JP3412212B2 - Interferometer device - Google Patents

Interferometer device

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JP3412212B2
JP3412212B2 JP30364193A JP30364193A JP3412212B2 JP 3412212 B2 JP3412212 B2 JP 3412212B2 JP 30364193 A JP30364193 A JP 30364193A JP 30364193 A JP30364193 A JP 30364193A JP 3412212 B2 JP3412212 B2 JP 3412212B2
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正史 末吉
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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、環境変化に伴う空気の
ゆらぎ、即ち、空気の屈折率の変化に伴う測定誤差を補
正し得る干渉計装置に関するものである。 【0002】 【従来の技術】従来においては、干渉計装置により得ら
れる被計測物体の変位量または位置に関する計測値中に
含まれる環境変化に伴う空気の屈折率を変化による計測
誤差は、環境計測用のセンサーを用いて、被計測物体を
往復する計測ビームの近傍での空気の温度・圧力・湿度
等を測定し、環境計測用のセンサーによる各測定値と計
測ビームによる被計測物体の計測値とに基づいて、所定
の演算を行うことにより、補正されていた。 【0003】また、特開平2−1501号には、図6〜
図8に示す如き空気の屈折率変化の影響を受けない干渉
計装置が提案されている。図6は干渉計装置の構成を示
す側面図、図7は図6を上方から見た時の平面図であ
り、図8は図6を紙面の左側から見た時の側面図であ
る。そこで、この装置について図6〜図8を参照しなが
ら説明する。被計測物体として例えばウエハWを載置す
るステージSTの一端には移動鏡6が固設されており、
この移動鏡6は、計測方向に沿って所定の距離l2 だけ
離れるように配置された第1反射面6a及び第2反射面
6bを有している。 【0004】レーザ光源1からのレーザビームは、図8
に示す如く、2つのプリズム(2a,2b)の接合面に
半透過面BSが形成された光分割プリズム2に入射し、
この光分割面BSによって上下方向に2分割される。こ
の光分割面BSを反射したレーザビームは半透過プリズ
ム2の一つの面に形成された反射面Rを介して偏光プリ
ズム3の上部に入射し、光分割面BSを透過したレーザ
ビームは偏光プリズム3の下部に入射する。この偏光プ
リズム3は2つの直角プリズムが接合さており、この接
合面には偏光分離面PBSが形成されている。 【0005】偏光プリズム3の上部及び下部に入射した
レーザビームは、偏光プリズム3内の偏光分離面PBS
によって参照ビームと計測ビームとにそれぞれ偏光分離
され、この偏光分離面PBSは、図7の紙面方向に振動
するP偏光成分を参照ビームとしてそれぞれ透過させ、
図7の紙面に垂直な方向に振動するS偏光成分を計測ビ
ームとしてそれぞれ反射させる。 【0006】まず、偏光分離面PBSを透過する各参照
ビームは、偏光プリズム3の射出側面(直角プリズム3
bの1つの面)に接合された1/4波長板4aを通過
し、この1/4波長板4aの端面に設けられた参照用の
反射鏡5を反射後、再び1/4波長板4aを通過して偏
光分離面PBSに向かう。このとき、各参照ビームは、
1/4波長板4aを往復するため、偏光面が90度回転
してS偏光に変換される。従って、各参照ビームは偏光
分離面PBSを反射し、偏光プリズム3の射出側に接合
された偏光板7へ向かう。 【0007】一方、偏光分離面PBSを反射する各計測
ビームは、偏光プリズム3の射出側面(直角プリズム3
aの1つの面)に接合された1/4波長板4bを通過
後、ステージSTの一端に固設された反射鏡6へそれぞ
れ向かう。図6に示す如く、偏光プリズム3内の偏光分
離面PBSの上部を反射し、1/4波長板4bの上部を
通過する第1計測ビームは、反射鏡6の上部の第1反射
面6aを反射して、再び1/4波長板4bを通過して偏
光分離面PBSに向かう。このとき、各参照ビームは、
1/4波長板4aを往復するため、偏光面が90度回転
してP偏光に変換される。従って、各計測ビームは偏光
分離面PBSを通過し、偏光プリズム3の射出側に接合
された偏光板7へ向かう。 【0008】以上の如く、偏光分離面PBSの上部を通
過して偏光板7に向かう計測ビームと参照ビームとは偏
光板7を通過することによって干渉し、この干渉光は第
1光路差検出装置8aにて反射鏡6の上部の第1反射面
6aの変位量に関する出力Aが生成され、また、偏光分
離面PBSの下部を通過して偏光板7に向かう計測ビー
ムと参照ビームとは偏光板7を通過することによって干
渉し、この干渉光は第2光路差検出装置8bにて反射鏡
6の下部の第2反射面6bの変位量に関する出力Aが生
成される。 【0009】各光路差検出装置(8a,8b)からの2
つの出力は、演算装置9に入力され、所定の演算がなさ
れる。ここで、第1光路差検出装置8aの出力Aを
A 、第2光路差検出装置8bの出力BをXB 、ステー
ジSTの変位量をx、変位量が零である測定の原点(測
定開始時又とリセット時)での空気の屈折率をn、空気
の揺らぎ等による空気の屈折率の変化量をΔn、第2反
射面6bと1/4波長板4b(または干渉計)との空気
中での距離をl1 、第1反射面6aと第2反射面6bと
の空気中での距離をl2 とするとき、各光路差検出装置
(8a,8b)からの2つの出力(XA ,XB )は以下
の数式1によるものとなる。 【0010】 【数1】【0011】また、演算装置9での演算式は、上記数式
1による2つの式によりΔnを消去することにより与え
られる以下の数式2によるものとなる。 【0012】 【数2】 【0013】以上の数2の式による演算が演算装置9に
て実行される事により、空気の屈折率変化の影響を受け
ない出力結果が生成され、ステージSTの高い精度な位
置計測を可能としていた。 【0014】 【発明が解決しようとする課題】上記の従来の技術で
は、2つの干渉計装置自体が各々持つ誤差が原理的に増
幅されるという致命的な問題がある。また、被計測物体
としてのステージ上の一端に形成される2つの反射面間
の距離l2 を小さくすると、空気のゆらぎ等による空気
の屈折率変化が補償できる精度が低下するという問題が
ある。 【0015】そこで、本発明は、以上にて述べた如く、
2つの干渉計装置自体が各々持つ誤差が増幅されるとい
う致命的な問題を解消し、空気等の気体のゆらぎによっ
て生ずる屈折率変化による計測誤差を精度良く補正し、
常に高精度で安定した計測を可能とし得る干渉計装置を
提供することを目的としている。 【0016】 【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために、例えば図1〜図3に示す如く、計測方
向に沿ってそれぞれ所定位置に設けられかつ前記計測方
向に沿って一体的に移動可能に設けられた第1及び第2
計測用反射手段と、それぞれ所定位置に固設された第1
及び第2参照用反射手段と、光束を供給する光源手段
と、該光源手段からの光束に基づいて,前記第1計測用
反射手段を介して前記計測方向に沿って気体中を往復す
る第1計測光路と前記第1参照用反射手段を介して気体
中を往復する第1参照光路とを形成し,該第1計測光路
及び第1参照光路を経由した各光束によって第1測定出
力を生成する第1干渉計手段と、前記光源手段からの光
束に基づいて,前記第2計測用反射手段を介して前記第
1計測光路とほぼ平行な方向に沿って気体中を往復する
第2計測光路と前記第2参照用反射手段を介して気体中
を往復する第2参照光路とを形成し,該第2計測光路及
び第2参照光路を経由した各光束によって第2測定出力
を生成する第2干渉計手段と、前記第1及び第2測定出
力に基づいて所定の演算を行う演算手段とを有し、前記
第1干渉計手段から前記第1参照用反射手段までの前記
第1参照光路は、前記第2干渉計手段から前記第2参照
用反射手段までの前記第2参照光路と等しい光学的光路
長を有し、前記第1干渉計手段から前記第1計測用反射
手段の基準位置までの前記第1計測光路の光学的光路長
をlM1とし、前記第2干渉計手段から前記第2計測用反
射手段の基準位置までの前記第2計測光路の光学的光路
長をlM2、前記第1干渉計手段から前記第1参照用反射
手段までの前記第1参照光路の光学的光路長をlR1、前
記第2干渉計手段から前記第2参照用反射手段までの前
記第2参照光路の光学的光路長をlR2、前記基準位置か
らの前記第1及び第2計測用反射手段の変位をxとする
とき、前記第1及び第2計測用反射手段は、以下の範囲
を少なくとも移動可能、もしくは以下の範囲の1部を少
なくとも移動可能に構成されるようにした。 【0017】lR1−lM1≦x≦lR2−lM2 【0018】 【作 用】本発明の原理を説明する前に、まず、図6〜
図8に示した従来の装置における計測誤差について説明
する。反射鏡6の上部の第1反射面6aを往復する第1
計測光路と反射鏡5の上側部分を往復する第1参照光路
を形成し、各光路を経由した各光束によって第1測定出
力Aを生成する第1干渉計装置(図6に示す偏光プリズ
ム3の上側部分、各1/4波長板4a,4bの上側部
分、偏光板7の上側部分及び第1光路差測定装置8a)
の量子化誤差(又は分解能)をδA 、反射鏡6の下部の
第2反射面6bを往復する第2計測光路と反射鏡5の下
側部分を往復する第2参照光路を形成し、各光路を経由
した各光束によって第2測定出力Bを生成する第2干渉
計装置(図6に示す偏光プリズム3の下側部分、各1/
4波長板4a,4bの下側部分、偏光板7の下側部分及
び第2光路差測定装置8b)の量子化誤差(又は分解
能)をδB とするとき、図6に示す第1干渉計装置から
の測定出力Aは、本来の計測信号XA に量子化誤差δA
が加えられたものとなり、また、図6に示す第2干渉計
装置からの測定出力Bは、本来の計測信号XB に量子化
誤差δB が加えられたものとなる。 【0019】そこで、各干渉計装置による量子化誤差に
より測定結果に加えられる誤差量をΔxとすると、上記
の数式2は以下の数式3の如くなる。 【0020】 【数3】【0021】そして、上記の数式3を変形すると以下の
数式4の如くなる。 【0022】 【数4】 【0023】ここで、第1及び第2干渉計装置による出
力は数式1に示した如くそれぞれX A =xn+(l1
2 +x)Δn,XB =xn+(l1 +x)Δnとなる
ため、この関係及び数式4より、以下に示す数式5が導
出される。 【0024】 【数5】 【0025】ここで、n+Δn≒1とすると、上記数式
5は、最終的に以下の数式6の如くなる。 【0026】 【数6】 【0027】そこで、上記数式6に基づいて量子化誤差
量Δxの最大値ΔxMAX について検討する。今、第1及
び第2干渉計装置の量子化誤差(δA ,δB )の最大値
と最小値をそれぞれe,−eとし、各干渉計装置の量子
化誤差が、−e≦δA ≦e,−e≦δB ≦eの範囲を取
り得る時、上記数式6による量子化誤差量の最大値|Δ
MAX |を求める。 【0028】ここで、図6から明らかな如く、l1
0,l2 >0,x≧−l1 の関係が成立しているため、
上記数式6内の(x+l1 +l2 )及び(x+l1 )は
常に正となる。従って、上記数式6による量子化誤差量
の最大値|ΔxMAX |は、最終的に以下の数式7の如く
なる。 【0029】 【数7】【0030】ここで、上記数式7の量子化誤差量の最大
値|ΔxMAX |を縦軸、ステージSTの位置xを横軸と
してグラフ化すると、図9に示す如くなる。図9に示す
如く、ステージSTが第1及び第2干渉計(1/4波長
板4a)に対して離れた位置にあるに従って、量子化誤
差量の最大値|ΔxMAX |が大きくなり、これによる計
測誤差が無視できない程、大きい事が理解できる。 【0031】一例として、l1 =0.3m、l2 =0.1m、ス
テージSTの移動範囲を-0.3m ≦x≦0.3mとするとき、
量子化誤差量の最大値|ΔxMAX |が最も最大となるス
テージSTの位置は、第1及び第2干渉計(1/4波長
板4a)から反射鏡6の下部の第2反射面6bまでの距
離が0.6m(x=0.3m)の時であり、この時の量子化誤差
量の最大値は、上記数式7より、以下の数式8の如くな
る。 【0032】 【数8】 【0033】従って、第1及び第2干渉計装置の量子化
誤差eが10nm程度であるものとすると、最終的に得られ
る測定値には、上記数式8より、130nm にも達する測定
誤差が加算されることになる。また、上記数式8から明
らかな如く、被計測物体としてのステージ上の一端に配
置された反射鏡6中の2つの反射面(6a,6b)間の
距離l2 を小さくすると、量子化誤差量の最大値|Δx
MAX |が大きくなる事が理解できる。 【0034】この事を具体的に説明すると、l2 ’=l
2 /2とした時の量子化誤差量の最大値|ΔxMAX |’
とすると、この誤差量は上記数式7より以下の数式9の
如くなる。 【0035】 【数9】 【0036】一例として、前述の通り、l1 =0.3m、l
2 =0.1m、ステージSTの移動範囲を-0.3m ≦x≦0.3m
とした時に、l2 の値をさらに0.1mの半分の0.05m とし
た場合には、第1及び第2干渉計(1/4波長板4a)
から反射鏡6の下部の第2反射面6bまでの距離が0.6m
(x=0.3m)となる位置にステージSTが位置している
時に、量子化誤差量の最大値|ΔxMAX |’が最も最大
となり、この時の量子化誤差量の最大値|ΔxMAX |’
は、上記数式8及び9より、以下の数式10の如くな
る。 【0037】 【数10】 【0038】よって、上記数式8及び10から、被計測
物体としてのステージ上の一端に形成される反射鏡6中
の2つの反射面(6a,6b)間の距離l2 を半分にす
ると、量子化誤差量の最大値は約2倍(|ΔxMAX |’
/|ΔxMAX |倍)も大きくなるため、第1及び第2干
渉計装置の量子化誤差eが10nm程度であるものとする
と、最終的に得られる測定値には、上記数式10より、
約250nm にも達する測定誤差が加算されることになる。 【0039】以上にて述べた従来の干渉計装置が抱える
致命的な問題を解消するために、本発明は、2つの干渉
計手段により形成される各参照光路長を同一にすると共
に、同じく2つの干渉計手段により形成される各計測光
路長を所定の長さだけ異ならせしめ、各干渉計手段の計
測用反射手段の位置に対して、各干渉計手段の参照用反
射手段の位置が少なくとも内分するような所定の関係の
もとで、各干渉計手段の計測用反射手段を移動させるよ
うにしたものである。 【0040】これにより、空気等の気体中を通過する参
照光路と計測光路において屈折率変化が生じた場合で
も、各参照光路では実質的に同一な屈折率変化の影響を
受けながら、各計測光路では光路の長さに応じた屈折率
変化の影響を受けるため、環境変化に伴う空気等の気体
の屈折率変化の情報を含んだ異なる2つの計測出力を得
ることができる。そして、この2つの計測出力に基づい
て所定の演算を行うことにより、各光路中での屈折率の
変化による計測誤差を除去することができる。 【0041】しかも、2つの計測用反射手段を所定の移
動範囲もしくはその範囲の1部を少なくとも移動可能に
構成することにより、2つの干渉計手段自体が持つ量子
化誤差による影響を格段に軽減することができ、大幅に
計測精度の向上を達成することができる。なお、各干渉
計手段により形成される各計測光路並びにその付近に局
所的な空気等の気体中の屈折率変化が生じる恐れがある
場合には、各干渉計手段によりそれぞれ形成される参照
光路と計測光路との各々は互いに近接させることが望ま
しい。 【0042】以下の図4を参照しながら本発明の原理に
ついて説明する。図4(a)は本発明の第1干渉計装置
の構成を示す図であり、図4(b)は本発明の第2干渉
計装置の構成を示す図である。まず、図4(a)に示す
如く、第1の光源11から供給される光束は、光分割部
材としてのビームスプリッター12により2光束に分割
され、このビームスプリッター12を透過する一方のビ
ームL21は、計測用ビームとして、図4(a)の左右方
向へ移動可能に設けられた計測用の反射部材14(第1
の計測用反射手段)にて反射されて再びビームスプリッ
ター12に向かう。一方、ビームスプリッター12を反
射する他方のビームL31は、参照用ビームとして反射鏡
13を反射し、計測用ビームL21の光路と近接した空気
等の気体中を計測用ビームL21と平行となるように進行
する。その後、ビームL31は基台に固設された参照用の
反射部材15(第1参照用反射手段)を反射し、再び計
測用ビームL21の光路と近接した空気等の気体中を計測
用ビームL21と平行となるように進行し、反射鏡13を
介してビームスプリッター12へ向かう。そして、ビー
ムスプリッター12によって計測用ビームL21と参照用
ビームL31とが一緒になり、ビームL41として第1のレ
シーバー16(第1検出器)にて受光され、被測定物と
しての反射部材14の移動量が検出される。 【0043】ここで、図4(a)に示す第1干渉計は、
ビームスプリッター12と反射鏡13と第1のレシーバ
ー16とで構成されており、気体中の参照用光路の光学
的光路長がlR1となるように参照用の反射部材15は第
1干渉計に対して所定の光学的距離lR1だけ隔てて基台
に固設されている。また、計測用の反射部材14は、こ
れの基準位置における気体中の計測用光路の光学的光路
長がlM1となるように、第1干渉計から計測用の反射部
材14の基準位置までの光学的距離がlM1となるように
移動可能に設定されている。一方、図4(a)の紙面と
垂直な方向には、図4(b)に示す如き第2干渉計装置
が並列的に配置されており、第2干渉計装置では、反射
鏡23及び参照用の反射部材25は、第2干渉計の気体
中の参照用光路の光学的光路長lR2が第1干渉計の気体
中の参照用光路の光学的光路長lR1と等しくなるように
それぞれ固設されている。また、ビームスプリッター2
2及び計測用の反射部材24(計測用反射手段)は、反
射部材24の基準位置において、第2干渉計の気体中の
測定用光路の光学的光路長lM2が第2干渉計の気体中の
参照用光路の光学的光路長lM1に対し異なるようにそれ
ぞれ設定されており、それ以外に関しては図4(a)に
示す第1干渉計装置と基本的に同一である。 【0044】図4(b)に示す如く、第2の光源21か
ら供給される光束は、光分割部材としてのビームスプリ
ッター22により2光束に分割され、このビームスプリ
ッター22を透過する一方のビームL22は、計測用ビー
ムとして、計測用の反射部材24(第2計測用反射手
段)に向かう。この反射部材24は、図4(a)に示し
た反射部材14と共に一体的に図4(b)の左右方向へ
移動可能に設けられている。そして、計測用の反射部材
24へ向かうビームL22は、この反射部材24にて反射
されて再びビームスプリッター22へ向かう。一方、ビ
ームスプリッター22を反射する他方のビームL32は、
参照用ビームとして反射鏡23を反射し、計測用ビーム
22の光路と近接した空気等の気体中を計測用ビームL
22と平行となるように進行する。その後、ビームL32
基台に固設された参照用の反射部材25(第2参照用反
射手段)を反射し、再び計測用ビームL22の光路と近接
した空気等の気体中を計測用ビームL22と平行となるよ
うに進行し、反射鏡23を介してビームスプリッター2
2へ向かう。そして、ビームスプリッター22によって
計測用ビームL22と参照用ビームL32とが一緒になり、
ビームL42として、第2のレシーバー26(第2検出
器)にて受光され、被測定物としての反射部材24の移
動量が検出される。 【0045】なお、図4(b)に示す第2干渉計は、ビ
ームスプリッター22と反射鏡23と第2のレシーバー
26とで構成されている。以上の構成によって、被計測
物としての反射部材14及び24が図4の紙面方向へ一
体的に移動すると、第1干渉装置の第1のレシーバー1
6と第2干渉装置の第2のレシーバー26とからはそれ
ぞれ異なる2つの検出信号が出力される。 【0046】今、第1干渉装置の第1のレシーバー16
からの出力をXA 、第2干渉装置の第2のレシーバー2
6からの出力をXB とし、第1干渉計の参照光路におい
て気体の屈折率の変化の影響を受ける部分での光学的光
路の長さ(第1干渉計と第1参照用反射手段との間の第
1参照光路の気体中での光学的光路長)をlR1(=
R )、第2干渉計の参照光路において気体の屈折率の
変化の影響を受ける部分での光学的光路の長さ(第2干
渉計と第2参照用反射手段との間の第2参照光路の気体
中での光学的光路長)をlR2(=lR1=lR )、測定開
始時(リセット時)等の初期の計測用反射手段の基準位
置における第1干渉計の計測光路中での気体の屈折率の
変化の影響を受ける部分の光路の長さ(第1干渉計と計
測用反射手段の基準位置との間の第1計測光路の光学的
光路長)をlM1、測定開始時(リセット時)等の初期の
計測用反射手段の基準位置における第2干渉計の計測光
路中での気体の屈折率の変化の影響を受ける部分の光路
の長さ(第2干渉計と計測用反射手段の基準位置との間
の第2計測光路の光学的光路長)をlM2、第1及び第2
計測光路の各々において気体の屈折率の変化の影響を受
ける部分での光路の長さがそれぞれlM1,lM2となる時
の被計測物体(第1及び第2計測用反射手段)の基準位
置(原点)からの変位をxとする。但し、この変位x
は、被計測物体が原点より右側へ移動する時を正、被計
測物体が原点より左側へ移動する時を負とする。 【0047】本発明の場合においても上記数式2の関係
が成立すると共に、さらに、以下の数式11の関係が成
立する。 【0048】 【数11】 【0049】従って、上記数式6及び数式11より、次
式12の関係が成立する。 【0050】 【数12】 【0051】そこで、上式12に基づいて本発明による
干渉計装置における量子化誤差量Δxの最大値ΔxMAX
について検討する。今、第1及び第2干渉計装置の量子
化誤差(δA ,δB )の最大値と最小値をそれぞれe,
−eとし、各干渉計装置の量子化誤差が、−e≦δA
e,−e≦δB ≦eの範囲を取り得る時、上記数式12
による量子化誤差量の最大値|ΔxMAX |は、以下の
(i)〜(iii)の3通りに場合分けできる。(i)lR −lM1≦x≦lR −lM2の場合(但し、lM1
>lM2 この場合には、x+lM1−lR ≧0,x+lM2−lR
0となり、量子化誤差量の最大値|ΔxMAX |は、上記
数式11より、数式12の如くなる。 【0052】 【数13】 【0053】(ii)x>lR −lM2の場合(但し、lM1
>lM2 この場合には、x+lM1−lR >0,x+lM2−lR
0となり、量子化誤差量の最大値|ΔxMAX |は、上記
数式12より、数式14の如くなる。 【0054】 【数14】 【0055】(iii)x<lR −lM1の場合(但し、l
M1>lM2 この場合には、x+lM1−lR <0,x+lM2−lR
0となり、量子化誤差量の最大値|ΔxMAX |は、上記
数式12より、数式15の如くなる。 【0056】 【数15】 【0057】以上の数式13〜数式15にて得られる量
子化誤差量の最大値|ΔxMAX |を縦軸、ステージST
の位置xを横軸としてグラフ化すると、図5に示す如く
なる。そこで、数式13〜数式15並びに図5を用い
て、図4に示した干渉計装置全体として高精度を保証す
るための計測用の反射部材(14,24)の最適な移動
範囲xについて検討する。 【0058】空気等の気体の揺らぎ等による気体の屈折
率変化の影響を補正しつつ、干渉計装置として高精度を
保証するためには、現実的に、干渉計装置の計測出力に
加わる量子化誤差の最大値(|ΔxMAX |)を4e以下
に抑えることが好ましい。従って、以下において、干渉
計装置の計測出力に加わる量子化誤差eを4倍〜1倍以
下にそれぞれ抑えた場合における計測用の反射部材(1
4,24)の最適な移動範囲xについて説明する。(I)量子化誤差の最大値|ΔxMAX |を4e以下に抑
えた場合 この場合における計測用の反射部材(14,24)の最
適な移動範囲x(但し、x≧−lM2)は、数式13〜数
式15並びに図5より、以下の数式16の如くなる。 【0059】 【数16】 【0060】一例として、図4(a)に示した第1干渉
計装置と図4(b)に示した第2干渉計装置との量子化
誤差e(又は分解能)をそれぞれ0.5nmとし、lM1=0.
