KR20030079429A - Liquid Crystal Display Device and Method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A liquid crystal display device and a method for fabricating the same are provided to form dummy column spacers having openings and dot line type dummy column spacers on the dummy areas for controlling the flow of liquid crystal smoothly. CONSTITUTION: A liquid crystal display device includes upper and lower substrates(200,100), and a UV curing sealant(300) formed on edge areas between the substrates. Dummy column spacers(260) are formed for controlling the flow of the liquid crystal in the UV curing sealant among dummy areas outside pixel areas. The pixel areas are formed with column spacers which keep a cell gap between the substrates. The dummy column spacers are formed with the same height with the column spacers and have an opening(262) at least at a corner via which the liquid crystal flows toward the corner area.

Description

액정표시소자 및 그 제조방법{Liquid Crystal Display Device and Method of manufacturing the same}Liquid Crystal Display Device and Method of Manufacturing the Same

본 발명은 액정표시소자(Liquid Crystal Display : LCD)에 관한 것으로서, 보다 구체적으로, 액정적하방식에 의한 액정표시소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display (LCD), and more particularly, to a liquid crystal display device by a liquid crystal dropping method and a manufacturing method thereof.

표시화면의 두께가 수 센치미터(cm)에 불과한 초박형의 평판표시소자(Flat Panel Display), 그 중에서도 액정표시소자는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.Ultra-thin flat panel displays with a display screen thickness of only a few centimeters (cm). Among them, liquid crystal displays have low operating voltages, which consume less power and can be used as portable devices. Applications range from monitors to spacecraft to aircraft.

이와 같은 액정표시소자는 일반적으로 도 1과 같이, 그 위에 박막트랜지스터와 화소전극이 형성되어 있는 하부기판(1)과, 상기 하부기판(1)과 대향되도록 형성되며 그 위에 차광막, 칼라필터층, 및 공통전극이 형성되어 있는 상부기판(3)과, 그리고 상기 양 기판(1,3) 사이에 형성되어 있는 액정층(5)으로 구성되어 있다.Such a liquid crystal display device generally includes a lower substrate 1 having a thin film transistor and a pixel electrode formed thereon, facing the lower substrate 1, as shown in FIG. 1, and a light blocking film, a color filter layer, and It consists of the upper substrate 3 in which the common electrode is formed, and the liquid crystal layer 5 formed between the said board | substrates 1,3.

또한, 상기 양 기판(1,3) 사이에는 상기 액정(5)이 새는 것을 방지하고 양 기판을 접착시키기 위해서 씨일재(7)가 형성되어 있다.Moreover, the sealing material 7 is formed between the board | substrates 1 and 3 in order to prevent the said liquid crystal 5 from leaking, and to adhere | attach both board | substrates.

이와 같은 구조의 액정표시소자에 있어서, 상기 하부기판(1)과 상부기판(3) 사이에 액정층(5)을 형성하기 위한 방법으로 종래에는 하부기판과 상부기판을 합착한 후 모세관 현상과 압력차를 이용하여 양 기판 사이에 액정을 주입하는 진공주입방식을 사용하였으나, 이 방식은 액정주입에 장시간이 소요되므로 기판이 대면적화 되면 생산성이 떨어지는 문제점이 발생하였다.In the liquid crystal display device having such a structure, a method for forming the liquid crystal layer 5 between the lower substrate 1 and the upper substrate 3 is conventionally bonded to the lower substrate and the upper substrate and then capillary phenomenon and pressure The vacuum injection method of injecting the liquid crystal between both substrates using a difference was used, but this method takes a long time to inject the liquid crystal, and thus, when the substrate becomes large, a problem arises that productivity is reduced.

따라서, 상기 문제점을 해결하기 위해서 액정적하방식이라는 새로운 방법이 제안되었는데, 이하 첨부된 도면을 참조로 종래의 액정적하방식에 의한 액정표시소자의 제조방법을 설명한다.Therefore, in order to solve the above problems, a new method called a liquid crystal dropping method has been proposed. Hereinafter, a method of manufacturing a liquid crystal display device by a conventional liquid crystal dropping method will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2a 내지 도 2d는 종래의 액정적하방식에 의한 액정표시소자의 제조공정을 도시한 사시도이다.2A to 2D are perspective views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device by a conventional liquid crystal dropping method.

우선, 도 2a와 같이, 하부기판(1)과 상부기판(3)을 준비한다. 도면에는 도시하지 않았으나, 하부기판(1) 상에는 종횡으로 교차하여 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트배선과 데이터배선을 형성하고, 상기 게이트배선과 데이터배선의 교차점에 박막트랜지스터를 형성하며, 상기 박막트랜지스터와 연결되는 화소전극을 상기 화소영역에 형성한다.First, as shown in FIG. 2A, the lower substrate 1 and the upper substrate 3 are prepared. Although not shown in the drawing, a plurality of gate wirings and data wirings are formed on the lower substrate 1 to intersect longitudinally and horizontally to define pixel regions, and thin film transistors are formed at intersections of the gate wirings and the data wirings, and the thin film transistors are formed. A pixel electrode connected to the electrode is formed in the pixel region.

또한, 상부기판(3) 상에는 상기 게이트배선, 데이터배선, 및 박막트랜지스터 형성영역에서 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 차광막을 형성하고, 그 위에 적색, 녹색, 및 청색의 칼라필터층을 형성하고, 그 위에 공통전극을 형성한다.In addition, a light shielding film is formed on the upper substrate 3 to block light leakage from the gate wiring, data wiring, and thin film transistor forming regions, and a color filter layer of red, green, and blue is formed thereon. The common electrode is formed thereon.

또한, 상기 하부기판(1)과 상부기판(3) 위에 액정의 초기배향을 위한 배향막을 형성한다.In addition, an alignment layer for initial alignment of liquid crystals is formed on the lower substrate 1 and the upper substrate 3.

그리고, 도 2b와 같이, 상기 하부기판(1) 위에 씨일재(7)를 도포하고, 액정(5)을 적하하여 액정층을 형성한다.As shown in FIG. 2B, the seal material 7 is coated on the lower substrate 1, and the liquid crystal 5 is dropped to form a liquid crystal layer.

그리고, 상기 상부기판(3) 위에 셀갭유지를 위한 스페이서(미도시)를 형성한다. 상기 스페이서로는 기판 상에 산포하여 형성되는 볼 스페이서 또는 기판 상에 부착되어 형성되는 컬럼 스페이서가 적용될 수 있다.In addition, a spacer (not shown) for maintaining a cell gap is formed on the upper substrate 3. The spacer may be a ball spacer formed by being scattered on a substrate or a column spacer attached and formed on the substrate.

이때, 액정적하방식에서는 후 공정인 씨일재 경화공정시 합착기판에 액정층이 형성되어 있어 씨일재(7)로서 열경화형 씨일재를 사용하게 되면 씨일재가 가열되는 동안 흘러나와 액정이 오염될 수 있으므로, UV(Ultraviolet)경화형 씨일재가 사용된다.In this case, in the liquid crystal dropping method, a liquid crystal layer is formed on the bonded substrate during the sealing process, which is a later process. When the thermosetting sealing material is used as the sealing material 7, the liquid may flow out while the sealing material is heated. UV (ultraviolet) hardening sealant is used.

그리고, 도 2c와 같이 상기 하부기판(1)과 상부기판(3)을 합착한다.Then, the lower substrate 1 and the upper substrate 3 are bonded together as shown in FIG. 2C.

그리고, 도 2d와 같이 UV조사장치(9)를 통해 UV를 조사하여 상기 씨일재(7)를 경화시킴으로써 상기 하부기판(1)과 상부기판(3)을 접착시킨다.Then, the lower substrate 1 and the upper substrate 3 are adhered by irradiating UV through the UV irradiation device 9 to cure the seal member 7 as shown in FIG. 2D.

그후, 도시하지는 않았으나 셀절단공정 및 최종검사공정을 수행한다.Thereafter, although not shown, a cell cutting process and a final inspection process are performed.

이와 같이 액정적하방식은 하부기판(1) 상에 직접 액정(5)을 적하한 후 양 기판(1,3)을 합착하므로 진공주입방식에 비해 액정층을 형성하는데 단시간이 소요되는 장점이 있다.As described above, the liquid crystal dropping method has a shorter time to form the liquid crystal layer than the vacuum injection method since the liquid crystals 5 are directly dropped on the lower substrate 1 and then the two substrates 1 and 3 are bonded together.

그러나, 액정적하방식은 기판의 크기 및 양 기판 사이의 셀갭 등을 고려하여 정확한 액정량을 결정하는 것이 용이하지 않아 다음과 같은 단점이 있다.However, the liquid crystal dropping method is not easy to determine the exact amount of liquid crystal in consideration of the size of the substrate and the cell gap between the two substrates, there is a disadvantage as follows.

첫째, 액정 적하시 액정적하량이 부족하게 되면 기판 상에 미충진 영역, 특히 기판 중앙에서 가장 거리가 먼 네 모서리 영역에 미충진 영역이 발생되게 되어, 셀갭의 균일도가 떨어지게 되고, 화상특성이 저하되는 문제점이 발생된다.First, when the liquid crystal dropping amount is insufficient during liquid crystal dropping, an unfilled area is generated on the substrate, particularly in the four corner areas furthest from the center of the substrate, resulting in poor cell gap uniformity and deterioration of image characteristics. Problems arise.

둘째, 액정적하량이 지나칠 경우 액정이 씨일재가 경화되기 전에 씨일재와 만나게 되어 오염될 염려가 있다.Second, if the liquid crystal drop is excessive, the liquid crystal may be contaminated with the seal material before the seal material is cured.

셋째, 액정의 적하량을 정확히 결정하여 적하하였다 하더라도, 기판 중심부에서 가장 거리가 먼 모서리 영역까지 액정이 퍼져나가는데는 소정의 시간이 소요되게 된다. 따라서, 최종검사공정시 모서리 영역까지 액정이 퍼져나가지 못하여 미충진 영역이 발생된 경우에는 최종검사공정을 수행할 수 없게 되는 문제점이 발생된다.Third, even if the dropping amount of the liquid crystal is accurately determined and dropped, it takes a predetermined time for the liquid crystal to spread to the corner region farthest from the center of the substrate. Therefore, when the unfilled region is generated because the liquid crystal does not spread to the edge region during the final inspection process, the final inspection process may not be performed.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은액정이 기판 전면에 균일하게 분포하여 미충진 또는 과충진 영역의 발생을 방지함으로써 셀갭이 균일하고 화상특성이 향상된 액정표시소자 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having a uniform cell gap and improved image characteristics by preventing the occurrence of unfilled or overfilled regions because the liquid crystals are uniformly distributed on the entire surface of the substrate; It is to provide a manufacturing method.

도 1은 일반적인 액정표시소자의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a general liquid crystal display device.

도 2a 내지 도 2d는 종래의 액정적하방식에 의한 액정표시소자의 제조공정을 도시한 사시도이다.2A to 2D are perspective views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device by a conventional liquid crystal dropping method.

도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이다.3 is a plan view of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

도 4a 내지 도 4c는 각각 도 3의 I-I라인의 다양한 실시예에 따른 단면도이다.4A to 4C are cross-sectional views according to various embodiments of the line I-I of FIG. 3, respectively.

도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이다.5 is a plan view of a liquid crystal display device according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이다.6 is a plan view of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

도 7a 내지 도 7c는 각각 도 6의 I-I라인의 다양한 실시예에 따른 단면도이다.7A to 7C are cross-sectional views according to various embodiments of the line I-I of FIG. 6, respectively.

도 8은 본 발명의 제4실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이다.8 is a plan view of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명의 제5실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이다.9 is a plan view of a liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention.

도 10a 내지 도 10c는 각각 도 9의 I-I라인의 다양한 실시예에 따른 단면도이다.10A through 10C are cross-sectional views according to various embodiments of the line I-I of FIG. 9, respectively.

도 11은 본 발명의 제6실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이다.11 is a plan view of a liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention.

도 12a 및 도 12b는 본 발명의 제7실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이다.12A and 12B are plan views of a liquid crystal display device according to a seventh embodiment of the present invention.

도 13a 내지 도 13d는 본 발명의 제8실시예에 따른 액정표시소자의 제조공정을 도시한 사시도이다.13A to 13D are perspective views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device according to an eighth embodiment of the present invention.

도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시소자의 제조공정 중 UV조사공정을 도시한 사시도이다.14 is a perspective view illustrating a UV irradiation step of the manufacturing process of the liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.

<도면의 주요부에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

1, 100 : 하부기판 3, 200 : 상부기판1, 100: lower substrate 3, 200: upper substrate

210 : 차광층 220 : 컬러필터층210: light shielding layer 220: color filter layer

230 : 공통전극 240 : 오버코트층230: common electrode 240: overcoat layer

250 : 컬럼스페이서 260 : 더미컬럼스페이서250: column spacer 260: dummy column spacer

270 : 점선형 더미컬럼스페이서 280 : 제2더미컬럼스페이서270: dotted dummy column spacer 280: second dummy column spacer

7, 300 : UV경화형 씨일재 5, 500 : 액정7, 300: UV curing seal material 5, 500: liquid crystal

9, 600 : UV조사 장치 700 : 마스크9, 600: UV irradiation apparatus 700: mask

상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 하부기판 및 상부기판; 상기 양 기판 사이의 화소 영역에 형성된 컬럼스페이서; 상기 양 기판 사이의 더미 영역에 형성되며, 적어도 하나의 모서리 영역에 개구부가 형성되어 있는 액정흐름 조절용 더미 컬럼스페이서; 상기 양 기판 사이에서 상기 더미 컬럼스페이서의 외곽부에 형성된 UV경화형 씨일재; 및 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성되는 액정표시소자를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a lower substrate and an upper substrate; A column spacer formed in the pixel region between the both substrates; A dummy column spacer for liquid crystal flow control formed in a dummy region between the substrates and having an opening formed in at least one corner region; A UV curable seal material formed on an outer portion of the dummy column spacer between the substrates; And it provides a liquid crystal display device comprising a liquid crystal layer formed between the both substrates.

본 발명은 또한, 하부기판 및 상부기판을 준비하는 공정; 상기 상부 기판 상의 화소 영역에 컬럼스페이서를 형성하고, 더미 영역에 액정흐름 조절용 더미 컬럼스페이서를 형성하는 공정; 상기 더미 컬럼스페이서의 외곽부에 UV경화형 씨일재를 도포하는 공정; 상기 하부 기판 상에 액정을 적하하는 공정; 상기 양 기판을 합착하는 공정; 및 상기 합착 기판에 UV를 조사하는 공정을 포함하는 액정표시소자의 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a process for preparing a lower substrate and an upper substrate; Forming a column spacer in the pixel region on the upper substrate and forming a dummy column spacer for liquid crystal flow control in the dummy region; Applying a UV-curable seal material to an outer portion of the dummy column spacer; Dropping liquid crystal onto the lower substrate; Bonding the substrates together; And it provides a method for manufacturing a liquid crystal display device comprising the step of irradiating UV to the bonded substrate.

전술한 바와 같이, 종래 액정적하방식으로 액정표시소자를 제조하는 경우에 액정적하량을 정확히 조절하는 것이 용이하지 않아 화상이 재현되는 액티브 영역에서 액정의 미충진 또는 과충진 영역이 발생되게 되며, 또한 정확한 양의 액정을 적하하였다 하더라도 미충진 영역 또는 과충진 영역이 발생될 수 있었다.As described above, when the liquid crystal display device is manufactured by the conventional liquid crystal dropping method, it is not easy to precisely control the liquid crystal dropping amount so that an unfilled or overfilled region of the liquid crystal is generated in the active region where the image is reproduced. Even when the correct amount of liquid crystal was dropped, an unfilled region or an overfilled region could be generated.

따라서, 본 발명은 셉갭과 기판 크기를 고려하여 측정된 액정량 이상을 적하하여 액정의 미충진을 미연에 방지함과 동시에, 더미 영역에 더미 컬럼스페이서를 형성함으로써 액정의 흐름을 조절하여 액정이 미충진 되거나 과충진되지 않도록 한 것이다.Therefore, the present invention prevents unfilled liquid crystals by dropping the amount of liquid crystals measured in consideration of the gap between the gap and the substrate size, and at the same time, by forming a dummy column spacer in the dummy region to control the flow of liquid crystals to prevent the liquid crystals from appearing. It is not to be filled or overfilled.

또한, 상기 더미 컬럼스페이서에 의해 액정의 흐름이 조절되어 액정이 UV경화형 씨일재와 만나서 오염되는 문제도 해결하는 것이다.In addition, the flow of the liquid crystal is controlled by the dummy column spacer to solve the problem that the liquid crystal is contaminated with the UV curing seal material.

이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제1실시예First embodiment

도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이다.3 is a plan view of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

도 3과 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시소자는 하부기판(100)과 상부기판(200)을 포함하여 구성되며, 상기 양 기판(100,200) 사이의 외곽영역에는 UV경화형 씨일재(300)가 형성되어 있다.As shown in FIG. 3, the liquid crystal display device according to the exemplary embodiment of the present invention includes a lower substrate 100 and an upper substrate 200, and includes an UV-curable seal material in an outer region between the substrates 100 and 200. 300) is formed.

그리고, 화소영역('A'라인은 화소영역을 구분하기 위한 가상선이다)에는 컬럼스페이서(미도시)가 형성되어 있고, 상기 화소영역 외곽부의 더미영역 중 상기 UV경화형 씨일재(300)의 안쪽에는 액정흐름 조절용 더미 컬럼스페이서(260)가 형성되어 있다.In addition, a column spacer (not shown) is formed in the pixel area (the 'A' line is an imaginary line for dividing the pixel area), and the inside of the UV-curable seal material 300 is located in the dummy area outside the pixel area. The dummy column spacer 260 for adjusting the liquid crystal flow is formed therein.

그리고, 상기 양 기판(100,200) 사이에는 액정층(미도시)이 형성되어 있다.A liquid crystal layer (not shown) is formed between the substrates 100 and 200.

이때, 상기 컬럼스페이서는 상기 하부기판(100) 및 상부기판(200) 사이의 셀갭의 높이로 형성되어 셀갭을 유지시키는 역할을 하는 것이다.In this case, the column spacer is formed at the height of the cell gap between the lower substrate 100 and the upper substrate 200 to serve to maintain the cell gap.

또한, 상기 더미 컬럼스페이서(260)는 상기 컬럼스페이서와 동일한 높이로형성되며, 적어도 하나의 모서리 영역에 개구부(262)가 형성되어 있다. 도면에는 네 모서리 영역 모두에 개구부(262)가 형성되어 있으나, 개구부(262)는 적절히 조절될 수 있다. 상기 개구부(262)는 형성하지 않을 수 있다.In addition, the dummy column spacer 260 is formed at the same height as the column spacer, and an opening 262 is formed in at least one corner region. Although openings 262 are formed in all four corner regions in the drawing, the openings 262 may be appropriately adjusted. The opening 262 may not be formed.

이와 같은 더미 컬럼스페이서(260)는 액정의 이동경로로서 작용하여 액정의 미충진 영역을 방지함과 동시에, 액정이 UV경화형 씨일재(300)에 의해 오염되는 것을 방지하는 역할을 하게 된다.The dummy column spacer 260 acts as a moving path of the liquid crystal to prevent the unfilled region of the liquid crystal and prevent the liquid crystal from being contaminated by the UV-curable seal material 300.

즉, 도면에 화살표로 도시한 바와 같이, 액정은 상기 더미 컬럼스페이서(260)를 따라 이동하며 개구부(262)를 통해 기판의 모서리 영역으로 이동함으로써 기판의 모서리 영역에 액정이 미충진되는 것이 방지되게 된다.That is, as shown by an arrow in the figure, the liquid crystal moves along the dummy column spacer 260 and moves to the corner region of the substrate through the opening 262 to prevent the liquid crystal from being filled in the corner region of the substrate. do.

또한, 상기 개구부(262)가 형성되지 않은 영역의 더미 컬럼스페이서(260)는 액정이 UV경화형 씨일재(300)와 직접 만나 오염되지 않도록 댐의 역할을 하게 된다.In addition, the dummy column spacer 260 in the region where the opening 262 is not formed serves as a dam so that the liquid crystal does not directly meet and contaminate the UV-curable seal material 300.

이하, 도 3의 I-I라인(더미컬럼스페이서(260)의 개구부(262)가 형성되지 않은 영역에 해당함)의 다양한 실시예에 따른 단면도인 도 4a 내지 도 4c를 참조하여 본 발명에 따른 다양한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, various embodiments according to the present invention will be described with reference to FIGS. 4A to 4C, which are cross-sectional views of various exemplary embodiments of the II line of FIG. 3 (which corresponds to a region where the opening 262 of the dummy column spacer 260 is not formed). It will be described in detail.

도 4a에서 알 수 있듯이, 상부기판(200)상에는 차광층(210), 컬러필터층(220), 공통전극(230)이 순서대로 형성되어 있다.As shown in FIG. 4A, the light blocking layer 210, the color filter layer 220, and the common electrode 230 are sequentially formed on the upper substrate 200.

그리고, 하부기판(100)상에는 도시하지는 않았으나, 게이트배선, 데이터배선, 박막트랜지스터, 및 화소전극이 형성되어 있다.Although not shown, a gate wiring, a data wiring, a thin film transistor, and a pixel electrode are formed on the lower substrate 100.

그리고, 상기 상부기판(200)상의 화소영역에는 셀갭의 높이로컬럼스페이서(250)가 형성되어 있다.In addition, a column spacer 250 is formed at a height of a cell gap in the pixel area on the upper substrate 200.

상기 컬럼스페이서(250)는 게이트배선 또는 데이터배선 형성영역에 형성되므로, 상기 게이트배선 또는 데이터배선으로 빛이 누설되는 것을 방지하기 위해 상부기판(200)상에 형성되는 차광층(210)상부의 공통전극(230)상에 형성되게 된다.Since the column spacer 250 is formed in the gate wiring or data wiring forming region, the column spacer 250 is formed on the upper substrate 200 to prevent light from leaking into the gate wiring or data wiring. It is formed on the electrode 230.

그리고, 상기 상부기판(200)상의 더미영역에는 상기 컬럼스페이서(250)와 동일한 높이의 더미 컬럼스페이서(260)가 형성되어 있다.In addition, a dummy column spacer 260 having the same height as the column spacer 250 is formed in the dummy region on the upper substrate 200.

상기 더미 컬럼스페이서(260)는 화소 영역을 제외한 더미 영역 중 UV경화형 씨일재(300) 안쪽이면 어느 영역에 형성되어도 상관없다. 즉, 도면에는 하부에 컬러필터층(220)이 형성되지 않는 공통전극(230) 상에 더미 컬럼스페이서(260)가 형성되어 있으나, 하부에 컬러필터층(220)이 형성된 공통전극(230)상에 더미 컬럼스페이서(260)가 형성되는 것도 가능하다.The dummy column spacer 260 may be formed in any region of the dummy region excluding the pixel region if it is inside the UV-curable seal material 300. That is, in the drawing, the dummy column spacer 260 is formed on the common electrode 230 on which the color filter layer 220 is not formed, but the dummy column spacer 260 is formed on the common electrode 230 on which the color filter layer 220 is formed. It is also possible for the column spacer 260 to be formed.

이와 같은 칼럼스페이서(250), 더미컬럼스페이서(260)로는 감광성 유기수지를 사용하는 것이 바람직하다.As the column spacer 250 and the dummy column spacer 260, a photosensitive organic resin is preferably used.

또한, 상기 상부기판(200)상의 컬러필터층(220)과 공통전극(230) 사이에는 오버코트층이 추가로 형성될 수 있고, 또한, 상기 더미컬럼스페이서(260)를 포함한 상부기판(200) 및 하부기판(100) 상에는 배향막(미도시)이 형성되게 된다.In addition, an overcoat layer may be further formed between the color filter layer 220 and the common electrode 230 on the upper substrate 200, and further includes an upper substrate 200 and a lower portion including the dummy column spacer 260. An alignment layer (not shown) is formed on the substrate 100.

도 4b는 다른 실시예에 따른 액정표시소자의 단면도로서, 전술한 도 4a의 액정표시소자에서 상부기판(200)상에 공통전극(230)이 형성된 것이 아니라, 오버코트층(240)이 형성된 것이다.4B is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment. In the above-described liquid crystal display of FIG. 4A, the common electrode 230 is not formed on the upper substrate 200, but the overcoat layer 240 is formed.

이와 같은 도 4b에 따른 액정표시소자는 일명 IPS(In Plane Switching)모드액정표시소자에 관한 것으로서, 공통전극은 하부기판(100)상에 형성되게 된다.The liquid crystal display device according to FIG. 4B relates to a so-called IPS (In Plane Switching) mode liquid crystal display device, and the common electrode is formed on the lower substrate 100.

따라서, 컬럼스페이서(250) 및 더미컬럼스페이서(260)가 오버코트층(240) 상에 형성되게 되는 것을 제외하고, 그 외는 도 4a에 따른 액정표시소자와 동일하다.Accordingly, except that the column spacer 250 and the dummy column spacer 260 are formed on the overcoat layer 240, the others are the same as the liquid crystal display device of FIG. 4A.

도 4c는 또 다른 실시예에 따른 액정표시소자의 단면도로서, 전술한 도 4b의 액정표시소자에서 오버코트층(240)이 차광막(210) 위에는 형성되며 씨일재(300) 위에는 형성되지 않도록 패터닝된 것이다. 그 외는 도 4b에 따른 액정표시소자와 동일하다.FIG. 4C is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to another exemplary embodiment. In the aforementioned liquid crystal display device of FIG. 4B, the overcoat layer 240 is formed on the light shielding film 210 and is patterned so as not to be formed on the seal material 300. . Other than that is the same as the liquid crystal display device shown in FIG.

제2실시예Second embodiment

도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이다.5 is a plan view of a liquid crystal display device according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 5에서 알 수 있듯이, 본 발명의 제2실시예는 기판 모서리 영역에 복수개의 개구부(262)가 형성된 더미컬럼스페이서(260)를 구비한 액정표시소자에 관한 것이다.As can be seen in FIG. 5, the second embodiment of the present invention relates to a liquid crystal display device having a dummy column spacer 260 having a plurality of openings 262 formed in a corner portion of a substrate.

상기 개구부(262)가 복수개 형성됨으로써 액정이 보다 원활히 기판 모서리 영역으로 이동하여 미충진이 방지되게 된다.Since the plurality of openings 262 are formed, the liquid crystal moves smoothly to the substrate edge area, thereby preventing the unfilled liquid.

상기 개구부(262)는 적어도 하나의 모서리 영역에 형성되며, 복수개가 연속적으로 형성될 수도 있고, 불연속적으로 형성될 수도 있다.The opening 262 may be formed in at least one corner region, and a plurality of openings 262 may be formed continuously or discontinuously.

그 외는 전술한 제1실시예와 동일하다.Other than that is the same as that of 1st Embodiment mentioned above.

제3실시예Third embodiment

도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이다.6 is a plan view of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

도 6과 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시소자는 하부기판(100)과상부기판(200)을 포함하여 구성되며, 상기 양 기판(100,200) 사이의 외곽영역에는 UV경화형 씨일재(300)가 형성되어 있다.As shown in FIG. 6, the liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a lower substrate 100 and an upper substrate 200, and includes an UV-curable seal material in an outer region between the substrates 100 and 200. 300) is formed.

그리고, 화소영역('A'라인은 화소영역을 구분하기 위한 가상선이다)에는 컬럼스페이서(미도시)가 형성되어 있고, 상기 화소영역 외곽부의 더미영역 중 상기 UV경화형 씨일재(300)의 안쪽에는 액정흐름 조절용 더미 컬럼스페이서(260)가 형성되어 있다. 상기 더미컬럼스페이서(260)는 상기 컬럼스페이서와 동일한 높이로 형성되며, 적어도 하나의 모서리 영역에 개구부(262)가 형성되어 있다. 상기 개구부(262)는 형성하지 않을 수 있다.In addition, a column spacer (not shown) is formed in the pixel area (the 'A' line is an imaginary line for dividing the pixel area), and the inside of the UV-curable seal material 300 is located in the dummy area outside the pixel area. The dummy column spacer 260 for adjusting the liquid crystal flow is formed therein. The dummy column spacer 260 is formed at the same height as the column spacer, and an opening 262 is formed in at least one corner region. The opening 262 may not be formed.

또한, 상기 더미컬럼스페이서(260)의 안쪽 더미영역에는 액정흐름 조절을 보조하는 점선형 더미컬럼스페이서(270)가 형성되어 있다.In addition, the inner dummy region of the dummy column spacer 260 is formed with a dotted dummy column spacer 270 to assist the liquid crystal flow control.

그리고, 상기 양 기판(100,200) 사이에는 액정층(미도시)이 형성되어 있다.A liquid crystal layer (not shown) is formed between the substrates 100 and 200.

이와 같이 더미컬럼스페이서(260) 안쪽에 점선형 더미컬럼스페이서(270)를 추가로 형성함으로써 액정이 상기 더미컬럼스페이서(260) 뿐만 아니라 점선형 더미컬럼스페이서(270)의 공간을 따라 이동하게 되어 액정의 흐름을 보다 원활히 조절할 수 있게 되는 것이다.As such, by forming a dotted line dummy column spacer 270 inside the dummy column spacer 260, the liquid crystal moves along the space of the dotted line dummy column spacer 270 as well as the dummy column spacer 260. It will be able to control the flow of more smoothly.

이하, 도 6의 I-I라인(더미컬럼스페이서(260)의 개구부(262)가 형성되지 않은 영역에 해당함)의 다양한 실시예에 따른 단면도인 도 7a 내지 도 7c를 참조하여 본 발명에 따른 다양한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, various embodiments according to the present disclosure will be described with reference to FIGS. 7A to 7C, which are cross-sectional views according to various embodiments of the II line of FIG. 6 (which corresponds to a region where the opening 262 of the dummy column spacer 260 is not formed). It will be described in detail.

도 7a에서 알 수 있듯이, 상부기판(200)상에는 차광층(210), 컬러필터층(220), 공통전극(230)이 순서대로 형성되어 있다.As shown in FIG. 7A, the light blocking layer 210, the color filter layer 220, and the common electrode 230 are sequentially formed on the upper substrate 200.

그리고, 하부기판(100)상에는 도시하지는 않았으나, 게이트배선, 데이터배선, 박막트랜지스터, 및 화소전극이 형성되어 있다.Although not shown, a gate wiring, a data wiring, a thin film transistor, and a pixel electrode are formed on the lower substrate 100.

그리고, 상기 상부기판(200)상의 화소영역에는 셀갭의 높이로 컬럼스페이서(250)가 형성되어 있다.In addition, a column spacer 250 is formed at a height of a cell gap in the pixel area on the upper substrate 200.

그리고, 상기 상부기판(200)상의 더미영역에는 상기 컬럼스페이서(250)와 동일한 높이의 더미 컬럼스페이서(260)가 형성되어 있다.In addition, a dummy column spacer 260 having the same height as the column spacer 250 is formed in the dummy region on the upper substrate 200.

그리고, 상기 더미 컬럼스페이서(260)의 안쪽 더미영역에는 상기 컬럼스페이서(250)와 동일한 높이의 점선형 더미컬럼스페이서(270)가 형성되어 있다.In addition, a dotted dummy column spacer 270 having the same height as that of the column spacer 250 is formed in an inner dummy region of the dummy column spacer 260.

도 7a에는 하나의 점선형 더미컬럼스페이서(270)만을 도시하였으나, 복수개 형성될 수 있다. 또한, 상기 점선형 더미컬럼스페이서(270)는 더미영역이면 어느 영역에 형성되어도 상관없다.Although only one dotted dummy column spacer 270 is illustrated in FIG. 7A, a plurality of dotted dummy column spacers 270 may be formed. Further, the dotted dummy column spacer 270 may be formed in any area as long as it is a dummy area.

이와 같은 칼럼스페이서(250), 더미컬럼스페이서(260), 점선형 더미컬럼스페이서(270)로는 감광성 유기수지를 사용하는 것이 바람직하다.As the column spacer 250, the dummy column spacer 260, and the dotted dummy column spacer 270, it is preferable to use a photosensitive organic resin.

또한, 상기 상부기판(200)상의 컬러필터층(220)과 공통전극(230) 사이에는 오버코트층이 추가로 형성될 수 있고, 또한, 상기 더미컬럼스페이서(260) 및 점선형 더미컬럼스페이서(270)를 포함한 상부기판(200) 및 하부기판(100) 상에는 배향막(미도시)이 형성되게 된다.In addition, an overcoat layer may be further formed between the color filter layer 220 and the common electrode 230 on the upper substrate 200, and the dummy column spacer 260 and the dotted dummy column spacer 270 may be formed. An alignment layer (not shown) is formed on the upper substrate 200 and the lower substrate 100 including the upper substrate 200 and the lower substrate 100.

도 7b는 다른 실시예에 따른 액정표시소자의 단면도로서, 전술한 도 7a의 액정표시소자에서 상부기판(200)상에 공통전극(230)이 형성된 것이 아니라, 오버코트층(240)이 형성된 것이다.FIG. 7B is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to another exemplary embodiment. In the aforementioned liquid crystal display device of FIG. 7A, the common electrode 230 is not formed on the upper substrate 200, but the overcoat layer 240 is formed.

이와 같은 도 7b에 따른 액정표시소자는 일명 IPS(In Plane Switching)모드 액정표시소자에 관한 것으로서, 공통전극은 하부기판(100)상에 형성되게 된다.The LCD according to FIG. 7B relates to a so-called IPS (In Plane Switching) mode liquid crystal display device, and the common electrode is formed on the lower substrate 100.

따라서, 컬럼스페이서(250), 더미컬럼스페이서(260), 및 점선형 더미컬럼스페이서(270)가 오버코트층(240) 상에 형성되게 되는 것을 제외하고, 그 외는 도 7a에 따른 액정표시소자와 동일하다.Therefore, except that the column spacer 250, the dummy column spacer 260, and the dotted dummy column spacer 270 are formed on the overcoat layer 240, except for the same as those of the liquid crystal display of FIG. 7A. Do.

도 7c는 또 다른 실시예에 따른 액정표시소자의 단면도로서, 전술한 도 7b의 액정표시소자에서 오버코트층(240)이 차광막(210) 위에는 형성되며 씨일재(300) 위에는 형성되지 않도록 패터닝된 것이다. 그 외는 도 7b에 따른 액정표시소자와 동일하다.FIG. 7C is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to still another embodiment. In the aforementioned liquid crystal display device of FIG. 7B, the overcoat layer 240 is formed on the light shielding film 210 and is patterned so as not to be formed on the seal material 300. . Other than that is the same as the liquid crystal display element shown in FIG.

제4실시예Fourth embodiment

도 8은 본 발명의 제4실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이다.8 is a plan view of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention.

도 8에서 알 수 있듯이, 본 발명의 제4실시예는 기판 모서리 영역에 복수개의 개구부(262)가 형성된 더미컬럼스페이서(260)를 구비한 액정표시소자에 관한 것이다.As can be seen in FIG. 8, the fourth embodiment of the present invention relates to a liquid crystal display device having a dummy column spacer 260 having a plurality of openings 262 formed in a corner portion of a substrate.

상기 개구부(262)는 적어도 하나의 모서리 영역에 형성되며, 복수개가 연속적으로 형성될 수도 있고, 불연속적으로 형성될 수도 있다.The opening 262 may be formed in at least one corner region, and a plurality of openings 262 may be formed continuously or discontinuously.

그 외는 전술한 제3실시예와 동일하다.Other than that is the same as that of 3rd Embodiment mentioned above.

제5실시예Fifth Embodiment

도 9는 본 발명의 제5실시예에 따른 액정표시소자의 평면도로서, 점선형 더미컬럼스페이서(270)를 더미컬럼스페이서(260)의 안쪽 더미영역이 아니라, 더미컬럼스페이서(260)의 바깥쪽 더미영역에 형성한 것이다.9 is a plan view of a liquid crystal display device according to a fifth exemplary embodiment of the present invention, wherein the dotted dummy column spacer 270 is not an inner dummy region of the dummy column spacer 260, but an outer side of the dummy column spacer 260. It is formed in the dummy area.

그 외는 전술한 제 3실시예와 동일하며, 도 9의 I-I라인의 다양한 실시예에 따른 단면도인 도 10a 내지 도 10c를 참조하면 용이하게 이해할 수 있을 것이다.Others are the same as the above-described third embodiment, and it will be easily understood with reference to FIGS. 10A to 10C which are cross-sectional views according to various embodiments of the I-I line of FIG. 9.

제6실시예Sixth embodiment

도 11은 본 발명의 제6실시예에 따른 액정표시소자의 평면도이다.11 is a plan view of a liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention.

도 11에서 알 수 있듯이, 본 발명의 제6실시예는 기판 모서리 영역에 복수개의 개구부(262)가 형성된 더미컬럼스페이서(260)를 구비한 액정표시소자에 관한 것이다.As can be seen in FIG. 11, the sixth embodiment of the present invention relates to a liquid crystal display device having a dummy column spacer 260 having a plurality of openings 262 formed in a corner portion of a substrate.

상기 개구부(262)는 적어도 하나의 모서리 영역에 형성되며, 복수개가 연속적으로 형성될 수도 있고, 불연속적으로 형성될 수도 있다.The opening 262 may be formed in at least one corner region, and a plurality of openings 262 may be formed continuously or discontinuously.

그 외는 전술한 제5실시예와 동일하다.Other than that is the same as that of 5th Embodiment mentioned above.

제 7실시예Seventh embodiment

도 12a 및 도 12b는 본 발명의 제7실시예에 따른 액정표시소자의 평면도로서, 본 발명의 제7실시예는 제1더미컬럼스페이서(260)의 안쪽 더미영역 또는 바깥쪽 더미영역에 제2더미컬럼스페이서(280)가 형성된 것이다.12A and 12B are plan views of a liquid crystal display device according to a seventh embodiment of the present invention. A seventh embodiment of the present invention is a second dummy area in the inner dummy area or the outer dummy area of the first dummy column spacer 260. The dummy column spacer 280 is formed.

즉, 더미컬럼스페이서를 이중으로 형성함으로써 액정의 흐름을 보다 원활히 조절하도록 한 것이다.That is, by forming a dummy column spacer in a double to more smoothly control the flow of the liquid crystal.

이때, 상기 제1더미컬럼스페이서(260) 및/또는 제2더미컬럼스페이서(280)는 적어도 하나의 모서리 영역에 연속적으로 또는 불연속적으로 복수개의 개구부(262)가 형성될 수 있다. 상기 개구부(262)는 형성하지 않을 수 있다.In this case, the first dummy column spacer 260 and / or the second dummy column spacer 280 may have a plurality of openings 262 formed continuously or discontinuously in at least one corner region. The opening 262 may not be formed.

이와 같은 제1더미컬럼스페이서(260) 및 제2더미컬럼스페이서(280)는 전술한 더미컬럼스페이서(260) 및 점선형 더미컬럼스페이서(270)의 형성 모습과 동일하게 다양하게 변경 형성될 수 있다.The first dummy column spacer 260 and the second dummy column spacer 280 may be variously modified in the same manner as the above-described formation of the dummy column spacer 260 and the dotted dummy column spacer 270. .

제8실시예Eighth Embodiment

도 13a 내지 도 13d는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시소자의 제조공정을 도시한 사시도이다. 도면에는 하나의 단위셀만을 도시하였으나, 복수개의 단위셀이 형성될 수 있다.13A to 13D are perspective views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention. Although only one unit cell is illustrated in the drawing, a plurality of unit cells may be formed.

우선, 도 13a와 같이, 하부기판(100)과 상부기판(200)을 준비한다. 도면에는 도시하지 않았으나, 하부기판(100) 상에는 종횡으로 교차하여 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트배선과 데이터배선을 형성하고, 상기 게이트배선과 데이터배선의 교차점에 게이트전극, 게이트절연막, 반도체층, 오믹콘택층, 소스/드레인 전극, 및 보호막으로 이루어진 박막트랜지스터를 형성하며, 상기 박막트랜지스터와 연결되는 화소전극을 상기 화소영역에 형성한다.First, as shown in FIG. 13A, the lower substrate 100 and the upper substrate 200 are prepared. Although not shown in the drawing, a plurality of gate wirings and data wirings are formed on the lower substrate 100 to cross each other in a vertical direction, and a gate electrode, a gate insulating film, a semiconductor layer, A thin film transistor including an ohmic contact layer, a source / drain electrode, and a passivation layer is formed, and a pixel electrode connected to the thin film transistor is formed in the pixel area.

또한, 상기 화소전극 위에 액정의 초기배향을 위한 배향막을 형성한다. 이때, 상기 배향막은 폴리아미드(polyamide) 또는 폴리이미드(polyimide)계 화합물, PVA(polyvinylalcohol), 폴리아믹산(polyamic acid)등의 물질을 러빙 배향 처리하여 형성할 수도 있고, PVCN(polyvinylcinnamate), PSCN(polysiloxanecinnamate), 또는 CelCN(cellulosecinnamate)계 화합물과 같은 광반응성 물질을 광 배향 처리하여 형성할 수도 있다.In addition, an alignment layer for initial alignment of liquid crystal is formed on the pixel electrode. In this case, the alignment layer may be formed by rubbing alignment treatment of a polyamide or polyimide compound, PVA (polyvinylalcohol), polyamic acid, or the like, or PVCN (polyvinylcinnamate) or PSCN (polyvinylcinnamate). Photoreactive materials such as polysiloxanecinnamate) or CelCN (cellulosecinnamate) -based compounds may be formed by photoalignment treatment.

또한, 상부기판(200) 상에는 상기 게이트배선, 데이터배선, 및 박막트랜지스터 형성영역에서 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 차광막을 형성하고, 상기 차광막 위에 적색, 녹색, 및 청색의 칼라필터층을 형성하고, 상기 칼라필터층 위에 공통전극을 형성한다. 또한, 상기 칼라필터층과 공통전극 사이에 오버코트층을 추가로 형성할 수도 있다.In addition, a light shielding film is formed on the upper substrate 200 to block light leakage from the gate wiring, the data wiring, and the thin film transistor forming region, and a red, green, and blue color filter layer is formed on the light blocking film. A common electrode is formed on the color filter layer. In addition, an overcoat layer may be further formed between the color filter layer and the common electrode.

그리고, 상기 하부기판(100)의 외곽부에는 은(Ag)을 도트(dot)형상으로 형성하여 상기 양 기판(100, 200)의 합착 후 상기 상부기판(200) 위의 공통전극에 전압을 인가할 수 있도록 한다. 상기 은(Ag)은 상기 상부기판(200)에 형성할 수도 있다.In the outer portion of the lower substrate 100, silver (Ag) is formed in a dot shape to apply voltage to the common electrode on the upper substrate 200 after the two substrates 100 and 200 are bonded together. Do it. The silver Ag may be formed on the upper substrate 200.

다만, IPS(In Plane Switching) 모드 액정표시소자의 경우는 공통전극을 화소전극과 동일한 하부기판(100) 상에 형성하여 횡전계를 유도하게 되며, 상기 은(Ag) 도트는 형성하지 않는다.However, in the case of an IPS (In Plane Switching) mode liquid crystal display device, the common electrode is formed on the same lower substrate 100 as the pixel electrode to induce the transverse electric field, and the silver (Ag) dot is not formed.

또한, 전술한 제1실시예 내지 제7실시예에서 알 수 있듯이 다양한 위치에 컬럼스페이서, 더미컬럼스페이서, 점선형 더미컬럼스페이서, 제2더미컬럼스페이서를 조합하여 상기 상부기판(200)상에 형성한다. 이때, 상기 컬럼스페이서 및 더미 컬럼스페이서, 또는 상기 컬럼스페이서, 더미컬럼스페이서 및 점선형 더미컬럼스페이서, 또는 상기 컬럼스페이서, 더미컬럼스페이서 및 제2더미컬럼스페이서는 감광성 유기수지를 이용하여 동시에 동일높이, 즉 셀갭의 높이로 형성한다.In addition, as can be seen in the first to seventh embodiments described above, the column spacer, the dummy column spacer, the dotted dummy column spacer, and the second dummy column spacer are formed on the upper substrate 200 in various positions. do. At this time, the column spacer and the dummy column spacer, or the column spacer, the dummy column spacer and the dotted dummy column spacer, or the column spacer, the dummy column spacer and the second dummy column spacer using the photosensitive organic resin at the same height, In other words, it is formed at the height of the cell gap.

그리고, 상부기판(200)상에 전술한 배향막을 형성한다.The alignment film described above is formed on the upper substrate 200.

그리고, 도 13b와 같이, 상기 상부기판(200) 위에, UV경화형 씨일재(300)를 도포한다.And, as shown in Figure 13b, on the upper substrate 200, a UV-curable seal material 300 is applied.

씨일재 도포 방법은 스크린 인쇄법(Screen Printing Method), 디스펜서법(Dispensing Method) 등이 있으나, 스크린 인쇄법은 스크린이 기판과 접촉하기 때문에 기판 위에 형성된 배향막 등이 손상될 우려가 있고 기판이 대면적화되면 씨일재의 손실량이 많아 비경제적이므로 디스펜서법이 바람직하다.Seal material coating methods include screen printing method and dispenser method, but screen printing method may damage the alignment film formed on the substrate because the screen is in contact with the substrate, and the substrate is large in area. In this case, the amount of loss of seal material is uneconomical, so the dispenser method is preferable.

이와 같은 UV경화형 씨일재(300)로는 양 말단에 아크릴기가 결합된 모노머 또는 올리고머를 개시제와 혼합하여 사용하거나, 한쪽 말단에는 아크릴기가 다른 쪽 말단에는 에폭시기가 결합된 모노머 또는 올리고머를 개시제와 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.As the UV-curable seal material 300, a monomer or oligomer having an acryl group bonded to both ends thereof is mixed with an initiator, or a monomer or oligomer having an acryl group bonded to the other end thereof with an epoxy group is mixed with an initiator. It is desirable to.

또한, 상기 하부기판(100) 위에 액정(500)을 적하하여 액정층을 형성한다. 이때, 액정(500) 적하량은 기판의 크기 및 셀갭을 고려하여 결정하며, 결정된 양 이상을 적하하는 것이 바람직하다.In addition, the liquid crystal 500 is dropped on the lower substrate 100 to form a liquid crystal layer. At this time, the amount of the liquid crystal 500 drop is determined in consideration of the size of the substrate and the cell gap, it is preferable to drop the determined amount or more.

상기 액정(500)은 상기 UV경화형 씨일재(300)가 경화되기 전에 씨일재(300)와 만나게 되면 오염되게 된다. 따라서, 상기 액정(500)은 상기 하부기판(100)의 중앙부에 적하하는 것이 바람직하다.The liquid crystal 500 is contaminated when it encounters the seal member 300 before the UV-curable seal member 300 is cured. Therefore, the liquid crystal 500 is preferably dropped in the central portion of the lower substrate 100.

