JP3451008B2 - Thermal head - Google Patents
Thermal headInfo
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- JP3451008B2 JP3451008B2 JP35528897A JP35528897A JP3451008B2 JP 3451008 B2 JP3451008 B2 JP 3451008B2 JP 35528897 A JP35528897 A JP 35528897A JP 35528897 A JP35528897 A JP 35528897A JP 3451008 B2 JP3451008 B2 JP 3451008B2
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- Japan
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- individual electrode
- thermal head
- glaze layer
- electrode wiring
- protective film
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Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はワードプロセッサや
ファクシミリ等のプリンタ機構として組み込まれるサー
マルヘッドの改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、ワードプロセッサ等のプリンタ機
構として組み込まれるサーマルヘッドは、アルミナ等か
ら成るセラミック基板の上面に、断面山状を成したガラ
ス製のグレーズ層を部分的に形成し、該グレーズ層の頂
部に複数個の発熱素子を、前記グレーズ層上からセラミ
ック基板の表面にかけて前記発熱素子に個々に電気的に
接続される複数個の個別電極配線を平行に形成するとと
もに、これら発熱素子及び個別電極配線を更に窒化珪素
等から成る保護膜によって被覆した構造を有しており、
感熱記録媒体を前記発熱素子の配列と略直交する方向に
搬送し感熱記録媒体を発熱素子列上の保護膜表面に摺接
させながら、個別電極配線等を介して発熱素子に電力を
印加し、発熱素子を個々に選択的にジュール発熱させる
とともに該発熱した熱でもって感熱記録媒体に印画を形
成することによりサーマルヘッドとして機能する。
【0003】尚、前記グレーズ層は発熱素子の発する熱
を適当な温度となるように蓄積及び放散してサーマルヘ
ッドの熱応答特性を良好に保つためのものであり、例え
ば、所定のガラスペーストをセラミック基板の上面所定
領域に従来周知のスクリーン印刷等によって20〜60μm
の厚みに塗布し、これを高温で焼き付けることによって
部分的に形成される。このようなグレーズ層の表面は中
心線平均粗さRaで50〜 150Å程度の平滑面となる。
【0004】また上述したサーマルヘッドのセラミック
基板としては、一般に、表面平滑性が比較的低いもの、
具体的には、表面粗さが中心線平均粗さRaで0.2 〜0.
4 μm程度のものが最もよく使用されている。ところ
が、このようなセラミック基板の表面には直径30〜40μ
m、深さ 5〜10μm程度の窪みが多数形成されているこ
とから、厚み0.5 〜2.0 μm程度の薄い個別電極配線を
従来周知のフォトリソグラフィー技術等によってパター
ニングしようとすると、フォトレジスト層の厚みが、グ
レーズ層の被着領域では略一定となるものの、それ以外
の領域では前述した窪みの影響により不均一になってし
まい、その結果、フォトレジスト層への露光不足等が生
じて隣接する個別電極配線同士が短絡を起こすことがあ
った。このため、従来のサーマルヘッドにおいては、例
えば、図7に示す如く、個別電極配線14の所定箇所、
具体的には、グレーズ層12のエッジ付近に括れ部Aを
設け、セラミック基板11上に直に被着される個別電極
配線14の線幅を細くなすことにより隣接する個別電極
配線間の間隔を広げ、短絡の発生を防止するようにして
いた。尚、このようなサーマルヘッドにおいてグレーズ
層12上の個別電極配線14を幅広に形成するのは個別
電極配線14の配線抵抗を出来るだけ小さくするためで
あった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来のサーマルヘッドによれば、各個別電極配線13の括
れ部Aがグレーズ層12のエッジに沿って一直線状に配
置されおり、このような括れ部Aの、特に角部上に形成
される保護膜には内部応力が集中し易い。このため、前
記保護膜に感熱記録媒体の摺接や異物の噛み込み等によ
って外力が印加されると、前記保護膜には括れ部Aの配
列に沿った亀裂が生じて保護膜としての機能を喪失する
ことがあり、その場合、サーマルヘッドの使用が不可と
なる欠点を有していた。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上記欠点に鑑み
案出されたもので、本発明のサーマルヘッドは、セラミ
ック基板上にグレーズ層を部分的に形成し、該グレーズ
層の頂部に複数個の発熱素子を、前記グレーズ層上から
セラミック基板の表面にかけて前記発熱素子に個々に電
気的に接続される複数個の個別電極配線を平行に形成す
るとともに、これら発熱素子及び個別電極配線を保護膜
により被覆してなるサーマルヘッドにおいて、前記個別
電極配線は、その一部に線幅を細くなす括れ部を有して
おり、該括れ部がグレーズ層のエッジに沿って千鳥状に
配列されていることを特徴とするものである。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明のサーマルヘッドを
添付図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明のサ
ーマルヘッドの一形態を示す断面図、図2は図1のサー
マルヘッドの上面を示す要部拡大図であり、1はセラミ
ック基板、2はグレーズ層、3は発熱素子、5は個別電
極配線、6は保護膜、Aは各個別電極配線5の途中に設
けた括れ部である。
【0008】前記セラミック基板1はアルミナ等のセラ
ミック材料から成り、その上面でグレーズ層2や発熱抵
抗体3,共通電極配線4,個別電極配線5,保護層6等
を支持するための支持母材としての作用を為す。
【0009】前記セラミック基板1は、例えばアルミナ
から成る場合、アルミナ、シリカ、マグネシア等のセラ
ミックス原料粉末に適当な有機溶剤、溶媒を添加混合し
て泥漿状と成すとともにこれを従来周知のドクターブレ
ード法やカレンダーロール法等を採用することによって
セラミックグリーンシートを形成し、しかる後、前記セ
ラミックグリーンシートを所定形状に打ち抜き加工する
とともに高温で焼成することにより製作される。尚、こ
のようにして得られるセラミック基板1の表面粗さは中
心線平均粗さRaで0.2 〜0.4 μm程度となり、その表
面には直径30〜40μm、深さ 5〜10μm程度の窪みが多
数形成されることとなる。
【0010】また前記セラミック基板1の上面には断面
山状のグレーズ層2が部分的に被着・形成される。前記
グレーズ層2はガラス等の低熱伝導性材料によって20〜
60μmの厚みに形成されているため、発熱素子3の発す
る熱を蓄積及び放散してサーマルヘッドの熱応答特性を
良好な状態に維持するとともに、その頂部に配置される
複数個の発熱素子3を上方に突出させて感熱記録媒体に
対する押圧力(印圧)を有効に高める作用を為す。
【0011】前記グレーズ層2は、例えばガラスから成
る場合、ガラス粉末に適当な有機溶媒、溶剤を添加混合
して得た所定のガラスペーストを従来周知のスクリーン
印刷等によってセラミック基板1の上面所定領域に20〜
60μmの厚みに印刷・塗布し、これを高温(約900 ℃)
で焼き付けることによってセラミック基板1の上面に部
分的に被着・形成される。尚、このようにして得られる
グレーズ層2の表面は中心線平均粗さRaで50〜150 Å
程度の平滑面となる。
【0012】また前記グレーズ層2の頂部には複数個の
発熱素子3が一列に並んで被着・形成され、更にこのよ
うな発熱素子3の各一端には共通電極配線4が共通接続
され、各他端には個別電極配線5が個別に接続される。
【0013】前記発熱素子3は、例えば、TaSiOや
TaSiNO,TiSiO,TiSiCO,NbSiO
系の抵抗材料を0.01〜0.5 μmの厚みに被着して成り、
それ自体が所定の電気抵抗率を有しているため、共通電
極配線4及び個別電極配線5を介して外部電源からの電
力が印加されるとジュール発熱を起こし、感熱記録媒体
に印画を形成するのに必要な温度、例えば150 〜300 ℃
の温度にジュール発熱する。
【0014】また一方、前記発熱素子3に接続される共
通電極配線4及び個別電極配線5はAlやCu等の金属
を0.5 〜2.0 μmの厚みに被着して成り、図示しないド
ライバーIC等を介して前記発熱素子3にジュール発熱
を起こさせるのに必要な所定の電力を印加する作用を為
す。
【0015】そしてこのような配線のうち個別電極配線
5は、グレーズ層2上からセラミック基板1の表面にか
けて平行に導出・形成され、該各個別電極配線5の途中
には括れ部Aが設けられる。
【0016】前記括れ部Aはグレーズ層2のエッジに沿
って2列で千鳥状に配列されており、該括れ部Aは各個
別電極配線5の線幅の一部、具体的にはセラミック基板
1上に直に被着される部位の線幅を細くして隣接する個
別電極配線間の間隔を広げることにより個別電極配線同
士の短絡を防止する作用を為す。
【0017】このため、これら個別電極配線5等を被覆
する保護膜6中の内部応力は、括れ部Aを一直線状に配
置させた図7のものに比し、面方向に分散されることと
なり、保護膜6の所定箇所に大きな応力が集中するのを
有効に防止することができるようになる。従って、保護
膜6に感熱記録媒体の摺接や異物の噛み込み等によって
大きな外力が印加されても、保護膜6に亀裂が生じるこ
とはなく、保護膜6を個別電極配線5等に対して良好な
状態で被着させておくことによってサーマルヘッドの信
頼性を向上させることが可能となる。
【0018】尚、前記個別電極配線5をグレーズ層2上
で幅広になしておくのは、個別電極配線5の配線抵抗を
出来るだけ小さくするためである。
【0019】このような個別電極配線5は先に述べた発
熱素子3や共通電極配線4と共に従来周知の薄膜形成技
術によってパターニングされる。具体的には、まず、グ
レーズ層2が部分的に被着されているセラミック基板1
を準備し、その上面全域にわたってTaSiO等の抵抗
材料とAl等の金属材料を従来周知のスパッタリングに
より順次被着させ、厚み0.01〜0.5 μmの抵抗層と厚み
0.5 〜2.0 μmの金属層とを積層する。次に前記金属層
上に従来周知のスピンコート法等によってフォトレジス
ト層を被着させ、これを乾燥させた上、図2のサーマル
ヘッドパターン(発熱素子3,共通電極配線4及び個別
電極配線5)と同様の露光パターンにて現像を行い、し
かる後、燐酸等を含む所定のエッチング液に浸漬して前
記金属層をパターニングし、続いてこれをフッ硝酸を含
む所定のエッチング液に浸漬して前記抵抗層を金属層と
同じ形状にパターニングする。このとき、フォトレジス
ト層の厚みは、グレーズ層2の存在しない領域で前述し
た窪みの影響を受けて不均一になるものの、その途中で
は括れ部Aによってセラミック基板1の表面に直に被着
される部分を細くなすようにしているので隣接するパタ
ーン間の間隔は十分に広く、パターンの短絡が有効に防
止されるようになっている。次に前記フォトレジスト層
を前記金属層より剥離し、新たにフォトレジスト層を被
着させた上、発熱素子3を形成する部位が窓明けされる
ように現像を行う。そして最後に前記フォトレジスト層
の窓内に位置する金属層を所定のエッチング液と接触さ
せてエッチング除去し、抵抗層を部分的に露出させるこ
とで複数個の発熱素子3と、共通電極配線4及び個別電
極配線5とがそれぞれ形成される。
【0020】そして、このようにして形成した発熱素子
3や共通電極配線4,個別電極配線5等の上面には更に
保護膜6が被着される。前記保護膜6は、Si3 N4 や
SiON等の耐磨耗性を有した電気絶縁材料によって3
〜20μmの厚みに形成され、かかる保護膜6で前述の発
熱素子3や個別電極配線5等を被覆しておくことによ
り、大気中に含まれている水分等の接触による腐食や感
熱記録媒体の摺接による磨耗等から発熱素子3や個別電
極配線5等を保護するようになっている。
【0021】そして、この保護膜6によって被覆される
個別電極配線5の括れ部Aは、前述したように、グレー
ズ層2のエッジに沿って千鳥配列するように設けられて
いるため、保護膜6中の内部応力は面方向に良好に分散
され、サーマルヘッドの使用に伴う保護膜6の亀裂が有
効に防止されるようになっている。
【0022】尚、前記保護膜6は、例えばSi3 N4 か
ら成る場合、Si3 N4 を従来周知のスパッタリング等
によって発熱素子3や個別電極配線5等の上面に所定厚
みに被着させることによって形成される。
【0023】かくして上述した本形態のサーマルヘッド
は、外部のプラテンローラによって感熱記録媒体を発熱
素子の配列と略直交する方向に搬送し感熱記録媒体を発
熱素子3上の保護膜表面に摺接させながら、共通電極配
線4及び個別電極配線5間にに印画信号に基づいて外部
からの電力を印加し、発熱素子3を個々に選択的にジュ
ール発熱させるとともに、該発熱した熱を感熱記録媒体
に伝導させ、感熱記録媒体に印画を形成することによっ
てサーマルヘッドとして機能する。
【0024】尚、本発明は上述の形態に限定されるもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々
の変更、改良等が可能であり、例えば上述の形態におい
ては個別電極配線5の括れ部Aを2列で千鳥配列させた
が、これに代えて図3に示す如く個別電極配線5の括れ
部Aを3列で千鳥配列させても良い。
【0025】また上述の形態においては個別電極配線5
の括れ部Aをテーパー状になし個別電極配線5を徐々に
細くするようにしたが、これに代えて図4に示す如く個
別電極配線5の括れ部Aを急に細くしたり、或いは図5
に示す如く緩やかな曲線状になしても良い。図5に示し
た形態の場合、括れ部Aから角部がなくなるため、保護
膜中の応力集中がより緩和されることとなる。
【0026】更に図6に示す如く、個別電極配線5の括
れ部A,Bをグレーズ層2上とセラミック基板1上にそ
れぞれ設け、個別電極配線5の線幅を、パターニングの
際にフォトレジスト層の厚みが厚くなりがちなグレーズ
層2とセラミック基板1の境界部でのみ細くなすように
しても良く、このような場合であっても、グレーズ層2
上の括れ部Aとセラミック基板1上の括れ部Bをそれぞ
れ千鳥状に配列させるようにすれば、その上に被着され
る保護膜中の応力を良好に分散させることができ、保護
膜に亀裂が生じるのを有効に防止することが可能であ
る。
【0027】
【発明の効果】本発明のサーマルヘッドによれば、個別
電極配線の括れ部をグレーズ層のエッジに沿って千鳥状
に配列するようにしたことから、これら個別電極配線等
を被覆する保護膜中の内部応力は面方向に良好に分散さ
れることとなり、保護膜の所定箇所に大きな応力が集中
するのを有効に防止することができるようになる。従っ
て、保護膜に感熱記録媒体の摺接や異物の噛み込み等に
よって大きな外力が印加されても、保護膜に亀裂が生じ
ることはなく、保護膜を個別電極配線等に対して良好な
状態で被着させておくことによってサーマルヘッドの信
頼性を向上させることが可能となる。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement of a thermal head incorporated as a printer mechanism of a word processor, a facsimile or the like. 2. Description of the Related Art Conventionally, a thermal head incorporated as a printer mechanism such as a word processor has a glass glaze layer having a mountain-like cross-section partially formed on the upper surface of a ceramic substrate made of alumina or the like. A plurality of heating elements are formed on the top of the glaze layer, and a plurality of individual electrode wirings electrically connected to the heating elements are formed in parallel from above the glaze layer to the surface of the ceramic substrate. It has a structure in which the element and the individual electrode wiring are further covered with a protective film made of silicon nitride or the like,
Applying power to the heating element via individual electrode wiring or the like while transporting the thermal recording medium in a direction substantially orthogonal to the arrangement of the heating elements and sliding the thermal recording medium on the surface of the protective film on the heating element row, The heat generating element functions as a thermal head by selectively generating Joule heat individually and forming an image on a thermosensitive recording medium by the generated heat. The glaze layer is for accumulating and dissipating the heat generated by the heating element to an appropriate temperature to maintain good thermal response characteristics of the thermal head. For example, a predetermined glass paste may be used. 20 to 60 μm on a predetermined area of the upper surface of the ceramic substrate by well-known screen printing, etc.
And partially baked at a high temperature. The surface of such a glaze layer is a smooth surface having a center line average roughness Ra of about 50 to 150 °. In general, the ceramic substrate of the above-mentioned thermal head has a relatively low surface smoothness.
Specifically, the surface roughness has a center line average roughness Ra of 0.2 to 0.1.
Those of about 4 μm are most often used. However, the surface of such a ceramic substrate has a diameter of 30 to 40 μm.
m, a large number of depressions of about 5 to 10 μm are formed.Thus, when a thin individual electrode wiring having a thickness of about 0.5 to 2.0 μm is to be patterned by a conventionally known photolithography technique or the like, the thickness of the photoresist layer is reduced. However, although it is substantially constant in the area where the glaze layer is applied, it becomes non-uniform in the other areas due to the influence of the above-mentioned depressions. In some cases, short-circuits occurred between the wirings. For this reason, in the conventional thermal head, for example, as shown in FIG.
More specifically, a constricted portion A is provided near the edge of the glaze layer 12, and the line width of the individual electrode wiring 14 directly attached on the ceramic substrate 11 is reduced to reduce the distance between adjacent individual electrode wirings. It was widened to prevent short circuit. The reason why the individual electrode wiring 14 on the glaze layer 12 is formed wide in such a thermal head is to reduce the wiring resistance of the individual electrode wiring 14 as much as possible. [0005] However, according to the conventional thermal head, the constricted portion A of each individual electrode wiring 13 is linearly arranged along the edge of the glaze layer 12. The internal stress tends to concentrate on the protective film formed on the constricted portion A, especially on the corner. Therefore, when an external force is applied to the protective film due to sliding contact of a thermal recording medium or biting of a foreign substance, a crack occurs along the arrangement of the constricted portions A in the protective film, and the protective film functions as a protective film. In some cases, the thermal head may not be used. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks, and a thermal head according to the present invention has a glaze layer formed partially on a ceramic substrate, and the glaze layer is formed on the ceramic substrate. A plurality of heating elements are formed on the top, and a plurality of individual electrode wirings electrically connected to the heating elements are formed in parallel from the glaze layer to the surface of the ceramic substrate. In the thermal head in which the wiring is covered with a protective film, the individual electrode wiring has a constricted portion for reducing the line width in a part thereof, and the constricted portion is staggered along the edge of the glaze layer. It is characterized by being arranged. Hereinafter, a thermal head according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing one embodiment of the thermal head of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of a main part showing the upper surface of the thermal head of FIG. 1, wherein 1 is a ceramic substrate, 2 is a glaze layer, 3 is a heating element, Reference numeral 5 denotes an individual electrode wiring, 6 denotes a protective film, and A denotes a constricted portion provided in the middle of each individual electrode wiring 5. The ceramic substrate 1 is made of a ceramic material such as alumina, and has a glaze layer 2, a heating resistor 3, common electrode wiring 4, individual electrode wiring 5, a protective layer 6, and the like on its upper surface. Acts as When the ceramic substrate 1 is made of, for example, alumina, a ceramic raw material powder such as alumina, silica, magnesia or the like is mixed with a suitable organic solvent and a solvent to form a slurry. A ceramic green sheet is formed by adopting a calender roll method or the like, and then the ceramic green sheet is punched into a predetermined shape and fired at a high temperature. The surface roughness of the ceramic substrate 1 thus obtained is about 0.2 to 0.4 μm in center line average roughness Ra, and a large number of depressions having a diameter of 30 to 40 μm and a depth of about 5 to 10 μm are formed on the surface. Will be done. On the upper surface of the ceramic substrate 1, a glaze layer 2 having a mountain-like cross section is partially adhered and formed. The glaze layer 2 is made of a material having a low thermal conductivity such as glass.
Since it is formed to a thickness of 60 μm, the heat generated by the heating element 3 is accumulated and dissipated to maintain a good thermal response characteristic of the thermal head, and a plurality of heating elements 3 arranged on the top are It protrudes upward to effectively increase the pressing force (printing pressure) on the thermosensitive recording medium. When the glaze layer 2 is made of, for example, glass, a predetermined glass paste obtained by adding and mixing an appropriate organic solvent and a solvent to a glass powder is formed on a predetermined area of the upper surface of the ceramic substrate 1 by a conventionally known screen printing or the like. From 20 to
Print and apply to a thickness of 60 μm, and heat it up to about 900 ° C
Is partially adhered / formed on the upper surface of the ceramic substrate 1 by baking. The surface of the glaze layer 2 thus obtained has a center line average roughness Ra of 50 to 150 °.
The surface becomes as smooth as possible. On the top of the glaze layer 2, a plurality of heating elements 3 are attached and formed in a line, and a common electrode wiring 4 is commonly connected to one end of each of the heating elements 3. Individual electrode wirings 5 are individually connected to the other ends. The heating element 3 is made of, for example, TaSiO, TaSiNO, TiSiO, TiSiCO, NbSiO.
System resistance material is applied to a thickness of 0.01 to 0.5 μm,
Since itself has a predetermined electric resistivity, when electric power from an external power supply is applied through the common electrode wiring 4 and the individual electrode wiring 5, Joule heat is generated, and a print is formed on the thermosensitive recording medium. Required temperature, for example 150-300 ° C
Joule heat is generated at the temperature. On the other hand, the common electrode wiring 4 and the individual electrode wiring 5 connected to the heating element 3 are formed by coating a metal such as Al or Cu to a thickness of 0.5 to 2.0 μm. The function of applying a predetermined power required to cause the heating element 3 to generate Joule heat through the heating element 3 is provided. The individual electrode wires 5 among such wires are led out and formed in parallel from the glaze layer 2 to the surface of the ceramic substrate 1, and a constricted portion A is provided in the middle of each individual electrode wire 5. . The constricted portions A are arranged in two rows along the edge of the glaze layer 2 in a staggered manner. The constricted portions A are part of the line width of each individual electrode wiring 5, specifically, a ceramic substrate. By shortening the line width of the portion directly adhered on 1 and widening the space between adjacent individual electrode wirings, an effect of preventing a short circuit between the individual electrode wirings is achieved. For this reason, the internal stress in the protective film 6 covering the individual electrode wirings 5 and the like is dispersed in the plane direction as compared with that in FIG. 7 in which the constricted portions A are arranged in a straight line. In addition, it is possible to effectively prevent a large stress from being concentrated on a predetermined portion of the protective film 6. Therefore, even if a large external force is applied to the protective film 6 due to sliding contact of the heat-sensitive recording medium or biting of a foreign substance, the protective film 6 does not crack, and the protective film 6 is separated from the individual electrode wiring 5 and the like. By attaching the thermal head in a good condition, the reliability of the thermal head can be improved. The reason why the individual electrode wiring 5 is made wider on the glaze layer 2 is to reduce the wiring resistance of the individual electrode wiring 5 as much as possible. Such individual electrode wirings 5 are patterned together with the above-mentioned heating element 3 and common electrode wiring 4 by a conventionally known thin film forming technique. Specifically, first, the ceramic substrate 1 on which the glaze layer 2 is partially applied is provided.
And a resistive material such as TaSiO and a metal material such as Al are sequentially deposited on the entire upper surface thereof by a conventionally known sputtering method to form a resistive layer having a thickness of 0.01 to 0.5 μm and a thickness of 0.01 to 0.5 μm.
A metal layer of 0.5 to 2.0 μm is laminated. Next, a photoresist layer is applied on the metal layer by a well-known spin coating method or the like, and the photoresist layer is dried. Then, the thermal head pattern (heating element 3, common electrode wiring 4 and individual electrode wiring 5) shown in FIG. Developing with the same exposure pattern as in the above, and thereafter immersing in a predetermined etching solution containing phosphoric acid or the like to pattern the metal layer, and then immersing this in a predetermined etching solution containing hydrofluoric nitric acid The resistance layer is patterned into the same shape as the metal layer. At this time, the thickness of the photoresist layer becomes non-uniform due to the above-mentioned depression in a region where the glaze layer 2 does not exist, but is directly adhered to the surface of the ceramic substrate 1 by the constricted portion A in the middle. In this case, the distance between the adjacent patterns is sufficiently large, so that the short circuit of the patterns is effectively prevented. Next, the photoresist layer is peeled off from the metal layer, a new photoresist layer is applied, and development is performed so that a portion where the heating element 3 is to be formed is opened. Finally, the metal layer located within the window of the photoresist layer is removed by etching by contacting it with a predetermined etchant, and the resistive layer is partially exposed, thereby forming a plurality of heating elements 3 and common electrode wiring 4. And the individual electrode wiring 5 are formed. Then, a protective film 6 is further applied to the upper surfaces of the heating element 3, the common electrode wiring 4, the individual electrode wiring 5 and the like formed as described above. The protective film 6 is made of an abrasion-resistant electrically insulating material such as Si 3 N 4 or SiON.
When the heating element 3 and the individual electrode wiring 5 are covered with the protective film 6, corrosion due to contact with moisture and the like contained in the atmosphere and the heat-sensitive recording medium are formed. The heating element 3 and the individual electrode wiring 5 are protected from wear due to sliding contact. Since the constricted portions A of the individual electrode wirings 5 covered with the protective film 6 are provided so as to be staggered along the edge of the glaze layer 2 as described above, the protective film 6 The internal stress therein is satisfactorily dispersed in the plane direction, so that cracking of the protective film 6 due to the use of the thermal head is effectively prevented. When the protective film 6 is made of, for example, Si 3 N 4 , a predetermined thickness of Si 3 N 4 is applied to the upper surface of the heating element 3, the individual electrode wiring 5, etc. by a conventionally known sputtering or the like. Formed by Thus, in the above-described thermal head of the present embodiment, the heat-sensitive recording medium is conveyed by the external platen roller in a direction substantially perpendicular to the arrangement of the heating elements, and the heat-sensitive recording medium is slid on the surface of the protective film on the heating element 3. Meanwhile, an external power is applied between the common electrode wiring 4 and the individual electrode wiring 5 based on the printing signal, and the heating elements 3 are individually and selectively caused to generate Joule heat, and the generated heat is transferred to the thermosensitive recording medium. It functions as a thermal head by causing conduction and forming a print on a thermosensitive recording medium. It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes and improvements can be made without departing from the spirit of the present invention. Although the constricted portions A are staggered in two rows, the constricted portions A of the individual electrode wires 5 may be staggered in three rows instead, as shown in FIG. In the above embodiment, the individual electrode wiring 5
The constricted portion A is formed in a tapered shape so that the individual electrode wiring 5 is gradually narrowed. Alternatively, the constricted portion A of the individual electrode wiring 5 may be rapidly narrowed as shown in FIG.
The shape may be a gentle curve as shown in FIG. In the case of the embodiment shown in FIG. 5, since the corners are eliminated from the constricted portion A, the stress concentration in the protective film is further alleviated. Further, as shown in FIG. 6, constricted portions A and B of the individual electrode wiring 5 are provided on the glaze layer 2 and the ceramic substrate 1, respectively. May be reduced only at the boundary between the glaze layer 2 and the ceramic substrate 1 where the thickness of the glaze layer 2 tends to increase.
If the upper constricted portion A and the constricted portion B on the ceramic substrate 1 are arranged in a staggered manner, the stress in the protective film deposited thereon can be dispersed well, and It is possible to effectively prevent the occurrence of cracks. According to the thermal head of the present invention, since the constricted portions of the individual electrode wirings are arranged in a staggered manner along the edge of the glaze layer, these individual electrode wirings and the like are covered. The internal stress in the protective film is satisfactorily dispersed in the plane direction, so that a large stress can be effectively prevented from being concentrated on a predetermined portion of the protective film. Therefore, even if a large external force is applied to the protective film due to sliding contact of the thermal recording medium or biting of foreign matter, the protective film does not crack, and the protective film is kept in good condition with respect to the individual electrode wiring and the like. By attaching the thermal head, the reliability of the thermal head can be improved.
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のサーマルヘッドの一形態を示す断面図
である。
【図2】図1のサーマルヘッドの上面を示す要部拡大図
である。
【図3】本発明のサーマルヘッドの他の形態を示す要部
拡大図である。
【図4】本発明のサーマルヘッドの他の形態を示す要部
拡大図である。
【図5】本発明のサーマルヘッドの他の形態を示す要部
拡大図である。
【図6】本発明のサーマルヘッドの他の形態を示す要部
拡大図である。
【図7】従来のサーマルヘッドの上面を示す要部拡大図
である。
【符号の説明】
1・・・セラミック基板
2・・・グレーズ層
3・・・発熱素子
5・・・個別電極配線
6・・・保護膜
A,B・・・括れ部BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a thermal head according to the present invention. FIG. 2 is an enlarged view of a main part showing an upper surface of the thermal head of FIG. 1; FIG. 3 is an enlarged view of a main part showing another embodiment of the thermal head of the present invention. FIG. 4 is an enlarged view of a main part showing another embodiment of the thermal head of the present invention. FIG. 5 is an enlarged view of a main part showing another embodiment of the thermal head of the present invention. FIG. 6 is an enlarged view of a main part showing another embodiment of the thermal head of the present invention. FIG. 7 is an enlarged view of a main part showing an upper surface of a conventional thermal head. [Description of Signs] 1 ... Ceramic substrate 2 ... Glaze layer 3 ... Heating element 5 ... Individual electrode wiring 6 ... Protective films A and B ... Constricted portion
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−155786(JP,A) 特開 平4−78546(JP,A) 実開 昭60−3045(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41J 2/335 B41J 2/345 Continuation of the front page (56) References JP-A-6-155786 (JP, A) JP-A-4-78546 (JP, A) JP-A-60-3045 (JP, U) (58) Fields investigated (Int) .Cl. 7 , DB name) B41J 2/335 B41J 2/345
Claims (1)
形成し、該グレーズ層の頂部に複数個の発熱素子を、前
記グレーズ層上からセラミック基板の表面にかけて前記
発熱素子に個々に電気的に接続される複数個の個別電極
配線を平行に形成するとともに、これら発熱素子及び個
別電極配線を保護膜により被覆してなるサーマルヘッド
において、前記個別電極配線は、その一部に線幅を細く
なす括れ部を有しており、該括れ部がグレーズ層のエッ
ジに沿って千鳥状に配列されていることを特徴とするサ
ーマルヘッド。(57) [Claim 1] A glaze layer is partially formed on a ceramic substrate, and a plurality of heating elements are provided on the top of the glaze layer from the glaze layer to the surface of the ceramic substrate. A plurality of individual electrode wirings which are individually electrically connected to the heating elements are formed in parallel, and in the thermal head in which these heating elements and the individual electrode wirings are covered with a protective film, the individual electrode wirings are A thermal head having a constricted portion having a narrow line width in a part thereof, wherein the constricted portions are arranged in a staggered manner along the edge of the glaze layer.
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