7m、lM2=0.5m、lR =lR1=lR2=0.6 とした場合に
ついて、干渉計装置の計測出力に加わる量子化誤差の最
大値(|ΔxMAX |)を4e以下に抑えられる計測用の
反射部材(14,24)の移動範囲xについて見る。 【0061】この場合には、上記数式16より計測用の
反射部材(14,24)の移動範囲xは-0.4m 〜0.4mと
なり、干渉計装置全体としては2.0nm (=4e)の精度
が保証されることが理解できる。(II)量子化誤差の最大値|ΔxMAX |を3e以下に抑
えた場合 この場合における計測用の反射部材(14,24)の最
適な移動範囲x(但し、x≧−lM2)は、数式13〜数
式15並びに図5より、以下の数式17の如くなる。 【0062】 【数17】 【0063】一例として、図4(a)に示した第1干渉
計装置と図4(b)に示した第2干渉計装置との量子化
誤差e(又は分解能)をそれぞれ0.5nmとし、lM1=0.
7m、lM2=0.5m、lR =lR1=lR2=0.6 とした場合に
ついて、干渉計装置の計測出力に加わる量子化誤差の最
大値(|ΔxMAX |)を3e以下に抑えられる計測用の
反射部材(14,24)の移動範囲xについて見る。 【0064】この場合には、上記数式17より計測用の
反射部材(14,24)の移動範囲xは-0.3m 〜0.3mと
なり、干渉計装置全体としては1.5nm (=3e)の精度
が保証されることが理解できる。(III)量子化誤差の最大値|ΔxMAX |を2e以下に
抑えた場合 この場合における計測用の反射部材(14,24)の最
適な移動範囲x(但し、x≧−lM2)は、数式13〜数
式15並びに図5より、以下の数式18の如くなる。 【0065】 【数18】 【0066】一例として、図4(a)に示した第1干渉
計装置と図4(b)に示した第2干渉計装置との量子化
誤差e(又は分解能)をそれぞれ0.5nmとし、lM1=0.
7m、lM2=0.5m、lR =lR1=lR2=0.6 とした場合に
ついて、干渉計装置の計測出力に加わる量子化誤差の最
大値(|ΔxMAX |)を2e以下に抑えられる計測用の
反射部材(14,24)の移動範囲xについて見る。 【0067】この場合には、上記数式18より計測用の
反射部材(14,24)の移動範囲xは-0.2m 〜0.2mと
なり、干渉計装置全体としては1.0nm (=2e)の精度
が保証されることが理解できる。(IV)量子化誤差の最大値ΔxMAX をe以下に抑えた
場合 この場合における計測用の反射部材(14,24)の最
適な移動範囲x(但し、x≧−lM2)は、数式13〜数
式15並びに図5より、以下の数式19の如くなる。 【0068】 【数19】 【0069】一例として、図4(a)に示した第1干渉
計装置と図4(b)に示した第2干渉計装置との量子化
誤差e(又は分解能)をそれぞれ0.5nmとし、lM1=0.
7m、lM2=0.5m、lR =lR1=lR2=0.6 とした場合に
ついて、干渉計装置の計測出力に加わる量子化誤差の最
大値(|ΔxMAX |)をe以下に抑えられる計測用の反
射部材(14,24)の移動範囲xについて見る。 【0070】この場合には、上記数式19より計測用の
反射部材(14,24)の移動範囲xは-0.3m 〜0.3mと
なり、干渉計装置全体としては0.5nm (=e)の精度が
保証されることが理解できる。以上の如く、本発明によ
れば、環境変化に伴う気体の屈折率が変化しても高精度
のもとで安定した計測が実現できることが理解できる。
しかも、本発明では、被計測物体(第1及び第2計測用
反射手段)を数式19を満足する範囲において移動させ
れば、原理的に、2つの干渉計の量子化誤差e(又は分
解能)を1倍以下に抑えられる事が可能となり、極めて
安定した高精度な計測が達成できる。なお、2つの干渉
計の量子化誤差e(又は分解能)の1倍以下の精度が要
求されない場合には、被計測物体(第1及び第2計測用
反射手段)は、上記数式19を満足する範囲もしくはそ
の1部を少なくとも移動可能に設けられれば良い。 【0071】 【実施例】以下、本発明による実施例の干渉計の構成に
ついて図1〜図3を参照して説明する。本例では図6〜
図8にて説明した従来の干渉計装置を改良して各干渉計
と各参照用反射手段との間に空気中を通過する参照光路
を形成した構成としており、図6〜図8にて示した同一
の機能を持つ部材には図1〜図3においても同一の符号
を付してある。ここで、図1は本実施例の干渉計装置を
側面から見た時の様子を示し、図2は図1に示した本実
施例の干渉計装置を真上から見た時の様子を示してお
り、図3は図2の左側から見た時の本実施例の干渉計装
置の側面の様子を示している。 【0072】図1〜図3に示す第1実施例では、計測方
向Xに沿ってそれぞれ異なる位置に設けられかつその計
測方向Xに沿って一体的に移動可能に設けられた第1計
測用反射手段(第1移動鏡6a)及び第2計測用反射手
段(第2移動鏡6b)と、互いに等しい位置に固設され
た第1参照用反射手段(第1固定鏡5a)及び第2参照
用反射手段(第2固定鏡5b)、コヒーレントな光束を
供給する光源手段(レーザ光源1,光分割プリズム2)
と、この光源手段(1,2)からの光束に基づいて,第
1計測用反射手段6aを介して計測方向Xに沿って空気
中往復する第1計測光路OPM1と第1参照用反射手段5
aを介して空気中を往復する第1参照光路OPR1とを形
成し,その第1計測光路OPM1及び第1参照光路OPR1
を経由した各光束によって第1測定出力XA を生成する
第1干渉計(偏光分離プリズム3、1/4波長板4a,
4b、偏光板7,第1検出装置8a)と、光源手段
(1,2)からの光束に基づいて,第2計測用反射手段
(6b)を介して第1計測光路OPM1とほぼ平行な方向
に沿って空気中を往復する第2計測光路OPM2と第2参
照用反射手段5bを介して空気中を往復する第2参照光
路OPR2とを形成し,その第2計測光路OPM2及び第2
参照光路OPR2を経由した各光束によって第2測定出力
B を生成する第2干渉計(偏光分離プリズム3、1/
4波長板4a,4b、偏光板7,第2検出装置8b)
と、第1及び第2測定出力(XA ,XB )に基づいて所
定の演算を行う演算処理装置9とを配置したものであ
る。 【0073】図1〜図3に示す如く、コヒーレントな光
束を供給する光源としてのレーザー光源1は第1周波数
1 のビーム(以下、第1ビームと称する。)と第2周
波数f2 のビーム(以下、第2ビームと称する。)を供
給し、この第1及び第2ビームは、光分割プリズム2に
入射する。この光分割プリズム2は、平行四辺形状のプ
リズム2aと直角プリズムとの接合で構成され、この接
合面には光を振幅分割する光分割面BSが形成されてい
る。 【0074】まず、光分割面BSで反射して第1干渉計
へ向かう第1及び第2ビームについて説明すると、この
光分割面BSで反射する第1及び第2ビームは、プリズ
ム2aの反射面Rで反射して、偏光分離プリズム3の上
部に入射する。この偏光分離プリズム3は2つの直角プ
リズム3a,3bの接合により構成され、この接合面に
は光を偏光分離する偏光分離面PBSが形成されてい
る。 【0075】ここで、偏光分離プリズム3の上部を入射
する一方の第1ビームは、偏光分離面PBSの入射面内
を振動する直線偏光の光(以下、P偏光と称する。)で
あり、他方の第2ビームは、偏光分離面PBSの入射面
と垂直な面内を振動する直線偏光の光(以下、S偏光と
称する。)である。そして、偏光分離面PBSに対し4
5°の入射角で入射するP偏光の第1ビームは偏光分離
面PBSを通過し、偏光分離面PBSに対し45°の入
射角で入射するS偏光の第2ビームは偏光分離面PBS
を反射する。 【0076】まず、偏光分離面PBSの上部を通過する
P偏光の第1ビームについて説明すると、P偏光の第1
ビームは偏光分離面PBSを通過後、偏光分離プリズム
3に接合された1/4波長板4aを通過して円偏光に変
換され、参照用の固定鏡5の1部を構成する上部の第1
固定鏡5aへ向かう。第1固定鏡5aは、第1参照光路
OPR1内での気体光路長(空気光路長)が所定の長さl
R1となるように、1/4波長板4aに対して所定の距離
R1だけ隔てて配置されており、後述するが、第1固定
鏡5aの下部に配置される第2固定鏡5bと一体的に構
成されている。 【0077】この第1固定鏡5aを反射した円偏光の第
1ビームは、再び1/4波長板4aを通過してS偏光に
変換され、偏光分離プリズム3内の偏光分離面PBSで
反射する。その後、偏光分離プリズム3に接合された偏
光板7に入射する。この偏光板7は、第1ビームのS偏
光の方向に対して45°方向での直線偏光を透過させる
ように配置されており、第1ビームの1部の偏光成分が
偏光板7を通過して、第1の光路差検出装置8aにて検
出される。 【0078】一方、偏光分離面PBSの上部を反射する
S偏光の第2ビームについて説明すると、S偏光の第2
ビームは偏光分離面PBSを反射後、偏光分離プリズム
3に接合された1/4波長板4bを通過して円偏光に変
換され、計測用の移動鏡6の1部を構成する上部の第1
移動鏡6aへ向かう。第1固定鏡6aは、第1計測光路
OPM1内での空気光路長が所定の長さlM1となるよう
に、1/4波長板4b(または第1干渉計)に対して所
定の距離lM1だけ隔てて配置されており、後述するが、
第1移動鏡6aの下部において計測方向に沿って所定の
距離だけずらして配置される第2移動鏡6bと一体的に
移動可能に構成されている。なお、計測用の移動鏡6
は、ウエハWを保持するステージSTの一端に固設され
ており、このステージSTの移動に伴って移動する。 【0079】さて、第1移動鏡6aを反射した円偏光の
第2ビームは、再び1/4波長板4bを通過してP偏光
に変換され、偏光分離プリズム3内の偏光分離面PBS
を通過し、偏光分離プリズム3に接合された偏光板7に
入射する。この偏光板7は、換言すれば、第2ビームの
P偏光の方向に対して45°方向での直線偏光を透過さ
せるように配置されており、第1ビームの1部の偏光成
分が偏光板7を通過して、前述の第1ビームの1部の偏
光成分と共に、第1の光路差検出装置8aにて検出され
る。次に、光分割プリズム2の光分割面BSで反射して
第2干渉計へ向かう第1及び第2ビームについて説明す
ると、この光分割面BSを通過する第1及び第2ビーム
は、偏光分離プリズム3の下部に入射する。 【0080】ここで、偏光分離プリズム3の下部を入射
する一方の第1ビームは、前述と同様に、偏光分離面P
BSの入射面内を振動する直線偏光の光(以下、P偏光
と称する。)であり、他方の第2ビームは、偏光分離面
PBSの入射面と垂直な面内を振動する直線偏光の光
(以下、S偏光と称する。)である。そして、偏光分離
面PBSに対し45°の入射角で入射するP偏光の第1
ビームは偏光分離面PBSを通過し、偏光分離面PBS
に対し45°の入射角で入射するS偏光の第2ビームは
偏光分離面PBSを反射する。 【0081】まず、偏光分離面PBSの下部を通過する
P偏光の第1ビームについて説明すると、P偏光の第1
ビームは偏光分離面PBSを通過後、偏光分離プリズム
3に接合された1/4波長板4aを通過して円偏光に変
換され、参照用の固定鏡5の1部を構成する下部の第2
固定鏡5bへ向かう。第2固定鏡5bは、第1固定鏡5
aと一体的に構成されており、第2参照光路OPR2内で
の気体光路長(空気光路長)が第1参照光路OPR1内で
の気体光路長(空気光路長)と等しい所定の長さl
R2(=lR1)となるように、1/4波長板4a(または
第2干渉計)に対して所定の距離lR2(=lR1)だけ隔
てて配置されている。 【0082】この第2固定鏡5bを反射した円偏光の第
1ビームは、再び1/4波長板4aを通過してS偏光に
変換され、偏光分離プリズム3内の偏光分離面PBSで
反射する。その後、偏光分離プリズム3に接合された偏
光板7に入射する。この偏光板7は、第1ビームのS偏
光の方向に対して45°方向での直線偏光を透過させる
ように配置されており、第1ビームの1部の偏光成分が
偏光板7を通過して、第2の光路差検出装置8bにて検
出される。 【0083】一方、偏光分離面PBSの下部を反射する
S偏光の第2ビームについて説明すると、S偏光の第2
ビームは偏光分離面PBSを反射後、偏光分離プリズム
3に接合された1/4波長板4bを通過して円偏光に変
換され、計測用の移動鏡6の1部を構成する下部の第2
移動鏡6bへ向かう。この第2固定鏡6bは、ウエハW
を保持するステージSTの移動に伴って第1固定鏡6a
と一体的に移動可能に設けられているが、第2計測光路
OPM2内での空気光路長が第1計測光路OPM1内での空
気光路長に対して短い所定の長さlM2となるように、1
/4波長板4bに対して所定の距離lM2だけ隔てて配置
されている。 【0084】さて、第2移動鏡6bを反射した円偏光の
第2ビームは、再び1/4波長板4bを通過してP偏光
に変換され、偏光分離プリズム3内の偏光分離面PBS
を通過し、偏光分離プリズム3に接合された偏光板7に
入射する。この偏光板7は、換言すれば、第2ビームの
P偏光の方向に対して45°方向での直線偏光を透過さ
せるように配置されており、第1ビームの1部の偏光成
分が偏光板7を通過して、前述の第1ビームの1部の偏
光成分と共に、第2の光路差検出装置8bにて検出され
る。 【0085】以上にて説明した如く、第1の光路差検出
装置8aにおいては、気体光路長(空気光路長)がlR1
となる第1参照光路OPR1を経由する第1ビームと、気
体光路長(空気光路長)がlM1となる第1計測光路OP
M1を経由する第2ビームとががそれぞれ入射することと
なる。このため、第1の光路差検出装置8aの内部の光
電検出器からは、第1移動鏡6aが第1固定鏡5aに対
して停止している状態では、周波数が(f1−f2)の
ビート信号が出力され、第1移動鏡6aがX方向へ移動
すると周波数が変調されたビート信号が出力される。従
って、この第1の光路差検出装置8aは、この周波数の
変化を積算することにより、第1移動鏡6aと第1固定
鏡5aとの相対的な移動量を検出することができる。 【0086】よって、第1参照光路OPR1の気体光路長
(空気光路長)lR1をlR 、第1計測光路OPM1の気体
光路長(空気光路長)をlM1、測定開始時(リセット
時)等の初期の空気等の気体の屈折率をn、空気等の気
体の屈折率の変化をΔn、第1計測光路OPM1の気体光
路長(空気光路長)がlM1となる時の第1移動鏡6a
(またはステージST)の位置をリセット位置(座標原
点)とし、このリセット位置からの第1移動鏡6a(ま
たはステージST)変位量をxとすると、第1の光路差
検出装置8aでは、xn+(lM1−lR +x)Δnに相
当する信号XA が演算装置9へ出力される。 【0087】一方、第2の光路差検出装置8bにおいて
は、気体光路長(空気光路長)がl R2となる第2参照光
路OPR2を経由する第1ビームと、気体光路長(空気光
路長)がlM2となる第2計測光路OPM2を経由する第2
ビームとががそれぞれ入射することとなる。このため、
第2の光路差検出装置8bの内部の光電検出器からは、
第2移動鏡6bが第2固定鏡5bに対して停止している
状態では、周波数が(f1−f2)のビート信号が出力
され、第2移動鏡6bがX方向へ移動すると周波数が変
調されたビート信号が出力される。従って、この第2の
光路差検出装置8bは、この周波数の変化を積算するこ
とにより、第2移動鏡6bと第2固定鏡5bとの相対的
な移動量を検出することができる。 【0088】よって、第2参照光路OPR2の気体光路長
(空気光路長)lR2(=lR1)をlR 、第2計測光路O
M2の気体光路長(空気光路長)をlM2、測定開始時
(リセット時)等の初期の空気等の気体の屈折率をn、
空気等の気体の屈折率の変化をΔn、第2計測光路OP
M2の気体光路長(空気光路長)がlM2となる時の第2移
動鏡6b(またはステージST)の位置をリセット位置
(座標原点)とし、このリセット位置からの第2移動鏡
6b(またはステージST)変位量をxとすると、第2
の光路差検出装置8bでは、xn+(lM2−lR +x)
Δnに相当する信号XB が演算装置9へ出力される。 【0089】この演算処理部9には、所定の演算式がメ
モリーされており、例えば、以下に示す如く、上記数式
2及び数式11より導出される数式20がメモリーされ
ている。 【0090】 【数20】 【0091】従って、演算装置9は、第1及び第2の光
路差検出装置(7a,7b)からの出力信号(XA ,X
B )、及び計測開始時での初期の気体の屈折率nを検出
するための不図示の屈折率検出器からの出力nに基づい
て、上記数式20式に示す如き演算を実行し、気体の揺
らぎ等が起因して生ずる気体の屈折率変化に伴う計測誤
差が補正された演算結果により第1移動鏡6a及び第2
移動鏡6b(またはステージST)の移動量または座標
位置を算出する。これにより、正確な第1移動鏡6a及
び第2移動鏡6b(またはステージST)の位置を求め
る事ができる。よって、演算装置9の演算結果を不図示
の表示部を介して表示しても良く、また、演算装置9か
ら算出された移動量または座標位置の情報に基づいて、
不図示であるが、ステージSTを移動させるための駆動
系の駆動量を制御系によって制御しても良い。 【0092】そして、上記数式16〜数式19を満足す
るように第1移動鏡6a及び第2移動鏡6b(またはス
テージST)をそれぞれ移動させれば、干渉計装置の出
力に加算される量子化誤差eをそれぞれ4倍〜1倍以下
に抑えることが可能となる。以上の如く本実施例によれ
ば、各計測光路と各参照光路とを各々近接するように構
成しているため、計測光路中にて生ずる気体の屈折率変
化による測定誤差を補正し、精度良く移動鏡6の移動量
や位置を検出することができる。 【0093】しかも、本例によれば、2つの移動鏡との
間の距離に対して2つの固定鏡が内分するように、2つ
の移動鏡を移動させることができるため、極めて高い精
度な計測が保証される。なお、上述の各実施例ではヘテ
ロダイン方式のレーザー干渉計に本発明を適用したもの
であるが、本発明はホモダイン方式の干渉計にも同様に
適用することができる。 【0094】また、本実施例では、第1移動鏡6aの位
置と第2移動鏡6bの位置とに差を持たせる事により、
2つの計測光路内の気体光路長に差(lM1−lM2)を生
じせしめているがこれに限ることはない。例えば、第1
移動鏡6aの位置と第2移動鏡6bの位置とを一致させ
て、さらに、一体的に構成されている第1及び第2干渉
計(偏光分離プリズム3、1/4波長板4a,4b、偏
光板7)を第1干渉計としての上側部分と第2干渉計と
してのと下側部分とに2分割し、2つの干渉計を計測方
向にずらして配置して、2つの計測光路内の気体光路長
に差(lM1−l M2)を生じせしめても良い。さらには、
第1移動鏡6aの位置と第2移動鏡6bの位置とが等し
くなるように、両移動鏡を一体的に構成し、いずれか一
方の計測光路中に内部が真空でかつ計測光路に沿った長
さLの密封管を配置すれば、密封管の長さLの分だけの
光路長差(L=|lM1−lM2|)を生じせしめる事も可
能である。なお、この密封管に所定の屈折率を持つ気
体、液体、固体等の媒質を封入しても良い。 【0095】また、本実施例では、第1固定鏡5aの位
置と第2固定鏡5bの位置を一致させる事により、2つ
の参照光路内の気体光路長を互いに等しくしているがこ
れに限ることはない。例えば、第1固定鏡5aと第2固
定鏡5bとを所定の距離だけずらして配置して、さら
に、一体的に構成されている第1及び第2干渉計(偏光
分離プリズム3、1/4波長板4a,4b、偏光板7)
を第1干渉計としての上側部分と第2干渉計としてのと
下側部分とに2分割し、2つの干渉計を所定の距離だけ
ずらして配置して、2つの参照光路内の気体光路を等し
くしても良い。 【0096】また、以上にて示した実施例における各干
渉計の計測光路と参照光路との光路の少なくとも一方に
光路折り曲げ用の光路偏向部材を適宜配置し、装置全体
がコンパクトになるように各光路を引き回すことも可能
である。このように、本発明は上述実施例に限定されず
本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得
る。 【0097】 【発明の効果】以上の如く、本発明によれば、空気等の
気体の揺らぎが生じていても測定誤差が極めて少なく、
しかも原理的に高精度な計測が実現できる高性能な干渉
計装置が実現できる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention
Fluctuations, that is, measurement errors due to changes in the refractive index of air, are compensated for.
It relates to a correctable interferometer device. [0002] 2. Description of the Related Art Conventionally, an interferometer device has
Measured value related to the displacement or position of the measured object
Measurement of refractive index of air due to changes in environmental conditions
The error is measured by using the environmental measurement sensor to
Temperature, pressure, and humidity of air near the reciprocating measurement beam
Measurement, etc., and each measurement value and sensor
Based on the measurement value of the object to be measured by the measurement beam,
Was corrected by performing the above calculation. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-1501 discloses FIG.
