JP3473417B2 - 磁気ヘッド及びその製造方法並びに磁気ディスク装置 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法並びに磁気ディスク装置Info
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- JP3473417B2 JP3473417B2 JP19266098A JP19266098A JP3473417B2 JP 3473417 B2 JP3473417 B2 JP 3473417B2 JP 19266098 A JP19266098 A JP 19266098A JP 19266098 A JP19266098 A JP 19266098A JP 3473417 B2 JP3473417 B2 JP 3473417B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスクと組み
合わせて磁気記録装置として用いる磁気ヘッドに関す
る。
合わせて磁気記録装置として用いる磁気ヘッドに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置の面記録密度の向上に
伴い、薄膜磁気ヘッド素子の高性能化、ヘッドスライダ
の低浮上化の要求も厳しくなりつつある。このために
は、高感度な読みとりができるＧＭＲ（Giant Magneto-
Resistive）素子及び、ヘッド磁性膜の腐食防止及び低
浮上化に伴う耐摺動性向上のためヘッドスライダ面の浮
上面保護膜においても、さらなる技術革新が必須となっ
ている。
伴い、薄膜磁気ヘッド素子の高性能化、ヘッドスライダ
の低浮上化の要求も厳しくなりつつある。このために
は、高感度な読みとりができるＧＭＲ（Giant Magneto-
Resistive）素子及び、ヘッド磁性膜の腐食防止及び低
浮上化に伴う耐摺動性向上のためヘッドスライダ面の浮
上面保護膜においても、さらなる技術革新が必須となっ
ている。
【０００３】現在、一般的な磁気ディスク装置のヘッド
スライダ保護膜とディスク基板保護膜の隙間は、定常的
な記録再生時において５０ナノメートル程度であるが、
今後は、磁気ヘッドスライダの低浮上化が進み２５ナノ
メートル以下のニアコンタクトあるいは完全に接触する
コンタクト型磁気ヘッドが要求されると考えられる。
スライダ保護膜とディスク基板保護膜の隙間は、定常的
な記録再生時において５０ナノメートル程度であるが、
今後は、磁気ヘッドスライダの低浮上化が進み２５ナノ
メートル以下のニアコンタクトあるいは完全に接触する
コンタクト型磁気ヘッドが要求されると考えられる。
【０００４】この低浮上化は、磁気ヘッドと磁気ディス
クの物理的な接触回数を増加させるため、磁気ヘッドと
磁気ディスク間に介在する潤滑剤の物理吸着層が接触時
にヘッドスライダの直下となる磁気ディスク表面に存在
することを難しくし、磁気ディスク表面での潤滑剤のム
ラを生じることになる。このムラについては、磁気ディ
スク表面の電位を測定することで観測することが現在行
われており、その結果によれば、明らかに磁気ヘッドの
接触域のディスク表面の潤滑剤は減少している。
クの物理的な接触回数を増加させるため、磁気ヘッドと
磁気ディスク間に介在する潤滑剤の物理吸着層が接触時
にヘッドスライダの直下となる磁気ディスク表面に存在
することを難しくし、磁気ディスク表面での潤滑剤のム
ラを生じることになる。このムラについては、磁気ディ
スク表面の電位を測定することで観測することが現在行
われており、その結果によれば、明らかに磁気ヘッドの
接触域のディスク表面の潤滑剤は減少している。
【０００５】コンタクト・スタート・ストップ（ＣＳ
Ｓ）と呼ばれる耐久試験によれば、ＣＳＳを繰り返す
と、この潤滑剤の局部的な減少も要因の一つとなり、磁
気ヘッドと磁気ディスクが接触してすべる際、磁気ヘッ
ドの浮上面の摩耗が生じる可能性が増加し、耐久性に問
題が発生する。また、浮上面保護膜の摩耗が生じると、
磁気ヘッド素子部が放電あるいは、腐食し易くなる。
Ｓ）と呼ばれる耐久試験によれば、ＣＳＳを繰り返す
と、この潤滑剤の局部的な減少も要因の一つとなり、磁
気ヘッドと磁気ディスクが接触してすべる際、磁気ヘッ
ドの浮上面の摩耗が生じる可能性が増加し、耐久性に問
題が発生する。また、浮上面保護膜の摩耗が生じると、
磁気ヘッド素子部が放電あるいは、腐食し易くなる。
【０００６】このように耐久性劣化の原因である、ヘッ
ドとディスク接触時に発生する潤滑剤ムラは、ヘッドの
押しつけ荷重によって潤滑剤が最も必要とされるヘッド
直下、特にディスク基板に最も接触する流出端部分によ
って引き起こされる。磁気ヘッドを回転するディスク基
板に押しつけて行う耐久試験であるドラッグ試験結果に
よれば、回転数15k回程度においてディスク基板上の潤
滑剤は、初期膜厚が２ナノメートルなのに対して０ナノ
メートルとなることがわかっている。
ドとディスク接触時に発生する潤滑剤ムラは、ヘッドの
押しつけ荷重によって潤滑剤が最も必要とされるヘッド
直下、特にディスク基板に最も接触する流出端部分によ
って引き起こされる。磁気ヘッドを回転するディスク基
板に押しつけて行う耐久試験であるドラッグ試験結果に
よれば、回転数15k回程度においてディスク基板上の潤
滑剤は、初期膜厚が２ナノメートルなのに対して０ナノ
メートルとなることがわかっている。
【０００７】以上、磁気ヘッドとディスク基板の接触に
よって、引き起こされるディスク基板上の潤滑膜厚のム
ラ、減少によって、磁気ヘッドの浮上面保護膜の摩耗が
急速に進むようになり、耐久性が低下することになる。
この耐久性の低下は、特に、コンタクト型の磁気ヘッド
となった場合は、より大きな問題となる。
よって、引き起こされるディスク基板上の潤滑膜厚のム
ラ、減少によって、磁気ヘッドの浮上面保護膜の摩耗が
急速に進むようになり、耐久性が低下することになる。
この耐久性の低下は、特に、コンタクト型の磁気ヘッド
となった場合は、より大きな問題となる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
従来技術の問題点を解決することにあり、磁気ヘッドの
低浮上化により、頻度が多くなる磁気ディスク表面部分
との接触による潤滑剤膜厚のムラを低減し、耐久性の向
上をすることである。即ち、接触によっても磁気ヘッド
スライダの浮上面保護膜がディスク表面の潤滑性を保持
せしめ、ひいては磁気ディスク媒体に対する磁気ヘッド
スライダの耐久性を向上する磁気ディスク装置としての
信頼性を飛躍的に高めることのできる改良されたスライ
ダー浮上面保護膜の構造と、その製造方法を提供するこ
とにある。
従来技術の問題点を解決することにあり、磁気ヘッドの
低浮上化により、頻度が多くなる磁気ディスク表面部分
との接触による潤滑剤膜厚のムラを低減し、耐久性の向
上をすることである。即ち、接触によっても磁気ヘッド
スライダの浮上面保護膜がディスク表面の潤滑性を保持
せしめ、ひいては磁気ディスク媒体に対する磁気ヘッド
スライダの耐久性を向上する磁気ディスク装置としての
信頼性を飛躍的に高めることのできる改良されたスライ
ダー浮上面保護膜の構造と、その製造方法を提供するこ
とにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】課題を解決するため、磁
気媒体対向面となる表面にカーボン系保護膜を形成して
製造する磁気ヘッドにおいて、カーボン系保護膜が少な
くとも２種類以上の弾性率の異なる薄膜によって形成
し、ヘッド押しつけ荷重変化に対して該保護膜表面形状
を積極的に変形させることを特徴とする磁気ヘッドとし
た。図１に磁気ヘッド６の浮上面保護膜構造の原理図お
よび磁気ヘッド６と磁気ディスク８の接触前後の浮上面
保護膜７と潤滑剤４の動きを示している。ここで磁気ヘ
ッド浮上面保護膜７は、薄膜１，２によって形成されて
いる。ここで、薄膜１の持つ弾性率をＥh、薄膜２の持
つ弾性率をＥsとして、これらの関係をＥh＞Ｅsとし、
弾性比率k=Ｅs/Ｅhとして、これら浮上面保護膜７は磁
気ヘッドスライダ基板AlTiC３上に形成している。この
磁気ヘッド６に対向する構造で磁気ディスク基板５、お
よび、その表面に潤滑剤４が形成させている。
気媒体対向面となる表面にカーボン系保護膜を形成して
製造する磁気ヘッドにおいて、カーボン系保護膜が少な
くとも２種類以上の弾性率の異なる薄膜によって形成
し、ヘッド押しつけ荷重変化に対して該保護膜表面形状
を積極的に変形させることを特徴とする磁気ヘッドとし
た。図１に磁気ヘッド６の浮上面保護膜構造の原理図お
よび磁気ヘッド６と磁気ディスク８の接触前後の浮上面
保護膜７と潤滑剤４の動きを示している。ここで磁気ヘ
ッド浮上面保護膜７は、薄膜１，２によって形成されて
いる。ここで、薄膜１の持つ弾性率をＥh、薄膜２の持
つ弾性率をＥsとして、これらの関係をＥh＞Ｅsとし、
弾性比率k=Ｅs/Ｅhとして、これら浮上面保護膜７は磁
気ヘッドスライダ基板AlTiC３上に形成している。この
磁気ヘッド６に対向する構造で磁気ディスク基板５、お
よび、その表面に潤滑剤４が形成させている。
【００１０】図１（１）は、接触前の状態であり、磁気
ヘッド６は磁気ディスク基板８上数十ナノメートル上を
飛行しているとする。図１（２）は、磁気ヘッド６が磁
気ディスク基板８に接触した瞬間を模式的に示してい
る。ここで、磁気ヘッド浮上面保護膜直下の潤滑剤の物
理的吸着成分は、潤滑剤４の図中横方向への拡散速度Ｖ
d以上の速度で急激に接触するヘッド浮上面の接触速度
Ｖcにより(Ｖc＞Ｖd)、潤滑剤の一部９が弾性率の高い
薄膜１に挟まれている弾性率の低い薄膜２を変形させ、
ヘッド浮上面２下に潤滑剤９を取り込むことになる。
ヘッド６は磁気ディスク基板８上数十ナノメートル上を
飛行しているとする。図１（２）は、磁気ヘッド６が磁
気ディスク基板８に接触した瞬間を模式的に示してい
る。ここで、磁気ヘッド浮上面保護膜直下の潤滑剤の物
理的吸着成分は、潤滑剤４の図中横方向への拡散速度Ｖ
d以上の速度で急激に接触するヘッド浮上面の接触速度
Ｖcにより(Ｖc＞Ｖd)、潤滑剤の一部９が弾性率の高い
薄膜１に挟まれている弾性率の低い薄膜２を変形させ、
ヘッド浮上面２下に潤滑剤９を取り込むことになる。
【００１１】ここで、浮上面保護膜が一種類の弾性率の
材料１２であるEによって形成されている従来の場合で
あれば、図２（２）に示すとおり全体として若干の変形
１３はあるものの、弾性率の差を利用したポッケト状の
潤滑剤を取り込む構成にはなっておらずその時のヘッド
浮上面直下の潤滑剤膜厚は図２（２）中のｄ２程度であ
り、図１（２）中のｄ１に比較して、非常に少ない。
材料１２であるEによって形成されている従来の場合で
あれば、図２（２）に示すとおり全体として若干の変形
１３はあるものの、弾性率の差を利用したポッケト状の
潤滑剤を取り込む構成にはなっておらずその時のヘッド
浮上面直下の潤滑剤膜厚は図２（２）中のｄ２程度であ
り、図１（２）中のｄ１に比較して、非常に少ない。
【００１２】従って、その後磁気ヘッド６が再び、磁気
ディスク８表面から浮上した場合、従来技術のヘッド浮
上面保護膜であれば図２（３）に示すような潤滑剤膜厚
のムラ１４が生じ、その後の復元は拡散速度Ｖdのみに
よるが、本特許の磁気ヘッド浮上面保護膜を用いれば図
１（３）に示すように図１（２）において薄膜２を変形
させ得た、ヘッド浮上面１０下に取り込まれた潤滑剤９
を磁気ディスク表面に排出し、潤滑剤膜厚のムラを軽減
１１することが可能となった。
ディスク８表面から浮上した場合、従来技術のヘッド浮
上面保護膜であれば図２（３）に示すような潤滑剤膜厚
のムラ１４が生じ、その後の復元は拡散速度Ｖdのみに
よるが、本特許の磁気ヘッド浮上面保護膜を用いれば図
１（３）に示すように図１（２）において薄膜２を変形
させ得た、ヘッド浮上面１０下に取り込まれた潤滑剤９
を磁気ディスク表面に排出し、潤滑剤膜厚のムラを軽減
１１することが可能となった。
【００１３】ここで、図１中のカーボン系保護膜を構成
する２種類の薄膜１，２の弾性率Ｅh，Ｅsの異なる薄膜
の弾性比率k=Ｅs/Ｅhを変化させて形成した磁気ヘッド
浮上面保護膜７についてＣＳＳ試験を行い100k回時の摩
擦係数を測定した結果を図３に示す。この結果から、k
＜0.6の組み合わせの場合に摩擦係数は急激に減少する
ことがわかった。これは浮上面保護膜を構成する薄膜２
の変形量が薄膜１の変形量の約半分以上となった場合に
効果が顕著にあらわれることを意味する。
する２種類の薄膜１，２の弾性率Ｅh，Ｅsの異なる薄膜
の弾性比率k=Ｅs/Ｅhを変化させて形成した磁気ヘッド
浮上面保護膜７についてＣＳＳ試験を行い100k回時の摩
擦係数を測定した結果を図３に示す。この結果から、k
＜0.6の組み合わせの場合に摩擦係数は急激に減少する
ことがわかった。これは浮上面保護膜を構成する薄膜２
の変形量が薄膜１の変形量の約半分以上となった場合に
効果が顕著にあらわれることを意味する。
【００１４】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図４に示
す。図４（１）には図１で示した、カーボン系保護膜を
構成する２種類以上の物性の異なる薄膜のうち、他の薄
膜に比較してその弾性率が高い薄膜を柱状構造として各
柱状の保護膜の隙間を弾性率の低い材料によって構成し
たことを特徴とした磁気ヘッド形状を示している。これ
以外に、弾性率の薄膜を予め設計したパターン状に形成
し、各パターン間の隙間に１種類以上の弾性率の材料に
よって構成したことを特徴とした磁気ヘッド形状を図３
（２）〜（６）に示している。これらの浮上面保護膜の
断面形状のものは、いずれも潤滑剤のムラを防止する機
能を発揮し、磁気ディスク装置の耐久性向上に大きく寄
与することを確認している。
す。図４（１）には図１で示した、カーボン系保護膜を
構成する２種類以上の物性の異なる薄膜のうち、他の薄
膜に比較してその弾性率が高い薄膜を柱状構造として各
柱状の保護膜の隙間を弾性率の低い材料によって構成し
たことを特徴とした磁気ヘッド形状を示している。これ
以外に、弾性率の薄膜を予め設計したパターン状に形成
し、各パターン間の隙間に１種類以上の弾性率の材料に
よって構成したことを特徴とした磁気ヘッド形状を図３
（２）〜（６）に示している。これらの浮上面保護膜の
断面形状のものは、いずれも潤滑剤のムラを防止する機
能を発揮し、磁気ディスク装置の耐久性向上に大きく寄
与することを確認している。
【００１５】図５には図４（２）を形成するために、レ
ジスト材１７を用いたパターニングによってカーボン系
保護膜を構成する行程を示している。本図においては、
まず、磁気ヘッド基板の上に弾性率の小さい薄膜２を５
nmの膜厚で形成する。次に、薄膜２をパターニングする
ためにレジスト１７を塗布し露光、その後、酸素アッシ
ングによって、図５（b）のように隙間１８を形成す
る。そして、その隙間１８へ弾性率の大きい薄膜１を形
成し(c)を得、レジストを除去、再度、弾性率の低い薄
膜２を５nm堆積し図５(d)の形状を得た。
ジスト材１７を用いたパターニングによってカーボン系
保護膜を構成する行程を示している。本図においては、
まず、磁気ヘッド基板の上に弾性率の小さい薄膜２を５
nmの膜厚で形成する。次に、薄膜２をパターニングする
ためにレジスト１７を塗布し露光、その後、酸素アッシ
ングによって、図５（b）のように隙間１８を形成す
る。そして、その隙間１８へ弾性率の大きい薄膜１を形
成し(c)を得、レジストを除去、再度、弾性率の低い薄
膜２を５nm堆積し図５(d)の形状を得た。
【００１６】以上のようなレジストパターニング法の
他、レーザを用いた局所的な材質変体を行うことによ
り、形成を試みたところ、所望する形状を問題なく達成
することができた。
他、レーザを用いた局所的な材質変体を行うことによ
り、形成を試みたところ、所望する形状を問題なく達成
することができた。
【００１７】次に、これら浮上面保護膜に用いられる薄
膜であるが、カーボン系保護膜としてＣ膜，Ｃ-Ｈ膜，
Ｃ-Ｎ膜，Ｃ−Ｎ−Ｈ膜，Ｃ−Ｆ膜等を組み合わせて用
いることで、弾性率の異なる材質からなるカーボン系保
護膜を形成した。薄膜の弾性率については、予めシリコ
ンウエハ、AlTiC磁気ヘッド用基板等の上で微小硬度測
定装置を用いて測定した値を目安として、相対的な弾性
比率kを変化させることができた。また、弾性率の低い
薄膜２としてＣ−Ｆ膜を用いた場合、接触後の潤滑剤の
復元時間が他の材質の薄膜に比較し短いことを確認して
いる。これは、フッ素系であるため表面エネルギーが低
く潤滑剤をはじきやすいためだと考える。さらに、Ｃ-
Ｈ系カーボン保護膜にＴｉあるいはＷをイオン打ち込み
することによって、イオン打ち込みされた部分のみを選
択的に高弾性率の部分とすることもできた。
膜であるが、カーボン系保護膜としてＣ膜，Ｃ-Ｈ膜，
Ｃ-Ｎ膜，Ｃ−Ｎ−Ｈ膜，Ｃ−Ｆ膜等を組み合わせて用
いることで、弾性率の異なる材質からなるカーボン系保
護膜を形成した。薄膜の弾性率については、予めシリコ
ンウエハ、AlTiC磁気ヘッド用基板等の上で微小硬度測
定装置を用いて測定した値を目安として、相対的な弾性
比率kを変化させることができた。また、弾性率の低い
薄膜２としてＣ−Ｆ膜を用いた場合、接触後の潤滑剤の
復元時間が他の材質の薄膜に比較し短いことを確認して
いる。これは、フッ素系であるため表面エネルギーが低
く潤滑剤をはじきやすいためだと考える。さらに、Ｃ-
Ｈ系カーボン保護膜にＴｉあるいはＷをイオン打ち込み
することによって、イオン打ち込みされた部分のみを選
択的に高弾性率の部分とすることもできた。
【００１８】ところで、弾性率の高い薄膜１の浮上面の
面内パターン例について図５に示す。図５（１）は柱状
にパターニングして形成した例であり、（２）と（３）
は、ライン状にパターニングした例を示す。図５中いず
れの磁気ヘッドスライダともにGMR素子等が存在する流
出端領域１９が最も磁気ディスク表面に近いところを浮
上することになり、接触する確率が高くなり摩耗する確
率が高いので、この領域の摩耗についてラマン分光法を
用いて測定した。その結果、パターン形状による比較を
行ったところ最も耐久性に優れたパターンとしては
（１）であり、順に（２），（３）となっている。
（３）のパターン方向は、ヘッドの摺動方向と一致して
おり、接触時においてヘッド直下の潤滑剤の保持が難し
くなっているためと考えられる。これらのパターン他
に、例えば図５（１）の柱状部分を２重として厚みを持
たせたり、図５中の弾性率の高い薄膜１と低い薄膜２を
入れ替えた構造など色々なパターンについて考えること
ができるが、次に行ったＣＳＳ評価では図６（１）のパ
ターンで図４（１）の断面構造、k=0.4、浮上面保護膜
層厚１０nmを用いた。
面内パターン例について図５に示す。図５（１）は柱状
にパターニングして形成した例であり、（２）と（３）
は、ライン状にパターニングした例を示す。図５中いず
れの磁気ヘッドスライダともにGMR素子等が存在する流
出端領域１９が最も磁気ディスク表面に近いところを浮
上することになり、接触する確率が高くなり摩耗する確
率が高いので、この領域の摩耗についてラマン分光法を
用いて測定した。その結果、パターン形状による比較を
行ったところ最も耐久性に優れたパターンとしては
（１）であり、順に（２），（３）となっている。
（３）のパターン方向は、ヘッドの摺動方向と一致して
おり、接触時においてヘッド直下の潤滑剤の保持が難し
くなっているためと考えられる。これらのパターン他
に、例えば図５（１）の柱状部分を２重として厚みを持
たせたり、図５中の弾性率の高い薄膜１と低い薄膜２を
入れ替えた構造など色々なパターンについて考えること
ができるが、次に行ったＣＳＳ評価では図６（１）のパ
ターンで図４（１）の断面構造、k=0.4、浮上面保護膜
層厚１０nmを用いた。
【００１９】ＣＳＳ評価では、パス回数とスライダーの
磁気ディスクに対する摩擦係数の変化について検討を行
った。表面粗さＲpが約７nmのディスク上で、潤滑剤が
２nm塗布された平滑ディスク上で、図７に示すような結
果が得られた。従来の単一弾性率のカーボン材料で形成
した従来の浮上面保護膜の実施例に比較し、本実施例に
より形成したスライダーでは、約２倍のＣＳＳ回数で同
一の摩擦係数となり、耐久性として約２倍となることが
わかった。
磁気ディスクに対する摩擦係数の変化について検討を行
った。表面粗さＲpが約７nmのディスク上で、潤滑剤が
２nm塗布された平滑ディスク上で、図７に示すような結
果が得られた。従来の単一弾性率のカーボン材料で形成
した従来の浮上面保護膜の実施例に比較し、本実施例に
より形成したスライダーでは、約２倍のＣＳＳ回数で同
一の摩擦係数となり、耐久性として約２倍となることが
わかった。
【００２０】図８には本発明の磁気ヘッドを搭載した磁
気ディスク装置の構成を示している。磁気ヘッドスライ
ダ６はサスペンション２０に取り付けられ、スライダ浮
上面保護膜を磁気ディスク８に対向するように組み込ま
れている。
気ディスク装置の構成を示している。磁気ヘッドスライ
ダ６はサスペンション２０に取り付けられ、スライダ浮
上面保護膜を磁気ディスク８に対向するように組み込ま
れている。
【００２１】
【発明の効果】本発明は、磁気ヘッドスライダの低浮上
化に伴う、ヘッドスライダ浮上面保護膜部と磁気ディス
ク表面部分の接触によるディスク表面の潤滑剤膜厚のム
ラを低減し、耐久性の向上をすることができる。即ち、
磁気ヘッドスライダの浮上面保護膜がディスク表面の潤
滑性を保持せしめ、磁気ディスク媒体に対する磁気ヘッ
ドスライダの耐久性を向上する磁気ディスク装置として
の信頼性を飛躍的に高めることのできる改良されたスラ
イダーの構造と、その製造方法を提供することができ
る。
化に伴う、ヘッドスライダ浮上面保護膜部と磁気ディス
ク表面部分の接触によるディスク表面の潤滑剤膜厚のム
ラを低減し、耐久性の向上をすることができる。即ち、
磁気ヘッドスライダの浮上面保護膜がディスク表面の潤
滑性を保持せしめ、磁気ディスク媒体に対する磁気ヘッ
ドスライダの耐久性を向上する磁気ディスク装置として
の信頼性を飛躍的に高めることのできる改良されたスラ
イダーの構造と、その製造方法を提供することができ
る。
【図１】本発明を適用した磁気ヘッドと磁気ディスクの
接触前後の各状態を模式した断面図である。
接触前後の各状態を模式した断面図である。
【図２】従来の磁気ヘッドと磁気ディスクの接触前後の
各状態を模式した断面図である。
各状態を模式した断面図である。
【図３】本発明の請求項１の根拠となった弾性比率と摩
擦係数の関係を示す特性図である。
擦係数の関係を示す特性図である。
【図４】本発明を適用した磁気ヘッドスライダ浮上面保
護膜の各断面図である。
護膜の各断面図である。
【図５】本発明の実施の製造工程概略順を示した断面図
である。
である。
【図６】本発明を適用した磁気ヘッドスライダ浮上面の
保護膜面内の各パターン例を示した図である。
保護膜面内の各パターン例を示した図である。
【図７】本発明を適用した磁気ヘッドと従来の磁気ヘッ
ドのＣＳＳ評価結果を示した特性である。
ドのＣＳＳ評価結果を示した特性である。
【図８】本発明を適用した磁気ヘッドを用いた磁気ディ
スク装置の概略斜視図である。
スク装置の概略斜視図である。
１…弾性率Ｅhの薄膜、２…弾性率Ｅsの薄膜、３…チタ
ンカーバイト材（磁気ヘッド基板）、４…潤滑剤、５…
磁気ディスク基板、６…磁気ヘッド、７…浮上面保護
膜、８…磁気ディスク、９…取り込まれた潤滑剤、１０
…浮上面下、１１…ムラが減少した潤滑剤表面、１２…
弾性率Ｅhの薄膜、１３…変形部分、１４…ムラが生じ
た潤滑剤表面、１５…弾性率Ｅ1の薄膜、１６…弾性率
Ｅ2の薄膜、１７…レジスト材、１８…形成した隙間、
１９…流出端域、２０…サスペンション、２１…磁気デ
ィスク装置。
ンカーバイト材（磁気ヘッド基板）、４…潤滑剤、５…
磁気ディスク基板、６…磁気ヘッド、７…浮上面保護
膜、８…磁気ディスク、９…取り込まれた潤滑剤、１０
…浮上面下、１１…ムラが減少した潤滑剤表面、１２…
弾性率Ｅhの薄膜、１３…変形部分、１４…ムラが生じ
た潤滑剤表面、１５…弾性率Ｅ1の薄膜、１６…弾性率
Ｅ2の薄膜、１７…レジスト材、１８…形成した隙間、
１９…流出端域、２０…サスペンション、２１…磁気デ
ィスク装置。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平９−219077（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−249638（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G11B 21/16 - 21/26
G11B 5/56 - 5/60
G11B 5/187 - 5/255
Claims (4)
- 【請求項１】磁気ヘッド部とスライダ基材とを備え、磁
気ディスク媒体に対面する前記スライダ基材の浮上面に
形成された保護膜が弾性率の異なる２種類のカーボン系
薄膜からなり、該薄膜の弾性率Ｅｓ、Ｅｈの比率（Ｅｓ
／Ｅｈ）が０．６以下であって、かつ、一方の薄膜から
なるパターン化された領域と他方の薄膜を用いて前記パ
ターンの間隙部分が埋め込まれた領域とで構成されてな
ることを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】前記パターン化された領域が柱状構造であ
ることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】前記カーボン系薄膜が、Ｃ膜、Ｃ−Ｈ膜、
Ｃ−Ｎ−Ｈ膜、Ｃ−Ｆ膜の何れかであることを特徴とす
る請求項１に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項４】磁気ヘッド部、スライダ基材、２種類のカ
ーボン系薄膜からなる保護膜を備えた磁気ヘッドの製造
方法であって、前記保護膜を前記スライダ基材の一面に
所定の弾性率を有するカーボン系薄膜を形成した後、レ
ジスト材を用いたパターニング法によって前記カーボン
系薄膜に所定形状の間隙を形成し、前記カーボン系薄膜
より弾性率の低いカーボン系薄膜を用いて前記間隙を埋
めるようして形成することを特徴とする磁気ヘッドの製
造方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19266098A JP3473417B2 (ja) | 1998-07-08 | 1998-07-08 | 磁気ヘッド及びその製造方法並びに磁気ディスク装置 |
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| JP19266098A JP3473417B2 (ja) | 1998-07-08 | 1998-07-08 | 磁気ヘッド及びその製造方法並びに磁気ディスク装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000030390A JP2000030390A (ja) | 2000-01-28 |
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ID=16294935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19266098A Expired - Lifetime JP3473417B2 (ja) | 1998-07-08 | 1998-07-08 | 磁気ヘッド及びその製造方法並びに磁気ディスク装置 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP3473417B2 (ja) |
-
1998
- 1998-07-08 JP JP19266098A patent/JP3473417B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
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| JP2000030390A (ja) | 2000-01-28 |
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