JP3448607B2 - 陰極線管用磁気集束装置 - Google Patents
陰極線管用磁気集束装置Info
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- JP3448607B2 JP3448607B2 JP32270692A JP32270692A JP3448607B2 JP 3448607 B2 JP3448607 B2 JP 3448607B2 JP 32270692 A JP32270692 A JP 32270692A JP 32270692 A JP32270692 A JP 32270692A JP 3448607 B2 JP3448607 B2 JP 3448607B2
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- Japan
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- magnetic
- cathode ray
- coil
- ray tube
- focusing
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/58—Arrangements for focusing or reflecting ray or beam
- H01J29/64—Magnetic lenses
- H01J29/66—Magnetic lenses using electromagnetic means only
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Details Of Television Scanning (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、電子銃と、この電子
銃から出た電子ビームを磁気的に集束させるための装置
とを有する陰極線管に関するものである。
銃から出た電子ビームを磁気的に集束させるための装置
とを有する陰極線管に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気集束ユニットは通常高解像度の陰極
線管と共に使用する。このような磁気集束ユニットは、
電子銃から出る電子ビームと同軸の磁界を生成するもの
なので、管のスクリーンにこのビームが当たるとき、こ
のビームを所望の小ささにすることができる。
線管と共に使用する。このような磁気集束ユニットは、
電子銃から出る電子ビームと同軸の磁界を生成するもの
なので、管のスクリーンにこのビームが当たるとき、こ
のビームを所望の小ささにすることができる。
【０００３】このような管は、例えば、高解像度を有す
る投写型テレビジョンあるいは専門の業務用表示装置等
に用いられる。磁気集束装置によって形成される集束レ
ンズは、永久磁石手段、または間隙を持った磁気回路で
取囲まれていて、調整可能とすることができる直流電流
が流れる環状巻線によって実現できる。
る投写型テレビジョンあるいは専門の業務用表示装置等
に用いられる。磁気集束装置によって形成される集束レ
ンズは、永久磁石手段、または間隙を持った磁気回路で
取囲まれていて、調整可能とすることができる直流電流
が流れる環状巻線によって実現できる。
【０００４】管のスクリーンの全面にわたって同じ精度
で電子ビームの集束を行えるようにするためには、主集
束コイルに動的（ダイナミック）集束コイルを付加する
必要がある場合がある。その場合、スクリーン上のビー
ムの衝突点の位置に従っては、動的集束コイルによって
形成される磁界が主集束コイルの磁界を変調する。補助
コイルを流れる電流の周波数はスクリーンの線走査周波
数と同じである。
で電子ビームの集束を行えるようにするためには、主集
束コイルに動的（ダイナミック）集束コイルを付加する
必要がある場合がある。その場合、スクリーン上のビー
ムの衝突点の位置に従っては、動的集束コイルによって
形成される磁界が主集束コイルの磁界を変調する。補助
コイルを流れる電流の周波数はスクリーンの線走査周波
数と同じである。
【０００５】これによって、高走査周波数、例えば、１
６ＫＨｚまたはそれ以上の走査周波数では、次のような
問題を含む問題が生じる。即ち、 （１）主静的（スタティック）コイルと動的コイルとの
間に強い電気的結合が生じる； （２）静的集束コイルを含んでいる磁気回路のフレーム
中に動的集束コイルによって強い電流が誘起され、従っ
て、エネルギ損が生じる； （３）磁気回路における磁界の形成に要する時間のため
に磁気ドラッグが現れ、この磁気ドラッグは高走査周波
数で非常に問題となる； （４）走査周波数が高くなるにつれて、電子ビームに作
用する動的磁界の作用が弱くなる。
６ＫＨｚまたはそれ以上の走査周波数では、次のような
問題を含む問題が生じる。即ち、 （１）主静的（スタティック）コイルと動的コイルとの
間に強い電気的結合が生じる； （２）静的集束コイルを含んでいる磁気回路のフレーム
中に動的集束コイルによって強い電流が誘起され、従っ
て、エネルギ損が生じる； （３）磁気回路における磁界の形成に要する時間のため
に磁気ドラッグが現れ、この磁気ドラッグは高走査周波
数で非常に問題となる； （４）走査周波数が高くなるにつれて、電子ビームに作
用する動的磁界の作用が弱くなる。
【０００６】
【発明の概要】この発明の目的は、約１６ＫＨｚまたは
それ以上の線走査周波数で動作する動的集束コイルを有
する陰極線管用の磁気集束装置を提供することである。
この磁気集束装置は、磁気ドラッグ、静的コイルと動的
コイルとの間の結合、電気的損失及び磁気的損失が問題
となるような値とならないようにしたものである。この
発明による集束装置は直流電流が流れるようにされた静
的集束コイルと可変の周期的電流が流れるようにされた
動的集束コイルとを備えている。この集束装置は、互い
に異なる透磁率を持つ部分で構成されたフレームを備え
ている。
それ以上の線走査周波数で動作する動的集束コイルを有
する陰極線管用の磁気集束装置を提供することである。
この磁気集束装置は、磁気ドラッグ、静的コイルと動的
コイルとの間の結合、電気的損失及び磁気的損失が問題
となるような値とならないようにしたものである。この
発明による集束装置は直流電流が流れるようにされた静
的集束コイルと可変の周期的電流が流れるようにされた
動的集束コイルとを備えている。この集束装置は、互い
に異なる透磁率を持つ部分で構成されたフレームを備え
ている。
【０００７】磁気集束レンズの焦点距離ｆは次の式によ
って与えられる。なお、Ｈ（ｚ）は管の主軸Ｚに沿って
生成される磁界、ｋは装置の幾何学的構成によって決ま
る係数である。
って与えられる。なお、Ｈ（ｚ）は管の主軸Ｚに沿って
生成される磁界、ｋは装置の幾何学的構成によって決ま
る係数である。
【数１】
磁界Ｈ（ｚ）が時間的に変化する磁界、所謂、動的磁界
ｈ（ｚ）によって変調される場合は、上記数１の式は，
ｈ（ｚ）によって変調される場合は、上記数１の式は，
【数２】
または、
【数３】
となる。原則的には、エネルギの節約のために、出来る
かぎり小さい動的磁界ｈ（ｚ）で磁界Ｈ（ｚ）を変調す
ることが望ましい。この点に関して、ｈ≪Ｈであれば、
項ｈ2 （ｚ）ｄｚは他の２項との関係においては、無視
しうるものとなり、磁界Ｈの変調によってもたらされる
焦点距離の変動は次の数４の式によって与えられる。
かぎり小さい動的磁界ｈ（ｚ）で磁界Ｈ（ｚ）を変調す
ることが望ましい。この点に関して、ｈ≪Ｈであれば、
項ｈ2 （ｚ）ｄｚは他の２項との関係においては、無視
しうるものとなり、磁界Ｈの変調によってもたらされる
焦点距離の変動は次の数４の式によって与えられる。
【数４】
このことから、軸Ｚに沿う磁界Ｈと磁界ｈの作用領域が
重なると、動的集束コイルはより効率的に動作すること
がわかる。
重なると、動的集束コイルはより効率的に動作すること
がわかる。
【０００８】図１は陰極線管１を示し、この陰極線管１
は、電子銃４によって生成された電子ビーム５を偏向し
て、管のスクリーン７上でのビーム５の衝撃点６がスク
リーンの全面を走査するようにする偏向装置２を備えて
いる。この管は、さらに、電子ビームに対する磁気集束
装置３を有し、この磁気集束装置３は管のネック８上
で、偏向装置２と電子銃４との間に配置されている。
は、電子銃４によって生成された電子ビーム５を偏向し
て、管のスクリーン７上でのビーム５の衝撃点６がスク
リーンの全面を走査するようにする偏向装置２を備えて
いる。この管は、さらに、電子ビームに対する磁気集束
装置３を有し、この磁気集束装置３は管のネック８上
で、偏向装置２と電子銃４との間に配置されている。
【０００９】図２ａ及び図３ａに示した従来技術による
集束装置３においては、管１のネック８上に取り付けた
静的コイル１１は、間隙部１３で開いたフレーム１０内
に収容されている。この間隙部１３に静的磁界Ｈが現れ
る。動的集束コイル１２は、それによって形成される磁
界ｈと静的磁界Ｈが軸Ｚ上の同じ位置で作用するように
して、上記動的集束回路コイル１２で生成された磁界ｈ
の作用を最適化するために、間隙部１３の位置に配置さ
れている。フレーム１０は全体として軟鉄、即ち、磁界
Ｈによって形成される磁気レンズが、集束装置の動作毎
に同じ作用を行うようにするための重要な特性である、
残留磁界が弱い材料で構成されている。しかし、図２ａ
の装置は次のような制限がある。即ち、 （１）動的コイル１２によって生成される磁界ｈが磁気
回路１０内に閉じ込められる。従って、コイル１１と１
２の間に電気的な結合が生じ、特に、磁界Ｈの振幅を時
間的に変動させる。 （２）軟鉄回路１０内にコイル１２によって誘起される
電流は大きく、軟鉄の固有抵抗が１０μΩ／ｃｍ程度と
低いために、非常に大きなエネルギ損失が生じる。この
点において、電気的損失を無視しうる程度とするために
は、少なくとも１Ω／ｃｍの固有抵抗が望ましい。
集束装置３においては、管１のネック８上に取り付けた
静的コイル１１は、間隙部１３で開いたフレーム１０内
に収容されている。この間隙部１３に静的磁界Ｈが現れ
る。動的集束コイル１２は、それによって形成される磁
界ｈと静的磁界Ｈが軸Ｚ上の同じ位置で作用するように
して、上記動的集束回路コイル１２で生成された磁界ｈ
の作用を最適化するために、間隙部１３の位置に配置さ
れている。フレーム１０は全体として軟鉄、即ち、磁界
Ｈによって形成される磁気レンズが、集束装置の動作毎
に同じ作用を行うようにするための重要な特性である、
残留磁界が弱い材料で構成されている。しかし、図２ａ
の装置は次のような制限がある。即ち、 （１）動的コイル１２によって生成される磁界ｈが磁気
回路１０内に閉じ込められる。従って、コイル１１と１
２の間に電気的な結合が生じ、特に、磁界Ｈの振幅を時
間的に変動させる。 （２）軟鉄回路１０内にコイル１２によって誘起される
電流は大きく、軟鉄の固有抵抗が１０μΩ／ｃｍ程度と
低いために、非常に大きなエネルギ損失が生じる。この
点において、電気的損失を無視しうる程度とするために
は、少なくとも１Ω／ｃｍの固有抵抗が望ましい。
【００１０】他の従来技術による解決法を図２ｂと図３
ｂに示す。この例においては、動的集束コイル１２は、
軸Ｚに沿う磁界Ｈとｈの作用領域の重なりが小さくなる
ような形で、間隙部１３に対して位置がずらされてい
る。厚さが１０分の数ミリのミューメタル片１４がコイ
ル１２を軟鉄フレーム１０から磁気的に絶縁し、それに
よって、コイル１１と１２間の結合が非常に弱くなる。
コイル１２をこの位置に置くことにより、図２ａの場合
に較べて、コイル１２は磁界Ｈに対してあまり作用を及
ぼさなくなる。従って、Ｈに対して同じ変調を与えよう
とすれば、コイル１２の電流の値を大きくする必要があ
り、そのために、高周波数の動作では許容出来ない高エ
ネルギの供給が必要となる。さらに、フーコー電流（渦
電流）による損失も、ミューメタルの固有抵抗（５０μ
Ω／ｃｍ程度）が低いために、依然として非常に高い。
ｂに示す。この例においては、動的集束コイル１２は、
軸Ｚに沿う磁界Ｈとｈの作用領域の重なりが小さくなる
ような形で、間隙部１３に対して位置がずらされてい
る。厚さが１０分の数ミリのミューメタル片１４がコイ
ル１２を軟鉄フレーム１０から磁気的に絶縁し、それに
よって、コイル１１と１２間の結合が非常に弱くなる。
コイル１２をこの位置に置くことにより、図２ａの場合
に較べて、コイル１２は磁界Ｈに対してあまり作用を及
ぼさなくなる。従って、Ｈに対して同じ変調を与えよう
とすれば、コイル１２の電流の値を大きくする必要があ
り、そのために、高周波数の動作では許容出来ない高エ
ネルギの供給が必要となる。さらに、フーコー電流（渦
電流）による損失も、ミューメタルの固有抵抗（５０μ
Ω／ｃｍ程度）が低いために、依然として非常に高い。
【００１１】さらに、従来技術の装置は、コイル１２を
流れる電流とこの電流によって生成される磁界との間の
時間のずれによって生じる磁気ドラッグの問題がある。
磁気ドラッグがあると、同じ線の両端間で集束が非対称
になってしまう。このずれは磁界ｈが閉じ込められてい
る材料、第１の例では軟鉄、第２の例ではミューメタ
ル、の動的振舞いが良好でないために生じる。従って、
図２ｂに示されている装置においては、磁界がそのとる
べき値の９９．９％になるに要する時間は２０マイクロ
秒程度となる。
流れる電流とこの電流によって生成される磁界との間の
時間のずれによって生じる磁気ドラッグの問題がある。
磁気ドラッグがあると、同じ線の両端間で集束が非対称
になってしまう。このずれは磁界ｈが閉じ込められてい
る材料、第１の例では軟鉄、第２の例ではミューメタ
ル、の動的振舞いが良好でないために生じる。従って、
図２ｂに示されている装置においては、磁界がそのとる
べき値の９９．９％になるに要する時間は２０マイクロ
秒程度となる。
【００１２】図４ａ及び図５はこの発明の１つの実施例
の断面図と一部を除去して示す斜視図で、この実施例で
は、静的集束コイル１１の磁界Ｈと動的集束コイル１２
の磁界ｈが、管の主軸Ｚに沿って互いにずれた作用領域
を持っている。２つのコイルは、磁界ｈの作用の領域の
大部分が、磁界Ｈの作用の領域内に位置するように配置
されている。従って、コイル１２は、コイル１１を包囲
する実質的にトロイダルなフレームを構成する磁気回路
を中断させて形成した間隙部１３の近くに配置される。
この構成は、特に、１６ＫＨｚあるいはそれ以上の周波
数において、互いに異なる透磁率を呈する材料で形成し
た２つの部分２０と２１でフレームを形成することによ
り可能であり、かつ、効果が得られる。
の断面図と一部を除去して示す斜視図で、この実施例で
は、静的集束コイル１１の磁界Ｈと動的集束コイル１２
の磁界ｈが、管の主軸Ｚに沿って互いにずれた作用領域
を持っている。２つのコイルは、磁界ｈの作用の領域の
大部分が、磁界Ｈの作用の領域内に位置するように配置
されている。従って、コイル１２は、コイル１１を包囲
する実質的にトロイダルなフレームを構成する磁気回路
を中断させて形成した間隙部１３の近くに配置される。
この構成は、特に、１６ＫＨｚあるいはそれ以上の周波
数において、互いに異なる透磁率を呈する材料で形成し
た２つの部分２０と２１でフレームを形成することによ
り可能であり、かつ、効果が得られる。
【００１３】一般に、ある材料の透磁率は表皮効果が感
知できるようなものとなる周波数迄は一定である。この
材料の周波数に関する振舞いを表すために、その透磁率
を次の数５の式によって表される複素関数として取り扱
うのが一般的である。
知できるようなものとなる周波数迄は一定である。この
材料の周波数に関する振舞いを表すために、その透磁率
を次の数５の式によって表される複素関数として取り扱
うのが一般的である。
【数５】μ＝μ′−ｊμ″
ここで、μ′はその材料の磁化の特徴を示す周波数の関
数であり、μ″はこの材料の内部における磁気的損失の
特徴を示す周波数の別の関数である。
数であり、μ″はこの材料の内部における磁気的損失の
特徴を示す周波数の別の関数である。
【００１４】経験によれば、フレームの部分２１を作る
ために軟鉄を用い、部分２０を作るためにフェライトを
用いると良好な効果が得られることが分かった。これら
の２つの部分２０と２１は間隙部１３の両側に配置され
る。製造と組み立てを簡単にするために、フェライト部
分２０は、コイル１１を囲むフレームの、管の軸Ｚに垂
直な壁部を構成する王冠状をなしている。コイル１２
が、小さい電流で最適の作用を電子ビームに及ぼすよう
に、管のネックに近接して、フェライト部分の下に配置
される。このようにすることにより、コイル１２によっ
て生成される磁界は殆どフェライト２０内に閉じ込めら
れ、軟鉄の磁気回路には入らない。その結果、コイル１
１と１２の間の結合は非常に弱くなる。
ために軟鉄を用い、部分２０を作るためにフェライトを
用いると良好な効果が得られることが分かった。これら
の２つの部分２０と２１は間隙部１３の両側に配置され
る。製造と組み立てを簡単にするために、フェライト部
分２０は、コイル１１を囲むフレームの、管の軸Ｚに垂
直な壁部を構成する王冠状をなしている。コイル１２
が、小さい電流で最適の作用を電子ビームに及ぼすよう
に、管のネックに近接して、フェライト部分の下に配置
される。このようにすることにより、コイル１２によっ
て生成される磁界は殆どフェライト２０内に閉じ込めら
れ、軟鉄の磁気回路には入らない。その結果、コイル１
１と１２の間の結合は非常に弱くなる。
【００１５】フェライトの周波数についての振舞いの分
析結果を図６に示す。この分析からわかるように、その
透磁率の実数成分μ′は１ＭＨｚ程度の周波数まで高い
値（約２０００）を維持するが、磁気損失による虚数部
の値μ″は２００ＫＨｚに近い周波数まで低い値を維持
している。さらに、この場合、磁界がその採るべき値の
９９．９％になるに要する時間がマイクロ秒代であるの
で、磁気ドラッグの現象は非常に弱い。最後に、フェラ
イトの固有抵抗は１００Ω／ｃｍ程度なので、フェライ
トに誘起される電流による損失は小さい値を維持する。
析結果を図６に示す。この分析からわかるように、その
透磁率の実数成分μ′は１ＭＨｚ程度の周波数まで高い
値（約２０００）を維持するが、磁気損失による虚数部
の値μ″は２００ＫＨｚに近い周波数まで低い値を維持
している。さらに、この場合、磁界がその採るべき値の
９９．９％になるに要する時間がマイクロ秒代であるの
で、磁気ドラッグの現象は非常に弱い。最後に、フェラ
イトの固有抵抗は１００Ω／ｃｍ程度なので、フェライ
トに誘起される電流による損失は小さい値を維持する。
【００１６】フレーム部分２０の材料として用いたフェ
ライトは、エルセーセー−シー・エーロペアン・ド・コ
ンポザン・エレクトロニク（ＬＣＣ−Ｃｉｅ Ｅｕｒｏ
ｐｅｅｎｎｅ ｄｅ Ｃｏｍｐｏｓａｎｔｓ Ｅｌｅｃ
ｔｒｏｎｉｑｕｅｓ）社の、品番Ｔ２２である。
ライトは、エルセーセー−シー・エーロペアン・ド・コ
ンポザン・エレクトロニク（ＬＣＣ−Ｃｉｅ Ｅｕｒｏ
ｐｅｅｎｎｅ ｄｅ Ｃｏｍｐｏｓａｎｔｓ Ｅｌｅｃ
ｔｒｏｎｉｑｕｅｓ）社の、品番Ｔ２２である。
【００１７】図４ｂに示すこの発明の別の実施例におい
ては、フェライト部分２２は、管のネック８に最も近接
して配置された静的コイル１１を囲む磁気フレームの壁
部を構成している。この実施例におけるフェライト部分
は、その断面中心軸が陰極線管の主軸Ｚと一致するシリ
ンダ状の管の形をしている。図４ａの場合と同様、コイ
ル１２はフェライト部分の下側で、陰極線管のネック８
と間隙部１３の端の両方に近接して配置される。
ては、フェライト部分２２は、管のネック８に最も近接
して配置された静的コイル１１を囲む磁気フレームの壁
部を構成している。この実施例におけるフェライト部分
は、その断面中心軸が陰極線管の主軸Ｚと一致するシリ
ンダ状の管の形をしている。図４ａの場合と同様、コイ
ル１２はフェライト部分の下側で、陰極線管のネック８
と間隙部１３の端の両方に近接して配置される。
【図１】この発明による磁気集束装置を含む陰極線管の
部分断面斜視図である。
部分断面斜視図である。
【図２】図２ａと図２ｂは、それぞれ、公知の磁気集束
装置の陰極線管の主軸Ｚに沿う縦断面図である。
装置の陰極線管の主軸Ｚに沿う縦断面図である。
【図３】図２ａと図２ｂの公知の磁気集束装置により生
成される集束磁界の軸Ｚに沿う分布を示す図である。
成される集束磁界の軸Ｚに沿う分布を示す図である。
【図４】図４ａ及び図４ｂは、それぞれ、この発明の第
１と第２の実施例による磁気集束装置の軸Ｚに沿う縦断
面を、これらの装置によって生成される集束磁界の軸Ｚ
に沿う分布と共に示す図である。
１と第２の実施例による磁気集束装置の軸Ｚに沿う縦断
面を、これらの装置によって生成される集束磁界の軸Ｚ
に沿う分布と共に示す図である。
【図５】図４ａの装置の、一部破断斜視図である。
【図６】高温でプレスしたフェライトの、複素透磁率の
実数成分と虚数成分の動作周波数の関数としての変化を
示す図である。
実数成分と虚数成分の動作周波数の関数としての変化を
示す図である。
８ 陰極線管のネック
１１ 静的集束コイル
１２ 動的集束コイル
１３ フレームの間隙部
２０ フレームを構成する部材
２１ フレームを構成する部材
２２ フレームを構成する部材
Ｈ 静的集束コイルにより生成された磁界
ｈ 動的集束コイルにより生成された磁界
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ブルーノ ルーセル
フランス国 21110 ジヤンリ リユ・
オート・ド・レグリーズ（番地なし)
(72)発明者 ジヤン−マルク ペロ
フランス国 21000 デイジヨン リ
ユ・デユ・ミユジーニ 15
(56)参考文献 特開 昭57−67266（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−99027（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01J 29/66
H04N 3/16
Claims (2)
- 【請求項１】 異なる透磁率の部材で構成され、陰極線
管のネックに半径方向に最も近い部分に間隙部を有する
磁性フレームと、上記磁性フレーム 内に収容されており、直流電流によっ
て付勢され、上記磁性フレームの１つの部材に結合され
た静的集束コイルと、 周期的に変化する電流によって付勢され、上記静的集束
コイルと上記陰極線管のネックとの間に配置され、上記
磁性フレームの他の部材に結合された動的集束コイル
と、を備えた、陰極線管のネックの周囲に取り付けるよ
うにされた磁気集束装置。 - 【請求項２】 主軸を有する陰極線管のネックの周囲に
取り付けるようにされた磁気集束装置であって、 上記ネックに半径方向に最も近い部分に間隙部を有する
磁性フレームと、 この磁性フレーム内に収容されており、直流電流によっ
て付勢される静的集束コイルと、上記磁性フレーム内に収容されており、 約１６ＫＨｚま
たはそれ以上の周期の可変電流によって付勢され、上記
陰極線管のネックの周囲に、上記静的集束コイルに隣接
して配置された動的集束コイルと、を有し、第１の磁界を生成する 上記動的集束コイルは、上記陰極
線管の上記主軸に沿う第１作用領域を有し、第２の磁界
を生成する上記静的集束コイルは、上記第１作用領域に
対して上記陰極線管の主軸に沿って偏移した第２作用領
域を有し、上記第１作用領域は、その大部分が上記第２
作用領域内にあるように構成された、上記磁気集束装
置。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9113625A FR2683386B1 (fr) | 1991-11-05 | 1991-11-05 | Dispositif de focalisation magnetique pour tube a rayons cathodiques. |
| FR9113625 | 1991-11-05 | ||
| US07/973,818 US5397969A (en) | 1991-11-05 | 1992-11-09 | Magnetic focusing device for cathode ray tubes |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07201291A JPH07201291A (ja) | 1995-08-04 |
| JP3448607B2 true JP3448607B2 (ja) | 2003-09-22 |
Family
ID=26229032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32270692A Expired - Lifetime JP3448607B2 (ja) | 1991-11-05 | 1992-11-05 | 陰極線管用磁気集束装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5397969A (ja) |
| JP (1) | JP3448607B2 (ja) |
| DE (1) | DE4236905B4 (ja) |
| FR (1) | FR2683386B1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3638311B2 (ja) * | 1993-09-14 | 2005-04-13 | 株式会社東芝 | カラー受像管 |
| US6008577A (en) * | 1996-01-18 | 1999-12-28 | Micron Technology, Inc. | Flat panel display with magnetic focusing layer |
Family Cites Families (6)
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