JP3479185B2 - Grain processing method for molds for forming grain products - Google Patents
Grain processing method for molds for forming grain productsInfo
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/38—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the material or the manufacturing process
- B29C33/3842—Manufacturing moulds, e.g. shaping the mould surface by machining
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、製品表面に微細な
凹凸、所謂シボ形状を有するプラスチック或いはゴム製
品を成形するための金型のシボ加工法に関する。
【0002】
【従来の技術】プラスチックおよびゴム成形品には、近
年デザインの多様性がもとめられており、微妙で複雑な
模様や落ち着いた質感を出すために艶消し仕上げをする
等の要求が高くなっている。これらの要求に応える手法
が、シボ加工と呼ばれる加工を金型上に施す技術であ
る。そして、そのようなシボ加工を施した金型をシボ加
工金型と呼び、またシボ加工金型で成形された製品面に
シボ形状を有する製品をシボ製品と呼んでいる。
【0003】金型に対するシボ加工は、写真製版技術に
より形成したレジストフィルムで金型表面を覆い、次い
でエッチングを施したり、あるいは更にサンドブラスト
のような機械的手法を加えることによって金型内の成形
品表面に該当する部分に付加価値の高い模様を形成して
いる。このように形成した模様のことをシボ模様と呼
び、金型にシボ模様を与えるために模様を食刻すること
をシボ加工と呼んでいる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】図3のフローは、一般
的なプラスチック製品の成形用金型のシボ加工方法であ
って、この方法の場合には、金型1の表面にレジストフ
ィルム2を貼り合わせ、更にこの上にシボパターンフィ
ルム3を貼り合わせたのち(ステップ1)、ステップ2
において露光・現像・焼付を行い、次にステップ3にお
いて不要部分のフィルムを除去しマスキングを行い、次
にステップ4でエッチングを行い、これを数回繰り返し
てエッチングを完了し(ステップ5)、次にステップ6
においてブラストを行ってシボ加工を完了するものであ
る。
【0005】しかし、上記エッチング処理のみでは、金
型1のエッチング面には腐食による微細な凹凸1aが存
在するため、得られる成形品面にもこの微細な凹凸が転
写され、これが爪等の接触により傷つきやすい、つまり
製品として耐傷性が弱いという難がある。
【0006】この問題点の解決策として、一般には、エ
ッチング完了後にビーズ状のガラス等を用いたブラスト
処理(ステップ6)により、微細な凹凸1aを潰してエ
ッチング面をある程度滑らかにする方法が取られている
(ステップ6)。
【0007】他方、近年はデザインの多様性から、従来
のシボ模様のように均質な意匠とは異なる光沢部と非光
沢部の組合わせになる優れた意匠性を有するシボ模様も
考案されている。このようなシボ製品を得るための金型
のシボ加工ステップを図4に示す。
【0008】この図4において、ステップ1〜4までは
上記図3の加工例と同一で行い、最終段階ではステップ
5に示すように、金型1の表面からレジストフィルム2
を除去してシボ加工を完了するものである。このように
すると、レジストフィルム2を除去した部分2aが平滑
となり、ここに該当する成形品側のシボ凹部は光沢を呈
するようになる。
【0009】図5は、上記図4の加工法を用いて製作さ
れた金型と成形品を示すものであって、このシボ加工金
型4において、レジストフィルムで保護されてエッチン
グされず鏡面状態を保持する金型シボ凸部6bを転写し
たシボ製品5の製品シボ凹部7bは、光沢を有する。一
方、シボ加工金型4表面をエッチングして生じた金型シ
ボ凹部6aは表面に腐食による微細凹凸6a′を有し、
これを転写したシボ製品5の製品シボ凸部7a表面にも
微細凹凸7a′がある。この微細凹凸7a′が光を乱反
射し、非光沢部として前述の光沢部とコントラストを形
成することにより、製品のシボによる意匠性を高めるも
のである。但し、この製品シボ凸部7aの微細凹凸7
a′は、爪等の接触により傷つきやすく、シボ模様の外
観を損ね、製品価値を低下させる難点があった。
【0010】上述のように、一般的にはビーズ状のガラ
ス等を用いたブラストにより耐傷性向上を図るが、光沢
部と非光沢部のコントラストを有するシボ加工の場合に
は、レジストフィルム2を剥離後にビーズ状のガラス等
を用いたブラストを施すと、エッチングされた金型シボ
凹部6aのみならず、金型レジストフィルム2で保護さ
れていた鏡面状態の金型シボ凸部6bにもブラスト打痕
跡が印され、製品の光沢部と非光沢部のコントラストが
損なわれるという欠点があった。
【0011】そこで、レジストフィルム2を有した状態
で金型シボ凸部6bを保護してブラストすることも可能
ではあるが、金型シボ凸部6bが鏡面状態であり、レジ
ストフィルム2の密着性が弱いために剥離し易く、金型
シボ凸部6bの鏡面部分にブラスト打痕跡が印され、や
はり製品の光沢部と非光沢部のコントラストが損なわれ
る。
【0012】 従って、本発明の目的は、光沢部と非光
沢部のコントラストを有するシボ製品を得るための金型
のシボ加工の場合において、光沢部と非光沢部のコント
ラストを有したままで製品面の耐傷性を改善する技術を
開発することである。より具体的には、従来のシボ加工
金型に比較し、光沢部と非光沢部のコントラストによる
意匠性および耐傷性のいずれにも優れたシボ製品を成形
可能な射出成形用金型のシボ加工法を提供することであ
る。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、金型の表
面状態と成形品に関して鋭意研究した結果、光沢部と非
光沢部のコントラストを有するシボ製品の射出成形用金
型に関し、予め金型表面をアランダム等によるブラスト
処理で非光沢処理を施しておき、金型上に写真製版技術
によりレジストフィルムを形成して金型表面を覆い、次
いでエッチングを施した後、レジストフィルムを除去し
ないままガラス等のビーズをブラストしてエッチング部
のみアルミナランダムおよびエッチングによる微細凹凸
跡を潰して滑らかな光沢部とし、併せて耐傷性を改善す
ることで、光沢部と非光沢部のコントラストによる意匠
性および耐傷性のいずれにも優れたシボ製品を成形可能
な射出成形用シボ加工金型を完成した。この金型を使用
すると、ガラスビーズブラストにより形成された表面の
滑らかな金型シボ凹部およびアランダムにより形成され
た粗い金型シボ凸部を有することから、従来の金型で得
られるシボ製品の凹凸部の光沢部と非光沢部に対して光
沢部と非光沢部が反転し、これによりコントラストが高
まり、以て意匠性と耐傷性に優れたシボ製品の成形が可
能である。
【0014】
【発明の実施の形態】次に本発明における金型表面のシ
ボ加工方法とこの加工方法により得られる金型の実施形
態を図1及び図2に基づいて説明する。先ず、シボ加工
ステップを図1に基づいて説明する。ステップ1は、金
型1の表面に、エッチングのためのシボパターンをレジ
ストフィルムで形成する前に、予め金型1の表面全体を
アルミナランダム等をブラストして表面に微細な凹凸1
bを形成し、粗しておく。この金型表面に形成された微
細な凹凸1bは、本金型1を用いてシボ製品を成形する
際に製品表面に転写され、光を乱反射して非光沢部を形
成する。
【0015】次いで、従来法と同じく写真製版技術によ
り、金型表面に希望するシボパターンを形成するための
レジストフィルム2とシボパターンフィルム3を形成す
る(ステップ2)。この際、本法においては予めブラス
トにより金型表面が粗してあるため、金型面とレジスト
フィルム2の密着が良好であることからエッチング時の
レジスト剥離が少なく、エッチングパターンの乱れが少
ないのみならず、後述するエッチング部のガラスビーズ
によるブラスト処理時にも、剥離しにくいためにブラス
ト処理空気圧力を高く設定でき、ブラストによるエッチ
ング部の微細凹凸潰しに十分な効果を得ることができ
る。
【0016】次に、マスキングを行い(ステップ4)、
次にエッチングを行い(ステップ5)、このエッチング
後、レジストフィルム2を残したままでエッチング部を
ガラス等のビーズによりブラストし、エッチング部に腐
食により生じる微細凹凸を潰し、表面を滑らかにする
(ステップ6)。
【0017】このようにして、表面を滑らかに処理した
金型表面のエッチングによる凹部は、本金型を用いてシ
ボ製品を成形する際に製品表面に転写されて表面の滑ら
かな凸部となり、光を良く反射して光沢部を形成する。
更に、シボ製品の凸部表面が滑らかであることから、爪
等による傷がつきにくく、耐傷性に優れる。更に、本発
明によれば、従来法とは逆に製品のシボ凹凸の凸部が滑
らかで傷つきにくく、凹部に傷のつきやすい微細凹凸が
存在して保護されやすい構成となるため、光沢と非光沢
のコントラストを維持した意匠性に優れた外観を長期間
効果的に保持する。
【0018】なお、ブラスト投射材の素材は、アランダ
ム、ガラス以外にもスチール、プラスチック、あるいは
胡桃破砕片等でもよく、特に制限はない。また、ランダ
ム形状のブラスト投射材を用いるところに粒径の小さい
ビーズ状のブラスト投射材を用いてもよい。
【0019】金型材質についても、軟鉄、ベリリューム
銅等一般に金型素材に多く用いられる素材の他、アルミ
ニューム系素材やチタン系素材等を用いてもよく、特に
制限はない。また、本発明による射出成形用金型で成形
される樹脂も、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹
脂、ABS樹脂などの汎用性樹脂やポリカーボネート樹
脂、ポリアミド樹脂などの工業用樹脂だけでなく、各種
の樹脂を混合したものや補強剤を混合したものでもよ
く、特に制限はない。
【0020】図2は本発明に係るシボ金型および得られ
るシボ製品の表面構造の模式的部分断面図である。シボ
金型4の鋼材はS55Cであり、その表面はエッチング
処理の施された金型シボ凹部8aとレジストフィルムに
より保護されエッチングされなかった金型シボ凸部8b
が多数組合わさって構成されている。金型シボ凸部8
b、金型シボ凹部8aは、共にエッチング前に予めアラ
ンダム#150、ブラスト空気圧力2kg/cm2 の条
件でブラストして表面に微細な凹凸が形成してある。
【0021】金型シボ凸部8bは、エッチング時にレジ
ストフィルムで保護されているため、このブラストされ
た表面状態を保持している。金型シボ凹部8aは、エッ
チング処理後ガラスビーズ#100、ブラスト空気圧力
2kg/cm2 の条件でブラストを施し、エッチングに
より生じる微細凹凸が潰され、滑らかな表面状態となっ
ている。表面粗さは、金型シボ凸部8bがRz=0.4
1μm、金型シボ凹部8aがRz=0.34μmであっ
た。また、金型シボ凸部8b、金型シボ凹部8aの段差
は、14.84μmであった。
【0022】上記シボ加工金型と樹脂材料としてポリス
チレン(SEHI119、出光石油化学株式会社)を用
いて射出成形を行ったところ、光沢部と非光沢部のコン
トラストによる意匠性および耐傷性のいずれにも優れた
シボ製品が得られた。
【0023】[比較例1]実施例と同じ金型鋼材に、図
4に示す従来法により光沢部と非光沢部の組合せになる
シボ加工を施した。シボ金型4の表面は製品において光
沢部を形成すべく、予め鏡面に仕上げておき、その上に
写真製版技術によりシボパターンのレジストフィルムを
形成して金型表面を覆った後、エッチングを施して金型
面上に凹部となるエッチング部と凸部となる非エッチン
グ部を形成した。なお、レジストフィルムを形成する際
のフィルム素材、露光時間、現像時間、焼付時間等条件
及びエッチングの際のエッチング液、エッチング時間等
条件は、全て実施例と同じとした。
【0024】上記シボ加工金型と実施例と同じ樹脂材料
ポリスチレン(SEHI119、出光石油化学株式会
社)を用いて射出成形を行った。得られたシボ製品は、
耐傷性が実施例に比べ著しく劣るものであった。非光沢
部は爪で用意に傷がつき、傷部は更に光沢を失って白化
するか、逆に光沢を生じてシボ模様の外観を損ね、製品
価値を著しく低下させた。
【0025】[比較例2]金型面上へのレジストフィル
ム形成前に予めアランダム#150でのブラスト処理を
行わないこと以外は、実施例と同じ金型鋼材、レジスト
フィルム形成条件、エッチング条件でシボ加工を施し
た。金型面を予めアルミナランダム#150でブラスト
処理していないため、金型面とレジストフィルムの密着
が弱く、ガラスビーズ#100でのブラスト工程におい
て目標ブラスト空気圧力2kg/cm2 に対し、0.5
kg/cm2 でレジストフィルムの剥離が生じた。
【0026】上記シボ加工金型と実施例と同じ樹脂材料
ポリスチレン(SEHI119、出光石油化学株式会
社)を用いて射出成形を行った。得られたシボ製品は、
金型においてレジストフィルムによりガラスビーズブラ
スト処理から本来保護されるべき金型非光沢部にガラス
ビーズが当たり、光沢を生じてシボ模様のパターンが損
なわれていたために、製品価値が著しく低下した。
【0027】また、金型エッチング部に対してガラスビ
ーズによるブラスト空気圧力が不十分で、エッチングに
より生じた微細凹凸を十分に潰し、滑らかな表面状態と
することができなかった。このため、得られたシボ製品
は、光沢部の光沢が悪く、十分な光沢部と非光沢部のコ
ントラストが得られていない上、光沢部の耐傷性が実施
例に較べ著しく劣るものであった。
【0028】なお、本比較例の場合の表面粗さは、金型
シボ凸部8bがRz=0.24μm、金型シボ凹部8a
がRz=0.92μmであった。また、金型シボ凸部8
b、金型シボ凹部8aの段差は、13.54μmであっ
た。
【0029】
【発明の効果】このように、本発明によれば、予めブラ
スト処理で金型表面上に非光沢処理を施し、金型上に写
真製版技術によりパターンレジストフィルムを形成して
エッチングを行った後、ガラス等のビーズをブラストし
てエッチング部表面のみ平滑化、光沢化を図った。この
結果、金型は、光沢部と非光沢部のコントラストによる
意匠性および耐傷性のいずれにも優れたシボ製品の成形
が可能である。
【0030】又、本発明によるシボ加工法は、先に金型
表面をブラストして微細な凹凸を形成するだけのため、
従来のシボ加工に比較してコストの上昇は少ない。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a texturing method for a metal mold for molding a plastic or rubber product having fine irregularities on a product surface, so-called grain shape. 2. Description of the Related Art In recent years, a variety of designs have been demanded for plastic and rubber molded products, and there is a high demand for a matte finish or the like in order to give a subtle and complicated pattern or a calm texture. Has become. A technique that meets these requirements is a technique of performing a process called graining on a die. A mold that has been subjected to such graining is called a grained mold, and a product having a grain shape on a product surface formed by the grained mold is called a grained product. [0003] The graining of a mold is performed by covering the mold surface with a resist film formed by photoengraving technology and then performing etching or further applying a mechanical method such as sandblasting to the molded product in the mold. A high value-added pattern is formed in a portion corresponding to the surface. The pattern formed in this way is called a grain pattern, and etching the pattern to give the grain pattern to the mold is called grain processing. The flow shown in FIG. 3 is a method for embossing a general mold for molding a plastic product. In this method, a resist is applied to the surface of the mold 1. After laminating the film 2 and laminating the grain pattern film 3 thereon (step 1), step 2
In step 3, exposure, development, and printing are performed. Then, in step 3, unnecessary portions of the film are removed and masking is performed. Then, in step 4, etching is performed. This is repeated several times to complete etching (step 5). Step 6
Is performed to finish the graining. [0005] However, with the above etching treatment alone, since the fine unevenness 1a due to corrosion is present on the etched surface of the mold 1, the fine unevenness is also transferred to the surface of the obtained molded product, and this is caused by the contact of a nail or the like. Therefore, there is a problem that the product is easily damaged, that is, the product has poor scratch resistance. As a solution to this problem, a method of crushing the fine irregularities 1a and smoothing the etched surface to some extent by blasting using bead-like glass or the like after completion of the etching (step 6) is generally adopted. (Step 6). [0007] On the other hand, in recent years, due to the variety of designs, a grain pattern having an excellent design that is a combination of a glossy portion and a non-glossy portion different from a homogeneous design, such as a conventional grain pattern, has been devised. . FIG. 4 shows a mold graining step for obtaining such a grained product. In FIG. 4, steps 1 to 4 are performed in the same manner as in the processing example of FIG. 3, and in the final stage, as shown in step 5, the resist film 2
Is removed to complete the graining. By doing so, the portion 2a from which the resist film 2 has been removed becomes smooth, and the grain concave portion on the molded product side corresponding thereto becomes glossy. FIG. 5 shows a mold and a molded product manufactured by using the processing method shown in FIG. 4 above. In this embossed die 4, the mirror surface is protected by a resist film without being etched. The product grain concave portion 7b of the grain product 5 to which the mold grain convex portion 6b holding the pattern is transferred has gloss. On the other hand, the mold grain concave portion 6a formed by etching the surface of the grain mold 4 has fine irregularities 6a 'due to corrosion on the surface,
The surface of the product grain convex portion 7a of the grain product 5 to which this is transferred also has fine irregularities 7a '. The fine irregularities 7a 'diffusely reflect light, and form contrast with the above-mentioned glossy portion as a non-glossy portion, thereby enhancing the design of the product by embossing. However, the fine unevenness 7 of this product grain convex portion 7a
a 'was apt to be damaged by contact with a nail or the like, impairing the appearance of the grain pattern, and lowering the product value. As described above, generally, blasting using bead-like glass or the like is used to improve the scratch resistance. However, in the case of a graining process having a contrast between a glossy portion and a non-glossy portion, the resist film 2 is formed. When blasting using bead-like glass or the like is performed after the peeling, blasting is performed not only on the etched mold grain concave portion 6a but also on the mirror-finished mold grain convex portion 6b protected by the mold resist film 2. There is a drawback that a mark is imprinted and the contrast between the glossy part and the non-glossy part of the product is impaired. Therefore, it is possible to protect the mold grain protrusions 6b with the resist film 2 and to perform blasting. However, the mold grain protrusions 6b are mirror-finished, and the adhesiveness of the resist film 2 is high. Is weak and easily peeled off, and blast marks are marked on the mirror surface of the mold grain convex portion 6b, and the contrast between the glossy portion and the non-glossy portion of the product is also impaired. [0012] Accordingly, an object of the present invention is to provide a product which retains the contrast between a glossy portion and a non-glossy portion in the case of a grain forming process for obtaining a grain product having a contrast between a glossy portion and a non-glossy portion. The purpose is to develop a technology that improves the scratch resistance of the surface. More specifically, in comparison with the conventional graining die , the graining of an injection molding mold capable of molding a grained product excellent in both designability and scratch resistance due to the contrast between a glossy part and a non-glossy part. Is to provide the law. Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies on the surface condition of a mold and a molded product, and as a result, have found that a mold for injection molding of a grain product having a contrast between a glossy portion and a non-glossy portion. Regarding, in advance, the mold surface is subjected to a non-glossy treatment by blast treatment with Alundum, etc., a resist film is formed on the mold by photomechanical technology to cover the mold surface, and then the resist is etched. Blasting beads such as glass without removing the film, crushing fine irregularities by alumina random and etching only in the etched part to make it a smooth glossy part, and also improve the scratch resistance, so that the glossy part and the non-glossy part We have completed a textured die for injection molding that can form textured products that are excellent in both design properties and scratch resistance due to contrast. When this mold is used, since it has a smooth mold grain concave portion formed by glass bead blast and a rough mold grain convex portion formed by alundum, the grain product obtained by the conventional mold is used. The glossy portion and the non-glossy portion are reversed with respect to the glossy portion and the non-glossy portion of the uneven portion, whereby the contrast is increased, and thus a grain product excellent in design and scratch resistance can be formed. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an embodiment of a method for embossing a mold surface according to the present invention and a mold obtained by the machining method will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. First, the graining step will be described with reference to FIG. In step 1, before forming a grain pattern for etching on the surface of the mold 1 with a resist film, the entire surface of the mold 1 is blasted with alumina random or the like in advance to form fine irregularities 1 on the surface.
b is formed and coarsened. The fine unevenness 1b formed on the surface of the mold is transferred to the surface of the grain when the grain mold is formed using the mold 1, and irregularly reflects light to form a non-glossy portion. Next, a resist film 2 and a grain pattern film 3 for forming a desired grain pattern are formed on the mold surface by photolithography as in the conventional method (step 2). At this time, in this method, since the mold surface is previously roughened by blasting, the adhesion between the mold surface and the resist film 2 is good, so that there is little resist peeling during etching and only little disturbance of the etching pattern. In addition, even during the blasting process using glass beads in the etching portion described later, the blasting air pressure can be set high because it is difficult to peel off, and a sufficient effect can be obtained in crushing the fine unevenness of the etching portion by the blasting. Next, masking is performed (step 4).
Next, etching is performed (Step 5), and after this etching, the etched portion is blasted with beads such as glass while leaving the resist film 2, leaving fine irregularities caused by corrosion in the etched portion to smooth the surface (Step 5). 6). In this way, the concave portion formed by etching the surface of the mold whose surface is smoothed is transferred to the surface of the product when the grain product is formed using the present mold, and becomes a convex portion having a smooth surface. It reflects light well to form a glossy part.
Furthermore, since the surface of the convex portion of the grain product is smooth, it is hard to be damaged by nails or the like, and is excellent in scratch resistance. Further, according to the present invention, contrary to the conventional method, the convex portion of the grain unevenness of the product is smooth and hard to be damaged, and the concave portion has fine unevenness that is easily scratched, so that the structure is easily protected, so that gloss and non-gloss are obtained. Effectively retains the appearance with excellent design while maintaining gloss contrast. The material of the blasting material may be steel, plastic, crushed walnut, or the like, other than alundum or glass, and is not particularly limited. In addition, a bead-shaped blasting material having a small particle diameter may be used where a blasting material having a random shape is used. The mold material is not particularly limited, and may be an aluminum-based material, a titanium-based material, or the like, in addition to a material generally used for the mold material, such as soft iron and beryllium copper. The resin molded by the injection mold according to the present invention is not limited to general-purpose resins such as polyolefin resin, polystyrene resin and ABS resin, or industrial resins such as polycarbonate resin and polyamide resin, as well as various resins. Or a mixture of a reinforcing agent, and there is no particular limitation. FIG. 2 is a schematic partial sectional view of the surface structure of the grain mold according to the present invention and the grain product obtained. The steel material of the grain mold 4 is S55C, and the surface thereof is a mold grain concave part 8a which has been subjected to an etching treatment and a mold grain convex part 8b which is protected by a resist film and is not etched.
Is composed of many unions. Mold grain convex part 8
b, both the mold embossed concave portions 8a are blasted in advance under the conditions of Alundum # 150 and blast air pressure of 2 kg / cm 2 before etching to form fine irregularities on the surface. Since the mold embossed portion 8b is protected by a resist film during etching, the blasted surface state is maintained. The mold grain concave portion 8a is blasted under the conditions of glass beads # 100 and blast air pressure of 2 kg / cm 2 after the etching process, and fine irregularities generated by the etching are crushed to have a smooth surface state. The surface roughness is such that the mold grain convex portion 8b has Rz = 0.4.
1 μm, and Rz = 0.34 μm for the embossed concave portion 8a. In addition, the step between the mold grain convex part 8b and the mold grain concave part 8a was 14.84 μm. Injection molding was performed using the above-described grained mold and polystyrene (SEHI119, Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.) as a resin material. An excellent grain product was obtained. [Comparative Example 1] The same die steel material as that of the embodiment was subjected to grain processing for forming a combination of a glossy portion and a non-glossy portion by the conventional method shown in FIG. The surface of the grain mold 4 is mirror-finished in advance to form a glossy part in the product, and a grain-patterned resist film is formed thereon by photomechanical technology to cover the mold surface and then etched. An etched portion serving as a concave portion and a non-etched portion serving as a convex portion were formed on the mold surface. The film material, exposure time, development time, baking time and other conditions for forming the resist film, and the conditions for the etching solution and etching time for etching were all the same as in the examples. Injection molding was carried out using the above-mentioned embossed mold and the same resin material polystyrene (SEHI119, Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.) as in the example. The obtained grain products are
The scratch resistance was remarkably inferior to the examples. The non-glossy portion was easily scratched with nails, and the scratched portion further lost gloss and became white, or conversely, caused gloss and impaired the appearance of a grain pattern, thereby significantly lowering the product value. Comparative Example 2 The same mold steel, resist film forming conditions, and etching conditions as in the example except that the blast treatment with Alundum # 150 was not performed before forming the resist film on the mold surface. Was subjected to graining. Since the mold surface has not been blasted with alumina random # 150 in advance, the adhesion between the mold surface and the resist film is weak, and the target blast air pressure is 2 kg / cm 2 in the blast process with glass beads # 100. 5
At kg / cm 2 , peeling of the resist film occurred. Injection molding was carried out using the above-mentioned embossed mold and the same resin material polystyrene (SEHI119, Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.) as in the example. The obtained grain products are
In the mold, the glass beads hit the non-glossy part of the mold which should be protected from the glass bead blasting treatment by the resist film, and the gloss was generated and the grain pattern was impaired, so that the product value was significantly reduced. Further, the blast air pressure of the glass beads against the mold etching portion was insufficient, so that the fine irregularities generated by the etching were sufficiently crushed and a smooth surface state could not be obtained. For this reason, the obtained grain product had poor glossiness in the glossy portion, did not provide sufficient contrast between the glossy portion and the non-glossy portion, and had extremely poor scratch resistance of the glossy portion as compared with the examples. . The surface roughness in the case of this comparative example is such that the mold grain convex part 8b has Rz = 0.24 μm and the mold grain concave part 8a has
Was Rz = 0.92 μm. Also, the mold embossed portion 8
b, the step of the mold embossed concave portion 8a was 13.54 μm. As described above, according to the present invention, the surface of the mold is subjected to a non-glossy treatment by blasting in advance, and a pattern resist film is formed on the mold by a photoengraving technique to perform etching. After that, beads such as glass were blasted to smooth and gloss only the etched surface. As a result, the mold can mold a grain product excellent in both design properties and scratch resistance due to the contrast between the glossy part and the non-glossy part. In the graining method according to the present invention, the mold surface is first blasted to form fine irregularities.
The increase in cost is small compared to the conventional graining.
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例の光沢部と非光沢部コントラストを有す
るシボ製品を得るための金型のシボ加工ステップ例を示
すフロー図。
【図2】同じく実施例のシボ加工ステップにより製作さ
れたシボ加工金型およびこれを用いて成形されたシボ製
品の模式的部分断面図である。
【図3】一般的な金型のシボ加工ステップ例を示すフロ
ー図。
【図4】光沢部と非光沢部コントラストを有するシボ製
品を得るための金型のシボ加工ステップ例を示すフロー
図。
【図5】図4のシボ加工ステップにより製作されたシボ
加工金型およびこれを用いて成形されたシボ製品の模式
的部分断面図。
【符号の説明】
1 金型
2 レジストフィルム
3 シボパターンフィルム
4 シボ加工金型
5 シボ製品
6a 金型シボ凹部
6b 金型シボ凸部
7a 製品シボ凸部
7b 製品シボ凹部
8a 金型シボ凹部
8b 金型シボ凸部
9a 製品シボ凸部
9b 製品シボ凹部BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a flow chart showing an example of a grain forming step of a mold for obtaining a grain product having a contrast between a glossy part and a non-glossy part according to the embodiment. FIG. 2 is a schematic partial cross-sectional view of a graining die manufactured by the graining step of the embodiment and a grained product molded using the same. FIG. 3 is a flowchart showing an example of a general mold graining step; FIG. 4 is a flow chart showing an example of a mold graining step for obtaining a grained product having a glossy part and a non-glossy part contrast. 5 is a schematic partial cross-sectional view of a graining die manufactured by the graining step of FIG. 4 and a grained product molded using the same; [Description of Signs] 1 mold 2 resist film 3 grain pattern film 4 grain processing mold 5 grain product 6a mold grain concave part 6b mold grain convex part 7a product grain convex part 7b product grain concave part 8a mold grain concave part 8b gold Mold grain convex part 9a Product grain convex part 9b Product grain concave part
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B29C 33/00 - 33/76 B29C 39/26 - 39/36 B29C 41/38 - 41/44 B29C 43/36 - 43/42 B29C 43/50,45/00 - 45/84 B29C 49/48 - 49/56,49/70 B29C 51/31 - 51/40,51/44 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (58) Fields surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) B29C 33/00-33/76 B29C 39/26-39/36 B29C 41/38-41/44 B29C 43 / 36-43/42 B29C 43 / 50,45 / 00-45/84 B29C 49/48-49 / 56,49 / 70 B29C 51/31-51 / 40,51 / 44
Claims (1)
し、次に、前記ブラスト処理した金型上に写真製版技術
によりレジストフィルム層を形成して金型表面を覆い、
次に、エッチングを施した後、レジストフィルムを除去
しないままブラストしてエッチング部分のみアルミナラ
ンダムおよびエッチングによる微細凹凸跡を潰して滑ら
かな光沢部を形成し、次にレジストフィルムを除去する
ことにより、金型シボ凸部に非光沢部を形成して製品の
シボ凹部に光沢部を形成する金型のシボ加工法。(57) [Claims] [Claim 1] Non-glossy treatment of the mold surface by blast treatment
Then, a resist film layer is formed on the blasted mold by a photoengraving technique to cover the mold surface,
Next, after performing etching, blasting without removing the resist film, crushing fine irregularities traces by alumina random and etching only in the etched portion to form a smooth glossy portion, and then removing the resist film, A mold graining method for forming a glossy portion in a grain concave portion of a product by forming a non-glossy portion in a mold grain convex portion.
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