JP3429884B2 - 液体洗浄剤組成物 - Google Patents
液体洗浄剤組成物Info
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- JP3429884B2 JP3429884B2 JP685895A JP685895A JP3429884B2 JP 3429884 B2 JP3429884 B2 JP 3429884B2 JP 685895 A JP685895 A JP 685895A JP 685895 A JP685895 A JP 685895A JP 3429884 B2 JP3429884 B2 JP 3429884B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は手、顔、身体の皮膚及び
毛髪等の洗浄剤として有用な液体洗浄剤組成物に関し、
詳細には弱酸性領域にて安定で、優れた洗浄力、起泡
性、泡質及び使用感を有すると共に、皮膚や毛髪に対し
ての刺激が非常に低い液体洗浄剤組成物に関する。
毛髪等の洗浄剤として有用な液体洗浄剤組成物に関し、
詳細には弱酸性領域にて安定で、優れた洗浄力、起泡
性、泡質及び使用感を有すると共に、皮膚や毛髪に対し
ての刺激が非常に低い液体洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】アニオン性界面活性剤であるアルキル
（又はアルケニル）エーテルスルホネート（以下、単に
「エーテルスルホネート」という）は、中性領域で用い
ると洗浄力や起泡力に優れ、スカム分散力も強く、しか
も皮膚刺激が少なくマイルドであるという特徴を有する
（特開昭６２−２５１９９号公報，特開昭６２−１９５
０９７号公報等）。
（又はアルケニル）エーテルスルホネート（以下、単に
「エーテルスルホネート」という）は、中性領域で用い
ると洗浄力や起泡力に優れ、スカム分散力も強く、しか
も皮膚刺激が少なくマイルドであるという特徴を有する
（特開昭６２−２５１９９号公報，特開昭６２−１９５
０９７号公報等）。
【０００３】しかしながら、このようなエーテルスルホ
ネートの如き界面活性剤は、分子内に水酸基を少なくと
も１つ有し、この水素結合力により、非常に結晶性が高
く、クラフト点が高いため液体洗浄剤への配合性が悪
く、もっぱら固形石ケン（ｓｙｎｄｅｔｂａｒ）等の固
形洗浄剤に利用されている。
ネートの如き界面活性剤は、分子内に水酸基を少なくと
も１つ有し、この水素結合力により、非常に結晶性が高
く、クラフト点が高いため液体洗浄剤への配合性が悪
く、もっぱら固形石ケン（ｓｙｎｄｅｔｂａｒ）等の固
形洗浄剤に利用されている。
【０００４】従って、エーテルスルホネートの特長を生
かしつつ、液体である洗浄剤の開発が望まれている。こ
のような試みとしては、エーテルスルホネートの結晶性
を下げたアルキルポリオキシエチレンエーテルスルホネ
ートの利用があるが（特開昭５２−１４７５８２号公
報）この化合物は、ポリオキシエチレン鎖長の増大に伴
う泡立ちや洗浄力の低下が認められ、洗浄成分として好
ましいものではなかった。また、オキソアルコールをア
ルキル鎖の原料部位に持つもの（シェル社：商品ＡＧＥ
Ｓ／ＮＥＧＳ）も知られているが、この化合物はアルキ
ル鎖の直鎖率が８０〜８５％程度と比較的高いため、弱
酸性下の使用では水に対する溶解度が低く液体洗浄剤と
しては適切ではなかった。これに対し最近では鎖長の短
い低級アルキルのエーテルスルホネートを用いたり、ハ
イドロトロープ剤を用いたりする等の溶解性向上の試み
がある（ＷＯ９２１６６０９、ＷＯ９１０９９３１）。
かしつつ、液体である洗浄剤の開発が望まれている。こ
のような試みとしては、エーテルスルホネートの結晶性
を下げたアルキルポリオキシエチレンエーテルスルホネ
ートの利用があるが（特開昭５２−１４７５８２号公
報）この化合物は、ポリオキシエチレン鎖長の増大に伴
う泡立ちや洗浄力の低下が認められ、洗浄成分として好
ましいものではなかった。また、オキソアルコールをア
ルキル鎖の原料部位に持つもの（シェル社：商品ＡＧＥ
Ｓ／ＮＥＧＳ）も知られているが、この化合物はアルキ
ル鎖の直鎖率が８０〜８５％程度と比較的高いため、弱
酸性下の使用では水に対する溶解度が低く液体洗浄剤と
しては適切ではなかった。これに対し最近では鎖長の短
い低級アルキルのエーテルスルホネートを用いたり、ハ
イドロトロープ剤を用いたりする等の溶解性向上の試み
がある（ＷＯ９２１６６０９、ＷＯ９１０９９３１）。
【０００５】しかしながら、低級アルキル基を有するエ
ーテルスルホネートは、未反応原料等に由来する臭気が
あり、身体、毛髪に使用する洗浄剤の基剤としては適当
でなかった。
ーテルスルホネートは、未反応原料等に由来する臭気が
あり、身体、毛髪に使用する洗浄剤の基剤としては適当
でなかった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、優れた洗浄力、起泡力、使用感を有し、皮膚刺激が
少ないといったエーテルスルホネート系界面活性剤の特
徴を生かしつつ、上記の如き欠点がなく安定なエーテル
スルホネート含有液体洗浄剤組成物を提供することにあ
る。
は、優れた洗浄力、起泡力、使用感を有し、皮膚刺激が
少ないといったエーテルスルホネート系界面活性剤の特
徴を生かしつつ、上記の如き欠点がなく安定なエーテル
スルホネート含有液体洗浄剤組成物を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】斯かる実状に鑑み本発明
者らは鋭意研究を行った結果、下記一般式（１）で表さ
れる分岐率の高いアルキル、アルケニル又は（ポリ）オ
キシアルキレン基を有するエーテルスルホネート水溶液
が、弱酸性下でも安定な液状を保ち、エーテルスルホネ
ート系界面活性剤の特性が生かされていることから液体
洗浄剤として極めて有用であることを見出し本発明を完
成した。
者らは鋭意研究を行った結果、下記一般式（１）で表さ
れる分岐率の高いアルキル、アルケニル又は（ポリ）オ
キシアルキレン基を有するエーテルスルホネート水溶液
が、弱酸性下でも安定な液状を保ち、エーテルスルホネ
ート系界面活性剤の特性が生かされていることから液体
洗浄剤として極めて有用であることを見出し本発明を完
成した。
【０００８】すなわち本発明は次の一般式（１）
【０００９】
【化３】
【００１０】〔式中、Ｒ1 は直鎖又は分岐鎖の炭素数８
〜３６のアルキル又はアルケニル基を示し、Ｘ1 は酸素
原子ＣＯＯ、ＣＯＮＲ2 （ここで、Ｒ2 は水素原子又は
炭素数１〜４のアルキル基を示す）、ＰＯ4Ｍ2、硫黄原
子又はＳＯ2 を示し、Ｙ及びＺは水素原子又は炭素数１
〜２のアルキル基を示すが、Ｙ及びＺの双方がアルキル
基である場合を除く。Ｍ1 及びＭ2 は水素原子、アルカ
リ金属、アンモニウム、炭素数２〜９のアルキルアンモ
ニウム又は炭素数２〜９のアルカノールアンモニウムを
示し、ｎは平均付加モル数で０〜１０の数を示す。ただ
し、ｎが０であるか、Ｙ及びＺの双方が水素原子である
場合、Ｒ1 のアルキル又はアルケニル基の分岐率は４０
〜１００％である。〕で表されるエーテルスルホネート
を含有する液体洗浄剤組成物を提供するものである。
〜３６のアルキル又はアルケニル基を示し、Ｘ1 は酸素
原子ＣＯＯ、ＣＯＮＲ2 （ここで、Ｒ2 は水素原子又は
炭素数１〜４のアルキル基を示す）、ＰＯ4Ｍ2、硫黄原
子又はＳＯ2 を示し、Ｙ及びＺは水素原子又は炭素数１
〜２のアルキル基を示すが、Ｙ及びＺの双方がアルキル
基である場合を除く。Ｍ1 及びＭ2 は水素原子、アルカ
リ金属、アンモニウム、炭素数２〜９のアルキルアンモ
ニウム又は炭素数２〜９のアルカノールアンモニウムを
示し、ｎは平均付加モル数で０〜１０の数を示す。ただ
し、ｎが０であるか、Ｙ及びＺの双方が水素原子である
場合、Ｒ1 のアルキル又はアルケニル基の分岐率は４０
〜１００％である。〕で表されるエーテルスルホネート
を含有する液体洗浄剤組成物を提供するものである。
【００１１】本発明で用いるエーテルスルホネートは前
記一般式（１）で表されるものであるが、式（１）中の
Ｒ1 で示されるアルキル又はアルケニル基は、式中のｎ
が０であるか、Ｙ及びＺの双方が水素原子である場合、
分岐率が４０〜１００％の炭素数８〜３６のものであ
る。ここで、分岐率とは、全Ｒ1 アルキル又はアルケニ
ル基中の分岐アルキル又はアルケニル基の占める重量％
をいう。かかる分岐率は４５〜１００％がより好まし
く、８０〜１００％が特に好ましい。分岐率が４０％未
満の場合には、弱酸性下でのクラフト点が高く、安定な
液体組成物が得られ難く、液体洗浄剤として使用したと
きエーテルスルホネート型界面活性剤の特性、例えば泡
立ち、使用感等の性能が低下するため好ましくない。
記一般式（１）で表されるものであるが、式（１）中の
Ｒ1 で示されるアルキル又はアルケニル基は、式中のｎ
が０であるか、Ｙ及びＺの双方が水素原子である場合、
分岐率が４０〜１００％の炭素数８〜３６のものであ
る。ここで、分岐率とは、全Ｒ1 アルキル又はアルケニ
ル基中の分岐アルキル又はアルケニル基の占める重量％
をいう。かかる分岐率は４５〜１００％がより好まし
く、８０〜１００％が特に好ましい。分岐率が４０％未
満の場合には、弱酸性下でのクラフト点が高く、安定な
液体組成物が得られ難く、液体洗浄剤として使用したと
きエーテルスルホネート型界面活性剤の特性、例えば泡
立ち、使用感等の性能が低下するため好ましくない。
【００１２】Ｒ1 で示される分岐アルキル基としては、
２−ペンチルデシル基、２−ブチルウンデシル基、２−
プロピルデシル基、２−エチルノニル基、２−メチルオ
クチル基、２−ヘキシルデシル基、２−オクチルデシル
基等が挙げられ、分岐アルケニル基としては、２−メチ
ルオクテニル基、２−オクチルデセニル基等が挙げられ
る。
２−ペンチルデシル基、２−ブチルウンデシル基、２−
プロピルデシル基、２−エチルノニル基、２−メチルオ
クチル基、２−ヘキシルデシル基、２−オクチルデシル
基等が挙げられ、分岐アルケニル基としては、２−メチ
ルオクテニル基、２−オクチルデセニル基等が挙げられ
る。
【００１３】また、Ｒ1で示される直鎖アルキル基とし
ては、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタ
デシル基、ノナデシル基、エイコシル基、ヘンエイコシ
ル基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコシル基、ペ
