JP3466251B2 - 光部品用光ファイバの製造方法 - Google Patents
光部品用光ファイバの製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、光ファイバ型部品と
して使用される光ファイバの製造方法に関するもので、
特に長さ方向に分散値やＭＦＤを変化させた特性を有す
るものを提供する。 【０００２】 【従来の技術】光ファイバ網が広がり、多くのところで
光ファイバが使用されるようになるといろいろな用途の
光ファイバが必要とされる。例えば、数百ｍ〜数百ｋｍ
のファイバの長さ方向に分散値やＭＦＤが徐々に変化す
る光ファイバ等である。従来この種の光ファイバは次の
ようにして作製していた。まず、ＶＡＤ法により所望の
屈折率分布を持つようなＧｅＯ2 ドープＳｉＯ2多孔質
ガラスプリフォームを作製する。この多孔質ガラスプリ
フォームをおよそ１０００℃のＨｅと塩素系ガス雰囲気
で脱水処理し、その後、およそ１５００℃のＨｅ雰囲気
で透明ガラス化する。このロッドを延伸してコア母材と
し、その周りにクラッディング用の純粋ＳｉＯ2 からな
る多孔質ガラス層を外付けして同様に脱水、透明ガラス
化して光ファイバ母材とする。この光ファイバ母材はそ
の長さ方向に構造的にも組成的にも均一に作製されてい
るので、線引きの際に例えば光ファイバ母材の降下速度
を変化させることで光ファイバ径を徐々に変化させる。
こうして、長さ方向に分離値やＭＦＤが徐々に変化する
光ファイバが得られる。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、線引き
の際に長尺にわたって光ファイバの外径を徐々に変える
ために母材の降下速度を変化させるのは制御が困難とい
うことがあった。また、光ファイバの外径が所定の１２
５μｍから大きくずれることもあり、作製後の測定が困
難であり、また所定の特性のものが得られないというこ
とがあった。 【０００４】 【課題を解決するための手段】この発明は、以上の観点
から比較的に簡単な方法で長さ方向に分散値やＭＦＤの
変化した光部品用光ファイバを得ようとするもので、そ
の特徴とする請求項１記載の発明は、コアとなる部分お
よびクラッドとなる部分の径が共に長さ方向に均一な石
英系ガラスロッドを用意し、このロッドのクラッドとな
る部分の外周部を切削してテーパ状のロッドとなし、こ
のテーパ状のロッドを延伸して均一な外径の光ファイバ
母材となし、しかる後均一な外径の光ファイバに線引き
することにある。なお、テーパ状のロッドを延伸して均
一な外径の光ファイバ母材とするには、例えば次のよう
にすれば良い。すなわち、ロッドを垂直に位置させ、円
筒状の加熱炉内を通過させる。その際、ロッドの上下両
端部をチャックに把持させる。上部チャック、下部チャ
ックともロッドの長さ方向にトラバース可能な移動チャ
ックとし、ロッドの大径の方を上部チャックに、小径の
方を下部チャックに把持させる。このような構成の下
で、下部チャックの降下速度を上部チャックの降下速度
よりも速くする。これにより、コア部がその長さ方向に
変化し、クラッド部外径が長さ方向に均一な延伸母材と
なる。なお、コアの屈折率分布としては長さ方向に一定
であれば良く、ステップ型、グレーテッド型を問わず、
さらには任意のものでも良い。 【０００５】 【作用】ロッドの長さはせいぜい５０〜２００ｍｍと短
いので、これをテーパ状に切削することは比較的簡単で
あり、また、テーパ状に切削されたロッドを均一な外径
にすべく延伸速度を徐々に変えることも比較的簡単なた
め、容易に長さ方向に外径が均一な光ファイバ母材を得
ることができる。かくして、コア部は長さ方向に直径が
変化し、外径は均一な光ファイバ母材が容易に得られ
る。 【０００６】 【実施例】 〔実施例１〕ＶＡＤ法と外付け法の併用によって、コア
となる部分１０およびクラッドとなる部分１２の径が長
さ方向に均一な石英系ロッド１を作製した。このロッド
１のクラッド部１２の外周を機械的に切削して、図１に
示す一端は当初の外径のままで他端は小径のテーパ状ロ
ッド１とした。次に、このテーパ状ロッド１を延伸して
図２に示すように、長さ方向に均一な外径の光ファイバ
母材２０とした。ロッド１の延伸は図３に示す装置を用
いた。図において、１は垂直に支持されたテーパ状ロッ
ドで、その両端にはダミーのロッド２が取付けられてい
る。３、４はテーパ状ロッド１を把持する上下移動チャ
ックで、上部チャック３はロッド１の上部大径側のダミ
ーロッド２を把持し、下部チャック４はロッド１の下端
の小径側のダミーロッド２を把持する。５は円筒状の抵
抗加熱炉で、６はその内部に配置された炉心管である。 【０００７】以上の構成において、加熱炉５に通電して
炉心管６内温度を１８００℃程度に維持する。ロッド１
の下端部が軟化しはじめたところで上下チャック３、４
を下方に向けて降下させる。この両チャック部の降下速
度は、下部チャック４の速度を上部チャック３の速度よ
りも速い速度で降下させるが、炉心管６内に導かれるロ
ッド１の径が次第に大になるにつれて下部チャック４の
速度を次第に速める。両チャック３、４の降下速度は、
炉心管６内温度およびロッド１のテーパーの程度を勘案
して設定される。かくして、図２に示すように外径が均
一な光ファイバ母材が得られる。この光ファイバ母材を
一端から線引きし外径が均一で、コア径が長さ方向に次
第に変化する光ファイバが得られる。なお、ロッド１の
両端にダミーのロッド２を取付けるのは、ロッド１の全
長を極力製品とするためである。 【０００８】〔具体例１〕ＶＡＤ法と外付け法の併用に
より、コア部が直径４．６ｍｍφのＧｅＯ2 −ＳｉＯ2
（純粋ＳｉＯ2 との比屈折率差０．８％）、クラッド部
外径が３３ｍｍφのＳｉＯ2 からなり、長さが１００ｍ
ｍＬの光ファイバ用ロッドを作製した。このロッドは、
ファイバ径が１２５．０μｍになるように線引きする
と、波長１．５５μｍにおける分散値が０ｐｓ／ｎｍ／
ｋｍ、ファイバ径が１３７．５μｍになるように線引き
すると波長１．５５μｍにおける分散値が＋５．０ｐｓ
／ｎｍ／ｋｍという１．５５μｍ帯分散シフトファイバ
となるものである。このロッド外周部を一端はそのまま
で、他端が３０ｍｍφとなるようにテーパ状に切削した
後延伸し３０ｍｍφの外径が均一な光ファイバ母材とし
た。この母材をファイバ径１２５．０μｍで線引きし
た。得られた光ファイバは、一端における分散値が波長
１．５５μｍにおいて０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、他端
における分散値が波長１．５５μｍにおいて＋５．０ｐ
ｓ／ｎｍ／ｋｍというものであった。 【０００９】〔比較例１〕実施例１と同じように、ＶＡ
Ｄ法と外付け法の併用により、コア部が直径４．２ｍｍ
φのＧｅＯ2 −ＳｉＯ2 （純粋ＳｉＯ2 との比屈折率差
Δ＝０．８％）、クラッド部外径が３０ｍｍφのＳｉＯ
2 からなり、長さが１００ｍｍＬの光ファイバ用ロッド
を作製した。このロッドの分散特性は、実施例１と同一
であり、ファイバ径が１２５．０μｍになるように線引
きすると、波長１．５５μｍにおける分散値が０ｐｓ／
ｎｍ／ｋｍ、ファイバ径が１３７．５μｍになるように
線引きすると波長１．５５μｍにおける分散値が＋５．
０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍという１．５５μｍ帯分散シフトフ
ァイバとなるものである。この母材を線引きするに際し
て、母材の降下速度を次第に変化させることによって、
先端が１２５．０μｍ、後端が１３７．５μｍの光ファ
イバとした。この光ファイバ作製においてはロッドを切
削するという工程はなくてすむものの、線引きに際して
ファイバ径を徐々に変動させるのに極めて困難をともな
った。 【００１０】 【発明の効果】この発明方法によれば、ＭＦＤや分散値
がその長さ方向に変化する光ファイバを得るに際して、
ロッドの段階でクラッドとなる部分の径を長さ方向に均
一になすとともに、コアとなる部分の径を長さ方向に変
化させたものを得、これを線引きする方法であるので、
極めて簡単に所望の特性のものが得られる。
して使用される光ファイバの製造方法に関するもので、
特に長さ方向に分散値やＭＦＤを変化させた特性を有す
るものを提供する。 【０００２】 【従来の技術】光ファイバ網が広がり、多くのところで
光ファイバが使用されるようになるといろいろな用途の
光ファイバが必要とされる。例えば、数百ｍ〜数百ｋｍ
のファイバの長さ方向に分散値やＭＦＤが徐々に変化す
る光ファイバ等である。従来この種の光ファイバは次の
ようにして作製していた。まず、ＶＡＤ法により所望の
屈折率分布を持つようなＧｅＯ2 ドープＳｉＯ2多孔質
ガラスプリフォームを作製する。この多孔質ガラスプリ
フォームをおよそ１０００℃のＨｅと塩素系ガス雰囲気
で脱水処理し、その後、およそ１５００℃のＨｅ雰囲気
で透明ガラス化する。このロッドを延伸してコア母材と
し、その周りにクラッディング用の純粋ＳｉＯ2 からな
る多孔質ガラス層を外付けして同様に脱水、透明ガラス
化して光ファイバ母材とする。この光ファイバ母材はそ
の長さ方向に構造的にも組成的にも均一に作製されてい
るので、線引きの際に例えば光ファイバ母材の降下速度
を変化させることで光ファイバ径を徐々に変化させる。
こうして、長さ方向に分離値やＭＦＤが徐々に変化する
光ファイバが得られる。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、線引き
の際に長尺にわたって光ファイバの外径を徐々に変える
ために母材の降下速度を変化させるのは制御が困難とい
うことがあった。また、光ファイバの外径が所定の１２
５μｍから大きくずれることもあり、作製後の測定が困
難であり、また所定の特性のものが得られないというこ
とがあった。 【０００４】 【課題を解決するための手段】この発明は、以上の観点
から比較的に簡単な方法で長さ方向に分散値やＭＦＤの
変化した光部品用光ファイバを得ようとするもので、そ
の特徴とする請求項１記載の発明は、コアとなる部分お
よびクラッドとなる部分の径が共に長さ方向に均一な石
英系ガラスロッドを用意し、このロッドのクラッドとな
る部分の外周部を切削してテーパ状のロッドとなし、こ
のテーパ状のロッドを延伸して均一な外径の光ファイバ
母材となし、しかる後均一な外径の光ファイバに線引き
することにある。なお、テーパ状のロッドを延伸して均
一な外径の光ファイバ母材とするには、例えば次のよう
にすれば良い。すなわち、ロッドを垂直に位置させ、円
筒状の加熱炉内を通過させる。その際、ロッドの上下両
端部をチャックに把持させる。上部チャック、下部チャ
ックともロッドの長さ方向にトラバース可能な移動チャ
ックとし、ロッドの大径の方を上部チャックに、小径の
方を下部チャックに把持させる。このような構成の下
で、下部チャックの降下速度を上部チャックの降下速度
よりも速くする。これにより、コア部がその長さ方向に
変化し、クラッド部外径が長さ方向に均一な延伸母材と
なる。なお、コアの屈折率分布としては長さ方向に一定
であれば良く、ステップ型、グレーテッド型を問わず、
さらには任意のものでも良い。 【０００５】 【作用】ロッドの長さはせいぜい５０〜２００ｍｍと短
いので、これをテーパ状に切削することは比較的簡単で
あり、また、テーパ状に切削されたロッドを均一な外径
にすべく延伸速度を徐々に変えることも比較的簡単なた
め、容易に長さ方向に外径が均一な光ファイバ母材を得
ることができる。かくして、コア部は長さ方向に直径が
変化し、外径は均一な光ファイバ母材が容易に得られ
る。 【０００６】 【実施例】 〔実施例１〕ＶＡＤ法と外付け法の併用によって、コア
となる部分１０およびクラッドとなる部分１２の径が長
さ方向に均一な石英系ロッド１を作製した。このロッド
１のクラッド部１２の外周を機械的に切削して、図１に
示す一端は当初の外径のままで他端は小径のテーパ状ロ
ッド１とした。次に、このテーパ状ロッド１を延伸して
図２に示すように、長さ方向に均一な外径の光ファイバ
母材２０とした。ロッド１の延伸は図３に示す装置を用
いた。図において、１は垂直に支持されたテーパ状ロッ
ドで、その両端にはダミーのロッド２が取付けられてい
る。３、４はテーパ状ロッド１を把持する上下移動チャ
ックで、上部チャック３はロッド１の上部大径側のダミ
ーロッド２を把持し、下部チャック４はロッド１の下端
の小径側のダミーロッド２を把持する。５は円筒状の抵
抗加熱炉で、６はその内部に配置された炉心管である。 【０００７】以上の構成において、加熱炉５に通電して
炉心管６内温度を１８００℃程度に維持する。ロッド１
の下端部が軟化しはじめたところで上下チャック３、４
を下方に向けて降下させる。この両チャック部の降下速
度は、下部チャック４の速度を上部チャック３の速度よ
りも速い速度で降下させるが、炉心管６内に導かれるロ
ッド１の径が次第に大になるにつれて下部チャック４の
速度を次第に速める。両チャック３、４の降下速度は、
炉心管６内温度およびロッド１のテーパーの程度を勘案
して設定される。かくして、図２に示すように外径が均
一な光ファイバ母材が得られる。この光ファイバ母材を
一端から線引きし外径が均一で、コア径が長さ方向に次
第に変化する光ファイバが得られる。なお、ロッド１の
両端にダミーのロッド２を取付けるのは、ロッド１の全
長を極力製品とするためである。 【０００８】〔具体例１〕ＶＡＤ法と外付け法の併用に
より、コア部が直径４．６ｍｍφのＧｅＯ2 −ＳｉＯ2
（純粋ＳｉＯ2 との比屈折率差０．８％）、クラッド部
外径が３３ｍｍφのＳｉＯ2 からなり、長さが１００ｍ
ｍＬの光ファイバ用ロッドを作製した。このロッドは、
ファイバ径が１２５．０μｍになるように線引きする
と、波長１．５５μｍにおける分散値が０ｐｓ／ｎｍ／
ｋｍ、ファイバ径が１３７．５μｍになるように線引き
すると波長１．５５μｍにおける分散値が＋５．０ｐｓ
／ｎｍ／ｋｍという１．５５μｍ帯分散シフトファイバ
となるものである。このロッド外周部を一端はそのまま
で、他端が３０ｍｍφとなるようにテーパ状に切削した
後延伸し３０ｍｍφの外径が均一な光ファイバ母材とし
た。この母材をファイバ径１２５．０μｍで線引きし
た。得られた光ファイバは、一端における分散値が波長
１．５５μｍにおいて０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、他端
における分散値が波長１．５５μｍにおいて＋５．０ｐ
ｓ／ｎｍ／ｋｍというものであった。 【０００９】〔比較例１〕実施例１と同じように、ＶＡ
Ｄ法と外付け法の併用により、コア部が直径４．２ｍｍ
φのＧｅＯ2 −ＳｉＯ2 （純粋ＳｉＯ2 との比屈折率差
Δ＝０．８％）、クラッド部外径が３０ｍｍφのＳｉＯ
2 からなり、長さが１００ｍｍＬの光ファイバ用ロッド
を作製した。このロッドの分散特性は、実施例１と同一
であり、ファイバ径が１２５．０μｍになるように線引
きすると、波長１．５５μｍにおける分散値が０ｐｓ／
ｎｍ／ｋｍ、ファイバ径が１３７．５μｍになるように
線引きすると波長１．５５μｍにおける分散値が＋５．
０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍという１．５５μｍ帯分散シフトフ
ァイバとなるものである。この母材を線引きするに際し
て、母材の降下速度を次第に変化させることによって、
先端が１２５．０μｍ、後端が１３７．５μｍの光ファ
イバとした。この光ファイバ作製においてはロッドを切
削するという工程はなくてすむものの、線引きに際して
ファイバ径を徐々に変動させるのに極めて困難をともな
った。 【００１０】 【発明の効果】この発明方法によれば、ＭＦＤや分散値
がその長さ方向に変化する光ファイバを得るに際して、
ロッドの段階でクラッドとなる部分の径を長さ方向に均
一になすとともに、コアとなる部分の径を長さ方向に変
化させたものを得、これを線引きする方法であるので、
極めて簡単に所望の特性のものが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一工程におけるテーパ状ロッドの説
明図。 【図２】この発明方法により得られた延伸母材の説明
図。 【図３】この発明方法に用いられる延伸装置の概略説明
図。 【符号の説明】 １ 石英系ガラスロッド ２ ダミーのロッド ３ 上部チャック ４ 下部チャック ５ 加熱炉 ６ 炉心管 １０ コアとなる部分 １２ クラッドとなる部分 ２０ 光ファイバ母材
明図。 【図２】この発明方法により得られた延伸母材の説明
図。 【図３】この発明方法に用いられる延伸装置の概略説明
図。 【符号の説明】 １ 石英系ガラスロッド ２ ダミーのロッド ３ 上部チャック ４ 下部チャック ５ 加熱炉 ６ 炉心管 １０ コアとなる部分 １２ クラッドとなる部分 ２０ 光ファイバ母材
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平２−212328（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−32430（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C03B 37/012
C03B 37/027
G02B 6/00 356
G02B 6/10
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 コアとなる部分およびクラッドとなる部
分の径が共に長さ方向に均一な石英系ガラスロッドを用
意し、このロッドのクラッドとなる部分の外周部を切削
してテーパ状のロッドとなし、このテーパ状のロッドを
延伸して均一な外径の光ファイバ母材となし、しかるの
ち均一な外径の光ファイバに線引きすることを特徴とす
る光部品用光ファイバの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34019593A JP3466251B2 (ja) | 1993-12-08 | 1993-12-08 | 光部品用光ファイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34019593A JP3466251B2 (ja) | 1993-12-08 | 1993-12-08 | 光部品用光ファイバの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07157324A JPH07157324A (ja) | 1995-06-20 |
| JP3466251B2 true JP3466251B2 (ja) | 2003-11-10 |
Family
ID=18334625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34019593A Expired - Fee Related JP3466251B2 (ja) | 1993-12-08 | 1993-12-08 | 光部品用光ファイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3466251B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5925163A (en) * | 1993-12-27 | 1999-07-20 | Corning, Inc. | Method of making an optical fiber with an axially decreasing group velocity dispersion |
| JPH11218623A (ja) | 1998-01-30 | 1999-08-10 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ソリトンパルス圧縮用光ファイバおよびその製造方法 |
| JP2011228541A (ja) * | 2010-04-21 | 2011-11-10 | Photonic Science Technology Inc | テーパ形状光ファイバの製造方法 |
-
1993
- 1993-12-08 JP JP34019593A patent/JP3466251B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07157324A (ja) | 1995-06-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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