JP3471213B2 - 低雑音パルス光源 - Google Patents

低雑音パルス光源

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JP3471213B2
JP3471213B2 JP08117698A JP8117698A JP3471213B2 JP 3471213 B2 JP3471213 B2 JP 3471213B2 JP 08117698 A JP08117698 A JP 08117698A JP 8117698 A JP8117698 A JP 8117698A JP 3471213 B2 JP3471213 B2 JP 3471213B2
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邦彦 森
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、導波路型光非線形
媒質に励起パルス光を入射して発生させた白色パルス光
をろ波し、任意の波長帯で低雑音の光パルスを発生させ
る低雑音パルス光源に関する。
【0002】
【従来の技術】超広帯域の白色パルス光を発生させる白
色パルス光源は、図15に示すように、励起パルス光源
1と導波路型光非線形媒質2から構成される。励起パル
ス光源1は、時間幅がピコ秒〜フェムト秒の励起パルス
光を発生する。導波路型光非線形媒質2では、この励起
パルス光が伝搬することにより3次の非線形光学効果を
誘起し、図16に示すような広帯域の白色パルス光を発
生する。この白色パルス光のスペクトルは広波長範囲に
わたって平坦に広がっているので、任意の透過特性をも
つ波長フィルタ3を用いて白色パルス光をろ波すること
により、任意の波長で時間幅がピコ秒〜フェムト秒の光
パルスを発生させることができる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の白色
パルス光源では、白色パルス光発生における雑音機構に
関する知見が得られていないので、低雑音な白色パルス
光を発生させることができなかった。したがって、この
白色パルス光源と波長フィルタを組み合わせたパルス光
源として低雑音のものを実現することができなかった。
【0004】本発明は、白色パルス光源で得られる白色
パルス光から強度雑音が非常に小さい光パルスを発生さ
せることができる低雑音パルス光源を提供することを目
的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の低雑音パルス光
源は、白色パルス光から所定の波長の光パルスをろ波す
る構成において、導波路型光非線形媒質に入射する励起
パルス光の光強度と、導波路型光非線形媒質に入射する
励起パルス光の変調度と波長フィルタでろ波された光パ
ルスの変調度との比で与えられる雑音係数との関係に基
づいて、ろ波する波長に対する雑音係数の値が極小とな
るように、導波路型光非線形媒質に入射する励起パルス
光の光強度を制御する。
【0006】
【0007】図2は、白色パルス光の雑音係数を測定す
るための構成を示す。励起パルス光源1は、繰り返し周
波数f0 の励起パルス光を発生する。この励起パルス光
は、強度変調器4で強度揺らぎ(周波数Δf、変調度M
in)が重畳され、光減衰器5を介して所定の光強度で導
波路型光非線形媒質2に入射される。導波路型光非線形
媒質2から出射された白色パルス光を所定の透過波長を
有する波長フィルタ3でろ波すると、その波長の光パル
スには強度揺らぎ(変調度Mout )が含まれている。白
色パルス光の各波長成分の雑音係数は、この変調度Min
に対する変調度Mout の比Mout/Min として与えられ
る。
【0008】なお、図2において、変調度Minは周波数
0 成分aに対する周波数f0±Δf成分bの比b/aと
して定義され、変調度Mout は周波数f0 成分cに対す
る周波数f0±Δf成分dの比d/cとして定義される。
【0009】図3は、図2の構成により測定された励起
パルス光のピーク強度に対する白色パルス光の雑音係数
の測定例を示す。図3では、透過波長が異なる波長フィ
ルタでろ波された白色パルス光の波長成分に関する雑音
係数の実測値をプロットしている。励起パルス光の波長
は1535nmである。
【0010】各波長成分における雑音係数の極小値は、
励起パルス光波長から離れるほど、高い励起パルス光強
度で出現する。例えば、波長 1505.03nm(○印)で
は、励起パルス光強度が2.25Wおよび2.45Wの付近に雑
音係数の極小値があるが、波長1476.92nm(□印)で
は、励起パルス光強度が2.35Wおよび2.51Wの付近に雑
音係数の極小値があり、励起パルス光強度が高い方にシ
フトしていることがわかる。また、励起パルス光強度が
高いほど、各波長成分の雑音係数は全般的に小さくなる
傾向があることがわかる。
【0011】雑音係数の値が0dB以上の場合は、励起
パルス光に含まれる強度揺らぎは増幅されて白色パルス
光の波長成分に受け継がれる。雑音係数の値が0dB以
下の場合は、励起パルス光に含まれる強度揺らぎは抑圧
されて白色パルス光の波長成分に受け継がれる。すなわ
ち、雑音係数の値は、図4に示すように白色パルス光を
ろ波して得た光パルスの波形に影響を与える。雑音係数
の値が−13dBの場合には、励起パルス光に含まれる強
度揺らぎはほとんど白色パルス光(の波長成分)に移ら
ず、波形劣化はない。一方、雑音係数の値が35dBの場
合には、励起パルス光に含まれる強度揺らぎは増幅さ
れ、大きな波形劣化が生じることがわかる。
【0012】以上のような励起パルス光強度と白色パル
ス光発生における雑音係数との関係に基づいて、波長フ
ィルタでろ波する波長に対する雑音係数が小さくなるよ
うに励起パルス光強度を制御することにより、安定かつ
低雑音の光パルスを発生させることができる。
【0013】なお、請求項1の低雑音パルス光源は、励
起パルス光強度と白色パルス光発生における雑音係数と
の関係をあらかじめ測定し、それに基づいてろ波する波
長に対する雑音係数が小さくなるように励起パルス光強
度を制御する構成である。
【0014】請求項2の低雑音パルス光源は、波長フィ
ルタでろ波した光パルス変調度Mout を測定し、導波
路型光非線形媒質に入射する励起パルス光の変調度Min
との比から雑音係数を算出し、その雑音係数の値が極小
なるように励起パルス光強度を制御する構成である。
【0015】請求項3の低雑音パルス光源は、導波路型
光非線形媒質に入射する励起パルス光の変調度Minを一
定とすると、雑音係数は波長フィルタでろ波した光パル
変調度Mout に対応するので、変調度Mout を測定
し、その値が極小になるように励起パルス光強度を制御
する構成である。
【0016】
【0017】
【0018】
【発明の実施の形態】(第1の実施形態:請求項1,
) 図1は、本発明の低雑音パルス光源の第1の実施形態を
示す。
【0019】励起パルス光源1で発生させた励起パルス
光を導波路型光非線形媒質2に入射し、発生させた白色
パルス光を波長フィルタ3でろ波し、所定の波長の光パ
ルスを出力する構成は従来と同様である。
【0020】本実施形態は、さらに光強度制御手段とし
て、励起パルス光の光強度の一部を分岐する光分岐部6
と、分岐した励起パルス光強度を測定する光強度測定部
7と、光強度測定部7で測定される励起パルス光強度が
目標値になるように励起パルス光源1を制御する光強度
制御部8とを備える。ただし、励起パルス光強度と白色
パルス光発生における雑音係数との関係をあらかじめ測
定し、それに基づいて波長フィルタ3でろ波する波長に
対する雑音係数が小さくなる励起パルス光強度を目標値
として決めておく。
【0021】例えば、励起パルス光強度と白色パルス光
の雑音係数との関係が図3のように得られた場合に、波
長 1505.03nmの光パルスを出力する場合には、その波
長成分の雑音係数が極小となる励起パルス光強度として
2.25Wまたは2.45W付近に設定する。波長 1490.77nm
の光パルスを出力する場合には、励起パルス光強度を2.
31Wまたは2.49W付近に設定する。波長 1476.92nmの
光パルスを出力する場合には、励起パルス光強度を2.35
Wまたは2.51W付近に設定する。光強度制御部8は、こ
の目標値と光強度測定部7で測定される励起パルス光強
度との差分を励起パルス光源1にフィードバックし、励
起パルス光強度が目標値になるように制御する。
【0022】(第2の実施形態:請求項1,) 第1の実施形態は、励起パルス光源1を直接制御して励
起パルス光強度を制御する構成であるが、第2の実施形
態は、励起パルス光源1の後段に光強度調整部を配置
し、この光強度調整部を用いて導波路型光非線形媒質2
に入射する励起パルス光強度を制御するものである。
【0023】図5は、本発明の低雑音パルス光源の第2
の実施形態を示す。図5(1) はフィードバック構成、図
5(2) はフィードフォワード構成を示す。本実施形態で
は、光強度制御手段として、光分岐部6と、光強度測定
部7と、光強度制御部8と、光強度調整部9とを備え
る。
【0024】励起パルス光源1で発生させた励起パルス
光を光強度調整部9を介して導波路型光非線形媒質2に
入射し、発生させた白色パルス光を波長フィルタ3でろ
波し、所定の波長の光パルスを出力する。この励起パル
ス光の光強度の一部を光強度調整部9の後段または前段
に配置した光分岐部6で分岐し、光強度測定部7で励起
パルス光強度を測定する。光強度制御部8は、光強度測
定部7で測定される励起パルス光強度と目標値の差に応
じて光強度調整部9を制御し、導波路型光非線形媒質2
に入射する励起パルス光強度が目標値になるように調整
する。なお、光強度制御部9として、光増幅器、または
光減衰器、またはその両方を用いることができる。
【0025】(第3,4の実施形態:請求項2,4,
) 第1,2の実施形態は、励起パルス光強度と白色パルス
光発生における雑音係数との関係をあらかじめ測定し、
波長フィルタ3でろ波する波長に対する雑音係数が極小
になる励起パルス光強度を制御目標値としてもつ構成で
ある。第3,4の実施形態は、雑音係数の測定系を備
え、実際に測定される雑音係数に基づいて励起パルス光
強度をフィードバック制御するものである。
【0026】図6は、本発明の低雑音パルス光源の第3
の実施形態を示す。励起パルス光源1で発生させた励起
パルス光を強度変調器4に入力し、所定の変調度Minの
強度揺らぎを重畳して導波路型光非線形媒質2に入射
し、発生させた白色パルス光を波長フィルタ3でろ波
し、所定の波長の光パルスを出力する。この光パルスの
光強度の一部を光分岐部6で分岐し、変調成分測定部1
0で光パルスに含まれる変調度Mout を測定する。光強
度制御部11は、強度変調器4で付加される変調度Min
と、変調成分測定部10で測定される光パルスの変調度
Mout との比を雑音係数として求め、この雑音係数が小
さくなるように、励起パルス光源1を制御して導波路型
光非線形媒質2に入射する励起パルス光強度を調整す
る。
【0027】図7は、本発明の低雑音パルス光源の第4
の実施形態を示す。励起パルス光源1で発生させた励起
パルス光を強度変調器4に入力して所定の変調度Minの
強度揺らぎを重畳し、さらに光強度調整部9を介して導
波路型光非線形媒質2に入射し、発生させた白色パルス
光を波長フィルタ3でろ波し、所定の波長の光パルスを
出力する。この光パルスの光強度の一部を光分岐部6で
分岐し、変調成分測定部10で光パルスに含まれる変調
度Mout を測定する。光強度制御部11は、強度変調器
4で付加される変調度Minと、変調成分測定部10で測
定される光パルスの変調度Mout との比を雑音係数とし
て求め、この雑音係数が小さくなるように、光強度調整
部9を制御して導波路型光非線形媒質2に入射する励起
パルス光強度を調整する。なお、光強度制御部9とし
て、光増幅器、または光減衰器、またはその両方を用い
ることができる。
【0028】(第5,6の実施形態:請求項3,4,
) 本実施形態は、導波路型光非線形媒質2の入力側で励起
パルス光に付加する変調度Minを一定とすると、雑音係
数は白色パルス光に含まれる変調度Mout に対応するの
で、この変調度Mout に応じて励起パルス光強度を制御
するものである。
【0029】図8は、本発明の低雑音パルス光源の第5
の実施形態を示す。励起パルス光源1で発生させた励起
パルス光を強度変調器4に入力し、一定の変調度Minの
強度揺らぎを重畳して導波路型光非線形媒質2に入射
し、発生させた白色パルス光を波長フィルタ3でろ波
し、所定の波長の光パルスを出力する。この光パルスの
光強度の一部を光分岐部6で分岐し、変調成分測定部1
0で光パルスに含まれる変調度Mout を測定する。光強
度制御部11は、変調成分測定部10で測定される光パ
ルスの変調度Mout が小さくなるように、励起パルス光
源1を制御して導波路型光非線形媒質2に入射する励起
パルス光強度を調整する。
【0030】図9は、本発明の低雑音パルス光源の第6
の実施形態を示す。励起パルス光源1で発生させた励起
パルス光を強度変調器4に入力して一定の変調度Minの
強度揺らぎを重畳し、さらに光強度調整部9を介して導
波路型光非線形媒質2に入射し、発生させた白色パルス
光を波長フィルタ3でろ波し、所定の波長の光パルスを
出力する。この光パルスの光強度の一部を光分岐部6で
分岐し、変調成分測定部10で光パルスに含まれる変調
度Mout を測定する。光強度制御部11は、変調成分測
定部10で測定される光パルスの変調度Mout が小さく
なるように、光強度調整部9を制御して導波路型光非線
形媒質2に入射する励起パルス光強度を調整する。な
お、光強度制御部9として、光増幅器、または光減衰
器、またはその両方を用いることができる。
【0031】(第7,8の実施形態:参考例) 第1〜6の実施形態は、励起パルス光強度と白色パルス
光発生における雑音係数との関係に基づいて、波長フィ
ルタ3でろ波する波長に対する雑音係数が小さくなる励
起パルス光強度を設定する構成である。第7,8の実施
形態は、波長フィルタ3でろ波された光パルスに含まれ
る雑音電力を測定し、その雑音電力が極小になるように
励起パルス光強度を制御するものである。
【0032】図10は、本発明の低雑音パルス光源の第
7の実施形態を示す。励起パルス光源1で発生させた励
起パルス光を導波路型光非線形媒質2に入射し、発生さ
せた白色パルス光を波長フィルタ3でろ波し、所定の波
長の光パルスを出力する。この光パルスの光強度の一部
を光分岐部6で分岐し、雑音成分測定部12で光パルス
雑音電力を測定する。光強度制御部13は、雑音成分
測定部12で測定される光パルスの雑音電力が極小に
るように、励起パルス光源1を制御して導波路型光非線
形媒質2に入射する励起パルス光強度を調整する。
【0033】図11は、本発明の低雑音パルス光源の第
8の実施形態を示す。励起パルス光源1で発生させた励
起パルス光を光強度調整部9を介して導波路型光非線形
媒質2に入射し、発生させた白色パルス光を波長フィル
タ3でろ波し、所定の波長の光パルスを出力する。この
光パルスの光強度の一部を光分岐部6で分岐し、雑音成
分測定部12で光パルスの雑音電力を測定する。光強度
制御部13は、雑音成分測定部12で測定される光パル
スの雑音電力が極小になるように、光強度調整部9を制
御して導波路型光非線形媒質2に入射する励起パルス光
強度を調整する。なお、光強度制御部9として、光増幅
器、または光減衰器、またはその両方を用いることがで
きる。
【0034】(雑音電力の測定方法) 図12は、測定する雑音電力として、高調波モード同期
パルスレーザの繰り返し周波数とその高調波以外の周波
数に対応する雑音電力を利用する例を示す
【0035】これは、励起パルス光源1として、繰り返
し周波数Nf(fは基本モード周波数、Nは2以上の整
数)の高調波モード同期パルスレーザを使う場合に有効
である。繰り返し周波数とその高調波nNf(nは整
数)以外の周波数に対応する雑音電力は、光パルス出力
の強度雑音として寄与するので、この周波数Mf(Mは
nN以外の整数)に対応する雑音電力をモニタし、それ
極小になるように励起パルス光強度を調整する。
【0036】図13は、測定する雑音成分として、モー
ド同期パルスレーザの緩和振動周波数に対応する雑音電
力を利用する例を示すこれは、励起パルス光源1とし
てモード同期パルスレーザを使う場合に有効である。モ
ード同期パルスレーザの緩和振動周波数に対応する雑音
電力は、光パルス出力の強度雑音として寄与するので、
この緩和振動周波数に対応する雑音電力をモニタし、そ
れが極小になるように励起パルス光強度を調整する。
【0037】(他の実施形態:請求項6〜9) 以上示した各実施形態において、広帯域でかつ高い平坦
性を有する白色パルス光を発生させる白色パルス光源を
用いることにより、波長フィルタでろ波する光パルス強
度の波長依存性を小さくすることができる。このような
白色パルス光源は、導波路型光非線形媒質2として図1
4に示すような波長−分散特性を有するものを用いるこ
とにより実現可能である。
【0038】すなわち、導波路型光非線形媒質の全長
または一部にわたって、励起パルス光の中心波長λ0
おける分散値〔ps/nm/km〕が伝搬方向に向かって正の値
から零以下の値に減少し、波長−分散特性が上に凸の
関数形で2つの零分散波長を有し、伝搬方向に向かって
分散値が減少すると2つの零分散波長が励起パルス光の
中心波長に近づいていくようにする。
【0039】なお、図14(1) は励起パルス光の中心波
長λ0 と分散値のピーク波長が一致する例であり、図1
4(2) は励起パルス光の中心波長λ0 と分散値のピーク
波長が一致しない例であり、図14(3) は分散値のピー
ク波長が導波路型光非線形媒質の伝搬方向に変化する例
である。
【0040】このような導波路型光非線形媒質における
白色パルス光の発生および成長の原理について説明す
る。白色パルス光は、2段階の過程を経て発生し成長す
る。すなわち、ソリトン圧縮によるスペクトル広がり過
程と、ソリトンが分散性波動に変化することによるスペ
クトルの矩形化・平坦化の過程である。
【0041】導波路型光非線形媒質に入射された励起パ
ルス光は、中心波長λ0 における導波路型光非線形媒質
の分散値Dが正(異常分散)となる伝搬距離zの範囲
で、ソリトン圧縮を受けてスペクトルが広がる。伝搬距
離zに伴って分散値Dが減少し、2つの零分散波長が励
起パルス光の中心波長λ0 に近づくと、スペクトルの両
端の波長領域は分散値が負(正常分散)の領域に入る
が、励起パルス光は全体としてソリトン性を維持してス
ペクトルが広がり続ける。さらに、伝搬距離zに伴って
分散値Dが減少し続けると、スペクトルの両端の波長領
域は正常分散に負けてソリトン性を失って分散性波動に
変化し、その降伏点でスペクトル広がりは止まる。とこ
ろが、励起パルス光の中心波長λ0 に近い波長領域で
は、分散値が依然として正(異常分散)であり、スペク
トルは広がり続けるので、降伏点での光のエネルギー密
度が増大し、角状のスペクトルが成長する。そして、2
つの零分散波長がさらに励起パルス光の中心波長に近づ
くと、降伏点もその中心波長に近づくので、平坦なスペ
クトルが形成される。
【0042】また、以上示した各実施形態において、波
長フィルタ3は、白色パルス光からろ波する波長帯が単
一、または複数、または可変のいずれでもよい。なお、
波長フィルタ3でろ波する波長帯が複数になる場合に
は、測定される変調成分または雑音成分は各波長帯の合
成値となる。
【0043】また、以上示した各実施形態において、導
波路型光非線形媒質2に偏波保持性を付与することによ
り、励起パルス光の偏波は安定に保たれ、偏波の安定し
た白色パルス光を発生させることができる。したがっ
て、波長フィルタでろ波する光パルスも安定化させるこ
とができる。
【0044】また、以上示した各実施形態において、導
波路型光非線形媒質2に入射する励起パルス光を増幅す
る光増幅器を備えてもよい。これにより、発生する白色
パルス光の帯域を広げることができ、波長フィルタでろ
波する光パルスの波長範囲も拡大することができる。
【0045】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の低雑音パ
ルス光源は、導波路型光非線形媒質に入射する励起パル
ス光の光強度を制御することにより、光フィルタでろ波
する光パルスの雑音係数を小さくすることができる。こ
れにより、励起パルス光に含まれる強度揺らぎに影響さ
れない低雑音の光パルスを生成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の低雑音パルス光源の第1の実施形態を
示すブロック図。
【図2】白色パルス光の雑音係数を測定するための構成
を示すブロック図。
【図3】励起パルス光のピーク強度に対する白色パルス
光の雑音係数の測定例を示す図。
【図4】励起パルス光の強度揺らぎが白色パルス光の波
長成分に与える影響を示す図。
【図5】本発明の低雑音パルス光源の第2の実施形態を
示すブロック図。
【図6】本発明の低雑音パルス光源の第3の実施形態を
示すブロック図。
【図7】本発明の低雑音パルス光源の第4の実施形態を
示すブロック図。
【図8】本発明の低雑音パルス光源の第5の実施形態を
示すブロック図。
【図9】本発明の低雑音パルス光源の第6の実施形態を
示すブロック図。
【図10】本発明の低雑音パルス光源の第7の実施形態
を示すブロック図。
【図11】本発明の低雑音パルス光源の第8の実施形態
を示すブロック図。
【図12】測定する雑音成分を説明する図。
【図13】測定する雑音成分を説明する図。
【図14】導波路型光非線形媒質の波長−分散特性を示
す図。
【図15】従来のパルス光源の構成例を示すブロック
図。
【図16】白色パルス光のスペクトルを示す図。
【符号の説明】
1 励起パルス光源 2 導波路型光非線形媒質 3 波長フィルタ 4 強度変調器 5 光減衰器 6 光分岐部 7 光強度測定部 8 光強度制御部 9 光強度調整部 10 変調成分測定部 11 光強度制御部 12 雑音成分測定部 13 光強度制御部
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−236834(JP,A) Electronics Lette rs,1997年10月,vol.33,no. 21,pp.1806−1808 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/35 JICSTファイル(JOIS)

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 励起パルス光を発生する励起パルス光源
    と、前記励起パルス光を入射して白色パルス光を発生す
    る導波路型光非線形媒質と、前記白色パルス光をろ波し
    て所定の波長の光パルスを出力する波長フィルタとを備
    えたパルス光源において、 前記導波路型光非線形媒質に入射する励起パルス光の光
    強度と、前記導波路型光非線形媒質に入射する励起パル
    ス光の変調度と前記波長フィルタでろ波された光パルス
    の変調度との比で与えられる雑音係数との関係を、前記
    励起パルス光の所定の光強度の範囲であらかじめ測定
    し、それに基づいて前記波長フィルタでろ波する波長に
    対する雑音係数の値が極小となるように、前記導波路型
    光非線形媒質に入射する励起パルス光の光強度を制御す
    る光強度制御手段を備えたことを特徴とする低雑音パル
    ス光源。
  2. 【請求項2】 励起パルス光を発生する励起パルス光源
    と、前記励起パルス光を入射して白色パルス光を発生す
    る導波路型光非線形媒質と、前記白色パルス光をろ波し
    て所定の波長の光パルスを出力する波長フィルタとを備
    えたパルス光源において、 前記導波路型光非線形媒質に入射する励起パルス光を変
    調する光変調手段と、前記波長フィルタでろ波された光
    パルスの変調度を測定する変調度測定手段と、 前記光変調手段で付与される前記励起パルス光の変調度
    に対して前記波長フィルタでろ波された光パルスの変調
    度の比を雑音係数として求め、その雑音係数の値が極小
    となるように、前記導波路型光非線形媒質に入射する励
    起パルス光の光強度を制御する光強度制御手段を備えた
    を備えたことを特徴とする低雑音パルス光源。
  3. 【請求項3】 励起パルス光を発生する励起パルス光源
    と、前記励起パルス光を入射して白色パルス光を発生す
    る導波路型光非線形媒質と、前記白色パルス光をろ波し
    て所定の波長の光パルスを出力する波長フィルタとを備
    えたパルス光源において、 前記導波路型光非線形媒質に入射する励起パルス光を一
    定の変調度で変調する光変調手段と、 前記波長フィルタでろ波された光パルスの変調度を測定
    する変調度測定手段と、 前記変調度測定手段で測定される変調度の値が極小とな
    るように、前記導波路型光非線形媒質に入射する励起パ
    ルス光の光強度を制御する光強度制御手段とを備えたこ
    とを特徴とする低雑音パルス光源。
  4. 【請求項4】 請求項1,2,3のいずれかに記載の低
    雑音パルス光源において、 光強度制御手段は、励起パルス光源を直接制御して励起
    パルス光の光強度を調整する構成であることを特徴とす
    る低雑音パルス光源。
  5. 【請求項5】 請求項1,2,3のいずれかに記載の低
    雑音パルス光源において、 光強度制御手段は、励起パルス光源から出力された励起
    パルス光の光強度を調整する光強度調整部を含むことを
    特徴とする低雑音パルス光源。
  6. 【請求項6】 請求項1,2,3のいずれかに記載の低
    雑音パルス光源において、 導波路型光非線形媒質は、その全長または一部にわたっ
    て、励起パルス光波長における分散値〔ps/nm/km〕が伝
    搬方向に向かって正の値から零以下の値に減少し、かつ
    波長−分散特性が上に凸の関数形で2つの零分散波長を
    有する構成であることを特徴とする低雑音パルス光源。
  7. 【請求項7】 請求項1,2,3のいずれかに記載の低
    雑音パルス光源において、 波長フィルタは、白色パルス光からろ波する波長帯が単
    一、または複数、または可変であることを特徴とする低
    雑音パルス光源。
  8. 【請求項8】 請求項1,2,3のいずれかに記載の低
    雑音パルス光源において、 導波路型光非線形媒質が偏波保持性を有する構成である
    ことを特徴とする低雑音パルス光源。
  9. 【請求項9】 請求項1,2,3のいずれかに記載の低
    雑音パルス光源において、 導波路型光非線形媒質に入射する励起パルス光を増幅す
    る光増幅器を備えたことを特徴とする低雑音パルス光
    源。
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