JP3453836B2 - ホログラムの製造方法 - Google Patents
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，ノイズ光によって形成
される。ゴーストホログラムを抑制するホログラムの製
造方法に関する。
される。ゴーストホログラムを抑制するホログラムの製
造方法に関する。
【０００２】
【従来技術】ホログラム形成用の乾板に，物体光と参照
光とを照射してホログラムを形成する際，正規の光路外
から物体光や参照光が進入し，ゴーストホログラムを形
成することがある。このようなゴーストホログラムを生
ずる大きな要因として，屈折率が異なる外気との界面に
おける物体光又は参照光の表面反射光がある。
光とを照射してホログラムを形成する際，正規の光路外
から物体光や参照光が進入し，ゴーストホログラムを形
成することがある。このようなゴーストホログラムを生
ずる大きな要因として，屈折率が異なる外気との界面に
おける物体光又は参照光の表面反射光がある。
【０００３】例えば，図５に示すように，複製用乾板９
１を屈折率調整液９２を介してマスタホログラム９３に
接触させ，乾板９１の表面から参照光３１を入射し，そ
の透過光３１１をマスタホログラム９３で回折，反射さ
せ，これを物体光３２として乾板９１に干渉縞を形成す
る方法がある（マスタホログラムを用いた１光束法）。
１を屈折率調整液９２を介してマスタホログラム９３に
接触させ，乾板９１の表面から参照光３１を入射し，そ
の透過光３１１をマスタホログラム９３で回折，反射さ
せ，これを物体光３２として乾板９１に干渉縞を形成す
る方法がある（マスタホログラムを用いた１光束法）。
【０００４】この場合，例えば上記透過光３１１がマス
タホログラム９３を透過して界面９３１で再反射し，こ
の表面反射光（図示せず）が参照光３１との間に図６に
示すようなリング状の干渉縞９９を形成し，これがゴー
ストホログラムとなる。あるいは，乾板９１を透過した
物体光３２が外気との界面９１１で再反射し，この表面
反射光（図示せず）が正規の物体光３２との間に干渉縞
を形成する。図５のマスタホログラム９３に替えて反射
形の光学素子を用いた場合についても同様である。
タホログラム９３を透過して界面９３１で再反射し，こ
の表面反射光（図示せず）が参照光３１との間に図６に
示すようなリング状の干渉縞９９を形成し，これがゴー
ストホログラムとなる。あるいは，乾板９１を透過した
物体光３２が外気との界面９１１で再反射し，この表面
反射光（図示せず）が正規の物体光３２との間に干渉縞
を形成する。図５のマスタホログラム９３に替えて反射
形の光学素子を用いた場合についても同様である。
【０００５】また，乾板の上下両面から物体光及び参照
光を入射する２光束法においても，同様に界面での表面
反射光がゴーストホログラムを形成する。そして，この
ようなゴーストを有するホログラムをマスタホログラム
として，ホログラムを複製すれば，複製されたホログラ
ムには同様のゴーストホログラムが形成される。
光を入射する２光束法においても，同様に界面での表面
反射光がゴーストホログラムを形成する。そして，この
ようなゴーストを有するホログラムをマスタホログラム
として，ホログラムを複製すれば，複製されたホログラ
ムには同様のゴーストホログラムが形成される。
【０００６】このような，表面反射光によるゴーストの
発生を抑制するため幾つかの提案がなされている。例え
ば，図８に示すように，表面反射光を抑制するために界
面に無反射コートガラス９５を配置する第１の方法が提
案されている（特開平４−１９８９８１号公報参照）。
発生を抑制するため幾つかの提案がなされている。例え
ば，図８に示すように，表面反射光を抑制するために界
面に無反射コートガラス９５を配置する第１の方法が提
案されている（特開平４−１９８９８１号公報参照）。
【０００７】即ち，乾板９１の両側に屈折率調整液９２
を介して配置された光学ガラス９４の表面に無反射コー
トガラス９５を配置し，物体光３２及び参照光３１の表
面反射光３２２，３１２を抑制する。また，図７，図９
に示すように，参照光３１又は物体光３２の表面反射光
３１２，３２２が乾板９１に再入射しないようにするた
め，光路変更用のプリズム９６１，９６２を配置する第
２の方法が提案されている（特開平４−１９８９８０号
公報参照）。
を介して配置された光学ガラス９４の表面に無反射コー
トガラス９５を配置し，物体光３２及び参照光３１の表
面反射光３２２，３１２を抑制する。また，図７，図９
に示すように，参照光３１又は物体光３２の表面反射光
３１２，３２２が乾板９１に再入射しないようにするた
め，光路変更用のプリズム９６１，９６２を配置する第
２の方法が提案されている（特開平４−１９８９８０号
公報参照）。
【０００８】
【解決しようとする課題】しかしながら，表面反射光を
抑制するための上記第１，第２の方法には次のような問
題点がある。無反射コートガラスを設ける第１の方法
（図８）では，無反射コートガラスに対する入射角θが
大きくなると反射率が増大し，充分な効果が得られなく
なるという問題がある。
抑制するための上記第１，第２の方法には次のような問
題点がある。無反射コートガラスを設ける第１の方法
（図８）では，無反射コートガラスに対する入射角θが
大きくなると反射率が増大し，充分な効果が得られなく
なるという問題がある。
【０００９】また，プリズム９６１，９６２を用いて表
面反射光３１２，３２２が乾板９１に再入射しないよう
にする第２の方法（図７，図９）では，プリズム９６の
頂角α，βがかなり大きめになるためホログラムの製造
スペースが大きくなるという問題がある。本発明は，か
かる従来の問題点に鑑みて，界面の表面反射光によるゴ
ーストホログラムの発生を抑制することができ，かつ製
造スペースの大幅な増加を招くようなことのない，ホロ
グラムの製造方法を提供しようとするものである。
面反射光３１２，３２２が乾板９１に再入射しないよう
にする第２の方法（図７，図９）では，プリズム９６の
頂角α，βがかなり大きめになるためホログラムの製造
スペースが大きくなるという問題がある。本発明は，か
かる従来の問題点に鑑みて，界面の表面反射光によるゴ
ーストホログラムの発生を抑制することができ，かつ製
造スペースの大幅な増加を招くようなことのない，ホロ
グラムの製造方法を提供しようとするものである。
【００１０】
【課題の解決手段】本発明（請求項１の発明）は，頂角
ψ1 の第１プリズムと頂角ψ2 の第２プリズムとによっ
てホログラム形成用の乾板を両側より挟持し，第１プリ
ズム側から参照光を，第２プリズム側から物体光を上記
乾板に照射し，該乾板に干渉縞を形成するホログラムの
製造方法であって，上記参照光は，Ｐ偏光（電界方向が
入射面に平行）した光であり，上記第２プリズムと外気
との界面で乾板側に反射する参照光の表面反射光と第１
プリズムより入射して乾板に向かう参照光との間の角度
ａが直角に近い値となるよう，上記プリズムの頂角ψ
1 ，ψ2 と参照光の入射角θとの関係を定めてあること
を特徴とするホログラムの製造方法にある。
ψ1 の第１プリズムと頂角ψ2 の第２プリズムとによっ
てホログラム形成用の乾板を両側より挟持し，第１プリ
ズム側から参照光を，第２プリズム側から物体光を上記
乾板に照射し，該乾板に干渉縞を形成するホログラムの
製造方法であって，上記参照光は，Ｐ偏光（電界方向が
入射面に平行）した光であり，上記第２プリズムと外気
との界面で乾板側に反射する参照光の表面反射光と第１
プリズムより入射して乾板に向かう参照光との間の角度
ａが直角に近い値となるよう，上記プリズムの頂角ψ
1 ，ψ2 と参照光の入射角θとの関係を定めてあること
を特徴とするホログラムの製造方法にある。
【００１１】本発明において最も注目すべきことは，参
照光と物体光とは共にＰ偏光した光であり，第２プリズ
ムの界面で乾板側に反射する参照光の表面反射光と，第
１プリズムから入射して乾板に向かう参照光との間の角
度ａがほぼ直角となるようプリズムの頂角ψ1 ，ψ2 等
が選定されていることである。また，上記において「界
面」とは，乾板を含む屈折率のほぼ等しい光学物質（乾
板，屈折率調整液，コート材など）と屈折率の異なる外
気との境界面を言う（以下同じ）。また，Ｐ偏光とは，
電界方向が入射面に平行となるような偏光をいう。これ
に 対し，後述するＳ偏光とは，電界方向が入射面に垂直
となるような偏光をいう。
照光と物体光とは共にＰ偏光した光であり，第２プリズ
ムの界面で乾板側に反射する参照光の表面反射光と，第
１プリズムから入射して乾板に向かう参照光との間の角
度ａがほぼ直角となるようプリズムの頂角ψ1 ，ψ2 等
が選定されていることである。また，上記において「界
面」とは，乾板を含む屈折率のほぼ等しい光学物質（乾
板，屈折率調整液，コート材など）と屈折率の異なる外
気との境界面を言う（以下同じ）。また，Ｐ偏光とは，
電界方向が入射面に平行となるような偏光をいう。これ
に 対し，後述するＳ偏光とは，電界方向が入射面に垂直
となるような偏光をいう。
【００１２】上記角度ａは，抑制すべきノイズレベルに
より決められるが，ノイズレベルを５％以下とするため
に好ましくは９０°±２．８７°以内，より好ましくは
９０°±０．５７°以内であることが望ましい。角度ａ
が直角に近いほど，参照光の界面反射によるゴーストの
抑制効果は大きく，９０°±２．８７°以内ならば，５
％以下となり，９０°±０．５７°以内であれば，１％
以下となるからである。
より決められるが，ノイズレベルを５％以下とするため
に好ましくは９０°±２．８７°以内，より好ましくは
９０°±０．５７°以内であることが望ましい。角度ａ
が直角に近いほど，参照光の界面反射によるゴーストの
抑制効果は大きく，９０°±２．８７°以内ならば，５
％以下となり，９０°±０．５７°以内であれば，１％
以下となるからである。
【００１３】なお，本発明において，更に，物体光の第
１プリズムでの表面反射光と第２プリズムから入射した
物体光とのなす角度ｂについても，直角に近い値とする
ことが好ましい（第１改良発明）。その理由は，以下に
述べる通りである。
１プリズムでの表面反射光と第２プリズムから入射した
物体光とのなす角度ｂについても，直角に近い値とする
ことが好ましい（第１改良発明）。その理由は，以下に
述べる通りである。
【００１４】詳細を後述するように，本発明の製造方法
により製作したホログラムは，第１プリズムを配置した
面側から参照光を照射して得られる再生光には表面反射
光によるゴーストは含まれない。これに対して，更に，
上記第１改良発明のように構成すれば，反対側から参照
光を照射して得られる再生光にも表面反射光によるゴー
ストが含まれなくなるからである。
により製作したホログラムは，第１プリズムを配置した
面側から参照光を照射して得られる再生光には表面反射
光によるゴーストは含まれない。これに対して，更に，
上記第１改良発明のように構成すれば，反対側から参照
光を照射して得られる再生光にも表面反射光によるゴー
ストが含まれなくなるからである。
【００１５】また，本発明（又は第１改良発明）におい
て，上記２つのプリズムを，頂角が乾板の同一方向に位
置するよう配置すると共に，両頂角ψ1 ，ψ2 を等しく
することが好ましい（第２改良発明）。その理由は以下
に述べる通りである。
て，上記２つのプリズムを，頂角が乾板の同一方向に位
置するよう配置すると共に，両頂角ψ1 ，ψ2 を等しく
することが好ましい（第２改良発明）。その理由は以下
に述べる通りである。
【００１６】詳細を後述するように，第１プリズム２５
内に入射した光（屈折光）３１１が法線となす角度をθ
1 とすると，図４に示すように，上記入射光３１１が乾
板８１の法線となす角θ2 は頂角ψ1 だけシフトされ
（θ2 ＝θ1 ＋ψ1 ），第２プリズム２６の界面２６１
において上記入射光３１１が法線となす角度θ3 は，頂
角の和（ψ1 ＋ψ2 ）だけ増加する（θ3 ＝θ1 ＋ψ1
＋ψ2 ）。即ち，上記θ2 は頂角ψ1 だけシフトされ上
記θ3 は，頂角の和（ψ1 ＋ψ2 ）だけシフトされる。
内に入射した光（屈折光）３１１が法線となす角度をθ
1 とすると，図４に示すように，上記入射光３１１が乾
板８１の法線となす角θ2 は頂角ψ1 だけシフトされ
（θ2 ＝θ1 ＋ψ1 ），第２プリズム２６の界面２６１
において上記入射光３１１が法線となす角度θ3 は，頂
角の和（ψ1 ＋ψ2 ）だけ増加する（θ3 ＝θ1 ＋ψ1
＋ψ2 ）。即ち，上記θ2 は頂角ψ1 だけシフトされ上
記θ3 は，頂角の和（ψ1 ＋ψ2 ）だけシフトされる。
【００１７】また，反対方向から第２プリズム内に角度
θ1 ′で入射した光３２１についても同様である（頂角
ψ1 とψ2 とを入れ替えて，θ2 ′＝θ1 ′＋ψ2 ，θ
3 ′＝θ1 ′＋ψ1 ＋ψ2 ）。ここで，上記第２改良発
明のように，ψ1 ＝ψ2 とすれば，両プリズムは，乾板
の上下の一方向にのみ突出することなく乾板の両側にバ
ランス良く配置することができるからである。
θ1 ′で入射した光３２１についても同様である（頂角
ψ1 とψ2 とを入れ替えて，θ2 ′＝θ1 ′＋ψ2 ，θ
3 ′＝θ1 ′＋ψ1 ＋ψ2 ）。ここで，上記第２改良発
明のように，ψ1 ＝ψ2 とすれば，両プリズムは，乾板
の上下の一方向にのみ突出することなく乾板の両側にバ
ランス良く配置することができるからである。
【００１８】そして，詳細を後述するように，本発明
（及びその第１改良発明）によって製造されたホログラ
ムは，表面反射光によるゴーストの少ないホログラムと
なるから，このホログラムをマスタホログラムとして，
ゴーストの少ない複製ホログラムを簡素な光学系と少な
いスペースにより効率的に生産することができる。
（及びその第１改良発明）によって製造されたホログラ
ムは，表面反射光によるゴーストの少ないホログラムと
なるから，このホログラムをマスタホログラムとして，
ゴーストの少ない複製ホログラムを簡素な光学系と少な
いスペースにより効率的に生産することができる。
【００１９】なぜならば，マスタホログラムを用いて複
製ホログラムを製造する方法は，例えばレンズなどの他
の光学素子を用いてホログラムを製造する場合（図９参
照）に比べて製造スペースが少なくて済み，また複雑な
像を容易にホログラムに記録することができるという利
点があるからである。
製ホログラムを製造する方法は，例えばレンズなどの他
の光学素子を用いてホログラムを製造する場合（図９参
照）に比べて製造スペースが少なくて済み，また複雑な
像を容易にホログラムに記録することができるという利
点があるからである。
【００２０】即ち，ホログラムは薄板であるから，レン
ズその他の光学素子に比べてスペースを取らず，また複
雑な回折特性を備えていてもその大きさは変わらない。
一方，レンズ等の光学素子は，複雑な光学特性を実現す
る場合には，複数の光学素子を重ね合せるなど製造装置
が大形となり，また光学系が複雑となるから，良質のホ
ログラムを狭いスペースで製造することは困難である。
ズその他の光学素子に比べてスペースを取らず，また複
雑な回折特性を備えていてもその大きさは変わらない。
一方，レンズ等の光学素子は，複雑な光学特性を実現す
る場合には，複数の光学素子を重ね合せるなど製造装置
が大形となり，また光学系が複雑となるから，良質のホ
ログラムを狭いスペースで製造することは困難である。
【００２１】請求項１の発明によって製造されたマスタ
ホログラムを用いて，１光束法によりホログラムを製造
する方法には，例えば，請求項１の発明における上記第
１プリズムと同一頂角ψ1 を有する複製用プリズムを用
い，該複製用プリズムの頂角を形成する第１の面に複製
用乾板を配置し，頂角を形成する第２の面に上記マスタ
ホログラムを配置し，上記複製用プリズムの第１の面側
から，上記マスタホログラムを製造したのと同一の参照
光を同一の角度から照射し，該参照光と該参照光をマス
タホログラムで回折させた再生光とにより複製用乾板に
干渉縞を形成することを特徴とするホログラムの製造方
法がある（請求項１の発明をベースにした複製ホログラ
ムの製造方法）。
ホログラムを用いて，１光束法によりホログラムを製造
する方法には，例えば，請求項１の発明における上記第
１プリズムと同一頂角ψ1 を有する複製用プリズムを用
い，該複製用プリズムの頂角を形成する第１の面に複製
用乾板を配置し，頂角を形成する第２の面に上記マスタ
ホログラムを配置し，上記複製用プリズムの第１の面側
から，上記マスタホログラムを製造したのと同一の参照
光を同一の角度から照射し，該参照光と該参照光をマス
タホログラムで回折させた再生光とにより複製用乾板に
干渉縞を形成することを特徴とするホログラムの製造方
法がある（請求項１の発明をベースにした複製ホログラ
ムの製造方法）。
【００２２】この方法を採用すれば，請求項１の発明に
よりマスタホログラムを製造したのと同一の第１プリズ
ムを複製用プリズムとして用いることができると共に，
マスタホログラムを製造したのと同一参照光を同一の角
度から上記複製用プリズムに照射することにより複製ホ
