to this method, the methylene chloride solution can be subjected to the next ring closing reaction without a complicated operation such as concentration and drying, and silica gel chromatography. If necessary, high-purity (VI) crystals can also be obtained by adding a solvent such as n-hexane or isopropyl ether after appropriately concentrating and evaporating methylene chloride after the reaction. The step of reacting the compound (IV) with an acid to obtain the compound (IV ') can be carried out in the same manner as in the reaction of the compound (V) with the acid.

【0028】つぎに、前記の反応によって得られる化合
物(VI)を閉環反応に付すことにより化合物(VII)を
得ることができる。この反応は、例えばベンゼン、トル
エン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル
等のエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、
1,2−ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水素系溶
媒、 テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系
溶媒等、好ましくはトルエン等の炭化水素系溶媒、塩化
メチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒中で放置してお
くだけでも進行するが、反応を促進させるために通常
は、酢酸ロジウム、ロジウムオクタノエート、酢酸パラ
ジウム、ビス(アセチルアセトナート)Cu(II),Cu
SO4 ,Cu等、好ましくは酢酸ロジウム、ロジウムオ
クタノエート、酢酸パラジウム等の金属触媒の存在下に
実施される。化合物(VI)と触媒との使用割合(モル
比)は0.05〜5モル%、好ましくは0.1〜3モル%
である。反応時間は、通常、0.5〜20時間、好まし
くは1〜5時間である。反応温度は、通常、20〜10
0℃、好ましくは30〜80℃である。本反応は、水分
により悪影響を受けるため、空気中の水分を吸湿しない
ように、例えば窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス
雰囲気下で行うのが好ましい。この反応により得られる
(VII)は、反応混合物のままで次のアシル化反応に付
すことが出来るが、必要により反応溶媒を適度に濃縮留
去し固体として得ることもできる。
Next, compound (VII) can be obtained by subjecting compound (VI) obtained by the above reaction to a ring closure reaction. This reaction is, for example, benzene, toluene, hydrocarbon solvents such as cyclohexane, ester solvents such as ethyl acetate, methylene chloride, chloroform,
Leave it in a halogenated hydrocarbon solvent such as 1,2-dichloroethane, an ether solvent such as tetrahydrofuran or dioxane, preferably a hydrocarbon solvent such as toluene, or a halogenated hydrocarbon solvent such as methylene chloride. However, in order to promote the reaction, usually, rhodium acetate, rhodium octanoate, palladium acetate, bis (acetylacetonate) Cu (II), Cu
It is carried out in the presence of a metal catalyst such as SO 4 , Cu or the like, preferably rhodium acetate, rhodium octanoate, palladium acetate or the like. The use ratio (molar ratio) of the compound (VI) to the catalyst is 0.05 to 5 mol%, preferably 0.1 to 3 mol%.
It is. The reaction time is generally 0.5 to 20 hours, preferably 1 to 5 hours. The reaction temperature is usually 20 to 10
0 ° C, preferably 30 to 80 ° C. Since this reaction is adversely affected by moisture, it is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas or argon gas so as not to absorb moisture in the air. (VII) obtained by this reaction can be subjected to the next acylation reaction as it is in the reaction mixture. However, if necessary, the reaction solvent can be appropriately concentrated and distilled off to obtain a solid.

【0029】そして、前記反応で得られる化合物(VI
I)と式R3OH[式中の記号は前記と同意義を示す]で
表わされる酸またはその反応性誘導体とを反応させ、目
的化合物(VIII)を得る。この工程において、式R3
Hで示される酸またはその反応性誘導体としては、アセ
チルクロリド、プロピオニルクロリド、トルエンスルホ
ニルクロリド、p−ブロモベンゼンスルホニルクロリ
ド、ジフェニルクロロホスフェート、無水酢酸、メタン
スルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水
物、p−トルエンスルホン酸無水物、p−ニトロベンゼ
ンスルホン酸無水物、2,4,6−トリイソプロピルベン
ゼンスルホン酸無水物等が用いられ、特にジフェニルリ
ン酸クロリドが好適である。
The compound (VI) obtained by the above reaction
I) is reacted with an acid represented by the formula R 3 OH, wherein the symbols have the same meanings as described above, or a reactive derivative thereof to obtain the desired compound (VIII). In this step, the formula R 3 O
Examples of the acid represented by H or a reactive derivative thereof include acetyl chloride, propionyl chloride, toluenesulfonyl chloride, p-bromobenzenesulfonyl chloride, diphenylchlorophosphate, acetic anhydride, methanesulfonic anhydride, trifluoromethanesulfonic anhydride, p-Toluenesulfonic anhydride, p-nitrobenzenesulfonic anhydride, 2,4,6-triisopropylbenzenesulfonic anhydride and the like are used, and diphenylphosphoric acid chloride is particularly preferred.

【0030】反応溶媒としては、例えばベンゼン、トル
エン、キシレン、クロルベンゼン、シクロヘキサン等の
炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
1,2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、塩化メ
チレン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレ
ン、1,2−ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水素溶
媒、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル等の高非極
プロトン性溶媒が使用され、好ましくは、例えばテトラ
ヒドロフラン、塩化メチレン、アセトニトリル等が用い
られる。本反応は塩基の存在下に行うのが好ましく、そ
のような塩基としては例えば、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、
トリブチルアミン、トリオクチルアミン、トリアリルア
ミン、ジメチルベンジルアミン、テトラメチル−1,3
−ジアミノプロパン、N−メチルモルホリン、N−メチ
ルピロリジン、N−メチルピペリジン、N,N−ジメチ
ルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウン
デカ−7−エン(DBU),1,5−ジアザビシクロ
[4,3,0]ノナ−5−エン(DBN)等の第3級脂肪
族アミン、ピリジン、4−ジメチル−アミノピリジン、
ピコリン、ルチジン、キノリン、イソキノリン等の芳香
族アミン等が用いられ、好ましくは、例えば、N,N−
ジイソプロピルエチルアミン等のC1-4アルキル基で1
ないし3置換された第3級脂肪族アミン、4−ジメチル
アミノピリジン等のジC1-4アルキルアミノ基で置換さ
れたピリジン等が用いられる。化合物(VII)と酸また
はその反応性誘導体との使用割合(モル比)は1:1〜
5、好ましくは1:1〜3である。化合物(VII)と溶
媒との使用割合(重量比)は1:5〜300、好ましく
は1:10〜100である。化合物(VII)と塩基との
使用割合(モル比)は1:0.5〜5、好ましくは1:
1〜3である。反応時間は10分〜10時間、好ましく
は0.5〜3時間である。反応温度は、−70〜40
℃、好ましくは−40〜10℃である。本反応は、水分
により悪影響を受けるため、空気中の水分を吸湿しない
ように、例えば窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス
雰囲気下で行うのが好ましい。この様にして得られる化
合物(VII)は、常法に従って、例えば濃縮、クロマト
グラフィー等によって単離することができる。特に、ジ
クロルメタンを反応溶媒として使用した場合、反応終了
後水を添加し分液を行えば、ジクロルメタン層に生成物
(VIII)が抽出され、この有機層を適度に濃縮し、n−
ヘキサン等の溶媒を添加すれば、目的物(VIII)の結晶
が得られる。この方法によれば、濃縮乾固、シリカゲル
クロマトグラフィー等の複雑な操作を経ずして、良好な
純度の化合物(VIII)の結晶が得られる。
Examples of the reaction solvent include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, chlorobenzene and cyclohexane, tetrahydrofuran, dioxane, and the like.
Uses ether solvents such as 1,2-dimethoxyethane, halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, trichloroethylene and 1,2-dichloroethane, and highly aprotic solvents such as dimethylformamide and acetonitrile. Preferably, for example, tetrahydrofuran, methylene chloride, acetonitrile and the like are used. This reaction is preferably performed in the presence of a base. Examples of such a base include trimethylamine, triethylamine, N, N-diisopropylethylamine,
Tributylamine, trioctylamine, triallylamine, dimethylbenzylamine, tetramethyl-1,3
-Diaminopropane, N-methylmorpholine, N-methylpyrrolidine, N-methylpiperidine, N, N-dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7-ene (DBU), 1.5 Tertiary aliphatic amines such as -diazabicyclo [4,3,0] non-5-ene (DBN), pyridine, 4-dimethyl-aminopyridine,
Aromatic amines such as picoline, lutidine, quinoline and isoquinoline are used, and preferably, for example, N, N-
A C 1-4 alkyl group such as diisopropylethylamine
Examples thereof include tertiary aliphatic amines substituted with 3 to 3, pyridines substituted with a di C 1-4 alkylamino group such as 4-dimethylaminopyridine, and the like. The use ratio (molar ratio) of the compound (VII) to the acid or its reactive derivative is 1: 1 to 1
5, preferably 1 to 1 to 3. The usage ratio (weight ratio) of the compound (VII) to the solvent is 1: 5 to 300, preferably 1:10 to 100. The use ratio (molar ratio) of the compound (VII) to the base is 1: 0.5 to 5, preferably 1: 5.
1 to 3. The reaction time is 10 minutes to 10 hours, preferably 0.5 to 3 hours. The reaction temperature is -70 to 40
° C, preferably -40 to 10 ° C. Since this reaction is adversely affected by moisture, it is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas or argon gas so as not to absorb moisture in the air. The compound (VII) thus obtained can be isolated according to a conventional method, for example, by concentration, chromatography and the like. In particular, when dichloromethane is used as the reaction solvent, water is added after the reaction is completed, and if liquid separation is performed, the product (VIII) is extracted into the dichloromethane layer, and the organic layer is appropriately concentrated and n-
By adding a solvent such as hexane, a crystal of the desired product (VIII) can be obtained. According to this method, crystals of the compound (VIII) having good purity can be obtained without going through complicated operations such as concentration and drying, and silica gel chromatography.

【0031】かくして、本発明製造法の目的化合物(VI
II)が得られる。該化合物(VIII)は例えば1−メチル
カルバペネム抗生物質の製造の合成中間体として好適に
使用される。例えば、特開昭64−25779には、化
合物(VIII)を用いて、有用な抗菌剤である式
Thus, the desired compound (VI
II) is obtained. The compound (VIII) is suitably used, for example, as a synthetic intermediate for producing 1-methylcarbapenem antibiotics. For example, JP-A-64-25779 discloses a compound (VIII) which is a useful antibacterial agent.

【化41】 または陰イオン電荷を示す]で表される(1R,5S,
6S)−2−置換チオ−6−[(1R)−1−ヒドロキ
シエチル]−1−メチル−カルバペネム−3−カルボン
酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩を得る方法
が記載されている。得られたカルバペネム化合物および
その薬理学的に許容される塩は、種々の病原菌による細
菌感染症の治療、予防等のための抗菌剤として極めて有
用であり、それを抗菌剤として使用するに際して、その
抗菌的有効量を含有する薬剤学的組成物の形で人間をは
じめとする哺乳動物に安全に投与することができる。そ
の投与量は処置すべき患者の年令、体重、症状、薬剤の
投与形態、医師の診断等に応じて広い範囲にわたり変え
ることができるが、一般に、成人に対しては一日当り約
200〜約3,000mgの範囲内の用量が標準的であ
り、通常これを1日1回または数回に分けて経口的、非
経口的または局所的に投与することができる。また、例
えば、特開昭60−104088または特開昭60−2
33076等に記載の有用な抗菌剤であるカルバペネム
化合物も本発明の製造法により得られる化合物(VIII)
を合成中間体として用いて好適に製造できる。以下具体
例を上げて本発明をさらに詳細に説明するが、これらの
具体例によって本発明が限定されるものではない。
Embedded image Or anionic charge]] (1R, 5S,
A method for obtaining a 6S) -2-substituted thio-6-[(1R) -1-hydroxyethyl] -1-methyl-carbapenem-3-carboxylic acid derivative or a pharmaceutically acceptable salt thereof is described. . The obtained carbapenem compounds and pharmacologically acceptable salts thereof are extremely useful as antibacterial agents for treating, preventing, etc. bacterial infections caused by various pathogens. It can be safely administered to mammals, including humans, in the form of a pharmaceutical composition containing an antibacterial effective amount. The dosage may vary over a wide range depending on the age, weight, and condition of the patient to be treated, the form of administration of the drug, the diagnosis of a physician, etc., but generally ranges from about 200 to about A dose in the range of 3,000 mg is standard and can usually be administered orally, parenterally or topically once or several times a day. Further, for example, JP-A-60-104088 or JP-A-60-2
Carbapenem compounds which are useful antibacterial agents described in 33076 etc. are also compounds (VIII) obtained by the production method of the present invention.
Can be suitably used by using as a synthetic intermediate. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples, but the present invention is not limited to these specific examples.

【0032】[0032]

【発明の実施の形態】以下の実施例のNMRスペクトル
は内部基準としてテトラメチルシランを用いてジェミニ
(Gemini)200(200MHz)型スペクトロメーター
で測定し、全δ値を ppm で示した。実施例中の記号は
次のような意味を有する。 s : シングレット d : ダブレット t : トリプレット ABq : AB型クワルテット dd : ダブル ダフレット m : マルチプレット br. : 幅広い J : カップリング定数 sh : ショルダー +>si : t−ブチルジメチルシリル基 PNB : p−ニトロベンジル基 % : 特にことわらない限り重量%を示す
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The NMR spectra of the following examples were measured with a Gemini 200 (200 MHz) type spectrometer using tetramethylsilane as an internal standard, and all δ values are shown in ppm. The symbols in the examples have the following meanings. s: singlet d: doublet t: triplet ABq: AB-type quartet dd: double daflet m: multiplet br .: wide J: coupling constant sh: shoulder +> si: t-butyldimethylsilyl group -PNB benzyl -PNB benzyl Group%: Indicates weight% unless otherwise specified

【0033】[0033]

【実施例】実施例1 (1) (3S,4S)−3−[(R)−1−(t−ブ
チルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−[(R)−
1−イミダゾリル−エチル]−アゼチジン−2−オンの
製造
EXAMPLES Example 1 (1) (3S, 4S) -3-[(R) -1- (t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(R)-
Preparation of 1-imidazolyl-ethyl] -azetidin-2-one

【化42】 2雰囲気下、無水塩化メチレン1182mlにクロロ炭
酸エチル28.65g(0.264モル)を加え−20℃
に冷却した。−20℃でトリエチルアミン26.71g
(0.264モル)を10分間かけて滴下し、その後1
0分間撹拌した。(3S,4S)−3−[(R)−1−
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−
[(R)−1−カルボキシエチル]−アゼチジン−2−
オン72.35g(0.240モル)を加え、−20℃で
30分間反応させた後、イミダゾール22.87g(0.
336モル)を加え、−20℃で30分間反応させ、標
記化合物を含む反応溶液を得た。
Embedded image Under an atmosphere of N 2 , 28.65 g (0.264 mol) of ethyl chlorocarbonate was added to 1182 ml of anhydrous methylene chloride at -20 ° C.
And cooled. 26.71 g of triethylamine at -20 ° C
(0.264 mol) was added dropwise over 10 minutes.
Stirred for 0 minutes. (3S, 4S) -3-[(R) -1-
(T-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-
[(R) -1-carboxyethyl] -azetidine-2-
After adding 72.35 g (0.240 mol) of ON and reacting at -20 ° C for 30 minutes, 22.87 g of imidazole (0.20 mol) was added.
336 mol) and reacted at -20 ° C for 30 minutes to obtain a reaction solution containing the title compound.

【0034】(2) (3S,4R)−3−[(R)−
1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4
−[(R)−1−メチル−3−p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル−2−オキソ−プロピル]−アゼチジン−
2−オンの製造
(2) (3S, 4R) -3-[(R)-
1- (t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4
-[(R) -1-methyl-3-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-oxo-propyl] -azetidine-
Production of 2-one

【化43】 前記(1)で得られた反応溶液に無水塩化マグネシウム
22.85g(0.240モル)を加え、−20℃で10
分間撹拌した後、トリエチルアミン48.57g(0.4
80モル)を10分間で滴下し、−20℃で10分間撹
拌した。モノ−p−ニトロベンジルマロネート97.5
9g(0.408モル)を加え、加熱還流しN2 を0.6
l/分で通気しながら2時間反応させた。塩化メチレン
を減圧下で濃縮留去し、1N HCl 762mlを加え洗
浄・分液した。有機層を水318ml,3% NaHCO3
水720ml、5% NaCl 水300mlで順次洗浄・分液
した。塩化メチレンを減圧下で濃縮留去し、標記化合物
110.31gを含む塩化メチレン溶液を得た。(収率
96.0%) 尚、標記化合物は、上記溶液を濃縮乾固後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー(CHCl3:アセトン=7:
1)により分離・精製され、白色結晶として得た。 NMR(δ,CDCl3):0.06(6H,s),0.87(9H,s), 1.1
6(3H,d), 1.20(3H,d),3.63(2H,s), 5.27(2H,s), 5.92(1
H,bs),7.56,8.24(4H,aromatic protons)
Embedded image 22.85 g (0.240 mol) of anhydrous magnesium chloride was added to the reaction solution obtained in the above (1), and
After stirring for 48 minutes, 48.57 g of triethylamine (0.4
(80 mol) was added dropwise over 10 minutes and stirred at -20 ° C for 10 minutes. Mono-p-nitrobenzylmalonate 97.5
9 g (0.408 mol) was added, and the mixture was heated under reflux to remove N 2 to 0.6.
The reaction was carried out for 2 hours with aeration at 1 / min. The methylene chloride was concentrated and distilled off under reduced pressure, and 762 ml of 1N HCl was added to wash and separate. The organic layer was washed with 318 ml of water, 3% NaHCO 3
The mixture was washed and separated sequentially with 720 ml of water and 300 ml of 5% NaCl water. The methylene chloride was concentrated and distilled off under reduced pressure to obtain a methylene chloride solution containing 110.31 g of the title compound. (Yield: 96.0%) The title compound was obtained by concentrating the above solution to dryness and subjecting it to silica gel column chromatography (CHCl 3 : acetone = 7:
It was separated and purified according to 1) to obtain white crystals. NMR (δ, CDCl 3 ): 0.06 (6H, s), 0.87 (9H, s), 1.1
6 (3H, d), 1.20 (3H, d), 3.63 (2H, s), 5.27 (2H, s), 5.92 (1
H, bs), 7.56,8.24 (4H, aromatic protons)

【0035】(3) (3S,4R)−3−[(R)−
1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4
−[(R)−1−メチル−3−ジアゾ−3−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−2−オキソ−プロピル]−
アゼチジン−2−オンの製造
(3) (3S, 4R) -3-[(R)-
1- (t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4
-[(R) -1-methyl-3-diazo-3-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-oxo-propyl]-
Production of azetidin-2-one

【化44】 ドデシルベンゼンスルホニルアジド105.33g(0.
300モル)を無水塩化メチレン200mlに溶解し、N
2雰囲気下、前記(2)で得た(3S,4R)−3−
[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エ
チル]−4−[(R)−1−メチル−3−p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル−2−オキソ−プロピル]−ア
ゼチジン−2−オン(0.231モル)の塩化メチレン
溶液620mlに添加した。25℃でトリエチルアミン
6.97g(0.069モル)を10分間で滴下し、2時
間反応させた。塩化メチレンを減圧下で濃縮留去し、n
−ヘキサン1740mlを滴下し晶出させた。晶出液を減
圧下で濃縮した後、濾取・乾燥して標記化合物101.
68gを含む純度99.2%の白色結晶102.50gを
得た。(収率87.4%)
Embedded image 105.33 g of dodecylbenzenesulfonyl azide (0.1
300 mol) in 200 ml of anhydrous methylene chloride
(3S, 4R) -3- obtained in the above (2) under 2 atmospheres
[(R) -1- (t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(R) -1-methyl-3-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-oxo-propyl] -azetidin-2-one (0.231 mol) in 620 ml of a methylene chloride solution. At 25 ° C., 6.97 g (0.069 mol) of triethylamine was added dropwise over 10 minutes and reacted for 2 hours. The methylene chloride is concentrated and distilled off under reduced pressure.
1740 ml of hexane was added dropwise to cause crystallization. The crystallized solution was concentrated under reduced pressure, collected by filtration and dried to give the title compound 101.
102.50 g of 99.2% pure white crystals containing 68 g were obtained. (Yield 87.4%)

【0036】(4) (3S,4R)−3−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−[(R)−1−メチル−
3−ジアゾ−3−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−2−オキソ−プロピル]−アゼチジン−2−オンの製
(4) (3S, 4R) -3-[(R)-
1-hydroxyethyl] -4-[(R) -1-methyl-
Preparation of 3-diazo-3-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-oxo-propyl] -azetidin-2-one

【化45】 前記(3)で得た(3S,4R)−3−[(R)−1−
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−
[(R)−1−メチル−3−ジアゾ−3−p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル−2−オキソ−プロピル]−ア
ゼチジン−2−オン75.69g(0.150モル)を塩
化メチレン227mlに溶解し、メタノール454ml、水
76mlを添加した。25℃で濃塩酸45.57gを10
分間で滴下し、3時間反応させた。6.5% NaHCO
3 水溶液757mlを10分間で滴下し、塩化メチレン5
30mlを加え、抽出・分液した。有機層を15% NaC
l水溶液530ml、水265mlで順次、洗浄・分液し
た。塩化メチレンを減圧下で濃縮留去し、標記化合物5
7.38gを含む塩化メチレン溶液を得た。(収率98.
0%) IR(cm-1,CHCl3):2150, 1750, 1720,1650 NMR(δ,CDCl3):1.23(3H,d),1.
30(3H,d), 2.92(1H,m), 3.5
0〜4.30(3H,m), 5.38(2H,s),
6.40(1H,bs), 7.57 及び 8.30(4
H,aromaticprotons)
Embedded image (3S, 4R) -3-[(R) -1- obtained in the above (3).
(T-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-
75.69 g (0.150 mol) of [(R) -1-methyl-3-diazo-3-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-oxo-propyl] -azetidin-2-one was dissolved in 227 ml of methylene chloride. , 454 ml of methanol and 76 ml of water. At 25 ° C, 45.57 g of concentrated hydrochloric acid was added to 10
Minutes, and reacted for 3 hours. 6.5% NaHCO
3 solution 757ml were added dropwise over 10 minutes, methylene chloride 5
30 ml was added, and the mixture was extracted and separated. Organic layer 15% NaC
The mixture was washed and separated sequentially with 530 ml of an aqueous solution and 265 ml of water. The methylene chloride was concentrated and distilled off under reduced pressure to give the title compound 5
A methylene chloride solution containing 7.38 g was obtained. (Yield 98.
0%) IR (cm -1 , CHCl 3 ): 2150, 1750, 1720, 1650 NMR (δ, CDCl 3 ): 1.23 (3H, d);
30 (3H, d), 2.92 (1H, m), 3.5
0 to 4.30 (3H, m), 5.38 (2H, s),
6.40 (1H, bs), 7.57 and 8.30 (4
H, aromaticprotons)

【0037】(5) (1R,3R,5R,6S)−6
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−2−オキソ−1
−メチル−3−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−
カルバペネムの製造
(5) (1R, 3R, 5R, 6S) -6
-[(R) -1-hydroxyethyl] -2-oxo-1
-Methyl-3-p-nitrobenzyloxycarbonyl-
Production of carbapenem

【化46】 2雰囲気下、前記(4)で得た(3S,4R)−3−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−[(R)−1
−メチル−3−ジアゾ−3−p−ニトロベンジルオキシ
カルボニル−2−オキソ−プロピル]−アゼチジン−2
−オン(0.147モル)の塩化メチレン溶液610ml
に、無水塩化メチレン757mlを加え、40℃に加熱・
還流した。ロジウムオクタノエート340mg(0.00
3モル)を無水塩化メチレン57mlに懸濁し、40℃で
還流下滴下した後、4時間反応させた。反応液を−15
℃に冷却し、標記化合物の塩化メチレン溶液1430ml
を得た。 IR(cm-1,CHCl3):2950, 2925, 1760,1730 NMR(δ,CDCl3):1.22(3H,d,J=
8.0Hz),1.37(3H,d,J=6.0H
z), 2.40(1H,bs), 2.83(1H,
q,J=8.0Hz), 3.28(1H,dd),
4.00〜4.50(2H,m), 4.75(1H,
s), 5.28及び 5.39(2H,ABq,J=12Hz), 7.58 及
び 8.24(4H,aromatic protons)
Embedded image (3S, 4R) -3- obtained in the above (4) under N 2 atmosphere
[(R) -1-hydroxyethyl] -4-[(R) -1
-Methyl-3-diazo-3-p-nitrobenzyloxycarbonyl-2-oxo-propyl] -azetidine-2
610 ml of a methylene chloride solution of -one (0.147 mol)
, Add 757 ml of anhydrous methylene chloride and heat to 40 ° C.
Refluxed. Rhodium octanoate 340 mg (0.00
(3 mol) was suspended in 57 ml of anhydrous methylene chloride, added dropwise at 40 ° C. under reflux, and reacted for 4 hours. The reaction solution was -15
Cooled to 14 ° C. and 1430 ml of a methylene chloride solution of the title compound.
I got IR (cm -1 , CHCl 3 ): 2950, 2925, 1760, 1730 NMR (δ, CDCl 3 ): 1.22 (3H, d, J =
8.0Hz), 1.37 (3H, d, J = 6.0H)
z), 2.40 (1H, bs), 2.83 (1H,
q, J = 8.0 Hz), 3.28 (1H, dd),
4.00 to 4.50 (2H, m), 4.75 (1H,
s), 5.28 and 5.39 (2H, ABq, J = 12 Hz), 7.58 and 8.24 (4H, aromatic protons)

【0038】(6) (1R,5R,6S)−p−ニト
ロベンジル−2−ジフェニルホスホリルオキシ−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カル
バペネム−3−カルボキシレートの製造
(6) (1R, 5R, 6S) -p-nitrobenzyl-2-diphenylphosphoryloxy-6-
Production of [(R) -1-hydroxyethyl] -1-methyl-carbapenem-3-carboxylate

【化47】 前記(5)で得られた溶液1430mlに、N2 雰囲気
下−15℃でジフェニルクロロホスフェート43.44
g(0.162モル)を加えた。ジイソプロピルエチル
アミン25.08g(0.194モル),4−ジメチルア
ミノピリジン360mg(0.003モル)を無水塩化メ
チレン287mlに溶解し、−15℃,30分間で滴下し
30分間反応した。10℃以下に保ちながら0.3N H
Cl 574ml,5% NaHCO3 水溶液574mlで順
次、洗浄・分液した。塩化メチレンを減圧下で濃縮留去
し、n−ヘキサン402mlを滴下し晶出させた。結晶を
濾取・乾燥し、標記化合物75.16gを得た。(収率
86.0%) NMR(δ,CDCl3):1.24(3H,d),1.
34(3H,d), 3.30(1H,q), 3.5
2(1H,m),4.10〜4.40(2H,m),
5.20 及び 5.35(2H,q),7.29(10H,m), 7.58 及び
8.18(4H,d)
Embedded image In 1430 ml of the solution obtained in the above (5), diphenylchlorophosphate 43.44 was added at −15 ° C. under N 2 atmosphere.
g (0.162 mol) was added. 25.08 g (0.194 mol) of diisopropylethylamine and 360 mg (0.003 mol) of 4-dimethylaminopyridine were dissolved in 287 ml of anhydrous methylene chloride, and the mixture was added dropwise at -15 ° C for 30 minutes and reacted for 30 minutes. 0.3NH while keeping the temperature below 10 ° C
The mixture was washed and separated successively with 574 ml of Cl and 574 ml of a 5% aqueous NaHCO 3 solution. The methylene chloride was concentrated and distilled off under reduced pressure, and 402 ml of n-hexane was dropped to crystallize. The crystals were collected by filtration and dried to give 75.16 g of the title compound. (86.0% yield) NMR (δ, CDCl 3 ): 1.24 (3H, d), 1.
34 (3H, d), 3.30 (1H, q), 3.5
2 (1H, m), 4.10 to 4.40 (2H, m),
5.20 and 5.35 (2H, q), 7.29 (10H, m), 7.58 and
8.18 (4H, d)

【0039】実施例2 (3S,4R)−3−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−4−[(R)−1−メチル−3−ジアゾ−3−p
−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−オキソ−プロ
ピル]−アゼチジン−2−オンの製造 実施例1の(4)と同様にして得られた溶液600mlを、
減圧下で濃縮した後、n−ヘキサン1135mlを滴下し
晶出させた。晶出液を減圧下で濃縮した後、濾取・乾燥
して、標記化合物51.53gを含む純度96.0%の白
色結晶53.68gを得た。(収率88.0%)
Example 2 (3S, 4R) -3-[(R) -1-hydroxyethyl] -4-[(R) -1-methyl-3-diazo-3-p
Preparation of -nitrobenzyloxycarbonyl-2-oxo-propyl] -azetidin-2-one 600 ml of the solution obtained in the same manner as in Example 1, (4),
After concentration under reduced pressure, 1135 ml of n-hexane was added dropwise to crystallize. The crystallization solution was concentrated under reduced pressure, filtered and dried to obtain 53.68 g of 96.0% pure white crystals containing 51.53 g of the title compound. (88.0% yield)

【0040】実施例3 (1R,3R,5R,6S)−6−[(R)−1−ヒド
ロキシエチル]−2−オキソ−1−メチル−3−p−ニ
トロベンジルカルボニル−カルバペネムの製造 実施例1の(5)と同様にして得られた標記化合物の塩化
メチレン溶液1450mlを減圧下で濃縮し純度93.0
%の標記化合物80.34gを得た。(収率85.5%)
Example 3 Preparation of (1R, 3R, 5R, 6S) -6-[(R) -1-hydroxyethyl] -2-oxo-1-methyl-3-p-nitrobenzylcarbonyl-carbapenem 1450 ml of a methylene chloride solution of the title compound obtained in the same manner as in 1 (5) was concentrated under reduced pressure to a purity of 93.0.
80.34 g of the title compound are obtained. (Yield 85.5%)

【0041】参考例1 (3S,4R)−3−[(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル]−4−[(R)−1−メチ
ル−3−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−オ
キソ−プロピル]−アゼチジン−2−オンの製造 無水塩化マグネシウム、トリエチルアミンおよびモノ−
p−ニトロベンジルマロネートを加える代りにマグネシ
ウム[モノ−p−ニトロベンジルマロネート](0.4
08モル)を用いる以外は実施例1の(2)と同様にし
て、合成し80%の収率で標記化合物を得た。
Reference Example 1 (3S, 4R) -3-[(R) -1- (t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(R) -1-methyl-3-p-nitrobenzyloxy Preparation of carbonyl-2-oxo-propyl] -azetidin-2-one Anhydrous magnesium chloride, triethylamine and mono-
Instead of adding p-nitrobenzyl malonate, magnesium [mono-p-nitrobenzyl malonate] (0.4
(08 mol) in the same manner as in Example 1, (2) except that the title compound was obtained in a yield of 80%.

【0042】参考例2 (3S,4R)−3−[(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル]−4−[(R)−1−メチ
ル−3−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−オ
キソ−プロピル]−アゼチジン−2−オンの製造 N2ガスを通気しない以外は、実施例1の(2)と同様に
して、N2雰囲気下で反応し、83%の収率で標記化合
物を得た。
Reference Example 2 (3S, 4R) -3-[(R) -1- (t-butyldimethylsilyloxy) ethyl] -4-[(R) -1-methyl-3-p-nitrobenzyloxy Production of carbonyl-2-oxo-propyl] -azetidin-2-one The reaction was carried out under N 2 atmosphere in the same manner as in (2) of Example 1 except that N 2 gas was not passed, and the yield was 83%. Afforded the title compound.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明の製造法は、細菌感染症治療剤と
して有用なカルバペネム化合物の製造に好適に用いるこ
とのできる中間体を工業的に有用に製造する方法を提供
する。
Industrial Applicability The production method of the present invention provides a method for industrially usefully producing an intermediate which can be suitably used for producing a carbapenem compound useful as a therapeutic agent for bacterial infection.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西村 修一 山口県光市室積大町27−7 (72)発明者 畑野 俊光 北海道函館市富岡町2−12−19 (72)発明者 熊谷 年夫 埼玉県川越市小仙波町3−15−37 (72)発明者 清水 壽 埼玉県新座市野火止5−17−2 クリエー ル志木407号 Fターム(参考) 4C050 KA08 KB05 KB13 KB16 KC03 4H039 CA60 CA62 CD30 CE20 4H050 AA02 BA51 BB11 BB12 BB21 BB25 BB61 BC10 BC19 BC31 BC35 WA15 WA23  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Shuichi Nishimura 27-7 Murozumi-Omachi, Hikari-shi, Yamaguchi (72) Inventor Toshimitsu Hatano 2-12-19, Tomiokacho, Hakodate-shi, Hokkaido (72) Inventor Toshio Kumagai Saitama 3-15-37, Kosenba-cho, Kawagoe-shi (72) Inventor, Hisashi Shimizu 5-17-2, Nobeki, Niiza-shi, Saitama 407, Fukui Term No. 407 F-term (Reference) 4C050 KA08 KB05 KB13 KB16 KC03 4H039 CA60 CA62 CD30 CE20 4H050 AA02 BA51 BB11 BB12 BB21 BB25 BB61 BC10 BC19 BC31 BC35 WA15 WA23

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】式 【化1】 [式中、R1は水酸基の保護基を示す]で表される化合
物と無機塩と式 R2OOCCH2COOH (III) [式中、R2はカルボキシル基の保護基を示す]で表さ
れる化合物とを反応させ、得られる式 【化2】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
とアジド化合物とを反応させ、得られる式 【化3】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と酸とを反応させ、得られる式 【化4】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
を閉環反応に付し、得られる式 【化5】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と式 R3OH [式中、R3はアシル基を示す]で表される酸またはそ
の反応性誘導体とを反応させることを特徴とする、式 【化6】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
の製造法。
(1) Formula (1) [Wherein R 1 represents a hydroxyl-protecting group], an inorganic salt, and a compound represented by the formula R 2 OOCCH 2 COOH (III) wherein R 2 represents a carboxyl-protecting group. To give a compound of the formula [The symbols in the formula are as defined above] and an azide compound are reacted with each other to obtain a compound represented by the following formula: [The symbols in the formula are as defined above] and an acid are reacted with the compound represented by the following formula: [The symbols in the formula are as defined above], and the compound represented by the formula is obtained by subjecting the compound to a ring closure reaction. Reacting a compound represented by the formula [wherein the symbols are as defined above] with an acid represented by the formula R 3 OH [wherein R 3 represents an acyl group] or a reactive derivative thereof. A formula characterized by the following: [The symbols in the formula are as defined above].
【請求項2】式 【化7】 [式中、R1は水酸基の保護基を示す]で表される化合
物と無機塩と式 R2OOCCH2COOH (III) [式中、R2はカルボキシル基の保護基を示す]で表さ
れる化合物とを反応させ、得られる式 【化8】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と酸とを反応させ、得られる式 【化9】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
とアジド化合物とを反応させ、得られる式 【化10】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
を閉環反応に付し、得られる式 【化11】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と式 R3OH [式中、R3はアシル基を示す]で表される酸またはそ
の反応性誘導体とを反応させることを特徴とする、式 【化12】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
の製造法。
2. A compound represented by the formula: [Wherein R 1 represents a hydroxyl-protecting group], an inorganic salt, and a compound represented by the formula R 2 OOCCH 2 COOH (III) wherein R 2 represents a carboxyl-protecting group. And reacting the compound with a compound represented by the following formula: [The symbols in the formula are as defined above] and an acid are reacted with the compound represented by the formula: [The symbols in the formula are as defined above] and an azide compound are reacted to obtain a compound represented by the following formula: [The symbols in the formula are as defined above], and the compound represented by the formula is obtained by subjecting the compound to a ring closure reaction. Reacting a compound represented by the formula [wherein the symbols are as defined above] with an acid represented by the formula R 3 OH [wherein R 3 represents an acyl group] or a reactive derivative thereof. A formula characterized by the following: [The symbols in the formula are as defined above].
【請求項3】式 【化13】 [式中、R1は水酸基の保護基を示す]で表される化合
物またはその塩と(i)N,N′−カルボニルジイミダゾ
ールとを反応させるか、または(ii)塩基の存在下にハ
ロゲン化炭酸エステルとイミダゾールとを反応させ、得
られる式 【化14】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と無機塩と式 R2OOCCH2COOH (III) [式中、R2はカルボキシル基の保護基を示す]で表さ
れる化合物とを反応させ、得られる式 【化15】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
とアジド化合物とを反応させ、得られる式 【化16】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と酸とを反応させ、得られる式 【化17】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
を閉環反応に付すことを特徴とする式 【化18】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
の製造法。
3. A compound of the formula Wherein R 1 represents a hydroxyl-protecting group or a salt thereof and (i) N, N'-carbonyldiimidazole, or (ii) a halogen in the presence of a base. Reaction of imidated carbonate with imidazole gives the formula [The symbols in the formula are as defined above], an inorganic salt, and a compound represented by the formula: R 2 OOCCH 2 COOH (III) [wherein, R 2 represents a carboxyl-protecting group] A compound of the formula [The symbols in the formula are as defined above] and an azide compound are reacted with each other to obtain a compound represented by the following formula: [The symbols in the formula are as defined above] and an acid are reacted with the compound represented by the formula: Wherein the compound represented by the formula is subjected to a ring closure reaction. [The symbols in the formula are as defined above].
【請求項4】式 【化19】 [式中、R1は水酸基の保護基を示す]で表される化合
物またはその塩と(i)N,N′−カルボニルジイミダゾ
ールとを反応させるか、または(ii)塩基の存在下にハ
ロゲン化炭酸エステルとイミダゾールとを反応させ、得
られる式 【化20】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と無機塩と式 R2OOCCH2COOH (III) [式中、R2はカルボキシル基の保護基を示す]で表さ
れる化合物とを反応させ、得られる式 【化21】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
と酸とを反応させ、得られる式 【化22】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
とアジド化合物とを反応させ、得られる式 【化23】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
を閉環反応に付すことを特徴とする式 【化24】 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表される化合物
の製造法。
4. A compound of the formula Wherein R 1 represents a hydroxyl-protecting group or a salt thereof and (i) N, N'-carbonyldiimidazole, or (ii) a halogen in the presence of a base. Reaction of imidated carbonate with imidazole gives the formula [The symbols in the formula are as defined above], an inorganic salt, and a compound represented by the formula: R 2 OOCCH 2 COOH (III) [wherein, R 2 represents a carboxyl-protecting group] Reacting with a compound to obtain a compound of the formula [The symbols in the formula are as defined above] and an acid are reacted with the compound represented by the following formula: [The symbols in the formula are as defined above] and an azide compound are reacted with each other to obtain a compound represented by the following formula: Wherein the compound represented by the formula is subjected to a ring closure reaction. [The symbols in the formula are as defined above].
【請求項5】各反応における溶媒としてハロゲン化炭化
水素を用いることを特徴とする請求項1ないし4記載の
製造法。
5. The process according to claim 1, wherein a halogenated hydrocarbon is used as a solvent in each reaction.
【請求項6】化合物(I)より化合物(IV)を得る各反
応または化合物(II)より化合物(IV)を得る反応を炭
酸ガスを除去しながら行うことを特徴とする請求項1な
いし4記載の製造法。
6. The method according to claim 1, wherein each reaction for obtaining the compound (IV) from the compound (I) or the reaction for obtaining the compound (IV) from the compound (II) is carried out while removing carbon dioxide gas. Manufacturing method.
【請求項7】化合物(IV)とジアゾ化合物との反応混合
物にn−ヘキサン、n−ペンタン、石油エーテル、トル
エン、キシレンまたはイソプロピルエーテルを添加して
化合物(V)を分離することを特徴とする請求項1また
は3記載の製造法。
7. The compound (V) is separated by adding n-hexane, n-pentane, petroleum ether, toluene, xylene or isopropyl ether to a reaction mixture of the compound (IV) and the diazo compound. The method according to claim 1.
【請求項8】化合物(V)と酸との反応をジクロルメタ
ン、クロロホルム、アセトニトリルまたはアセトンと低
級アルコール、テトラヒドロフランまたはジオキサンと
の混合溶媒中で行うことを特徴とする請求項1または3
記載の製造法。
8. The method according to claim 1, wherein the reaction between the compound (V) and the acid is carried out in a mixed solvent of dichloromethane, chloroform, acetonitrile or acetone and a lower alcohol, tetrahydrofuran or dioxane.
The manufacturing method described.
【請求項9】化合物(IV)と酸との反応をジクロルメタ
ン、クロロホルム、アセトニトリルまたはアセトンと低
級アルコール、テトラヒドロフランまたはジオキサンと
の混合溶媒中で行うことを特徴とする請求項2または4
記載の製造法。
9. The method according to claim 2, wherein the reaction between the compound (IV) and the acid is carried out in a mixed solvent of dichloromethane, chloroform, acetonitrile or acetone and a lower alcohol, tetrahydrofuran or dioxane.
The manufacturing method described.
【請求項10】ハロゲン化炭化水素がジクロルメタンで
ある請求項5記載の製造法。
10. The method according to claim 5, wherein the halogenated hydrocarbon is dichloromethane.
【請求項11】無機塩がアルカリ土類金属ハロゲン化物
である請求項1ないし4記載の製造法。
11. The method according to claim 1, wherein the inorganic salt is an alkaline earth metal halide.
【請求項12】アルカリ土類金属ハロゲン化物がマグネ
シウムハロゲン化物である請求項11記載の製造法。
12. The method according to claim 11, wherein the alkaline earth metal halide is a magnesium halide.
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