Interference not affected by changes in the refractive index of air as shown in FIG.
Metering devices have been proposed. FIG. 6 shows the configuration of the interferometer device.
FIG. 7 is a plan view when FIG. 6 is viewed from above.
FIG. 8 is a side view when FIG. 6 is viewed from the left side of the drawing.
You. Therefore, referring to FIG. 6 to FIG.
Will be described. For example, a wafer W is placed as an object to be measured.
A movable mirror 6 is fixed at one end of the stage ST.
The movable mirror 6 moves a predetermined distance l along the measurement direction.TwoOnly
A first reflecting surface 6a and a second reflecting surface arranged to be separated from each other
6b. [0004] The laser beam from the laser light source 1 is shown in FIG.
As shown in the figure, the joint surface of the two prisms (2a, 2b)
The light enters the light splitting prism 2 on which the semi-transmissive surface BS is formed,
The light is split into two vertically by the light splitting surface BS. This
The laser beam reflected from the light splitting surface BS is semi-transmissive prism.
Polarization pre-polarization through the reflection surface R formed on one surface of the
Laser that enters the upper part of the mechanism 3 and passes through the light splitting surface BS
The beam enters the lower part of the polarizing prism 3. This polarization
Rhythm 3 has two right-angle prisms joined to each other.
A polarization separation surface PBS is formed on the mating surface. [0005] The light enters the upper and lower parts of the polarizing prism 3
The laser beam is applied to the polarization splitting surface PBS in the polarizing prism 3.
Polarization separation into reference beam and measurement beam
The polarized light separating surface PBS vibrates in the direction of the paper of FIG.
P-polarized light components are transmitted as reference beams, respectively.
The S polarization component oscillating in the direction perpendicular to the paper of FIG.
Each as a reflection. First, each reference transmitted through the polarization separation surface PBS
The beam is emitted from the exit side of the polarizing prism 3 (the right-angle prism 3).
passing through the 1/4 wavelength plate 4a bonded to one surface
And a reference wavelength provided on the end face of the quarter wavelength plate 4a.
After being reflected by the reflecting mirror 5, the light passes through the quarter-wave plate 4a again and is polarized.
It heads to the light separation surface PBS. At this time, each reference beam is
The polarization plane rotates 90 degrees to reciprocate the quarter-wave plate 4a.
Is converted to S-polarized light. Therefore, each reference beam is polarized
Reflects the separation surface PBS and joins the exit side of the polarizing prism 3
To the polarizing plate 7. On the other hand, each measurement reflecting the polarization separation surface PBS
The beam is emitted from the exit side of the polarizing prism 3 (the right-angle prism 3).
pass through the 1/4 wavelength plate 4b joined to one side of
Then, each of the mirrors 6 is fixed to one end of the stage ST.
Head for it. As shown in FIG.
Reflects the upper part of the remote PBS and the upper part of the 1/4 wavelength plate 4b.
The first measurement beam passing therethrough is the first reflection beam on the upper part of the reflection mirror 6.
Reflects the surface 6a, passes through the quarter-wave plate 4b again, and
It heads to the light separation surface PBS. At this time, each reference beam is
The polarization plane rotates 90 degrees to reciprocate the quarter-wave plate 4a.
Is converted into P-polarized light. Therefore, each measurement beam is polarized
Passes through the separation surface PBS and joins to the exit side of the polarizing prism 3
To the polarizing plate 7. As described above, the light passes through the upper part of the polarization separation surface PBS.
The measurement beam and the reference beam passing through the polarizing plate 7
Interference is caused by passing through the light plate 7, and this interference light is
The first reflecting surface above the reflecting mirror 6 in the one optical path difference detecting device 8a
6A is generated, the output A is generated, and the polarization
Measurement beam passing through the lower part of the remote PBS and going to the polarizing plate 7
The beam and the reference beam are dried by passing through the polarizing plate 7.
The interference light is reflected by the second optical path difference detecting device 8b by a reflecting mirror.
The output A relating to the amount of displacement of the second reflecting surface 6b at the lower part of
Is done. The two signals from each optical path difference detecting device (8a, 8b)
The two outputs are input to the arithmetic unit 9 where predetermined arithmetic operations are performed.
It is. Here, the output A of the first optical path difference detecting device 8a is
XA, The output B of the second optical path difference detection device 8bB, Stay
The displacement amount of the ST is x, the origin of the measurement where the displacement amount is zero (measurement
The refractive index of air at the start of reset or at reset) is n,
The amount of change in the refractive index of air due to fluctuations in
Air between launch surface 6b and quarter-wave plate 4b (or interferometer)
The distance in l1, The first reflecting surface 6a and the second reflecting surface 6b
Distance in airTwoAnd each optical path difference detection device
(8a, 8b), two outputs (XA, XB) Is
Equation 1 is obtained. [0010] (Equation 1)The arithmetic expression in the arithmetic unit 9 is the above equation.
Given by eliminating Δn by the two equations by 1
The following Equation 2 is obtained. [0012] (Equation 2) The operation according to the above equation (2) is performed by the arithmetic unit 9.
Is affected by changes in the refractive index of air.
No output result is generated and the stage ST
Measurement was possible. [0014] SUMMARY OF THE INVENTION In the above-mentioned prior art,
Is that the errors of the two interferometer devices themselves increase in principle.
There is a fatal problem of being spanned. Also, the measured object
Between two reflective surfaces formed at one end on the stage as
Distance lTwoIs smaller, the air
The problem is that the accuracy with which the refractive index change of
is there. Therefore, the present invention, as described above,
The errors of the two interferometers themselves are amplified
To solve fatal problems and reduce the fluctuations of gas such as air.
Accurately corrects measurement errors caused by changes in the refractive index
An interferometer that can always provide high accuracy and stable measurement
It is intended to provide. [0016] SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is directed to the above-mentioned object.
To achieve this, for example, as shown in FIGS.
Are provided at predetermined positions along the
First and second units provided integrally movable along the directions.
Reflection means for measurement, and first reflection means fixed at predetermined positions, respectively.
And second reference reflecting means, and light source means for supplying a light beam
Based on the light flux from the light source means,
Reciprocate in the gas along the measurement direction via the reflection means
Gas through the first measurement optical path and the first reference reflecting means.
A first reference optical path reciprocating in the interior, and the first measurement optical path
And the first measurement output by each light beam passing through the first reference optical path.
First interferometer means for generating a force, and light from the light source means
On the basis of the bundle, the second
1. Reciprocate in gas along a direction almost parallel to the measurement optical path
In the gas through the second measurement optical path and the second reference reflecting means
And a second reference optical path for reciprocating the second measurement optical path.
And a second measurement output by each light beam passing through the second reference light path.
Second interferometer means for generating the first and second measurement outputs.
Calculating means for performing a predetermined calculation based on the force,
The first interferometer means to the first reference reflecting means;
The first reference optical path is connected to the second reference light path from the second interferometer means.
Optical path equal to the second reference path up to the reflection means for use
A first reflection from the first interferometer means for the first measurement
The optical path length of the first measurement path up to the reference position of the means
To lM1From the second interferometer means.
Optical path of the second measurement path to the reference position of the launching means
Length is lM2The first reference reflection from the first interferometer means.
The optical path length of the first reference path to the meansR1,Previous
Before the second interferometer means to the second reference reflecting means;
The optical path length of the second reference light path is lR2, The reference position
Let x be the displacement of the first and second measuring reflecting means.
At this time, the first and second measuring reflecting means are in the following range:
Can be moved at least, or a part of the following
It is configured so that it can be moved without it. LR1−lM1≦ x ≦ lR2−lM2 [0018] [Operation] Before explaining the principle of the present invention, first, FIG.
Explanation of the measurement error in the conventional device shown in FIG.
I do. First reciprocating on the first reflecting surface 6a above the reflecting mirror 6
First reference optical path reciprocating between the measurement optical path and the upper part of the reflecting mirror 5
Is formed, and the first measurement output is obtained by each light beam passing through each optical path.
The first interferometer device for generating the force A (the polarization prism shown in FIG. 6)
Upper part of the unit 3 and upper parts of the quarter-wave plates 4a and 4b
The upper part of the polarizing plate 7 and the first optical path difference measuring device 8a)
Is the quantization error (or resolution) ofAAt the bottom of the reflector 6
Under the second measuring optical path reciprocating on the second reflecting surface 6b and the reflecting mirror 5
Form a second reference optical path reciprocating on the side part, and pass through each optical path
Second interference that produces a second measurement output B with each of the luminous fluxes
6 (the lower part of the polarizing prism 3 shown in FIG.
The lower part of the four-wavelength plates 4a and 4b, the lower part of the polarizing plate 7,
And the quantization error (or decomposition) of the second optical path difference measuring device 8b)
Function) to δBFrom the first interferometer device shown in FIG.
Is the original measurement signal XAThe quantization error δA
And the second interferometer shown in FIG.
The measurement output B from the device is the original measurement signal XBQuantized to
Error δBIs added. Therefore, the quantization error due to each interferometer device is
When the error amount added to the measurement result is Δx,
Equation (2) becomes like Equation (3) below. [0020] (Equation 3)When the above equation (3) is transformed, the following equation is obtained.
Equation 4 is obtained. [0022] (Equation 4) Here, the output by the first and second interferometer devices is shown.
The force is X as shown in Equation 1. A= Xn + (l1+
lTwo+ X) Δn, XB= Xn + (l1+ X) Δn
Therefore, from this relationship and Expression 4, Expression 5 shown below is derived.
Will be issued. [0024] (Equation 5) Here, assuming that n + Δn ≒ 1, the above equation
5 finally becomes the following Expression 6. [0026] (Equation 6) Therefore, the quantization error is calculated based on the above equation (6).
Maximum value Δx of quantity ΔxMAXTo consider. Now the first
And the quantization error of the second interferometer (δA, ΔB) Maximum
And the minimum values are e and −e, respectively, and the quantum of each interferometer device is
-E ≦ δA≦ e, −e ≦ δB≤ e
When it is possible, the maximum value | Δ
xMAX| Here, as is apparent from FIG.1>
0, lTwo> 0, x ≧ −l1Since the relationship is established,
(X + 1)1+ LTwo) And (xl1) Is
Always positive. Therefore, the quantization error amount according to the above equation (6)
Maximum value | ΔxMAX| Is finally given by the following equation 7.
Become. [0029] (Equation 7)Here, the maximum of the quantization error amount in the above equation (7) is obtained.
Value | ΔxMAX| Is the vertical axis, and the position x of the stage ST is the horizontal axis.
FIG. 9 shows a graph. Shown in FIG.
As described above, the stage ST includes the first and second interferometers (1/4 wavelength
As the distance from the plate 4a) increases, the quantization error increases.
Maximum value of difference | ΔxMAX| Becomes larger and the total
It can be understood that the measurement error is so large that it cannot be ignored. As an example, l1= 0.3m, lTwo= 0.1m,
When the moving range of the stage ST is -0.3m ≦ x ≦ 0.3m,
Maximum value of quantization error | ΔxMAX| Is the largest
The position of the stage ST is determined by the first and second interferometers (1/4 wavelength
Distance from the plate 4a) to the second reflecting surface 6b below the reflecting mirror 6
When the separation is 0.6m (x = 0.3m), the quantization error at this time
From the above equation 7, the maximum value of the quantity is calculated as in the following equation 8.
You. [0032] (Equation 8) Therefore, the quantization of the first and second interferometer devices
Assuming that the error e is about 10 nm,
According to Equation 8, the measured value reaches 130 nm.