ンタコシル基、ヘキサコシル基、ヘプタコシル基、オク
タコシル基、ノナコシル基、トリアコンチル基、ヘキサ
トリアコンチル基等が挙げられる。直鎖アルケニル基と
しては、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウン
デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデ
セニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプ
タデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、エ
イコセニル基、ヘンエイコセニル基、ドコセニル基、ト
リコセニル基、テトラコセニル基、ペンタコセニル基、
ヘキサコセニル基、ヘプタコセニル基、オクタコセニル
基、ノナコセニル基、トリアコンテニル基、ヘキサトリ
アコンテニル基等が挙げられる。
ては、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタ
デシル基、ノナデシル基、エイコシル基、ヘンエイコシ
ル基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコシル基、ペ
ンタコシル基、ヘキサコシル基、ヘプタコシル基、オク
タコシル基、ノナコシル基、トリアコンチル基、ヘキサ
トリアコンチル基等が挙げられる。直鎖アルケニル基と
しては、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウン
デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデ
セニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプ
タデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、エ
イコセニル基、ヘンエイコセニル基、ドコセニル基、ト
リコセニル基、テトラコセニル基、ペンタコセニル基、
ヘキサコセニル基、ヘプタコセニル基、オクタコセニル
基、ノナコセニル基、トリアコンテニル基、ヘキサトリ
アコンテニル基等が挙げられる。
【００１４】これらの分岐率４０〜１００％のアルキル
又はアルケニル基のうち、炭素数１０〜２０のもの、特
に１１〜１６のものが好ましい。またアルケニル基に比
してアルキル基がより好ましい。
又はアルケニル基のうち、炭素数１０〜２０のもの、特
に１１〜１６のものが好ましい。またアルケニル基に比
してアルキル基がより好ましい。
【００１５】またＸ1 は、Ｏ、ＣＯＯ、ＣＯＮＲ2、Ｐ
Ｏ4Ｍ2、Ｓ又はＳＯ2 を示すが、ここでＲ2 の炭素数１
〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基が挙げられる。これらのＸ1 のうち
酸素原子が特に好ましい。
Ｏ4Ｍ2、Ｓ又はＳＯ2 を示すが、ここでＲ2 の炭素数１
〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基が挙げられる。これらのＸ1 のうち
酸素原子が特に好ましい。
【００１６】Ｙ及びＺは水素原子又は炭素数１〜２のア
ルキル基、すなわちメチル基、エチル基、好ましくは水
素原子又はメチル基であるが、Ｙ及びＺの双方がアルキ
ル基である場合を除く。なお、Ｙ又はＺのいずれかがア
ルキル基である場合より、Ｙ及びＺが共に水素原子であ
ってＲ1 が分岐しているものが製造面で好ましい。Ｍ 1
及びＭ2 としては、水素原子；ナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属；アンモニウム；モノエチルアンモニウ
ム、ジエチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム等
のアルキルアンモニウム；モノエタノールアンモニウ
ム、ジエタノールアンモニウム、トリエタノールアンモ
ニウム、モノイソプロピルアルコールアンモニウム等の
アルカノールアンモニウムが挙げられるが、就中、アル
カリ金属、アンモニウムが好ましく、特にナトリウム、
カリウム、アンモニウムが好ましい。ｎは平均付加モル
数を示し、０〜１０好ましくは０〜５、特に０〜３が好
ましい。
ルキル基、すなわちメチル基、エチル基、好ましくは水
素原子又はメチル基であるが、Ｙ及びＺの双方がアルキ
ル基である場合を除く。なお、Ｙ又はＺのいずれかがア
ルキル基である場合より、Ｙ及びＺが共に水素原子であ
ってＲ1 が分岐しているものが製造面で好ましい。Ｍ 1
及びＭ2 としては、水素原子；ナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属；アンモニウム；モノエチルアンモニウ
ム、ジエチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム等
のアルキルアンモニウム；モノエタノールアンモニウ
ム、ジエタノールアンモニウム、トリエタノールアンモ
ニウム、モノイソプロピルアルコールアンモニウム等の
アルカノールアンモニウムが挙げられるが、就中、アル
カリ金属、アンモニウムが好ましく、特にナトリウム、
カリウム、アンモニウムが好ましい。ｎは平均付加モル
数を示し、０〜１０好ましくは０〜５、特に０〜３が好
ましい。
【００１７】エーテルスルホネート（１）は、例えばＵ
ＳＰ２２６０７５３、ＵＳＰ２３２７０５３、ＵＳＰ２
９８９５４７、桑村ら、工業化学雑誌、６３（４）、５
９５（１９６０）、同６４（１１）、１９５８（１９６
１）等に記載の方法により製造することができる。詳細
には例えば次の反応式に従い製造することができる。
ＳＰ２２６０７５３、ＵＳＰ２３２７０５３、ＵＳＰ２
９８９５４７、桑村ら、工業化学雑誌、６３（４）、５
９５（１９６０）、同６４（１１）、１９５８（１９６
１）等に記載の方法により製造することができる。詳細
には例えば次の反応式に従い製造することができる。
【００１８】
【化４】
【００１９】〔式中、Ｒ1 は前記と同じものを示す〕
すなわち、アルコールにエピクロロヒドリンを四塩化ス
ズ存在下に反応させてハロヒドリン体とし、これに水酸
化ナトリウム等のアルカリを作用せしめエポキシド誘導
体とし、これに亜硫酸ナトリウムや亜硫酸水素ナトリウ
ム等の亜硫酸塩等のスルホン化剤を反応せしめれば目的
とするエーテルスルホネート（１ａ）が得られる。
ズ存在下に反応させてハロヒドリン体とし、これに水酸
化ナトリウム等のアルカリを作用せしめエポキシド誘導
体とし、これに亜硫酸ナトリウムや亜硫酸水素ナトリウ
ム等の亜硫酸塩等のスルホン化剤を反応せしめれば目的
とするエーテルスルホネート（１ａ）が得られる。
【００２０】この反応において、原料となるＲ1ＯＨで
示されるアルコールとしては、例えば高分岐率のオキソ
アルコール（ダイヤドール１１５Ｌ等：三菱化学、ライ
アール１２３等：ユニケマ、エクサール等：エクソン
他、トリデカノール：協和発酵他）や直鎖率の高いオキ
ソアルコールの分岐部分を主な留分とする蒸留物（ドバ
ノール２３１：三菱化学他）、ゲルベアルコール（β位
分岐型アルコール）等が挙げられる。
示されるアルコールとしては、例えば高分岐率のオキソ
アルコール（ダイヤドール１１５Ｌ等：三菱化学、ライ
アール１２３等：ユニケマ、エクサール等：エクソン
他、トリデカノール：協和発酵他）や直鎖率の高いオキ
ソアルコールの分岐部分を主な留分とする蒸留物（ドバ
ノール２３１：三菱化学他）、ゲルベアルコール（β位
分岐型アルコール）等が挙げられる。
【００２１】上記反応式の具体例としては次のものが挙
げられる。
げられる。
【００２２】
【化５】
【００２３】また、高級アルコール等へのプロピレンオ
キシドの付加物を用いれば、一般式（１）中Ｘ1＝０、
ｎ＝１〜１０の化合物が得られる。
キシドの付加物を用いれば、一般式（１）中Ｘ1＝０、
ｎ＝１〜１０の化合物が得られる。
【００２４】また、Ｘ1 がＣＯＯ又はＣＯＮＲ2 である
化合物は、文献記載の方法により得ることができる〔Ｃ
Ｓ１９５７９４（１９８２）、ＩＮ１２１６９６（１９
７１）〕。Ｘ1 がＳ又はＳＯ2 のものは、分岐アルキル
型の高級メルカプタン、例えばｔ−ドデシルメルカプタ
ン等を原料として用いることにより製造することがで
き、Ｘ1 がＰＯ4Ｍ2 であるものは特開昭６２−１２３
１９１号公報記載の方法に従い分岐型の高級アルコール
から得ることができる。
化合物は、文献記載の方法により得ることができる〔Ｃ
Ｓ１９５７９４（１９８２）、ＩＮ１２１６９６（１９
７１）〕。Ｘ1 がＳ又はＳＯ2 のものは、分岐アルキル
型の高級メルカプタン、例えばｔ−ドデシルメルカプタ
ン等を原料として用いることにより製造することがで
き、Ｘ1 がＰＯ4Ｍ2 であるものは特開昭６２−１２３
１９１号公報記載の方法に従い分岐型の高級アルコール
から得ることができる。
【００２５】本発明においては、更に液体洗浄剤組成物
を安定化させる目的で次の一般式（２）
を安定化させる目的で次の一般式（２）
【００２６】
【化６】
【００２７】〔式中、Ｒ3 は炭素数８〜１８の直鎖又は
分岐鎖のアルキル又はアルケニル基を示し、Ｘ2 は（Ｏ
Ｒ8）n （ここでＲ8 は炭素数２〜４の直鎖又は分岐鎖
のアルキレン基を示し、ｎは０〜１０の数を示す）又は
ＣＯＮ（Ｒ6）Ｒ7−（ここでＲ 6 は水素原子又は炭素数
１〜４のアルキル基を示し、Ｒ7 は炭素数１〜５のアル
キレン基を示す）を示し、Ｒ4 及びＲ5 は炭素数１〜２
のアルキル基を示す〕で表されるスルホベタインを配合
することが好ましい。
分岐鎖のアルキル又はアルケニル基を示し、Ｘ2 は（Ｏ
Ｒ8）n （ここでＲ8 は炭素数２〜４の直鎖又は分岐鎖
のアルキレン基を示し、ｎは０〜１０の数を示す）又は
ＣＯＮ（Ｒ6）Ｒ7−（ここでＲ 6 は水素原子又は炭素数
１〜４のアルキル基を示し、Ｒ7 は炭素数１〜５のアル
キレン基を示す）を示し、Ｒ4 及びＲ5 は炭素数１〜２
のアルキル基を示す〕で表されるスルホベタインを配合
することが好ましい。
【００２８】一般式（２）中、Ｒ3 の炭素数８〜１８の
アルキル基としては、例えばオクチル基、ノニル基、デ
シル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テ
トラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプ
タデシル基、オクタデシル基が挙げられ、アルケニル基
としては、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウ
ンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラ
デセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘ
プタデセニル基、オクタデセニル基が挙げられ、これら
は直鎖でも分岐鎖を持つものでもよい。分岐鎖を持つも
のの具体例としては、２−エチルヘキシル、２−ペンチ
ルデシル、２−ブチルウンデシル、２−プロピルデシ
ル、２−エチルノニル、２−メチルオキチル基等が挙げ
られる。これらのうち、炭素数１０〜１６のもの、特に
炭素数１２のものが好ましい。また分岐鎖のものより直
鎖のものが好ましく、更にアルケニル基よりアルキル基
の方が好ましい。
アルキル基としては、例えばオクチル基、ノニル基、デ
シル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テ
トラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプ
タデシル基、オクタデシル基が挙げられ、アルケニル基
としては、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウ
ンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラ
デセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘ
プタデセニル基、オクタデセニル基が挙げられ、これら
は直鎖でも分岐鎖を持つものでもよい。分岐鎖を持つも
のの具体例としては、２−エチルヘキシル、２−ペンチ
ルデシル、２−ブチルウンデシル、２−プロピルデシ
ル、２−エチルノニル、２−メチルオキチル基等が挙げ
られる。これらのうち、炭素数１０〜１６のもの、特に
炭素数１２のものが好ましい。また分岐鎖のものより直
鎖のものが好ましく、更にアルケニル基よりアルキル基
の方が好ましい。
【００２９】一般式（２）中、Ｒ4 及びＲ5 としては、
メチル基又はエチル基が挙げられるが、就中メチル基が
好ましい。またＲ6 のアルキル基としては、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基が挙げられる。Ｒ7
のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プ
ロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基が挙げられ、Ｒ
8 のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、
プロピレン基、ブチレン基が挙げられるが、エチレン基
が好ましい。上記Ｘ2 の中で好ましいものとしては（Ｏ
Ｒ8）n が挙げられ、このうちｎ＝０の場合が特に好ま
しい。
メチル基又はエチル基が挙げられるが、就中メチル基が
好ましい。またＲ6 のアルキル基としては、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基が挙げられる。Ｒ7
のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プ
ロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基が挙げられ、Ｒ
8 のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、
プロピレン基、ブチレン基が挙げられるが、エチレン基
が好ましい。上記Ｘ2 の中で好ましいものとしては（Ｏ
Ｒ8）n が挙げられ、このうちｎ＝０の場合が特に好ま
しい。
【００３０】一般式（２）で表されるスルホベタインの
うち好ましいものとしては、次の化合物が例示される。
うち好ましいものとしては、次の化合物が例示される。
【００３１】
【化７】
【００３２】本発明組成物において、エーテルスルホネ
ート（１）の配合量は１〜６０重量％とすることが好ま
しく、特に３〜４０重量％、更に５〜３０重量％とする
ことが本発明の効果を高める上で好ましい。
ート（１）の配合量は１〜６０重量％とすることが好ま
しく、特に３〜４０重量％、更に５〜３０重量％とする
ことが本発明の効果を高める上で好ましい。
【００３３】一方、スルホベタイン（２）の配合量は、
エーテルスルホネート（１）に対して１〜１００重量
％、好ましくは１０〜９０重量％、特に２０〜８０重量
％とすることが好ましい。この量が（１）に対して１重
量％未満であると水溶液の安定性があまり向上せず、配
合の意味が少なく、１００重量％を超えて配合しても高
粘度化が起こる等の不都合が生ずることがあり好ましく
ない。
エーテルスルホネート（１）に対して１〜１００重量
％、好ましくは１０〜９０重量％、特に２０〜８０重量
％とすることが好ましい。この量が（１）に対して１重
量％未満であると水溶液の安定性があまり向上せず、配
合の意味が少なく、１００重量％を超えて配合しても高
粘度化が起こる等の不都合が生ずることがあり好ましく
ない。
【００３４】本発明の液体洗浄剤組成物には必要に応
じ、更に石鹸、洗顔剤、食洗、シャンプー、ボディーシ
ャンプー、化粧品等で使用されている一般のアニオン性
活性剤（アルキル硫酸エステル塩、アルキルエーテル硫
酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、アシル化タウリン
系界面活性剤、アシル化グリシン系界面活性剤、アシル
化ザルコシン系界面活性剤、アシル化イセチオネート、
Ｎ−アシル酸性アミノ酸系界面活性剤、高級脂肪酸塩、
及びアシル化ポリペプチド等）、両性界面活性剤（アル
キルベタイン型界面活性剤、アミドプロピルベタイン型
界面活性剤、イミダゾリウムベタイン型界面活性剤、こ
こでベタインとはカルボベタイン、スルホベタイン、ホ
スホベタインを指す）、非イオン性界面活性剤（ヤシ油
脂肪酸ジエタノールアミド、ステアリン酸モノグリセラ
イド、ラウリルジメチルアミンオキシド、ポリオキシエ
チレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸ソ
ルビタンエステル、アルキルグリコシド、アシル化グル
カミン等）、カチオン性活性剤（塩化ジステアリルジメ
チルアンモニウム、エチル硫酸ラノリン脂肪酸アミノプ
ロピルエチルジメチルアンモニウム等）、溶剤（エタノ
ール、プロピレングリコール他）、高級アルコール、ポ
リマー（増粘剤）、酸化防止剤、防腐剤、殺菌剤、紫外
線防止剤、パール化剤、油剤、キレート剤、香料等を本
発明の効果を損なわない範囲において配合することがで
きる。
じ、更に石鹸、洗顔剤、食洗、シャンプー、ボディーシ
ャンプー、化粧品等で使用されている一般のアニオン性
活性剤（アルキル硫酸エステル塩、アルキルエーテル硫
酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、アシル化タウリン
系界面活性剤、アシル化グリシン系界面活性剤、アシル
化ザルコシン系界面活性剤、アシル化イセチオネート、
Ｎ−アシル酸性アミノ酸系界面活性剤、高級脂肪酸塩、
及びアシル化ポリペプチド等）、両性界面活性剤（アル
キルベタイン型界面活性剤、アミドプロピルベタイン型
界面活性剤、イミダゾリウムベタイン型界面活性剤、こ
こでベタインとはカルボベタイン、スルホベタイン、ホ
スホベタインを指す）、非イオン性界面活性剤（ヤシ油
脂肪酸ジエタノールアミド、ステアリン酸モノグリセラ
イド、ラウリルジメチルアミンオキシド、ポリオキシエ
チレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸ソ
ルビタンエステル、アルキルグリコシド、アシル化グル
カミン等）、カチオン性活性剤（塩化ジステアリルジメ
チルアンモニウム、エチル硫酸ラノリン脂肪酸アミノプ
ロピルエチルジメチルアンモニウム等）、溶剤（エタノ
ール、プロピレングリコール他）、高級アルコール、ポ
リマー（増粘剤）、酸化防止剤、防腐剤、殺菌剤、紫外
線防止剤、パール化剤、油剤、キレート剤、香料等を本
発明の効果を損なわない範囲において配合することがで
きる。
【００３５】これら任意成分は１種又は２種以上を組み
合せて用いてもよく、配合量も特に制限はないが、本発
明組成物中に０〜４０重量％、特に０〜３０重量％の範
囲内とすることが好ましい。
合せて用いてもよく、配合量も特に制限はないが、本発
明組成物中に０〜４０重量％、特に０〜３０重量％の範
囲内とすることが好ましい。
【００３６】本発明組成物は上記成分及び水を常法によ
り混合等することにより製造することができる。また、
本発明組成物は、有機酸、無機酸、有機塩基又は無機塩
基により、所望のpHに調整することができるが、pHの範
囲は３．５〜７．０、特に４．０〜６．５、更に４．５
〜６．０とすることが本発明の効果のため好ましい。
り混合等することにより製造することができる。また、
本発明組成物は、有機酸、無機酸、有機塩基又は無機塩
基により、所望のpHに調整することができるが、pHの範
囲は３．５〜７．０、特に４．０〜６．５、更に４．５
〜６．０とすることが本発明の効果のため好ましい。
【００３７】
【発明の効果】本発明の液体洗浄剤組成物は特に弱酸性
下、液状安定性に優れ、泡立ち、洗浄力、使用感が良好
で低刺激性である。従って、シャンプー、ボディーシャ
ンプー、洗顔料のみならず台所用洗浄剤等、直接皮膚に
接触する洗浄剤として用いることができる弱酸性系洗浄
剤として極めて有用である。
下、液状安定性に優れ、泡立ち、洗浄力、使用感が良好
で低刺激性である。従って、シャンプー、ボディーシャ
ンプー、洗顔料のみならず台所用洗浄剤等、直接皮膚に
接触する洗浄剤として用いることができる弱酸性系洗浄
剤として極めて有用である。
【００３８】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、以下「％」は「重量％」を示す。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、以下「％」は「重量％」を示す。
【００３９】合成例１ （ｎ−ドデシルグリセリルエ
ーテルスルホン酸ナトリウム塩の合成）：
ーテルスルホン酸ナトリウム塩の合成）：
【００４０】
【化８】
【００４１】ｎ−ドデシルアルコール３７２ｇ（２mo
l）、エピクロロヒドリン４１６ｇ（４．５mol）、テト
ラブチルアンモニウムブロマイド６４ｇ（０．２mol）
を四つ口フラスコ（冷却管、温度計、攪拌装置付き）に
仕込み、これに４８％ＮａＯＨ６６７ｇ（８mol）を５
０℃にて滴下し、５０℃にて１０時間反応を行った。反
応終了後、ＮａＣｌ水溶液にて水洗し、過剰のエピクロ
ルヒドリンを留去し、ｎ−ドデシルグリシジルエーテル
４８０ｇを得た。（アルコールの反応率：９３％） ｎ−ドデシルグリシジルエーテル１４５ｇ（０．６mo
l）、エタノール、ＮａＨＳＯ3 ９４ｇ（０．９mol）、
Ｎａ2ＳＯ3 ２５ｇ（０．２mol）、水を四つ口フラスコ
（冷却管、温度計、攪拌装置付き）に仕込み、８０℃に
て１０時間反応を行った。反応終了後、エタノールを加
え脱塩し、エタノール水溶液から再結晶を行い、目的物
であるｎ−ドデシルグリセリルエーテルスルホン酸Ｎａ
塩２１０ｇ（グリシジルエーテル反応率：９７％）を得
た。
l）、エピクロロヒドリン４１６ｇ（４．５mol）、テト
ラブチルアンモニウムブロマイド６４ｇ（０．２mol）
を四つ口フラスコ（冷却管、温度計、攪拌装置付き）に
仕込み、これに４８％ＮａＯＨ６６７ｇ（８mol）を５
０℃にて滴下し、５０℃にて１０時間反応を行った。反
応終了後、ＮａＣｌ水溶液にて水洗し、過剰のエピクロ
ルヒドリンを留去し、ｎ−ドデシルグリシジルエーテル
４８０ｇを得た。（アルコールの反応率：９３％） ｎ−ドデシルグリシジルエーテル１４５ｇ（０．６mo
l）、エタノール、ＮａＨＳＯ3 ９４ｇ（０．９mol）、
Ｎａ2ＳＯ3 ２５ｇ（０．２mol）、水を四つ口フラスコ
（冷却管、温度計、攪拌装置付き）に仕込み、８０℃に
て１０時間反応を行った。反応終了後、エタノールを加
え脱塩し、エタノール水溶液から再結晶を行い、目的物
であるｎ−ドデシルグリセリルエーテルスルホン酸Ｎａ
塩２１０ｇ（グリシジルエーテル反応率：９７％）を得
た。
【００４２】合成例２〜１０
合成例１の方法に準じて、表１に示すエーテルスルホネ
ートを得た。
ートを得た。
【００４３】
【表１】
【００４４】実施例１
合成例１〜１０で得られたエーテルスルホネート及び下
記式のアルキルスルホベタイン＊３を使用し、界面活性
剤水溶液を調整した。但しその際、希釈塩酸水溶液を用
い、水溶液のpHを弱酸性とした。これらの水溶液の外観
性状、液状安定性、泡立ち量（２０℃、４０℃）、洗浄
力を下記の方法にて評価した。その結果を表２及び表３
に示す。
記式のアルキルスルホベタイン＊３を使用し、界面活性
剤水溶液を調整した。但しその際、希釈塩酸水溶液を用
い、水溶液のpHを弱酸性とした。これらの水溶液の外観
性状、液状安定性、泡立ち量（２０℃、４０℃）、洗浄
力を下記の方法にて評価した。その結果を表２及び表３
に示す。
【００４５】
【化９】
【００４６】（外観性状）
・各サンプル５％水溶液を調整後、（溶解しずらいサン
プルは加温して溶解）２５℃での外観性状の観察を行っ
た。
プルは加温して溶解）２５℃での外観性状の観察を行っ
た。
【００４７】（液状安定性）
・各サンプル５％水溶液を調整後、１日各温度（−５
℃、０℃、５℃、２５℃）にて放置し、その外観を観察
した。 ○：透明溶液。 ×：結晶が析出して浮遊又は沈殿状態。
℃、０℃、５℃、２５℃）にて放置し、その外観を観察
した。 ○：透明溶液。 ×：結晶が析出して浮遊又は沈殿状態。
【００４８】（泡立ち量）
・各サンプル２％水溶液を調整後、この溶液１００mlを
液温（２０℃、４０℃）にて目盛り付きシリンダーに注
入する。ついで攪拌羽根を上記溶液中に放置し、攪拌開
始後から３０秒後に於いて生じた泡の体積mlを測定し、
泡立ち量として評価した。 ２００ml以上：良好○、２００〜１００ml：やや不足
△、１００ml未満：不足×と判定した。なお、攪拌羽根
の回転数は１０００rpm であり、５秒後毎に反転させ
た。
液温（２０℃、４０℃）にて目盛り付きシリンダーに注
入する。ついで攪拌羽根を上記溶液中に放置し、攪拌開
始後から３０秒後に於いて生じた泡の体積mlを測定し、
泡立ち量として評価した。 ２００ml以上：良好○、２００〜１００ml：やや不足
△、１００ml未満：不足×と判定した。なお、攪拌羽根
の回転数は１０００rpm であり、５秒後毎に反転させ
た。
【００４９】（洗浄力）
・カーボンブラック入りのコメド皮脂（融点４２℃）を
人の前腕部に塗布、５分放置後、５％水溶液にて泡立て
１０秒２０回マッサージし、水洗後、黒色の落ち具合を
評価した。 ほとんど残留がない：○、明らかに残留している：△、
ほとんど落ちていない：×
人の前腕部に塗布、５分放置後、５％水溶液にて泡立て
１０秒２０回マッサージし、水洗後、黒色の落ち具合を
評価した。 ほとんど残留がない：○、明らかに残留している：△、
ほとんど落ちていない：×
【００５０】
【表２】
【００５１】
【表３】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
//(Ｃ１１Ｄ 1/94 Ｃ１１Ｄ 1:16
1:16 1:28
1:28 1:92
1:92）
(56)参考文献 特開 平６−172156（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−17343（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−200290（ＪＰ，Ａ)
特開 昭52−36107（ＪＰ，Ａ)
国際公開95／000117（ＷＯ，Ａ１)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C11D 1/00 - 17/08
A61K 7/075
A61K 7/50
Claims (3)
- 【請求項１】 次の一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1 は直鎖又は分岐鎖の炭素数８〜３６のアル
キル又はアルケニル基を示し、Ｘ1 は酸素原子、ＣＯ
Ｏ、ＣＯＮＲ2 （ここで、Ｒ2 は水素原子又は炭素数１
〜４のアルキル基を示す）、ＰＯ4Ｍ2、硫黄原子又はＳ
Ｏ2 を示し、Ｙ及びＺは水素原子又は炭素数１〜２のア
ルキル基を示すが、Ｙ及びＺの双方がアルキル基である
場合を除く。Ｍ1 及びＭ2 は水素原子、アルカリ金属、
アンモニウム、炭素数２〜９のアルキルアンモニウム又
は炭素数２〜９のアルカノールアンモニウムを示し、ｎ
は平均付加モル数で０〜１０の数を示す。ただし、ｎが
０であるか、Ｙ及びＺの双方が水素原子である場合、Ｒ
1 のアルキル又はアルケニル基の分岐率は４０〜１００
％である。〕で表されるエーテルスルホネート、及び次
の一般式（２） 【化２】 〔式中、Ｒ 3 は炭素数８〜１８の直鎖又は分岐鎖のアル
キル又はアルケニル基を示し、Ｘ 2 は（ＯＲ 8 ） n （こ
こでＲ 8 は炭素数２〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキレン
基を示し、ｎは０〜１０の数を示す）又はＣＯＮ
（Ｒ 6 ）Ｒ 7 −（ここでＲ 6 は水素原子又は炭素数１〜４
のアルキル基を示し、Ｒ 7 は炭素数１〜５のアルキレン
基を示す）を示し、Ｒ 4 及びＲ 5 は炭素数１〜２のアル
キル基を示す〕で表されるスルホベタインを含有する液
体洗浄剤組成物。 - 【請求項２】 一般式（２）で表されるスルホベタイン
の配合量が、一般式（１ ）で表されるエーテルスルホネ
ートに対し１〜１００重量％である請求項１記載の液体
洗浄剤組成物。 - 【請求項３】 pHが３．５〜７．０である請求項１又は
２記載の液体洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP685895A JP3429884B2 (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 液体洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP685895A JP3429884B2 (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 液体洗浄剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08199187A JPH08199187A (ja) | 1996-08-06 |
| JP3429884B2 true JP3429884B2 (ja) | 2003-07-28 |
Family
ID=11649945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP685895A Expired - Fee Related JP3429884B2 (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 液体洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3429884B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5919975A (en) * | 1996-05-31 | 1999-07-06 | Witco Corporation | Aromatic and aliphatic sulfonates and properties and applications thereof |
| JP5602199B2 (ja) * | 2011-10-12 | 2014-10-08 | 花王株式会社 | 手洗い用食器洗浄剤組成物 |
| JP5654537B2 (ja) * | 2011-10-12 | 2015-01-14 | 花王株式会社 | 手洗い用食器洗浄剤組成物 |
-
1995
- 1995-01-20 JP JP685895A patent/JP3429884B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08199187A (ja) | 1996-08-06 |
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