JP3474117B2 - Liquid crystal cell manufacturing method and liquid crystal cell manufacturing apparatus - Google Patents
Liquid crystal cell manufacturing method and liquid crystal cell manufacturing apparatusInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は液晶セルの製造方法
及び液晶セル製造装置に関し、より詳しくは液晶が注入
される液晶注入口を紫外線硬化樹脂(以下、「UV硬化
樹脂」という)で封止する液晶セルの製造方法及び該液
晶セルを製造するための液晶セル製造装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal cell manufacturing method and a liquid crystal cell manufacturing apparatus, and more specifically, a liquid crystal injection port into which liquid crystal is injected is sealed with an ultraviolet curable resin (hereinafter referred to as "UV curable resin"). And a liquid crystal cell manufacturing apparatus for manufacturing the liquid crystal cell.
【0002】[0002]
【従来の技術】表示素子等に使用される液晶セルは、一
般に、2枚のガラス基板の間に液晶を注入した後、該液
晶が注入された液晶注入口を封止材で封止することによ
り製造される。そして、前記封止材としては、従来よ
り、紫外線の照射により硬化するUV硬化樹脂が使用さ
れている。2. Description of the Related Art Generally, a liquid crystal cell used for a display element or the like is prepared by injecting liquid crystal between two glass substrates and then sealing the liquid crystal injection port into which the liquid crystal is injected with a sealing material. Manufactured by. A UV curable resin that is cured by irradiation with ultraviolet rays has been used as the sealing material.
【0003】この種のUV硬化樹脂は、エポキシ樹脂等
の熱硬化性樹脂に比べて反応時間が非常に短く、また硬
化剤等を使用していないため、液晶の劣化等、液晶に対
して悪影響を及ぼすことが比較的少なく、前記熱硬化性
樹脂で封止する場合に比べ信頼性の優れた液晶セルを得
ることができる。This type of UV curable resin has a very short reaction time as compared with a thermosetting resin such as an epoxy resin, and since it does not use a curing agent or the like, it adversely affects the liquid crystal such as deterioration of the liquid crystal. It is possible to obtain a liquid crystal cell which is relatively less affected and which is more reliable than in the case of sealing with the thermosetting resin.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、UV硬
化樹脂で液晶注入口を封止する上記従来の方法では、紫
外線を照射しなければ樹脂が硬化しないため紫外線を含
む広波長域の光を樹脂に照射して硬化処理を行っている
が、紫外線は有機物質である液晶を劣化させる性質を有
しているため、光の照射時間が長くなると前記紫外線に
起因して液晶の劣化分解が顕著となり、その結果液晶セ
ルを電子部品等に組み込んで駆動させたときに表示ムラ
が生じて表示品位が悪化し、液晶セルの信頼性が低下す
るという問題点があった。However, in the above-mentioned conventional method of sealing the liquid crystal injection port with a UV curable resin, the resin does not cure unless it is irradiated with ultraviolet light, so that light in a wide wavelength range including ultraviolet light is applied to the resin. Although it is irradiated and cured, ultraviolet rays have a property of deteriorating the liquid crystal which is an organic substance, so that when the irradiation time of light becomes long, the deterioration and decomposition of the liquid crystal due to the ultraviolet rays becomes remarkable, As a result, when the liquid crystal cell is incorporated into an electronic component or the like and driven, display unevenness occurs, display quality deteriorates, and the reliability of the liquid crystal cell deteriorates.
【0005】一方、光の照射時間が短い場合は樹脂表面
は硬化するが、樹脂深部への硬化が不十分なため未硬化
部分が残存し、その結果該未硬化部分が液晶内に浸入し
て液晶セル中に不純物として混入する。すなわち、樹脂
の硬化は光エネルギによって励起された分子を重合開始
剤とする重合反応により進行するが、光の照射時間が短
い場合は樹脂表面は硬化するものの、樹脂深部での重合
反応が不十分なため樹脂中に未硬化部分が残存し、この
ため該未硬化部分が液晶内に浸入して液晶セル中に不純
物として混入し、その結果不純物の混入を起因とする表
示ムラが生じて表示品位が低下し、上述と同様、液晶セ
ルの信頼性が低下するという問題点があった。On the other hand, when the light irradiation time is short, the surface of the resin is cured, but since the resin is not sufficiently cured to the deep portion, an uncured portion remains, and as a result, the uncured portion penetrates into the liquid crystal. It is mixed as an impurity in the liquid crystal cell. That is, the curing of the resin proceeds by a polymerization reaction using a molecule excited by light energy as a polymerization initiator, but when the irradiation time of light is short, the resin surface is cured, but the polymerization reaction in the deep portion of the resin is insufficient. Therefore, the uncured portion remains in the resin, and thus the uncured portion penetrates into the liquid crystal and is mixed as an impurity in the liquid crystal cell, resulting in display unevenness due to the mixing of impurities, resulting in display quality. And the reliability of the liquid crystal cell is reduced, as described above.
【0006】本発明はこのような問題点に鑑みなされた
ものであって、表示素子としての特性や信頼性に優れた
液晶セルを得ることができる液晶セルの製造方法及び液
晶セル製造装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above problems, and provides a liquid crystal cell manufacturing method and a liquid crystal cell manufacturing apparatus capable of obtaining a liquid crystal cell having excellent characteristics and reliability as a display element. The purpose is to do.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】現在の生産技術を考慮す
ると、作業性及び品質等の観点から液晶の外部への漏出
を防止するためには樹脂を硬化させて液晶注入口を封止
することが依然として最も好ましい方法と考えられる。Considering the current production technology, in order to prevent the liquid crystal from leaking out from the viewpoint of workability and quality, the resin should be cured to seal the liquid crystal injection port. Is still considered the most preferred method.
【0008】そこで、本願発明者は、まず硬化現象の機
構について研究し、以下の知見を得た。すなわち、光が
樹脂に照射されると、一般には光エネルギにより励起さ
れた重合開始剤によって樹脂表面から重合反応が開始
し、該樹脂表面から液晶との界面方向、すなわち、樹脂
深部へと硬化が進行していくと考えられる。Therefore, the inventor of the present application first studied the mechanism of the hardening phenomenon and obtained the following findings. That is, when the resin is irradiated with light, the polymerization reaction is generally initiated by the polymerization initiator excited by light energy from the resin surface, and the resin surface is cured in the direction of the interface with the liquid crystal, that is, in the resin deep part. It is thought to progress.
【0009】しかしながら、樹脂表面は空気と接触して
いるため、光エネルギが小さい場合は該光エネルギによ
って励起された重合開始剤が、空気中の酸素と一時的に
結合して所謂酸素阻害が生じ、その結果樹脂表面は硬化
せずに「べたべたした」所謂タック状態となる。一方、
多量の光が樹脂に照射されると、樹脂同士の重合に必要
な重合エネルギが酸素との結合エネルギよりも大きくな
り、樹脂同士の重合が進行して樹脂表面は前記タック状
態を解消し、硬化する。すなわち、例えば、光エネルギ
が小さい場合に光が短時間しか樹脂に照射されなかった
ときは上記タック状態が解消されず樹脂表面は硬化しな
いが、小さなエネルギの光でも長時間に亙って樹脂を照
射し続けると多量の光エネルギが樹脂に付与される結果
となって樹脂表面も硬化する。However, since the resin surface is in contact with air, when the light energy is small, the polymerization initiator excited by the light energy temporarily binds to oxygen in the air to cause so-called oxygen inhibition. As a result, the resin surface is not cured and becomes a "sticky" so-called tack state. on the other hand,
When a large amount of light is irradiated to the resin, the polymerization energy required for the polymerization of the resins becomes larger than the binding energy with oxygen, and the polymerization of the resins progresses, and the resin surface eliminates the tack state and cures. To do. That is, for example, when the light energy is small and the light is applied to the resin for only a short time, the tack state is not resolved and the resin surface is not cured, but even light with a small energy does not remove the resin for a long time. If irradiation is continued, a large amount of light energy will be applied to the resin, and the resin surface will also be cured.
【0010】一方、樹脂深部は空気と非接触状態にある
ため酸素阻害は生じず、エネルギの小さな光を樹脂に照
射した場合であっても樹脂深部では重合反応が進行し、
樹脂深部は容易に硬化する。On the other hand, since the deep portion of the resin is not in contact with air, oxygen inhibition does not occur, and the polymerization reaction proceeds in the deep portion of the resin even when the resin is irradiated with light having low energy.
The resin deep part is easily cured.
【0011】このように光を樹脂に照射した場合、光エ
ネルギが小さく且つ光の照射時間が短いときは酸素阻害
により樹脂表面は硬化せず、樹脂深部のみが硬化する。
一方、或る程度の長時間に亙って光を樹脂に照射する
と、エネルギの小さい光であっても多量の光エネルギが
樹脂に付与される結果となり、空気中の酸素との結合エ
ネルギよりも樹脂同士の重合に必要な重合エネルギの方
が大きくなる。したがって、この場合は酸素阻害の生じ
ない樹脂深部が硬化した後、樹脂表面もタック状態を解
消して硬化する。但し、長時間に亙って光エネルギが樹
脂に付与されるため、液晶セルには局所的な表示の乱れ
が生じるという知見も併せて得た。When the resin is irradiated with light in this way, when the light energy is small and the light irradiation time is short, the resin surface is not cured due to oxygen inhibition, and only the resin deep portion is cured.
On the other hand, when the resin is irradiated with light for a certain long time, a large amount of light energy is applied to the resin even if the energy is small, and the energy of the bond with oxygen in the air is higher than that of the bond energy. The polymerization energy required for polymerizing the resins becomes larger. Therefore, in this case, after the resin deep portion where oxygen inhibition does not occur is cured, the resin surface is also cured by eliminating the tack state. However, since the light energy is applied to the resin over a long period of time, the inventors have also found that the liquid crystal cell is locally disturbed in display.
【0012】また、本願発明者の更なる鋭意研究の結
果、紫外線の波長域のうち、380nm以下の低波長域
にエネルギの大きな光が存在し、斯かる波長域の光を樹
脂に照射したときに液晶に悪影響を及ぼすという知見を
得た。すなわち、かかるエネルギの大きな光を長時間樹
脂に照射すると、液晶の劣化分解が生じ、液晶に悪影響
を及ぼす結果となる。Further, as a result of further earnest studies by the inventor of the present application, when light having large energy is present in a low wavelength region of 380 nm or less in the wavelength range of ultraviolet rays, and when the resin is irradiated with light in such a wavelength region. It was found that it adversely affects the liquid crystal. That is, when the resin having such a large energy is irradiated for a long time, the liquid crystal deteriorates and decomposes, which adversely affects the liquid crystal.
【0013】しかしながら、380nm以下の波長が遮
断された380nm以上の長い波長の光を樹脂に照射す
ると、かかる波長の光エネルギは小さいため、上述した
酸素阻害により樹脂表面のタック状態が生じる。このた
め、封止に必要な十分な重合反応により樹脂を完全硬化
させるには長時間の照射が必要であり、その場合、有機
物質である液晶セルの液晶の劣化分解を来す。[0013] However, since the light <br/> sectional been 380nm or more longer wavelengths shielding the following wavelength 380nm is irradiated to the resin, the light energy of such a wavelength is small, tuck state of the resin surface by oxygen inhibition as described above Occurs. Therefore, long-time irradiation is required to completely cure the resin by a sufficient polymerization reaction necessary for sealing, and in that case, the liquid crystal of the liquid crystal cell, which is an organic substance, is deteriorated and decomposed.
【0014】また、380nm以下の低波長域を含むエ
ネルギの大きな光を樹脂に照射した場合は空気中の酸素
との結合エネルギよりも樹脂同士の重合に必要な重合エ
ネルギの方が大きくなるため、酸素阻害は生じず樹脂表
面は硬化するものの、重合反応に必要なエネルギが前記
硬化した樹脂表面により吸収・遮断されてしまい、その
結果樹脂深部での重合反応の進行が極端に低下して樹脂
深部が硬化しにくくなる。つまり、照射時間が短い場合
は樹脂深部での重合反応が不十分となって樹脂中に未硬
化部分が残存し、該未硬化部分が液晶内部に浸入して表
示品位の低下を招来する。Further, when the resin is irradiated with light having a large energy including a low wavelength region of 380 nm or less, the polymerization energy required for polymerizing the resins is larger than the binding energy with oxygen in the air. Although oxygen inhibition does not occur and the resin surface cures, the energy required for the polymerization reaction is absorbed and blocked by the cured resin surface, and as a result, the progress of the polymerization reaction at the resin deep part is extremely reduced, and the resin deep part Is hard to cure. That is, when the irradiation time is short, the polymerization reaction in the deep portion of the resin becomes insufficient, and the uncured portion remains in the resin, and the uncured portion penetrates into the liquid crystal, resulting in deterioration of display quality.
【0015】一方、上述したエネルギの大きな光を長時
間樹脂に照射すると液晶の劣化分解が顕著となるため、
斯かるエネルギの大きな光を樹脂に照射した場合はいず
れにしても液晶に悪影響を及ぼす結果となる。On the other hand, when the resin having the above-mentioned large energy is irradiated for a long time, the deterioration and decomposition of the liquid crystal becomes remarkable,
Irradiating the resin with such high-energy light adversely affects the liquid crystal in any case.
【0016】したがって、液晶の劣化を防止して樹脂を
効率よく完全硬化させるためには、液晶に悪影響を与え
ない、380nm以下の波長が遮断された380nm以
上の波長域の光を、樹脂に照射して樹脂深部を硬化させ
た後、380nm以下の波長域を含む広波長域の光を樹
脂に照射して樹脂表面を短時間に迅速に硬化させる必要
がある。Therefore, in order to prevent the deterioration of the liquid crystal and to completely cure the resin efficiently , the resin is irradiated with light in the wavelength range of 380 nm or more in which the wavelength of 380 nm or less is blocked without adversely affecting the liquid crystal. Then, after hardening the resin deep portion, it is necessary to irradiate the resin with light in a wide wavelength range including a wavelength range of 380 nm or less to quickly cure the resin surface in a short time.
【0017】本発明は斯かる知見に基づきなされたもの
であって、本発明に係る液晶セルの製造方法は、2枚の
透明基板の間に液晶を注入する液晶注入工程と、該液晶
注入工程で注入された液晶を紫外線硬化樹脂からなる封
止材で封止する封止工程とを含む液晶セルの製造方法に
おいて、前記封止工程は、380nm以下の波長が遮断
された380nm以上の波長域を有する光を前記封止材
に照射する第1の照射処理を施した後、380nm以下
の波長域を含む広波長域の光を前記第1の照射処理にお
ける照射時間よりも短い時間で前記封止材に照射する第
2の照射処理を施すことを特徴とし、また、前記第1の
照射処理は、空気と接触する前記封止材の表面又は表面
層よりも空気と非接触状態にある前記封止材の深部を硬
化させ、さらに、前記第2の照射処理は、空気と非接触
状態にある前記封止材の深部よりも空気と接触する前記
封止材の表面又は表面層を硬化させることを特徴として
いる。The present invention has been made on the basis of such findings, and a method of manufacturing a liquid crystal cell according to the present invention comprises a liquid crystal injection step of injecting a liquid crystal between two transparent substrates, and the liquid crystal injection step. In a method for manufacturing a liquid crystal cell, the method including a step of sealing the liquid crystal injected in step 1 with a sealing material made of an ultraviolet curable resin, wherein the step of sealing has a wavelength range of 380 nm or more in which a wavelength of 380 nm or less is blocked. After performing a first irradiation process of irradiating the sealing material with a light having a wavelength of 380 nm or less, a wide wavelength range light including a wavelength range of 380 nm or less is subjected to the first irradiation process.
The second irradiation treatment for irradiating the encapsulant in a time shorter than the irradiation time is performed, and the first irradiation treatment is the surface or surface layer of the encapsulant in contact with air. The deeper portion of the encapsulant that is in a non-contact state with air than is hardened, and the second irradiation process further includes a step of contacting the air with the deeper portion of the encapsulant that is in a non-contact state with air. It is characterized in that the surface or surface layer of the stopper is cured.
【0018】上記製造方法によれば、第1の照射処理で
は光エネルギの小さい380nm以下の波長が遮断され
た380nm以上の波長域を有する光を紫外線硬化樹脂
からなる封止材に照射しているので、重合開始剤が空気
中の酸素と結合して酸素阻害が生じ、封止材の表面は
「べたべたした」タック状態となるが、封止材の深部は
酸素阻害が生じないため所望の重合反応が進行して硬化
する。また、第2の照射処理では380nm以下の波長
域を含む広波長域の光を照射しているので、封止材の表
面又は表面層も硬化する。しかも、第2の照射処理は第
1の照射処理における照射時間よりも短い時間で封止材
に照射して、封止材の空気と非接触状態にある封止材の
深部よりも表面又は表面層を硬化させるものであるた
め、液晶に悪影響を与えることもなく、表示特性や信頼
性に優れた液晶セルを製造することができる。According to the above-mentioned manufacturing method, in the first irradiation process, light having a wavelength range of 380 nm or more in which the wavelength of 380 nm or less having a small light energy is blocked is applied to the encapsulant made of an ultraviolet curable resin. Therefore, the polymerization initiator binds with oxygen in the air to cause oxygen inhibition, and the surface of the encapsulant is in a “sticky” tack state, but the deep part of the encapsulant does not cause oxygen inhibition, and thus the desired polymerization occurs. The reaction proceeds and cures. Further, in the second irradiation treatment than is irradiated with light of a wide wavelength range including a wavelength range 380 nm, to cure even surface or surface layer of the sealing material. Moreover, the second irradiation treatment first
Sealing material in a shorter time than the irradiation time in the irradiation treatment of 1.
By irradiating and in which hardening the surface or surface layer than the deep of the sealing material in the air and a non-contact state of the sealing material
Because, without adversely affecting the liquid crystal, it is possible to produce an excellent liquid crystal cell in the display characteristics and reliability.
【0019】また、本発明に係る液晶セル製造装置は、
紫外線硬化樹脂からなる封止材が所定箇所に塗布された
液晶セルを搬送する搬送手段と、該搬送手段により搬送
される前記液晶セルの前記封止材を照射する第1の照射
手段と、前記第1の照射手段による照射時間よりも短い
時間で前記封止材を照射する第2の照射手段と、前記第
1の照射手段から射出される光のうち、380nm以下
の波長域の光を遮断するフィルタ手段とを備えているこ
とを特徴としている。Further, the liquid crystal cell manufacturing apparatus according to the present invention is
And conveying means for sealing material made of an ultraviolet curing resin is transported to a liquid crystal cell that has been applied to the predetermined portion, a first illumination for irradiating the sealing material of the liquid crystal cell carried by said transport means
Means and the irradiation time by the first irradiation means is shorter than
A second irradiation unit that irradiates the encapsulant for a period of time; and a filter unit that blocks light in the wavelength range of 380 nm or less among the light emitted from the first irradiation unit. I am trying.
【0020】上記液晶セル製造装置によれば、表示素子
としての特性や信頼性に優れた液晶セルを連続的に効率
よく大量生産することができる。According to the above liquid crystal cell manufacturing apparatus, liquid crystal cells having excellent characteristics and reliability as a display element can be continuously and efficiently mass-produced.
【0021】また、第1の照射手段が、フィルタ手段と
対向状に複数個設けられることにより、380nm以下
の波長域の光を遮断するフィルタ手段を通過した380
nm以上の波長域を有する多量の光が液晶セルに照射さ
れ、封止材の深部硬化を容易に行うことができる。[0021] Also, the first irradiation means, by provided a plurality in the filter means and the counter-shaped, passing through the filter means for blocking light of a wavelength range 380 nm 380
A large amount of light having a wavelength range of nm or more is applied to the liquid crystal cell, and the deep part of the sealing material can be easily cured.
【0022】[0022]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
【0023】図1は本発明に係る液晶セルの製造方法の
一実施の形態を示す製造工程図であり、図2は液晶セル
の製造手順の概略を示す図である。FIG. 1 is a manufacturing process diagram showing an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal cell according to the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing an outline of a manufacturing procedure for a liquid crystal cell.
【0024】まず、透明基板としての同一サイズの2枚
のガラス基板(第1及び第2のガラス基板2a、2b)
を用意し、周知の方法により第1のガラス基板2aの上
面に透明電極を形成し、且つ所定の配向処理を施す。そ
して、図1のシール材塗布工程1では、スクリーン印刷
法により、図2(I)に示すように、第1のガラス基板
2aの上面に形成された略枠状パターンにエポキシ樹脂
等の熱硬化性樹脂を塗布し、シール層3を形成する。First, two glass substrates of the same size as the transparent substrates (first and second glass substrates 2a and 2b).
Is prepared, a transparent electrode is formed on the upper surface of the first glass substrate 2a by a known method, and a predetermined alignment treatment is performed. Then, in the sealing material application step 1 of FIG. 1, a substantially frame-shaped pattern formed on the upper surface of the first glass substrate 2a is thermally cured with an epoxy resin or the like by a screen printing method as shown in FIG. 2 (I). A resin is applied to form the seal layer 3.
【0025】次に、図1の加熱圧着工程4では、図2
(II)に示す第2のガラス基板2bを、図2 (III)に示
すように前記シール層3に積載し、セルギャップが所定
値となるように加熱プレスで加圧し、第1のガラス基板
2aと第2のガラス基板2bとをシール層3を介して貼
り合わせ、液晶注入口5を形成する。Next, in the thermocompression bonding step 4 of FIG.
The second glass substrate 2b shown in (II) is stacked on the sealing layer 3 as shown in FIG. 2 (III), and pressed with a heating press so that the cell gap becomes a predetermined value. 2a and the second glass substrate 2b are bonded together via the seal layer 3 to form the liquid crystal injection port 5.
【0026】次いで、シール層3を形成する熱硬化性樹
脂に対して所定の加熱処理を施し、シール層3を完全硬
化させた後、図1の液晶注入工程6に進み、周知の真空
注入法により、トラン(ジフェニルアセチレン)系やエ
ステル系等の所望の液晶を液晶注入口5から注入する。
次いで、図1の封止材塗布工程7では、図2(IV)に示
すように、封止材8として変成アクリル樹脂等のUV硬
化樹脂をディスペンサで液晶注入口5及びその周辺に塗
布し、続く封止工程9(図1)では光エネルギを樹脂に
照射して封止材8を硬化させ、これにより液晶セルを製
造する。Next, the thermosetting resin forming the seal layer 3 is subjected to a predetermined heat treatment to completely cure the seal layer 3, and then the process proceeds to the liquid crystal injection step 6 of FIG. Thus, a desired liquid crystal such as a tran (diphenylacetylene) -based or ester-based liquid crystal is injected from the liquid crystal injection port 5.
Next, in a sealing material applying step 7 of FIG. 1, as shown in FIG. 2 (IV), a UV curable resin such as a modified acrylic resin is applied as a sealing material 8 to the liquid crystal injection port 5 and its periphery by a dispenser, In the subsequent sealing step 9 (FIG. 1), the resin is irradiated with light energy to cure the sealing material 8, thereby manufacturing a liquid crystal cell.
【0027】ところで、本実施の形態では、前記封止工
程9において、380nm以下の波長が遮断された38
0nm以上の波長域を有する光を前記樹脂に照射する第
1の照射処理を施した後、380nm以下の波長域を含
む広波長域の光を前記樹脂に照射する第2の照射処理を
施している。By the way, in the present embodiment, in the sealing step 9, the wavelength of 380 nm or shorter is blocked 38.
After performing a first irradiation process of irradiating the resin with a light having a wavelength range of 0 nm or more, a second irradiation process of irradiating the resin with a light of a wide wavelength range including a wavelength range of 380 nm or less There is.
【0028】このように第1の照射処理で380nm以
下の波長が遮断された380nm以上の波長域を有する
光を前記樹脂に照射するようにしたのは以下の理由によ
る。As described above, the first irradiation treatment is performed at 380 nm or less.
The reason why the resin is irradiated with light having a wavelength range of 380 nm or more in which the lower wavelength is blocked is as follows.
【0029】照射手段としての高圧水銀ランプは、図3
に示すようなスペクトル特性を有しており、この図3か
ら明らかなように、低波長域では360nm付近の波長
域をピークとするエネルギの大きな光によって液晶の劣
化分解等液晶に悪影響を及ぼしていることが判る。した
がって、このような液晶に悪影響を及ぼすような波長域
の光が封止材8に長時間照射されるのを遮断する必要が
あることから、第1の照射処理では380nm以下の波
長が遮断された380nm以上の波長域を有する光のみ
を照射することとした。A high pressure mercury lamp as an irradiation means is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, the light having large energy having a peak in the wavelength range near 360 nm in the low wavelength region has a bad influence on the liquid crystal such as deterioration and decomposition of the liquid crystal. It is understood that there is. Therefore, it is necessary to block the sealing material 8 from being irradiated with light in a wavelength range that adversely affects the liquid crystal for a long time. Therefore, in the first irradiation processing, a wavelength of 380 nm or less is used.
It was decided to irradiate only the light having a wavelength range of 380 nm or more whose length was cut off .
【0030】次に、封止工程9において、第1の照射処
理の他、第2の照射処理を施すことにしたのは以下の理
由による。Next, in the sealing step 9, the second irradiation process is performed in addition to the first irradiation process for the following reason.
【0031】上述したように液晶に悪影響を及ぼさない
ためには、380nm以下の波長が遮断された波長域が
380nm以上の光を使用して照射する必要があるが、
380nm以下の波長が遮断された波長域が380nm
以上の光はエネルギが小さいため、空気と非接触状態に
ある樹脂深部については光照射による重合反応が進行し
て硬化するものの、樹脂表面は酸素阻害により上述した
タック状態を解消することができない。また、長時間に
亙って光照射を施した場合は、多量の光が液晶セル11
に付与されて樹脂表面の硬化を促進するが、光による熱
エネルギにより液晶が劣化分解して液晶表示に局所的な
乱れを来す。したがって、本実施の形態では、樹脂深部
を硬化させた後に樹脂表面又は表面層を迅速に硬化させ
るべく、エネルギの大きな380nm以下の紫外線波長
域を含む広波長域の光を第1の照射処理の完了後に前記
樹脂に対して照射することとした。しかも、この場合、
樹脂表面又は表面層のみを硬化させるだけでよいため、
照射時間は短時間で済み、液晶に悪影響を及ぼすのを回
避することができる。As described above, in order to prevent the liquid crystal from being adversely affected, it is necessary to irradiate using light having a wavelength range of 380 nm or more in which a wavelength of 380 nm or less is blocked .
The wavelength range in which wavelengths below 380 nm are blocked is 380 nm
Since the energy of the above light is small, the deep resin portion that is not in contact with the air is cured by the polymerization reaction by light irradiation, but the resin surface cannot eliminate the tack state due to oxygen inhibition. In addition, when the light is irradiated for a long time, a large amount of light is emitted.
Is applied to accelerate the curing of the resin surface, but the heat energy of light deteriorates and decomposes the liquid crystal, causing local disorder in the liquid crystal display. Therefore, in the present embodiment, in order to quickly cure the resin surface or surface layer after the resin deep portion is cured, light of a wide wavelength range including an ultraviolet wavelength range of 380 nm or less with large energy is used in the first irradiation treatment. After the completion, the resin was irradiated. And in this case,
Since only the resin surface or surface layer needs to be cured,
The irradiation time is short, and it is possible to avoid adversely affecting the liquid crystal.
【0032】このように本実施の形態は、第1の照射処
理では380nm以下の波長が遮断された波長域が38
0nm以上の光を封止材8であるUV硬化樹脂に照射し
て空気と接触する前記封止材の表面又は表面層よりも空
気と非接触状態にある樹脂深部を硬化させ、第2の照射
処理で380nm以下を含む広波長域の光をUV硬化樹
脂に照射して空気と非接触状態にある前記封止材の深部
よりも空気と接触している樹脂表面又は表面層を硬化さ
せるようにしている。As described above, in this embodiment, the wavelength range in which the wavelength of 380 nm or less is cut off is 38 in the first irradiation process.
The UV curable resin as the encapsulant 8 is irradiated with light having a wavelength of 0 nm or more to cure the resin deep part which is in non-contact with the air or the surface layer of the encapsulant in contact with air. A deep portion of the encapsulant that is not in contact with air by irradiating the UV curable resin with light in a wide wavelength range including 380 nm or less in the second irradiation process.
Rather than curing the resin surface or surface layer in contact with air.
【0033】尚、光エネルギ及び照射時間は、照射手段
として高圧水銀ランプを使用した場合、第1の照射処理
については光エネルギを1000mJ/cm2 以下に設
定した場合で照射時間は1〜10分に設定するのが望ま
しく、第2の照射処理については光エネルギを500m
J/cm2以下に設定した場合で照射時間は10秒程度
に設定するのが望ましい。The light energy and the irradiation time are 1 to 10 minutes when a high pressure mercury lamp is used as the irradiation means and the light energy is set to 1000 mJ / cm 2 or less in the first irradiation process. It is desirable to set the light energy to 500 m for the second irradiation process.
When it is set to J / cm 2 or less, it is desirable to set the irradiation time to about 10 seconds.
【0034】そして、このような液晶セルをバッチ式
(回分式)で製造する場合は、第1の照射処理を、図4
に示すようなフィルタ特性を有する紫外線カットフィル
タ(以下、「UVカットフィルタ」という)を使用して
容易に行うことができる。When such a liquid crystal cell is manufactured by a batch method (batch method), the first irradiation treatment is performed as shown in FIG.
It can be easily performed by using an ultraviolet cut filter having a filter characteristic as shown in (hereinafter referred to as "UV cut filter").
【0035】すなわち、図4に示すような380nm以
下の低波長域の光を遮断可能とするフィルタ特性のUV
カットフィルタを作製し、次いで、図5(a)に示すよ
うに、炉内に配設された高圧水銀ランプ10の下方に封
止材8を塗布した液晶セル11を配置する。さらに、前
記フィルタ特性を有する2個のUVフィルタ12a、1
2bを連結し、該2個のUVカットフィルタ12a、1
2bを高圧水銀ランプ10と液晶セル11との間に介装
する。That is, as shown in FIG. 4, UV having a filter characteristic capable of blocking light in the low wavelength region of 380 nm or less.
A cut filter is manufactured, and then, as shown in FIG. 5A, a liquid crystal cell 11 coated with a sealing material 8 is arranged below a high pressure mercury lamp 10 arranged in a furnace. Furthermore, the two UV filters 12a, 1 having the above filter characteristics
2b are connected, and the two UV cut filters 12a, 1
2b is interposed between the high pressure mercury lamp 10 and the liquid crystal cell 11.
【0036】次に、高圧水銀ランプ10を点灯して該高
圧水銀ランプ10からの光を液晶セル11に照射する。
そしてこれにより、破線(矢印A及び矢印B)に示すよ
うに、UVカットフィルタ12a、12bにより液晶に
悪影響を及ぼす380nm以下の低波長域の光が遮断さ
れ、実線(矢印C)に示すように液晶に悪影響を及ぼさ
ない380nm以上の長波長域の光のみが液晶セル11
に照射され、これにより空気と非接触状態にある樹脂深
部の硬化処理が行われる。Next, the high pressure mercury lamp 10 is turned on to irradiate the liquid crystal cell 11 with light from the high pressure mercury lamp 10.
As a result, as shown by broken lines (arrows A and B), the UV cut filters 12a and 12b block light in the low wavelength region of 380 nm or less, which adversely affects the liquid crystal, and as shown by solid lines (arrow C). Only light in the long wavelength region of 380 nm or more that does not adversely affect the liquid crystal is in the liquid crystal cell 11
And the resin deep portion that is not in contact with air is cured.
【0037】このようにして樹脂深部の硬化処理が施さ
れた後、図5(b)に示すように、UVカットフィルタ
12a、12bを矢印D方向及び矢印E方向にそれぞれ
移動させて該UVカットフィルタ12a、12bを炉内
から除去すると共に、高圧水銀ランプ10からの380
nm以下の波長域を含む広波長域の光を液晶セル11に
短時間照射して樹脂表面を硬化させ、これにより液晶セ
ル11を容易に製造することができる。After the hardening treatment of the resin deep portion is performed in this way, as shown in FIG. 5B, the UV cut filters 12a and 12b are moved in the arrow D direction and the arrow E direction, respectively. The filters 12a and 12b are removed from the furnace and the 380 from the high pressure mercury lamp 10 is removed.
The liquid crystal cell 11 can be easily manufactured by irradiating the liquid crystal cell 11 with light in a wide wavelength range including a wavelength range of nm or less for a short time to cure the resin surface.
【0038】次に、前記液晶セルを連続的に搬送して製
造する液晶セル製造装置について説明する。Next, a liquid crystal cell manufacturing apparatus for continuously conveying and manufacturing the liquid crystal cell will be described.
【0039】図6は本液晶セル製造装置の概略を示す内
部構造図であって、該液晶セル製造装置は、多数の液晶
セル11を矢印F方向に順次搬送するベルトコンベア1
3(搬送手段)と、該ベルトコンベア13により搬送さ
れる液晶セル11の封止材8を照射する第1及び第2の
高圧水銀ランプ14a、14b(照射手段)と、第1の
高圧水銀ランプ14aから射出される光のうち、380
nm以下の波長域の光を遮断するUVカットフィルタ1
5(フィルタ手段)と、前記第1及び第2の高圧水銀ラ
ンプ14a、14b、UVカットフィルタ15を内有す
る連続炉16とから成り、さらに、第1の高圧水銀ラン
プ14aは、UVカットフィルタ15と対向状に該UV
カットフィルタ15の上方に複数個列設されている。FIG. 6 is an internal structural view showing the outline of the present liquid crystal cell manufacturing apparatus. The liquid crystal cell manufacturing apparatus is a belt conveyor 1 for sequentially transporting a large number of liquid crystal cells 11 in the direction of arrow F.
3 (conveying means), the first and second high pressure mercury lamps 14a and 14b (irradiating means) for irradiating the sealing material 8 of the liquid crystal cell 11 conveyed by the belt conveyor 13, and the first high pressure mercury lamp. 380 of the light emitted from 14a
UV cut filter 1 that blocks light in the wavelength range below nm
5 (filter means), the first and second high-pressure mercury lamps 14a and 14b, and the continuous furnace 16 having the UV cut filter 15 therein. Further, the first high-pressure mercury lamp 14a includes the UV cut filter 15 And the UV
A plurality of rows are provided above the cut filter 15.
【0040】このように構成された液晶セル製造装置に
おいては、第1の高圧水銀ランプ14aからの光はUV
カットフィルタ15により380nm以下の低波長域の
光が遮断されるため、380nm以下の波長が遮断され
た380nm以上の波長域の光がベルトコンベア13上
の液晶セル11に照射される。そして、複数の第1の高
圧水銀ランプ14aからの光エネルギを重合開始剤とし
て重合反応が進行し、液晶セル11がベルトコンベア1
3により前記複数の第1の高圧水銀ランプ14aの下方
を通過する間に封止材8である樹脂の深部が完全硬化す
る。次いで、液晶セル11はベルトコンベア13により
第2の高圧水銀ランプ14bの下方に搬送されると、該
液晶セル11には第2の高圧水銀ランプ14bからの3
80nm以下の波長域を含む光が照射されて封止材8で
ある樹脂の表面が硬化し、液晶注入口5が封止されて液
晶セル11が完成する。In the liquid crystal cell manufacturing apparatus configured as described above, the light from the first high pressure mercury lamp 14a is UV.
Since the cut filter 15 blocks light in the low wavelength region of 380 nm or less, it blocks wavelengths of 380 nm or less.
Further , light in the wavelength range of 380 nm or more is applied to the liquid crystal cell 11 on the belt conveyor 13. Then, the polymerization reaction proceeds using the light energy from the plurality of first high-pressure mercury lamps 14a as a polymerization initiator, and the liquid crystal cell 11 becomes the belt conveyor 1
Due to 3, the deep portion of the resin as the sealing material 8 is completely cured while passing below the plurality of first high pressure mercury lamps 14a. Then, when the liquid crystal cell 11 is conveyed below the second high-pressure mercury lamp 14b by the belt conveyor 13, the liquid crystal cell 11 receives the liquid from the second high-pressure mercury lamp 14b.
The surface of the resin that is the sealing material 8 is cured by being irradiated with light including a wavelength range of 80 nm or less, and the liquid crystal injection port 5 is sealed to complete the liquid crystal cell 11.
【0041】このように本液晶セル製造装置によれば、
液晶セル11をベルトコンベア13で搬送するだけで、
第1の照射処理及び第2の照射処理を連続的に実行する
ことができ、簡単な装置で液晶セル11を大量生産する
ことが可能となる。しかも、第1の高圧水銀ランプ14
aが、UVカットフィルタ15と対向状に複数個設けら
れているので、380nm以下の低波長域の光を遮断す
るUVカットフィルタ15を通過した380nm以上の
波長域を有する多量の光が液晶セル11に照射され、こ
れにより樹脂深部では所望の重合反応が進行して樹脂深
部の硬化を容易に行うことができる。Thus, according to the present liquid crystal cell manufacturing apparatus,
By simply transporting the liquid crystal cell 11 on the belt conveyor 13,
The first irradiation process and the second irradiation process can be continuously executed, and the liquid crystal cells 11 can be mass-produced with a simple device. Moreover, the first high pressure mercury lamp 14
Since a is provided in plural so as to face the UV cut filter 15, it blocks light in the low wavelength region of 380 nm or less.
The liquid crystal cell 11 is irradiated with a large amount of light having a wavelength range of 380 nm or more that has passed through the UV cut filter 15, whereby a desired polymerization reaction proceeds in the resin deep portion, and the resin deep portion can be easily cured. .
【0042】尚、本発明は上記実施の形態に限定される
ものではない。上記実施の形態ではシール層3の材料
(シール材)としてエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を使
用したが、シール材は液晶注入前に完全硬化するように
処理されるため、UV硬化樹脂を使用してもよく、特
に、この場合はシール材の硬化を短時間で行うことがで
きるため、より一層の生産性向上を図ることもできる。The present invention is not limited to the above embodiment. Although a thermosetting resin such as an epoxy resin is used as the material (sealing material) of the seal layer 3 in the above-described embodiment, a UV curable resin is used because the sealing material is treated so as to be completely cured before liquid crystal injection. In particular, in this case, since the sealing material can be hardened in a short time, it is possible to further improve the productivity.
【0043】[0043]
【実施例】次に、本発明の実施例を具体的に説明する。EXAMPLES Next, examples of the present invention will be specifically described.
【0044】本願発明者は、3種類の液晶材料及び3種
類の封止材を使用してこれら液晶材料と封止材とを組み
合わせた5種類の液晶セルを作製し、各々液晶セルに対
して第1及び第2の照射処理を施した本発明実施例の試
験片、第1の照射処理のみを行った比較例の試験片、及
び第2の照射処理のみを行った比較例(従来例)の試験
片を夫々1個宛、計15個の試験片をバッチ式で作製し
た。The inventor of the present application uses three kinds of liquid crystal materials and three kinds of encapsulating materials to produce five kinds of liquid crystal cells in which these liquid crystal materials and encapsulating materials are combined, and for each liquid crystal cell, The test piece of the present invention example subjected to the first and second irradiation treatments, the test piece of the comparative example subjected to only the first irradiation treatment, and the comparative example (conventional example) subjected to the second irradiation treatment only. Each of the test pieces of No. 1 was addressed to a total of 15 test pieces in a batch manner.
【0045】すなわち、まず、横50mm、縦100m
m、厚さ1.1mmの2枚のガラス基板2a、2bを用
意し、一方のガラス基板(第1のガラス基板2a)につ
いては、その上面に透明電極を形成し、且つ所定の配向
処理を施した後、スクリーン印刷法により、第1のガラ
ス基板2aの上面に形成された略枠状パターンにエポキ
シ樹脂を塗布しシール層3を形成した。That is, first, the width is 50 mm and the length is 100 m.
Two glass substrates 2a and 2b having a thickness of m and a thickness of 1.1 mm are prepared. For one glass substrate (first glass substrate 2a), a transparent electrode is formed on the upper surface and a predetermined alignment treatment is performed. After the application, epoxy resin was applied to the substantially frame-shaped pattern formed on the upper surface of the first glass substrate 2a by screen printing to form the seal layer 3.
【0046】次いで、第2のガラス基板2bを、前記第
1のガラス基板2aのシール層3に積載し、セルギャッ
プが約8μmとなるように加熱プレスで加圧することに
より第1のガラス基板2aと第2のガラス基板2bとを
シール層3を介して貼り合わせ、液晶注入口5を形成し
た。Next, the second glass substrate 2b is placed on the seal layer 3 of the first glass substrate 2a and pressed by a heating press so that the cell gap becomes about 8 μm. Then, the second glass substrate 2b and the second glass substrate 2b were bonded together via the seal layer 3 to form the liquid crystal injection port 5.
【0047】次いで、真空注入法により前記液晶注入口
5から所望の液晶を注入し、シール層3と2枚のガラス
基板2a、2bにより画成された空間部(空セル部)に
液晶を供給した。尚、本実施例では、液晶としては、2
種類のトラン系液晶(トラン系液晶A、トラン系液晶
B)及び1種類のエステル系液晶を使用した。より具体
的には、トラン系液晶Aとしては、安価な汎用のTN
(Twisted Nematic:ねじれネマティック)形液晶を使用
し、トラン系液晶Bとしては紫外線に敏感に反応する低
電圧TN形液晶を使用し、エステル系液晶としては紫外
線に敏感に反応し且つ大容量表示に適した低電圧STN
(Super Twisted Nematic:超ねじれネマティック)形液
晶を使用した。Next, a desired liquid crystal is injected from the liquid crystal injection port 5 by a vacuum injection method, and the liquid crystal is supplied to the space portion (empty cell portion) defined by the seal layer 3 and the two glass substrates 2a and 2b. did. In this embodiment, the liquid crystal is 2
One type of tolan-based liquid crystal (tran type liquid crystal A, tolan type liquid crystal B) and one type of ester type liquid crystal were used. More specifically, the tran liquid crystal A is an inexpensive general-purpose TN.
(Twisted Nematic) type liquid crystal is used, low voltage TN type liquid crystal which is sensitive to ultraviolet ray is used as the tolan type liquid crystal B, and ultraviolet ray is sensitive as the ester type liquid crystal and has a large capacity display. Suitable low voltage STN
(Super Twisted Nematic) type liquid crystal was used.
【0048】次に、封止材8として変成アクリル樹脂を
各試験片の液晶注入口5及びその周辺に塗布した。具体
的には、長手方向の寸法が最大10mm、厚さが最大1
mmとなるように楕円形状にディスペンサで液晶注入口
5及びその周辺に変成アクリル樹脂を塗布した。ここ
で、変成アクリル樹脂としては、トラン系液晶Aに対し
てはLPD−173(日本ロックタイト社製)を使用
し、トラン系液晶B及びエステル系液晶に対してはLP
D−173(日本ロックタイト社製)又は30Y−27
4−4(スリーボンド社製)を使用した。Next, a modified acrylic resin was applied as the sealing material 8 to the liquid crystal injection port 5 and its periphery of each test piece. Specifically, the maximum length is 10 mm and the maximum thickness is 1 mm.
The modified acrylic resin was applied to the liquid crystal injection port 5 and its periphery with a dispenser in an elliptical shape so as to have a size of mm. Here, as the modified acrylic resin, LPD-173 (manufactured by Nippon Loctite Co., Ltd.) is used for the tolan type liquid crystal A, and LP is used for the tolan type liquid crystal B and the ester type liquid crystal.
D-173 (Nippon Loctite) or 30Y-27
4-4 (manufactured by ThreeBond Co., Ltd.) was used.
【0049】そして、UVカットフィルタ12a、12
bを介して高圧水銀ランプ10を試験片に90秒間照射
して第1の照射処理を施し、次いでUVカットフィルタ
12a、12bを除去した状態で高圧水銀ランプ10を
10秒間、再度試験片に照射して第2の照射処理を施
し、これにより本発明実施例の試験片を作製した。Then, the UV cut filters 12a, 12
The test piece is irradiated with the high-pressure mercury lamp 10 through b for 90 seconds for the first irradiation treatment, and then the high-pressure mercury lamp 10 is irradiated again for 10 seconds on the test piece with the UV cut filters 12a and 12b removed. Then, the second irradiation treatment was performed, thereby producing the test piece of the example of the present invention.
【0050】また、前記第1の照射処理のみ、及び前記
第2の照射処理のみを行い、比較例の試験片を夫々作製
した。Further, only the first irradiation treatment and the second irradiation treatment were carried out to produce test pieces of comparative examples.
【0051】尚、高圧水銀ランプとしてはHHL−40
00/C−OS(オーク製作所製)を使用した。As a high pressure mercury lamp, HHL-40
00 / C-OS (Oak Seisakusho) was used.
【0052】そして、これら各試験片について初期電流
値の測定及び信頼性試験(耐湿試験、高温放置試験、高
温動作試験)を行った。Then, an initial current value was measured and a reliability test (a humidity resistance test, a high temperature storage test, a high temperature operation test) was performed on each of the test pieces.
【0053】初期電流値は、電圧3V、周波数32Hz
下、スタティック駆動させて測定した。尚、この初期電
流値は、液晶にどの程度の不純物が混入して表示駆動に
影響を与えているかの尺度となるものであり、通常、値
の低い方が不純物量が少ないと考えられている。Initial current value is voltage 3V, frequency 32Hz
Underneath, static driving was performed. It should be noted that this initial current value is a measure of how much impurities are mixed in the liquid crystal to affect the display drive, and it is generally considered that the lower the value, the smaller the amount of impurities. .
【0054】また、信頼性試験のうち、耐湿試験は温度
80℃、湿度90%下で実験を行い、240時間放置し
た後、液晶表示に乱れが生じるか否かにより評価した。
高温放置試験は実験室の室温を95℃に設定し、240
時間放置した後、液晶表示に乱れが生じるか否かにより
評価した。高温動作試験は実験室の室温を70℃に設定
し、240時間放置した後、液晶表示に乱れが生じるか
否かにより評価した。Of the reliability tests, the humidity resistance test was conducted at a temperature of 80 ° C. and a humidity of 90%, and after standing for 240 hours, evaluation was made based on whether or not the liquid crystal display was disturbed.
In the high temperature storage test, the room temperature of the laboratory was set at 95 ° C, and 240
After being left for a time, it was evaluated whether or not the liquid crystal display was disturbed. In the high temperature operation test, the room temperature in the laboratory was set to 70 ° C., and after leaving it for 240 hours, it was evaluated whether or not the liquid crystal display was disturbed.
【0055】表1〜表5は本実験で作製された15個の
試験片について、その実験結果を示している。Tables 1 to 5 show the experimental results of the 15 test pieces produced in this experiment.
【0056】[0056]
【表1】 [Table 1]
【0057】[0057]
【表2】 [Table 2]
【0058】[0058]
【表3】 [Table 3]
【0059】[0059]
【表4】 [Table 4]
【0060】[0060]
【表5】
表1〜表5中、実施例1〜5は本発明の製造方法により
液晶セルを製造した場合の実験結果を示し、比較例11
〜比較例15は第1の照射処理のみを行った場合の実験
結果を示し、比較例21〜比較例25は第2の照射処理
のみを行った場合の実験結果を示している。また、信頼
性試験中、○は表示の乱れが認められず良好な結果が得
られたことを示し、△は表示の乱れが局部的に僅かに認
められた場合を示し、×は表示の乱れが部分的に認めら
れ、不良と判定された場合を示している。[Table 5] In Tables 1 to 5, Examples 1 to 5 show experimental results when a liquid crystal cell was manufactured by the manufacturing method of the present invention, and Comparative Example 11
-Comparative example 15 shows an experimental result when only the first irradiation treatment is performed, and Comparative examples 21 to 25 show an experimental result when only the second irradiation treatment is performed. Also, during the reliability test, ○ indicates that the display was not disturbed and good results were obtained, △ indicates that the display was locally slightly disturbed, and × indicates the display disorder. Is partially recognized and is judged to be defective.
【0061】この表1〜表5から明らかなように、液晶
材料と封止材とが同一の場合は、いずれにおいても比較
例の初期電流値は実施例の初期電流値を上回っている。As is clear from Tables 1 to 5, when the liquid crystal material and the sealing material are the same, the initial current value of the comparative example exceeds the initial current value of the example in all cases.
【0062】すなわち、比較例11〜15は380nm
以下の波長域の光を遮断した第1の照射処理のみを行っ
ているため、光エネルギが小さく、したがって封止に必
要な重合が完了するまでに樹脂中の未硬化物が液晶中に
混入する。また、比較例21〜25は380nm以下の
波長域を含む広波長域の光を照射する第2の照射処理の
みを行っているため、エネルギの大きな光により樹脂表
面が迅速に硬化し、その結果樹脂深部では重合反応が進
行しにくくなって未硬化物が残存し、該未硬化物が液晶
中に混入する。そして、このように比較例11〜15及
び比較例21〜25は液晶中への不純物の混入が多いた
め、実施例1〜5に比べて初期電流値が増加すると考え
られる。That is, Comparative Examples 11 to 15 have a wavelength of 380 nm.
Since only the first irradiation treatment that blocks light in the following wavelength range is performed, the light energy is small, and therefore the uncured material in the resin is mixed into the liquid crystal by the time the polymerization required for sealing is completed. . In addition, Comparative Examples 21 to 25 perform only the second irradiation process of irradiating light in a wide wavelength range including a wavelength range of 380 nm or less, so that the resin surface is rapidly cured by light having large energy, and as a result, In the deep part of the resin, the polymerization reaction does not proceed easily, and the uncured material remains, and the uncured material is mixed in the liquid crystal. Further, as described above, in Comparative Examples 11 to 15 and Comparative Examples 21 to 25, the amount of impurities mixed in the liquid crystal is large, and thus it is considered that the initial current value is increased as compared with Examples 1 to 5.
【0063】これに対して実施例1〜5は、比較例11
〜15及び比較例21〜25に比べて不純物の混入が少
ないため、初期電流値も低く、低消費電力の要請の観点
からも比較例11〜15及び比較例21〜25に比べて
優れていることが判る。On the other hand, in Examples 1 to 5, Comparative Example 11
15 to 15 and Comparative Examples 21 to 25, the amount of impurities is less mixed, so that the initial current value is also low, and is superior to Comparative Examples 11 to 15 and Comparative Examples 21 to 25 from the viewpoint of low power consumption. I understand.
【0064】尚、表3及び表5から明らかなように、液
晶材料としてエステル系液晶を使用した場合は、初期電
流値の増加は微小であるが、これはエステル系液晶に関
しては、初期電流値が不純物の影響を受けにくいためと
思われる。As is clear from Tables 3 and 5, when the ester-based liquid crystal is used as the liquid crystal material, the increase in the initial current value is very small. Is likely to be less affected by impurities.
【0065】また、信頼性試験においては、第1の照射
処理のみを行った比較例11〜比較例15では、耐湿試
験及び高温動作試験は良好であったが、高温放置試験で
は局部的な表示の乱れが僅かに認められた。これは、樹
脂表面まで完全に硬化させるためには長時間の光照射が
必要となり、光による熱エネルギの影響を受けて液晶の
表示に悪影響を及ぼすためと考えられる。Further, in the reliability test, in Comparative Examples 11 to 15 in which only the first irradiation treatment was performed, the humidity resistance test and the high temperature operation test were good, but in the high temperature storage test, the local display was performed. The turbulence was slightly recognized. It is considered that this is because light irradiation for a long time is required to completely cure the resin surface, and the influence of heat energy due to light adversely affects the display of the liquid crystal.
【0066】また、第2の照射処理のみを行った比較例
21〜比較例25では、耐湿試験は良好であったが、高
温放置試験及び高温動作試験では部分的に表示の乱れが
生じ、良好な結果が得られなかった。すなわち、封止材
8に対して380nm以下の低波長域を含む光が封止工
程9において常に照射されるため、樹脂表面は迅速且つ
容易に硬化するが、硬化した樹脂表面により樹脂同士の
重合に必要な重合エネルギが吸収等されるため、樹脂深
部が硬化しにくくなり、その結果或る程度の長時間に亙
って該紫外光を液晶セル11に照射しなければならず、
有機物質である液晶の劣化分解を招来するものと考えら
れる。In Comparative Examples 21 to 25 in which only the second irradiation treatment was performed, the humidity resistance test was good, but in the high temperature storage test and the high temperature operation test, the display was partially disturbed, which was good. No results were obtained. That is, since the encapsulating material 8 is constantly irradiated with light including a low wavelength region of 380 nm or less in the encapsulation step 9, the resin surface cures quickly and easily, but the cured resin surface causes the resin to polymerize. Since the polymerization energy required for the absorption of the resin is difficult, the resin deep portion is hard to cure, and as a result, the liquid crystal cell 11 must be irradiated with the ultraviolet light for a certain long time.
It is considered that this causes deterioration and decomposition of the liquid crystal which is an organic substance.
【0067】これに対して、実施例1〜5は信頼性試験
においても良好な結果が得られ、表示ムラ等の表示品位
が低下することもなく信頼性に優れた液晶セルを得るこ
とができることが確認された。On the other hand, in Examples 1 to 5, good results were obtained also in the reliability test, and liquid crystal cells having excellent reliability could be obtained without deterioration of display quality such as display unevenness. Was confirmed.
【0068】尚、エステル系液晶は不純物混入の影響を
受けにくいため、上述したように比較例の初期電流値は
実施例の初期電流値に微小な増加を示しているに過ぎな
いが、信頼性試験においてはトラン系液晶と同様の結果
を得た。これはエステル系液晶に使用した低電圧STN
形液晶は、僅かの熱や紫外線の影響を受けて劣化した
り、或いは微量の不純物の混入により表示動作の安定性
を損なう性質を有するためと考えられる。Since the ester type liquid crystal is not easily affected by the mixing of impurities, the initial current value of the comparative example shows only a slight increase in the initial current value of the example as described above. In the test, the same result as that of the tran liquid crystal was obtained. This is a low voltage STN used for ester liquid crystal
It is conceivable that the shaped liquid crystal has a property of being deteriorated under the influence of a slight amount of heat or ultraviolet rays, or having a property of impairing the stability of the display operation due to the inclusion of a slight amount of impurities.
【0069】したがって、液晶材料の種類の如何に拘わ
らず、本発明実施例のように第1及び第2の照射処理を
実行することにより、表示特性や信頼性に優れた液晶セ
ルを得ることができることが確認された。Therefore, regardless of the type of liquid crystal material, by performing the first and second irradiation treatments as in the embodiment of the present invention, a liquid crystal cell having excellent display characteristics and reliability can be obtained. It was confirmed that it was possible.
【0070】[0070]
【発明の効果】以上詳述したように本発明に係る液晶セ
ルの製造方法は、2枚の透明基板の間に液晶を注入する
液晶注入工程と、該液晶注入工程で注入された液晶を紫
外線硬化樹脂からなる封止材で封止する封止工程とを含
む液晶セルの製造方法において、封止工程が、380n
m以下の波長が遮断された380nm以上の波長域を有
する光を封止材に照射する第1の照射処理を施した後、
380nm以下の波長域を含む広波長域の光を第1の照
射処理における照射時間よりも短い時間で封止材に照射
する第2の照射処理を施し、また、第1の照射処理は、
空気と接触する封止材の表面又は表面層よりも空気と非
接触状態にある封止材の深部を硬化させ、さらに、第2
の照射処理は、空気と非接触状態にある封止材の深部よ
りも空気と接触する封止材の表面又は表面層を硬化させ
ているので、液晶に悪影響を与えることなく封止材のみ
を効率良く硬化させることができ、したがって表示ムラ
等の表示品位が低下することもなく、表示特性や信頼性
に優れた液晶セルを製造することができる。As described above in detail, in the method for manufacturing a liquid crystal cell according to the present invention, a liquid crystal injecting step of injecting a liquid crystal between two transparent substrates and a liquid crystal injected in the liquid crystal injecting step are irradiated with ultraviolet rays. production method smell of a liquid crystal cell including a sealing step of sealing with a sealing material made of the cured resin Te, sealing step, 380 N
After performing a first irradiation process of irradiating the sealing material with light having a wavelength range of 380 nm or more in which a wavelength of m or less is blocked,
The first wavelength of light in a wide wavelength range including a wavelength range of 380 nm or less
A second irradiation process for irradiating the sealing material in a shorter time than the irradiation time in the elevation processing on, were or, the first irradiation treatment,
From the surface or surface layer of the sealing tape in contact with the air to cure the deep sealing material in a non-contact state with air, a further, second
In the irradiation treatment of, since the surface or surface layer of the encapsulant that is in contact with air is hardened more than the deep part of the encapsulant that is not in contact with air, only the encapsulant is applied without adversely affecting the liquid crystal. The liquid crystal cell can be efficiently cured, and thus display quality such as display unevenness does not deteriorate, and a liquid crystal cell having excellent display characteristics and reliability can be manufactured.
【0071】また、本発明に係る液晶セル製造装置は、
紫外線硬化樹脂からなる封止材が所定箇所に塗布された
液晶セルを搬送する搬送手段と、該搬送手段により搬送
される液晶セルを照射する第1の照射手段と、第1の照
射手段による照射時間よりも短い時間で封止材を照射す
る第2の照射手段と、第1の照射手段から射出される光
のうち、380nm以下の波長域の光を遮断するフィル
タ手段とを備えているので、上記表示特性や信頼性に優
れた液晶セルを簡単な装置で大量生産することができ
る。Further, the liquid crystal cell manufacturing apparatus according to the present invention is
A transport means for transporting the liquid crystal cell coated with a sealing material made of an ultraviolet curable resin at a predetermined position, a first irradiating means for irradiating the liquid crystal cell transported by the transport means, and a first irradiating means. Teru
Irradiate the encapsulant in a shorter time than the irradiation time by the irradiation means.
That a second illumination means, among the light emitted from the first irradiation means is provided with the filter means for blocking light of a wavelength region 380 nm, a liquid crystal having excellent to the display characteristics and reliability The cells can be mass-produced with a simple device.
【0072】また、第1の照射手段が、フィルタ手段と
対向状に複数個設けられることにより、380nm以下
の波長域の光を遮断するフィルタ手段を通過した380
nm以上の波長域を有する多量の光が液晶セルに照射さ
れ、封止材の深部硬化を容易に行うことができる。[0072] Also, the first irradiation means, by provided a plurality in the filter means and the counter-shaped, passing through the filter means for blocking light of a wavelength range 380 nm 380
A large amount of light having a wavelength range of nm or more is applied to the liquid crystal cell, and the deep part of the sealing material can be easily cured.
【図1】本発明に係る液晶セルの製造方法の一実施の形
態を示す製造工程図である。FIG. 1 is a manufacturing process diagram showing an embodiment of a method of manufacturing a liquid crystal cell according to the present invention.
【図2】液晶セルの製造手順の概略を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an outline of a manufacturing procedure of a liquid crystal cell.
【図3】高圧水銀ランプのスペクトル特性を示す特性図
である。FIG. 3 is a characteristic diagram showing spectral characteristics of a high pressure mercury lamp.
【図4】液晶セルをバッチ式で製造する場合の手順を説
明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining a procedure for manufacturing a liquid crystal cell by a batch method.
【図5】UVカットフィルタのフィルタ特性を示す特性
図である。FIG. 5 is a characteristic diagram showing a filter characteristic of a UV cut filter.
【図6】本発明に係る液晶セル製造装置の一実施の形態
を示す概略図である。FIG. 6 is a schematic view showing an embodiment of a liquid crystal cell manufacturing apparatus according to the present invention.
2a ガラス基板(透明基板) 2b ガラス基板(透明基板) 6 液晶注入工程 9 封止工程 11 液晶セル 13 ベルトコンベア(搬送手段) 14a 第1の高圧水銀ランプ(照射手段) 14b 第2の高圧水銀ランプ(照射手段) 15 UVカットフィルタ(フィルタ手段) 2a glass substrate (transparent substrate) 2b glass substrate (transparent substrate) 6 Liquid crystal injection process 9 Sealing process 11 Liquid crystal cell 13 Belt conveyor (conveying means) 14a First high-pressure mercury lamp (irradiation means) 14b Second high-pressure mercury lamp (irradiation means) 15 UV cut filter (filter means)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1341 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/1341
Claims (4)
晶注入工程と、該液晶注入工程で注入された液晶を紫外
線硬化樹脂からなる封止材で封止する封止工程とを含む
液晶セルの製造方法において、 前記封止工程は、380nm以下の波長が遮断された3
80nm以上の波長域を有する光を前記封止材に照射す
る第1の照射処理を施した後、380nm以下の波長域
を含む広波長域の光を前記第1の照射処理における照射
時間よりも短い時間で前記封止材に照射する第2の照射
処理を施すことを特徴とする液晶セルの製造方法。1. A liquid crystal injecting step of injecting liquid crystal between two transparent substrates, and a sealing step of encapsulating the liquid crystal injected in the liquid crystal injecting step with an encapsulant made of an ultraviolet curable resin. In the method for manufacturing a liquid crystal cell, in the encapsulation step, a wavelength of 380 nm or less is blocked.
After performing a first irradiation process of irradiating the sealing material with a light having a wavelength range of 80 nm or more, a wide wavelength range of light including a wavelength range of 380 nm or less is irradiated in the first irradiation process.
A method of manufacturing a liquid crystal cell, which comprises performing a second irradiation treatment of irradiating the sealing material in a time shorter than the time .
前記封止材の表面又は表面層よりも空気と非接触状態に
ある前記封止材の深部を硬化させ、前記第2の照射処理
は、空気と非接触状態にある前記封止材の深部よりも空
気と接触する前記封止材の表面又は表面層を硬化させる
ことを特徴とする請求項1記載の液晶セルの製造方法。2. The first irradiation treatment cures a deep portion of the encapsulant which is in non-contact with air more than a surface or a surface layer of the encapsulant in contact with air, and the second irradiation. The method for producing a liquid crystal cell according to claim 1, wherein the treatment cures a surface or a surface layer of the encapsulant that is in contact with air rather than a deep portion of the encapsulant that is not in contact with air.
所に塗布された液晶セルを搬送する搬送手段と、該搬送
手段により搬送される前記液晶セルの前記封止材を照射
する第1の照射手段と、前記第1の照射手段による照射
時間よりも短い時間で前記封止材を照射する第2の照射
手段と、前記第1の照射手段から射出される光のうち、
380nm以下の波長域の光を遮断するフィルタ手段と
を備えていることを特徴とする液晶セル製造装置。3. A transport means for transporting a liquid crystal cell coated with a sealant made of an ultraviolet curable resin at a predetermined location, and a first means for irradiating the sealant for the liquid crystal cell transported by the transport means . Irradiation means and irradiation by the first irradiation means
Of the light emitted from the second irradiation means for irradiating the sealing material in a time shorter than the time and the light emitted from the first irradiation means,
A liquid crystal cell manufacturing apparatus comprising: a filter unit that blocks light in a wavelength range of 380 nm or less.
段と対向状に複数個設けられていることを特徴とする請
求項3記載の液晶セル製造装置。4. The liquid crystal cell manufacturing apparatus according to claim 3, wherein a plurality of the first irradiation means are provided so as to face the filter means.
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