ログラムを製造することができる。即ち，マスタホログ
ラムの製造条件と複製ホログラムの製造条件とは極めて
類似したものとすることができる。
よりマスタホログラムを製造したのと同一の第１プリズ
ムを複製用プリズムとして用いることができると共に，
マスタホログラムを製造したのと同一参照光を同一の角
度から上記複製用プリズムに照射することにより複製ホ
ログラムを製造することができる。即ち，マスタホログ
ラムの製造条件と複製ホログラムの製造条件とは極めて
類似したものとすることができる。
【００２３】このとき，マスタホログラムに対しては，
マスタホログラムを製造したのと同一の参照光が同一方
向から照射されるから，マスタホログラムの再生光は，
マスタホログラムの製造時の物体光と同一となる。そし
て，この再生光には表面反射光によるゴーストホログラ
ムノイズは，殆ど含まれず，極めて良質の物体光であ
る。従って，複製ホログラムの製造条件とマスタホログ
ラムの製造条件とは極めて類似し，マスタホログラムと
極めて類似性の高い複製ホログラムを製造することがで
る。
マスタホログラムを製造したのと同一の参照光が同一方
向から照射されるから，マスタホログラムの再生光は，
マスタホログラムの製造時の物体光と同一となる。そし
て，この再生光には表面反射光によるゴーストホログラ
ムノイズは，殆ど含まれず，極めて良質の物体光であ
る。従って，複製ホログラムの製造条件とマスタホログ
ラムの製造条件とは極めて類似し，マスタホログラムと
極めて類似性の高い複製ホログラムを製造することがで
る。
【００２４】なお，この複製ホログラムの製造方法にお
いて，複製用乾板の界面（外気側）に無反射コートガラ
スを設けることが好ましい。無反射コートガラスを設け
れば，マスタホログラムの再生光（物体光）が上記界面
で反射され，これがノイズ光となり複製ホログラムにゴ
ーストが形成されるのを抑制することができるからであ
る。
いて，複製用乾板の界面（外気側）に無反射コートガラ
スを設けることが好ましい。無反射コートガラスを設け
れば，マスタホログラムの再生光（物体光）が上記界面
で反射され，これがノイズ光となり複製ホログラムにゴ
ーストが形成されるのを抑制することができるからであ
る。
【００２５】また複製用乾板の界面には，λ／４波長板
を設けてもよい。この場合，マスタホログラムの再生光
は，λ／４波長板を往復することにより偏光方向が変わ
る（Ｓ偏光→Ｐ偏光，Ｐ偏光→Ｓ偏光）ため，界面での
表面反射光と再生光との間では干渉縞は形成されない。
ただし，この場合には，λ／４波長板に入射する参照光
は円偏光にすることが必要である。そして，λ／４波長
板を通過することにより，Ｐ偏光（又はＳ偏光）に変化
し複製用乾板に入射する。
を設けてもよい。この場合，マスタホログラムの再生光
は，λ／４波長板を往復することにより偏光方向が変わ
る（Ｓ偏光→Ｐ偏光，Ｐ偏光→Ｓ偏光）ため，界面での
表面反射光と再生光との間では干渉縞は形成されない。
ただし，この場合には，λ／４波長板に入射する参照光
は円偏光にすることが必要である。そして，λ／４波長
板を通過することにより，Ｐ偏光（又はＳ偏光）に変化
し複製用乾板に入射する。
【００２６】また，マスタホログラムの外気との界面に
は，λ／４波長板を設けることが好ましい。λ／４波長
板を設けることにより，Ｐ偏光（又はＳ偏光）した参照
光の表面反射光は，λ／４波長板を往復することになる
からＳ偏光（Ｓ偏光の場合はＰ偏光）した光となる。そ
の結果，上記表面反射光（Ｓ（Ｐ）偏光）と参照光（Ｐ
（Ｓ）偏光）との間で干渉縞を形成せず表面反射光によ
るゴーストホログラムが形成されないからである。
は，λ／４波長板を設けることが好ましい。λ／４波長
板を設けることにより，Ｐ偏光（又はＳ偏光）した参照
光の表面反射光は，λ／４波長板を往復することになる
からＳ偏光（Ｓ偏光の場合はＰ偏光）した光となる。そ
の結果，上記表面反射光（Ｓ（Ｐ）偏光）と参照光（Ｐ
（Ｓ）偏光）との間で干渉縞を形成せず表面反射光によ
るゴーストホログラムが形成されないからである。
【００２７】あるいは，上記λ／４波長板に替えてマス
タホログラムの界面（外気側）は光吸収膜を設けてもよ
い。光吸収膜を設ければ，マスタホログラムを透過した
参照光は界面で吸収される。その結果表面反射光は大幅
に減少し，複製ホログラムにゴーストが形成されるのを
抑制することができるからである。
タホログラムの界面（外気側）は光吸収膜を設けてもよ
い。光吸収膜を設ければ，マスタホログラムを透過した
参照光は界面で吸収される。その結果表面反射光は大幅
に減少し，複製ホログラムにゴーストが形成されるのを
抑制することができるからである。
【００２８】
【作用及び効果】次に，本発明の作用効果について述べ
る。本発明の製造方法では，図４に示すように，ホログ
ラムを形成する乾板８１の両側を第１，第２プリズム２
５，２６が挟持する。そして第１プリズム２５の頂角は
ψ1 であり，第２プリズム２６の頂角はψ2である。
る。本発明の製造方法では，図４に示すように，ホログ
ラムを形成する乾板８１の両側を第１，第２プリズム２
５，２６が挟持する。そして第１プリズム２５の頂角は
ψ1 であり，第２プリズム２６の頂角はψ2である。
【００２９】参照光３１は，第１プリズム２５から入射
し，第１プリズム２５内を乾板８１に向かう参照光３１
１の第１界面２５１における法線Ｎ1 との角度θ1 （屈
折角θ1 ）とすると，乾板８１への入射角θ2 は，（θ
1 ＋ψ1 ）である（第１プリズム２５の頂角を乾板の反
対側部に配置した場合はψ1 を負とする）。
し，第１プリズム２５内を乾板８１に向かう参照光３１
１の第１界面２５１における法線Ｎ1 との角度θ1 （屈
折角θ1 ）とすると，乾板８１への入射角θ2 は，（θ
1 ＋ψ1 ）である（第１プリズム２５の頂角を乾板の反
対側部に配置した場合はψ1 を負とする）。
【００３０】また，第２プリズム２６による第２界面２
６１への入射角θ3 は，（θ2 ＋ψ2 ），即ち（θ1 ＋
ψ1 ＋ψ2 ）である。そして，第２プリズム２６におけ
る参照光３１１の表面反射光３３と参照光３１１とのな
す角度ａは，２θ3 であるから，２（θ1 ＋ψ1 ＋ψ
2 ）である（ａ＝２（θ1 ＋ψ1 ＋ψ2 ））。
６１への入射角θ3 は，（θ2 ＋ψ2 ），即ち（θ1 ＋
ψ1 ＋ψ2 ）である。そして，第２プリズム２６におけ
る参照光３１１の表面反射光３３と参照光３１１とのな
す角度ａは，２θ3 であるから，２（θ1 ＋ψ1 ＋ψ
2 ）である（ａ＝２（θ1 ＋ψ1 ＋ψ2 ））。
【００３１】そして，上記角度ａは，直角（π／２）に
近いから， （ψ1 ＋ψ2 ）≒π／４−θ1 ・・・・・・・（１） である（なお，上記において≒は，近い値であることを
示す）。また，参照光３１はＰ偏光である。
近いから， （ψ1 ＋ψ2 ）≒π／４−θ1 ・・・・・・・（１） である（なお，上記において≒は，近い値であることを
示す）。また，参照光３１はＰ偏光である。
【００３２】そして，上記のように乾板８１に向かう参
照光３１１と表面反射光３３とは直角に近いから，両光
３１１，３３の電界の方向は直角に近くなり，干渉縞は
ほとんど形成されない。即ち，参照光３１の表面反射光
３３によるゴーストホログラムは，乾板８１に形成され
ない。なぜならば，２つのＰ偏光した光により干渉縞を
形成した場合，両者の造る干渉縞のコントラスト（強
度）は，両者の間の角度をΦとしたとき，ｃｏｓΦに比
例するからである。
照光３１１と表面反射光３３とは直角に近いから，両光
３１１，３３の電界の方向は直角に近くなり，干渉縞は
ほとんど形成されない。即ち，参照光３１の表面反射光
３３によるゴーストホログラムは，乾板８１に形成され
ない。なぜならば，２つのＰ偏光した光により干渉縞を
形成した場合，両者の造る干渉縞のコントラスト（強
度）は，両者の間の角度をΦとしたとき，ｃｏｓΦに比
例するからである。
【００３３】また，参照光３１１の乾板８１への入射角
θ2 （＝ψ1 ＋θ1 ）は，通常２０°〜５０°の間にあ
るから，（１）式より頂角ψ2 は，−５〜２５°位であ
り，頂角ψ1 ，ψ2 とも小さめの値に抑制することがで
きる。従って，プリズム２５，２６を設けても，製造ス
ペースが大幅に増加するようなことはない。上記のよう
に，第２発明によれば，参照光の界面での表面反射光に
よるゴーストホログラムの発生を抑制することができ，
また大きな製造スペースを必要としないホログラムの製
造方法を提供することができる。
θ2 （＝ψ1 ＋θ1 ）は，通常２０°〜５０°の間にあ
るから，（１）式より頂角ψ2 は，−５〜２５°位であ
り，頂角ψ1 ，ψ2 とも小さめの値に抑制することがで
きる。従って，プリズム２５，２６を設けても，製造ス
ペースが大幅に増加するようなことはない。上記のよう
に，第２発明によれば，参照光の界面での表面反射光に
よるゴーストホログラムの発生を抑制することができ，
また大きな製造スペースを必要としないホログラムの製
造方法を提供することができる。
【００３４】更に，前記第１改良発明のように，図４に
示す物体光３２の表面反射光３２２と乾板８１に向かう
物体光３２１とのなす角ｂ（＝２θ3 ′）を直角に近く
なるようにすれば，表面反射光３２２によるゴーストホ
ログラムも形成されなくなる。なお，上記第１改良発明
を満足させる条件式は，図４において， ψ1 ＋ψ2 ≒π／４−θ1 ′・・・・・・・（２） である（θ1 ′は，図４に示すように物体光３２１の第
２プリズム２６の界面２６１の法線に対する角度であ
る）。
示す物体光３２の表面反射光３２２と乾板８１に向かう
物体光３２１とのなす角ｂ（＝２θ3 ′）を直角に近く
なるようにすれば，表面反射光３２２によるゴーストホ
ログラムも形成されなくなる。なお，上記第１改良発明
を満足させる条件式は，図４において， ψ1 ＋ψ2 ≒π／４−θ1 ′・・・・・・・（２） である（θ1 ′は，図４に示すように物体光３２１の第
２プリズム２６の界面２６１の法線に対する角度であ
る）。
【００３５】
【実施例】実施例１
本発明の実施例にかかるホログラムの製造方法につい
て，図１，図２を用いて説明する。本例は，図１に示す
ように，等しい頂角ψの第１，第２プリズム２５，２６
をホログラム形成用の乾板８１の両側より挟持し，第１
プリズム２５側から参照光３１を第２プリズム２６から
物体光３２を，それぞれ乾板８１に照射し乾板８１に干
渉縞を形成するホログラムの製造方法である。
て，図１，図２を用いて説明する。本例は，図１に示す
ように，等しい頂角ψの第１，第２プリズム２５，２６
をホログラム形成用の乾板８１の両側より挟持し，第１
プリズム２５側から参照光３１を第２プリズム２６から
物体光３２を，それぞれ乾板８１に照射し乾板８１に干
渉縞を形成するホログラムの製造方法である。
【００３６】上記参照光３１は，Ｐ偏光した光である。
そして，第２プリズム２６の界面２６１で乾板８１側に
反射する参照光３１の表面反射光３１２と，第１プリズ
ム２５より入射して乾板８１に向かう参照光３１１との
間の角度ａが，図２に示すように，直角となるよう，上
記頂角ψと参照光３１１の入射角θとの関係を定めてあ
る。
そして，第２プリズム２６の界面２６１で乾板８１側に
反射する参照光３１の表面反射光３１２と，第１プリズ
ム２５より入射して乾板８１に向かう参照光３１１との
間の角度ａが，図２に示すように，直角となるよう，上
記頂角ψと参照光３１１の入射角θとの関係を定めてあ
る。
【００３７】乾板８１の両側には，屈折率調整液１２
１，１２２を介してプリズム２５，２６が配置されてい
る。参照光３１は，Ｐ偏光した光であり，第１プリズム
２５に入射角θで入射し，第１プリズム２５に屈折角θ
1 （図４）で進入する。
１，１２２を介してプリズム２５，２６が配置されてい
る。参照光３１は，Ｐ偏光した光であり，第１プリズム
２５に入射角θで入射し，第１プリズム２５に屈折角θ
1 （図４）で進入する。
【００３８】そして，第１プリズム２５に進入した透過
光３１１は乾板８１に入射角θ2 （＝θ1 ＋ψ）で入射
し，第２プリズム２６の界面２６１に入射角θ3 （＝θ
1 ＋２ψ）で入射する（図４参照）。界面２６１で反射
された表面反射光３１２は，反射角θ3 で乾板８１に向
かって逆進する。
光３１１は乾板８１に入射角θ2 （＝θ1 ＋ψ）で入射
し，第２プリズム２６の界面２６１に入射角θ3 （＝θ
1 ＋２ψ）で入射する（図４参照）。界面２６１で反射
された表面反射光３１２は，反射角θ3 で乾板８１に向
かって逆進する。
【００３９】表面反射光３１２と参照光３１の透過光３
１１との間の角度ａは，上記２θ3に等しくその値はπ
／２である。 ａ＝２θ3 ＝２（θ1 ＋２ψ）＝π／２・・・・・・・（３） 従って， ψ＝π／８−θ1 ／２・・・・・・・（４） である。
１１との間の角度ａは，上記２θ3に等しくその値はπ
／２である。 ａ＝２θ3 ＝２（θ1 ＋２ψ）＝π／２・・・・・・・（３） 従って， ψ＝π／８−θ1 ／２・・・・・・・（４） である。
【００４０】表面反射光３１２と参照光３１の透過光３
１１との角度は直角であり，またＰ偏光した光であるか
ら，乾板８１に両光３１１，１１２による干渉縞は形成
されない。即ち，表面反射光３１２によるゴーストホロ
グラムは，乾板８１に形成されない。
１１との角度は直角であり，またＰ偏光した光であるか
ら，乾板８１に両光３１１，１１２による干渉縞は形成
されない。即ち，表面反射光３１２によるゴーストホロ
グラムは，乾板８１に形成されない。
【００４１】次に本例における第２プリズム２６の大き
さを，従来の第２方法（図７）におけるプリズムと比較
する。図７に示すプリズム９６１の頂角をαとすると，
図７に示すように，表面反射光３１２が乾板８１に入射
しないようにするための条件は，（２θ3 ＋２α）がπ
以上となることである。 ２θ3 ＋２α≧π・・・・・・・（５）
さを，従来の第２方法（図７）におけるプリズムと比較
する。図７に示すプリズム９６１の頂角をαとすると，
図７に示すように，表面反射光３１２が乾板８１に入射
しないようにするための条件は，（２θ3 ＋２α）がπ
以上となることである。 ２θ3 ＋２α≧π・・・・・・・（５）
【００４２】そして，図７においてθ3 ＝θ1 ＋ψ＋α
であり，図１のψは（４）式で示されるから， α≧３／１６π−θ1 ／４・・・・・・・（６） である。従って， α−ψ≧π／１６＋θ1 ／４・・・・・・（７） 即ち，α＞ψとなり，従来の第２方法におけるプリズム
９６１より，本例の第２プリズム２６はより小形化する
ことができる。上記のように，本例によれば，参照光の
表面反射光によるゴーストホログラムの発生を抑制する
ことができ，かつ製造スペースの増加を招くようなこと
がないホログラムの製造方法を提供することができる。
であり，図１のψは（４）式で示されるから， α≧３／１６π−θ1 ／４・・・・・・・（６） である。従って， α−ψ≧π／１６＋θ1 ／４・・・・・・（７） 即ち，α＞ψとなり，従来の第２方法におけるプリズム
９６１より，本例の第２プリズム２６はより小形化する
ことができる。上記のように，本例によれば，参照光の
表面反射光によるゴーストホログラムの発生を抑制する
ことができ，かつ製造スペースの増加を招くようなこと
がないホログラムの製造方法を提供することができる。
【００４３】実施例２
本例は，実施例１の製造方法により製造したホログラム
をマスタホログラムとして複製ホログラムを製造するも
う１つの実施例である。本例は，図１に示したホログラ
ムの製造方法により製造されたホログラムをマスタホロ
グラム８３として，図３に示すように，前記第１プリズ
ム２５（図１）と同一頂角ψを有する複製用プリズム２
７を用い，プリズム２７の頂角を形成する第１の面２７
１に複製用乾板８２を配置し，頂角を形成する第２の面
２７２にマスタホログラム８３を配置する。
をマスタホログラムとして複製ホログラムを製造するも
う１つの実施例である。本例は，図１に示したホログラ
ムの製造方法により製造されたホログラムをマスタホロ
グラム８３として，図３に示すように，前記第１プリズ
ム２５（図１）と同一頂角ψを有する複製用プリズム２
７を用い，プリズム２７の頂角を形成する第１の面２７
１に複製用乾板８２を配置し，頂角を形成する第２の面
２７２にマスタホログラム８３を配置する。
【００４４】そして，複製用プリズム２７の第１面２７
１側から，図１に示すようにマスタホログラム８３を製
造したのと同一参照光３１（Ｐ偏光，あるいはＳ偏光で
もよい）を図１と同一の角度から照射し，この参照光３
１をマスタホログラム８３で反射させた再生光３４と上
記参照光３１とにより複製用乾板８２に干渉縞を形成す
るホログラムの製造方法である。
１側から，図１に示すようにマスタホログラム８３を製
造したのと同一参照光３１（Ｐ偏光，あるいはＳ偏光で
もよい）を図１と同一の角度から照射し，この参照光３
１をマスタホログラム８３で反射させた再生光３４と上
記参照光３１とにより複製用乾板８２に干渉縞を形成す
るホログラムの製造方法である。
【００４５】そして，上記マスタホログラム８３の界面
８３１には，界面８３１における表面反射光３３３を抑
制するために光吸収膜（又は無反射コートガラス）１５
を配置してある。また，プリズム２７と乾板８２及びマ
スタホログラム８３との間，並びにマスタホログラム８
３と光吸収膜（又は無反射コートガラス）１５との間に
は，屈折率調整液１２１，１２２，１２３を介在させて
ある。
８３１には，界面８３１における表面反射光３３３を抑
制するために光吸収膜（又は無反射コートガラス）１５
を配置してある。また，プリズム２７と乾板８２及びマ
スタホログラム８３との間，並びにマスタホログラム８
３と光吸収膜（又は無反射コートガラス）１５との間に
は，屈折率調整液１２１，１２２，１２３を介在させて
ある。
【００４６】図１と同様の参照光３１を照射するから，
マスタホログラム８３の再生光３４は，図１に示す物体
光３２と全く同様の再生光３４となる。従って，図３に
は図１に示す製造条件とほぼ同一の製造条件が再現さ
れ，複製用乾板８２には，ゴーストホログラムの少ない
マスタホログラム８３と同様のホログラムが形成され
る。
マスタホログラム８３の再生光３４は，図１に示す物体
光３２と全く同様の再生光３４となる。従って，図３に
は図１に示す製造条件とほぼ同一の製造条件が再現さ
れ，複製用乾板８２には，ゴーストホログラムの少ない
マスタホログラム８３と同様のホログラムが形成され
る。
【００４７】そして，光学吸収膜１５により表面反射光
３３３は吸収されるから，表面反射光３３３によるゴー
ストホログラムを抑制することができる。また，複製用
プリズム２７は，第１又は第２プリズム２５，２６をそ
のまま使用することができるばかりでなく，参照光３１
を照射する光学系もそっくり利用できるから，マスタホ
ログラムの製造と複製ホログラムの製造との間には，多
くの設備を共用することができる。従って，設備の利用
効率が高い。
３３３は吸収されるから，表面反射光３３３によるゴー
ストホログラムを抑制することができる。また，複製用
プリズム２７は，第１又は第２プリズム２５，２６をそ
のまま使用することができるばかりでなく，参照光３１
を照射する光学系もそっくり利用できるから，マスタホ
ログラムの製造と複製ホログラムの製造との間には，多
くの設備を共用することができる。従って，設備の利用
効率が高い。
【００４８】また，製造条件の同一性が確実に担保さ
れ，良好な複製ホログラムを得ることができる。また，
マスタホログラムを複製するから製造スペースも小さく
て済む（図３に示す構成は図１，図７，図８に比較して
大幅に省スペースである）。上記のように，本例によれ
ば，少ない製造スペースにおいて，マスタホログラムか
ら極めて同一性の高い良質の複製ホログラムを製造する
ことができる。
れ，良好な複製ホログラムを得ることができる。また，
マスタホログラムを複製するから製造スペースも小さく
て済む（図３に示す構成は図１，図７，図８に比較して
大幅に省スペースである）。上記のように，本例によれ
ば，少ない製造スペースにおいて，マスタホログラムか
ら極めて同一性の高い良質の複製ホログラムを製造する
ことができる。
【００４９】実施例３
本例は，実施例２（図３）において，マスタホログラム
８３の界面８３１には，光吸収膜１５に替えてλ／４波
長板を配置したもう１つの実施例である。本例は実施例
２と同様に参照光３１はＰ偏光した光であり，図３にお
いて，光吸収膜１５の代わりにλ／４波長板を設けてあ
る。従って，表面反射光３３３はλ／４波長板を往復し
てＳ偏光した光となる。
８３の界面８３１には，光吸収膜１５に替えてλ／４波
長板を配置したもう１つの実施例である。本例は実施例
２と同様に参照光３１はＰ偏光した光であり，図３にお
いて，光吸収膜１５の代わりにλ／４波長板を設けてあ
る。従って，表面反射光３３３はλ／４波長板を往復し
てＳ偏光した光となる。
【００５０】それ故，表面反射光３３３は，Ｐ偏光であ
る参照光３１との間に干渉膜を形成しない。従って，表
面反射光３３３によるゴーストホログラムは，複製用乾
板８２に形成されない。その他については，実施例２と
同様である。
る参照光３１との間に干渉膜を形成しない。従って，表
面反射光３３３によるゴーストホログラムは，複製用乾
板８２に形成されない。その他については，実施例２と
同様である。
【図１】実施例１のホログラムの製造方法のシステム構
成図（２光束法）。
成図（２光束法）。
【図２】図１のＡ矢視部拡大図。
【図３】実施例２のホログラムの製造方法のシステム構
成図（１光束法）。
成図（１光束法）。
【図４】本発明の補足説明用のシステム構成図。
【図５】従来のホログラムの製造方法の説明図。
【図６】図５の方法により製造されたゴーストホログラ
ムの例。
ムの例。
【図７】従来の改良されたホログラムの製造方法（第２
方法）。
方法）。
【図８】従来の改良されたホログラムの製造方法（第１
方法）。
方法）。
【図９】従来の改良されたホログラムの製造方法（他の
第２方法）。
第２方法）。
【符号の説明】２５．．．第１プリズム
，２６．．．第２プリズム，８
１．．．乾板，
１．．．乾板，
フロントページの続き
(72)発明者 市川 吉克
愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 日本
電装株式会社内
(56)参考文献 特開 平４−329585（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G03H 1/04
Claims (5)
- 【請求項１】 頂角ψ1の第１プリズムと頂角ψ2の第２
プリズムとによってホログラム形成用の乾板を両側より
挟持し，第１プリズム側から参照光を，第２プリズム側
から物体光を上記乾板に照射し，該乾板に干渉縞を形成
するホログラムの製造方法であって， 上記参照光は，Ｐ偏光（電界方向が入射面に平行）した
光であり，上記第２プリズムと外気との界面で乾板側に
反射する参照光の表面反射光と第１プリズムより入射し
て乾板に向かう参照光との間の角度ａが直角に近い値と
なるよう，上記プリズムの頂角ψ1，ψ2と参照光の入射
角θとの関係を定めてあることを特徴とするホログラム
の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１において，更に上記物体光もＰ
偏光した光であり，第１プリズムと外気との界面から乾
板側に反射する物体光の表面反射光と第２プリズムより
入射した物体光とのなす角度ｂが直角に近い値となるよ
う上記プリズムの頂角ψ1，ψ2と参照光及び物体光の入
射角θ，θ′とを選定してあることを特徴とするホログ
ラムの製造方法。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２において，上記第
１頂角ψ1と第２頂角ψ2とは同一角度であると共に，両
頂角が乾板の同一側方に位置するようプリズムが乾板を
挟持していることを特徴とするホログラムの製造方法。 - 【請求項４】 乾板に入射する参照光と，乾板を透過し
た上記参照光のマスタホログラムでの再生光とにより，
上記乾板に干渉縞を形成し，マスタホログラムを複製す
るホログラムの製造方法であって， 上記マスタホログラムは，請求項１又は請求項３の製造
方法により製造されたホログラムであり， 上記マスタホログラムを複製するに当っては，上記第１
プリズムと同一頂角ψ 1 を有する複製用プリズムを用
い，該複製用プリズムの頂角を形成する第１の面に複製
用乾板を配置し，頂角を形成する第２の面に上記マスタ
ホログラムを配置し， 複製用プリズムの第１の面側から上記マスタホログラム
を製造したのと同一の参照光を同一の角度から照射し，
該参照光と該参照光をマスタホログラムで回折 ，反射さ
せた再生光とにより複製用乾板に干渉縞を形成する こと
を特徴とするホログラムの製造方法。 - 【請求項５】 請求項４において，上記マスタホログラ
ムの外気との界面には，λ／４波長板又は光吸収膜を配
置してあることを特徴とするホログラムの製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP04501994A JP3453836B2 (ja) | 1994-02-18 | 1994-02-18 | ホログラムの製造方法 |
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|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|
| JP2002356768A Division JP3558076B2 (ja) | 2002-12-09 | 2002-12-09 | ホログラムの製造方法 |
Publications (2)
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|---|---|
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| JP (1) | JP3453836B2 (ja) |
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| US7077984B1 (en) | 1996-07-12 | 2006-07-18 | Science Applications International Corporation | Electrically switchable polymer-dispersed liquid crystal materials |
| US6821457B1 (en) | 1998-07-29 | 2004-11-23 | Science Applications International Corporation | Electrically switchable polymer-dispersed liquid crystal materials including switchable optical couplers and reconfigurable optical interconnects |
| US6327084B1 (en) * | 1997-06-30 | 2001-12-04 | Central Glass Company, Limited | Display system where polarized light impinges on platelike laminate at brewster's angle or emerges therefrom at angle equal thereto |
| WO2001013181A1 (en) * | 1999-06-11 | 2001-02-22 | Holtronic Technologies Plc | Method and apparatus for recording a hologram from a mask pattern by the use of total internal reflection holography and hologram manufactured by the method |
| US6730442B1 (en) | 2000-05-24 | 2004-05-04 | Science Applications International Corporation | System and method for replicating volume holograms |
| JP4553223B2 (ja) * | 2000-12-06 | 2010-09-29 | 大日本印刷株式会社 | 透過型ホログラム原版の撮影方法 |
| US6576407B2 (en) * | 2001-04-25 | 2003-06-10 | Macronix International Co. Ltd. | Method of improving astigmatism of a photoresist layer |
| US6712121B2 (en) * | 2001-10-12 | 2004-03-30 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Antimicrobially-treated fabrics |
| US7619739B1 (en) | 2002-08-29 | 2009-11-17 | Science Applications International Corporation | Detection and identification of biological agents using Bragg filters |
| US7018563B1 (en) | 2002-11-26 | 2006-03-28 | Science Applications International Corporation | Tailoring material composition for optimization of application-specific switchable holograms |
| JP4156911B2 (ja) * | 2002-12-02 | 2008-09-24 | 新オプトウエア株式会社 | 光情報記録媒体、光情報記録装置および光情報再生装置 |
| WO2004070714A1 (ja) * | 2003-02-06 | 2004-08-19 | Optware Corporation | 光情報記録媒体 |
| US6950173B1 (en) | 2003-04-08 | 2005-09-27 | Science Applications International Corporation | Optimizing performance parameters for switchable polymer dispersed liquid crystal optical elements |
| JP4316960B2 (ja) * | 2003-08-22 | 2009-08-19 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 装置 |
| JP2005091480A (ja) * | 2003-09-12 | 2005-04-07 | Nitto Denko Corp | 異方性フィルムの製造方法 |
| JP4341904B2 (ja) * | 2003-09-12 | 2009-10-14 | 日東電工株式会社 | 異方性フィルムの製造方法 |
| JP2005292765A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-10-20 | Samsung Electronics Co Ltd | ホログラムメモリ媒体および記録装置、再生装置 |
| GB0718706D0 (en) | 2007-09-25 | 2007-11-07 | Creative Physics Ltd | Method and apparatus for reducing laser speckle |
| KR20090080334A (ko) * | 2008-01-21 | 2009-07-24 | 삼성전자주식회사 | 홀로그래픽 정보 저장매체와, 이를 이용한 홀로그래픽 정보기록/재생 장치 및 방법 |
| US9335604B2 (en) | 2013-12-11 | 2016-05-10 | Milan Momcilo Popovich | Holographic waveguide display |
| US11726332B2 (en) | 2009-04-27 | 2023-08-15 | Digilens Inc. | Diffractive projection apparatus |
| US10795160B1 (en) | 2014-09-25 | 2020-10-06 | Rockwell Collins, Inc. | Systems for and methods of using fold gratings for dual axis expansion |
| US8233204B1 (en) | 2009-09-30 | 2012-07-31 | Rockwell Collins, Inc. | Optical displays |
| US11300795B1 (en) | 2009-09-30 | 2022-04-12 | Digilens Inc. | Systems for and methods of using fold gratings coordinated with output couplers for dual axis expansion |
| US11320571B2 (en) | 2012-11-16 | 2022-05-03 | Rockwell Collins, Inc. | Transparent waveguide display providing upper and lower fields of view with uniform light extraction |
| US8659826B1 (en) | 2010-02-04 | 2014-02-25 | Rockwell Collins, Inc. | Worn display system and method without requiring real time tracking for boresight precision |
| JP5487085B2 (ja) * | 2010-11-25 | 2014-05-07 | 日立コンシューマエレクトロニクス株式会社 | 情報記録方法、情報再生方法及び光ディスク装置 |
| US8703363B2 (en) * | 2011-02-16 | 2014-04-22 | Sabic Innovative Plastic Ip B.V. | Reflection hologram storage method |
| US9274349B2 (en) | 2011-04-07 | 2016-03-01 | Digilens Inc. | Laser despeckler based on angular diversity |
| EP2748670B1 (en) | 2011-08-24 | 2015-11-18 | Rockwell Collins, Inc. | Wearable data display |
| US10670876B2 (en) | 2011-08-24 | 2020-06-02 | Digilens Inc. | Waveguide laser illuminator incorporating a despeckler |
| WO2016020630A2 (en) | 2014-08-08 | 2016-02-11 | Milan Momcilo Popovich | Waveguide laser illuminator incorporating a despeckler |
| US9599813B1 (en) | 2011-09-30 | 2017-03-21 | Rockwell Collins, Inc. | Waveguide combiner system and method with less susceptibility to glare |
| US9715067B1 (en) | 2011-09-30 | 2017-07-25 | Rockwell Collins, Inc. | Ultra-compact HUD utilizing waveguide pupil expander with surface relief gratings in high refractive index materials |
| US8634139B1 (en) | 2011-09-30 | 2014-01-21 | Rockwell Collins, Inc. | System for and method of catadioptric collimation in a compact head up display (HUD) |
| US9366864B1 (en) | 2011-09-30 | 2016-06-14 | Rockwell Collins, Inc. | System for and method of displaying information without need for a combiner alignment detector |
| US20150010265A1 (en) | 2012-01-06 | 2015-01-08 | Milan, Momcilo POPOVICH | Contact image sensor using switchable bragg gratings |
| US9523852B1 (en) | 2012-03-28 | 2016-12-20 | Rockwell Collins, Inc. | Micro collimator system and method for a head up display (HUD) |
| CN106125308B (zh) | 2012-04-25 | 2019-10-25 | 罗克韦尔柯林斯公司 | 用于显示图像的装置和方法 |
| US9933684B2 (en) * | 2012-11-16 | 2018-04-03 | Rockwell Collins, Inc. | Transparent waveguide display providing upper and lower fields of view having a specific light output aperture configuration |
| US9674413B1 (en) | 2013-04-17 | 2017-06-06 | Rockwell Collins, Inc. | Vision system and method having improved performance and solar mitigation |
| WO2015015138A1 (en) | 2013-07-31 | 2015-02-05 | Milan Momcilo Popovich | Method and apparatus for contact image sensing |
| US9244281B1 (en) | 2013-09-26 | 2016-01-26 | Rockwell Collins, Inc. | Display system and method using a detached combiner |
| US10732407B1 (en) | 2014-01-10 | 2020-08-04 | Rockwell Collins, Inc. | Near eye head up display system and method with fixed combiner |
| US9519089B1 (en) | 2014-01-30 | 2016-12-13 | Rockwell Collins, Inc. | High performance volume phase gratings |
| US9244280B1 (en) | 2014-03-25 | 2016-01-26 | Rockwell Collins, Inc. | Near eye display system and method for display enhancement or redundancy |
| US10359736B2 (en) | 2014-08-08 | 2019-07-23 | Digilens Inc. | Method for holographic mastering and replication |
| US10241330B2 (en) | 2014-09-19 | 2019-03-26 | Digilens, Inc. | Method and apparatus for generating input images for holographic waveguide displays |
| US9715110B1 (en) | 2014-09-25 | 2017-07-25 | Rockwell Collins, Inc. | Automotive head up display (HUD) |
| US10088675B1 (en) | 2015-05-18 | 2018-10-02 | Rockwell Collins, Inc. | Turning light pipe for a pupil expansion system and method |
| CN104267591A (zh) * | 2014-09-27 | 2015-01-07 | 郑敏 | 基于三次曝光技术消色差的方法 |
| EP3245444B1 (en) | 2015-01-12 | 2021-09-08 | DigiLens Inc. | Environmentally isolated waveguide display |
| US9632226B2 (en) | 2015-02-12 | 2017-04-25 | Digilens Inc. | Waveguide grating device |
| US11366316B2 (en) | 2015-05-18 | 2022-06-21 | Rockwell Collins, Inc. | Head up display (HUD) using a light pipe |
| US10126552B2 (en) | 2015-05-18 | 2018-11-13 | Rockwell Collins, Inc. | Micro collimator system and method for a head up display (HUD) |
| US10247943B1 (en) | 2015-05-18 | 2019-04-02 | Rockwell Collins, Inc. | Head up display (HUD) using a light pipe |
| US10108010B2 (en) | 2015-06-29 | 2018-10-23 | Rockwell Collins, Inc. | System for and method of integrating head up displays and head down displays |
| EP3359999A1 (en) | 2015-10-05 | 2018-08-15 | Popovich, Milan Momcilo | Waveguide display |
| US10598932B1 (en) | 2016-01-06 | 2020-03-24 | Rockwell Collins, Inc. | Head up display for integrating views of conformally mapped symbols and a fixed image source |
| EP3433659A1 (en) | 2016-03-24 | 2019-01-30 | DigiLens, Inc. | Method and apparatus for providing a polarization selective holographic waveguide device |
| JP6734933B2 (ja) | 2016-04-11 | 2020-08-05 | ディジレンズ インコーポレイテッド | 構造化光投影のためのホログラフィック導波管装置 |
| WO2018102834A2 (en) | 2016-12-02 | 2018-06-07 | Digilens, Inc. | Waveguide device with uniform output illumination |
| US10545346B2 (en) | 2017-01-05 | 2020-01-28 | Digilens Inc. | Wearable heads up displays |
| US10295824B2 (en) | 2017-01-26 | 2019-05-21 | Rockwell Collins, Inc. | Head up display with an angled light pipe |
| CN111386495B (zh) | 2017-10-16 | 2022-12-09 | 迪吉伦斯公司 | 用于倍增像素化显示器的图像分辨率的系统和方法 |
| WO2019136476A1 (en) | 2018-01-08 | 2019-07-11 | Digilens, Inc. | Waveguide architectures and related methods of manufacturing |
| US10732569B2 (en) | 2018-01-08 | 2020-08-04 | Digilens Inc. | Systems and methods for high-throughput recording of holographic gratings in waveguide cells |
| US20190250561A1 (en) * | 2018-02-15 | 2019-08-15 | North Inc. | Systems, devices, and methods for side lobe control in holograms |
| US11402801B2 (en) | 2018-07-25 | 2022-08-02 | Digilens Inc. | Systems and methods for fabricating a multilayer optical structure |
| CN113692544A (zh) | 2019-02-15 | 2021-11-23 | 迪吉伦斯公司 | 使用集成光栅提供全息波导显示的方法和装置 |
| KR20210134763A (ko) | 2019-03-12 | 2021-11-10 | 디지렌즈 인코포레이티드. | 홀로그래픽 도파관 백라이트 및 관련된 제조 방법 |
| KR20220016990A (ko) | 2019-06-07 | 2022-02-10 | 디지렌즈 인코포레이티드. | 투과 및 반사 격자를 통합하는 도파관 및 관련 제조 방법 |
| EP4004646A4 (en) | 2019-07-29 | 2023-09-06 | Digilens Inc. | METHODS AND APPARATUS FOR MULTIPLYING THE IMAGE RESOLUTION AND FIELD OF VIEW OF A PIXELATED DISPLAY SCREEN |
| EP4022370A4 (en) | 2019-08-29 | 2023-08-30 | Digilens Inc. | VACUUM BRAGG GRATINGS AND METHODS OF MANUFACTURING |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2140408A1 (de) * | 1971-08-12 | 1973-03-01 | Ibm Deutschland | Verfahren zur herstellung von hologrammen |
| US4691994A (en) * | 1981-10-06 | 1987-09-08 | Afian Viktor V | Method for a solar concentrator manufacturing |
| JPS6468784A (en) * | 1987-09-10 | 1989-03-14 | Fujitsu Ltd | Duplicating method for hologram |
| JPH02140787A (ja) * | 1988-11-22 | 1990-05-30 | Fujitsu Ltd | ホログラムの作成方法 |
| JPH04198981A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-20 | Yazaki Corp | ホログラフィックヘッドアップディスプレイ用ホログラムの製造方法 |
| JPH04198980A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-20 | Yazaki Corp | ホログラフィックヘッドアップディスプレイ |
| US5103232A (en) * | 1991-04-18 | 1992-04-07 | Raytheon Company | Phase quantization error decorrelator for phased array antenna |
| JPH04329585A (ja) * | 1991-05-01 | 1992-11-18 | Nippondenso Co Ltd | 光学素子コピー用反射型ホログラム乾板製造装置 |
| JP3321849B2 (ja) * | 1991-10-09 | 2002-09-09 | 株式会社デンソー | ホログラム |
-
1994
- 1994-02-18 JP JP04501994A patent/JP3453836B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-02-16 US US08/389,321 patent/US5648857A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5648857A (en) | 1997-07-15 |
| JPH07230243A (ja) | 1995-08-29 |
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