JP3442190B2 - Exhaust gas treatment method and apparatus for chemical vapor deposition apparatus - Google Patents
Exhaust gas treatment method and apparatus for chemical vapor deposition apparatusInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、化学的気相成長(以
下、「ＣＶＤ」と記載する)装置からの排ガス中に含ま
れる粉塵及び粘性物質を排ガスから分離・除去するため
のＣＶＤ装置排ガス処理方法及び装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a CVD apparatus exhaust gas for separating and removing dust and viscous substances contained in the exhaust gas from a chemical vapor deposition (hereinafter referred to as "CVD") apparatus from the exhaust gas. The present invention relates to a processing method and device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体製造プロセスで用いられる薄膜の
形成方法の一つに、ＣＶＤ法がある。ＣＶＤ法は、形成
させようとする薄膜材料を構成する元素からなる１種ま
たは２種以上の化合物例えばハロゲン化物、硫化物、水
素化物等または単体のガスを基板上に供給し、気相また
は基板表面での化学反応(例えば高温中で熱分解、酸
化、還元、重合、気相化合反応等)により所望の薄膜を
基板上に沈着、形成させる方法である。ＣＶＤ法は化学
反応であるため、非常に広範囲かつ多様な物質の薄膜形
成が可能であり、また、種々の気体反応材料の組み合わ
せにより、自由な組成の制御が可能となり、今までに知
られていなかった全く新しい構造、組成の薄膜を合成す
ることができ、しかも、それらの物質の融点よりも充分
に低い温度で薄膜を形成できる方法である。2. Description of the Related Art A CVD method is one of the methods for forming a thin film used in a semiconductor manufacturing process. In the CVD method, one or more compounds consisting of elements constituting the thin film material to be formed, for example, a halide, a sulfide, a hydride, or a simple substance gas is supplied onto a substrate to form a gas phase or a substrate. It is a method of depositing and forming a desired thin film on a substrate by a chemical reaction on the surface (for example, thermal decomposition, oxidation, reduction, polymerization, gas phase combination reaction at high temperature). Since the CVD method is a chemical reaction, it is possible to form a thin film of a wide range of various substances, and it is possible to freely control the composition by combining various gas-reactive materials. It is a method that can synthesize a thin film having a completely new structure and composition, which has never existed, and can form a thin film at a temperature sufficiently lower than the melting point of those substances.
【０００３】ＣＶＤ法により、例えばＳｉＨ4(モノシラ
ン)、テトラエトキシシラン(ＴＥＯＳ)等の成膜用原料
を供給することにより、Ｓｉ基板等にＳｉＯ2薄膜を形
成することができる。しかし、ＣＶＤ装置からの排ガス
には、薄膜形成に関与しなかった未反応の原料ガスばか
りでなく、ＳｉＯ2等の粉塵や、成膜過程において副生
するアルコール、アルデヒド及び粘性の高いポリシロキ
サン等が含まれ、排ガス中のこれらの成分は有害なもの
が多く、大気中にそのまま排出することは人体及び環境
に悪影響を及ぼす恐れがあるため禁止されている。A SiO 2 thin film can be formed on a Si substrate or the like by supplying a film forming material such as SiH 4 (monosilane) or tetraethoxysilane (TEOS) by the CVD method. However, in the exhaust gas from the CVD device, not only unreacted raw material gas that was not involved in the thin film formation but also dust such as SiO 2 and alcohol, aldehyde and highly viscous polysiloxane produced as a by-product during the film formation process Since many of these components in the exhaust gas are harmful, their direct release into the atmosphere is prohibited because they may adversely affect the human body and the environment.
【０００４】ＣＶＤ装置排ガスを処理するための装置と
して次のようなものが先行技術として開示されている。
例えば特開平５−261232号公報には湿式排ガス処理装置
として、常圧ＣＶＤ装置からの排ガスを処理するスクラ
バにおいて、スクラバのシャワーノズルからアニオン系
界面活性剤またはノニオン系界面活性剤含有洗浄水を噴
霧することを特徴とするスクラバが記載されている。The following devices have been disclosed as prior art as devices for treating exhaust gas from the CVD device.
For example, in JP-A-5-261232, as a wet exhaust gas treatment device, in a scrubber that treats exhaust gas from an atmospheric pressure CVD device, anionic surfactant or nonionic surfactant-containing cleaning water is sprayed from a shower nozzle of the scrubber. A scrubber characterized by:
【０００５】また、特開平３−229609号公報には乾式Ｃ
ＶＤ排ガス処理装置として、ＣＶＤ廃ガスの固形成分を
微粉体として収集・廃棄する装置であって冷却と廃ガス
の廃棄通路に設けた複数枚の金網表面に微粉体を堆積さ
せ真空掃除機で微粉体を浮遊・吸引して廃棄する装置が
記載されている。Further, Japanese Patent Laid-Open No. 3-229609 discloses a dry type C
As a VD exhaust gas treatment device, a device that collects and disposes of solid components of CVD waste gas as fine powder, and deposits fine powder on the surfaces of a plurality of wire meshes provided in cooling and waste gas disposal passages, and then uses a vacuum cleaner to obtain fine powder. It describes a device that floats, aspirates, and discards the body.
【０００６】更に、特願平６−295158号には、乾式ＣＶ
Ｄ装置排ガス処理装置として、ＣＶＤ装置と濾過集塵機
の間に濾過助剤供給装置を備えた装置であり、排ガスを
濾過助剤と接触させることにより粉塵及び粘性物質を除
去することを特徴とする排ガス処理装置が記載されてい
る。Further, Japanese Patent Application No. 6-295158 discloses a dry CV.
D device An exhaust gas treatment device having a filter aid supply device between a CVD device and a filter dust collector, which is characterized by removing dust and viscous substances by bringing the exhaust gas into contact with the filter aid. A processing device is described.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
特開平５−261232号公報に記載された湿式法では、廃液
中に粉塵及び毒性の高いガスが含まれるため後処理が必
要になる。また、特開平３−229609号公報に記載の装置
では、固体微粉粒を微粉体とするためにＣＶＤ装置１台
当たり４〜５m3／分の排ガスを冷却する装置が必要とな
り、例えば常圧ＣＶＤ装置より発生した粉塵及びポリシ
ロキサン等の粘性の高い物質を多く含む排ガスを補集・
回収した場合、粘性の高い物質が金網表面に付着し、真
空掃除機等ではほとんど浮遊・吸引して除去できないば
かりでなく、真空掃除機の配管内壁にも付着し排気量の
低下を招き、排ガス処理の効率が非常に悪いという問題
があった。更に、特願平６−295158号記載の装置では、
ＣＶＤ装置と濾過集塵機の間に濾過助剤供給装置を備え
ているため、フィルタ−へのプレコート効率が悪く、多
くの助剤を必要とするためランニングコストが増大し、
取り扱い上難があった。However, in the wet method described in the above-mentioned JP-A-5-261232, since waste liquid contains dust and highly toxic gas, post-treatment is required. Further, in the apparatus described in Japanese Patent Laid-Open No. 3-229609, an apparatus for cooling exhaust gas of 4 to 5 m 3 / min is required for each CVD apparatus in order to make solid fine particles into fine powder. Collects exhaust gas containing a lot of highly viscous substances such as dust and polysiloxane generated from the equipment.
When collected, a highly viscous substance adheres to the wire mesh surface and cannot be removed by floating and sucking with a vacuum cleaner, etc., and also adheres to the inner wall of the pipe of the vacuum cleaner, leading to a reduction in exhaust gas and exhaust gas. There was a problem that the processing efficiency was very poor. Furthermore, in the device described in Japanese Patent Application No. 6-295158,
Since the filter aid supply device is provided between the CVD device and the filter dust collector, the precoating efficiency on the filter is poor, and a large amount of the aid is required, which increases the running cost,
It was difficult to handle.
【０００８】従って、本発明の目的は、以上のような課
題を解決したＣＶＤ排ガス処理方法及び装置を提供する
ことにある。Therefore, an object of the present invention is to provide a CVD exhaust gas processing method and apparatus which solve the above problems.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、粉塵及
び粘性物質を含むＣＶＤ装置排ガスを濾過集塵機に導入
して粉塵及び粘性物質を分離・除去するに際し、濾過助
剤を予め濾過集塵機のフィルターにコーティングし、次
に、前記排ガスをフィルターにコーティングされた濾過
助剤と接触させることにより粉塵及び粘性物質を濾過助
剤に凝集させて凝集体とし、それによって濾過集塵機の
前記フィルターへ粉塵及び粘性物質が直接付着すること
を防止することからなるＣＶＤ装置排ガス処理方法にお
いて、濾過助剤を予め濾過集塵機のフィルターにコーテ
ィングする際に、濾過助剤を拡散させるために、濾過集
塵機に空気を導入することを特徴とするＣＶＤ装置排ガ
ス処理方法である(以下、「第１発明」という)。That is, according to the present invention, when a CVD apparatus exhaust gas containing dust and a viscous substance is introduced into a filter dust collector to separate and remove dust and a viscous substance, a filter aid is preliminarily used in the filter dust collector. Coat the filter, and then contact the exhaust gas with the filter aid coated on the filter to agglomerate the dust and viscous material into the filter aid to form agglomerates, thereby dusting the filter of the filter dust collector and In a method for treating exhaust gas of a CVD apparatus, which comprises preventing direct adhesion of viscous substances, when coating a filter of a filter dust collector with a filter aid in advance, air is introduced into the filter dust collector to diffuse the filter aid. The CVD apparatus exhaust gas treatment method is characterized in that (hereinafter, referred to as "first invention").
【００１０】また、本発明は、粉塵及び粘性物質を含む
ＣＶＤ装置排ガスを濾過集塵機に導入して粉塵及び粘性
物質を分離・除去するに際し、前記排ガスを濾過集塵機
のフィルターにコーティングされた濾過助剤と接触させ
ることにより粉塵及び粘性物質を濾過助剤に凝集させて
凝集体とし、それによって前記フィルターへ前記粉塵及
び粘性物質が直接付着することを防止することからなる
ＣＶＤ装置排ガス処理方法において、前記フィルターに
付着している前記凝集体及びフィルターを乾燥させるた
めに、濾過集塵機に空気を導入することを特徴とするＣ
ＶＤ装置排ガス処理方法である(以下、「第２発明」と
いう)。Further, the present invention is a filter aid coated with a filter of a filter dust collector when the exhaust gas of a CVD device containing dust and a viscous substance is introduced into a filter dust collector to separate and remove the dust and the viscous substance. In a method for treating exhaust gas from a CVD apparatus, which comprises preventing the dust and the viscous substance from directly adhering to the filter by aggregating the dust and the viscous substance with the filter aid by contacting with the filter aid. In order to dry the agglomerate adhering to the filter and the filter, air is introduced into the filter dust collector C
This is a VD device exhaust gas treatment method (hereinafter referred to as "second invention").
【００１１】更に、本発明は、粉塵及び粘性物質を含む
ＣＶＤ装置排ガスを濾過集塵機に導入して粉塵及び粘性
物質を分離・除去するに際し、前記排ガスを濾過助剤と
接触させることにより粉塵及び粘性物質を濾過助剤に凝
集させて凝集体とし、それによって濾過集塵機のフィル
ターへ粉塵及び粘性物質が直接付着することを防止する
ことからなるＣＶＤ装置排ガス処理方法において、排ガ
ス中の前記凝集体及び前記フィルターを乾燥させるため
に、濾過集塵機に空気を導入することを特徴とするＣＶ
Ｄ排ガス処理方法である(以下、「第３発明」という)。Further, according to the present invention, when the exhaust gas of the CVD apparatus containing the dust and the viscous substance is introduced into the filter dust collector to separate and remove the dust and the viscous substance, the dust and the viscous substance are contacted with the filter aid. In a method for treating exhaust gas of a CVD apparatus, which comprises preventing a dust and a viscous substance from directly adhering to a filter of a filter dust collector by aggregating the substance with a filter aid to form an aggregate, the aggregate and the CV characterized by introducing air into the filter dust collector to dry the filter
D exhaust gas treatment method (hereinafter referred to as "third invention").
【００１２】また、本発明は、上記第１発明及び第２発
明に係るＣＶＤ装置排ガス処理方法を行うのに好適なＣ
ＶＤ装置排ガス処理装置を提供するものである。即ち、
本発明は、ＣＶＤ装置、その排ガス流路に設置され、排
ガス中の粉塵及び粘性物質を分離・除去するためのフィ
ルターを有する濾過集塵機、濾過集塵機により粉塵及び
粘性物質を除去された排ガスを無害化するためのガス処
理塔及び排気ファンを備えているＣＶＤ装置排ガス処理
装置において、濾過集塵機に濾過助剤を添加するための
濾過助剤供給装置並びに濾過集塵機に空気を導入するた
めの空気導入口を備えてなることを特徴とするＣＶＤ装
置排ガス処理装置である(以下、「第４発明」という)。Further, the present invention is suitable for carrying out the CVD apparatus exhaust gas treatment method according to the first invention and the second invention.
A VD device exhaust gas treatment device is provided. That is,
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention makes a CVD device, a filter dust collector installed in the exhaust gas flow path thereof, having a filter for separating and removing dust and viscous substances in exhaust gas, and detoxifying exhaust gas from which dust and viscous substances have been removed by the filter dust collector. In an exhaust gas treatment apparatus for a CVD apparatus equipped with a gas treatment tower and an exhaust fan, a filter aid supply device for adding a filter aid to the filter dust collector and an air inlet for introducing air into the filter dust collector are provided. A CVD apparatus exhaust gas treatment apparatus characterized by being provided (hereinafter, referred to as “fourth invention”).
【００１３】本発明の第１発明に係るＣＶＤ装置排ガス
処理方法は、粉塵及び粘性物質を含むＣＶＤ装置排ガス
を濾過集塵機に導入して粉塵及び粘性物質を分離・除去
するに際し、濾過助剤を予め濾過集塵機のフィルターに
コーティングし、次に、前記排ガスをフィルターにコー
ティングされた濾過助剤と接触させることにより粉塵及
び粘性物質を濾過助剤に凝集させて凝集体とし、それに
よって濾過集塵機の前記フィルターへ粉塵及び粘性物質
が直接付着することを防止するものである。即ち、排ガ
ス処理を行う前に、濾過集塵機内のフィルターを濾過助
剤によってコーティングした後(以下、この操作を「プ
レコート」と記載する)、排ガス処理を開始すれば、わ
ずかな粉塵及び粘性物質も濾過集塵機内のフィルターに
直接付着することがないので、より迅速かつ効率的な排
ガス処理を行うことができる。In the method for treating exhaust gas from a CVD apparatus according to the first aspect of the present invention, when the exhaust gas from a CVD apparatus containing dust and viscous substances is introduced into a filter dust collector to separate and remove dust and viscous substances, a filter aid is previously added. The filter of the filter dust collector is coated, and then the exhaust gas is contacted with the filter aid coated on the filter to agglomerate dust and viscous substances into the filter aid to form agglomerates, thereby the filter of the filter dust collector. It prevents direct adhesion of dust and viscous substances. That is, before performing the exhaust gas treatment, after coating the filter in the filter dust collector with the filter aid (hereinafter, this operation is referred to as "precoat"), if the exhaust gas treatment is started, even slight dust and viscous substances Since it does not directly adhere to the filter in the filter dust collector, the exhaust gas can be treated more quickly and efficiently.
【００１４】このプレコート操作の際に、濾過助剤を効
率的に拡散させるために、本発明の第１発明に係るＣＶ
Ｄ装置排ガス処理方法を用いることができる。即ち、本
発明の第１発明は、濾過助剤を予め濾過集塵機のフィル
ターにプレコートする際に、濾過助剤を拡散させるため
に、濾過集塵機に空気を導入することを特徴とするもの
である。ここで、濾過助剤拡散のための空気は、排ガス
の流路から導入される空気とは別系統で導入されるもの
で、直接濾過集塵機内に導入されるのがよい。また、濾
過助剤の拡散効果を増すためには、濾過集塵機内のフィ
ルターより下部即ち上流帯域から導入されるのが好まし
い。なお、濾過助剤拡散するために外部から導入される
空気は、直接濾過集塵機本体に導入するのがよく、好ま
しくはヒーター等により加温した低湿度の空気を導入す
るのがよい。In order to efficiently diffuse the filter aid during this precoating operation, the CV according to the first aspect of the present invention is used.
D device exhaust gas treatment method can be used. That is, the first invention of the present invention is characterized in that air is introduced into the filter dust collector in order to diffuse the filter aid when pre-coating the filter of the filter dust collector with the filter aid. Here, the air for diffusing the filter aid is introduced in a system different from the air introduced from the flow path of the exhaust gas, and is preferably introduced directly into the filter dust collector. Further, in order to increase the diffusion effect of the filter aid, it is preferably introduced from below the filter in the filter dust collector, that is, from the upstream zone. The air introduced from the outside in order to diffuse the filter aid is preferably introduced directly into the main body of the filter dust collector, preferably the low-humidity air heated by a heater or the like.
【００１５】次に、本発明の第２発明に係るＣＶＤ装置
排ガス処理方法は、ＣＶＤ装置からの粉塵及び粘性物質
を含む排ガスを濾過集塵機のフィルターにプレコートさ
れた濾過助剤と接触させ、粉塵及び粘性物質を濾過助剤
に凝集させて凝集体とし、それによって前記フィルター
へ粉塵及び粘性物質が直接付着することを防止し、濾過
集塵機(接触濾過集塵機：固気分離装置)内のフィルター
の目詰まりを防止し、更に、凝集した濾過助剤、粉塵及
び粘性物質等からなる凝集体やフィルターを、外部から
導入する空気によって乾燥させ、フィルターからの吹き
払いを容易にすることにより、迅速かつ効率的な排ガス
処理を成し得る方法である。Next, in the method for treating exhaust gas from a CVD apparatus according to the second aspect of the present invention, the exhaust gas containing dust and viscous substances from the CVD apparatus is brought into contact with the filter aid pre-coated on the filter of the filter dust collector to remove dust and The viscous substance is agglomerated with a filter aid to form an agglomerate, thereby preventing the dust and the viscous substance from directly adhering to the filter, and clogging of the filter in the filter dust collector (contact filter dust collector: solid-gas separation device). In addition, it is possible to quickly and efficiently prevent air from being blown from the filter by drying the agglomerates and filters made of agglomerated filter aids, dust and viscous substances, etc. with the air introduced from the outside to prevent the This is a method that can perform various exhaust gas treatments.
【００１６】ＣＶＤ装置からの粉塵及び粘性物質を含む
排ガスを濾過助剤と接触させ、粉塵及び粘性物質を濾過
助剤に凝集させて凝集体とし、それによって濾過集塵機
内のフィルターの目詰まりを防止する方法においては、
フィルター表面に粉塵等が直接付着することはないが、
フィルターに堆積した凝集した濾過助剤、粉塵及び粘性
物質等からなる凝集体により、徐々に濾過能力が低下す
る。この凝集体は、ＣＶＤ工程において副生するアルコ
ール、アルデヒド類等により、一般に粘稠であるから、
単に従来の方法で吹き払いをしただけでは十分ではな
い。本発明の第２発明に係るＣＶＤ装置排ガス処理方法
によれば、外部から導入する空気によってこれらを乾燥
させることにより、機械振動、圧縮空気等でフィルター
表面から容易に除去できるので、一層迅速かつ効率的な
排ガス処理を成し得る。Exhaust gas containing dust and viscous substances from the CVD device is brought into contact with the filter aid, and the dust and viscous substances are aggregated into the filter aid to form aggregates, thereby preventing clogging of the filter in the filter dust collector. In the way
Although dust etc. will not directly adhere to the filter surface,
The filter performance is gradually reduced by the aggregates of the filter aid, dust, viscous substances, etc. accumulated on the filter. Since this agglomerate is generally viscous due to alcohols, aldehydes, etc. produced as by-products in the CVD process,
Merely blowing off by traditional methods is not enough. According to the CVD apparatus exhaust gas treatment method of the second aspect of the present invention, it is possible to easily remove them from the filter surface by mechanical vibration, compressed air, etc. by drying them with the air introduced from the outside, so that the method is quicker and more efficient Exhaust gas treatment can be achieved.
【００１７】外部から導入する空気は、直接濾過集塵機
本体に導入するのがよく、好ましくはヒーター等によ
り、５０〜１００℃程度の高温、低湿度の空気を導入す
るのがよい。空気は、排ガスの流路から導入される空気
とは別系統で導入されるもので、直接濾過集塵機内に導
入されるのがよい。また、濾過集塵機内のフィルターよ
り下部即ち上流帯域から導入されるのが好ましい。な
お、必ずしも連続的に導入しなくても良い。また、本発
明の第１発明に係るＣＶＤ装置排ガス処理方法で導入さ
れる乾燥用の空気と同じ系統で導入されるものであって
もよい。The air introduced from the outside is preferably introduced directly into the main body of the filter dust collector, and it is preferable to introduce air of high temperature and low humidity of about 50 to 100 ° C. by a heater or the like. The air is introduced from a system different from the air introduced from the flow path of the exhaust gas, and is preferably introduced directly into the filter dust collector. Further, it is preferably introduced from below the filter in the filter dust collector, that is, from the upstream zone. It is not always necessary to introduce continuously. Further, it may be introduced in the same system as the drying air introduced in the CVD apparatus exhaust gas treatment method according to the first aspect of the present invention.
【００１８】更に、本発明の第３発明に係るＣＶＤ装置
排ガス処理方法は、粉塵及び粘性物質を含むＣＶＤ装置
排ガスを濾過集塵機に導入して粉塵及び粘性物質を分離
・除去するに際し、前記排ガスを濾過助剤と接触させる
ことにより粉塵及び粘性物質を濾過助剤に凝集させて凝
集体とし、それによって濾過集塵機のフィルターへ粉塵
及び粘性物質が直接付着することを防止するものであ
る。即ち、粉塵及び粘性物質を含むＣＶＤ装置排ガスが
濾過集塵機内のフィルターへ到達する前に、前記排ガス
と濾過助剤を接触させて濾過助剤に粉塵及び粘性物質を
凝集すれば、濾過集塵機内のフィルターに粉塵及び粘性
物質が直接付着することがないので、より迅速かつ効率
的な排ガス処理を行うことができる。Further, in the method for treating exhaust gas from a CVD apparatus according to the third aspect of the present invention, when the exhaust gas from the CVD apparatus containing dust and a viscous substance is introduced into a filter dust collector to separate and remove the dust and a viscous substance, the exhaust gas is removed. By contacting with the filter aid, the dust and the viscous substance are aggregated into the filter aid to form an aggregate, which prevents the dust and the viscous substance from directly adhering to the filter of the filter dust collector. That is, if the exhaust gas of the CVD apparatus containing the dust and the viscous substance reaches the filter in the filter dust collector and the exhaust gas and the filter aid are brought into contact with each other to aggregate the dust and the viscous substance in the filter aid, Since dusts and viscous substances do not directly adhere to the filter, more rapid and efficient exhaust gas treatment can be performed.
【００１９】この際に、粉塵及び粘性物質と濾過助剤と
からなる凝集体及びフィルターを乾燥させるために濾過
集塵機内に空気を導入することが本発明の第３発明の特
徴である。濾過集塵機内に外部から空気を導入して前記
凝集体及びフィルターを乾燥することにより、フィルタ
ーに捕捉され、堆積する凝集体を機械振動、圧縮空気等
でフィルター表面から容易に除去できるので、一層迅速
かつ効率的な排ガス処理を成し得る。ここで、前記凝集
体やフィルターを乾燥するために導入される空気は、排
ガスの流路から導入される空気とは別系統で導入される
もので、直接濾過集塵機内に導入されることが好まし
い。なお、乾燥されていない凝集体がフィルターへ捕捉
されるのを防止するために濾過集塵機内のフィルターよ
り下部即ち上流帯域から空気を導入するのが好ましい。At this time, it is a feature of the third invention of the present invention that air is introduced into the filter dust collector in order to dry the agglomerate composed of the dust and the viscous substance and the filter aid and the filter. By introducing air from the outside into the filter dust collector and drying the agglomerates and filters, the agglomerates that are trapped and deposited on the filter can be easily removed from the filter surface by mechanical vibration, compressed air, etc. And, efficient exhaust gas treatment can be achieved. Here, the air introduced to dry the agglomerates and filters is introduced in a system different from the air introduced from the flow path of the exhaust gas, and is preferably introduced directly into the filter dust collector. . In order to prevent the non-dried aggregates from being trapped by the filter, it is preferable to introduce air from the lower part of the filter in the filter dust collector, that is, the upstream zone.
【００２０】本発明の第１発明及び第２発明に係るＣＶ
Ｄ装置排ガス処理方法は、濾過集塵機本体に濾過助剤を
添加するための濾過助剤供給装置、濾過助剤を拡散ある
いは排ガス中の凝集体およびフィルターを乾燥させるた
めの空気導入口を備えてなることを特徴とする本発明の
第４発明に係るＣＶＤ装置排ガス処理装置によって行わ
れるのが好ましい。空気導入口は、１系統でも多系統で
もよく、濾過集塵機内のフィルターより下部即ち上流帯
域から導入されるのが好ましい。また、空気導入口に連
通する導管には導入される空気を加温するためのヒータ
ーを設置することができる。CV according to the first and second inventions of the present invention
The apparatus D exhaust gas treatment method comprises a filter aid supply device for adding the filter aid to the main body of the filter dust collector, and an air inlet for diffusing the filter aid or drying the aggregate and filter in the exhaust gas. Preferably, it is performed by the CVD apparatus exhaust gas treatment apparatus according to the fourth aspect of the present invention. The air inlet may be one system or multiple systems, and is preferably introduced from below the filter in the filter dust collector, that is, from the upstream zone. In addition, a heater for heating the introduced air can be installed in the conduit communicating with the air introduction port.
【００２１】ここで、本明細書に記載する「粉塵及び粘
性物質」とは、低級アルコール、低級アルデヒド、一酸
化炭素、珪素含有化合物、リン含有化合物、ホウ素含有
化合物あるいはそれらのミスト等からなるものである。The "dust and viscous substance" described in the present specification is composed of lower alcohol, lower aldehyde, carbon monoxide, silicon-containing compound, phosphorus-containing compound, boron-containing compound or mist thereof. Is.
【００２２】また、本発明に用いるのに好ましい濾過助
剤は、パーライト、ケイソウ土、ゼオライトが良好であ
る。なお、濾過助剤は、フィルターの目の大きさ及び発
生する粉塵の粒径によって種類または粒径を適宜決定す
るのが、集塵効率を高める上で好ましい。The preferred filter aids used in the present invention are perlite, diatomaceous earth and zeolite. In addition, it is preferable to appropriately determine the kind or particle size of the filter aid depending on the size of the filter mesh and the particle size of the generated dust in order to improve the dust collection efficiency.
【００２３】[0023]
実施例１
以下、本発明の一実施例を具体的に図面で説明する。図
１は、本発明の第３発明に係るＣＶＤ排ガス処理装置の
構成を模式化して示したものである。図１において、濾
過集塵機(2)本体の下部ホッパーに連通するよう濾過助
剤供給装置(4)が設置されている。この濾過助剤供給装
置(4)は濾過集塵機(2)へ濾過助剤を適宜供給可能な構成
になっており、濾過集塵機(2)内のフィルターをプレコ
ートする場合には、濾過助剤供給装置(4)から必要な量
の濾過助剤を濾過集塵機(2)へ供給し、フィルター表面
を濾過助剤によりコーティングする。この時、濾過助剤
供給装置(4)より更に下部に設置した空気導入口(5)から
空気を導入し濾過助剤を拡散させる。First Embodiment Hereinafter, one embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the drawings. FIG. 1 schematically shows the structure of a CVD exhaust gas treatment apparatus according to the third aspect of the present invention. In FIG. 1, a filter aid supply device (4) is installed so as to communicate with the lower hopper of the main body of the filter dust collector (2). This filter aid supply device (4) is configured to be able to appropriately supply the filter aid to the filter dust collector (2), and when pre-coating the filter in the filter dust collector (2), the filter aid supply device The required amount of filter aid is supplied from (4) to the filter dust collector (2), and the filter surface is coated with the filter aid. At this time, air is introduced from the air introduction port (5) installed further below the filter aid supply device (4) to diffuse the filter aid.
【００２４】濾過集塵機(2)のフィルターに濾過助剤を
プレコートした後、ＣＶＤ装置からの排ガスを濾過集塵
機(2)へ導入して処理を行うと同時に、空気導入口(5)か
ら、凝集した濾過助剤、粉塵及び粘性物質等からなる凝
集体や、フィルターを乾燥させるために空気を導入す
る。なお、空気導入口(5)から供給される空気は、空気
導入口(5)に連通するヒーター(6)により適宜加温して温
風とすることができる。After pre-coating the filter of the filter dust collector (2) with the filter aid, the exhaust gas from the CVD device is introduced into the filter dust collector (2) for processing, and at the same time, the air is introduced from the air inlet (5) to agglomerate. Agglomerates consisting of filter aid, dust and viscous substances, and air are introduced to dry the filter. The air supplied from the air introduction port (5) can be appropriately heated by the heater (6) communicating with the air introduction port (5) to be warm air.
【００２５】なお、濾過集塵機(2)は内部に固気分離用
のフィルターを備えた構成となっており、濾過助剤へ凝
集した粉塵及び粘性物質はフィルター表面に堆積する。
そこで、このフィルター表面にある程度の量の凝集体が
堆積した時点で、濾過集塵機(2)の上部に設置された圧
縮ガス調整弁(9)を開放して窒素ガス等の不活性ガスあ
るいは空気を導入してフィルターを逆洗することにより
凝集体を払い落とすことができる。払い落とされた凝集
体は粉塵排出装置(3)を介して系外に排出される。排出
後、再度プレコートを行う場合には濾過助剤供給装置
(4)からプレコートに必要な量の濾過助剤を供給し、上
記の工程を反復すればよい。The filter dust collector (2) is provided with a filter for solid-gas separation inside, and dust and viscous substances aggregated in the filter aid are deposited on the filter surface.
Therefore, when a certain amount of agglomerates have accumulated on the surface of this filter, the compressed gas regulating valve (9) installed at the top of the filter dust collector (2) is opened to release an inert gas such as nitrogen gas or air. By introducing and backwashing the filter, aggregates can be removed. The flocculated aggregates are discharged to the outside of the system via the dust discharging device (3). When pre-coating again after discharging, filter aid supply device
The necessary amount of filter aid may be supplied to the precoat from (4), and the above steps may be repeated.
【００２６】なお、この濾過集塵機(2)の粉塵の払い落
とし方法は上記の逆洗方式に限定するものではなく、機
械振動方式、パルスエアー方式等任意の装置を使用する
ことができる。The method of removing dust from the filter dust collector (2) is not limited to the above backwashing method, and any device such as a mechanical vibration method or a pulse air method can be used.
【００２７】また、濾過集塵機(2)内のフィルターは材
質、形状、種類等特に限定するものではなく、例えば、
材質は合成繊維、ガラス繊維、金網等を払い落とし方法
に対応して選定し、使用することができる。Further, the filter in the filter dust collector (2) is not particularly limited in terms of material, shape, type, etc.
As the material, synthetic fiber, glass fiber, wire mesh, etc. can be selected and used according to the method of removing.
【００２８】更に、プレコートに使用する濾過助剤は、
フィルターの目の大きさ及び発生する粉塵の粒径によっ
てその粒径を決定するのが、集塵効率を上げ、フィルタ
ーの目詰まりを防止し、寿命を延ばす上で好ましい。な
お、濾過助剤としては、パーライト、ケイソウ土、ゼオ
ライト等がプレコートを行う上で特に好ましい。Further, the filter aid used in the precoat is
It is preferable to determine the particle size based on the size of the mesh of the filter and the particle size of the generated dust in order to improve the dust collection efficiency, prevent the filter from clogging, and extend the life. As the filter aid, perlite, diatomaceous earth, zeolite and the like are particularly preferable for precoating.
【００２９】実施例２
図１のＣＶＤ装置(常圧ＣＶＤ装置)(1)にシリコン(Ｓ
ｉ)基板を設置し、ヒーターにより４００℃まで加熱し
た。次に、６５℃に加温したＴＥＯＳ(テトラエトキシ
シラン)及びリン、ホウ素系成膜原料を窒素ガス６リッ
トル／分でバブリングした後、キャリアガスと共に装置
内へ導入した。一方、オゾナイザーによりＯ3 ／Ｏ2 混
合気を導入して成膜を行った。この条件で排出されるＣ
ＶＤ排ガスを、図１に示す排ガス処理装置にて処理し
た。まず、平均粒径５〜４０ミクロンの濾過助剤(パー
ライト)を濾過助剤供給装置(4)に装填し、排気ファン
(9)を排気量１．５ｍ3／分で運転し、フィルター面積１
ｍ2の濾過集塵機(2)へ１００ｇの濾過助剤を添加と同時
に、空気導入口(5)から空気を導入して濾過助剤を拡散
させながら、フィルター表面を濾過助剤によりプレコー
トした。次に、ＣＶＤ装置(1)から排ガスを供給し、凝
集体及びフィルターを乾燥させるために空気導入口(5)
から温度８０℃の温風を導入しながら処理をし、濾過集
塵機(2)内のフィルター入口、出口の圧力と圧力の差を
測定し、フィルター吹き払い直前のフィルターの圧力損
失を測定した。その後、圧縮ガス調整弁(9)から窒素ガ
スを導入して逆洗し粉塵及び粘性物質を凝集した濾過助
剤(凝集体)を粉塵排出装置(3)を介して系外に排出し
た。排出後、直ちに濾過助剤供給装置(4)から濾過助剤
１００ｇを添加してプレコートし、上記の操作を反復し
た。再度２０時間運転し、フィルター吹き払い直前のフ
ィルターの圧力損失を測定した後、払い落とし、この工
程を計１４０時間実施した。その結果を以下の表に示
す。なお、プレコートを行わない場合即ち濾過助剤不在
の場合の測定結果を併記する。Example 2 Silicon (S) was added to the CVD apparatus (normal pressure CVD apparatus) (1) in FIG.
i) The substrate was placed and heated to 400 ° C. by a heater. Next, TEOS (tetraethoxysilane) heated to 65 ° C., phosphorus, and a boron-based film forming raw material were bubbled with nitrogen gas at 6 l / min, and then introduced into the apparatus together with a carrier gas. On the other hand, a film was formed by introducing an O 3 / O 2 mixture with an ozonizer. C discharged under this condition
The VD exhaust gas was treated with the exhaust gas treatment device shown in FIG. First, a filter aid (perlite) having an average particle size of 5 to 40 microns is loaded into the filter aid supply device (4), and an exhaust fan is installed.
Operate (9) at a displacement of 1.5 m 3 / min, filter area 1
At the same time as adding 100 g of the filter aid to the m 2 filter dust collector (2), air was introduced from the air inlet (5) to diffuse the filter aid, and the filter surface was pre-coated with the filter aid. Next, the exhaust gas is supplied from the CVD device (1), and the air inlet (5) is used to dry the aggregate and the filter.
Was introduced while introducing hot air having a temperature of 80 ° C., the pressure at the filter inlet and outlet in the filter dust collector (2) and the pressure difference were measured, and the pressure loss of the filter immediately before the filter was blown off was measured. Then, nitrogen gas was introduced from the compressed gas regulating valve (9) and backwashed, and the filter aid (aggregate) in which dust and viscous substances were aggregated was discharged to the outside of the system through the dust discharge device (3). Immediately after the discharge, 100 g of the filter aid was added from the filter aid supply device (4) for precoating, and the above operation was repeated. The operation was performed again for 20 hours, the pressure loss of the filter was measured immediately before the filter was blown off, and then the filter was blown off. This step was carried out for a total of 140 hours. The results are shown in the table below. The measurement results when precoating is not performed, that is, when the filter aid is absent are also shown.
【００３０】 処理時間(時間) 20 40 60 80 100 120 140 プレコートあり(mmaq) 45 46 66 65 70 69 70 プレコートなし(mmaq) 45 120 171 処理不能[0030] Processing time (hours) 20 40 60 80 100 120 140 Pre-coated (mmaq) 45 46 66 65 70 69 70 No precoat (mmaq) 45 120 171 Unprocessable
【００３１】また、フィルターからの払い落としを行っ
た直後の圧力損失を測定した。更に、空気導入口(5)か
ら温風を導入しない以外は上記実施例と同様の試験を行
い、フィルターからの払い落としを行った直後の圧力損
失を測定した。Further, the pressure loss immediately after the filter was brushed off was measured. Further, the same test as in the above example was carried out except that hot air was not introduced from the air introduction port (5), and the pressure loss immediately after the filter was blown off was measured.
【００３２】 処理時間(時間) 0 20 40 60 80 温風あり(mmaq) 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 温風なし(mmaq) 2.0 2.5 3.0 3.5 4.5[0032] Processing time (hours) 0 20 40 60 80 With warm air (mmaq) 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 No warm air (mmaq) 2.0 2.5 3.0 3.5 4.5
【００３３】上記の試験において、粉塵排出装置(3)か
ら排出された凝集体を比較したところ、温風を導入しな
かった場合は凝集体は湿った状態であり粘りがあった。
また濾過集塵機(2)内のフィルターも湿っていた。一
方、温風を導入した場合は凝集体、フィルターとも乾燥
していた。When the aggregates discharged from the dust discharge device (3) were compared in the above test, the aggregates were moist and sticky when hot air was not introduced.
The filter in the filter dust collector (2) was also wet. On the other hand, when hot air was introduced, both the aggregate and the filter were dry.
【００３４】次に、プレコートの効率を測定するため
に、以下の試験を行った。即ち、まず平均粒径５〜４０
ミクロンの濾過助剤(パーライト)を濾過助剤供給装置
(4)に装填し、排気ファン(9)を排気量１．５ｍ3／分で
運転し、フィルター面積１ｍ2の濾過集塵機(2)へ１００
ｇの濾過助剤を添加と同時に、空気導入口(5)から空気
を導入し濾過助剤を拡散させながら、フィルター表面を
濾過助剤によりプレコートした。プレコート操作終了
後、プレコートされずに濾過集塵機(2)の底部に堆積し
た濾過助剤を粉塵排出装置(3)から排出し、回収濾過助
剤量を測定した。比較試験として、空気導入口(5)から
空気を導入しないこと以外は上記試験方法と同様にし
て、回収濾過助剤量を測定した。結果を以下に示す。Next, the following tests were carried out in order to measure the efficiency of the precoat. That is, the average particle size is 5 to 40
Micron filter aid (Perlite) filter aid supply device
It is loaded into (4), the exhaust fan (9) is operated at an exhaust volume of 1.5 m 3 / min, and 100 is applied to the filter dust collector (2) with a filter area of 1 m 2.
Simultaneously with the addition of g of the filter aid, air was introduced from the air inlet (5) to diffuse the filter aid, and the filter surface was precoated with the filter aid. After the precoating operation was completed, the filter aid accumulated on the bottom of the filter dust collector (2) without being precoated was discharged from the dust discharge device (3), and the amount of the collected filter aid was measured. As a comparative test, the amount of recovered filter aid was measured in the same manner as the above test method except that air was not introduced from the air inlet (5). The results are shown below.
【００３５】 [0035]
【００３６】実施例３
次に、プレコートを行わない系で、温風の効果を試験す
るために、図２に示すＣＶＤ装置排ガス処理装置にて排
ガス処理試験を行った。図２に示すＣＶＤ装置排ガス処
理装置は、図１に示す装置の濾過助剤供給装置(4)を、
ＣＶＤ装置(1)と濾過集塵機(2)の間の排ガス流路に設置
した以外は図１に示す装置と実質上同一の構成を有する
ものである。図２において、ＣＶＤ装置(1)からの排ガ
スは、ＣＶＤ装置(1)と濾過集塵機(2)の間の排ガス流路
に送られ、濾過助剤供給装置(4)から連続的または断続
的に濾過助剤が供給される。排ガス中の粉塵及び粘性物
質は濾過助剤に凝集され、濾過集塵機(2)内のフィルタ
ー表面に堆積する。この際に濾過集塵機(2)に設置され
た空気導入口(5)に連通するヒーター(6)から、凝集した
濾過助剤、粉塵、粘性物質等からなる凝集体及びフィル
ターを乾燥させるために温風を導入する。この濾過集塵
機(2)は内部に固気分離用のフィルターを備えた構成と
なっており、濾過助剤へ凝集した粉塵及び粘性物質はフ
ィルター表面に堆積する。そこで、このフィルター表面
にある程度の量の凝集体が堆積した時点で、濾過集塵機
(2)の上部に設置された圧縮ガス調整弁(9)を開放して窒
素ガス等の不活性ガスあるいは空気を導入してフィルタ
ーを逆洗することにより凝集体を払い落とす。払い落と
された凝集体は粉塵排出装置(3)を介して系外に排出さ
れる構成となっている。Example 3 Next, in order to test the effect of hot air in a system without precoating, an exhaust gas treatment test was conducted with the CVD device exhaust gas treatment device shown in FIG. The CVD apparatus exhaust gas treatment apparatus shown in FIG. 2 has the filter aid supply apparatus (4) of the apparatus shown in FIG.
It has substantially the same configuration as the apparatus shown in FIG. 1 except that it is installed in the exhaust gas flow path between the CVD apparatus (1) and the filter dust collector (2). In FIG. 2, the exhaust gas from the CVD device (1) is sent to the exhaust gas passage between the CVD device (1) and the filter dust collector (2), and continuously or intermittently from the filter aid supply device (4). A filter aid is supplied. Dust and viscous substances in the exhaust gas are aggregated by the filter aid and are deposited on the filter surface in the filter dust collector (2). At this time, from the heater (6) communicating with the air inlet (5) installed in the filter dust collector (2), the temperature is increased to dry the agglomerated filter aid, dust, agglomerates of viscous substances, etc. and the filter. Introduce the wind. This filter dust collector (2) has a structure in which a filter for solid-gas separation is provided inside, and the dust and viscous substances aggregated in the filter aid are deposited on the filter surface. Therefore, when a certain amount of aggregates has accumulated on the surface of this filter, the filter dust collector
The compressed gas regulating valve (9) installed in the upper part of (2) is opened, an inert gas such as nitrogen gas or air is introduced, and the filter is backwashed to remove the aggregates. The flocculated aggregates are discharged to the outside of the system via the dust discharging device (3).
【００３７】上記のＣＶＤ装置排ガス処理装置を用い
て、実施例２と同じ条件の排ガスを処理した。まず、平
均粒径５〜４０ミクロンの濾過助剤(パーライト)を濾過
助剤供給装置(4)に装填し、排気ファン(9)を排気量１.
５ｍ3／分で運転し、流れてくる排ガスに濾過助剤供給
装置(4)から１時間当たり１０ｇの割合で濾過助剤を断
続的に供給した。濾過助剤に付着、凝集した粉塵及び粘
性物質は、濾過集塵機(2)に導かれるが、この際、濾過
集塵機(2)に設置された空気導入口(5)に連通するヒータ
ー(6)から８０℃の温風を導入し２０時間処理を行っ
た。その後、圧縮ガス調整弁(9)から窒素ガスを導入し
て逆洗しフィルターからの払い落としを行った直後の圧
力損失を測定した。その後、粉塵及び粘性物質を凝集し
た濾過助剤(凝集体)を粉塵排出装置(3)を介して系外に
排出した。排出後、直ちに上記の操作を反復し、再度２
０時間運転し、この工程を計８０時間実施した。更に、
空気導入口(5)から温風を導入しない以外は上記操作と
同様の操作を行い、フィルターからの払い落としを行っ
た直後の圧力損失を測定した。Exhaust gas under the same conditions as in Example 2 was processed using the above-described CVD device exhaust gas processing device. First, a filter aid (perlite) having an average particle size of 5 to 40 microns is loaded into the filter aid supply device (4), and the exhaust fan (9) has a displacement of 1.
It was operated at 5 m 3 / min, and the filter aid was intermittently supplied to the flowing exhaust gas from the filter aid supply device (4) at a rate of 10 g per hour. Dust and viscous substances that adhere to the filter aid and agglomerate are guided to the filter dust collector (2) .At this time, from the heater (6) communicating with the air inlet (5) installed in the filter dust collector (2). Hot air at 80 ° C. was introduced and treatment was performed for 20 hours. After that, nitrogen gas was introduced from the compressed gas regulating valve (9), backwashed, and the pressure loss immediately after being blown off from the filter was measured. Then, the filter aid (aggregate) obtained by aggregating the dust and the viscous substance was discharged to the outside of the system through the dust discharge device (3). Immediately after discharging, repeat the above operation and repeat 2
The operation was carried out for 0 hours, and this step was carried out for a total of 80 hours. Furthermore,
The same operation as above was carried out except that hot air was not introduced from the air inlet (5), and the pressure loss immediately after the filter was blown off was measured.
【００３８】 処理時間(時間) 0 20 40 60 80 温風あり(ｍｍａｑ) 2.0 2.5 3.0 3.0 3.5 温風なし(ｍｍａｑ) ２.０ 3.5 5.0 6.0 8.0[0038] Processing time (hours) 0 20 40 60 80 With warm air (mmaq) 2.0 2.5 3.0 3.0 3.5 No warm air (mmaq) 2.0 3.5 5.0 6.0 8.0
【００３９】上記の試験において、粉塵排出装置(3)か
ら排出された凝集体を比較したところ、実施例２と同様
に、温風を導入しなかった場合は凝集体は湿った状態で
あり粘りがあった。また、濾過集塵機(2)内のフィルタ
ーも湿っていた。一方、温風を導入した場合は凝集体、
フィルターとも乾燥していた。In the above test, when the aggregates discharged from the dust discharge device (3) were compared, as in Example 2, when hot air was not introduced, the aggregates were in a wet state and were sticky. was there. The filter in the filter dust collector (2) was also wet. On the other hand, when hot air is introduced, aggregates,
Both the filters were dry.
【００４０】[0040]
【発明の効果】本発明の第１発明によれば、濾過集塵機
のフィルターに濾過助剤をプレコートする際に、濾過助
剤を拡散させるための空気を導入することを特徴とする
ＣＶＤ装置排ガス処理方法を提供したことにある。ま
た、本発明の第２発明によれば、ＣＶＤ装置排ガス処理
の際に、濾過集塵機のフィルターに凝集した凝集体及び
フィルターを乾燥させるための空気を導入することを特
徴とするＣＶＤ装置排ガス処理方法を提供したことにあ
る。更に、本発明の第３発明によれば、ＣＶＤ装置排ガ
ス処理の際に、該排ガス中の凝集体及び濾過集塵機内の
フィルターを乾燥させるための空気を導入することを特
徴とするＣＶＤ装置排ガス処理方法を提供したことにあ
る。また、本発明の第４発明によれば、上記第１発明及
び第２発明に係る処理方法を行うのに好適なＣＶＤ装置
排ガス処理装置を提供したことにある。本発明の第１発
明ないし第４発明により、濾過集塵機のフィルターの目
詰まりを防止することができ、フィルターの交換サイク
ルを延長することが可能となり、また、従来の排ガスの
処理装置及び方法よりも連続的に長時間の排ガス処理を
行うことができ、迅速かつ効率的な排ガス処理が可能と
なるという効果を奏する。According to the first aspect of the present invention, a CVD apparatus exhaust gas treatment characterized by introducing air for diffusing the filter aid when precoating the filter of the filter dust collector with the filter aid. In providing the method. Further, according to the second aspect of the present invention, a method for treating exhaust gas from a CVD apparatus, characterized in that during the treatment of exhaust gas from the CVD apparatus, agglomerates aggregated in a filter of a filter dust collector and air for drying the filter are introduced. Is provided. Furthermore, according to the third aspect of the present invention, the CVD apparatus exhaust gas treatment is characterized in that, during the CVD apparatus exhaust gas treatment, air for drying the aggregates in the exhaust gas and the filter in the filter dust collector is introduced. In providing the method. Further, according to a fourth aspect of the present invention, there is provided a CVD apparatus exhaust gas treatment apparatus suitable for performing the processing methods according to the first and second aspects of the invention. According to the first to fourth inventions of the present invention, it is possible to prevent the filter of the filter dust collector from being clogged, it is possible to extend the filter replacement cycle, and moreover than the conventional exhaust gas treating apparatus and method. The exhaust gas treatment can be continuously performed for a long time, and the exhaust gas treatment can be performed quickly and efficiently.
【図１】本発明の第４発明に係るＣＶＤ装置排ガス処理
装置の１実施態様を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing one embodiment of a CVD apparatus exhaust gas treatment apparatus according to a fourth invention of the present invention.
【図２】本発明の第３発明に係るＣＶＤ装置排ガス処理
方法を行うための装置の１実施態様を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing one embodiment of an apparatus for carrying out a CVD apparatus exhaust gas treatment method according to a third invention of the present invention.
１ ＣＶＤ装置 ２ 濾過集塵機 ３ 粉塵排出装置 ４ 濾過助剤供給装置 ５ 空気導入口 ６ ヒーター ７ ガス処理塔 ８ 排気ファン ９ 圧縮ガス調整弁 1 CVD equipment 2 Filter dust collector 3 Dust discharge device 4 Filter aid supply device 5 Air inlet 6 heater 7 gas processing tower 8 exhaust fan 9 Compressed gas regulating valve
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 笹嶋 三稔 東京都荒川区東尾久７丁目２番35号 旭 電化工業株式会社内 (72)発明者 山田 直樹 東京都荒川区東尾久７丁目２番35号 旭 電化工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−90922（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−297022（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−222908（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−198394（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−291624（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01D 46/02 B01D 46/42 H01L 21/205 C23C 16/44 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) San Minoru Sasashima 7-35 Higashiohisa Arakawa-ku, Tokyo Within Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. (72) Naoki Yamada 7-2-35 Higashiohisa Arakawa-ku, Tokyo Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. (56) Reference JP-A-59-90922 (JP, A) JP-A-4-297022 (JP, A) JP-A-7-222908 (JP, A) JP-A-60-198394 (JP, A) JP 63-291624 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B01D 46/02 B01D 46/42 H01L 21/205 C23C 16/44
Claims (6)
装置排ガスを濾過集塵機に導入して粉塵及び粘性物質を
分離・除去するに際し、濾過助剤を予め濾過集塵機のフ
ィルターにコーティングし、次に、前記排ガスをフィル
ターにコーティングされた濾過助剤と接触させることに
より粉塵及び粘性物質を濾過助剤に凝集させて凝集体と
し、それによって濾過集塵機の前記フィルターへ粉塵及
び粘性物質が直接付着することを防止することからなる
化学的気相成長装置排ガス処理方法において、濾過助剤
を予め濾過集塵機のフィルターにコーティングする際
に、濾過助剤を拡散させるために、濾過集塵機に空気を
導入することを特徴とする化学的気相成長装置排ガス処
理方法。1. A chemical vapor deposition apparatus exhaust gas containing dust and a viscous substance is introduced into a filter dust collector to separate and remove the dust and a viscous substance, and a filter aid is coated on the filter of the filter dust collector in advance. In addition, by contacting the exhaust gas with the filter aid coated on the filter, the dust and the viscous substance are aggregated into the filter aid to form an aggregate, whereby the dust and the viscous substance are directly attached to the filter of the filter dust collector. In a chemical vapor deposition exhaust gas treatment method consisting of preventing the above, when coating the filter of the filter aid with the filter aid in advance, introducing air into the filter dust collector to diffuse the filter aid. An exhaust gas treatment method for a chemical vapor deposition apparatus characterized by:
装置排ガスを濾過集塵機に導入して粉塵及び粘性物質を
分離・除去するに際し、前記排ガスを濾過集塵機のフィ
ルターにコーティングされた濾過助剤と接触させること
により粉塵及び粘性物質を濾過助剤に凝集させて凝集体
とし、それによって前記フィルターへ前記粉塵及び粘性
物質が直接付着することを防止することからなる化学的
気相成長装置排ガス処理方法において、前記フィルター
に付着している前記凝集体及びフィルターを乾燥させる
ために、濾過集塵機に空気を導入することを特徴とする
化学的気相成長装置排ガス処理方法。2. A chemical vapor deposition apparatus exhaust gas containing dust and a viscous substance is introduced into a filter dust collector to separate and remove the dust and a viscous substance, and the exhaust gas is coated on a filter of the filter dust collector. Chemical vapor deposition equipment exhaust gas treatment, which comprises contacting the dust and viscous substance with a filter aid to form an aggregate, thereby preventing the dust and the viscous substance from directly adhering to the filter. In the method, in order to dry the aggregate and the filter adhering to the filter, air is introduced into a filter dust collector, and a chemical vapor deposition apparatus exhaust gas treatment method is provided.
装置排ガスを濾過集塵機に導入して粉塵及び粘性物質を
分離・除去するに際し、前記排ガスを濾過助剤と接触さ
せることにより粉塵及び粘性物質を濾過助剤に凝集させ
て凝集体とし、それによって濾過集塵機のフィルターへ
粉塵及び粘性物質が直接付着することを防止することか
らなる化学的気相成長装置排ガス処理方法において、排
ガス中の前記凝集体及び前記フィルターを乾燥させるた
めに、濾過集塵機に空気を導入することを特徴とする化
学的気相成長装置排ガス処理方法。3. A chemical vapor deposition apparatus exhaust gas containing dust and a viscous substance. When the exhaust gas is introduced into a filter dust collector to separate and remove the dust and the viscous substance, the exhaust gas is brought into contact with a filter aid to generate the dust and the viscosity. In a chemical vapor deposition apparatus exhaust gas treatment method comprising preventing the direct attachment of dust and viscous substances to the filter of a filter dust collector by aggregating the substance into a filter aid to form an aggregate, wherein A method for treating exhaust gas of a chemical vapor deposition apparatus, which comprises introducing air into a filter dust collector to dry the aggregate and the filter.
設置され、排ガス中の粉塵及び粘性物質を分離・除去す
るためのフィルターを有する濾過集塵機、濾過集塵機に
より粉塵及び粘性物質を除去された排ガスを無害化する
ためのガス処理塔及び排気ファンを備えている化学的気
相成長装置排ガス処理装置において、濾過集塵機に濾過
助剤を添加するための濾過助剤供給装置並びに濾過集塵
機に空気を導入するための空気導入口を備えてなること
を特徴とする化学的気相成長装置排ガス処理装置。4. A chemical vapor deposition apparatus, a filter dust collector installed in an exhaust gas passage thereof and having a filter for separating and removing dust and viscous substances in exhaust gas, and dust and viscous substances are removed by the filter dust collector. Chemical vapor deposition equipment equipped with a gas treatment tower and exhaust fan to detoxify exhaust gas In an exhaust gas treatment equipment, a filter aid supply device for adding a filter aid to the filter dust collector and air to the filter dust collector An exhaust gas treatment apparatus for chemical vapor deposition, comprising an air inlet for introducing the gas.
口に連通する導管にヒーターを設けたことを特徴とする
化学的気相成長装置排ガス処理装置。5. The chemical vapor deposition apparatus exhaust gas treatment apparatus according to claim 3, wherein a heater is provided in a conduit communicating with the air introduction port.
装置排ガス処理装置により行われる請求項１または２記
載の化学的気相成長装置排ガス処理方法。6. The chemical vapor deposition apparatus exhaust gas treatment method according to claim 1 or 2, which is performed by the chemical vapor deposition apparatus exhaust gas treatment apparatus according to claim 4.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10969695A JP3442190B2 (en) | 1995-05-08 | 1995-05-08 | Exhaust gas treatment method and apparatus for chemical vapor deposition apparatus |
| TW084112327A TW279242B (en) | 1994-11-29 | 1995-11-20 | The wasted-gas processing method & device for CVD apparatus |
| KR1019950044469A KR100377605B1 (en) | 1994-11-29 | 1995-11-28 | Method and apparatus for processing waste gas exhausted from chemical vapor deposition equipment |
| US08/966,176 US5855651A (en) | 1994-11-29 | 1997-11-07 | Method for processing waste gas exhausted from chemical vapor and deposition equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10969695A JP3442190B2 (en) | 1995-05-08 | 1995-05-08 | Exhaust gas treatment method and apparatus for chemical vapor deposition apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08299733A JPH08299733A (en) | 1996-11-19 |
| JP3442190B2 true JP3442190B2 (en) | 2003-09-02 |
Family
ID=14516891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10969695A Expired - Lifetime JP3442190B2 (en) | 1994-11-29 | 1995-05-08 | Exhaust gas treatment method and apparatus for chemical vapor deposition apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3442190B2 (en) |
-
1995
- 1995-05-08 JP JP10969695A patent/JP3442190B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08299733A (en) | 1996-11-19 |
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Legal Events
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