JP3465387B2 - 平板型レンズアレイおよびそれを用いた液晶表示素子 - Google Patents

平板型レンズアレイおよびそれを用いた液晶表示素子

Info

Publication number
JP3465387B2
JP3465387B2 JP31958894A JP31958894A JP3465387B2 JP 3465387 B2 JP3465387 B2 JP 3465387B2 JP 31958894 A JP31958894 A JP 31958894A JP 31958894 A JP31958894 A JP 31958894A JP 3465387 B2 JP3465387 B2 JP 3465387B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
lens array
film
glass substrate
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP31958894A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH08179299A (ja
Inventor
厚範 松田
健二 森尾
隆 岸本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Sheet Glass Co Ltd filed Critical Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority to JP31958894A priority Critical patent/JP3465387B2/ja
Publication of JPH08179299A publication Critical patent/JPH08179299A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3465387B2 publication Critical patent/JP3465387B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、平板型レンズアレイと
それを用いた液晶表示素子に関するものであり、特に液
晶表示素子の光利用効率を向上させる目的として使用す
る平板型レンズアレイと、それを用いた液晶表示素子に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ガラス等の透明基板に多数のレン
ズを配列したレンズアレイとしては、ソーダライムガラ
スにTi等の耐蝕性保護皮膜(マスク膜)を成膜し、周
知のフォトリソグラフィ技術を用いて、円形あるいは直
線スリット状の開口を設け、これを溶融塩に浸漬して開
口部からイオン交換を行う、いわゆるイオン交換法によ
り、その断面が略半円状の屈折率分布を形成した平板マ
イクロレンズアレイが知られている(例えば、特開昭5
7−53702号)。
【0003】さらに、透明ガラス基板の少なくとも片面
側に、ほぼ半球状の凹部を形成し、この凹部に前記ガラ
ス基板とは屈折率の異なる透明樹脂材料を充填してレン
ズアレイとする平板マイクロレンズの製造方法が開示さ
れている(特開昭60−15552号)。さらに、前記
レンズ面側に別の透明ガラス基板を接合してなる平板レ
ンズが開示されている(特開平3−231701号)。
【0004】さらに、ソーダライムガラス基板上にレン
ズアレイを作製し、この上に光硬化性樹脂で樹脂層を形
成し、その樹脂層厚みをビーズによって制御したことを
特徴とする液晶素子が、特開平5−273512号で開
示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】イオン交換法による平
板マイクロレンズの作製においては、基板ガラスにアル
カリイオンを含むことが必須であり、このようなアルカ
リ含有ガラス(例えば、ソーダライムガラス)を用いて
レンズを構成した場合、多結晶シリコン(p−Si)T
FT方式の液晶表示素子のセル基板である石英ガラスな
どに対して熱膨張係数の差があることから、温度が変化
した場合に明るさにムラが生じたり、またガラス基板中
のアルカリイオンが溶出してTFTの特性を劣化させる
という問題点があり、この熱膨張率差の問題は重大であ
る。
【0006】他方、透明ガラス基板の少なくとも片側
に、底面が曲面をなす凹部を形成し、この凹部に前記ガ
ラス基板とは屈折率の異なる透明樹脂材料を充填すると
ともに、前記凹部の開口する基板面に他の透明ガラス基
板を接合してなる平板レンズの場合、接合するカバーガ
ラスの厚みが通常非常に薄いものとなるため、薄板の研
磨製造コストが高くなり、製造工程で欠陥を発生しやす
く歩留りが上がらない等の問題点がある。
【0007】また、ソーダライムガラス基板上にレンズ
アレイを作製し、この上に光硬化性樹脂で樹脂層を形成
し、その樹脂レンズ部厚みをビーズによって制御するよ
うな場合には、任意の直径を有するビーズの入手が容易
ではない。またこのレンズアレイ基板を液晶表示素子の
対向基板として内蔵して使用する場合には、樹脂が直接
液晶と接触するため、信頼性の確保が難しいという問題
点がある。
【0008】そこで本発明は、特開平3−231701
号に示された平板型レンズアレイにおけるカバーガラス
の問題点を解決することのできる平板型レンズアレイ
を、さらにそれを用いた液晶表示素子を提供することを
目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記問題点を解決するた
めに、本発明では、ガラス基板表面に1次元または2次
元に配列した略球面状または略円筒状の複数の凹部を有
し、前記ガラス基板よりも屈折率の高い透明材料を前記
凹部に充填することで凸レンズまたはレンチキュラーレ
ンズとした平板型レンズアレイにおいて、前記透明材料
は導電性を有する樹脂であり、さらに前記充填された樹
脂上に、電気泳動法により形成された金属酸化物粒子の
凝集体膜を有する平板型レンズアレイである。
【0010】本発明で用いるガラス基板としては、石英
ガラス(n=1.46)、ソーダライムガラス(n=
1.51)、アルカリアルミノシリケートガラス(n=
1.51)、アルカリボロシリケートガラス(n=1.
50)、多成分無アルカリガラス(n=1.50)、低
膨張結晶化ガラス(n=1.54)が挙げられる。な
お、括弧内はガラス基板の屈折率を表している。
【0011】本発明で使用する導電性を有する高屈折率
透明材料としては、エポキシアクリレート系樹脂(n≒
1.5〜1.6)、ウレタンアクリレート系樹脂、ポリ
エステルアクリレート系樹脂(n≒1.52〜1.5
7)、ポリエーテルアクリレート樹脂、シリコンアクリ
レート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ホスファゼン樹
脂、フェノール樹脂、ユリア・メラミン樹脂、ポリウレ
タン樹脂等の光硬化性あるいは熱硬化性樹脂に、導電性
を付与しさらに屈折率を高める目的で酸化インジウム錫
(n≒2.0)、酸化錫微粒子(n≒2.0)等を混練
分散したものが挙げられる。前記透明材料の屈折率は、
基板よりも0.05〜0.8程度高くすることが好まし
い。
【0012】また、充填された高屈折率透明材料の表面
に導電性膜を形成する場合の高屈折率透明材料として
は、ポリビニルナフタレン(n≒1.67)、ポリαナ
フチルメタクリレート(n≒1.64)、ポリビニルク
ロライド(n≒1.54)、スチレンアクリロニトリル
共重合体(n≒1.56)、ポリスチレン(n≒1.5
8)、ポリカーボネート(n≒1.56)、ポリメチル
メタクリレート(n≒1.50)、ポリオレフィン(n
≒1.52)、スチレン・無水マレイン酸共重合体(n
≒1.56)、ポリテトラメチレンテレフタレート系共
重合体(n≒1.54)等の高屈折率樹脂材料、および
TiO2(n≒2.2)、ZrO2(n≒2.0)、Al
23(n≒1.6)、Sb25(n≒2.0)などの高
屈折率単一金属の酸化物やSiO2−TiO2(1.46
<n<2.2)、SiO2−ZrO2(1.46<n<
2.0)、SiO2−Al23(1.46<n<1.6
0)、SiO2−Sb25(1.46<n<2.0)、
BaTiO3(n≒2.2)、PbTiO3(n≒2.
2) などの高屈折率複合金属酸化物が挙げられる。前
記透明材料の屈折率は、基板よりも0.05〜0.8程
度高くすることが好ましい。前記透明材料に形成する透
明導電性膜としては、酸化インジウム錫、酸化錫の薄膜
が挙げられる。
【0013】前記導電性膜は、金属有機化合物の塗膜熱
分解、スパッタリング法、蒸着法により形成することが
できる。樹脂材料に対しては、スパッタリング法、蒸着
法で形成することが、基板温度がそれほど上昇しないの
で好ましい。金属酸化物に対しては、金属有機化合物の
塗膜熱分解法が、成膜コストが安いので量産を行う上で
好ましい。膜厚は、膜のシート抵抗率と可視光透過率か
ら決められる。シート抵抗率は104Ω/□以下、可視
光透過率は80%以上にすることが好ましい。
【0014】本発明の電気泳動電着を行う金属酸化物微
粒子としては、SiO2、TiO2、ZrO2、Al
23、Sb25 などの単一金属の酸化物およびSiO2
−TiO2、SiO2−ZrO2、SiO2−Al23、S
iO2−Sb25、BaTiO3、PbTiO3などの複
合金属酸化物が挙げられる。中でも、SiO2の粒子
は、粒径制御が比較的容易で、電気泳動電着した凝集体
膜を形成しやすいので好ましい。
【0015】これらの金属酸化物微粒子は、CVD法等
の気相から調製することができる。また、液相中で加水
分解されたゾルを成長させ、これを遠心分離することに
よっても得られる。複合金属酸化物の微粒子は、液相か
らの方が調製し易い。前記遠心分離された粒子は必要に
応じて表面の性質を制御するために焼成する。これら気
相および液相から得られた微粒子は、所定の方法で溶媒
に分散して用いられる。
【0016】前記微粒子は、任意の粒径のものが目的に
応じて使用できる。一般に平均粒径を1〜500nm程
度にすることが好ましい。金属酸化物微粒子の電気泳動
電着溶液中の濃度は、0.1重量%から15重量%の範
囲にすることが好ましい。さらに1重量%程度が実用上
好ましい。
【0017】本発明の金属酸化物粒子を電気泳動電着し
た凝集体膜の膜厚は、特に限定されない。一般には成膜
−焼成後に、マイクロレンズの集光性能が発揮できる程
度に研磨する。
【0018】本発明の電気泳動電着溶液には、有機溶
媒、水、塩基、界面活性剤が一般に含まれ、乾燥抑制
剤、バインダー等も必要に応じて含まれる。
【0019】有機溶媒は、金属酸化物微粒子を分散し、
有機金属化合物、水および塩基と相溶するものであれば
特に限定されない。メタノール、エタノール、プロパノ
ール、ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチル
エチルケトン等のケトン類等が用いられる。
【0020】塩基は、電気泳動電着液に添加する水がp
H11程度になるように加えられる。添加する塩基とし
ては、一般にアンモニア水が用いられる。添加する乾燥
抑制剤としては、1.4−ジオキサン、メチルトリエト
キシシラン等の有機金属化合物が挙げられる。前記乾燥
抑制剤の電気泳動電着溶液中の濃度は、0.1重量%か
ら10重量%の範囲にすることが好ましい。さらに1重
量%前後が実用上好ましい。
【0021】本発明で用いるバインダーとしては、ポリ
アクリル酸等の有機高分子が挙げられる。
【0022】本発明の電気泳動電着に用いられる対向電
極としては、アルカリに侵食されにくい白金、ステンレ
ススチール、黒鉛、チタニウム等が使用できる。
【0023】溶液中で負に帯電する金属酸化物微粒子を
基体に電着する場合には、基体が陽極となるように電場
をかける。また溶液中で正に帯電する金属酸化物微粒子
を基体に電着する場合には、基体が陰極となるように電
場をかける。電圧は5〜200Vの範囲とし、直流電圧
であってもパルス電圧であってもよい。
【0024】本発明で用いるその表面に1次元または2
次元に配列した略球面状または略円筒状の複数のアレイ
状凹部を有するガラス基板は、精密化学エッチング法、
ゾルゲル微細加工法、モールド法等によって形成され
る。
【0025】精密化学エッチング法では、微小開口を有
する耐食性保護膜付きガラス基板をガラスエッチャント
に浸漬し、前記開口から等方的にエッチング行うことに
よりアレイ状凹部を形成する。前記精密化学エッチング
によるアレイ状凹部の形成は、石英ガラスやソーダライ
ムガラス等の比較的均質にエッチングしやすいガラス基
板を用いる。
【0026】ゾルゲル微細加工法においては、ガラス基
板に金属有機化合物の加水分解縮重合反応生成物のゲル
膜を、スピンコート法やディップコート法によって形成
し、ゲル膜が硬化する前に形成したい凹パターンに対応
する凸パターンを有するスタンパをゲル膜に押しあて、
ゲル膜が硬化した後スタンパをゲル膜から剥離し、さら
にゲル膜を焼成することによりアレイ状凹部を形成す
る。前記ゾルゲル微細加工法によるアレイ状凹部の形成
は、ガラス組成、化学的性質および耐熱性に拘わらず任
意のガラス基板を使用することができる。
【0027】モールド法においては、使用するガラスの
軟化点以上にガラスを加熱し、温調した金型をこれにプ
レスすることによりアレイ状凹部を形成する。従って、
モールド法によるアレイ状凹部の形成は、比較的低い軟
化点を有する多成分系ガラス基板を使用することが好ま
しい。
【0028】
【作用】本発明によれば、高屈折率透明材料が前記凹部
を平坦にする程度に充填し、該透明材料自身が導電性を
有するものとする、もしくは充填された該透明材料の表
面に導電性薄膜を形成することにより導電性が付与され
ているため、前記透明材料表面へ金属酸化物粒子を電気
泳動電着することが可能になっている。
【0029】
【実施例】以下、本発明を図面に基づき詳細に説明す
る。図1に、本発明による平板型レンズアレイの一般的
な断面構造を示す。石英基板等のガラス基板11の片側
に、1次元または2次元に配列した略球面状または略円
筒状の滑らかな曲面をなす凹部12を、例えば後述する
化学的エッチング法などにより形成する。この凹部12
は、隣接する凹部間の境界稜線13が、平面視で図2の
(a),(b),(c)に示すような、正方格子、六方
稠密格子であるハニカムあるいは縞など、一般的に同一
形状の多角形の稠密充填となるように形成する。
【0030】次に、前記各凹部12表面に、屈折率が基
板11よりも大きな高屈折率透明材料15を前記凹部に
平坦になる程度に充填して、レンズアレイの各レンズ部
10Aとする。ここで該透明材料はそれ自身が導電性を
有する、もしくは充填された該透明材料の表面に導電性
薄膜を形成することにより導電性が付与されている。
【0031】次に前記透明材料の表面に、金属酸化物粒
子を電気泳動電着した凝集体膜14を設け、焼成によっ
て前記凝集体膜14を焼成したのち、研磨等によって前
記レンズ面と対向する面を平坦にし、前記基板から入射
した平行光線が、前記凝集体膜表面近傍に集光する厚み
を有するように制御して、平板型レンズアレイ10が得
られる。
【0032】図3は、本発明の平板型レンズアレイを用
いた液晶表示素子の概略図を示すものである。あらかじ
めレンズアレイ10のレンズの配列ピッチを、液晶表示
素子20の画素ピッチに合わせておくことにより、照明
光30が平板型レンズアレイ10の各レンズ10Aで集
光されて、液晶表示素子の各画素の透過窓21を透過
し、従来の液晶表示素子では電極、TFT等の不透光部
分22で遮断されていた照明光が有効に表示に寄与し、
極めて鮮明度の高い画像が得られる。またこれにより、
液晶素子の加熱による劣化を低減することができる。さ
らに、液晶に接触する前記凝集体膜は、アルカリを含ま
ない膜となっているので、液晶表示素子の信頼性を損な
うことがない。
【0033】本発明による平板型レンズアレイは、以下
に示すような方法で作製することができる。 (具体例1)石英ガラス基板の表面に、スパッタリング
法により耐フッ酸性保護膜として、Cr膜を形成した。
次に、フォトレジストを塗布、露光、現像をおこなうフ
ォトリソグラフィによって、Cr膜に所定のレンズ配列
パターンで小開口を形成した。形成した小開口配列は六
方格子配列であり、これによりハニカム型レンズアレイ
が得られる。この小開口の直径は、最終的に得ようとす
るレンズの径よりも十分小さいことが望ましい。
【0034】前記小開口を有するCr膜付き基板を、フ
ッ酸(HF)および界面活性剤としてドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム(DBS)を含むエッチャントに
浸漬して、化学エッチングを行った。ここで、フッ酸お
よびドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの濃度は、
それぞれ10重量%および0.1重量%とした。これに
より、Cr膜の小開口を始点として、石英ガラス基板の
表面が等方的にエッチングされ、ほぼ球体の一部分であ
る凹部が得られる。この第1段階のエッチングは、隣接
する凹部間に若干の幅をもった平坦な境界部を残した状
態で止める。
【0035】次いで、石英ガラス基板表面からCr膜を
除去した後、先のエッチャントに再び浸漬して基板表面
全体をエッチングした。この2段階エッチングにより、
凹部周辺部でのエッチングが進行して、隣接凹部間の境
界部Bは、上端が先鋭な稜線となった。すなわち、平面
視でそれぞれが同一の六角形をなし、隣接する凹部同士
が密接した稠密充填配列となった。
【0036】前記2段階エッチングの処理後、凹部に高
屈折率エポキシ樹脂を滴下し、これにポリエチレンテレ
フタレート(PET)フィルムを押しあて、さらに加圧
を行うことにより樹脂を展開し、余分な樹脂を取り除い
た後、光硬化を行った。前記操作によりガラス基板凹部
は、屈折率1.60、平均膜厚約20μmを有する樹脂
で完全に埋まった。前記樹脂の表面にスパッタリング法
により酸化インジウム錫(ITO)膜を形成した。
【0037】前記基板を電気泳動電着浴に浸漬し、基板
が陽極となるように直流電圧を印加した。ここで前記電
着浴には、シリカ微粒子(平均粒径10nm)をメチル
トリエトキシシラン、アンモニア水、ジメチルアセトア
ミドの混合溶液に界面活性剤と有機高分子バインダーを
微量添加した分散媒に添加し、室温で1時間攪拌するこ
とにより均一に分散させたものを用い、電気泳動条件は
直流電圧50V−10分間とした。
【0038】前記操作によって、膜厚約100μmのシ
リカ微粒子を電気泳動電着した凝集体膜が得られた。得
られた膜は高屈折率樹脂と透明導電性膜を介して良好に
付着していた。
【0039】前記基板を、200℃で1時間焼成を行っ
た。前記焼成によって膜厚は約90μm、屈折率は1.
45になった。
【0040】また、前記電着凝集体膜の膜厚はマイクロ
レンズの集光性能が発揮できる厚みとなっている。さら
に前記電着凝集体膜表面の平坦性を改善するために、そ
の表面を3μm程度研磨してもよい。つまり、前記凝集
体膜の膜厚は、前記基板から入射した平行光線が、前記
電着凝集体膜表面近傍に集光するように制御されていれ
ばよい。
【0041】今回作製したレンズアレイのレンズ凸部の
曲率半径は約20μmであり、前記レンズの焦点距離f
は約130μmになっており、良好な集光特性を示し
た。本具体例により作製したマイクロレンズアレイの概
略図を図4に示す。
【0042】(具体例2)具体例1と同一の方法で石英
ガラス基板の表面に、平面視でそれぞれが同一の六角形
をなし、隣接する凹部同士が密接した稠密充填配列レン
ズ微小凹部を作製した。
【0043】前記レンズ微小凹部に塗膜熱分解法によ
り、透明導電性薄膜として酸化インジウム錫膜を形成し
た。ここで、塗布溶液はインジウムの金属有機化合物と
錫の金属有機化合物を含むものであり、これを基板にス
ピンコート法により形成した後、500℃で30分間大
気中で熱処理を行うことにより、有機成分を燃焼分解さ
せ金属酸化物としたものである。前記焼成後塗膜の膜厚
は100nm程度、比抵抗は4×10-2Ωcmになって
いた。
【0044】前記透明導電性薄膜付き石英ガラス基板を
電気泳動電着浴に浸漬し、基板が陽極となるように直流
電圧を印加した。
【0045】ここで電気泳動電着浴には、金属アルコキ
シドの共加水分解−縮重合によって調製したシリカ−チ
タニア複合金属酸化物微粒子(平均粒径10nm)をメ
チルトリエトキシシラン、アンモニア水、ジメチルアセ
トアミドの混合溶液に界面活性剤と有機高分子バインダ
ーを微量添加した分散媒に添加し、室温で1時間攪拌す
ることにより均一に分散させたものを用い、電気泳動条
件は直流電圧50V−10分間とした。
【0046】前記操作によって、膜厚約50μmのシリ
カ−チタニア複合金属酸化物微粒子を電気泳動電着した
凝集体膜付き石英ガラス基板が得られた。得られた膜は
石英ガラス基板表面の凹部を透明導電性膜を介して完全
に埋めており、ほぼ平坦になっていた。
【0047】前記電着シリカ−チタニア膜付き石英基板
を、400℃で1時間さらに1000℃で1時間焼成を
行った。前記焼成によって膜厚は約20μm、屈折率は
1.62になった。
【0048】前記電着シリカ−チタニア膜に再び塗膜熱
分解法により透明導電性薄膜として酸化インジウム錫膜
(膜厚は100nm程度、比抵抗は4×10-2Ωcm)
を形成した。
【0049】前記基板を電気泳動電着浴に浸漬し、基板
が陽極となるように直流電圧を印加した。ここでの前記
電着浴には、シリカ微粒子(平均粒径10nm)をメチ
ルトリエトキシシラン、アンモニア水、ジメチルアセト
アミドの混合溶液に界面活性剤と有機高分子バインダー
を微量添加した分散媒に添加し、室温で1時間攪拌する
ことにより均一に分散させたものを用い、電気泳動条件
は直流電圧50V−10分間とした。
【0050】前記操作によって、膜厚約200μmのシ
リカ微粒子を電気泳動電着した凝集体膜が得られた。得
られた膜は高屈折率シリカ−チタニア系電着凝集体膜と
透明導電性膜を介して良好に付着していた。
【0051】前記基板を、400℃で1時間、さらに1
000℃で1時間焼成を行った。前記焼成によって膜厚
は約90μm、屈折率は1.46になった。
【0052】また、前記電着凝集体膜の膜厚はマイクロ
レンズの集光性能が発揮できる厚みとなっている。さら
に前記電着凝集体膜表面の平坦性を改善するために、そ
の表面を3μm程度研磨してもよい。つまり、前記凝集
体膜の膜厚は、前記基板から入射した平行光線が、前記
電着凝集体膜表面近傍に集光するように制御されていれ
ばよい。
【0053】今回作製したレンズアレイのレンズ凸部の
曲率半径は約20μmであり、前記レンズの焦点距離f
は約120μmになっており、良好な集光特性を示し
た。本具体例により作製したマイクロレンズアレイの概
略図を図5に示す。
【0054】(具体例3)ゾルゲル成形法により平板型
マイクロレンズアレイを作製した。メチルエトキシシラ
ン(CH3Si(OC253)、エタノールおよび水
(少量の塩酸を含む)を混合し、室温で約30分間攪拌
して塗布溶液を調製した。前記調整液を石英基板にディ
ッピング法により塗布し、ゾルゲル膜17を作製した。
そして後述する方法で作製したNi、樹脂等のスタンパ
をこのゲル膜に接合し、適当な圧力で押圧しながら約1
20℃で加熱を行った。加熱後、スタンパを基板から離
形し、さらに約200℃で焼成することにより、屈折率
1.38、平均膜厚約20μmのゾルゲル材料による凹
部が作製された。
【0055】前記ゾルゲル成形による凹部形成後、凹部
にゾルゲル材料よりも屈折率の高いエポキシ系樹脂材料
を充填し、これにポリエチレンテレフタレート(PE
T)フィルムを押しあて、さらに加圧を行うことにより
樹脂を展開し、余分な樹脂を取り除いた後、光硬化を行
った。前記操作によりガラス基板凹部が屈折率1.6
0、平均膜厚約20μmを有する樹脂で完全に埋まっ
た。前記樹脂の表面にスパッタリング法により酸化イン
ジウム錫(ITO)膜を形成した。
【0056】前記基板を具体例1と同一の電気泳動電着
浴に浸漬し、膜厚約100μmのシリカ微粒子を電気泳
動電着した凝集体膜が得られた。得られた膜は高屈折率
樹脂と透明導電性膜を介して良好に付着していた。
【0057】前記基板を、200℃で1時間焼成を行っ
た。前記焼成によって膜厚は約90μm、屈折率は1.
45になった。
【0058】また、前記電着凝集体膜の膜厚はマイクロ
レンズの集光性能が発揮できる厚みとなっている。さら
に前記電着凝集体膜表面の平坦性を改善するために、そ
の表面を3μm程度研磨してもよい。つまり、前記凝集
体膜の膜厚は、前記基板から入射した平行光線が、前記
電着凝集体膜表面近傍に集光するように制御されていれ
ばよい。
【0059】今回作製したレンズアレイのレンズ凸部の
曲率半径は約23μmであり、前記レンズの焦点距離f
は約100μmになっており、良好な集光特性を示し
た。本具体例により作製したマイクロレンズアレイの概
略図を図6に示す。
【0060】(具体例4)具体例1で得られた平板型マ
イクロレンズの平面側に透明電導性膜ITOを真空成膜
法により形成し、対向電極を形成した。
【0061】レンズアレイのレンズの配列ピッチは、液
晶表示素子の画素ピッチに合わせてあるため、照明光が
平板型レンズアレイの各レンズで集光されて液晶層と液
晶表示素子の各画素の画素電極を透過し、電極、TFT
等の不透光部分で遮断されていた照明光が有効に表示に
寄与し、極めて鮮明度の高い画像が得られた。
【0062】
【発明の効果】本発明によれば、高屈折率透明材料が前
記凹部を平坦にする程度に充填され、該透明材料自身を
導電性とする、もしくは充填された該透明材料の表面に
導電性薄膜を形成することにより、その表面に導電性が
付与されているため、前記透明材料表面へ金属酸化物粒
子を電気泳動電着することが可能になっている。この金
属酸化物粒子を電気泳動電着したものは、前記粒子の凝
集体膜となっている。
【0063】また、前記微粒子を電気泳動電着した凝集
体膜は、カバーガラスとしての役割を果たすため、高価
な薄板カバーガラスを使用する必要がなく、得られる平
板型マイクロレンズアレイおよびこれを用いた液晶表示
素子の信頼性を向上させることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による平板型レンズアレイの一般的な断
面構造を示す図。
【図2】平板型レンズアレイの平面図の例。
【図3】本発明の平板型レンズアレイを用いた液晶表示
素子の概略図。
【図4】具体例1で作製したマイクロレンズアレイの概
略図。
【図5】具体例2で作製したマイクロレンズアレイの概
略図。
【図6】具体例3で作製したマイクロレンズアレイの概
略図。
【符号の説明】
10 平板型レンズアレイ 10A 高屈折率透明材料を充填したレンズアレイの各
レンズ部 11 石英基板等のガラス基板 12 略球面状または略円筒状の曲面 12A 1段目エッチングによって得られるほぼ球体の
一部分である凹部 12B 隣接凹部間の境界部 13 隣接する凹部間の境界稜線 14 電気泳動電着した凝集体膜 15 高屈折率透明樹脂 16 透明導電性膜 17 ゾルゲル膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−231701(JP,A) 特開 平3−214121(JP,A) 特開 平4−50802(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1335 G02B 3/00

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ガラス基板表面に1次元または2次元に配
    列した略球面状または略円筒状の複数の凹部を有し、前
    記ガラス基板よりも屈折率の高い透明材料を前記凹部に
    充填することで凸レンズまたはレンチキュラーレンズと
    した平板型レンズアレイにおいて、 前記透明材料は導電性を有する樹脂であり、 さらに前記充填された樹脂上に、電気泳動法により形成
    された金属酸化物粒子の凝集体膜を有することを特徴と
    する平板型レンズアレイ。
  2. 【請求項2】前記透明材料は導電性微粉末を混練分散し
    た光硬化性エポキシ樹脂材料である請求項1に記載の平
    板型レンズアレイ。
  3. 【請求項3】前記金属酸化物粒子がシリカ粒子であり、
    前記ガラス基板が低膨張ガラス基板である請求項1ない
    し2に記載の平板型レンズアレイ。
  4. 【請求項4】ガラス基板表面に1次元または2次元に配
    列した略球面状または略円筒状の複数の凹部を有し、前
    記ガラス基板よりも屈折率の高い透明材料を前記凹部に
    充填することで凸レンズまたはレンチキュラーレンズと
    した平板型レンズアレイにおいて、 前記透明材料は樹脂であり、前記充填された樹脂表面に
    は導電性膜が形成されており、 さらに前記導電性膜の上に、電気泳動法により形成され
    た金属酸化物粒子の凝集層を有することを特徴とする平
    板型レンズアレイ。
  5. 【請求項5】前記導電性膜はITO膜であり、前記金属
    酸化物粒子がシリカ粒子であり、前記ガラス基板が低膨
    張ガラス基板である請求項4に記載の平板型レンズアレ
    イ。
  6. 【請求項6】請求項1ないし5に記載の平板型レンズア
    レイの金属酸化物粒子層表面に透明電極を形成した基板
    を液晶表示素子の一方の基板とし、画素電極を形成した
    石英基板を他方の基板として、前記透明電極間と前記画
    素電極が対向するようにして、前記一方の基板と前記他
    方の基板の間に液晶を密封したことを特徴とする液晶表
    示素子。
JP31958894A 1994-12-22 1994-12-22 平板型レンズアレイおよびそれを用いた液晶表示素子 Expired - Fee Related JP3465387B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31958894A JP3465387B2 (ja) 1994-12-22 1994-12-22 平板型レンズアレイおよびそれを用いた液晶表示素子

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31958894A JP3465387B2 (ja) 1994-12-22 1994-12-22 平板型レンズアレイおよびそれを用いた液晶表示素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08179299A JPH08179299A (ja) 1996-07-12
JP3465387B2 true JP3465387B2 (ja) 2003-11-10

Family

ID=18111949

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31958894A Expired - Fee Related JP3465387B2 (ja) 1994-12-22 1994-12-22 平板型レンズアレイおよびそれを用いた液晶表示素子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3465387B2 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1054270A4 (en) * 1996-07-22 2004-07-28 Maikurooputo Co Ltd METHOD FOR PRODUCING A FLAT PLATE MICRO LENS AND A FLAT PLATE MICROL LENS
JP3266176B2 (ja) * 1996-07-22 2002-03-18 日本板硝子株式会社 平板型マイクロレンズ
US6324149B1 (en) 1997-05-27 2001-11-27 Ricoh Company, Ltd. Optical-pick-up device achieving accurate positioning of objective lens and solid-immersion lens and method of forming same
JP3698144B2 (ja) * 2003-02-07 2005-09-21 ヤマハ株式会社 マイクロレンズアレイの製法
TWI237521B (en) * 2003-06-27 2005-08-01 Chi Mei Optoelectronics Corp Organic electro-luminescent device and method of manufacturing the same
JP2008225169A (ja) * 2007-03-14 2008-09-25 Saitama Univ 幾何学パターン形成方法
JP5176204B2 (ja) * 2008-04-07 2013-04-03 Nltテクノロジー株式会社 液晶パネル及びその製造方法
KR102067162B1 (ko) * 2013-03-08 2020-01-16 삼성전자주식회사 색 개선 필름 및 그 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
JPH08179299A (ja) 1996-07-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW442693B (en) Color filter and its manufacturing method
US6437918B1 (en) Method of manufacturing flat plate microlens and flat plate microlens
US20070273973A1 (en) Optical layer system having antireflection properties
KR20100016245A (ko) 졸-겔층을 갖는 제품의 표면구조화 방법 및 구조화된 졸-겔층을 갖는 제품
JP3465387B2 (ja) 平板型レンズアレイおよびそれを用いた液晶表示素子
JP2010526430A (ja) 改良型電極層を備えた透明基材
JP5782719B2 (ja) 透明導電性素子、入力装置、および表示装置
TWI629538B (zh) 透射率變化膜及其製備方法
JP2012150299A (ja) 透明導電性素子、入力装置、および表示装置
US20180088429A1 (en) Color Electronic Paper and Manufacturing Method Thereof
TW200420913A (en) Method for manufacturing color filter and method for manufacturing liquid crystal display device using the same
CN1244016C (zh) 曝光控制光掩模及其形成方法
TWI300150B (en) Reflective-type display element, reflector and method of producing the same
CN1621868A (zh) 多层结构及其制造方法
JPH06242303A (ja) 平板状レンズアレイおよびその製造方法
JP3611618B2 (ja) 非晶質導電膜のパターニング方法
JPH037911A (ja) 電極基板及び液晶表示装置の製造方法
JPH07281007A (ja) 平板型レンズアレイおよびその製造方法/平板型レンズアレイを用いた液晶表示素子
KR102666766B1 (ko) 반사형 표시장치
JP3653762B2 (ja) 平板型レンズアレイおよびその製造方法
JP3218682B2 (ja) 超微粒子膜の形成方法、透明板並びに画像表示板
CN1272658C (zh) 黑色矩阵与彩色滤光片的制作方法
JP3521316B2 (ja) 超微粒子膜及びその形成方法
JP2000231008A (ja) 平板型レンズアレイ
JP2001147304A (ja) シリカ化合物被覆の樹脂正立等倍レンズアレイ組立体およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees