JP3454469B2 - Substrate drying equipment - Google Patents
Substrate drying equipmentInfo
- Publication number
- JP3454469B2 JP3454469B2 JP03194399A JP3194399A JP3454469B2 JP 3454469 B2 JP3454469 B2 JP 3454469B2 JP 03194399 A JP03194399 A JP 03194399A JP 3194399 A JP3194399 A JP 3194399A JP 3454469 B2 JP3454469 B2 JP 3454469B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate drying
- drying apparatus
- dried
- substrate
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基板乾燥装置に係
り、より詳細には半導体製造工程において洗浄工程終了
後の半導体基板、液晶用ガラス基板などの被処理基板
(被乾燥物)に付着した液滴を乾燥させる基板乾燥装置
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate drying apparatus, and more particularly to a substrate drying apparatus attached to a substrate to be processed (an object to be dried) such as a semiconductor substrate after a cleaning process and a glass substrate for liquid crystal in a semiconductor manufacturing process. The present invention relates to a substrate drying device that dries droplets.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、半導体製造工程では、洗浄工程終
了後の半導体基板、液晶用ガラス基板などの被処理基板
に対して表面に付着した液滴を乾燥させるため、乾燥工
程が実施されている。この被処理基板の乾燥方法として
は、例えば、回転する基板に水溶性アルコールを吹き付
ける基板乾燥装置が開発されている。このような従来技
術としては、例えば、特開平6−310486号公報に
開示されている。図7は、このような回転する基板に水
溶性アルコールを吹き付ける従来の基板乾燥装置を示す
斜視図である。2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor manufacturing process, a drying process is carried out in order to dry droplets adhering to the surface of a substrate to be processed such as a semiconductor substrate and a glass substrate for liquid crystal after the cleaning process. . As a method for drying the substrate to be processed, for example, a substrate drying apparatus has been developed which sprays a water-soluble alcohol onto a rotating substrate. Such a conventional technique is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 6-310486. FIG. 7 is a perspective view showing a conventional substrate drying apparatus that sprays water-soluble alcohol onto such a rotating substrate.
【0003】図7に示すように、従来の基板乾燥装置
は、回転軸42を中心として放射状延在した4本のアー
ム44と、このアーム44の先端部に円板状の半導体基
板50(以下、基板と称す)の外周縁を保持する段部4
6とを備えたスピンチャック40を備えている。そし
て、スピンチャック40は、基板50を4本のアーム4
4上に同心的に位置決めして基板50を保持する。ま
た、スピンチャック40には、アーム44が下部に延在
して接続される回転軸42を備えており、この回転軸4
2に駆動モータ(図示せず)を連結している。従って、
スピンチャック40は、回転軸42に連結した駆動モー
タが駆動することにより回転して同時に基板50を回転
させることができる。As shown in FIG. 7, a conventional substrate drying apparatus has four arms 44 radially extending around a rotary shaft 42 and a disk-shaped semiconductor substrate 50 (hereinafter referred to as a semiconductor substrate 50) at the tip of the arms 44. , Referred to as a substrate) for holding the outer peripheral edge of the substrate 4
6 and a spin chuck 40 including Then, the spin chuck 40 attaches the substrate 50 to the four arms 4
The substrate 50 is held concentrically on the substrate 4. Further, the spin chuck 40 is provided with a rotary shaft 42 to which an arm 44 extends downward and is connected to the spin chuck 40.
A drive motor (not shown) is connected to the drive motor 2. Therefore,
The spin chuck 40 can be rotated by being driven by a drive motor connected to the rotation shaft 42 and simultaneously rotate the substrate 50.
【0004】また、従来の基板乾燥装置は、スピンチャ
ック40の上部に水溶性アルコールのベーパ(蒸気)を
含んだガスを吹き付けるノズル48を配置している。こ
のノズル48は、図示されていないが、水溶性のイソプ
ロピルアルコールベーパと窒素ガスとを混合させて供給
する供給装置に接続されている。In the conventional substrate drying apparatus, a nozzle 48 for spraying a gas containing a vapor (vapor) of water-soluble alcohol is arranged above the spin chuck 40. Although not shown, the nozzle 48 is connected to a supply device that mixes and supplies water-soluble isopropyl alcohol vapor and nitrogen gas.
【0005】従って、従来の基板乾燥装置は、基板50
を回転させて遠心力を加えるとともに、水溶性アルコー
ルのベーパを含んだガスを吹き付けることによって基板
50の表面に付着した液滴を吹き飛ばすことができる。
詳細には基板50の表面に吹き付けられた水溶性アルコ
ールのベーパを含んだガスは、その一部が基板50の表
面に付着した液滴に溶解して表面張力を低下させること
で基板50の回転時における液滴の液切れを向上させ
る。このように、液滴に溶解した水溶性アルコールのベ
ーパを含んだガスは、液滴部分の蒸気を向上させて、ア
ルコール分とともに液滴を蒸発させる。Therefore, the conventional substrate drying device is configured such that the substrate 50
The liquid droplets adhering to the surface of the substrate 50 can be blown off by rotating the and applying a centrifugal force and by blowing a gas containing a vapor of water-soluble alcohol.
In detail, the gas containing the vapor of the water-soluble alcohol sprayed on the surface of the substrate 50 is dissolved in some droplets attached to the surface of the substrate 50 to reduce the surface tension, thereby rotating the substrate 50. Improves the breakage of liquid droplets at times. In this way, the gas containing the vapor of the water-soluble alcohol dissolved in the liquid droplets improves the vapor of the liquid droplet portion and evaporates the liquid droplets together with the alcohol content.
【0006】しかしながら、このような従来の基板乾燥
装置では、回転により遠心力が大きく加わる基板50の
周辺部が乾燥し、その後、ガスの吹き付けにより液が中
心部から周辺部に広がってしまう。このため、基板50
の表面には、乾燥ムラ、及びウォータマークが発生する
原因となっていた。特に、この欠点は、大型基板で多く
発生し、矩形状の基板で顕著であった。However, in such a conventional substrate drying apparatus, the peripheral portion of the substrate 50 to which a large centrifugal force is applied due to the rotation is dried, and then the liquid is spread from the central portion to the peripheral portion by blowing gas. Therefore, the substrate 50
On the surface of, the unevenness of drying and the watermark were caused. In particular, this defect often occurs in large-sized substrates and is remarkable in rectangular substrates.
【0007】このような不具合を解決するため、乾燥ガ
スを被乾燥物(大型または矩形状の基板)の表面に吹き
付けて付着した液滴を吹き飛ばす方法が知られている。
また、乾燥ガスを吹き付ける乾燥方法において、ミスト
の再付着を防止するため、吹き付けたガスを吸引する手
段を付加したものが開発されている。このように吹き付
けたガスを吸引する手段を備えた基板乾燥装置として、
本願出願人は特開平7−35478号公報によりすでに
出願している。図8はこのような吹き付けたガスを吸引
する手段を備えた従来の基板乾燥装置の他の実施の形態
を示す平面図である。In order to solve such a problem, there is known a method in which a dry gas is blown onto the surface of an object to be dried (large or rectangular substrate) to blow off the adhered droplets.
In addition, in a drying method of spraying a dry gas, in order to prevent re-adhesion of mist, a method of sucking the sprayed gas has been developed. As a substrate drying apparatus equipped with a means for sucking the gas thus sprayed,
The applicant of the present application has already filed an application according to JP-A-7-35478. FIG. 8 is a plan view showing another embodiment of the conventional substrate drying apparatus provided with such a means for sucking the blown gas.
【0008】図8に示すように、吸引する手段を備えた
従来の基板乾燥装置の他の実施の形態は、被乾燥物70
の上方に設置され、この被乾燥物70の搬送方向に直交
する対向面を傾斜させて吹き付け手段として気体配管6
3に連通したエアーナイフ62を備えている。このエア
ーナイフ62には、反搬送方向に微小の間隔を備えて噴
射用スリット62aを設けるとともに、搬送方向の前後
に平行して2箇所配置して吸気する吸気ダクト64を設
けている。また、吸気ダクト64は、エアーナイフ62
が配置された内側に各々吸気口64aを開口している。
そして、エアーナイフ62及び吸気ダクト64は、両側
を各々取付金具69により固定されている。As shown in FIG. 8, another embodiment of the conventional substrate drying apparatus provided with a suction means is an article to be dried 70.
The gas pipe 6 installed as a blowing means is installed above and the facing surface orthogonal to the conveyance direction of the object to be dried 70 is inclined.
3 is provided with an air knife 62 communicating with the same. The air knife 62 is provided with injection slits 62a with a minute interval in the anti-conveyance direction, and is also provided with intake ducts 64 arranged in parallel at the front and rear in the conveyance direction for intake. Further, the intake duct 64 is provided with the air knife 62.
The intake ports 64a are opened inside of the respective positions.
Both sides of the air knife 62 and the air intake duct 64 are fixed by mounting fittings 69.
【0009】従って、従来の基板乾燥装置の他の実施の
形態は、エアーナイフ62から噴射した噴射気体で被乾
燥物70上の液滴65を吹き飛ばして急速乾燥させる。
この際、被乾燥物70の表面で発生したミストを反搬送
側の吸気ダクト64が吸引し、更に、エアーナイフ62
の搬送側の吸気ダクト64が吸引してミスト再付着を防
止する。そして、吸気ダクト64には、排風機68が接
続されており、吸気ダクト64で吸引してミストを所定
の外部に排出する。Therefore, in another embodiment of the conventional substrate drying apparatus, the droplets 65 on the object to be dried 70 are blown off by the jet gas jetted from the air knife 62 for rapid drying.
At this time, the mist generated on the surface of the material to be dried 70 is sucked by the intake duct 64 on the side opposite to the conveyance side, and the air knife 62 is further sucked.
The suction duct 64 on the transport side of the suction unit sucks and prevents the mist from reattaching. An exhaust fan 68 is connected to the intake duct 64, and the suction duct 64 sucks the mist and discharges the mist to a predetermined outside.
【0010】従って、従来の基板乾燥装置の他の実施の
形態によれば、噴射気体で液滴を飛ばして急速乾燥でき
る。また、この際、発生するミストは、吸気ダクトによ
り吸気することで、ミストの再付着を防止し、ウォータ
マークの発生を防止できる。また、エアーナイフを通過
した後にも吸気ダクトにより吸気を行うため、乾燥を確
実に行うことができる。Therefore, according to another embodiment of the conventional substrate drying apparatus, the droplets can be jetted by the jet gas to perform rapid drying. Further, at this time, the generated mist is sucked by the intake duct, so that the reattachment of the mist can be prevented and the generation of the watermark can be prevented. Further, even after passing through the air knife, air is taken in by the air intake duct, so that the drying can be surely performed.
【0011】このように、従来の基板乾燥装置は、回転
する基板に水溶性アルコールを吹き付ける方法、または
乾燥ガスを吹き付けて基板表面に付着した液滴を吹き飛
ばす方法のいずれかにより被乾燥物の乾燥を実行してい
た。As described above, in the conventional substrate drying apparatus, the material to be dried is dried by either spraying the water-soluble alcohol on the rotating substrate or spraying the drying gas to blow off the droplets adhering to the substrate surface. Was running.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
基板乾燥装置では、図7に示した回転する基板に水溶性
アルコールを含んだガスを吹き付ける装置の場合、前述
したように液滴が遠心力により周辺部に広がるため、特
に、大型基板、矩形状基板などの基板で乾燥ムラ及びウ
ォータマークが発生してしまう不具合があった。However, in the conventional substrate drying apparatus, in the case of the apparatus for spraying the gas containing the water-soluble alcohol onto the rotating substrate shown in FIG. 7, the droplets are generated by the centrifugal force as described above. Since it spreads to the peripheral portion, there is a problem that unevenness in drying and water marks are generated particularly on a substrate such as a large substrate or a rectangular substrate.
【0013】また、従来の基板乾燥装置では、図8に示
した乾燥ガスを吹き付けて被乾燥物の表面に付着した液
滴を吹き飛ばす装置の場合、被乾燥物上の液滴を効果的
に除去するためには被乾燥物の搬送スピードを2.5m
/min程度以下、吹き付けスピードを約200m/s
程度以上に設定する必要があり、スループット(処理時
間)が遅く、ガス使用量が多いという不具合があった。Further, in the conventional substrate drying apparatus, in the case of the apparatus for blowing the drying gas shown in FIG. 8 to blow off the droplets adhering to the surface of the object to be dried, the droplets on the object to be dried are effectively removed. In order to do this, the conveying speed of the dried material is 2.5 m
/ Min or less, spraying speed of about 200 m / s
It is necessary to set the value above a certain level, the throughput (processing time) is slow, and the gas usage is large.
【0014】本発明はこのような課題を解決し、ガスの
使用量を低減してスループットを向上させるとともに被
乾燥物を効率良く効果的に乾燥できる基板乾燥装置を提
供することを目的とする。It is an object of the present invention to solve the above problems and to provide a substrate drying apparatus which can reduce the amount of gas used to improve the throughput and can efficiently and effectively dry an object to be dried.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、本発明による基板乾燥装置の実施の形態は、被乾
燥物を載置して所定の方向に搬送する搬送手段と、被乾
燥物の表面に近接して前後左右方向に動作するとともに
水溶性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付ける吹
き付け手段と、この吹き付け手段に水溶性アルコールの
ベーパを含んだガスを供給する供給手段とを備え、被乾
燥物が搬送手段により搬送されて移動している状態また
は搬送して停止した状態のいずれか一方の状態で吹き付
け手段を前後左右方向に移動して被乾燥物の表面に水溶
性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付けることに
より被乾燥物の表面に付着した液滴を効果的に乾燥させ
るとともに、搬送手段の上部に吹き付け手段を平行に配
置してこの平行面を0°〜60°の角度で傾斜可能に設
けて底部における配置スペースを縮小する。 In order to solve the above-mentioned problems, the embodiment of the substrate drying apparatus according to the present invention is to be dried.
Conveying means for placing dried matter and conveying it in a predetermined direction, and
While moving close to the surface of the dried food,
Blowing a gas containing water-soluble alcohol vapor
And a spraying means of water-soluble alcohol
It is equipped with a supply means for supplying a gas containing vapor and is dried.
A state in which the dry matter is conveyed by the conveying means and is moving, or
Is sprayed in one of the stopped and transported states
Move the spraying means back and forth and left and right to dissolve water on the surface
To spray gas containing vapor of alcohol
More effectively dry the droplets adhering to the surface of the material to be dried.
In addition, the spraying device is placed in parallel on the top of the transporting device.
Place this parallel surface so that it can be tilted at an angle of 0 ° to 60 °.
To reduce the placement space at the bottom.
【0016】ここで、被乾燥物の上部には、吹き付け手
段とともに移動して被乾燥物の表面に吹き付けたガスを
吸気する吸気ダクトを少なくとも1箇所以上設けること
が好ましい。また、吸気ダクトは、吹き付け手段の前後
両側に平行して2箇所配置することが好ましい。また、
吹き付け手段と吸気ダクトとは、搬送手段の上部に平行
に配置されて搬送方向と直交する対向面を所定の角度に
傾斜させて設置することが好ましい。また、吹き付け手
段は、水溶性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付
けるエアーナイフであることが好ましい。 [0016] Here, the upper portion of the material to be dried, providing an intake duct for sucking the move with spraying means sprayed on the surface of the material to be dried gas least at one location
Is preferred. In addition, the intake duct is located before and after the blowing means.
It is preferable to dispose two locations in parallel on both sides. Also,
The blowing means and the intake duct are parallel to the top of the conveying means.
Placed at a predetermined angle on the facing surface orthogonal to the transport direction.
It is preferable to install it at an inclination. Also sprayer
The stage is sprayed with gas containing water-soluble alcohol vapor
It is preferably an air knife.
【0017】また、搬送手段の上部には、被乾燥物を吹
き付け手段により乾燥処理を行う前に液切りを実行する
液切り用吹き付け手段を更に配置することが好ましい。
また、吸気ダクトは、搬送手段及び吹き付け手段ととも
に0°〜60°の角度で傾斜可能に設けることが好まし
い。また、水溶性アルコールのベーパを含んだガスは、
被乾燥物の表面にイジェクタを介して供給することが好
ましい。Further , it is preferable to further dispose, on the upper part of the conveying means, a spraying means for draining liquid for draining the material to be dried before performing the drying process by the spraying means.
In addition, the intake duct, together with the conveying means and the blowing means,
It is preferable that the tilt angle is 0 ° to 60 °. Also, the gas containing the water-soluble alcohol vapor,
It is preferable to supply the material to be dried onto the surface of the material via an ejector.
【0018】また、供給手段は、水溶性アルコール内に
乾燥ガスを供給してバブリングすることにより水溶性ア
ルコールのベーパを含んだガスを発生させて供給するよ
うに形成することが好ましい。また供給手段の他の実施
の形態として、水溶性アルコールをヒータにより加熱し
て発生するミスト内に乾燥ガスを混合することにより水
溶性アルコールのベーパを含んだガスを発生させて供給
するように形成することが好ましい。また、供給手段の
更なる他の実施の形態として、水溶性アルコールを超音
波霧化器により霧化するとともに、この霧化したミスト
内に乾燥ガスを混合することにより水溶性アルコールの
ベーパを含んだガスを発生させて供給するように形成す
ることが好ましい。ここで、乾燥ガスは、窒素ガスであ
ることが好ましい。Further, it is preferable that the supply means is formed so as to generate and supply a gas containing the vapor of the water-soluble alcohol by supplying a dry gas into the water-soluble alcohol and bubbling it. As another embodiment of the supplying means, the gas containing water-soluble alcohol vapor is generated and supplied by mixing a dry gas into a mist generated by heating the water-soluble alcohol with a heater. Preferably. Further, as still another embodiment of the supply means, the water-soluble alcohol is atomized by an ultrasonic atomizer, and a vapor of the water-soluble alcohol is contained by mixing a dry gas into the atomized mist. It is preferable that the gas is generated and supplied. Here, the dry gas is preferably nitrogen gas.
【0019】また、吹き付け手段と吸気ダクトとが移動
する方向は、搬送手段の搬送方向に対して逆方向に駆動
するように設けることが好ましい。また、吹き付け手段
と吸気ダクトとは、被乾燥物の搬送方向に対して直交す
る両側方向に更にスライドするように設けることが好ま
しい。また、被乾燥物は、半導体基板、液晶用ガラス基
板などの被処理基板であることが好ましい。Further, the that person direction to the blowing means and the intake duct moving <br/>, it is preferable to provide to drive in the opposite direction to the conveying direction of the conveying means. In addition, spray can with means
The intake duct, is preferably provided to further slide on both sides direction perpendicular to the conveying direction of the material to be dried. Further, the material to be dried is preferably a substrate to be processed such as a semiconductor substrate or a glass substrate for liquid crystal.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
による基板乾燥装置の実施の形態を詳細に説明する。図
1は、本発明による基板乾燥装置の第1の実施の形態を
示す平面図である。また、図2は、図1に示したA−A
線の断面を示す断面図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, an embodiment of a substrate drying apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a plan view showing a first embodiment of a substrate drying apparatus according to the present invention. Further, FIG. 2 shows A-A shown in FIG.
It is sectional drawing which shows the cross section of a line.
【0021】図1に示すように、本発明による基板乾燥
装置の第1の実施の形態は、被洗浄物1を搬送する搬送
手段(図示せず)と、この搬送手段により搬送された被
洗浄物1の表面に水溶性アルコールのベーパを含んだガ
スを吹き付けるエアーナイフ2と、このエアーナイフ2
と平行して搬送方向の前後2箇所に配置されて吸気する
吸気ダクト4と、エアーナイフ2に水溶性アルコールの
ベーパを含んだガスを供給する供給手段10とを備えて
いる。As shown in FIG. 1, in the first embodiment of the substrate drying apparatus according to the present invention, a carrying means (not shown) for carrying the article to be cleaned 1 and the article to be cleaned carried by the carrying means. An air knife 2 for blowing a gas containing a water-soluble alcohol vapor onto the surface of the object 1, and this air knife 2
In parallel with the above, it is provided with intake ducts 4 arranged at two positions in the front and rear of the conveyance direction for intake, and a supply means 10 for supplying the air knife 2 with gas containing a vapor of water-soluble alcohol.
【0022】ここで、エアーナイフ2は、被洗浄物1の
上方に配置され、この被洗浄物1の搬送方向と直交する
対向面を所定の角度に傾斜させて配置している。ここ
で、この角度は、好ましくは35°〜45°に傾斜させ
ることが望ましい。また、エアーナイフ2には、反搬送
方向に微小の間隔を備えて形成した噴射用スリット2a
を設けている。そして、エアーナイフ2は、両側に各々
取付金具9を設けて吸気ダクト4の間に固定されてい
る。Here, the air knife 2 is arranged above the article to be cleaned 1 and is arranged such that the facing surface orthogonal to the conveying direction of the article to be cleaned 1 is inclined at a predetermined angle. Here, it is desirable that the angle be inclined at 35 ° to 45 °. In addition, the air knife 2 has an injection slit 2a formed with a minute gap in the opposite conveying direction.
Is provided. Further, the air knife 2 is fixed between the intake ducts 4 by providing mounting fittings 9 on both sides.
【0023】また、吸気ダクト4は、エアーナイフ2と
平行して搬送方向の前後に2箇所配置され、エアーナイ
フ2から噴出させた水溶性アルコールのベーパを含んだ
ガスを吸気するように設置されている。この吸気ダクト
4は、エアーナイフ2の両側で各々内側に吸気口4aを
開口している。また、吸気ダクト4には、パイプ状の管
路8aを介して排風機8が接続されている。Further, the intake ducts 4 are arranged at two positions in parallel with the air knife 2 before and after in the conveying direction, and are installed so as to suck the gas containing the vapor of the water-soluble alcohol ejected from the air knife 2. ing. The air intake duct 4 has an air intake port 4a open on the inner side of each of the air knives 2. Further, an exhaust fan 8 is connected to the intake duct 4 via a pipe line 8a.
【0024】また、エアーナイフ2には、水溶性アルコ
ールのベーパを含んだガスを供給する供給手段10が管
路10cを介して接続されている。この供給手段10
は、水溶性のイソプロピルアルコール(以下、IPAと
称す)を貯留する貯留槽10aと、この貯留槽10aか
ら延在してエアーナイフ2の両側に接続する管路10c
と、貯留槽10aに窒素ガスを供給する管路10bとを
備えている。従って、貯留槽10a内では、貯留したI
PA3内に管路10bにより窒素ガスが供給されて混合
(飽和)し、水溶性アルコールのベーパを含んだガスが
発生する。そして、このガスは、管路10cによりエア
ーナイフ2に供給され、被洗浄物1の表面に吹き付けら
れる。A supply means 10 for supplying a gas containing a vapor of water-soluble alcohol is connected to the air knife 2 through a conduit 10c. This supply means 10
Is a storage tank 10a for storing water-soluble isopropyl alcohol (hereinafter referred to as IPA), and a pipeline 10c extending from the storage tank 10a and connected to both sides of the air knife 2.
And a pipeline 10b for supplying nitrogen gas to the storage tank 10a. Therefore, in the storage tank 10a, the stored I
Nitrogen gas is supplied into the PA 3 through the conduit 10b and mixed (saturated) to generate a gas containing a vapor of a water-soluble alcohol. Then, this gas is supplied to the air knife 2 through the conduit 10c and sprayed onto the surface of the article to be cleaned 1.
【0025】ここで、本発明による基板乾燥装置は、図
2に示すように、エアーナイフ2、吸気ダクト4、及び
搬送手段(図示せず)を所定の角度θで傾斜させて図2
に示した一点鎖線のように傾けることができる。この基
板乾燥装置は、傾斜する角度θを0°〜60°の範囲内
で傾けることができる。このように、エアーナイフ2、
吸気ダクト4、及び搬送手段を所定の角度θに傾斜させ
ることで、基板乾燥装置の底部における設置スペースを
図2に示した幅Bから幅B′(Bに対してほぼ1/2の
幅)に縮小することができる。Here, in the substrate drying apparatus according to the present invention, as shown in FIG. 2, the air knife 2, the air intake duct 4, and the conveying means (not shown) are tilted at a predetermined angle θ, and the apparatus shown in FIG.
It can be tilted like the one-dot chain line shown in. This substrate drying apparatus can tilt the tilt angle θ within the range of 0 ° to 60 °. In this way, the air knife 2,
By inclining the intake duct 4 and the transfer means at a predetermined angle θ, the installation space at the bottom of the substrate drying apparatus is set from the width B to the width B ′ shown in FIG. Can be reduced to.
【0026】このように形成された本発明による基板乾
燥装置の第1の実施の形態により乾燥工程を実行する場
合、まず、被乾燥物1を搬送手段に載置する。そして、
供給手段10には、管路10bを介して窒素ガスを供給
する。これにより、貯留槽10内では、貯留したIPA
3と窒素ガスとが混合され、水溶性アルコールのベーパ
を含んだガスが発生する。そして、このガスは、管路1
0cによりエアーナイフ2に供給され、搬送手段により
搬送されている被洗浄物1の表面に向かって吹き付けら
れる。これにより、被乾燥物1は、エアーナイフ2から
噴射した噴射ガスにより液滴を吹き飛ばして急速乾燥す
る。When the drying step is executed by the substrate drying apparatus according to the first embodiment of the present invention thus formed, first, the article to be dried 1 is placed on the carrying means. And
Nitrogen gas is supplied to the supply means 10 via a pipe 10b. As a result, in the storage tank 10, the stored IPA
3 and nitrogen gas are mixed to generate a gas containing a water-soluble alcohol vapor. And this gas is pipe 1
It is supplied to the air knife 2 by 0c and is sprayed toward the surface of the article to be cleaned 1 being conveyed by the conveying means. As a result, the material to be dried 1 is rapidly dried by blowing off droplets by the jet gas jetted from the air knife 2.
【0027】また、被乾燥物1の表面では、エアーナイ
フ2により液滴5を吹き飛ばした際にミストが発生す
る。このミストは、エアーナイフ2と平行して搬送方向
の前後に配置した2つの吸気ダクト4により吸引され、
被乾燥物1の表面に再付着することを防止している。ま
た、図2に示したように、エアーナイフ2、吸気ダクト
4、及び搬送手段を所定の角度θで傾斜させることによ
り、被乾燥物1の表面に付着した液滴が傾斜に沿って流
れて除去しやすくなる。On the surface of the material to be dried 1, mist is generated when the droplets 5 are blown off by the air knife 2. This mist is sucked by two air intake ducts 4 arranged in parallel with the air knife 2 in the front and rear in the transport direction,
It is prevented from reattaching to the surface of the article to be dried 1. Further, as shown in FIG. 2, by inclining the air knife 2, the intake duct 4, and the conveying means at a predetermined angle θ, the droplets attached to the surface of the article to be dried 1 flow along the inclination. Easy to remove.
【0028】このように第1の実施の形態によると、搬
送される被乾燥物1の表面に水溶性アルコールのベーパ
を含んだガスをエアーナイフ2により噴射するため、こ
のガスが被乾燥物1上の液滴を吹き飛ばして急速乾燥で
きる。また、第1の実施の形態によると、図2に示した
ように、装置全体を所定の角度に傾斜させることができ
るため、図8に示した従来技術の装置に比べて配置スペ
ースを縮小することができるとともに、効果的な乾燥を
実行することができる。As described above, according to the first embodiment, since the gas containing the vapor of the water-soluble alcohol is jetted by the air knife 2 onto the surface of the material to be dried 1 to be conveyed, this gas is dried. The upper droplets can be blown off and dried quickly. Further, according to the first embodiment, as shown in FIG. 2, since the entire device can be tilted at a predetermined angle, the arrangement space can be reduced as compared with the conventional device shown in FIG. In addition to being able to perform, effective drying can be performed.
【0029】次に、図3乃至図5を参照して本発明によ
る基板乾燥装置の第2の実施の形態を詳細に説明する。
図3は、本発明による基板乾燥装置の第2の実施の形態
を示す平面図である。また、図4は、図1に示した基板
乾燥装置の動作を示す平面図である。また、図5は、図
1に示した基板乾燥装置の更なる他の動作を示す平面図
である。Next, a second embodiment of the substrate drying apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS.
FIG. 3 is a plan view showing a second embodiment of the substrate drying apparatus according to the present invention. FIG. 4 is a plan view showing the operation of the substrate drying apparatus shown in FIG. Further, FIG. 5 is a plan view showing still another operation of the substrate drying apparatus shown in FIG.
【0030】図3に示すように、本発明による基板乾燥
装置の第2の実施の形態は、第1の実施の形態と同様
に、被洗浄物1を搬送する搬送手段(図示せず)と、こ
の搬送手段により搬送される被洗浄物1の表面に水溶性
アルコールのベーパを含んだガスを吹き付けるエアーナ
イフ2と、このエアーナイフ2と平行して搬送方向の前
後2箇所に配置されて吸気する吸気ダクト4と、エアー
ナイフ2に水溶性アルコールのベーパを含んだガスを供
給する供給手段20とを備えている。As shown in FIG. 3, in the second embodiment of the substrate drying apparatus according to the present invention, as in the first embodiment, a conveyance means (not shown) for conveying the article to be cleaned 1 is provided. An air knife 2 for blowing a gas containing a water-soluble alcohol vapor onto the surface of the article to be cleaned 1 conveyed by this conveying means, and two air knives arranged in parallel with the air knife 2 in the front and rear direction in the conveying direction. The air intake duct 4 and the supply means 20 for supplying the gas containing the vapor of the water-soluble alcohol to the air knife 2 are provided.
【0031】ここで、エアーナイフ2は、被洗浄物1の
上方に配置され、この被洗浄物1の搬送方向と直交する
対向面を所定の角度に傾斜させて配置している。ここ
で、この角度は、好ましくは35°〜45°に傾斜させ
ることが望ましい。また、エアーナイフ2には、反搬送
方向に微小の間隔を備えて形成した噴射用スリット2a
を設けている。また、エアーナイフ2は、第1の実施の
形態と異なり、図3に示した前後左右方向に移動可能に
設けてある。従って、エアーナイフ2は、水溶性アルコ
ールのベーパを含んだガスを被洗浄物1の表面に吹き付
ける際、前後左右方向に移動して吹き付けるため、処理
時間を短縮することができる。Here, the air knife 2 is arranged above the object to be cleaned 1 and is arranged such that the facing surface orthogonal to the conveying direction of the object to be cleaned 1 is inclined at a predetermined angle. Here, it is desirable that the angle be inclined at 35 ° to 45 °. In addition, the air knife 2 has an injection slit 2a formed with a minute gap in the opposite conveying direction.
Is provided. Further, unlike the first embodiment, the air knife 2 is provided so as to be movable in the front-back and left-right directions shown in FIG. Therefore, when the gas containing the vapor of the water-soluble alcohol is sprayed onto the surface of the object to be cleaned 1, the air knife 2 moves in the front-rear, left-right direction and sprays the gas, so that the processing time can be shortened.
【0032】また、吸気ダクト4は、エアーナイフ2と
平行して搬送方向の前後に2箇所配置され、エアーナイ
フ2から噴出する水溶性アルコールのベーパを含んだガ
スにより発生したミストを吸気するように設置されてい
る。この吸気ダクト4は、エアーナイフ2の両側で各々
内側に吸気口4aを開口している。また、吸気ダクト4
には、パイプ状の管路8aを介して排風機8が接続され
ている。この吸気ダクト4は、第1の実施の形態と異な
り、エアーナイフ2の動作に合わせて同時に駆動するよ
うに形成されている。Further, the intake ducts 4 are arranged at two positions in parallel with the air knife 2 in the front and rear of the carrying direction so as to suck in the mist generated by the gas containing the vapor of the water-soluble alcohol ejected from the air knife 2. It is installed in. The air intake duct 4 has an air intake port 4a open on the inner side of each of the air knives 2. In addition, the intake duct 4
An exhaust fan 8 is connected to the pipe via a pipe line 8a. Unlike the first embodiment, the intake duct 4 is formed so as to be driven simultaneously with the operation of the air knife 2.
【0033】また、エアーナイフ2には、水溶性アルコ
ールのベーパを含んだガスを供給する供給手段20が管
路20eを介して接続されている。この供給手段20
は、第1の実施の形態と異なり、IPA3を貯留する貯
留槽20aと、この貯留槽20aから延在してエアーナ
イフ2の両側に接続する管路20eと、この管路20e
の途中に装着するイジェクタ22と、このイジェクタ2
2に窒素ガスを供給する管路20dと、貯留槽20aに
窒素ガスを供給する管路20cと、貯留槽20aの底部
に配置して加熱するヒータ20bとを備えている。A supply means 20 for supplying a gas containing a water-soluble alcohol vapor is connected to the air knife 2 through a conduit 20e. This supply means 20
Is different from the first embodiment, a storage tank 20a for storing the IPA 3, a pipeline 20e extending from the storage tank 20a and connected to both sides of the air knife 2, and a pipeline 20e.
Ejector 22 to be installed in the middle of the
2, a pipeline 20d for supplying nitrogen gas, a pipeline 20c for supplying nitrogen gas to the storage tank 20a, and a heater 20b arranged at the bottom of the storage tank 20a for heating.
【0034】従って、貯留槽20a内には、貯留したI
PA3をヒータ20bにより加熱して発生する蒸気に管
路20cを介して窒素ガスを供給する。これにより貯留
槽20a内では、IPA3の蒸気と窒素ガスとが混合
(飽和)して水溶性アルコールのベーパを含んだガスが
発生する。そして、このガスは、管路20eによりエア
ーナイフ2に供給され、被洗浄物1の表面に吹き付けら
れる。この際、管路20eには、イジェクタ22を装着
するとともに、このイジェクタ22に管路20dを接続
している。従って、水溶性アルコールのベーパを含んだ
ガスは、管路20dに窒素ガスを所定の速度で供給する
ことで、イジェクタ22内で負圧(真空)が発生してエ
アーナイフ2に供給される。Therefore, the stored I is stored in the storage tank 20a.
Nitrogen gas is supplied to the steam generated by heating PA3 by the heater 20b through the conduit 20c. As a result, in the storage tank 20a, the vapor of IPA3 and the nitrogen gas are mixed (saturated) to generate a gas containing the vapor of the water-soluble alcohol. Then, this gas is supplied to the air knife 2 through the conduit 20e and sprayed onto the surface of the article to be cleaned 1. At this time, the ejector 22 is attached to the conduit 20e, and the conduit 20d is connected to the ejector 22. Therefore, the gas containing the vapor of the water-soluble alcohol is supplied to the air knife 2 by generating a negative pressure (vacuum) in the ejector 22 by supplying the nitrogen gas to the conduit 20d at a predetermined speed.
【0035】ここで、第2の実施の形態は、図2に示し
た第1の実施の形態と同様に、エアーナイフ2、吸気ダ
クト4、及び搬送手段(図示せず)を所定の角度で傾斜
させることができる。従って、第2の実施の形態は、第
1の実施の形態と同様に装置の設置スペースを縮小する
ことができる。Here, in the second embodiment, as in the first embodiment shown in FIG. 2, the air knife 2, the intake duct 4, and the conveying means (not shown) are arranged at a predetermined angle. Can be tilted. Therefore, in the second embodiment, the installation space of the device can be reduced as in the first embodiment.
【0036】このように形成された本発明による基板乾
燥装置の第2の実施の形態により乾燥工程を実行する場
合、2つの乾燥方法がある。まず、第1の方法は、被乾
燥物1を搬送手段の上部に載置して、この搬送手段が載
置した被乾燥物1を所定の位置まで搬送して停止する。
そして、前述したように供給手段20内でIPA3と窒
素ガスとを混合させて水溶性アルコールのベーパを含ん
だガスを発生させる。このガスは、イジェクタ22を介
してエアーナイフ2に供給され、被乾燥物1の表面に噴
出する。この際、エアーナイフ2と吸気ダクト4とは、
図4に示すように、所定の位置から被洗浄物1の搬送方
向とは逆方向(図3に示した後方向)に移動して所定の
範囲にガスを吹き付ける。そして、エアーナイフ2と吸
気ダクト4とは、所定の範囲移動して吹き付けを完了す
ると元の位置に戻って待機する。これと同時に搬送手段
は、再び被洗浄物1を搬送してエアーナイフ2により吹
き付けられていない表面の位置まで搬送して停止する。
以後、前述した動作を繰り返すことにより被乾燥物1
は、エアーナイフ2から噴射した噴射ガスにより液滴を
吹き飛ばして急速乾燥する。また、被乾燥物1の表面で
は、エアーナイフ2により液滴5を吹き飛ばした際にミ
ストが発生する。このミストは、エアーナイフ2と平行
して配置した2つの吸気ダクト4により吸引され、被乾
燥物1の表面に再付着することを防止している。また、
図2に示した従来技術と同様に、エアーナイフ2、吸気
ダクト4、及び搬送手段を所定の角度で傾斜させること
により、被乾燥物1の表面に付着した液滴が傾斜に沿っ
て流れて除去しやすくなる。When the drying process is executed by the second embodiment of the substrate drying apparatus according to the present invention thus formed, there are two drying methods. First, in the first method, the material to be dried 1 is placed on the upper part of the transport means, and the material to be dried 1 placed by the transport means is transported to a predetermined position and stopped.
Then, as described above, IPA3 and nitrogen gas are mixed in the supply means 20 to generate a gas containing the vapor of the water-soluble alcohol. This gas is supplied to the air knife 2 via the ejector 22 and is ejected onto the surface of the article to be dried 1. At this time, the air knife 2 and the intake duct 4 are
As shown in FIG. 4, it moves from a predetermined position in a direction opposite to the conveyance direction of the article to be cleaned 1 (rearward direction shown in FIG. 3) and blows gas to a predetermined range. Then, when the air knife 2 and the intake duct 4 move within a predetermined range and the blowing is completed, the air knife 2 and the intake duct 4 return to their original positions and stand by. At the same time, the carrying means again carries the article to be cleaned 1 and carries it to the position of the surface not sprayed by the air knife 2 and stops.
After that, by repeating the above-mentioned operation, the material to be dried 1
Sprays the liquid droplets by the spray gas sprayed from the air knife 2 to dry quickly. Further, on the surface of the material to be dried 1, mist is generated when the droplets 5 are blown off by the air knife 2. This mist is sucked by the two intake ducts 4 arranged in parallel with the air knife 2 and prevented from reattaching to the surface of the material to be dried 1. Also,
As in the prior art shown in FIG. 2, by tilting the air knife 2, the air intake duct 4, and the conveying means at a predetermined angle, the droplets adhering to the surface of the material to be dried 1 flow along the tilt. Easy to remove.
【0037】一方、第2の方法は、まず、第1の方法と
同様に、供給手段20内で水溶性アルコールのベーパを
含んだガスを発生させてエアーナイフ2に供給する。そ
して、被乾燥物1を搬送手段の上部に載置して図5に示
す矢印方向(図3に示した前方向)に搬送する。このよ
うに搬送される被乾燥物1の表面には、エアーナイフ2
から噴出されるガスが吹き付けられる。この際、エアー
ナイフ2と吸気ダクト4とは、図5に示す矢印方向(図
3に示した左右方向)に往復動作を行いながらガスの吹
き付けを実行する。これにより被乾燥物1は、エアーナ
イフ2から噴射した噴射ガスにより液滴を吹き飛ばして
急速乾燥する。また、被乾燥物1の表面では、エアーナ
イフ2により液滴5を吹き飛ばした際にミストが発生す
る。このミストは、エアーナイフ2と平行して配置した
2つの吸気ダクト4により吸引され、被乾燥物1の表面
に再付着することを防止している。また、図2に示した
従来技術と同様に、エアーナイフ2、吸気ダクト4、及
び搬送手段を所定の角度で傾斜させることにより、被乾
燥物1の表面に付着した液滴が傾斜に沿って流れて除去
しやすくなる。On the other hand, in the second method, similarly to the first method, the gas containing the vapor of the water-soluble alcohol is generated in the supply means 20 and is supplied to the air knife 2. Then, the article to be dried 1 is placed on the upper part of the conveying means and conveyed in the direction of the arrow shown in FIG. 5 (forward direction shown in FIG. 3). An air knife 2 is attached to the surface of the material to be dried 1 thus conveyed.
The gas ejected from is sprayed. At this time, the air knife 2 and the intake duct 4 spray gas while reciprocating in the direction of the arrow shown in FIG. 5 (the left-right direction shown in FIG. 3). As a result, the material to be dried 1 is rapidly dried by blowing off droplets by the spray gas sprayed from the air knife 2. Further, on the surface of the material to be dried 1, mist is generated when the droplets 5 are blown off by the air knife 2. This mist is sucked by the two intake ducts 4 arranged in parallel with the air knife 2 and prevented from reattaching to the surface of the material to be dried 1. Further, similarly to the prior art shown in FIG. 2, by inclining the air knife 2, the air intake duct 4, and the conveying means at a predetermined angle, the droplets attached to the surface of the article to be dried 1 are inclined along the inclination. It flows and becomes easy to remove.
【0038】このように第2の実施の形態によると、水
溶性アルコールのベーパを含んだガスを被乾燥物の表面
に噴射可能にして装置全体を所定の角度に傾斜できるよ
うに形成しているため、第1の実施の形態と同様の効果
を得ることができる。As described above, according to the second embodiment, the gas containing the vapor of the water-soluble alcohol can be injected onto the surface of the material to be dried so that the entire apparatus can be inclined at a predetermined angle. Therefore, the same effect as the first embodiment can be obtained.
【0039】また、第2の実施の形態によると、エアー
ナイフ及び吸気ダクトを前後左右方向に移動可能にして
乾燥工程を実行できるように形成しているため、被洗浄
物の乾燥工程を短縮することができる。Further, according to the second embodiment, the air knife and the air intake duct are formed so as to be movable in the front-rear direction and the left-right direction so that the drying process can be executed. be able to.
【0040】次に、図6を参照して、本発明による基板
乾燥装置の第3の実施の形態を詳細に説明する。図6
は、本発明による基板乾燥装置の第3の実施の形態を示
す平面図である。ここで、第3の実施の形態における供
給手段30及び液切り用エアーナイフ6以外の構成要素
は第2の実施の形態と同一構成要素であり、この同じ構
成要素には同一符号を記載するとともに、重複する説明
は省略する。Next, with reference to FIG. 6, a third embodiment of the substrate drying apparatus according to the present invention will be described in detail. Figure 6
[FIG. 8] is a plan view showing a third embodiment of a substrate drying apparatus according to the present invention. Here, the constituent elements other than the supply means 30 and the liquid cutting air knife 6 in the third embodiment are the same constituent elements as in the second embodiment, and the same reference numerals are given to the same constituent elements. , Duplicate description will be omitted.
【0041】図6に示すように、本発明による基板乾燥
装置の第3の実施の形態は、第2の実施の形態と同様
に、被洗浄物1を搬送する搬送手段(図示せず)と、こ
の搬送手段により搬送される被洗浄物1の表面に水溶性
アルコールのベーパを含んだガスを吹き付けるエアーナ
イフ2と、このエアーナイフ2と平行して搬送方向の前
後2箇所に配置されて吸気する吸気ダクト4とを備えて
いる。As shown in FIG. 6, in the third embodiment of the substrate drying apparatus according to the present invention, as in the second embodiment, a transport means (not shown) for transporting the article to be cleaned 1 is provided. An air knife 2 for blowing a gas containing a water-soluble alcohol vapor onto the surface of the article to be cleaned 1 conveyed by this conveying means, and two air knives arranged in parallel with the air knife 2 in the front and rear direction in the conveying direction. And an intake duct 4 for
【0042】また、第3の実施の形態は、第2の実施の
形態と異なり、被洗浄物1をエアーナイフ2により水溶
性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付ける前に液
切りを行う液切り用エアーナイフ6を備えている。この
液切り用エアーナイフ6は、エアーナイフ2の反進行方
向前方に設置され、予め液切りを行うことで短いスルー
プット(処理時間)で被洗浄物1の乾燥を行えるように
設けてある。The third embodiment is different from the second embodiment in that the object to be cleaned 1 is drained before the gas containing the vapor of the water-soluble alcohol is sprayed by the air knife 2. An air knife 6 is provided. The liquid cutting air knife 6 is installed in front of the air knife 2 in the opposite direction of travel, and is provided so that the object to be cleaned 1 can be dried with a short throughput (processing time) by performing liquid cutting in advance.
【0043】また、第3の実施の形態は、第2の実施の
形態と異なり、超音波霧化器30bにより貯留したIP
A3を霧化させて窒素ガスと混合させることにより水溶
性アルコールのベーパを発生させる供給手段30を備え
ている。この供給手段30は、IPA3を貯留する貯留
槽30aと、この貯留槽30aにIPA3を供給するI
PA供給部30gと、貯留槽30aから延在してエアー
ナイフ2の両側に接続する管路30eと、この管路30
eの途中に装着するイジェクタ32と、このイジェクタ
32に窒素ガスを供給する管路30dと、貯留槽30a
に窒素ガスを供給する管路30cと、貯留槽30aの底
部に配置して超音波により貯留槽30aに貯留したIP
A3を霧化する超音波霧化器30bとを備えている。Further, the third embodiment differs from the second embodiment in that the IP stored by the ultrasonic atomizer 30b is stored.
It is provided with a supply means 30 for generating water vapor of water-soluble alcohol by atomizing A3 and mixing it with nitrogen gas. The supply means 30 stores a storage tank 30a for storing IPA3, and I for supplying IPA3 to the storage tank 30a.
The PA supply unit 30g, a conduit 30e extending from the storage tank 30a and connected to both sides of the air knife 2, and this conduit 30
The ejector 32 mounted in the middle of e, the pipeline 30d for supplying nitrogen gas to the ejector 32, and the storage tank 30a
The pipe line 30c for supplying nitrogen gas to the tank and the IP stored in the storage tank 30a by ultrasonic waves arranged at the bottom of the storage tank 30a.
An ultrasonic atomizer 30b for atomizing A3 is provided.
【0044】従って、貯留槽30a内には、貯留したI
PA3を超音波霧化器30bにより霧化し、そこに管路
30cを介して窒素ガスを供給する。これにより貯留槽
30a内では、IPA3のミスト(蒸気)と窒素ガスと
が混合(飽和)して水溶性アルコールのベーパを含んだ
ガスが発生する。そして、このガスは、管路30eによ
りエアーナイフ2に供給され、被洗浄物1の表面に吹き
付けられる。この際、管路30eには、イジェクタ32
を装着するとともに、このイジェクタ32に管路30d
を接続している。従って、水溶性アルコールのベーパを
含んだガスは、管路30dに窒素ガスを所定の速度で供
給することで、イジェクタ32内で負圧(真空)が発生
してエアーナイフ2に供給される。Therefore, the stored I is stored in the storage tank 30a.
PA3 is atomized by the ultrasonic atomizer 30b, and nitrogen gas is supplied thereto through the conduit 30c. As a result, in the storage tank 30a, the mist (vapor) of IPA3 and the nitrogen gas are mixed (saturated) to generate gas containing the vapor of the water-soluble alcohol. Then, this gas is supplied to the air knife 2 through the conduit 30e and is sprayed onto the surface of the article to be cleaned 1. At this time, the ejector 32 is attached to the conduit 30e.
Is attached to the ejector 32 and the conduit 30d is attached.
Are connected. Therefore, the gas containing the vapor of the water-soluble alcohol is supplied to the air knife 2 by generating a negative pressure (vacuum) in the ejector 32 by supplying the nitrogen gas to the conduit 30d at a predetermined speed.
【0045】そして、このように形成された本発明によ
る基板乾燥装置の第3の実施の形態により乾燥工程を実
行する場合、前述したように供給手段30内でIPA3
と窒素ガスとを混合させて水溶性アルコールのベーパを
含んだガスを発生させる。このガスは、イジェクタ32
を介してエアーナイフ2に供給され、被乾燥物1の表面
に噴出する。この際、エアーナイフ2及び吸気ダクト4
は、図4及び図5に示した第2の実施の形態と同様に、
2つの方法により前後左右方向に移動可能にして乾燥工
程を実行する。ここで、被乾燥物1は、エアーナイフ2
により表面を吹き付ける前に、液切り用エアーナイフ6
により液切りが実行される。従って、被乾燥物1は、エ
アーナイフ2の位置まで搬送される前に液切り用エアー
ナイフ6により図6に示した液滴7を液滴5のように最
小化することができる。When the drying process is performed by the substrate drying apparatus according to the third embodiment of the present invention thus formed, the IPA 3 is supplied in the supplying means 30 as described above.
And nitrogen gas are mixed to generate a gas containing a vapor of a water-soluble alcohol. This gas is ejector 32
It is supplied to the air knife 2 through the and is jetted to the surface of the article to be dried 1. At this time, the air knife 2 and the intake duct 4
Is similar to the second embodiment shown in FIGS. 4 and 5,
The drying process is performed by making the front, rear, left, and right directions movable by two methods. Here, the material to be dried 1 is an air knife 2
Before spraying the surface with the
The liquid is drained by. Therefore, the material to be dried 1 can be minimized like the liquid droplet 5 shown in FIG. 6 by the liquid cutting air knife 6 before being conveyed to the position of the air knife 2.
【0046】このように第3の実施の形態によると、第
2の実施の形態と同様にエアーナイフと吸気ダクトとが
移動可能に設けているため、第2の実施の形態と同様の
効果を得ることができる。As described above, according to the third embodiment, since the air knife and the intake duct are movably provided as in the second embodiment, the same effect as that of the second embodiment is obtained. Obtainable.
【0047】また、第3の実施の形態によると、エアー
ナイフの前に液切り用エアーナイフを更に設けており被
乾燥物の液切れが向上するため、第2の実施の形態と比
べて処理時間をより短縮でき、効果的な乾燥工程を実行
することができる。Further, according to the third embodiment, a liquid draining air knife is further provided in front of the air knife to improve the liquid running out of the dried object, so that the treatment is performed as compared with the second embodiment. The time can be further shortened, and an effective drying process can be performed.
【0048】以上、本発明による基板乾燥装置の実施の
形態を詳細に説明したが、本発明は前述の実施の形態に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
変更可能である。例えば、エアーナイフの両側に吸気ダ
クトを設けた実施の形態を詳細に説明したが、これに限
定されるものではなく、エアーナイフのみを設置して乾
燥を行ってもよい。また、前後左右に動作するエアーナ
イフの実施の形態を詳細に説明したが、これに限定され
るものではなく、例えば、斜め方向に移動して被乾燥物
の表面にガスを吹き付けてもよい。Although the embodiments of the substrate drying apparatus according to the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and can be modified within the scope of the invention. For example, although the embodiment in which the intake ducts are provided on both sides of the air knife has been described in detail, the present invention is not limited to this, and only the air knife may be installed for drying. Further, although the embodiment of the air knife that moves forward, backward, leftward and rightward has been described in detail, the present invention is not limited to this, and for example, it may be moved in an oblique direction to blow gas onto the surface of the object to be dried.
【0049】[0049]
【発明の効果】このように本発明による基板乾燥装置に
よれば、水溶性アルコールのベーパを含んだガスを被乾
燥物の表面に吹き付けて乾燥させるため、液切れが向上
して従来技術の搬送スピードを速く(30%程度速く)
搬送できるとともに、吹き付けガスの使用量を低減(3
0%程度低減)することができる。As described above, according to the substrate drying apparatus of the present invention, the gas containing the vapor of the water-soluble alcohol is sprayed onto the surface of the material to be dried to dry it, so that the liquid running out is improved and the transportation of the prior art is performed. Faster speed (about 30% faster)
Can be transported and uses less blowing gas (3
It can be reduced by about 0%).
【0050】また、本発明による基板乾燥装置によれ
ば、装置全体を所定の角度に傾斜することができるた
め、被乾燥物を鉛直近くにまで傾けることができ、乾燥
効果を向上させるのみでなく、フットプリント(設置ス
ペースの縮小化)の向上を実現することが可能になる。Further, according to the substrate drying apparatus of the present invention, since the entire apparatus can be tilted at a predetermined angle, it is possible to tilt the object to be dried even near the vertical, not only improving the drying effect. It is possible to improve the footprint (reduction of the installation space).
【0051】さらに、本発明による基板乾燥装置によれ
ば、乾燥効率が向上することにより、搬送スピードの高
速化によるスループット(処理時間)の向上、及び吹き
付けガスの流量低減によるランニングコストの低減が可
能になる。Further, according to the substrate drying apparatus of the present invention, since the drying efficiency is improved, the throughput (processing time) can be improved by increasing the transfer speed, and the running cost can be reduced by reducing the flow rate of the blowing gas. become.
【図1】本発明による基板乾燥装置の第1の実施の形態
を示す平面図。FIG. 1 is a plan view showing a first embodiment of a substrate drying apparatus according to the present invention.
【図2】図1に示したA−A線の断面を示す断面図。FIG. 2 is a sectional view showing a section taken along the line AA shown in FIG.
【図3】本発明による基板乾燥装置の第2の実施の形態
を示す平面図。FIG. 3 is a plan view showing a second embodiment of the substrate drying apparatus according to the present invention.
【図4】図1に示した基板乾燥装置の動作を示す平面
図。FIG. 4 is a plan view showing the operation of the substrate drying apparatus shown in FIG.
【図5】図1に示した基板乾燥装置の更なる他の動作を
示す平面図。FIG. 5 is a plan view showing still another operation of the substrate drying apparatus shown in FIG.
【図6】本発明による基板乾燥装置の第3の実施の形態
を示す平面図。FIG. 6 is a plan view showing a third embodiment of a substrate drying apparatus according to the present invention.
【図7】従来の基板乾燥装置を示す斜視図。FIG. 7 is a perspective view showing a conventional substrate drying apparatus.
【図8】従来の基板乾燥装置の他の実施の形態を示す平
面図。FIG. 8 is a plan view showing another embodiment of the conventional substrate drying apparatus.
1 被乾燥物 5 液滴 4 吸気ダクト 4a 吸気口 2 エアーナイフ 2a 噴出用スリット 9 取付金具 8 排風機 8a 管路 3 IPA 10 供給手段 10a 貯留槽 10b、10c 管路 1 Dried items 5 droplets 4 intake duct 4a intake port 2 air knife 2a Slit for jetting 9 Mounting bracket 8 blower 8a pipeline 3 IPA 10 Supplying means 10a storage tank 10b, 10c pipeline
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−35478(JP,A) 特開 平10−180205(JP,A) 特開 平10−189529(JP,A) 実開 平2−137039(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/304 F26B 21/00 Continuation of the front page (56) References JP-A-7-35478 (JP, A) JP-A-10-180205 (JP, A) JP-A-10-189529 (JP, A) Actual Kaihei 2-137039 (JP , U) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/304 F26B 21/00
Claims (16)
る搬送手段と、 前記被乾燥物の表面に近接して前後左右方向に動作する
とともに水溶性アルコールのベーパを含んだガスを吹き
付ける吹き付け手段と、 前記吹き付け手段に前記水溶性アルコールのベーパを含
んだガスを供給する供給手段とを備え、 前記被乾燥物が前記搬送手段により搬送されて移動して
いる状態または搬送して停止した状態のいずれか一方の
状態で前記吹き付け手段を前後左右方向に移動して前記
被乾燥物の表面に前記水溶性アルコールのベーパを含ん
だガスを吹き付けることにより前記被乾燥物の表面に付
着した液滴を効果的に乾燥させるとともに、 前記搬送手段の上部に前記吹き付け手段を平行に配置し
てこの平行面を0°〜60°の角度で傾斜可能に設けて
底部における配置スペースを縮小した ことを特徴とする
基板乾燥装置。1. A carrying means for placing an article to be dried and carrying it in a predetermined direction, and a gas which is close to the surface of the article to be operated and moves forward, backward, leftward and rightward and which contains a vapor of a water-soluble alcohol. A spraying means for spraying, and a supply means for supplying a gas containing a vapor of the water-soluble alcohol to the spraying means, and a state in which the material to be dried is transported by the transporting means or is transported and stopped. Adhered to the surface of the material to be dried by moving the spraying means in any one of the following states in the front-rear and left-right directions and spraying a gas containing the vapor of the water-soluble alcohol onto the surface of the material to be dried. together to effectively dry the droplets, the spraying means are arranged in parallel above the conveying means
Provide the parallel surface of the lever so that it can be tilted at an angle of 0 ° to 60 °
Substrate drying device characterized by reducing the layout space at the bottom .
て、 前記被乾燥物の上部には、前記吹き付け手段とともに移
動して前記被乾燥物の表面に吹き付けた前記ガスを吸気
する吸気ダクトを少なくとも1箇所以上設けたことを特
徴とする基板乾燥装置。2. The substrate drying apparatus according to claim 1 , wherein the drying means is transferred to an upper portion of the object to be dried.
A substrate drying apparatus, wherein at least one intake duct for moving the air to move and blow the gas onto the surface of the object to be dried is provided.
て、 前記吸気ダクトは、前記吹き付け手段の前後両側に平行
して2箇所配置していることを特徴とする基板乾燥装
置。3. The substrate drying apparatus according to claim 2 , wherein the intake ducts are arranged at two positions in parallel on both front and rear sides of the spraying means.
て、 前記吹き付け手段は、前記搬送手段の上部に平行に配置
されて搬送方向と直交する対向面を所定の角度に傾斜さ
せて設置していることを特徴とする基板乾燥装置。4. The substrate drying apparatus according to claim 1 , wherein the spraying unit is disposed in parallel with an upper portion of the transport unit and is installed with a facing surface that is orthogonal to the transport direction inclined at a predetermined angle. Substrate drying device characterized in that
て、 前記吹き付け手段と吸気ダクトとは、前記搬送手段の上
部に平行に配置されて搬送方向と直交する対向面を所定
の角度に傾斜させて設置していることを特徴とする基板
乾燥装置。5. The substrate drying apparatus according to claim 2 , wherein the spraying unit and the air intake duct are arranged in parallel with each other on an upper portion of the transfer unit, and the facing surfaces orthogonal to the transfer direction are inclined at a predetermined angle. Substrate drying device characterized by being installed as.
て、 前記吹き付け手段は、前記水溶性アルコールのベーパを
含んだガスを吹き付けるエアーナイフであることを特徴
とする基板乾燥装置。6. The substrate drying apparatus according to claim 2 , wherein the spraying unit is an air knife that sprays a gas containing the water-soluble alcohol vapor.
て、 前記搬送手段の上部には、前記被乾燥物を前記吹き付け
手段により乾燥処理を行う前に液切りを実行する液切り
用吹き付け手段を更に配置したことを特徴とする基板乾
燥装置。7. The substrate drying apparatus according to claim 2, wherein a spraying means for draining liquid is provided on an upper portion of the transporting means for draining the material to be dried before the drying processing is performed by the spraying means. A substrate drying device characterized in that it is further arranged.
乾燥装置において、前記吸気ダクトは、前記搬送手段及び吹き付け手段とと
もに 0°〜60°の角度で傾斜可能に設けたことを特徴
とする基板乾燥装置。8. The substrate drying apparatus according to any one of claims 2 to 5, the intake duct, said conveying means and blowing means DOO
Substrate drying apparatus being characterized in that disposed to be inclined at an angle of monitor 0 ° to 60 °.
て、 前記水溶性アルコールのベーパを含んだガスは、前記被
乾燥物の表面にイジェクタを介して供給することを特徴
とする基板乾燥装置。9. The substrate drying apparatus according to claim 1 , wherein the gas containing the vapor of the water-soluble alcohol is supplied to the surface of the object to be dried via an ejector.
て、 前記供給手段は、水溶性アルコール内に乾燥ガスを供給
してバブリングすることにより前記水溶性アルコールの
ベーパを含んだガスを発生させて供給するように形成し
たことを特徴とする基板乾燥装置。10. The substrate drying apparatus according to claim 1 , wherein the supply unit generates a gas containing the vapor of the water-soluble alcohol by supplying a dry gas into the water-soluble alcohol and bubbling the dry gas. A substrate drying apparatus characterized in that it is formed so as to supply.
て、 前記供給手段は、水溶性アルコールをヒータにより加熱
して発生するミスト内に乾燥ガスを混合することにより
前記水溶性アルコールのベーパを含んだガスを発生させ
て供給するように形成したことを特徴とする基板乾燥装
置。11. The substrate drying apparatus according to claim 1 , wherein the supply unit includes a vapor of the water-soluble alcohol by mixing a dry gas into a mist generated by heating the water-soluble alcohol with a heater. A substrate drying device, characterized in that it is formed so as to generate and supply a gas.
て、 前記供給手段は、水溶性アルコールを超音波霧化器によ
り霧化するとともに、この霧化したミスト内に乾燥ガス
を混合することにより前記水溶性アルコールのベーパを
含んだガスを発生させて供給するように形成したことを
特徴とする基板乾燥装置。12. The substrate drying apparatus according to claim 1 , wherein the supply unit atomizes the water-soluble alcohol with an ultrasonic atomizer, and mixes a dry gas into the atomized mist. A substrate drying apparatus, which is formed so as to generate and supply a gas containing the water-soluble alcohol vapor.
燥装置において、 前記乾燥ガスは、窒素ガスであることを特徴とする基板
乾燥装置。13. The substrate drying apparatus according to claim 10 or 12 , wherein the drying gas is nitrogen gas.
て、 前記吹き付け手段と吸気ダクトとが移動する方向は、前
記搬送手段の搬送方向に対して逆方向に駆動するように
設けたことを特徴とする基板乾燥装置。14. The substrate drying apparatus according to claim 2 , wherein a direction in which the spraying means and the intake duct move is provided so as to be driven in a direction opposite to a transport direction of the transport means. Substrate drying device.
て、 前記吹き付け手段と吸気ダクトとは、前記被乾燥物の搬
送方向に対して直交する両側方向に更にスライドするよ
うに設けたことを特徴とする基板乾燥装置。15. The substrate drying apparatus according to claim 2 , wherein the spraying unit and the intake duct are provided so as to further slide in both side directions orthogonal to the transport direction of the material to be dried. Substrate drying device.
て、 前記被乾燥物は、半導体基板、液晶用ガラス基板などの
被処理基板であることを特徴とする基板乾燥装置。16. The substrate drying apparatus according to claim 1 , wherein the object to be dried is a substrate to be processed such as a semiconductor substrate and a glass substrate for liquid crystal.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03194399A JP3454469B2 (en) | 1999-02-09 | 1999-02-09 | Substrate drying equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03194399A JP3454469B2 (en) | 1999-02-09 | 1999-02-09 | Substrate drying equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000232087A JP2000232087A (en) | 2000-08-22 |
JP3454469B2 true JP3454469B2 (en) | 2003-10-06 |
Family
ID=12345059
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03194399A Expired - Fee Related JP3454469B2 (en) | 1999-02-09 | 1999-02-09 | Substrate drying equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3454469B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040031167A1 (en) | 2002-06-13 | 2004-02-19 | Stein Nathan D. | Single wafer method and apparatus for drying semiconductor substrates using an inert gas air-knife |
JP4759760B2 (en) * | 2005-07-22 | 2011-08-31 | 本多電子株式会社 | Fine atomization particle cleaning equipment |
-
1999
- 1999-02-09 JP JP03194399A patent/JP3454469B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000232087A (en) | 2000-08-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2654314B2 (en) | Backside cleaning device | |
JP4003441B2 (en) | Surface treatment apparatus and surface treatment method | |
KR100436361B1 (en) | Apparatus for cleaning the edges of wafers | |
KR19980070770A (en) | Coating film removal method and coating film removal device in the substrate end surface | |
CN101114578B (en) | Substrate processing method and substrate processing apparatus | |
JP2959763B1 (en) | Wafer cleaning equipment | |
JP3454469B2 (en) | Substrate drying equipment | |
JP2003503845A (en) | Method and system for cleaning a wafer after chemical mechanical polishing or plasma processing | |
JPH1057877A (en) | Substrate treating device and substrate treating method | |
JP3837720B2 (en) | Substrate processing method and substrate processing apparatus | |
JP2005166958A (en) | Substrate processing method and apparatus | |
JP2007311450A (en) | Protection film covering apparatus | |
JP7050875B2 (en) | Board cleaning equipment | |
JP2007317802A (en) | Apparatus and method of dry-processing substrate | |
JP4328342B2 (en) | Substrate processing method and substrate processing apparatus | |
JPH0744015Y2 (en) | Substrate drainer | |
JP2001232269A (en) | Coating film formation device | |
JPH11204489A (en) | Substrate drying device and drying of substrate | |
JP3717671B2 (en) | Substrate dryer | |
JPH083001Y2 (en) | Substrate drainer | |
JP3851370B2 (en) | Substrate drainer | |
JP2988828B2 (en) | Substrate drainer / dryer | |
JP2000252254A (en) | Substrate processing equipment | |
JPH11111666A (en) | Substrate-drying device | |
JP2920855B2 (en) | Cleaning equipment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080725 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080725 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090725 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |