KR20050112138A - 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의펄스 진폭 균등화 장치 및 방법 - Google Patents

유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의펄스 진폭 균등화 장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치 및 방법에 관한 것으로, 광섬유 레이저의 공진 루프내에서 생성되는 광 펄스열을 증폭하는 광 증폭 수단과, 시간 지연에 의해 광 신호를 동기화시키는 광 신호 시간 지연 선로와, 광섬유 레이저의 공진 루프 내에서 광 신호의 편광 상태를 제어하는 편광 조절 수단과, 광섬유 레이저의 공진 루프 내에서 출력된 광 신호의 역류를 방지하는 광 아이솔레이터와, 인가되는 전압의 상관 관계에 의해 투과 특성이 결정되는 변조기와, 변조기로 인가되는 전압을 생성하는 전기 신호 생성 수단을 포함한다. 즉, 본 발명은 변조기로 인가되는 전압을 조절하여 광섬유 레이저 루프 안의 변조기의 투과 특성을 조절함으로써 유리수차 조화 모드 잠김으로부터 생성된 불균등한 광 펄스열이 변조기를 지나면서 동일한 크기의 투과 계수를 겪게 함으로서 균등한 진폭을 갖는 고반복률 펄스열을 생성한다는 것으로, 초고속 광시분할다중화 광통신에서 요구되는 안정된 고반복률의 광펄스 신호원으로 널리 활용될 수 있을 것이다.

Description

유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치 및 방법{METHOD AND APPARATUS FOR PROVIDING PULSE-AMPLITUDE EQUALIZATION IN A RATIONAL HARMONIC MODE-LOCKED SEMICONDUCTOR FIBER RING LASER}
본 발명은 유리수차(有理數次 : rational) 조화 모드-잠김(harmonic mode-locked) 광섬유 레이저 펄스의 발진 기술에 관한 것으로, 특히 조화 모드 잠김된 광 펄스의 진폭을 균등히 하면서 높은 반복률을 갖는 광 펄스열(optical pulse trains)을 생성하는데 적합한 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치 및 방법에 관한 것이다.
최근 들어, 광 시분할 다중화 광통신 방식이 고속, 고용량을 위한 미래의 통신 기술로서 각광받고 있으며, 초고속 광 시분할 다중 광통신에서 높은 반복률을 갖는 안정된 펄스열의 생성은 매우 중요한 기술적 사안으로 대두되고 있다.
고반복률을 지니는 초단 광 펄스 생성에 쉽게 접근할 수 있는 방법으로 능동 모드-잠김 레이저가 제안된 바 있으며, 더 높은 반복률의 펄스열을 얻기 위해 변조기에 걸어주는 기본 공진 주파수에 레이저 공진 주파수의 유리수차만큼 주파수를 조율하여 조화 모드-잠김함으로써 고반복률의 펄스열을 생성시키는 연구가 발표되었다.
유리수차 조화 모드-잠김에서 발생하는 펄스열은 3차 이상의 유리수차 조화 모드-잠김에서는 펄스 진폭이 서로 다르게 되며, 이러한 펄스 진폭의 불균등 현상은 실제 광 시분할 다중화 통신 시스템에서는 시스템 성능 저하를 초래하므로, 펄스 진폭의 불균등화 현상을 극복하여야 한다.
이러한 펄스 진폭 불균등화 현상을 극복하기 위해 여러 가지 기법들이 제안되었으며, 그 중에서 도 1은 비선형 완전 광섬유 루프 거울로 구성된 또 다른 광섬유 레이저에 주입 잠김(injection locking)하는 방법을 이용하여 불균등한 진폭을 갖는 유리수차 조화 모드 잠김된 광 펄스를 진폭이 일정한 광 펄스로 구현한 것이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 비선형 광섬유 루프 거울을 이용한 광 펄스 진폭 균등화 장치는, 고주파 신호 발생기(RF signal generator ; 100), 증폭기(RF power amplifier ; 102), 광 변조기(optical modulator ; 104), 제 1 파장 분할 광섬유 결합기(WDM ; 106), 제 1 어븀 첨가 광섬유(erbium doped fiber ; 108), 광 아이솔레이터(isolator ; 110), 제 1 편광 조절기(polarization controller ; 112), 광섬유 결합기(114), 제 1 밴드패스 광 필터(116), 제 1 반도체 레이저 다이오드(118), 광섬유 증폭기(120), 제 1 파장 선택성 광섬유 결합기(122), 분산천이 광섬유(124), 제 2 파장 선택성 광섬유 결합기(126), 제 2 편광 조절기(128), 이대이(3dB) 광섬유 결합기(130), 제 2 어븀 첨가 광섬유(132), 제 2 파장 분할 광섬유 결합기(134), 제 2 반도체 레이저 다이오드(136), 제 2 밴드패스 광 필터(138), 광섬유 지연 선로(140), 패러데이 회전 거울(Faraday rotator ; 142), 광 스펙트럼 분석기(144)를 포함한다.
도시한 바와 같이, 광 변조기(104)는 고주파 신호 발생기(100)에서 발생되어 증폭기(102)를 통과한 신호를 광섬유 기본 종 모드의 정수 배 주파수로 변조시켜 준다.
제 1 파장 분할 광섬유 결합기(106)를 이용하여 980nm 파장의 제 1 반도체 레이저 다이오드(118)를 이용하여 광 펌핑(pumping)을 해 준다.
또한, 10% 광섬유 결합기(114)를 통해 출력된 광 신호는 광섬유 증폭기(120)에서 증폭되어 제 1 파장 선택성 광섬유 결합기(122)를 통해 또 다른 광섬유 레이저로 입사된다.
그리고, 제 1 밴드패스 광 필터(116)는 발진 파장 λ1을 결정한다.
광 펄스 진폭의 균일화를 위한 또 다른 하나의 광섬유 레이저 구성, 이득 매질로 제 2 어븀 첨가 광섬유(132)와 패러데이 회전 거울(142), 광 신호를 동기화 시켜주기 위한 광섬유 지연 선로(140)가 선형 거울에 위치하고, 비선형 효과를 주기 위해 길이가 약 1km 정도이고 영 분산 파장이 1,550nm인 분산 천이 광섬유(124), 제 2 파장 선택성 광섬유 결합기(126) 및 편광 조절기(128) 등으로 루프 거울을 구성한다.
레이저 공진기 안에 제 2 밴드패스 광 필터(138)는 발진 파장 λ2를 결정한다.
제 1 파장 선택성 광섬유 결합기(122)를 통해 유리수차 조화 모드-잠김 광 펄스의 λ1 광원이 입력되고, 분산 천이 광섬유(124)를 통과하면서 비선형 특성에 의해 λ1 광 신호가 λ2 광 신호로 변환되며, 제 2 파장 선택성 광섬유 결합기(126)를 통해 λ1 광 신호가 출력된다.
이대이(3dB) 광섬유 결합기(130)의 한쪽 포트에 구성된 광 스펙트럼 분석기(144)를 통해 진폭이 균일화 된 광 펄스열을 관측할 수 있다.
한편, 도 2는 반도체 증폭기 루프 거울을 이용하여 펄스 진폭의 균등화를 수행한 구성도이다. 반도체 증폭기 루프 거울에 인가되는 불균등한 펼스 열 중에 진폭이 큰 펄스가 루프 거울에 들어가면 진폭이 특정 레벨로 낮아져서 균등화된 진폭을 지니게 된다.
도 3은 종래의 펄스 진폭 균등화 기법들 중 광 피드백(feed-back)을 이용한 방법을 설명하는 도면이다. 적절한 시간 지연을 갖는 광 펄스가 레이저 공진기 내로 피드백되어 공진기 내의 광 펄스와 진폭이 조화를 이루면 출력 광 펄스는 균등화된 진폭을 지니게 된다.
이와 같이 종래의 여러 가지 펄스 진폭 균등화 기술은 유리수차 조화 모드-잠김 광섬유 레이저의 기본 구조 이외에 다른 부품과 덧붙여지는 구성이기 때문에 구조가 복잡해진다는 단점이 있다. 특히 부품이 추가될 때마다 광 파워의 손실이 발생되기 때문에 고반복률의 안정화된 광 펄스열을 생성하는데 많은 제약이 따른다.
본 발명은 상술한 종래 기술의 한계를 극복하기 위해 구현한 것으로, 이중 전극 마하-젠더(Mach-Zehnder) 형태의 변조기를 이용하여 조화 모드 잠김된 광 펄스의 진폭을 균등하게 하면서 높은 반복률을 갖는 광 펄스열을 생성하도록 한 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치 및 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 광섬유 레이저의 공진 루프내에서 생성되는 광 펄스열을 증폭하는 광 증폭 수단과, 시간 지연에 의해 광 신호를 동기화시키는 광 신호 시간 지연 선로와, 광섬유 레이저의 공진 루프 내에서 광 신호의 편광 상태를 제어하는 편광 조절 수단과, 광섬유 레이저의 공진 루프 내에서 출력된 광 신호의 역류를 방지하는 광 아이솔레이터와, 인가되는 전압의 상관 관계에 의해 투과 특성이 결정되는 변조기와, 변조기로 인가되는 전압을 생성하는 전기 신호 생성 수단을 포함하는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치를 제공한다.
본 발명의 목적을 달성하기 위한 다른 실시예에 따르면, 이중 전극의 변조기를 갖는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 방법으로서, 변조기의 이중 전극에 일정 전압을 각각 공급하는 단계와, 이중 전극에 공급되는 전압 레벨을 조절하여 유리수차 조화 모드-잠김으로부터 생성되는 광 펄스열의 진폭을 일정하게 유지하는 단계를 포함하는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 방법을 제공한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명한다.
설명에 앞서, 본 발명의 기술 요지는 변조기로 인가되는 전압을 이용하여 광섬유 레이저 루프 안의 변조기의 투과 특성을 조절함으로써 유리수차 조화 모드 잠김으로부터 생성되는 광 펄스열의 진폭을 일정하게 만들며, 조절한 인가 전압에 의해 불균등한 펄스열이 마하-젠더 변조기를 지나면서 같은 크기의 투과 계수를 겪게 함으로서 균등한 진폭을 갖는 고반복률 펄스열(인접 펄스간 서로 다른 위상을 가짐)을 생성한다는 것으로, 이러한 기술 사상으로부터 본 발명의 목적으로 하는 바를 용이하게 달성할 수 있을 것이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유리수차 조화 모드-잠김 광섬유 레이저의 구성도로서, 광섬유 레이저의 공진 루프는 광 증폭기(500), 광 신호 시간 지연 선로(502), 편광 조절기(504), 광 아이솔레이터(506), 변조기(508), 3dB 광 커플러(520)를 포함한다. 펄스 패턴 생성기(510), 증폭기(512, 512'), 위상 시프터(phase shifter ; 514), 감쇄기(516, 516'), 바이어스(518, 518')는 변조기(508)에 일정 레벨의 전압을 공급하는 전기 신호 생성 수단이다.
광 증폭기(500)는 광섬유 레이저의 공진 루프내에서 생성되는 광 펄스열을 증폭하는 역할을 수행하며, 반도체 광 증폭기(SOA)를 이득 매질로 사용한 것을 특징으로 한다. 이렇게 반도체 광 증폭기를 이득 매질로 사용한 광섬유 레이저가 종래의 어븀 첨가된 광섬유 증폭기를 사용한 광섬유 레이저에 비해 주위 환경에 덜 민감한 특성을 보인다.
광 신호 시간 지연 선로(502)는 시간 지연에 의해 광 신호를 동기화 시키며, 편광 조절기(504)는 광섬유 루프 내에서 광 신호의 편광 상태를 제어한다.
광 아이솔레이터(506)는 광섬유 레이저 루프 내에서 광 신호의 역류를 방지하여 광 신호가 한 방향으로만 지나도록 한다.
본 실시예에 따른 변조기(508)는, 예컨대 이중 전극 마하-젠더 형태의 변조기로 구성되며, 두 전극에 인가되는 전압들의 상관 관계에 의해 그 투과 특성이 결정된다. 즉, 인가 전압이 변조기(508)의 투과 특성을 조절하여 불균등한 펄스열이 변조기(508)를 거치면서 동일한 크기의 투과 계수를 겪게 되어 균등한 진폭을 갖는 고반복률 펄스열로 생성된다. 이러한 변조기(508)의 투과 특성과 펄스 진폭의 관계에 대해서는 하기 도 5 내지 도 8을 참조하여 상세히 기술될 것이다.
펄스 패턴 생성기(510)는 RF 신호를 생성하며, 생성된 RF 신호는 증폭기(512, 512') 및 감쇄기(516, 516')에 의해 적정 전압 값으로 조절된다.
조절된 전압 값의 RF 신호는 바이어스(518, 518')를 통해 바이어스 전압과 함께 변조기(508)의 양 전극에 제공된다.
위상 시프터(514)는 변조기(508)로 인가되는 두 전압 신호가 서로 적정 위상차를 갖도록 조절하는 역할을 수행한다.
유리수차 조화 모드-잠김 레이저의 출력 신호는 3dB 광 커플러(520)에 의해 측정되며, 측정된 신호는 샘플링 오실로스코프 및 RF 스펙트럼 분석기를 통해 분석될 수 있다.
이와 같이 구성된 광섬유 레이저에서 RF 변조 주파수(fmod)가 기본 공진 주파수(fcav)의 정수배와 같다면, 즉 하기 [수학식 1]과 같은 관계식이 성립한다면, n차 조화 모드-잠김된 펄스가 발생하고 이 펄스의 반복률(frep)은 변조 주파수와 동일하게 된다. 이는 다음 [수학식 2]로 표현될 수 있다.
유리수차 조화 모드-잠김을 얻기 위해서, 변조 주파수가 조화 모드-잠김 조건으로부터 fcav/p만큼 변화된다. 즉, p가 정수 값일 때, 다음 [수학식 3]과 같이 표현된다.
이러한 관계로 생성된 p차 유리수차 조화 모드-잠김된 광 펄스열의 진폭은 변조기(508)의 투과 계수에 따라 그 크기가 결정된다.
변조기(508)의 투과 특성은 변조기의 두 전극에 인가되는 전압들의 상관 관계에 의해 결정된다. 도 5는 변조기(508)의 두 전극에 인가되는 클럭 신호의 변조 크기(Vac)가 변조기(508)의 스위칭 전압(Vπ)보다 작을 때, 변조기(508)의 투과 커브(transmission curve)와 광 펄스열을 나타낸 파형도이다.
도 5에 나타난 바와 같이, 두 인가 전압의 크기가 스위칭 전압보다 작으면 변조기를 구동시키는 클럭 신호의 피크 값은 스위칭 전압의 두 배 값보다 작다. 이 경우에 유리수차 조화 모드-잠김된 펄스열에 대해 투과 커브의 일정하지 못한 투과 계수 특징을 보이게 되는 변조기를 지나는 3차 유리수차 조화 모드-잠김된 광펄스가 매칭되어 불균등한 펄스 진폭을 가진다.
도 6은 변조기(508)로 인가되는 두 클럭 신호의 변조 크기가 변조기(508)의 스위칭 전압보다 커서 변조기(508)를 구동시키는 클럭 신호의 크기가 스위칭 전압의 두 배보다 큰 경우에 나타나는 투과 커브와 이때의 펄스열을 나타낸다.
도 6에 나타난 바와 같이, 투과 커브는 도 5의 투과 커브에 비해 최소값 및 최대값을 더 많이 가짐을 알 수 있다. 그 결과, 도 6에서의 3차 유리수차 조화 모드-잠김된 광 펄스는 변조기(508)에서 같은 투과 계수를 겪게 되어 균등한 펄스 진폭으로 출력된다. 이 경우, 변조기(508)를 이중 구동시키지 않고 한쪽 전극에만 스위칭 전압의 두 배 크기의 클럭 신호로 변조기(508)를 구동시켜도 균등한 펄스 진폭을 구현할 수 있다.
도 7은 변조기(508)의 두 전극에 인가되는 클럭 신호의 주파수를 서로 상이하게 설정하였을 때, 투과 커브와 펄스열간의 관계를 나타낸 도면이다. 이 경우, 변조기(508)를 구동시키는 클럭 신호가 단순한 사인 곡선이 아니며 변조 크기가 스위칭 전압보다 작은 경우에도, 도 7에서와 같이 균일한 펄스 진폭의 유리수차 조화 모드-잠김된 광 펄스를 구현할 수 있다.
도 8은 펄스 진폭이 균등화된 유리수차 조화 모드-잠김된 광 펄스의 출력 위상을 나타내고 있다. 변조기(508)에 인가되는 클럭 신호의 진폭 크기와 바이어스 값, 그리고 두 신호의 위상 차에 따라 진폭이 균등화된 출력 광 펄스는 인접 펄스간 서로 다른 위상을 갖게 된다.
이상, 본 발명을 실시예에 근거하여 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 이러한 실시예에 한정되는 것이 아니라, 그 요지를 벗어나지 않는 범위내에서 여러 가지 변형이 가능한 것은 물론이다.
본 발명에 따른 유리수차 조화 모드-잠김된 펄스의 진폭 균등화 방법에 의하면, 낮은 대역폭의 변조 주파수로부터 그 이상의 높은 반복률의 광 펄스열을 구현할 수 있다. 또한, 광섬유 레이저의 기본 구조에서 변조기의 투과 특성을 조절하여 진폭 균등화를 구현하기 때문에 구조가 단순하여 부가적인 부품의 사용이 없어 비용을 절감할 수 있으며, 부품이 추가될 때마다 생기는 광 파워의 손실을 줄일 수 있어 고반복률의 안정화된 광펄스열을 용이하게 생성할 수 있다. 이때의 안정화된 고반복률 광 펄스열이 인접 펄스간에 서로 다른 위상을 가짐으로써 동일 위상을 갖는 광 펄스열에 비해 전송 특성이 향상된다. 결론적으로, 진폭 균등화된 유리수차 조화 모드-잠김된 광 펄스는 초고속 광시분할다중화 광통신에서 요구되는 안정된 고반복률의 광펄스 신호원으로 널리 활용될 수 있을 것이다.
도 1은 종래의 비선형 광섬유 루프 거울을 이용한 광 펄스 진폭 균등화 장치의 구성도,
도 2는 종래의 반도체 증폭기 루프 거울을 이용한 광 펄스 진폭 균등화 장치의 구성도,
도 3은 종래의 광 피드백을 이용한 광 펄스 진폭 균등화 장치의 구성도,
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 펄스 진폭 균등화를 구현하기 위한 이중 전극 마하-젠더 변조기를 이용한 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저의 구성도,
도 5는 변조기가 스위칭 전압보다 작은 값으로 구동되어 진폭 균등화가 이루어지지 않은 3차 유리수차 조화 모드-잠김에 대한 변조기의 투과 특성(점선)과 광 펄스열(실선)을 나타내는 파형도,
도 6은 변조기가 스위칭 전압보다 큰 값으로 구동되어 진폭 균등화가 이루어진 3차 유리수차 조화 모드-잠김에 대한 변조기의 투과 특성(점선)과 광 펄스열(실선)을 나타내는 파형도,
도 7은 변조기의 두 전극에 주파수가 서로 다른 클럭 신호를 인가하여 진폭 균등화된 유리수차 조화 모드-잠김에 대한 변조기의 투과 특성(점선)과 광 펄스열(실선)을 나타내는 파형도,
도 8은 본 발명에 따라 발생된 진폭 균등화된 광 펄스열(실선)이 인접 펄스간 서로 다른 출력 위상(점선)을 지님을 나타내는 파형도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
500 : 광 증폭기 502 : 광 신호 시간 지연 선로
504 : 편광 조절기 506 : 광 아이솔레이터
508 : 변조기 510 : 펄스 패턴 생성기
512, 512' : 증폭기 514 : 위상 시프터
516, 516' : 감쇄기 518, 518' : 바이어스
520 : 3dB 커플러

Claims (17)

  1. 광섬유 레이저의 공진 루프내에서 생성되는 광 펄스열을 증폭하는 광 증폭 수단과,
    시간 지연에 의해 광 신호를 동기화시키는 광 신호 시간 지연 선로와,
    상기 광섬유 레이저의 공진 루프 내에서 광 신호의 편광 상태를 제어하는 편광 조절 수단과,
    상기 광섬유 레이저의 공진 루프 내에서 출력된 광 신호의 역류를 방지하는 광 아이솔레이터와,
    인가되는 전압의 상관 관계에 의해 투과 특성이 결정되는 변조기와,
    상기 변조기로 인가되는 전압을 생성하는 전기 신호 생성 수단
    을 포함하는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 장치는
    상기 변조기로 인가되는 전압의 위상차를 조절하는 위상 시프터와,
    상기 광섬유 레이저의 출력 신호를 분기하는 광 커플러와,
    상기 광 커플러에 의해 분기된 신호를 외부로 출력하는 수단
    을 더 포함하는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 광 증폭 수단은 반도체 광 증폭기 또는 광섬유 증폭기인 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 전기 신호 생성 수단은
    RF 신호를 생성하는 신호 생성 수단과,
    상기 생성된 RF 신호를 임의의 전압 값으로 조절하는 수단
    을 포함하는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 변조기는 이중 전극 마하-젠더 형태의 변조기로 구성되며, 상기 이중 전극에 인가되는 전압이 상기 변조기를 지나면서 불균등한 펄스열이 동일한 크기의 투과 계수를 겪게 되어 균등한 진폭을 갖는 고반복률 펄스열로 생성되는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 변조기의 이중 전극을 모두 구동시켜 상기 변조기의 투과 특성을 조절하는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치.
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 변조기의 이중 전극에 인가되는 클럭 신호의 변조 크기가 상기 변조기의 스위칭 전압보다 큰 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치.
  8. 제 5 항에 있어서,
    상기 변조기의 이중 전극에 인가되는 클럭 신호가 서로 다른 주파수를 갖는 경우, 상기 변조기를 구동시키는 클럭이 사인 곡선으로 표현되지 않는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치.
  9. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
    상기 이중 전극에 인가되는 클럭 신호의 변조 크기가 상기 스위칭 전압보다 적은 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치.
  10. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 진폭 균등화된 유리수차 조화 모드-잠김된 광 펄스열이 인접 펄스간에 서로 다른 위상을 갖는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 장치.
  11. 이중 전극의 변조기를 갖는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 방법으로서,
    상기 변조기의 이중 전극에 일정 전압을 각각 공급하는 단계와,
    상기 이중 전극에 공급되는 전압 값을 조절하여 유리수차 조화 모드-잠김으로부터 생성되는 광 펄스열의 진폭을 일정하게 유지하는 단계
    를 포함하는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 이중 전극 변조기는 마하 젠더 형태로 구성되는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 방법.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 생성되는 광 펄스열은 인접 펄스간 서로 다른 위상을 갖는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 방법.
  14. 제 11 항에 있어서,
    상기 전압 값은 상기 변조기의 이중 전극에 공급되는 전압의 클럭 신호의 변조 크기가 상기 변조기의 스위칭 전압보다 크게 되도록 조절되는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 전압 값은 상기 이중 전극 중 어느 하나의 전극에 상기 스위칭 전압의 두 배 크기의 클럭 신호가 공급되도록 조절되는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 방법.
  16. 제 11 항에 있어서,
    상기 전압 값은 상기 변조기의 이중 전극에 공급되는 클럭 신호의 변조 크기가 서로 같도록 조절되는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 방법.
  17. 제 11 항에 있어서,
    상기 전압 값은 상기 변조기의 이중 전극에 공급되는 클럭 신호의 변조 크기가 서로 다르도록 조절되는 유리수차 조화 모드-잠김 반도체 광섬유 레이저 내에서의 펄스 진폭 균등화 방법.
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