이와 같이 중앙부에 적하된 액정(500)은 상기 더미컬럼스페이서 및 점선형 더미컬럼스페이서에 의해 그 이동흐름이 적절히 조절되어 상기 UV경화형 씨일재(300) 내에 미충진 또는 과충진 없이 분포되게 된다.As such, the liquid crystal 500 dropped in the center portion is properly controlled by the dummy column spacer and the dotted dummy column spacer so that the liquid crystal 500 is distributed without being filled or overfilled in the UV-curable seal material 300.

한편, 도 13b에는 하부기판(100) 위에 액정(500)을 적하하고 상부기판(200) 위에 UV경화형 씨일재(300)를 도포하는 공정이 도시되어 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고, 상부기판(200)상에 상기 액정(500)을 적하하고 하부기판(100)상에 UV경화형 씨일재(300)를 도포할 수도 있다.13B illustrates a process of dropping the liquid crystal 500 on the lower substrate 100 and applying the UV-curable seal material 300 on the upper substrate 200, but is not limited thereto. The liquid crystal 500 may be dropped onto the lower substrate 100, and the UV-curable seal material 300 may be applied onto the lower substrate 100.

또한, 상기 액정(500)과 UV경화형 씨일재(300)를 동일기판에 형성할 수도 있다. 다만, 상기 액정(500)과 UV경화형 씨일재(300)를 동일기판에 형성할 경우, 액정과 UV경화형 씨일재가 형성되는 기판과 그렇지 않은 기판과의 공정간에 불균형이 발생되어 공정시간이 많이 소요되며, 액정과 씨일재가 동일기판에 형성되므로 합착전에 씨일재에 오염물질이 형성된다 하더라도 기판 세정을 할 수 없게 되므로, 상기 액정과 씨일재는 서로 다른 기판에 형성하는 것이 바람직하다.In addition, the liquid crystal 500 and the UV-curable seal material 300 may be formed on the same substrate. However, when the liquid crystal 500 and the UV-curable seal material 300 are formed on the same substrate, an imbalance occurs between the process of forming the liquid crystal and the UV-curable seal material and the substrate that is not. Since the liquid crystal and the seal material are formed on the same substrate, even if a contaminant is formed on the seal material before bonding, the substrate may not be cleaned.

따라서, 상기 UV경화형 씨일재 도포공정 후 기판 세정공정을 추가로 수행할 수 있다.Therefore, the substrate cleaning process may be further performed after the UV-curable seal material coating process.

그리고, 도 13c와 같이, 상기 하부기판(100)과 상부기판(200)을 합착한다.13C, the lower substrate 100 and the upper substrate 200 are bonded to each other.

합착공정은 상기 양기판 중 액정이 적하되어 있는 하부기판(100)을 하면에 고정하고, 상부기판(200)을 레이어(layer) 형성면이 상기 하부기판(100)을 향하도록 180도 회전하여 상면에 위치시킨 후, 상면에 위치된 상부기판(200)에 압력을 가하여 양 기판을 합착하거나, 또는 상기 이격되어 있는 양 기판 사이를 진공으로 형성한 후 진공을 해제하여 대기압에 의해 양 기판을 합착할 수도 있다.In the bonding process, the lower substrate 100 on which the liquid crystal is dropped is fixed on the lower surface of the positive substrate, and the upper substrate 200 is rotated 180 degrees so that the layer forming surface faces the lower substrate 100. After the pressure is applied to both substrates by applying pressure to the upper substrate 200 located on the upper surface, or by forming a vacuum between the two substrates that are spaced apart, the vacuum is released to bond both substrates by atmospheric pressure. It may be.

그리고, 도 13d와 같이, 상기 합착기판에 UV조사장치(600)를 통해 UV를 조사한다.And, as shown in Figure 13d, the bonded substrate is irradiated with UV through the UV irradiation device 600.

이와 같이 UV를 조사하면 상기 UV경화형 씨일재(300)를 구성하는 개시제에 의해 활성화된 모노머 또는 올리고머가 중합반응하여 고분자화 됨으로써 하부기판(100)과 상부기판(200)이 접착되게 된다.When irradiated with UV as described above, the lower substrate 100 and the upper substrate 200 are adhered to each other by polymerizing a monomer or oligomer activated by the initiator constituting the UV-curable seal material 300.

이때, 상기 UV경화형 씨일재(300)로서 한쪽 말단에는 아크릴기가 다른 쪽 말단에는 에폭시기가 결합된 모노머 또는 올리고머를 개시제와 혼합하여 사용한 경우는, 이와 같은 UV조사에 의해 에폭시기가 반응하지 않으므로, 상기 UV조사공정 후에 추가로 가열공정을 행하여 씨일재를 완전 경화시킨다. 상기 가열공정은 약 120℃에서 1시간 정도 수행하는 것이 바람직하다.In this case, when the monomer or oligomer having an acrylic group bonded to an acrylic group at one end of the UV-curable seal material 300 is mixed with an initiator at the other end, the epoxy group does not react by such UV irradiation, so the UV After the irradiation step, a heating step is further performed to completely cure the seal material. The heating step is preferably performed for about 1 hour at about 120 ℃.

한편, UV조사공정시 합착기판의 전면에 UV가 조사되게 되면, 기판 상에 형성된 박막트랜지스터 등의 소자 특성에 악영향이 미치게 되고, 액정의 초기배향을 위해 형성된 배향막의 프리틸트각(pretilt angle)이 변하게 될 수 있다.On the other hand, when UV is irradiated to the entire surface of the bonded substrate during the UV irradiation process, adversely affects device characteristics such as thin film transistors formed on the substrate, and the pretilt angle of the alignment layer formed for the initial alignment of the liquid crystal is Can be changed.

따라서, 도 14에 도시된 바와 같이, 상기 주 UV경화형 씨일재(300) 내부의 화소 영역을 마스크(700)로 가리고 UV를 조사하는 것이 바람직하다.Therefore, as shown in FIG. 14, it is preferable to cover the pixel area inside the main UV-curable seal material 300 with the mask 700 and irradiate UV.

그리고, 도시하지는 않았으나, 상기 합착기판을 단위셀로 절단한다.Although not shown, the bonded substrate is cut into unit cells.

셀절단 공정은 기판 재질인 유리보다 경도가 높은 다이아몬드 펜과 같은 스크라이브 장비로 합착기판의 표면에 절단라인을 형성(스크라이브 공정 : scribing process)한 후 브레이크 장비로 상기 절단라인을 따라 기계적 충격을 가함으로써(브레이크 공정 : break process) 복수개의 단위셀을 동시에 얻을 수 있다.The cell cutting process is a scribing device such as a diamond pen that is harder than glass, which is a substrate material, and forms a cutting line on the surface of the bonded substrate (scribing process), and then applies a mechanical impact along the cutting line with a brake device. Break process A plurality of unit cells can be obtained simultaneously.

또한, 다이아몬드 재질의 펜 또는 휠을 이용하여 상기 스크라이브 및 브레이크 공정을 하나의 공정으로 수행하여 단위셀을 하나씩 얻을 수도 있다.In addition, the unit cell may be obtained one by one by performing the scribe and brake processes using a diamond pen or wheel.

그러나, 스크라이브/브레이크 동시 공정을 수행하는 절단장비를 이용하는 것이 장비가 차지하는 공간 및 절단공정시간면에서 유리하다.However, it is advantageous to use cutting equipment that performs a scribe / brake simultaneous process in terms of space and cutting process time that the equipment takes up.

그리고, 상기 절단공정 후에 최종 검사 공정을 수행하게 된다.Then, the final inspection process is performed after the cutting process.

상기 최종 검사 공정은 상기 셀단위로 절단된 기판이 액정모듈로 조립되기 전에 불량유무를 확인하는 공정으로, 전압 인가시 또는 무인가시 각각의 화소가 올바르게 구동하는지 여부를 검사하게 된다.The final inspection process is a process of confirming whether the substrate cut in the cell unit is defective before assembling into the liquid crystal module. The final inspection process checks whether each pixel is correctly driven when voltage is applied or not.

이상, 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 범위내에서 변경 실시될 수 있을 것이다.As mentioned above, although the preferred embodiment of the present invention has been described, the present invention is not limited to the above embodiment, and may be modified within the scope obvious to those skilled in the art.

본 발명에 따르면 개구부를 갖는 더미컬럼스페이서, 및 점선형 더미컬럼스페이서를 더미영역에 형성함으로써, 액정의 흐름을 원활히 조절하여 액정의 미충진 또는 과충진 영역의 발생을 방지한다. 따라서, 균일한 셀갭을 유지하고, 화상특성이 향상된다.According to the present invention, by forming a dummy column spacer having an opening and a dotted dummy column spacer in the dummy region, the flow of the liquid crystal is smoothly controlled to prevent the occurrence of unfilled or overfilled regions of the liquid crystal. Therefore, a uniform cell gap is maintained and image characteristics are improved.

또한, 더미컬럼스페이서 및 점선형 더미컬럼스페이서가 댐의 역할을 함으로써 액정이 UV경화형 씨일재가 경화되기 전에 그와 만나 오염될 염려가 없다.In addition, since the dummy column spacer and the dotted dummy column spacer serve as a dam, there is no fear that the liquid crystal may meet and be contaminated before the UV-curable seal material is cured.

Claims (20)

하부기판 및 상부기판;A lower substrate and an upper substrate; 상기 양 기판 사이의 화소 영역에 형성된 컬럼스페이서;A column spacer formed in the pixel region between the both substrates; 상기 양 기판 사이의 더미 영역에 형성되며, 적어도 하나의 모서리 영역에 개구부가 형성되어 있는 액정흐름 조절용 더미 컬럼스페이서;A dummy column spacer for liquid crystal flow control formed in a dummy region between the substrates and having an opening formed in at least one corner region; 상기 양 기판 사이에서 상기 더미 컬럼스페이서의 외곽부에 형성된 UV경화형 씨일재; 및A UV curable seal material formed on an outer portion of the dummy column spacer between the substrates; And 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성되는 액정표시소자.And a liquid crystal layer formed between the substrates. 제 1에 있어서,According to claim 1, 상기 개구부는 복수개가 연속적으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And a plurality of openings are formed successively. 제 1에 있어서,According to claim 1, 상기 개구부는 복수개가 불연속적으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And a plurality of the openings are discontinuously formed. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 더미 컬럼스페이서의 안쪽 더미영역에 액정흐름 조절을 보조하는 점선형 더미 컬럼스페이서가 추가로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And a dashed-line dummy column spacer for assisting liquid crystal flow control in an inner dummy region of the dummy column spacer. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 더미 컬럼스페이서의 바깥쪽 더미영역에 액정흐름 조절을 보조하는 점선형 더미 컬럼스페이서가 추가로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And a dotted line dummy column spacer further configured to assist liquid crystal flow control in an outer dummy region of the dummy column spacer. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 더미 컬럼스페이서가 이중으로 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The dummy column spacer is formed in a double liquid crystal display device. 하부기판 및 상부기판;A lower substrate and an upper substrate; 상기 하부기판 위에 화소영역을 정의하도록 서로 교차 형성된 게이트배선 및 데이터배선;Gate and data lines formed to cross each other to define a pixel area on the lower substrate; 상기 게이트배선 및 데이터배선이 교차하는 영역에 형성된 박막트랜지스터;A thin film transistor formed at an area where the gate wiring and the data wiring cross each other; 상기 화소영역에 형성된 화소전극;A pixel electrode formed in the pixel region; 상기 상부기판 위에 형성된 차광막;A light blocking film formed on the upper substrate; 상기 차광막 위에 형성된 컬러필터층;A color filter layer formed on the light shielding film; 상기 컬러필터층 위에 형성된 제3층;A third layer formed on the color filter layer; 상기 제3층위에서 상기 게이트배선 및 데이터배선이 형성된 영역에 대응되는영역에 형성된 컬럼스페이서;A column spacer formed on an area corresponding to the area where the gate line and the data line are formed on the third layer; 상기 제3층위에서 상기 화소영역 이외의 더미 영역에 형성되며, 적어도 하나의 모서리 영역에 개구부가 형성되어 있는 액정흐름 조절용 더미 컬럼스페이서;A dummy column spacer for liquid crystal flow control formed in a dummy region other than the pixel region on the third layer and having an opening formed in at least one corner region; 상기 양 기판 사이에서 상기 더미 컬럼스페이서의 외곽부에 형성된 UV경화형 씨일재; 및A UV curable seal material formed on an outer portion of the dummy column spacer between the substrates; And 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성되는 액정표시소자.And a liquid crystal layer formed between the substrates. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제3층은 공통전극인 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And the third layer is a common electrode. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제3층은 오버코트층인 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And the third layer is an overcoat layer. 제 7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 7 to 9, 상기 더미 컬럼스페이서의 안쪽 더미영역에서, 상기 제3층위에 액정흐름 조절을 보조하는 점선형 더미 컬럼스페이서가 추가로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And a dotted line dummy column spacer further configured to control liquid crystal flow on the third layer in an inner dummy region of the dummy column spacer. 제 7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 7 to 9, 상기 더미 컬럼스페이서의 바깥쪽 더미영역에서, 상기 제3층위에 액정흐름조절을 보조하는 점선형 더미 컬럼스페이서가 추가로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And a dotted line dummy column spacer further configured to assist liquid crystal flow control on the third layer in an outer dummy region of the dummy column spacer. 제 7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 7 to 9, 상기 더미 컬럼스페이서가 이중으로 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The dummy column spacer is formed in a double liquid crystal display device. 하부기판 및 상부기판을 준비하는 공정;Preparing a lower substrate and an upper substrate; 상기 상부 기판 상의 화소 영역에 컬럼스페이서를 형성하고, 더미 영역에 액정흐름 조절용 더미 컬럼스페이서를 형성하는 공정;Forming a column spacer in the pixel region on the upper substrate and forming a dummy column spacer for liquid crystal flow control in the dummy region; 상기 더미 컬럼스페이서의 외곽부에 UV경화형 씨일재를 도포하는 공정;Applying a UV-curable seal material to an outer portion of the dummy column spacer; 상기 하부 기판 상에 액정을 적하하는 공정;Dropping liquid crystal onto the lower substrate; 상기 양 기판을 합착하는 공정; 및Bonding the substrates together; And 상기 합착 기판에 UV를 조사하는 공정을 포함하는 액정표시소자의 제조방법.Method of manufacturing a liquid crystal display device comprising the step of irradiating UV to the bonded substrate. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 컬럼스페이서 및 더미 컬럼스페이서는 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.And the column spacer and the dummy column spacer are formed at the same time. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 더미 컬럼스페이서 형성시에, 상기 더미 컬럼스페이서의 안쪽 더미영역에 점선형 더미 컬럼스페이서를 추가로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.And forming a dotted line dummy column spacer in an inner dummy region of the dummy column spacer when the dummy column spacer is formed. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 더미 컬럼스페이서 형성시에, 상기 더미 컬럼스페이서의 바깥쪽 더미영역에 점선형 더미 컬럼스페이서를 추가로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.And forming a dotted line dummy column spacer in an outer dummy region of the dummy column spacer when the dummy column spacer is formed. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 더미 컬럼스페이서를 이중으로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.And forming the dummy column spacer in duplicate. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 UV조사공정은 상기 UV경화형 씨일재 내부의 화소영역을 마스크로 가리고 수행하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.The UV irradiation process is performed by covering the pixel area inside the UV-curable seal material with a mask. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 UV조사 공정후 가열공정을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.And a heating step after the UV irradiation step. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 UV경화형 씨일재 도포공정 후 세정공정을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.And a cleaning step after the UV curing seal material coating step.
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