JP3448026B2 - レーザ照射装置 - Google Patents

レーザ照射装置

Info

Publication number
JP3448026B2
JP3448026B2 JP2000332622A JP2000332622A JP3448026B2 JP 3448026 B2 JP3448026 B2 JP 3448026B2 JP 2000332622 A JP2000332622 A JP 2000332622A JP 2000332622 A JP2000332622 A JP 2000332622A JP 3448026 B2 JP3448026 B2 JP 3448026B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
laser beam
light valve
light source
diffractive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000332622A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002139702A (ja
Inventor
英一 玉置
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Screen Holdings Co Ltd, Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Screen Holdings Co Ltd
Priority to JP2000332622A priority Critical patent/JP3448026B2/ja
Priority to EP01124984A priority patent/EP1202550B1/en
Priority to DE60120079T priority patent/DE60120079T8/de
Priority to US09/983,074 priority patent/US7050081B2/en
Publication of JP2002139702A publication Critical patent/JP2002139702A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3448026B2 publication Critical patent/JP3448026B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laser Beam Printer (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、回折型ライトバ
ルブにより変調されたレーザビームを被照射媒体上に照
射するレーザ照射装置に関する。
【0002】
【従来の技術】回折型ライトバルブは、横方向に列設さ
れた数千本の細い反射板(リボン)を電気力によって移
動させることにより、リボンによって生ずる回折を利用
して光ビームを変調するライトバルブである。この回折
型ライトバルブは、全てのリボンが同一平面内にある状
態においては平面ミラーとして機能し、1本おきのリボ
ンがレーザビームの波長の1/4の距離だけ下降した状
態においては反射型の回折格子として機能する。このよ
うな回折型ライトバルブとしては、米国のシリコンライ
トマシーンズ社製の、GLVとも呼称されるグレイティ
ングライトバルブ(Grating Light Va
lve:シリコンライトマシーンズ社の商標)が知られ
ている。
【0003】そして、特開2000−168136号公
報には、このような回折型ライトバルブを利用して印刷
に用いられる被露光体を露光する露光記録装置が開示さ
れている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような回折型ライ
トバルブにおいては、上述したように、全てのリボンが
同一平面内にある状態においては平面ミラーとして機能
すると考えられているが、その反射光は回折型ライトバ
ルブの構造に起因した特徴を有することが判明した。
【0005】すなわち、本発明者の研究によると、回折
型ライトバルブによる反射率は、回折型ライトバルブに
入射するレーザビームの偏光方向(すなわち電気ベクト
ルの方向)に依存し、レーザビームの偏光方向が反射板
の列設方向(リボンの長手方向と垂直な方向)と一致す
るときに最大となるとともに、レーザビームの偏光方向
が反射板の列設方向と垂直な方向(リボンの長手方向)
のときに最小となることが判明している。
【0006】反射率の最大値と最小値との差は、レーザ
ビームの波長や回折型ライトバルブに入射するレーザビ
ームの波長や平行性(N.A.)等に依存するが、数%
から数十%程度である。そして、この差は、回折型ライ
トバルブに吸収されるエネルギーの差となっている。こ
のため、回折型ライトバルブに入射するレーザビームの
偏光方向を適切に設定しない場合には、光量損失が増加
しレーザビームの利用効率が低下する。
【0007】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、回折型ライトバルブにおける光量損失
を防止し効率的にレーザビームを利用することができる
レーザ照射装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、レーザビームを出射するレーザ光源と、多数の反射
板を一方向に列設した構成を有し、そこに照射されたレ
ーザビームを変調する回折型ライトバルブと、前記レー
ザ光源から出射されたレーザビームを前記回折型ライト
バルブ上に照明するための光学系と、前記回折型ライト
バルブにおいて変調されたレーザビームを被照射媒体上
に導く光学系と、を有するレーザ照射装置において、前
記回折型ライトバルブに入射するレーザビームは実質的
に直線偏光であって、かつ、その電気ベクトルの方向が
前記回折型ライトバルブにおける多数の反射板の列設方
向と略平行であることを特徴とする。
【0009】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の発明において、前記レーザ光源と前記回折型ライトバ
ルブとの間に、前記レーザ光源から出射されたレーザビ
ームの電気ベクトルの方向を変換する偏光方向変換手段
を配置している。
【0010】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の発明において、前記偏光方向変換手段は位相差板であ
る。
【0011】請求項4に記載の発明は、多数の発光点が
一方向に列設され、これらの発光点から、その電気ベク
トルの方向がこれらの発光点の列設方向と略垂直方向を
向く実質的に直線偏光のレーザビームを出射するレーザ
光源と、多数の反射板を一方向に列設した構成を有し、
そこに照射されたレーザビームを変調する回折型ライト
バルブと、前記レーザ光源から出射されたレーザビーム
を前記回折型ライトバルブ上に照明するための光学系
と、前記回折型ライトバルブにおいて変調されたレーザ
ビームを被照射媒体上に導く光学系と、前記レーザ光源
と前記回折型ライトバルブとの間に配置され、前記レー
ザ光源から出射されたレーザビームの電気ベクトルの方
向を90度回転させる位相差板と、を備えたことを特徴
とする。
【0012】請求項5に記載の発明は、単一の発光点を
有し、実質的に直線偏光のレーザビームを出射するレー
ザ光源と、多数の反射板を一方向に列設した構成を有
し、そこに照射されたレーザビームを変調する回折型ラ
イトバルブと、前記レーザ光源から出射されたレーザビ
ームを前記回折型ライトバルブ上に照明するための光学
系と、前記回折型ライトバルブにおいて変調されたレー
ザビームを被照射媒体上に導く光学系と、を有するレー
ザ照射装置において、前記レーザ光源から出射され前記
回折型ライトバルブに入射するレーザビームの電気ベク
トルの方向が、前記回折型ライトバルブにおける多数の
反射板の列設方向と略平行となるように、前記レーザ光
源を配置したことを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図1はこの発明の第1実施形態
に係るレーザ照射装置の概要図である。
【0014】このレーザ照射装置は、レーザビームを感
光材料や感熱材料等の被照射媒体1上に結像することに
より画像を記録する画像記録装置に使用されるものであ
り、レーザ光源2と、回折型ライトバルブ6と、レーザ
光源2から出射されたレーザビームを回折型ライトバル
ブ6上に照明するための照明光学系3と、回折型ライト
バルブ6において変調されたレーザビームを被照射媒体
1上に結像させる結像光学系7と、レーザ光源2から出
射されたレーザビームの偏光方向を90度回転させる位
相差板(半波長板)4と、回折型ライトバルブ6により
変調されたレーザビームの方向を90度偏向するプリズ
ム5とを備える。
【0015】上記レーザ光源2としては、多数の発光点
(エミッタ)21が一方向に列設されたバーレーザ(ブ
ロードエリア半導体レーザ)と呼称される半導体レーザ
が使用される。このレーザ光源2は、多数の発光点21
から、その偏光方向がこれらの発光点21の列設方向
(図1における上下方向)と略垂直方向を向く直線偏光
のレーザビームを出射する。このようなレーザ光源2を
使用した場合には、略矩形状の領域に向けて高出力のレ
ーザビームを出射させることが可能となる。
【0016】このようなレーザ光源2としては、例え
ば、米国のCOHERENT社製のB1−83−40C
−19−30−AやB1−830−60C−49−50
−Bを使用することができる。なお、図1においては、
説明の便宜上、発光点21を5個のみ図示しているが、
この発光点21は、実際には、数十個程度列設されてい
る。
【0017】上記回折型ライトバルブ6は、多数の反射
板61を図1における上下方向に列設した構成を有し、
そこに照射されたレーザビームを変調するものが使用さ
れる。
【0018】図2および図3は、このような回折型ライ
トバルブ6の要部を示す斜視図である。
【0019】これらの図に示すように、回折型ライトバ
ルブ6は、数千本の反射板61(61a、61b)を支
持台62上において横方向に列設した構成を有する。こ
れらの反射板61は、互い違いに配置された固定反射板
61aと移動反射板61b(これらを総称する場合には
反射板61という)とから構成される。
【0020】固定反射板61aは、その表面の位置が固
定された構成となっている。一方、移動反射板61b
は、その表面の全長のうちの有効可動領域が印加される
電圧に応じて下降する構成となっている。そして、3本
の固定反射板61aと3本の移動反射板61bとから成
る6本の反射板61が一つの素子を構成し、1本のレー
ザビームの変調に使用される。すなわち、一つの素子を
構成する3本の移動反射板61bは、互いに同期して移
動する。
【0021】この回折型ライトバルブ6においては、各
移動反射板61bに電圧が印加されていない場合には、
図3(a)に示すように、固定反射板61aの表面と移
動反射板61bの表面とは、同一平面上に配置されてい
る。この状態で、移動反射板61bに電圧が印加された
場合には、図3(b)に示すように、移動反射板61b
がレーザビームの波長の1/4の距離だけ下降し、反射
型の回折格子と同様の作用を奏する。
【0022】このため、この回折型ライトバルブ6にお
いては、移動反射板61bに電圧が印加されていない状
態においては、図3(a)に示すように、入射レーザビ
ーム21の0次回折光22を反射することになり、ま
た、移動反射板61bに電圧が印加された状態において
は、図3(b)に示すように、入射レーザビーム21の
正負の2本の1次回折光23および更に高次の回折光を
反射することになる。
【0023】従って、この回折型ライトバルブ6の反射
板61の表面における矩形状の領域(この領域は移動反
射板61bにおける有効可動領域内に含まれる)にレー
ザビームを照射した場合には、互いに独立して変調可能
な数百本のレーザビームが得られることになる。
【0024】このような回折型ライトバルブ6として
は、米国のシリコンライトマシーンズ社製の、GLVと
も呼称されるグレイティングライトバルブ(Grati
ngLight Valve:シリコンライトマシーン
ズ社の商標)を使用することができる。
【0025】以上のような構成を有する回折型ライトバ
ルブ6においては、上述したように、回折型ライトバル
ブ6による反射率は、そこに入射するレーザビームの偏
光方向(すなわち電気ベクトルの方向)に依存し、レー
ザビームの偏光方向が反射板61の列設方向(リボンの
長手方向と垂直な方向/図2に示すX方向)と一致する
ときに最大となるとともに、レーザビームの偏光方向が
反射板の列設方向と垂直な方向(リボンの長手方向/図
2に示すY方向)のときに最小となることが、本発明者
等の研究により判明した。
【0026】このため、後述するように、図1に示すレ
ーザ照射装置においては、レーザ光源2から出射された
レーザビームの偏光方向を90度回転させる位相差板4
を利用して、回折型ライトバルブ6に入射するレーザビ
ームの偏光方向が反射板61の列設方向となるようにし
ている。
【0027】すなわち、このレーザ照射装置において
は、レーザ光源2から出射されたレーザビームは、照明
光学系3の作用により回折型ライトバルブ6上に照明さ
れる。このとき、上述したように、このレーザ光源2に
おいては、多数の発光点21から、その偏光方向がこれ
らの発光点21の列設方向(図1における上下方向)と
略垂直方向(図1における紙面に垂直は方向)を向く直
線偏光のレーザビームが出射される。一方、上述したよ
うに、回折型ライトバルブ6は、多数の反射板61を図
1における上下方向に列設した構成を有する。すなわ
ち、発光点21の列設方向と反射板61の列設方向が光
学的に一致している。このため、回折型ライトバルブ6
に照射されるレーザビームの偏光方向が反射板61の列
設方向と垂直な方向となることになる。
【0028】しかしながら、このレーザ照射装置におい
ては、照明光学系3と回折型ライトバルブ6との間に、
レーザ光源2から出射されたレーザビームの偏光方向を
90度回転させる位相差板4を配設している。このた
め、回折型ライトバルブ6に照射されるレーザビームの
偏光方向は、反射板61の列設方向と平行な方向とな
る。
【0029】従って、回折型ライトバルブ6における光
量損失を防止し、効率的にレーザビームを利用すること
が可能となる。また、回折型ライトバルブ6により吸収
されるエネルギの量を最小とすることができることか
ら、回折型ライトバルブ6の吸収エネルギによる熱的損
傷の危険性を低減することが可能となる。
【0030】このようにして回折型ライトバルブ6にお
いて効率的に変調されたレーザビームは、プリズム5に
よりその方向を90度偏向された後、結像光学系7によ
り被照射媒体1上に結像され、画像の記録が効率的に実
行される。
【0031】なお、上述したように、レーザ光源2から
は直線偏光のレーザビームが出射されるが、このレーザ
ビームには、わずかに直線偏光以外の成分が含まれる場
合がある。また、位相差板4の精度により、位相差板4
を通過後の直線偏光のレーザビームにわずかに直線偏光
以外の成分が含まれる場合もある。しかしながら、この
ようにわずかに直線偏光以外の成分を含むレーザビーム
は、実質的に直線偏光のレーザビームとして取り扱うこ
とができる。この明細書で述べる「実質的に直線偏光」
とは、上記のような直線偏光以外の成分をわずかに含む
レーザビームをも含む趣旨である。
【0032】また、上述したように、このレーザ照射装
置においては、回折型ライトバルブ6に照射されるレー
ザビームの偏光方向が反射板61の列設方向と平行な方
向となるよう構成している。しかしながら、回折型ライ
トバルブ6の位置精度等により、回折型ライトバルブ6
に照射されるレーザビームの偏光方向と反射板61の列
設方向とが正確に平行とならない場合もあり得る。しか
しながら、このようなわずかな誤差を含むものも、この
発明の技術的範囲に含まれる。この明細書で言う「略平
行」とは、正確に平行である場合のみならず、上記のわ
ずかな誤差をも含む趣旨である。
【0033】さらに、上述した実施形態においては、レ
ーザ光源2から出射されたレーザビームの偏光方向を9
0度回転させるための偏光方向変換手段として、位相差
板4を使用しているが、例えば液晶盤を利用した偏光方
向変換器等の、その他の偏光方向変換手段を使用するよ
うにしてもよい。
【0034】次に、この発明の他の実施形態について説
明する。図4はこの発明の第2実施形態に係るレーザ照
射装置の概要図である。なお、上述した第1実施形態と
同一の部材については、同一の符号を付して詳細な説明
を省略する。
【0035】上述した第1実施形態に係るレーザ照射装
置は、多数の発光点21から、その偏光方向がこれらの
発光点21の列設方向と略垂直方向を向く直線偏光のレ
ーザビームを出射するレーザ光源を使用しているのに対
し、この第2実施形態に係るレーザ照射装置は、単一の
発光点を有し、この発光点から実質的に直線偏光のレー
ザビームを出射するレーザ光源8を使用している。
【0036】また、この第2実施形態に係るレーザ照射
装置においては、第1実施形態に係るレーザ照射装置で
使用した位相差板4を省略している。
【0037】図5は、上記レーザ光源8の斜視図であ
り、図6はその半導体結晶81を拡大して示す斜視図で
ある。
【0038】このレーザ光源8はカン(CAN)型のパ
ッケージ85中に半導体結晶81を封入した構成を有す
る。そして、半導体結晶81の接合面82に形成された
活性層83が共振器となって直線偏光のレーザビーム8
4を出射する。そして、その偏光方向(電気ベクトルの
方向)は、半導体結晶81の接合面82と平行な方向の
場合(TEモード)と、半導体結晶81の接合面82と
垂直な方向の場合(TMモード)とがある。
【0039】このため、図4に示すように、図5および
図6に示すレーザ光源8を使用するとともに、このレー
ザ光源8から出射されるレーザビームの偏光方向が、回
折型ライトバルブ6における多数の反射板61の列設方
向と平行な方向(すなわち、図4に示す上下方向)とな
るようにレーザ光源8を配置することにより、回折型ラ
イトバルブ8に入射するレーザビームの偏光方向が、回
折型ライトバルブ6における多数の反射板61の列設方
向と平行となる。
【0040】このような構成を採用した場合において
も、第1実施形態の場合と同様、回折型ライトバルブ6
における光量損失を防止し、効率的にレーザビームを利
用することが可能となる。また、回折型ライトバルブ6
により吸収されるエネルギの量を最小とすることができ
ることから、回折型ライトバルブ6の吸収エネルギによ
る熱的損傷の危険性を低減することが可能となる。
【0041】なお、上述した第1、第2実施形態におい
ては、いずれも、直線偏光のレーザビームを出射するレ
ーザ光源2、8を使用しているが、円偏光のレーザビー
ムを出射するレーザ光源を使用するようにしてもよい。
この場合においては、偏光方向変換手段として、位相差
板の一種である1/4波長板を使用するようにすればよ
い。
【0042】
【発明の効果】請求項1乃至請求項5に記載の発明によ
れば、回折型ライトバルブに入射するレーザビームが、
実質的に直線偏光であって、かつ、その電気ベクトルの
方向が前記回折型ライトバルブにおける多数の反射板の
列設方向と略平行であることから、回折型ライトバルブ
における光量損失を防止し効率的にレーザビームを利用
することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1実施形態に係るレーザ照射装置
の概要図である。
【図2】回折型ライトバルブ6の要部を示す斜視図であ
る。
【図3】回折型ライトバルブ6の要部を示す斜視図であ
る。
【図4】この発明の第2実施形態に係るレーザ照射装置
の概要図である。
【図5】レーザ光源8の斜視図である。
【図6】レーザ光源8の半導体結晶81を拡大して示す
斜視図である。
【符号の説明】
1 被照射媒体 2 レーザ光源 3 照明光学系 4 位相差板 5 プリズム 6 回折型ライトバルブ 7 結像光学系 8 レーザ光源 21 エミッタ 61 反射板 62 支持台 81 半導体結晶 82 接合面 83 活性層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開2000−168136(JP,A) 特開 平6−188169(JP,A) 特開 平9−174933(JP,A) 特開2002−72117(JP,A) 特開 昭61−122943(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 27/28 G02B 26/08

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザビームを出射するレーザ光源と、 多数の反射板を一方向に列設した構成を有し、そこに照
    射されたレーザビームを変調する回折型ライトバルブ
    と、 前記レーザ光源から出射されたレーザビームを前記回折
    型ライトバルブ上に照明するための光学系と、 前記回折型ライトバルブにおいて変調されたレーザビー
    ムを被照射媒体上に導く光学系と、を有するレーザ照射
    装置において、 前記回折型ライトバルブに入射するレーザビームは実質
    的に直線偏光であって、かつ、その電気ベクトルの方向
    が前記回折型ライトバルブにおける多数の反射板の列設
    方向と略平行であることを特徴とするレーザ照射装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のレーザ照射装置におい
    て、 前記レーザ光源と前記回折型ライトバルブとの間に、前
    記レーザ光源から出射されたレーザビームの電気ベクト
    ルの方向を変換する偏光方向変換手段を配置したレーザ
    照射装置。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載のレーザ照射装置におい
    て、 前記偏光方向変換手段は位相差板であるレーザ照射装
    置。
  4. 【請求項4】 多数の発光点が一方向に列設され、これ
    らの発光点から、その電気ベクトルの方向がこれらの発
    光点の列設方向と略垂直方向を向く実質的に直線偏光の
    レーザビームを出射するレーザ光源と、 多数の反射板を一方向に列設した構成を有し、そこに照
    射されたレーザビームを変調する回折型ライトバルブ
    と、 前記レーザ光源から出射されたレーザビームを前記回折
    型ライトバルブ上に照明するための光学系と、 前記回折型ライトバルブにおいて変調されたレーザビー
    ムを被照射媒体上に導く光学系と、 前記レーザ光源と前記回折型ライトバルブとの間に配置
    され、前記レーザ光源から出射されたレーザビームの電
    気ベクトルの方向を90度回転させる位相差板と、 を備えたことを特徴とするレーザ照射装置。
  5. 【請求項5】 単一の発光点を有し、実質的に直線偏光
    のレーザビームを出射するレーザ光源と、 多数の反射板を一方向に列設した構成を有し、そこに照
    射されたレーザビームを変調する回折型ライトバルブ
    と、 前記レーザ光源から出射されたレーザビームを前記回折
    型ライトバルブ上に照明するための光学系と、 前記回折型ライトバルブにおいて変調されたレーザビー
    ムを被照射媒体上に導く光学系と、を有するレーザ照射
    装置において、 前記レーザ光源から出射され前記回折型ライトバルブに
    入射するレーザビームの電気ベクトルの方向が、前記回
    折型ライトバルブにおける多数の反射板の列設方向と略
    平行となるように、前記レーザ光源を配置したことを特
    徴とするレーザ照射装置。
JP2000332622A 2000-10-31 2000-10-31 レーザ照射装置 Expired - Fee Related JP3448026B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000332622A JP3448026B2 (ja) 2000-10-31 2000-10-31 レーザ照射装置
EP01124984A EP1202550B1 (en) 2000-10-31 2001-10-19 Laser irradiation device and image recorder
DE60120079T DE60120079T8 (de) 2000-10-31 2001-10-19 Laserbestrahlungsgerät und Bildaufzeichnungsgerät
US09/983,074 US7050081B2 (en) 2000-10-31 2001-10-23 Laser irradiation device and image recorder

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000332622A JP3448026B2 (ja) 2000-10-31 2000-10-31 レーザ照射装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002139702A JP2002139702A (ja) 2002-05-17
JP3448026B2 true JP3448026B2 (ja) 2003-09-16

Family

ID=18808809

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000332622A Expired - Fee Related JP3448026B2 (ja) 2000-10-31 2000-10-31 レーザ照射装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3448026B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6332485B2 (ja) * 2017-01-25 2018-05-30 セイコーエプソン株式会社 プロジェクター

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002139702A (ja) 2002-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10222705B2 (en) Spatial light modulator, exposure apparatus, and method for manufacturing device
US7098993B2 (en) Exposure device for exposing a photosensitive material in accordance with image data
US10054858B2 (en) Spatial light modulator, method of driving same, and exposure method and apparatus
JP6756989B2 (ja) 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
US20100265557A1 (en) Optical Systems Configured to Generate More Closely Spaced Light Beams and Pattern Generators Including the Same
JPH11337891A (ja) 格子変調器アレイ
WO2012043497A1 (ja) 空間光変調器の駆動方法、露光用パターンの生成方法、並びに露光方法及び装置
JP3831082B2 (ja) 集光装置
JP2006337834A (ja) 露光装置及び露光方法
CN113568279A (zh) 基于多模光纤阵列输入光场调制的超分辨直写式光刻系统
JP3448026B2 (ja) レーザ照射装置
US7061517B2 (en) Exposure head
US6507355B2 (en) Image recording apparatus
JP7297050B2 (ja) リークを減少させたレーザ露光ヘッド
JP6283798B2 (ja) 露光装置および照明ユニット
JP2016164679A (ja) 複数の放射ビームの特性を修正するアセンブリ、リソグラフィ装置、複数の放射ビームの特性を修正する方法およびデバイス製造方法
JP3607604B2 (ja) 照明装置
CN111505908B (zh) 照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法
JPH0890831A (ja) マルチビーム光ヘッド
TW202417998A (zh) 圖案曝光裝置、及元件製造方法
US20060232755A1 (en) Imaging system and method employing beam folding
JP2014142494A (ja) 空間光変調器、空間光変調方法、パターン描画装置、パターン描画方法、空間光変調器の製造方法
JP2002072118A (ja) 画像記録装置
JPH10307282A (ja) 光ヘッド
JP2006267239A (ja) デジタル・マイクロミラー・デバイスの取付構造および画像露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3448026

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080704

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080704

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090704

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090704

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090704

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100704

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100704

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120704

Year of fee payment: 9

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120704

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120704

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130704

Year of fee payment: 10

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees