JP3443436B2 - Multilayer circuit board with built-in capacitance - Google Patents

Multilayer circuit board with built-in capacitance

Info

Publication number
JP3443436B2
JP3443436B2 JP21653393A JP21653393A JP3443436B2 JP 3443436 B2 JP3443436 B2 JP 3443436B2 JP 21653393 A JP21653393 A JP 21653393A JP 21653393 A JP21653393 A JP 21653393A JP 3443436 B2 JP3443436 B2 JP 3443436B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
capacitance
substrate
circuit board
dielectric constant
built
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP21653393A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0766563A (en
Inventor
晃 井本
正和 安井
和雅 古橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP21653393A priority Critical patent/JP3443436B2/en
Publication of JPH0766563A publication Critical patent/JPH0766563A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3443436B2 publication Critical patent/JP3443436B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0296Conductive pattern lay-out details not covered by sub groups H05K1/02 - H05K1/0295
    • H05K1/0298Multilayer circuits
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/16Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • H05K3/4626Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
    • H05K3/4629Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials laminating inorganic sheets comprising printed circuits, e.g. green ceramic sheets

Landscapes

  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、内部に形成された容量
の容量温度特性を補正し、温度依存性が少ない容量が得
られ、且つ強固な容量内蔵型層回路基板に関するもので
ある。 【0002】 【従来の技術】従来から、アルミナ等の無機物フィラー
とガラス成分とから成る絶縁層を用いて、低温(約90
0℃前後)焼成を可能にした多層回路基板が既に使用さ
れている。この低温焼成可能な多層回路基板は、内部配
線パターンに金、銀、銅などの低抵抗材料を使用するこ
とができ、信号伝播速度が速い電子回路や高周波回路が
実現できる。 【0003】さらに、このような多層回路基板に内部配
線パターンとともに容量発生パターン(絶縁(誘電体)
層を挟んで対向する1対の配線パターンなど)を形成し
て、容量を内蔵した容量内蔵型多層回路基板が提案され
ている。 【0004】この場合、基板組成材料の誘電率温度特性
を充分に配慮しなくては、例えば容量内蔵型多層回路基
板に共振回路などを有する発振器等に用いることができ
ない。これは、誘電体層を構成する材料であるガラス成
分は、例えば硼珪酸ガラスやアルミノ酸ガラスなどであ
り、無機物フィラーはアルミナであるが、これらの材料
は誘電率温度特性が正特性を示し、基板本体が正の誘電
率温度特性となってしまい、温度変化によって容量値が
大きく変動してしまうためである。 【0005】このような基板材料の誘電率温度特性の絶
対値を小さく補正するため、従来より、無機物フィラー
に、アルミナとともにチタニアを用いることが、特開平
4−82297号に既に提案されている。しかし、チタ
ニアは、その誘電率温度係数は−910ppm/℃であ
り、基板材料全体の誘電率温度特性を補正するに不十分
となる。これは、チタニアはアルミナやガラス成分の基
板材料や配線パターン等、特に表面に厚膜抵抗体膜など
と反応しやすく、基板の強度を低下させたり、特に厚膜
抵抗抵抗体膜の特性を変化させる恐れがあり、その添加
量が制限されるためである。 【0006】チタニア以外の基板材料の誘電率温度特性
を補正するためのアルミナとともに添加される無機物フ
ィラーとして、ペロブスカイト結晶構造を有し、キュリ
ー点が常温にりも高い物質、例えばスズ酸ストロンチウ
ム(誘電率−3720ppm/℃)、チタン酸ストロン
チウム(同−3360ppm/℃)、チタン酸カルシウ
ム(同−1620ppm/℃)などが挙げられる。 【0007】 【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のペロブ
スカイト結晶構造を有する物質をアルミナとともに添加
される無機物フィラーとして用いた場合、焼成時にガラ
ス成分と固溶し、結晶構造が崩れるため、逆に上述の誘
電率温度特性の補正作用が少なくなるという問題があっ
た。 【0008】本発明者らは、種々実験を行った結果、ペ
ロブスカイト結晶構造を有する物質の無機物フィラーの
粒径を制御、例えば粒径を大きくすることによってガラ
ス成分との接触面積を少なくして、固溶反応を起こす面
積を減少させることができることを知見した。即ち、固
溶反応を低減して、充分な誘電率温度特性の補正作用を
維持させることができる。また、粒径を大きくしすぎる
と、焼成後の基板の緻密性に劣り強度や耐湿信頼性が低
下してしまう。 【0009】本発明は、上述の知見に基づくものであ
り、その目的は、ペロブスカイト結晶構造を有する物質
の無機物フィラーの粒径を適正化して、基板の誘電率温
度特性を充分に補正することができ、且つ基板強度の高
い容量内蔵型多層回路基板を提供することにある。 【0010】 【課題を解決するための手段】 1000℃以下の比較
的低温で焼成可能なガラス成分及び無機物フィラーから
成る誘電体層を複数積層するとともに、内部に金系、銀
系又は銅系導体材料から成る内部配線パターン及び容量
発生パターンを配して成る容量内蔵型多層回路基板であ
って、前記無機物フィラーが、アルミナ粉末と、ペロブ
スカイト結晶構造で且つ誘電率の温度特性が負である粒
径3.9〜10μmのチタン酸ストロンチウム粉末とを
含むことを特徴とする容量内蔵型多層回路基板である。 【0011】 【0012】 【作用】以上のように、本発明によれば、絶縁(誘電
体)層の材料がガラス成分及び無機物フィラーから構成
されているため、比較的低温(〜1000℃)で焼結可
能であるため、内部配線パターンや容量発生パターンを
比抵抗の小さい金、銀、銅などの金属材料を用いること
ができる。 【0013】また、例えばアルミナフィラーとともに用
いられる誘電率温度特性を補正する無機物フィラーとし
て、ペロブスカイト結晶構造で且つ誘電率が負の温度特
性を有する誘電体材料(以下、単に負の温特材料とい
う)を含んでいるため、誘電体層の全体の誘電率の温度
特性の絶対値を、例えば±60ppm/℃と極めて小さ
く補正でき、容量発生パターンを内蔵しても安定した容
量特性が得られる容量内蔵型多層回路基板となる。 【0014】本発明では、特に負の温特材料の無機物フ
ィラーの粒径を2〜10μmとしている。即ち、粒径が
2μm以上とすることで、アルミナやガラス成分ととも
に低温(例えば900℃)で焼結しても、その焼結反応
時にガラス成分との固溶反応を抑制でき、ぺロブスカイ
ト構造が充分に維持できため、上述の補正作用を充分に
維持させることができ、上述のように誘電率温度特性を
±60ppm以内にすることができる。 【0015】また、その粒径が10μm以下であるた
め、焼成後の基板全体を緻密化することができ、基板の
強度が所定値以上を維持できる。ここで、粒径が10μ
mを越えると、基板強度の劣化が著しく、また製造工程
においても、ガラスフリット、アルミナフィラーととも
に溶剤などでスラリー状にした場合、沈降現象が発生し
たり、均質分散ができないという問題が発生する。 【0016】特に、負の温特材料としてチタン酸ストロ
ンチウムを用いれば高い基板強度が達成される。 【0017】さらに、チタニアを用いた基板に比較し
て、基板表面にチタニア成分が析出されず、その表面に
厚膜抵抗体膜を形成しても、その抵抗特性に大きな変化
を与えることがない。 【0018】 【実施例】以下、本発明の容量内蔵型多層回路基板を図
面に基づいて詳説する。図1は、本発明の容量内蔵型多
層回路基板の断面構造を示す。図において、10は容量
内蔵型多層回路基板であり、1は複数の誘電体層1a、
1b・・・を積層した基板本体であり、2は誘電体層1
a、1b・・・間に形成された所定内部配線パターンで
あり、3は誘電体層1a、1b・・・間に形成された容
量発生パターンであり、4はビアホール導体であり、5
は表面配線パターンであり、6は厚膜抵抗体膜である。 【0019】基板本体1は、ガラス−セラミックスから
成る複数の誘電体層1a、1b・・・と、該誘電体層1
a、1b・・・間に配置された金系、銀系、または銅系
の導体から成る所定内部配線パターン2、容量発生パタ
ーン3と、該誘電体層1a、1b・・・を貫くビアホー
ル導体4とから構成されている。 【0020】これにより、基板本体1内には、誘電体
層、例えば1c、1dを挟んで互いに対向する容量発生
パターン3によって容量が所定回路の一部が形成される
ことになる。 【0021】基板本体1の主面には、金系、銀系、また
は銅系の導体から成る所定表面配線パターン5及び厚膜
抵抗体膜6が形成され、これらが、ビアホール導体4を
介して、内部配線パターン2や容量発生パターン3と電
気的に接続され、全体として、所定回路が達成されるこ
とになる。尚、図には記載していないが、表面には保護
膜が形成され、必要に応じてICチップや、チップ電子
部品などが搭載されている。 【0022】ここで、基板本体1の内部に形成される容
量は、例えば、図中の誘電体層1cを挟むように配置さ
れた所定対向面積を有する容量発生パターン3間で発生
するものであり、さらに、誘電体層1dを挟むように配
置された容量発生パターン3間でも所定容量が発生す
る。 【0023】誘電体層1a、1b・・・は、ガラス成分
と無機物フィラーなどを焼結させて構成される。ガラス
成分は、結晶化ガラス、非晶質ガラスなどであり、無機
物フィラーは、少なくとも負の温特材料の粉末を含み、
その他にはアルミナ粉末などが挙げられる。また、無機
物フィラー負の温特材料としては、チタン酸ストロンチ
ウム(−3360ppm/℃)、スズ酸ストロンチウム
(−3720ppm/℃)、チタン酸カルシウム(−1
620ppm/℃)が例示できる。また、ガラス成分
は、硼珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラスなどの低融点ガ
ラスが例示できる。 【0024】ガラス成分の構成比率は40〜90重量%
であり、アルミナ粉末及び負の温特材料の粉末からなる
無機物フィラーの構成比率は10〜60重量%である。
無機物フィラーが10重量%未満であると、相対的にア
ルミナ粉末など基板の強度に有効な材料が減少してしま
うため、焼結した基板本体1の強度が低下してしまう。
一方60重量%を越えると焼結後の基板本体1中に相対
的にガラス成分が不足するため、緻密な回路基板が達成
されない。尚、好ましくはガラス成分の構成比率は30
〜50重量%であり、その残部がガラス成分となるよう
にすることである。 【0025】このように、負の温特材料の粒径を2〜1
0μmに設定することが重要である。粒径を2〜10μ
mに設定することにより、基板材料をスラリー状にする
際にも、沈降現象が発生することなく、均質混合された
スラリーを得ることができる。また、1050℃程度ま
での温度で焼結しても、非常に安定なペロブスカイト結
晶構造が維持でき、基板1の誘電率温度特性の補正効果
が充分に現れ、その温度特性を±60ppm以内にする
ことができる。 【0026】これにより、容量発生パターン3を形成し
ても、容量が温度に大きく依存することがない安定した
容量成分を簡単に形成することができる。さらに比誘電
率を8.0以上にすることが可能となり、容量発生パタ
ーン3を対向面積を小さくしても充分な容量値の容量が
達成できる。 【0027】特に、上述の誘電体材料としてチタン酸ス
トロンチウムを用いれば、基板の抗折強度が他の誘電体
材料に比較して優れる。 【0028】また、誘電体層1a、1b・・・間に形成
した内部配線パターン2や容量発生パターン3を構成す
る導体材料の特性に影響を与えることがない。 【0029】さらに、無機物フィラーのアルミナ粉末と
ともに用いることにより、基板本体1の強度が実用的な
値となる。 【0030】尚、基板本体1の表面に酸化ルテニウム、
六硼化ランタン、酸化スズなどの厚膜抵抗体膜6を形成
しても、厚膜抵抗体膜6に半導体伝導性を与えたり、温
度特性を負側にシフトさせたりすることが一切なくな
る。 【0031】上述の負の温特材料のなかで、チタン酸ス
トロンチウムが望ましい理由として、上述したように基
板本体1の強度が充分に得られ、温度特性の補償作用が
顕著に現れ、焼成条件が比較的緩和されるためである。 【0032】例えば、チタン酸カルシウムでは、チタン
酸ストロンチウムに比較してイオン半径が小さいため、
ガラス成分との反応が顕著となり、結晶構造が崩れやす
く、誘電率の補正効果を充分に得るために粒径を10μ
mに近い値にする必要がある。 【0033】また、スズ酸ストロンチウムは、焼結後に
おいては、ペロブスカイト構造を維持することが難し
く、焼成条件を充分に留意する必要がある。 【0034】尚、誘電体層1a、1b・・・として、ガ
ラス成分、アルミナ粉末、負の温特材料の粉末の他に、
酸化剤などを必要に応じて添加しても構わない。 【0035】次に、本発明の容量内蔵型多層回路基板の
製造方法を説明する。 【0036】まず、基板用組成物(誘電体層1a、1b
・・・)となる結晶化又は非晶質の低融点ガラスフリッ
ト、アルミナ粉末、負の温特材料、例えば、チタン酸ス
トロンチウム粉末と、有機バインダー(例えばポリメタ
クリレート樹脂)と、可塑剤(例えばジブチルフタレー
ト)と溶剤(例えばメチルエチルケトン)と、他の添加
剤(例えば消泡剤)とを所定割合で混合して、これをボ
ールミルを用いて24〜72時間程度混練して均質なス
ラリーを調整する。このスラリーを脱泡処理した後、例
えばドクターブレード法などの公知の方法で50〜30
0μm程度の厚みのグリーンシートを形成する。 【0037】次に得られたグリーンシートの表面にビア
ホール導体4となる穴をパンチ加工を行い、ビアホール
導体4の充填及び内部配線パターン2、容量発生パター
ン3を印刷する。尚、ビアホール導体4の充填は、内部
配線パターン2、容量発生パターン3を印刷した後に行
っても構わない。 【0038】内部配線パターン2、容量発生パターン3
用導体ペーストは、金、銀、銅及びその合金のうちから
選ばれた少なくとも1種類の金属を主成分とする導体ペ
ーストが用いられる。これらの内部配線パターン2、容
量発生パターン3及びビアホール導体4が形成されたグ
リーンシートを、各誘電体層1a、1b・・・の層構成
を考慮して、順次積層して、熱圧着などで基板本体1と
なる積層体を形成する。 【0039】このように得られた積層体を焼成する。先
ず、第1段階で、積層体に含まれる有機物を、ガラス成
分の軟化点以下の温度、例えば500℃前後で除去す
る。次にの段階で、ガラス成分、アルミナ粉末、チタン
酸ストロンチウムから成る誘電体層1a、1b・・・、
及び内部配線パターン2、容量発生パターン3、ビアホ
ール導体4の一体焼結を行う。この焼成温度は、誘電体
層1a、1b・・・のガラス成分や内部配線パターン2
などの導体材料の融点によって決定されるが、800〜
1050℃の温度で行われる。焼成雰囲気は、内部配線
パターン2の導体材料によって決定される。これによ
り、焼結された基板本体1が達成される。 【0040】得られた基板本体1上に、表面配線パター
ン5、厚膜抵抗体膜6を形成する。 【0041】厚膜抵抗体膜6は、表面配線パターン5の
焼きつけ雰囲気などによって決定されるが、非酸化性雰
囲気で焼成する場合には、六硼化ランタン、酸化スズな
どを主成分とする抵抗体ペーストを用いて形成される。
また、酸化性雰囲気で焼成する場合には、酸化ルテニウ
ムを主成分とする抵抗体ペーストを用いて形成される。 【0042】尚、表面配線パターン5は、銀系導体(銀
又は銀合金)や銅系(銅又は銅合金)を用いることがで
きるが、耐マイグレーション性などを考慮して、銅系材
料が好ましい。 【0043】(実験例)ガラスフリットとして、酸化珪
素51モル%、酸化アルミニウム19モル%、酸化マグ
ネシウム19モル%、酸化亜鉛8モル%、酸化硼素3モ
ル%(それに相当する硼酸)を混合し、約1600℃で
溶解した後、水中に投下し急冷することによりガラスを
得た。得られたガラスをアルミナボールとともにアルミ
ナポットに入れ、湿式粉砕して乾燥した。これにより平
均粒径2〜3μmの結晶化ガラスフリットを得た。 【0044】次に、表1に示す割合で、結晶化ガラスフ
リット、粒径2μmのアルミナ粉末及び又は粒径3.9
μm又は粒径1.6μmのチタン酸ストロンチウム粉末
とを混合した。それらの混合物をアルミナボールととも
に、アルミナポットに入れ、ボールミル混合した後に乾
燥して、容量内蔵型多層回路基板用組成物を得た。 【0045】得られた基板用組成物1000gに対し
て、アクリル樹脂100gと可塑剤70g及びトルエン
400gを加えてスラリーを作成し、このスラリーに真
空脱泡処理を施した。 【0046】次に、スラリーを用いて、ドクターブレー
ド法により厚さ200μmのグリーンシートを作成し
た。そして、このグリーンシートを10枚積層してホッ
トプレスし、得られた積層体を870℃1時間焼成して
多層の基板本体を作成した。 【0047】得られた基板本体の両面にインジウム−ガ
リウムの導体膜を形成し、JIS2141に準拠して、
Qメーターにより1MHzで誘電率を計測した。 【0048】尚、表1における評価として、誘電率温度
特性は実用的な温度範囲である−30〜80℃におい
て、±60ppm以内、基板の抗折強度が実用的な強度
である15kgf/cm2 以上を良品とした。 【0049】 【表1】【0050】実験例1、2(粒径3.9μmのチタン酸
ストロンチウムを添加)では、比誘電率が8.0を越
え、さらに誘電率温度特性も基板本体1の内部に容量を
形成するにあたり、実用的な範囲である±60ppm/
℃以下となり、抗折強度も実用に適した強度以上が確保
できる。 【0051】比較例1(チタン酸ストロンチウムを添加
していない)では、比誘電率も6.5と小さく、また誘
電率温度特性が130ppm/℃とプラス側に大きいも
のとなる。 【0052】比較例2(粒径1.6μmのチタン酸スト
ロンチウムを添加)では、比誘電率も7.0と、比較例
1に比較して若干の向上は見られたものの、誘電率温度
特性が78〜90ppm/℃とプラス側にまだ大きいも
のとなる。 【0053】ここで、組成的には、実施例1と同一であ
るが、チタン酸ストロンチウムの粒径が2.0μmを下
回るため、焼結時にペロブスカイト結晶構造の一部が崩
壊してしまい、特に温度特性の補償する作用が充分に現
れなくなる。 【0054】比較例3(アルミナを添加していない)で
は、比誘電率も8.2であるが、誘電率温度特性が25
〜80℃で67ppm/℃と若干大きく、さらに、抗折
強度が実用的な強度15kgf/cm2 を下回るものと
なる。この場合も、チタン酸ストロンチウムの粒径が2
μmを下回るため、その一部でペロブスカイト結晶構造
のが崩壊してしまうため、正の温度特性を有するアルミ
ナ粉末を添加しなくとも、温度特性が±60ppm/℃
以内にすることができない。 【0055】以上の実験結果から判るように、実施例
1、2に示すように、粒径2μm以上のペロブスカイト
結晶構造で、且つ負の温度特性を有する誘電体材料を、
アルミナ粉末とともに無機物フィラーとして用いること
で、誘電体層1a、1b・・・の誘電率の温度特性が±
60ppm/℃であることより、基板本体内部に容量発
生パターン3を形成して所定容量を得るようにしても、
その容量は周囲の温度変化に対しても安定した容量が維
持できる。 【0056】さらに、比誘電率を従来以上に比誘電率を
高めることができることにより、例えば容量発生パター
ン3の面積を小型化しても、充分な値の容量が得られ、
さらに、図1に示すマイクロストリップ線路パターン7
を基板本体1内部に形成する場合にも、小型化された線
路パターン7が達成され、波長短縮率に応じて、誘電体
材料の配合量を制御することにより、一層のマイクロス
トリップラインを極小化させることができる。 【0057】また、負の温特材料が、基板本体1の内部
配線パターン2、容量発生パターン3、ビアーホール導
体4及び表面配線パターン5、厚膜抵抗膜6などに、悪
影響を及ぼすことが一切なく、例えば基板本体1の表面
の厚膜抵抗体膜6の抵抗温度特性を変化させることが一
切ないものとなる。 【0058】 【0059】尚、上述の実施例では、内部に容量発生パ
ターン3、マイクロストリップ線路パターン7を形成し
た基板本体1を例示したが、その他にコイルパターンを
基板本体1の内部又は基板本体1の表面に形成して、内
部に形成した容量成分とともにL−C共振回路を作成す
るなど、種々の回路網に広く使用できる。 【0060】 【発明の効果】以上のように、本発明によれば、低温焼
成され、内部配線パターン、容量発生パターンとして、
比抵抗の小さい金、銀、銅などの金属材料を具備した容
量内蔵型多層回路基板であって、基板本体を構成する誘
電体層が、ガラス成分、アルミナ成分、さらに粒径2〜
10μmの負の温特材料を含んで構成されており、基板
本体の温度特性を±60ppm以内することができるた
め、基板本体内に容量発生パターンを形成して安定した
容量を形成することができる。 【0061】さらに、上述の負の温特材料は、焼結後に
おいても、安定した結晶構造を維持できるので、基板の
誘電率温度特性を良好に補正でき、基板表面の厚膜抵抗
体膜の抵抗温度特性に影響を与えることがない。 【0062】特に、誘電体材料として、チタン酸ストロ
ンチウムを用いれば、ペロブスカイト結晶構造の維持に
有効であり、粒径を小さくすることができる。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention corrects a temperature characteristic of a capacitance formed inside a capacitor, obtains a capacitance with low temperature dependency, and has a strong built-in capacitance. The present invention relates to a mold layer circuit board. 2. Description of the Related Art Conventionally, an insulating layer composed of an inorganic filler such as alumina and a glass component has been used at a low temperature (about 90 ° C.).
Multilayer circuit boards that can be fired (around 0 ° C.) have already been used. The low-temperature sinterable multilayer circuit board can use a low-resistance material such as gold, silver, or copper for the internal wiring pattern, and can realize an electronic circuit or a high-frequency circuit with a high signal propagation speed. Further, a capacitance generating pattern (insulation (dielectric)) is formed on such a multilayer circuit board together with an internal wiring pattern.
A multilayer circuit board with a built-in capacitor in which a pair of wiring patterns facing each other with a layer interposed therebetween is formed and a capacitor is built in is proposed. In this case, for example, an oscillator having a resonance circuit or the like in a multilayer circuit board with a built-in capacitor cannot be used without taking into account the dielectric constant temperature characteristics of the substrate composition material. This is because the glass component which is a material constituting the dielectric layer is, for example, borosilicate glass or aluminosilicate glass, and the inorganic filler is alumina, but these materials have a positive dielectric constant temperature characteristic, This is because the substrate body has a positive dielectric constant-temperature characteristic, and the capacitance value greatly fluctuates due to a temperature change. In order to correct the absolute value of the dielectric constant-temperature characteristic of such a substrate material to a small value, the use of titania together with alumina as an inorganic filler has already been proposed in JP-A-4-82297. However, titania has a dielectric constant temperature coefficient of -910 ppm / ° C., which is insufficient for correcting the dielectric constant temperature characteristics of the entire substrate material. This is because titania easily reacts with substrate materials such as alumina and glass components, wiring patterns, etc., especially with thick film resistors on the surface, etc., which lowers the strength of the substrate or changes the characteristics of especially thick film resistor films. This is because there is a possibility of causing the addition, and the addition amount is limited. As an inorganic filler added together with alumina for correcting the dielectric constant-temperature characteristics of a substrate material other than titania, a substance having a perovskite crystal structure and having a Curie point as high as room temperature, such as strontium stannate (dielectric) Rate-3720 ppm / ° C), strontium titanate (-3360 ppm / ° C), calcium titanate (-1620 ppm / ° C) and the like. [0007] However, when the above-mentioned substance having a perovskite crystal structure is used as an inorganic filler added together with alumina, the substance dissolves with a glass component during firing, and the crystal structure is broken. Conversely, there has been a problem that the above-described effect of correcting the dielectric constant-temperature characteristic is reduced. As a result of various experiments, the present inventors have found that the particle size of the inorganic filler of the substance having a perovskite crystal structure is controlled, for example, by increasing the particle size to reduce the contact area with the glass component. It has been found that the area in which a solid solution reaction occurs can be reduced. That is, it is possible to reduce the solid solution reaction and maintain a sufficient effect of correcting the dielectric constant-temperature characteristic. On the other hand, if the particle size is too large, the density of the fired substrate is inferior, and the strength and the moisture resistance reliability decrease. The present invention has been made based on the above findings, and an object of the present invention is to sufficiently correct the dielectric constant-temperature characteristics of a substrate by optimizing the particle size of an inorganic filler of a substance having a perovskite crystal structure. An object of the present invention is to provide a multi-layer circuit board with a built-in capacitor that can be manufactured and has high substrate strength. Means for Solving the Problems A plurality of dielectric layers composed of a glass component and an inorganic filler that can be fired at a relatively low temperature of 1000 ° C. or less are laminated, and a gold-based, silver-based, or copper-based conductor is provided inside. What is claimed is: 1. A multi-layer circuit board with a built-in capacitor comprising an internal wiring pattern made of a material and a capacitor generating pattern, wherein said inorganic filler comprises alumina powder, a perovskite crystal structure and a negative temperature characteristic of dielectric constant. And a strontium titanate powder of 3.9 to 10 μm. As described above, according to the present invention, since the material of the insulating (dielectric) layer is composed of a glass component and an inorganic filler, it can be used at a relatively low temperature (up to 1000 ° C.). Since sintering is possible, a metal material such as gold, silver, or copper having a small specific resistance can be used for the internal wiring pattern and the capacitance generation pattern. Further, as an inorganic filler used to correct the dielectric constant-temperature characteristic used together with the alumina filler, for example, a dielectric material having a perovskite crystal structure and a negative dielectric constant (hereinafter simply referred to as a negative temperature characteristic material) , The absolute value of the temperature characteristic of the entire dielectric constant of the dielectric layer can be corrected to a very small value, for example, ± 60 ppm / ° C., and a stable capacitance characteristic can be obtained even when a capacitance generation pattern is incorporated. Type multilayer circuit board. In the present invention, in particular, the particle diameter of the inorganic filler of the negative temperature characteristic material is set to 2 to 10 μm. That is, by setting the particle size to 2 μm or more, even when sintering at a low temperature (for example, 900 ° C.) together with alumina and a glass component, a solid solution reaction with the glass component can be suppressed during the sintering reaction, and the perovskite structure becomes Since it can be sufficiently maintained, the above-described correction action can be sufficiently maintained, and the dielectric constant temperature characteristic can be kept within ± 60 ppm as described above. Further, since the particle size is 10 μm or less, the entire substrate after firing can be densified, and the strength of the substrate can be maintained at a predetermined value or more. Here, the particle size is 10 μm.
If it exceeds m, the strength of the substrate will be remarkably deteriorated, and in the manufacturing process, when a slurry is formed with a solvent or the like together with the glass frit and the alumina filler, a settling phenomenon will occur and uniform dispersion cannot be achieved. Particularly, when strontium titanate is used as the negative temperature characteristic material, high substrate strength can be achieved. Furthermore, as compared with a substrate using titania, no titania component is deposited on the substrate surface, and even if a thick-film resistor film is formed on the surface, there is no significant change in its resistance characteristics. . DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a multilayer circuit board with a built-in capacitor according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a cross-sectional structure of a multilayer circuit board with a built-in capacitor according to the present invention. In the figure, 10 is a multilayer circuit board with a built-in capacitor, 1 is a plurality of dielectric layers 1a,
1b... Are laminated, and 2 is a dielectric layer 1
a, 1b... are predetermined internal wiring patterns formed between the dielectric layers 1a, 1b..., 4 are via-hole conductors,
Denotes a surface wiring pattern, and 6 denotes a thick resistor film. The substrate body 1 includes a plurality of dielectric layers 1a, 1b,.
a, 1b..., a predetermined internal wiring pattern 2 and a capacitance generating pattern 3 made of a gold-based, silver-based, or copper-based conductor and a via-hole conductor penetrating through the dielectric layers 1a, 1b. And 4. As a result, a part of a circuit having a predetermined capacitance is formed in the substrate body 1 by the capacitance generating patterns 3 opposed to each other across the dielectric layers, for example, 1c and 1d. On the main surface of the substrate main body 1, a predetermined surface wiring pattern 5 and a thick-film resistor film 6 made of a gold-based, silver-based, or copper-based conductor are formed. Is electrically connected to the internal wiring pattern 2 and the capacitance generating pattern 3, so that a predetermined circuit is achieved as a whole. Although not shown in the figure, a protective film is formed on the surface, and an IC chip, a chip electronic component, and the like are mounted as needed. Here, the capacitance formed inside the substrate main body 1 is generated, for example, between the capacitance generating patterns 3 having a predetermined facing area arranged so as to sandwich the dielectric layer 1c in the figure. Further, a predetermined capacitance is also generated between the capacitance generating patterns 3 arranged so as to sandwich the dielectric layer 1d. The dielectric layers 1a, 1b,... Are formed by sintering a glass component and an inorganic filler. The glass component is crystallized glass, amorphous glass, etc., the inorganic filler includes at least a powder of a negative temperature characteristic material,
Other examples include alumina powder. In addition, as inorganic filler negative temperature special materials, strontium titanate (−3360 ppm / ° C.), strontium stannate (−3720 ppm / ° C.), and calcium titanate (−1
620 ppm / ° C.). Examples of the glass component include low melting point glass such as borosilicate glass and aluminosilicate glass. The glass component constitutes 40 to 90% by weight.
The composition ratio of the inorganic filler composed of the alumina powder and the powder of the negative temperature characteristic material is 10 to 60% by weight.
When the amount of the inorganic filler is less than 10% by weight, materials that are effective for the strength of the substrate, such as alumina powder, are relatively reduced, so that the strength of the sintered substrate body 1 is reduced.
On the other hand, if it exceeds 60% by weight, a glass component is relatively insufficient in the sintered substrate body 1, so that a dense circuit board cannot be achieved. Preferably, the composition ratio of the glass component is 30.
To 50% by weight, with the balance being glass components. As described above, the particle diameter of the negative temperature characteristic material is 2 to 1
It is important to set it to 0 μm. Particle size 2-10μ
By setting m, even when the substrate material is made into a slurry state, a homogeneously mixed slurry can be obtained without causing a sedimentation phenomenon. Further, even when sintered at a temperature up to about 1050 ° C., a very stable perovskite crystal structure can be maintained, and a sufficient effect of correcting the dielectric constant temperature characteristic of the substrate 1 appears, and the temperature characteristic is kept within ± 60 ppm. be able to. As a result, even when the capacitance generating pattern 3 is formed, a stable capacitance component whose capacitance does not greatly depend on temperature can be easily formed. Furthermore, the relative permittivity can be set to 8.0 or more, and a sufficient capacitance value can be achieved even when the facing area of the capacitance generating pattern 3 is reduced. In particular, if strontium titanate is used as the above-mentioned dielectric material, the bending strength of the substrate is superior to other dielectric materials. Further, the characteristics of the conductor material forming the internal wiring pattern 2 and the capacitance generating pattern 3 formed between the dielectric layers 1a, 1b,... Are not affected. Further, when used together with the alumina powder of the inorganic filler, the strength of the substrate body 1 becomes a practical value. Incidentally, ruthenium oxide,
Even if the thick-film resistor film 6 made of lanthanum hexaboride, tin oxide, or the like is formed, no semiconductor conductivity is given to the thick-film resistor film 6 and the temperature characteristics are not shifted to the negative side at all. Among the above-mentioned negative temperature-sensitive materials, strontium titanate is preferable because, as described above, the strength of the substrate main body 1 is sufficiently obtained, the effect of compensating for the temperature characteristics appears remarkably, and the firing conditions are reduced. This is because it is relatively relaxed. For example, calcium titanate has a smaller ionic radius than strontium titanate.
The reaction with the glass component becomes remarkable, the crystal structure is easily broken, and the particle size is reduced to 10 μm in order to sufficiently obtain the effect of correcting the dielectric constant.
The value must be close to m. Further, strontium stannate is difficult to maintain a perovskite structure after sintering, and it is necessary to pay sufficient attention to the sintering conditions. The dielectric layers 1a, 1b,..., Besides the glass component, the alumina powder, and the powder of the negative temperature characteristic material,
An oxidizing agent or the like may be added as needed. Next, a description will be given of a method of manufacturing the multilayer circuit board with a built-in capacitor according to the present invention. First, the composition for the substrate (the dielectric layers 1a and 1b)
・ ・ ・) Or a crystallized or amorphous low melting point glass frit, alumina powder, a negative temperature characteristic material such as strontium titanate powder, an organic binder (for example, polymethacrylate resin), and a plasticizer (for example, dibutyl) (Phthalate), a solvent (for example, methyl ethyl ketone), and another additive (for example, an antifoaming agent) are mixed at a predetermined ratio, and the mixture is kneaded using a ball mill for about 24 to 72 hours to prepare a homogeneous slurry. After defoaming the slurry, the slurry is subjected to 50 to 30 by a known method such as a doctor blade method.
A green sheet having a thickness of about 0 μm is formed. Next, a hole to be a via-hole conductor 4 is punched on the surface of the obtained green sheet, and the filling of the via-hole conductor 4, the internal wiring pattern 2, and the capacitance generating pattern 3 are printed. The filling of the via-hole conductor 4 may be performed after the internal wiring pattern 2 and the capacitance generating pattern 3 are printed. Internal wiring pattern 2, capacitance generating pattern 3
As the conductive paste for use, a conductive paste mainly containing at least one metal selected from gold, silver, copper and alloys thereof is used. The green sheets on which the internal wiring patterns 2, the capacitance generating patterns 3, and the via hole conductors 4 are formed are sequentially laminated in consideration of the layer configuration of each of the dielectric layers 1a, 1b,. A laminate to be the substrate body 1 is formed. The laminate thus obtained is fired. First, in a first step, organic substances contained in the laminate are removed at a temperature lower than the softening point of the glass component, for example, at around 500 ° C. In the next stage, dielectric layers 1a, 1b,... Made of a glass component, alumina powder, strontium titanate,
Then, the internal wiring pattern 2, the capacitance generating pattern 3, and the via-hole conductor 4 are integrally sintered. This firing temperature depends on the glass components of the dielectric layers 1a, 1b,.
Is determined by the melting point of the conductive material such as
It is performed at a temperature of 1050 ° C. The firing atmosphere is determined by the conductor material of the internal wiring pattern 2. Thereby, a sintered substrate body 1 is achieved. A surface wiring pattern 5 and a thick resistor film 6 are formed on the obtained substrate main body 1. The thickness of the thick resistor film 6 is determined by the baking atmosphere of the surface wiring pattern 5 and the like. When baking is performed in a non-oxidizing atmosphere, the resistance is mainly composed of lanthanum hexaboride, tin oxide, or the like. It is formed using body paste.
When firing in an oxidizing atmosphere, the resistor paste is formed using a resistor paste containing ruthenium oxide as a main component. The surface wiring pattern 5 can be made of a silver-based conductor (silver or silver alloy) or a copper-based (copper or copper alloy), but is preferably a copper-based material in consideration of migration resistance and the like. . (Experimental example) As a glass frit, 51 mol% of silicon oxide, 19 mol% of aluminum oxide, 19 mol% of magnesium oxide, 8 mol% of zinc oxide, and 3 mol% of boron oxide (boric acid corresponding thereto) were mixed. After melting at about 1600 ° C., it was dropped into water and rapidly cooled to obtain a glass. The obtained glass was put in an alumina pot together with alumina balls, wet-pulverized and dried. Thereby, a crystallized glass frit having an average particle size of 2 to 3 μm was obtained. Next, crystallized glass frit, alumina powder having a particle size of 2 μm, and / or a particle size of 3.9 were prepared in the proportions shown in Table 1.
μm or strontium titanate powder having a particle size of 1.6 μm was mixed. The mixture was placed in an alumina pot together with alumina balls, mixed with a ball mill, and dried to obtain a composition for a multilayer circuit board with a built-in capacity. A slurry was prepared by adding 100 g of an acrylic resin, 70 g of a plasticizer and 400 g of toluene to 1000 g of the obtained composition for a substrate, and the slurry was subjected to a vacuum defoaming treatment. Next, a green sheet having a thickness of 200 μm was prepared from the slurry by a doctor blade method. Then, ten green sheets were laminated and hot-pressed, and the obtained laminate was fired at 870 ° C. for one hour to form a multilayer substrate body. A conductor film of indium-gallium was formed on both surfaces of the obtained substrate main body, and in accordance with JIS2141.
The dielectric constant was measured at 1 MHz with a Q meter. The evaluation in Table 1 shows that the dielectric constant-temperature characteristics are within ± 60 ppm in a practical temperature range of −30 to 80 ° C., and the flexural strength of the substrate is 15 kgf / cm 2, which is a practical strength. The above was regarded as non-defective. [Table 1] In Experimental Examples 1 and 2 (adding strontium titanate having a particle size of 3.9 μm), the relative dielectric constant exceeded 8.0, and the dielectric constant-temperature characteristics were higher in forming a capacitor inside the substrate body 1. , A practical range of ± 60 ppm /
° C or less, and the transverse rupture strength can be secured to a strength suitable for practical use. In Comparative Example 1 (without addition of strontium titanate), the relative dielectric constant was as low as 6.5, and the dielectric constant-temperature characteristic was as large as 130 ppm / ° C. on the plus side. In Comparative Example 2 (adding strontium titanate having a particle size of 1.6 μm), the relative dielectric constant was 7.0, which was slightly improved as compared with Comparative Example 1. Of 78 to 90 ppm / ° C. is still large on the positive side. Here, the composition is the same as that of Example 1, but since the particle size of strontium titanate is less than 2.0 μm, a part of the perovskite crystal structure is collapsed during sintering. The effect of compensating for the temperature characteristic does not appear sufficiently. In Comparative Example 3 (without addition of alumina), the relative dielectric constant was 8.2, but the dielectric constant-temperature characteristic was 25.
67 ppm / ° C. and slightly larger at to 80 ° C., further becomes the bending strength falls below the practical strength 15 kgf / cm 2. Also in this case, the particle size of strontium titanate is 2
Since the perovskite crystal structure is partially collapsed because the particle diameter is smaller than μm, the temperature characteristic is ± 60 ppm / ° C. without adding alumina powder having a positive temperature characteristic.
Can not be within. As can be seen from the above experimental results, as shown in Examples 1 and 2, a dielectric material having a perovskite crystal structure having a particle diameter of 2 μm or more and having a negative temperature characteristic was used.
By using as an inorganic filler together with the alumina powder, the temperature characteristics of the dielectric constant of the dielectric layers 1a, 1b.
Since the capacitance is 60 ppm / ° C., even when the capacitance generating pattern 3 is formed inside the substrate body to obtain a predetermined capacitance,
The capacitance can maintain a stable capacitance against a change in ambient temperature. Further, since the relative permittivity can be increased more than before, a sufficient value of capacitance can be obtained even if the area of the capacitance generating pattern 3 is reduced, for example.
Further, the microstrip line pattern 7 shown in FIG.
Is formed inside the substrate main body 1, a miniaturized line pattern 7 is achieved, and by controlling the compounding amount of the dielectric material according to the wavelength shortening rate, a further microstrip line can be minimized. Can be done. Further, the negative temperature characteristic material has no adverse effect on the internal wiring pattern 2, the capacitance generating pattern 3, the via hole conductor 4 and the surface wiring pattern 5, the thick resistive film 6, etc. of the substrate body 1. For example, the resistance-temperature characteristics of the thick-film resistor film 6 on the surface of the substrate body 1 do not change at all. In the above-described embodiment, the substrate body 1 in which the capacitance generating pattern 3 and the microstrip line pattern 7 are formed is exemplified. However, a coil pattern may be additionally provided inside the substrate body 1 or the substrate body. 1 and can be widely used in various circuit networks, such as forming an LC resonance circuit together with a capacitance component formed inside. As described above, according to the present invention, low-temperature baking is performed, and the internal wiring pattern and the capacitance generating pattern are
A multi-layer circuit board with a built-in capacitor comprising a metal material such as gold, silver, or copper having a small specific resistance, wherein a dielectric layer constituting the substrate body is composed of a glass component, an alumina component, and a particle size of 2 to 2.
It is configured to include a negative temperature characteristic material of 10 μm, and the temperature characteristics of the substrate main body can be within ± 60 ppm. Therefore, a capacitance generating pattern can be formed in the substrate main body to form a stable capacitance. . Further, since the above-mentioned negative temperature characteristic material can maintain a stable crystal structure even after sintering, the dielectric constant-temperature characteristic of the substrate can be corrected well, and the thickness of the thick resistor film on the substrate surface can be improved. It does not affect the resistance temperature characteristics. In particular, when strontium titanate is used as a dielectric material, it is effective for maintaining a perovskite crystal structure, and the particle size can be reduced.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の容量内蔵型多層回路基板の断面構造を
示す図である。 【符号の説明】 10・・・・・・容量内蔵型多層回路基板 1・・・・・・基板本体 1a、1b・・誘電体層 2・・・・・・内部配線パターン 3・・・・・・容量発生パターン 4・・・・・・ビアホール導体 5・・・・・・表面配線パターン 6・・・・・・厚膜抵抗体膜 7・・・・・・マイクロストリップ線路パターン
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a diagram showing a cross-sectional structure of a multilayer circuit board with a built-in capacitor according to the present invention. [Description of Signs] 10 ... Capacitance built-in multilayer circuit board 1 ... Board bodies 1a, 1b ... Dielectric layer 2 ... Inner wiring pattern 3 ... ..Capacitance generating pattern 4 Via-hole conductor 5 Surface wiring pattern 6 Thick film 7 Microstrip line pattern

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/46 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H05K 3/46

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 1000℃以下の比較的低温で焼成可能
なガラス成分及び無機物フィラーから成る誘電体層を複
数積層するとともに、内部に金系、銀系又は銅系導体材
料から成る内部配線パターン及び容量発生パターンを配
して成る容量内蔵型多層回路基板であって、前記無機物
フィラーが、アルミナ粉末と、ペロブスカイト結晶構造
で且つ誘電率の温度特性が負である粒径3.9〜10μ
mのチタン酸ストロンチウム粉末とを含むことを特徴と
する容量内蔵型多層回路基板。
(57) [Claim 1] A plurality of dielectric layers composed of a glass component and an inorganic filler which can be fired at a relatively low temperature of 1000 ° C. or less, and a plurality of dielectric layers each including gold, silver, or copper therein. A multilayer circuit board with a built-in capacitor comprising an internal wiring pattern and a capacitance generating pattern made of a system conductor material, wherein the inorganic filler has an alumina powder , a perovskite crystal structure, and a negative temperature characteristic of a dielectric constant. particle size 3.9 ~10μ
m. strontium titanate powder .
JP21653393A 1993-08-31 1993-08-31 Multilayer circuit board with built-in capacitance Expired - Fee Related JP3443436B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21653393A JP3443436B2 (en) 1993-08-31 1993-08-31 Multilayer circuit board with built-in capacitance

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21653393A JP3443436B2 (en) 1993-08-31 1993-08-31 Multilayer circuit board with built-in capacitance

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0766563A JPH0766563A (en) 1995-03-10
JP3443436B2 true JP3443436B2 (en) 2003-09-02

Family

ID=16689932

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21653393A Expired - Fee Related JP3443436B2 (en) 1993-08-31 1993-08-31 Multilayer circuit board with built-in capacitance

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3443436B2 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3761289B2 (en) * 1996-09-26 2006-03-29 日本特殊陶業株式会社 Dielectric material, manufacturing method thereof, circuit board using the same, and multilayer circuit board
TW487272U (en) * 2001-03-20 2002-05-11 Polytronics Technology Corp Multilayer circuit boards
JP4578134B2 (en) * 2004-03-29 2010-11-10 京セラ株式会社 Glass ceramic multilayer wiring board with built-in capacitor
KR101018102B1 (en) * 2008-08-25 2011-02-25 삼성전기주식회사 Multi-layer LTCC substrate and manufactoring method thereof
JP6136061B2 (en) * 2012-12-13 2017-05-31 株式会社村田製作所 Semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0766563A (en) 1995-03-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006165585A (en) Ceramic multilayer printed circuit boards
JP2001114554A (en) Low-temperature burnable ceramic composition and ceramic multilayer substrate
JP3443436B2 (en) Multilayer circuit board with built-in capacitance
KR100803499B1 (en) Thick-film dielectric and conductive compositions
JP3327045B2 (en) Dielectric paste and thick film capacitor using the same
JP3231892B2 (en) Method for manufacturing multilayer substrate
JP2002043757A (en) Multilayer board and manufacturing method
JP3550270B2 (en) Low temperature fired porcelain composition and method for producing low temperature fired porcelain
JP3103686B2 (en) Multilayer circuit board
JP3164664B2 (en) Multilayer circuit board
JP2931448B2 (en) Composite circuit board with built-in capacitor
JP2753892B2 (en) Composite circuit board with built-in capacitor
JP2003040670A (en) High thermal expansion ceramic composition, high thermal expansion ceramic and its manufacturing method, and multilayer wiring substrate and its mounting structure
JPH1153940A (en) Copper metalized composition and glass ceramic wiring board using it
JP3190111B2 (en) Multilayer wiring board and dielectric layer material
JP2842705B2 (en) Composite circuit board with built-in capacitor
JP4095416B2 (en) Glass ceramic multilayer wiring board
JP2989945B2 (en) Composite circuit board with built-in capacitor
JP2700920B2 (en) Composite circuit board with built-in capacitor
JP2002198624A (en) Circuit board
JP2652229B2 (en) Multilayer circuit ceramic substrate
JP3315182B2 (en) Composition for ceramic substrate
JP4623851B2 (en) Multilayer wiring board
Burn et al. New high-performance, low-fire MLC dielectrics for SMT applications
JPH1112037A (en) Low-temperature-sinterable ceramic composition and low-temperature-sintered ceramic

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees