KR100672638B1 - Method of manufacturing Liquid Crystal Display Device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하부기판 및 상부기판을 준비하는 공정; 상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 UV경화형 씨일재를 형성하는 공정; 상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 액정을 적하하는 공정; 상기 양 기판을 합착하는 공정; 상기 씨일재가 형성된 영역 이외의 영역을 가리도록 상기 합착 기판의 상측 및 하측에 이중으로 마스크를 위치시키는 공정; 및 상기 마스크가 위치된 합착 기판에 UV를 조사하여 상기 씨일재를 경화시키는 공정을 포함하는 액정표시소자의 제조방법에 관한 것으로서, The present invention is a step of preparing a lower substrate and an upper substrate; Forming a UV-curable seal material on any one of the above substrates; Dropping liquid crystal onto any one of the above substrates; Bonding the substrates together; Placing a mask on the upper side and the lower side of the bonded substrate so as to cover an area other than a region where the seal material is formed; And it relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device comprising the step of curing the seal material by irradiating UV to the bonded substrate on which the mask is located,

본 발명에 따르면 기판 상에 형성된 배향막 및 박막트랜지스터 등의 소자특성에 악영향을 미치지 않고 씨일재를 경화시킬 수 있다. According to the present invention, the seal material can be cured without adversely affecting device characteristics such as an alignment film and a thin film transistor formed on the substrate.

UV조사, 마스크 UV irradiation, mask

Description

액정표시소자의 제조방법{Method of manufacturing Liquid Crystal Display Device}Method of manufacturing liquid crystal display device

도 1은 종래의 액정적하방식에 의한 액정표시소자의 제조공정을 도시한 사시도이다.1 is a perspective view illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device by a conventional liquid crystal dropping method.

도 2a 내지 도 2d는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시소자의 제조공정을 도시한 사시도이다.2A to 2D are perspective views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 액정표시소자의 제조공정을 도시한 개략적 레이아웃이다.3 is a schematic layout showing a manufacturing process of a liquid crystal display device according to the present invention.

<도면의 주요부에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1, 10 : 하부기판 3, 30 : 상부기판 1, 10: lower substrate 3, 30: upper substrate

5, 50 : 액정 7, 70 : UV경화형 씨일재 5, 50: liquid crystal 7, 70: UV curing seal material

80 : 제1마스크 82 : 제2마스크 80: first mask 82: second mask

9, 90 : 광조사 장치9, 90: light irradiation apparatus

본 발명은 액정표시소자(Liquid Crystal Display : LCD)에 관한 것으로서, 보다 구체적으로, 액정적하방식에 의한 액정표시소자의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a liquid crystal display (LCD), and more particularly, to a method of manufacturing a liquid crystal display device by a liquid crystal dropping method.

표시화면의 두께가 수 센치미터(cm)에 불과한 초박형의 평판표시소자(Flat Panel Display), 그 중에서도 액정표시소자는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.Ultra-thin flat panel displays with a display screen thickness of only a few centimeters (cm). Among them, liquid crystal displays have low operating voltages, which consume less power and can be used as portable devices. Applications range from monitors to spacecraft to aircraft.

이와 같은 액정표시소자는 일반적으로 그 위에 박막트랜지스터와 화소전극이 형성되어 있는 하부기판과, 상기 하부기판과 대향되도록 형성되며 그 위에 차광막, 칼라필터층, 및 공통전극이 형성되어 있는 상부기판과, 그리고 상기 양 기판 사이에 형성되어 있는 액정층으로 구성되어 있으며, 상기 화소전극과 공통전극에 의해 양 기판 사이에 전기장이 형성되어 액정층이 구동되고, 그 구동되는 액정층을 통해서 광투과도가 조절되어 화상이 디스플레이되게 된다. Such a liquid crystal display device generally includes a lower substrate on which a thin film transistor and a pixel electrode are formed, an upper substrate formed to face the lower substrate, and a light blocking film, a color filter layer, and a common electrode formed thereon; The liquid crystal layer is formed between the two substrates. An electric field is formed between the two substrates by the pixel electrode and the common electrode to drive the liquid crystal layer, and the light transmittance is adjusted through the driven liquid crystal layer. Will be displayed.

이와 같은 구조의 액정표시소자에 있어서, 상기 하부기판과 상부기판 사이에 액정층을 형성하는 방법으로서, 종래에는 모세관 현상과 압력차를 이용한 진공주입방식을 사용하였는데, 이하 진공주입방식에 의한 종래의 액정표시소자의 제조방법에 대해서 설명한다. In the liquid crystal display device having such a structure, as a method of forming a liquid crystal layer between the lower substrate and the upper substrate, a vacuum injection method using a capillary phenomenon and a pressure difference is conventionally used. The manufacturing method of a liquid crystal display element is demonstrated.

우선, 박막트랜지스터와 화소전극을 구비한 하부기판과, 차광막, 칼라필터층 및 공통전극을 구비한 상부기판을 제조한다. First, a lower substrate including a thin film transistor and a pixel electrode, and an upper substrate including a light blocking film, a color filter layer, and a common electrode are manufactured.

그리고, 양 기판 사이의 균일한 셀갭을 유지하기 위해서 어느 하나의 기판에 스페이서를 형성하고, 액정이 바깥으로 새는 것을 방지하고 양 기판을 접착할 수 있도록 어느 하나의 기판 가장자리에 씨일재를 형성하게 된다. 이때, 상기 씨일재 로는 에폭시 씨일재와 같은 열경화형 씨일재가 주로 사용된다. In order to maintain a uniform cell gap between the two substrates, spacers are formed on one of the substrates, and a seal material is formed on one of the substrate edges to prevent liquid crystals from leaking out and to bond the two substrates. . In this case, as the seal material, a thermosetting seal material such as an epoxy seal material is mainly used.

그리고, 상기 양 기판을 합착한다. 이때 상기 에폭시 씨일재는 에폭시 수지와 개시제가 혼합된 것으로서, 가열되면 개시제에 의해 활성화된 에폭시 수지가 가교 결합을 통해 고분자화되어 접착력이 뛰어난 씨일재로 작용한다. Then, both substrates are bonded together. At this time, the epoxy seal material is a mixture of an epoxy resin and an initiator, and when heated, the epoxy resin activated by the initiator is polymerized through crosslinking to act as a seal material having excellent adhesion.

그리고, 상기 합착된 양 기판을 진공챔버에 위치시켜 기판 내부를 진공상태로 유지한 후 액정에 담근다. 이와 같이 기판 내부가 진공이 되면 모세관 현상에 의해 액정이 기판 내부로 빨려 올라가게 된다. The bonded substrates are placed in a vacuum chamber to maintain the inside of the substrate in a vacuum state, and then immerse them in the liquid crystal. As such, when the inside of the substrate becomes a vacuum, the liquid crystal is sucked up into the inside of the substrate by a capillary phenomenon.

그리고, 액정이 기판 내부에 어느 정도 채워졌을 때 서서히 질소(N2)를 진공챔버 내로 주입하면 기판 내부와 주위와의 압력차가 발생하여 액정이 기판 내부의 빈공간을 채우게 되어 결국 양 기판 사이에 액정층이 형성되게 된다.When the liquid crystal is filled to some extent inside the substrate, when nitrogen (N 2 ) is gradually injected into the vacuum chamber, a pressure difference occurs between the inside of the substrate and the surroundings, and the liquid crystal fills the empty space inside the substrate. A layer is formed.

그러나, 이와 같은 진공주입방식은 표시화면이 대면적화 됨에 따라 액정주입시간이 장시간 소요되어 생산성이 떨어지는 문제점이 발생하였다.However, in this vacuum injection method, as the display screen becomes larger, the liquid crystal injection time takes a long time, resulting in a problem of low productivity.

따라서, 상기 문제점을 해결하기 위해서 액정적하방식이라는 새로운 방법이 제안되었는데, 이하 첨부된 도면을 참조로 종래의 액정적하방식에 의한 액정표시소자의 제조방법을 설명한다.Therefore, in order to solve the above problems, a new method called a liquid crystal dropping method has been proposed. Hereinafter, a method of manufacturing a liquid crystal display device by a conventional liquid crystal dropping method will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1a 내지 도 1d는 종래의 액정적하방식에 의한 액정표시소자의 제조공정을 도시한 사시도이다.1A to 1D are perspective views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device by a conventional liquid crystal dropping method.

우선, 도 1a와 같이, 하부기판(1)과 상부기판(3)을 준비한다. 도면에는 도시하지 않았으나, 하부기판(1) 상에는 종횡으로 교차하여 화소영역을 정의하는 복수 개의 게이트배선과 데이터배선을 형성하고, 상기 게이트배선과 데이터배선의 교차점에 박막트랜지스터를 형성하며, 상기 박막트랜지스터와 연결되는 화소전극을 상기 화소영역에 형성한다. First, as shown in FIG. 1A, the lower substrate 1 and the upper substrate 3 are prepared. Although not shown in the drawing, a plurality of gate lines and data lines are formed on the lower substrate 1 to cross each other in a vertical direction, and a thin film transistor is formed at an intersection point of the gate line and the data line, and the thin film transistor is formed. A pixel electrode connected to the electrode is formed in the pixel region.

또한, 상부기판(3) 상에는 상기 게이트배선, 데이터배선, 및 박막트랜지스터 형성영역에서 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 차광막을 형성하고, 그 위에 적색, 녹색, 및 청색의 칼라필터층을 형성하고, 그 위에 공통전극을 형성한다. 또한, 상기 하부기판(1)과 상부기판(3) 중 적어도 하나의 기판 위에 액정의 초기배향을 위한 배향막을 형성할 수 있다. In addition, a light shielding film is formed on the upper substrate 3 to block light leakage from the gate wiring, data wiring, and thin film transistor forming regions, and a color filter layer of red, green, and blue is formed thereon. The common electrode is formed thereon. In addition, an alignment layer for initial alignment of liquid crystals may be formed on at least one of the lower substrate 1 and the upper substrate 3.

그리고, 도 1b와 같이, 상기 하부기판(1) 위에 씨일재(7)를 형성하고, 액정(5)을 적하하여 액정층을 형성한다. 그리고, 상기 상부기판(3) 위에 셀갭유지를 위한 스페이서를 산포한다. 1B, the seal material 7 is formed on the lower substrate 1, and the liquid crystal 5 is dropped to form a liquid crystal layer. Then, the spacer for cell gap maintenance is dispersed on the upper substrate (3).

그리고, 도 1c와 같이, 상기 하부기판(1)과 상부기판(3)을 합착한다.As shown in FIG. 1C, the lower substrate 1 and the upper substrate 3 are bonded to each other.

이때, 전술한 진공주입방식에 의한 액정표시소자는 액정이 주입되기 전에 양 기판의 합착공정이 수행되지만, 액정적하방식에 의한 액정표시소자는 액정(5)이 적하된 후 양 기판(1,3)의 합착공정이 수행되므로, 상기 씨일재(7)로서 열경화형 씨일재를 사용하게 되면 씨일재(7)가 가열되는 동안 흘러나와 액정(5)이 오염되는 문제점이 발생된다.In this case, the above-described vacuum injection method of the liquid crystal display device is a bonding process of the two substrates before the liquid crystal is injected, the liquid crystal display device by the liquid crystal dropping method after the liquid crystal (5) dropping both substrates (1, 3) Since the bonding process of) is performed, when the thermosetting seal material is used as the seal material 7, the sealing material 7 flows while the seal material 7 is heated, thereby causing a problem in that the liquid crystal 5 is contaminated.

따라서, 액정적하방식에 의한 액정표시소자에서는 상기 씨일재(7)로서 UV(Ultra Violet)경화형 씨일재를 사용하게 된다. Therefore, in the liquid crystal display device by the liquid crystal dropping method, UV (Ultra Violet) hardening type sealing material is used as the sealing material 7.

그리고, 도 1d와 같이, UV조사장치(9)를 통해 UV를 조사하여 상기 씨일재(7) 를 경화시킨다.And, as shown in Figure 1d, by irradiating UV through the UV irradiation device (9) to cure the seal material (7).

그러나, 이와 같이 합착된 양 기판(1,3)의 전면에서 UV를 조사하게 되면, 기판 상에 형성된 박막트랜지스터 등의 소자 특성에 악영향을 미치게 되며, 액정의 초기배향을 위해 형성된 배향막의 프리틸트각(pretilt angle)이 변하게 되는 문제점이 발생된다.However, when UV is irradiated from the entire surfaces of the substrates 1 and 3 bonded in this way, the characteristics of devices such as thin film transistors formed on the substrate are adversely affected, and the pretilt angle of the alignment layer formed for the initial alignment of liquid crystals. (pretilt angle) is a problem that changes.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 배향막 및 박막트랜지스터 등의 특성에 악영향을 미치지 않고 씨일재를 경화시키기 위한 액정표시소자의 제조방법을 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device for curing the seal material without adversely affecting the characteristics of the alignment film and the thin film transistor.

상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 하부기판 및 상부기판을 준비하는 공정; 상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 UV경화형 씨일재를 형성하는 공정; 상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 액정을 적하하는 공정; 상기 양 기판을 합착하는 공정; 상기 씨일재가 형성된 영역 이외의 영역을 가리도록 상기 합착 기판의 상측 및 하측에 이중으로 마스크를 위치시키는 공정; 및 상기 마스크가 위치된 합착 기판에 UV를 조사하여 상기 씨일재를 경화시키는 공정을 포함하는 액정표시소자의 제조방법을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention comprises the steps of preparing a lower substrate and an upper substrate; Forming a UV-curable seal material on any one of the above substrates; Dropping liquid crystal onto any one of the above substrates; Bonding the substrates together; Placing a mask on the upper side and the lower side of the bonded substrate so as to cover an area other than a region where the seal material is formed; And it provides a method for manufacturing a liquid crystal display device comprising the step of curing the seal material by irradiating UV to the bonded substrate on which the mask is located.

즉, 본 발명은 씨일재가 형성된 영역에만 UV를 조사하고 다른 영역으로의 UV 조사를 차단함으로써, 배향막 및 박막트랜지스터 등의 특성에 악영향을 미치지 않고 씨일재를 경화시키도록 한 것이다.That is, the present invention is to irradiate UV only to the region where the seal material is formed and to block UV irradiation to other areas, thereby curing the seal material without adversely affecting the characteristics of the alignment film and the thin film transistor.

또한, 합착기판의 상측 또는 하측의 어느 일방에만 마스크를 형성하고 UV를 조사하게 되면 마스크가 형성되지 않은 반대측에서 반사되는 UV에 의해 전술한 바와 동일한 문제점이 발생될 수 있다. 따라서, 본 발명은 합착기판의 상측 및 하측에 이중으로 마스크를 형성시킴으로써, 조사된 UV가 씨일재 형성 영역 이외의 영역으로 조사되는 것을 방지하는 것이다.In addition, if the mask is formed on only one of the upper and lower sides of the bonded substrate and irradiated with UV, the same problem as described above may be caused by the UV reflected from the opposite side where the mask is not formed. Accordingly, the present invention is to prevent the irradiated UV from being irradiated to a region other than the seal material forming region by forming a mask on the upper side and the lower side of the bonded substrate.

이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2a 내지 도 2d는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시소자의 제조공정을 도시한 사시도이다. 도면에는 하나의 단위셀만이 도시되어 있으나, 기판의 크기에 따라 기판 상에 복수개의 단위셀이 형성될 수 있다.2A to 2D are perspective views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention. Although only one unit cell is shown in the drawing, a plurality of unit cells may be formed on the substrate according to the size of the substrate.

우선, 도 2a와 같이, 하부기판(10)과 상부기판(30)을 준비한다. 도면에는 도시하지 않았으나, 하부기판(10) 상에는 종횡으로 교차하여 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트배선과 데이터배선을 형성하고, 상기 게이트배선과 데이터배선의 교차점에 게이트전극, 게이트절연막, 반도체층, 오믹콘택층, 소스/드레인 전극, 및 보호막으로 이루어진 박막트랜지스터를 형성하며, 상기 박막트랜지스터와 연결되는 화소전극을 상기 화소영역에 형성한다. First, as shown in FIG. 2A, the lower substrate 10 and the upper substrate 30 are prepared. Although not shown in the drawing, a plurality of gate lines and data lines are formed on the lower substrate 10 to cross each other in a vertical direction, and define a gate electrode, a gate insulating film, a semiconductor layer, A thin film transistor including an ohmic contact layer, a source / drain electrode, and a passivation layer is formed, and a pixel electrode connected to the thin film transistor is formed in the pixel area.

또한, 상기 화소전극 위에 액정의 초기배향을 위한 배향막을 형성한다. 이때, 상기 배향막은 폴리아미드(polyamide) 또는 폴리이미드(polyimide)계 화합물, PVA(polyvinylalcohol), 폴리아믹산(polyamic acid)등의 물질을 러빙 배향 처리하여 형성할 수도 있고, PVCN(polyvinylcinnamate), PSCN(polysiloxanecinnamate), 또는 CelCN(cellulosecinnamate)계 화합물과 같은 광반응성 물질을 광 배향 처리하여 형성할 수도 있다. In addition, an alignment layer for initial alignment of liquid crystal is formed on the pixel electrode. In this case, the alignment layer may be formed by rubbing alignment treatment of a polyamide or polyimide compound, PVA (polyvinylalcohol), polyamic acid, or the like, or PVCN (polyvinylcinnamate) or PSCN (polyvinylcinnamate). Photoreactive materials such as polysiloxanecinnamate) or CelCN (cellulosecinnamate) -based compounds may be formed by photoalignment treatment.

또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 상부기판(30) 상에는 상기 게이트배선, 데이터배선, 및 박막트랜지스터 형성영역에서 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 차광막을 형성하고, 상기 차광막 위에 적색, 녹색, 및 청색의 칼라필터층을 형성하고, 상기 칼라필터층 위에 공통전극을 형성한다. 또한, 상기 칼라필터층과 공통전극 사이에 오버코트층을 추가로 형성할 수도 있다. 또한, 상기 공통전극 상에는 전술한 배향막을 형성한다.Although not shown in the drawings, a light shielding film is formed on the upper substrate 30 to block light leakage from the gate wiring, data wiring, and thin film transistor forming regions, and a red, green, and blue color is formed on the light blocking film. A color filter layer is formed, and a common electrode is formed on the color filter layer. In addition, an overcoat layer may be further formed between the color filter layer and the common electrode. In addition, the alignment layer described above is formed on the common electrode.

그리고, 상기 하부기판(10)의 외곽부에는 은(Ag)을 도트(dot)형상으로 형성하여 상기 양 기판(10, 30)의 합착 후 상기 상부기판(10) 위의 공통전극에 전압을 인가할 수 있도록 한다. In addition, silver (Ag) is formed in a dot shape on the outer portion of the lower substrate 10 to apply voltage to the common electrode on the upper substrate 10 after the bonding of the substrates 10 and 30. Do it.

한편, IPS(In Plane Switching) 모드 액정표시소자의 경우는 공통전극을 화소전극과 동일한 하부기판 상에 형성하여 횡전계를 유도하게 되며, 상기 은(Ag) 도트는 형성하지 않는다.In the case of an In Plane Switching (IPS) mode liquid crystal display device, the common electrode is formed on the same lower substrate as the pixel electrode to induce the transverse electric field, and the silver dot is not formed.

그리고, 도 2b와 같이, 상기 하부기판(10) 위에 액정(50)을 적하하여 액정층을 형성하고, 상기 상부기판(30)의 가장자리에 스크린 인쇄법(Screen Printing Method)이나 디스펜서법(Dispensing Method)에 의해 주입구 없는 폐쇄된 패턴으로 UV경화형 씨일재(70)를 형성한다. As shown in FIG. 2B, a liquid crystal layer is dropped on the lower substrate 10 to form a liquid crystal layer, and a screen printing method or a dispenser method is formed at an edge of the upper substrate 30. UV-curable seal member 70 is formed in a closed pattern without an injection hole.

이때, 후공정에서 상기 씨일재(70)가 경화되기 전에 상기 액정(50)이 씨일재(70)와 만나게 되면 액정(50)이 오염되므로 상기 하부기판(10)의 중앙부에 액정(50)을 적하한다. 이와 같이 중앙부에 적하된 액정(50)은 상기 씨일재(70)가 경화된 후까지 서서히 퍼져나가 기판 전체에 동일한 밀도로 분포되게 된다. At this time, if the liquid crystal 50 meets the seal material 70 before the seal material 70 is cured in a later process, the liquid crystal 50 is contaminated, so that the liquid crystal 50 is placed at the center of the lower substrate 10. Dropping As such, the liquid crystal 50 dropped in the central portion is gradually spread until the seal material 70 is cured, and is distributed at the same density throughout the substrate.

한편, 이에 한정되지 않고, 상기 액정(50)을 상부기판(30)상에 형성할 수 있으며, 상기 UV경화형 씨일재(70)를 하부기판(10)상에 형성할 수도 있다. 또한, 상기 액정(50)과 UV경화형 씨일재(70)를 동일기판에 형성할 수도 있다. 다만, 상기 액정(50)과 UV경화형 씨일재(70)를 동일기판에 형성할 경우, 액정과 UV경화형 씨일재가 형성되는 기판과 그렇지 않은 기판과의 공정간에 불균형이 발생되어 공정시간이 많이 소요되며, 액정과 씨일재가 동일기판에 형성되므로 합착전에 씨일재에 오염물질이 형성된다 하더라도 기판 세정을 할 수 없게 되므로, 상기 액정과 씨일재는 서로 다른 기판에 형성하는 것이 바람직하다. Meanwhile, the present invention is not limited thereto, and the liquid crystal 50 may be formed on the upper substrate 30, and the UV-curable seal material 70 may be formed on the lower substrate 10. In addition, the liquid crystal 50 and the UV-curable seal material 70 may be formed on the same substrate. However, when the liquid crystal 50 and the UV-curable seal material 70 are formed on the same substrate, an imbalance occurs between the process between the liquid crystal and the UV-curable seal material and the substrate on which the UV-curable seal material is formed. Since the liquid crystal and the seal material are formed on the same substrate, even if a contaminant is formed on the seal material before bonding, the substrate cannot be cleaned. Therefore, the liquid crystal and the seal material are preferably formed on different substrates.

따라서, 도 2b와 같이 상기 상부기판(30)위에 UV경화형 씨일재(70)를 형성한 후 후공정인 합착 공정전에 상기 상부기판(30)을 세정하는 세정공정을 추가로 할 수 있다. Therefore, as shown in FIG. 2B, after the UV-curable seal material 70 is formed on the upper substrate 30, a cleaning process for cleaning the upper substrate 30 before the bonding process, which is a post process, may be further performed.

이때, 상기 UV경화형 씨일재(70)로는 양 말단에 아크릴기가 결합된 모노머 또는 올리고머를 개시제와 혼합하여 사용하거나, 한쪽 말단에는 아크릴기가 다른 쪽 말단에는 에폭시기가 결합된 모노머 또는 올리고머를 개시제와 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다. In this case, the UV-curable seal material 70 is used by mixing monomers or oligomers having an acrylic group bonded to both ends with an initiator, or mixing monomers or oligomers having an acrylic group bonded to an acrylic group at one end thereof with an initiator. It is preferable to use.

또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 양 기판(10,30) 중 어느 하나의 기판, 바람직하게는 상기 상부기판(30) 위에 셀갭유지를 위한 스페이서를 형성할 수 있다. In addition, although not shown in the drawings, a spacer for maintaining a cell gap may be formed on any one of the substrates 10 and 30, preferably the upper substrate 30.

상기 스페이서는 볼 스페이서를 적정농도로 용액속에 혼합한 후 분사노즐에서 고압으로 기판상에 산포하여 형성할 수도 있고, 칼럼 스페이서를 상기 게이트배 선 또는 데이터배선 형성영역에 대응하는 기판상에 부착하여 형성할 수도 있으나, 볼 스페이서는 대면적에 적용할 경우에 셀갭이 불균일하게 되는 단점이 있으므로 대면적 기판에는 칼럼 스페이서를 형성하는 것이 바람직하다.The spacers may be formed by mixing the ball spacers in a solution at an appropriate concentration and then spreading them on the substrate at a high pressure with a spray nozzle. The spacers may be formed by attaching a column spacer onto a substrate corresponding to the gate wiring or data wiring forming region. However, since the ball spacer has a disadvantage in that the cell gap is uneven when applied to a large area, it is preferable to form a column spacer on the large area substrate.

이때, 상기 칼럼 스페이서로는 감광성 유기수지를 사용하는 것이 바람직하다.In this case, it is preferable to use a photosensitive organic resin as the column spacer.

그리고, 도 2c와 같이, 상기 하부기판(10)과 상부기판(30)을 합착한다. 합착공정은 상기 양기판 중 액정이 적하되어 있는 일 기판을 하면에 고정하고, 나머지 다른 일 기판을 레이어(layer) 형성면이 상기 일 기판을 향하도록 180도 회전하여 상면에 위치시킨 후, 상면에 위치된 일 기판에 압력을 가하여 양 기판을 합착하거나, 또는 상기 이격되어 있는 양 기판 사이를 진공으로 형성한 후 진공을 해제하여 양 기판을 합착할 수도 있다. As shown in FIG. 2C, the lower substrate 10 and the upper substrate 30 are bonded to each other. In the bonding process, one substrate on which the liquid crystal is dropped is fixed to the lower surface of the two substrates, and the other substrate is rotated 180 degrees so that the layer forming surface faces the one substrate, and then placed on the upper surface. The two substrates may be bonded by applying pressure to one positioned substrate, or the two substrates may be bonded by releasing the vacuum after forming a vacuum between the spaced two substrates.

그리고, 도 2d와 같이, 상기 합착기판의 상측 및 하측에 제1마스크(80) 및 제2마스크(82)를 위치시켜 상기 UV경화형 씨일재(70)가 형성된 영역 이외의 영역을 마스크(80, 82)로 가리고 UV조사장치(90)를 통해 UV를 조사한다.As shown in FIG. 2D, the mask 80 may be formed on the upper side and the lower side of the bonded substrate by placing the first mask 80 and the second mask 82 on a portion other than the region where the UV-curable seal material 70 is formed. 82) and irradiates UV through the UV irradiation device (90).

이때, 도면에는 상기 UV조사장치(90)를 합착기판의 상측에 형성한 경우만 도시되어 있으나, 상기 UV조사장치(90)를 합착기판의 하측에 형성할 수도 있다. 또한, 도면에는 합착기판의 상부기판(30)면으로 UV조사하는 경우만 도시되어 있으나, 합착기판을 회전하여 하부기판(10)면으로 UV조사하도록 하는 것도 가능하다. At this time, the drawing shows only the case where the UV irradiation apparatus 90 is formed on the upper side of the bonded substrate, but the UV irradiation apparatus 90 may be formed on the lower side of the bonded substrate. In addition, although only the case of UV irradiation to the upper substrate 30 surface of the bonded substrate is shown in the figure, it is also possible to rotate the bonded substrate to UV irradiation to the lower substrate 10 surface.

이와 같이 본 발명은 합착기판의 상측 및 하측에 이중으로 마스크를 형성시키고 UV를 조사함으로써 UV가 반사되어 씨일재 형성 영역 이외의 영역으로 조사되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 상기 UV조사를 합착기판 내부 및 외부에 수행하여 의도적으로 조사한 UV가 반사될 수 있도록 장비를 구성함으로써, UV조사효율을 높여 상기 UV경화형 씨일재(70)의 경화를 촉진시킬 수 있다. As described above, the present invention can prevent the UV from being reflected and irradiated to a region other than the seal material forming region by forming a mask on the upper side and the lower side of the bonded substrate and irradiating UV. In addition, by performing the UV irradiation to the inside and outside of the bonded substrate by configuring the equipment to reflect the UV irradiation intentionally, it is possible to increase the UV irradiation efficiency to promote the curing of the UV-curable seal material (70).

이와 같이 UV를 조사하면 상기 UV경화형 씨일재를 구성하는 개시제에 의해 활성화된 모노머 또는 올리고머가 중합반응 하여 고분자화 됨으로써 하부기판(10)과 상부기판(30)이 접착되게 된다. When UV is irradiated as described above, the lower substrate 10 and the upper substrate 30 are adhered to each other by polymerizing a monomer or oligomer activated by an initiator constituting the UV-curable seal material.

이때, 상기 UV경화형 씨일재로서 한쪽 말단에는 아크릴기가 다른 쪽 말단에는 에폭시기가 결합된 모노머 또는 올리고머를 개시제와 혼합하여 사용한 경우는, 이와 같은 UV조사에 의해 에폭시기가 반응하지 않으므로, 상기 UV조사공정 후에 추가로 가열공정을 행하여 씨일재를 완전 경화한다. 상기 가열공정은 약 120℃에서 1시간 정도 수행하는 것이 바람직하다. In this case, when the monomer or oligomer having an acrylic group bonded to an acrylic group at one end of the UV-curable seal material is mixed with an initiator with the initiator, the epoxy group does not react by such UV irradiation. Furthermore, a heating process is performed and the sealing material is completely hardened. The heating step is preferably performed for about 1 hour at about 120 ℃.

그리고, 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 UV조사공정 후에 단위셀로 기판을 절단하는 공정 및 최종 검사 공정을 수행하게 된다.Although not shown in the drawings, a process of cutting a substrate into a unit cell and a final inspection process are performed after the UV irradiation process.

상기 단위셀로 기판을 절단하는 공정은 유리보다 경도가 높은 다이아몬드 재질의 펜으로 기판의 표면에 절단선을 형성(스크라이브 공정 : scribing process)한 후 기계적 힘을 가해 상기 절단선을 따라서 기판을 절단(브레이크 공정 : break process)하여 수행할 수도 있고, 다이아몬드 재질의 펜을 톱니형태로 형성시켜 스크라이브 및 브레이크 공정을 하나의 공정으로 수행할 수도 있다.In the process of cutting the substrate using the unit cell, a diamond pen having a hardness higher than that of glass is used to form a cutting line on the surface of the substrate (scribing process), and then, a mechanical force is applied to cut the substrate along the cutting line. Break process: It may be performed by a break process, or a scribe and brake process may be performed as a single process by forming a diamond pen into a sawtooth shape.

상기 최종 검사 공정은 상기 셀단위로 절단된 기판이 액정모듈로 조립되기 전에 불량유무를 확인하는 공정으로, 전압 인가시 또는 무인가시 각각의 화소가 올 바르게 구동하는지 여부를 검사하게 된다. The final inspection process is a process of confirming whether the substrate cut in the cell unit is defective before assembling into the liquid crystal module. The final inspection process checks whether each pixel is properly driven when voltage is applied or no voltage is applied.

도 3은 상술한 본 발명에 따른 액정표시소자의 제조공정을 도시한 개략적인 레이아웃이다.3 is a schematic layout showing a manufacturing process of the liquid crystal display device according to the present invention described above.

도 3과 같이, 본 발명은 상부기판을 준비하고 그 위에 배향막을 형성한 후 그 위에 씨일재를 형성하여 상부기판을 완성한다. 또한, 하부기판을 준비하고 그 위에 배향막을 형성한 후 그 위에 액정을 적하하여 하부기판을 완성한다. 이때, 상기 상부기판과 하부기판의 제조공정은 동시에 진행되게 되며, 상기 액정 및 씨일재가 기판에 선택적으로 형성될 수 있음은 전술한 바와 같다. As shown in FIG. 3, the present invention prepares an upper substrate, forms an alignment layer thereon, and then forms a seal material thereon to complete the upper substrate. In addition, a lower substrate is prepared, an alignment layer is formed thereon, and then a liquid crystal is dropped thereon to complete the lower substrate. At this time, the manufacturing process of the upper substrate and the lower substrate is carried out at the same time, the liquid crystal and the seal material can be selectively formed on the substrate as described above.

그리고, 상기 완성된 양기판을 합착한 후, UV를 조사하여 씨일재를 경화시키고, 셀단위로 기판을 절단한 후, 최종 검사공정을 수행하여 하나의 액정셀을 완성하게 된다. Then, after bonding the finished positive substrate, and then irradiated with UV to cure the seal material, cut the substrate by a cell unit, and performs a final inspection process to complete one liquid crystal cell.

본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것이 아니라, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 범위내에서 변경 실시될 수 있을 것이다.The present invention is not limited to the above embodiments, but may be modified within the scope obvious to those skilled in the art.

본 발명은 합착 기판의 상측 및 하측에 이중으로 마스크를 형성하고 UV를 조사함으로써 UV경화형 씨일재가 형성된 영역에만 UV가 조사되고 그 이외의 영역으로 UV조사가 차단되어, 기판 상에 형성된 배향막이 손상되거나, 박막트랜지스터 등의 소자 특성이 저하되지 않게 된다. In the present invention, by forming a mask on the upper side and the lower side of the bonded substrate and irradiating UV, UV is irradiated only to the region where the UV-curable seal material is formed and UV irradiation is blocked to other regions, thereby damaging the alignment layer formed on the substrate. Device characteristics such as thin film transistors are not deteriorated.

또한, UV를 합착 기판면 및 그 이외의 영역에 조사하여 일부 조사된 UV가 반사되도록 함으로써, UV조사효율을 높여 UV경화형 씨일재의 경화를 촉진시킬 수 있 다.

In addition, by irradiating UV on the surface of the bonded substrate and other areas to reflect the partially irradiated UV, it is possible to increase the UV irradiation efficiency to promote the curing of the UV-curable seal material.

Claims (10)

하부기판 및 상부기판을 준비하는 공정;Preparing a lower substrate and an upper substrate; 상기 상부기판 상에 UV경화형 씨일재를 형성하는 공정;Forming a UV curable seal material on the upper substrate; 상기 하부기판 상에 액정을 적하하는 공정;Dropping liquid crystal onto the lower substrate; 상기 상부기판과 하부기판을 합착하는 공정; Bonding the upper substrate and the lower substrate together; 상기 씨일재가 형성된 영역 이외의 영역을 가리도록 상기 합착 기판의 상측 및 하측에 이중으로 마스크를 위치시키는 공정; 및 Placing a mask on the upper side and the lower side of the bonded substrate so as to cover an area other than a region where the seal material is formed; And 상기 마스크가 위치된 합착 기판에 UV를 조사하여 상기 씨일재를 경화시키는 공정을 포함하는 액정표시소자의 제조방법.And hardening the seal material by irradiating UV to the bonded substrate on which the mask is located. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 씨일재는 양 말단에 아크릴기가 결합된 모노머 또는 올리고머를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.The seal material is a method of manufacturing a liquid crystal display device, characterized in that formed using a monomer or oligomer having an acrylic group bonded to both ends. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 씨일재는 한쪽 말단에는 아크릴기가, 다른 쪽 말단에는 에폭시기가 결합된 모노머 또는 올리고머를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.The seal material is a method of manufacturing a liquid crystal display device, characterized in that formed using a monomer or oligomer having an acrylic group at one end, and an epoxy group at the other end. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 칼럼 스페이서를 형성하는 공정을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.And forming a column spacer on any one of the above two substrates. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 칼럼 스페이서를 상기 상부기판 상에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.The column spacer is formed on the upper substrate. 삭제delete
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