An error will be added. Also, from the above equation 8,
As can be seen, it is placed at one end on the stage as the object to be measured.
Between two reflecting surfaces (6a, 6b) in the placed reflecting mirror 6
Distance lTwoIs reduced, the maximum value of the quantization error amount | Δx
MAX| Can be understood to increase. This will be described in detail.Two’= L
Two/ Max of quantization error amount when / 2MAX| ’
Then, this error amount is calculated from the above equation 7 by the following equation 9.
Like that. [0035] (Equation 9) As an example, as described above, l1= 0.3m, l
Two= 0.1m, the movement range of stage ST is -0.3m ≤x≤0.3m
Then, lTwoValue is 0.05m, which is half of 0.1m.
In this case, the first and second interferometers (1/4 wavelength plate 4a)
0.6m from the mirror to the second reflecting surface 6b below the reflecting mirror 6
The stage ST is located at a position where (x = 0.3 m).
At this time, the maximum value of the quantization error amount | ΔxMAX| ’Is the largest
And the maximum value of the quantization error amount at this time | ΔxMAX| ’
From the above equations 8 and 9, the following equation 10 is obtained.
You. [0037] (Equation 10) Therefore, from the above equations 8 and 10, the measured
In the reflecting mirror 6 formed at one end on the stage as an object
Distance l between the two reflecting surfaces (6a, 6b)TwoHalve
Then, the maximum value of the quantization error amount is about twice (| ΔxMAX| ’
/ | ΔxMAX| Times), the first and second dried
Assume that the quantization error e of the interferometer is about 10 nm.
And the finally obtained measurement value,
A measurement error of about 250 nm will be added. The conventional interferometer device described above has
In order to solve the fatal problem, the present invention
If the reference optical path lengths formed by the
Each measurement light also formed by the two interferometer means
The path length is varied by a predetermined length, and the
Reference position of each interferometer means is
Of the predetermined relationship such that the position of the shooting means is at least internally divided
First, move the measuring reflector of each interferometer.
It is something that has been done. Thus, the reference member passing through a gas such as air can be obtained.
When there is a change in the refractive index between the illumination path and the measurement path
In each reference optical path, the effect of the refractive index change is substantially the same.
While measuring, the refractive index according to the optical path length in each measurement optical path
Gases such as air due to environmental changes because they are affected by changes
Two different measurement outputs containing information on the refractive index change of
Can be And based on these two measurement outputs
By performing a predetermined calculation, the refractive index in each optical path is calculated.
Measurement errors due to changes can be removed. Furthermore, the two reflecting means for measurement are moved to a predetermined position.
At least the movable range or a part of the range can be moved
By configuring, the quantum that the two interferometer means themselves have
Can significantly reduce the effects of
Improvement in measurement accuracy can be achieved. In addition, each interference
Each measurement optical path formed by the
Refractive index change in gas such as air may occur
In each case, a reference formed by each interferometer means
It is desirable that each of the optical path and the measurement optical path be close to each other.
New Referring to FIG. 4 below, the principle of the present invention will be described.
explain about. FIG. 4A shows a first interferometer device of the present invention.
FIG. 4B is a diagram showing the configuration of the second interference according to the present invention.
It is a figure showing composition of a meter device. First, as shown in FIG.
As described above, the light beam supplied from the first light source 11
Split into two light beams by beam splitter 12 as material
The beam transmitted through the beam splitter 12 is
Room Ltwenty oneAre the left and right sides of FIG.
Reflection member 14 for measurement (first member)
Of the beam splitter
Head to Tar 12. On the other hand, the beam splitter 12
The other beam L31Is a reflector as a reference beam
13 and the measuring beam Ltwenty oneAir path close to air
Measurement beam L in gas such astwenty oneProceed parallel to
I do. After that, beam L31Is for reference, fixed on the base
The light is reflected by the reflection member 15 (first reference reflection means), and is again measured.
Measurement beam Ltwenty oneIn gas such as air close to the optical path of
Beam Ltwenty oneAnd the reflecting mirror 13
Through the beam splitter 12. And bee
Measurement beam Ltwenty oneAnd for reference
Beam L31Together with the beam L41As the first
The light is received by the sea bar 16 (first detector), and
Of the reflecting member 14 is detected. Here, the first interferometer shown in FIG.
Beam splitter 12, reflector 13, and first receiver
-16 and the optical path of the reference optical path in the gas.
Target optical path length is lR1The reflecting member 15 for reference is
Predetermined optical distance l for one interferometerR1Just separated by the base
It is fixed to. The reflection member 14 for measurement is
Optical path of the measuring optical path in the gas at each reference position
Length is lM1From the first interferometer for measurement
The optical distance to the reference position of the material 14 is lM1So that
It is set to be movable. On the other hand, FIG.
In the vertical direction, the second interferometer device as shown in FIG.
Are arranged in parallel, and in the second interferometer device, the reflection
The mirror 23 and the reflecting member 25 for reference are the gas of the second interferometer.
Optical path length l of the reference optical path insideR2Is the gas of the first interferometer
Optical path length l of the reference optical path insideR1To be equal to
Each is fixed. Also, beam splitter 2
2 and the reflection member 24 for measurement (reflection means for measurement)
At the reference position of the shooting member 24, the second interferometer in the gas
Optical path length l of the measuring pathM2Is in the gas of the second interferometer
Optical path length l of reference light pathM1Against it differently
The other settings are shown in FIG. 4 (a).
It is basically the same as the first interferometer device shown. As shown in FIG. 4B, the second light source 21
The luminous flux supplied from the beam splitter
The beam is split into two light beams by the
Beam L passing through thetwenty twoIs the measurement bee
The reflection member 24 for measurement (the second reflection hand for measurement)
Head to the stage). This reflecting member 24 is shown in FIG.
4B together with the reflecting member 14 in the left and right direction.
It is provided movably. And a reflective member for measurement
Beam L heading to 24twenty twoIs reflected by the reflecting member 24
Then, the beam again goes to the beam splitter 22. On the other hand,
Beam L that reflects the beam splitter 2232Is
The reflection mirror 23 is reflected as a reference beam, and a measurement beam is reflected.
Ltwenty twoMeasurement beam L in a gas such as air close to the optical path of
twenty twoProceed so as to be parallel to. After that, beam L32Is
The reference reflecting member 25 fixed to the base (second reference member)
And the measuring beam L againtwenty twoLight path and proximity
Measurement beam L in a gas such as compressed airtwenty twoWill be parallel to
The beam splitter 2 via the reflecting mirror 23
Head to 2. And by the beam splitter 22
Measurement beam Ltwenty twoAnd reference beam L32And together
Beam L42As the second receiver 26 (second detection
The reflection member 24 as an object to be measured.
The momentum is detected. The second interferometer shown in FIG.
Beam splitter 22, reflector 23, and second receiver
26. With the above configuration,
The reflection members 14 and 24 as objects are
When moved physically, the first receiver 1 of the first interference device
6 and the second receiver 26 of the second interference device
Two different detection signals are output. Now, the first receiver 16 of the first interference device
Output from XA, The second receiver 2 of the second interference device
X output from 6BIn the reference optical path of the first interferometer.
Light at the part affected by the change in the refractive index of the gas
Path length (the distance between the first interferometer and the first reference reflector)
1 The optical path length of the reference light path in gas) is lR1(=
l R), The refractive index of the gas in the reference optical path of the second interferometer.
The length of the optical path at the part affected by the change (second
Gas in the second reference optical path between the interferometer and the second reference reflector
The optical path length inR2(= LR1= LR), Measurement open
The reference position of the initial measuring reflection means at the beginning (at reset)
Of the refractive index of the gas in the measurement optical path of the first interferometer
The length of the optical path of the part affected by the change (the first interferometer and the
The optical path of the first measurement optical path between the reference position of the measuring reflection means
Optical path length)M1, Such as at the start of measurement (at reset)
Measurement light of the second interferometer at the reference position of the measurement reflection means
The optical path of the part affected by the change in the refractive index of the gas in the path
Length (between the second interferometer and the reference position of the measuring reflecting means)
Is the optical path length of the second measurement optical path)M2, First and second
Each of the measurement optical paths is affected by changes in the refractive index of the gas.
The length of the optical path at the part whereM1, LM2When
Reference position of the object to be measured (the first and second measuring reflecting means)
Let x be the displacement from the position (origin). However, this displacement x
Is positive when the measured object moves to the right from the origin.
The time when the measured object moves to the left from the origin is defined as negative. In the case of the present invention also,
Holds, and the relationship of the following Expression 11 also holds.
Stand up. [0048] [Equation 11] Therefore, from the above equations (6) and (11),
Equation 12 holds. [0050] (Equation 12) Therefore, according to the present invention,
Maximum value Δx of quantization error amount Δx in interferometer deviceMAX
To consider. Now, the quantum of the first and second interferometer devices
Error (δA, ΔB) Is the maximum value and the minimum value of e,
−e, and the quantization error of each interferometer device is −e ≦ δA
e, −e ≦ δBWhen the range of ≦ e can be taken, the above equation 12
Value of quantization error due toMAX|
Cases can be divided into three cases (i) to (iii).(I) In the case of l R −l M1 ≦ x ≦ l R −l M2 (however, l M1
> L M2 ) In this case, x + 1M1−lR≧ 0, x + 1M2−lR
0, the maximum value of the quantization error amount | ΔxMAX|
From Expression 11, Expression 12 is obtained. [0052] (Equation 13) [0053](Ii) When x> l R -l M2 (however, l M1
> L M2 ) In this case, x + 1M1−lR> 0, x + 1M2−lR>
0, the maximum value of the quantization error amount | ΔxMAX|
From Expression 12, Expression 14 is obtained. [0054] [Equation 14] [0055](Iii) When x <l R -l M1 (where l
M1 > l M2 ) In this case, x + 1M1−lR<0, x + 1M2−lR<
0, the maximum value of the quantization error amount | ΔxMAX|
From Expression 12, Expression 15 is obtained. [0056] (Equation 15) The quantities obtained by the above equations (13) to (15)
Maximum value of emulation error | ΔxMAX| Is the vertical axis, stage ST
When a graph is plotted with the position x of the horizontal axis as shown in FIG.
Become. Therefore, using Expressions 13 to 15 and FIG.
Thus, high accuracy is assured for the entire interferometer apparatus shown in FIG.
Movement of reflective members (14, 24) for measurement
Consider range x. Gas refraction due to fluctuation of gas such as air
High accuracy as an interferometer while compensating for the effects of rate changes
In order to guarantee, realistically, the measurement output of the interferometer
The maximum value of the added quantization error (| ΔxMAX|) Is 4e or less
It is preferable to suppress it. Therefore, in the following,
Quantization error e added to the measurement output of the measuring device is 4 times to 1 time or less
The reflection member for measurement (1
The optimal movement range x of (4, 24) will be described.(I) The maximum value | Δx MAX | of the quantization error is suppressed to 4e or less.
If In this case, the reflection member (14, 24)
Appropriate moving range x (where x ≧ −lM2) Is the expression 13 to the number
From Expression 15 and FIG. 5, the following Expression 16 is obtained. [0059] (Equation 16) As an example, the first interference shown in FIG.
Of the interferometer and the second interferometer shown in FIG. 4B
Each error e (or resolution) is 0.5 nm,M1= 0.
7m, lM2= 0.5m, lR= LR1= LR2= 0.6
The quantization error added to the measurement output of the interferometer.
Large value (| ΔxMAX|) Is less than 4e
The movement range x of the reflection member (14, 24) will be described. In this case, the above equation 16 is used for measurement.
The moving range x of the reflection member (14, 24) is -0.4m to 0.4m.
The accuracy of the interferometer as a whole is 2.0 nm (= 4e)
It can be understood that is guaranteed.(II) The maximum quantization error | Δx MAX | is suppressed to 3e or less.
If In this case, the reflection member (14, 24)
Appropriate moving range x (where x ≧ −lM2) Is the expression 13 to the number
From Expression 15 and FIG. 5, the following Expression 17 is obtained. [0062] [Equation 17] As an example, the first interference shown in FIG.
Of the interferometer and the second interferometer shown in FIG. 4B
Each error e (or resolution) is 0.5 nm,M1= 0.
7m, lM2= 0.5m, lR= LR1= LR2= 0.6
The quantization error added to the measurement output of the interferometer.
Large value (| ΔxMAX|) Is less than 3e
The movement range x of the reflection member (14, 24) will be described. In this case, the above equation 17 is used for measurement.
The moving range x of the reflection member (14, 24) is -0.3m to 0.3m.
Therefore, the accuracy of the entire interferometer device is 1.5 nm (= 3e)
It can be understood that is guaranteed.(III) The maximum value of the quantization error | Δx MAX |
If suppressed In this case, the reflection member (14, 24)
Appropriate moving range x (where x ≧ −lM2) Is the expression 13 to the number
From Expression 15 and FIG. 5, the following Expression 18 is obtained. [0065] (Equation 18) As an example, the first interference shown in FIG.
Of the interferometer and the second interferometer shown in FIG. 4B
Each error e (or resolution) is 0.5 nm,M1= 0.
7m, lM2= 0.5m, lR= LR1= LR2= 0.6
The quantization error added to the measurement output of the interferometer.
Large value (| ΔxMAX|) Is less than 2e
The movement range x of the reflection member (14, 24) will be described. In this case, the above equation 18
The moving range x of the reflecting members (14, 24) is -0.2m to 0.2m.
The accuracy of the interferometer as a whole is 1.0 nm (= 2e)
It can be understood that is guaranteed.(IV) The maximum value Δx MAX of the quantization error is suppressed to e or less
If In this case, the reflection member (14, 24)
Appropriate moving range x (where x ≧ −lM2) Is the expression 13 to the number
From Expression 15 and FIG. 5, the following Expression 19 is obtained. [0068] [Equation 19] As an example, the first interference shown in FIG.
Of the interferometer and the second interferometer shown in FIG. 4B
Each error e (or resolution) is 0.5 nm,M1= 0.
7m, lM2= 0.5m, lR= LR1= LR2= 0.6
The quantization error added to the measurement output of the interferometer.
Large value (| ΔxMAX|) Is less than e
The movement range x of the shooting member (14, 24) will be described. In this case, the above equation 19
The moving range x of the reflection member (14, 24) is -0.3m to 0.3m.
Therefore, the accuracy of 0.5 nm (= e) is
It can be understood that it is guaranteed. As described above, according to the present invention,
High accuracy even if the refractive index of the gas changes due to environmental changes
It can be understood that stable measurement can be realized under the condition.
Moreover, in the present invention, the object to be measured (for the first and second measurement)
(Reflection means) within the range satisfying Expression 19
Then, in principle, the quantization error e (or the min.
Resolution) can be reduced to 1 times or less.
Stable and accurate measurement can be achieved. In addition, two interference
The accuracy must be less than 1 times the total quantization error e (or resolution).
If not determined, the object to be measured (for the first and second measurement)
(Reflecting means) is in the range or
May be provided at least movably. [0071] DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The configuration of an interferometer according to an embodiment of the present invention will be described below.
This will be described with reference to FIGS. In this example, FIGS.
The conventional interferometer described with reference to FIG.
A reference light path that passes through the air between the light source and each of the reference reflecting means
Are formed, and are the same as those shown in FIGS.
1 to 3 have the same reference numerals.
Is attached. Here, FIG. 1 shows the interferometer device of the present embodiment.
FIG. 2 shows the state when viewed from the side, and FIG.
The state of the interferometer device of the example when viewed from directly above is shown.
3 shows the interferometer of the present embodiment when viewed from the left side of FIG.
2 shows a side view of the device. In the first embodiment shown in FIGS.
Provided at different positions along the direction X
A first meter provided integrally movable along the measurement direction X
Reflecting means for measurement (first movable mirror 6a) and second reflecting hand for measurement
The step (second movable mirror 6b) and the same position are fixed to each other.
First reference reflecting means (first fixed mirror 5a) and second reference
Reflection means (second fixed mirror 5b) for coherent light flux
Light source means for supplying (laser light source 1, light splitting prism 2)
Based on the light flux from the light source means (1, 2)
1 Air along the measuring direction X via the measuring reflecting means 6a
First measurement optical path OP that makes a round tripM1And the first reference reflecting means 5
a first reference optical path OP that reciprocates in the air via aR1And form
And the first measurement optical path OPM1And the first reference optical path OPR1
Measurement output X by each light beam passing throughAGenerate
First interferometer (polarization separating prism 3, quarter-wave plate 4a,
4b, polarizer 7, first detector 8a) and light source means
Second measuring reflecting means based on the light flux from (1, 2)
(6b) First measurement optical path OPM1Direction almost parallel to
Measurement optical path OP reciprocating in the air along the pathM2And second part
Second reference light reciprocating in the air via the illumination reflecting means 5b
Road OPR2And the second measurement optical path OPM2And the second
Reference optical path OPR2Measurement output by each light beam passing through
XBInterferometer (polarization splitting prism 3, 1 /
4 wavelength plates 4a, 4b, polarizing plate 7, second detecting device 8b)
And the first and second measurement outputs (XA, XB) Based on
And an arithmetic processing unit 9 for performing a constant operation.
You. As shown in FIGS. 1 to 3, coherent light
The laser light source 1 as a light source for supplying a bundle has a first frequency
f1(Hereinafter, referred to as a first beam) and a second round
Wave number fTwo(Hereinafter, referred to as a second beam).
And the first and second beams are supplied to the light splitting prism 2.
Incident. This light splitting prism 2 is a parallelogram-shaped prism.
The rhythm 2a is composed of a right angle prism and a right angle prism.
A light splitting surface BS for amplitude splitting light is formed on the joint surface.
You. First, the light is reflected by the light splitting surface BS and reflected by the first interferometer.
To explain the first and second beams going to
The first and second beams reflected by the light splitting surface BS are prisms.
Reflected by the reflection surface R of the polarization separation prism 3
Incident on the part. The polarization splitting prism 3 has two right angle prisms.
Rhythm 3a, 3b is constituted by joining, this joint surface
Has a polarization separation surface PBS for polarizing and separating light.
You. Here, the upper part of the polarization splitting prism 3 is incident.
The first beam is incident on the plane of incidence of the polarization splitting surface PBS.
Is vibrated by linearly polarized light (hereinafter, referred to as P-polarized light).
And the other second beam is incident on the polarization separation surface PBS.
Linearly polarized light oscillating in a plane perpendicular to the
Name. ). Then, 4
The first beam of P-polarized light incident at an incident angle of 5 ° is polarization-separated
Pass through the surface PBS and enter at 45 ° to the polarization separation surface PBS.
The second beam of S-polarized light incident at an angle of incidence is a polarization separation surface PBS.
Is reflected. First, the light passes through the upper part of the polarization splitting surface PBS.
The first beam of P-polarized light will be described.
After the beam passes through the polarization separation surface PBS, the polarization separation prism
The light passes through the quarter-wave plate 4a joined to 3 and changes into circularly polarized light.
The first upper part of the fixed mirror 5 for reference
Head to fixed mirror 5a. The first fixed mirror 5a has a first reference optical path.
OPR1The gas optical path length (air optical path length) within the predetermined length l
R1A predetermined distance from the quarter-wave plate 4a so that
lR1The first fixed
It is integrally formed with the second fixed mirror 5b disposed below the mirror 5a.
Has been established. The circularly polarized light reflected by the first fixed mirror 5a
One beam passes through the quarter-wave plate 4a again and becomes S-polarized light.
After being converted, the polarization separation surface PBS in the polarization separation prism 3
reflect. After that, the polarized light joined to the polarization splitting prism 3
Light enters the light plate 7. This polarizing plate 7 is used for the S-polarization of the first beam.
Transmits linearly polarized light at 45 ° to the direction of light
So that the polarization component of a part of the first beam is
The light passes through the polarizing plate 7 and is detected by the first optical path difference detecting device 8a.
Will be issued. On the other hand, the light is reflected on the upper part of the polarization separation surface PBS.
The S-polarized second beam will be described.
After the beam is reflected by the polarization separation surface PBS, the polarization separation prism
The light passes through the 1/4 wavelength plate 4b joined to 3 and changes into circularly polarized light.
Is replaced with the first upper part of the movable mirror 6 for measurement.
Head to the moving mirror 6a. The first fixed mirror 6a has a first measurement optical path.
OPM1The optical path length within the predetermined length lM1So that
To the quarter-wave plate 4b (or the first interferometer).
Fixed distance lM1It is arranged only at a distance, as will be described later,
At a lower portion of the first movable mirror 6a, a predetermined
Integrally with the second movable mirror 6b which is arranged shifted by a distance.
It is configured to be movable. In addition, the movable mirror 6 for measurement
Is fixed to one end of the stage ST for holding the wafer W.
And moves with the movement of the stage ST. The circularly polarized light reflected by the first movable mirror 6a
The second beam passes through the quarter-wave plate 4b again and becomes P-polarized light.
, And the polarization separation surface PBS in the polarization separation prism 3
Through the polarizing plate 7 joined to the polarization separating prism 3
Incident. This polarizing plate 7 is, in other words, the second beam
Transmits linearly polarized light at 45 ° to the direction of P-polarized light
And a polarization component of a portion of the first beam.
The light passes through the polarizing plate 7 and a part of the first beam is polarized.
Along with the light component, it is detected by the first optical path difference detecting device 8a.
You. Next, the light is reflected by the light splitting surface BS of the light splitting prism 2.
The first and second beams going to the second interferometer will be described.
Then, the first and second beams passing through the light splitting surface BS
Enter the lower part of the polarization splitting prism 3. Here, the lower part of the polarization splitting prism 3 is incident.
One of the first beams is a polarization separation plane P, as described above.
Linearly polarized light oscillating in the plane of incidence of the BS (hereinafter P-polarized light)
Called. ), And the other second beam is a polarization separation surface.
Linearly polarized light oscillating in the plane perpendicular to the plane of incidence of the PBS
(Hereinafter, referred to as S-polarized light). And polarization separation
First P-polarized light incident on the surface PBS at an incident angle of 45 °
The beam passes through the polarization separation plane PBS, and the polarization separation plane PBS
The second beam of S-polarized light incident at an incident angle of 45 ° with respect to
Reflects the polarized light separating surface PBS. First, the light passes below the polarization separation surface PBS.
The first beam of P-polarized light will be described.
After the beam passes through the polarization separation surface PBS, the polarization separation prism
The light passes through the quarter-wave plate 4a joined to 3 and changes into circularly polarized light.
The second lower part of the fixed mirror 5 for reference
Head to fixed mirror 5b. The second fixed mirror 5b includes the first fixed mirror 5
a and the second reference optical path OPR2At the inner
Has a gas optical path length (air optical path length) of the first reference optical path OP.R1At the inner
Length l equal to the gas optical path length (air optical path length)
R2(= LR1), The 1 / wavelength plate 4a (or
A predetermined distance l to the second interferometerR2(= LR1) Only
It is arranged. The circularly polarized light reflected by the second fixed mirror 5b
One beam passes through the quarter-wave plate 4a again and becomes S-polarized light.
After being converted, the polarization separation surface PBS in the polarization separation prism 3
reflect. After that, the polarized light joined to the polarization splitting prism 3
Light enters the light plate 7. This polarizing plate 7 is used for S polarization of the first beam.
Transmits linearly polarized light at 45 ° to the direction of light
So that the polarization component of a part of the first beam is
The light passes through the polarizing plate 7 and is detected by the second optical path difference detecting device 8b.
Will be issued. On the other hand, the light is reflected at the lower part of the polarization splitting surface PBS.
The S-polarized second beam will be described.
After the beam is reflected by the polarization separation surface PBS, the polarization separation prism
The light passes through the 1/4 wavelength plate 4b joined to 3 and changes into circularly polarized light.
Is replaced with a second lower part constituting a part of the movable mirror 6 for measurement.
Head to the moving mirror 6b. The second fixed mirror 6b
1st fixed mirror 6a with the movement of the stage ST
The second measurement optical path
OPM2The optical path length in the chamber is the first measurement optical path OPM1Sky in
A predetermined length l that is shorter than the air path lengthM2So that
A predetermined distance l with respect to the / 4 wavelength plate 4bM2Just separated
Have been. The circularly polarized light reflected by the second movable mirror 6b
The second beam passes through the quarter-wave plate 4b again and becomes P-polarized light.
, And the polarization separation surface PBS in the polarization separation prism 3
Through the polarizing plate 7 joined to the polarization separating prism 3
Incident. This polarizing plate 7 is, in other words, the second beam
Transmits linearly polarized light at 45 ° to the direction of P-polarized light
And a polarization component of a portion of the first beam.
The light passes through the polarizing plate 7 and a part of the first beam is polarized.
Along with the light component, it is detected by the second optical path difference detecting device 8b.
You. As described above, the first optical path difference detection
In the device 8a, the gas optical path length (air optical path length) is lR1
First reference optical path OPR1The first beam passing through
The body optical path length (air optical path length) is lM1First measurement optical path OP
M1And the second beam passing through
Become. For this reason, the light inside the first optical path difference detecting device 8a is
From the electric detector, the first movable mirror 6a is opposed to the first fixed mirror 5a.
And stopped, the frequency is (f1-f2)
A beat signal is output, and the first movable mirror 6a moves in the X direction
Then, a beat signal whose frequency is modulated is output. Obedience
Therefore, the first optical path difference detecting device 8a
By integrating the changes, the first movable mirror 6a and the first fixed
The relative movement amount with respect to the mirror 5a can be detected. Therefore, the first reference optical path OPR1Gas optical path length
(Air optical path length) lR1To lR, First measurement optical path OPM1Gas
The optical path length (air optical path length) is lM1At the start of measurement (reset
Time), the initial refractive index of gas such as air is n,
The change in the refractive index of the body is Δn, and the first measurement optical path OPM1Gas light of
Path length (air path length) is lM1The first movable mirror 6a when
(Or stage ST) reset position (coordinate original
From the reset position, the first movable mirror 6a (or
Or stage ST) When the displacement amount is x, the first optical path difference
In the detection device 8a, xn + (lM1−lR+ X) phase for Δn
Applicable signal XAIs output to the arithmetic unit 9. On the other hand, in the second optical path difference detecting device 8b,
Means that the gas optical path length (air optical path length) is l R2The second reference light
Road OPR2The first beam passing through the
Road length) is lM2Second measurement optical path OPM2Second via
And the beam respectively enter. For this reason,
From the photoelectric detector inside the second optical path difference detecting device 8b,
The second movable mirror 6b is stopped with respect to the second fixed mirror 5b
In the state, a beat signal whose frequency is (f1-f2) is output
When the second movable mirror 6b moves in the X direction, the frequency changes.
The adjusted beat signal is output. Therefore, this second
The optical path difference detection device 8b integrates the change in the frequency.
The relative movement between the second movable mirror 6b and the second fixed mirror 5b
A large amount of movement can be detected. Therefore, the second reference optical path OPR2Gas optical path length
(Air optical path length) lR2(= LR1) To lR, The second measurement optical path O
PM2Is the gas optical path length (air optical path length) of lM2At the start of measurement
The initial refractive index of gas such as air (at reset) is n,
The change in the refractive index of a gas such as air is Δn, and the second measurement optical path OP
M2The gas optical path length (air optical path length) is lM2The second shift when
Reset position of moving mirror 6b (or stage ST)
(Coordinate origin) and the second movable mirror from this reset position
6b (or stage ST), when the displacement amount is x, the second
In the optical path difference detecting device 8b, xn + (lM2−lR+ X)
Signal X corresponding to ΔnBIs output to the arithmetic unit 9. The arithmetic processing section 9 stores a predetermined arithmetic expression.
Molified, for example, as shown below
Expression 2 derived from Expression 2 and Expression 11 is stored.
ing. [0090] (Equation 20) Therefore, the arithmetic unit 9 is provided with the first and second optical signals.
The output signal (X) from the road difference detection device (7a, 7b)A, X
B) And the initial gas refractive index n at the start of measurement
Based on the output n from a refractive index detector (not shown)
Then, the calculation as shown in the above equation (20) is executed, and the gas
Measurement errors due to changes in the refractive index of the gas caused by turbulence
The first movable mirror 6a and the second movable mirror 6a
Movement amount or coordinates of movable mirror 6b (or stage ST)
Calculate the position. Thereby, the first movable mirror 6a and the accurate
And the position of the second movable mirror 6b (or stage ST)
I can do it. Therefore, the calculation result of the calculation device 9 is not shown.
May be displayed through the display unit of
Based on the movement amount or coordinate position information calculated from the
Although not shown, a drive for moving the stage ST
The drive amount of the system may be controlled by a control system. Then, Expressions 16 to 19 are satisfied.
The first movable mirror 6a and the second movable mirror 6b (or
Stage ST), the interferometer device
Quantization error e added to force is 4 times to 1 time or less
It becomes possible to suppress to. As described above, according to this embodiment,
For example, the configuration is such that each measurement optical path and each reference optical path are close to each other.
Changes in the refractive index of the gas generated in the measurement optical path.
Correction of the measurement error due to the movement of the movable mirror 6 with high accuracy
And position can be detected. In addition, according to this example, the two movable mirrors
Two fixed mirrors are divided internally so that the distance between them is
Very high precision
Accurate measurement is guaranteed. In each of the above embodiments, the
Rodyne type laser interferometer to which the present invention is applied
However, the present invention similarly applies to a homodyne interferometer.
Can be applied. In this embodiment, the position of the first movable mirror 6a is set.
By giving a difference between the position and the position of the second movable mirror 6b,
The difference between the gas path lengths in the two measurement paths (lM1−lM2) Raw
It's terrifying, but not limited to this. For example, the first
The position of the movable mirror 6a is matched with the position of the second movable mirror 6b.
And the first and second interferences which are integrally formed
(Polarization separating prism 3, quarter-wave plates 4a, 4b,
The light plate 7) has an upper part as a first interferometer and a second interferometer.
And the lower part, and measure the two interferometers
Gas path lengths in the two measurement optical paths
Difference (lM1−l M2) May be caused. Moreover,
The position of the first movable mirror 6a is equal to the position of the second movable mirror 6b.
So that both moving mirrors are integrated,
The inside is vacuum and the length along the measurement optical path
If a sealed tube of length L is arranged, only the length L of the sealed tube is required.
Optical path length difference (L = | lM1−lM2|) Can be caused
Noh. A gas having a predetermined refractive index is placed in this sealed tube.
A medium such as a body, a liquid, and a solid may be enclosed. In this embodiment, the position of the first fixed mirror 5a is
By matching the position of the second fixed mirror 5b with the
The gas path length in the reference light path of
It is not limited to this. For example, the first fixed mirror 5a and the second fixed mirror 5a
The mirror 5b is shifted from the mirror 5b by a predetermined distance.
First and second interferometers (polarized light
Separating prism 3, quarter-wave plates 4a and 4b, polarizing plate 7)
With the upper part as the first interferometer and the upper part as the second interferometer
Divided into two parts, the lower part, and the two interferometers
Staggered to equalize the gas paths in the two reference paths
You can do it. Further, in each of the embodiments described above,
In at least one of the optical path of the interferometer measurement optical path and the reference optical path
An optical path deflecting member for bending the optical path is appropriately arranged, and the entire device is bent.
It is possible to route each optical path so that it becomes compact
It is. Thus, the present invention is not limited to the above-described embodiment.
Various configurations are possible without departing from the gist of the present invention.
You. [0097] As described above, according to the present invention, air or the like
Even if gas fluctuations occur, measurement errors are extremely small,
In addition, high-performance interference that enables high-precision measurement in principle
A measuring device can be realized.

【図面の簡単な説明】 【図1】図1は本実施例の干渉計装置を側面から見た時
の様子を示す側面図である。 【図2】図2は図1に示した本実施例の干渉計装置を真
上から見た時の様子を示す平面図である。 【図3】図3は図2の左側から見た時の本実施例の干渉
計装置の様子を示す側面図である。 【図4】(a)は本発明の原理を示すための第1干渉計
の概念図であり、(b)は本発明の原理を示すための第
2干渉計の概念図である。 【図5】図4に示した本発明による干渉計装置による量
子化誤差の最大値とステージの移動量との関係を示す図
である。 【図6】図6は従来の干渉計装置を側面から見た時の様
子を示す側面図である。 【図7】図7は図6に示した従来の干渉計装置を真上か
ら見た時の様子を示す平面図である。 【図8】図8は図7の左側から見た時の従来の干渉計装
置の様子を示す側面図である。 【図9】図6〜図8に示した従来の干渉計装置による量
子化誤差の最大値とステージの移動量との関係を示す図
である。 【主要部分の符号の説明】 1・・・・・・レーザー光源 2・・・・・・光分割プリズム 3・・・・・・偏光分離プリズム 4a,4b・・・・・・1/4波長板 5,5a,5b・・・・・・固定鏡 6,6a,6b・・・・・・移動鏡 7・・・・・・偏光板 8a・・・・・・第1光路差検出装置 8b・・・・・・第2光路差検出装置 9・・・・・・演算装置
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a side view showing the interferometer apparatus of the present embodiment when viewed from the side. FIG. 2 is a plan view showing a state when the interferometer apparatus of the present embodiment shown in FIG. 1 is viewed from directly above. FIG. 3 is a side view showing the state of the interferometer apparatus of the present embodiment when viewed from the left side of FIG. FIG. 4A is a conceptual diagram of a first interferometer showing the principle of the present invention, and FIG. 4B is a conceptual diagram of a second interferometer showing the principle of the present invention. 5 is a diagram showing a relationship between a maximum value of a quantization error and a moving amount of a stage by the interferometer apparatus according to the present invention shown in FIG. FIG. 6 is a side view showing a state when a conventional interferometer apparatus is viewed from the side. FIG. 7 is a plan view showing a state when the conventional interferometer device shown in FIG. 6 is viewed from directly above. FIG. 8 is a side view showing a state of the conventional interferometer apparatus when viewed from the left side of FIG. 9 is a diagram showing a relationship between a maximum value of a quantization error and a moving amount of a stage by the conventional interferometer apparatus shown in FIGS. 6 to 8. FIG. [Description of Signs of Main Parts] 1 ... Laser light source 2 ... Light splitting prism 3 ... Polarization splitting prisms 4a, 4b ... 1/4 wavelength Plates 5, 5a, 5b Fixed mirrors 6, 6a, 6b Moving mirror 7 Polarizing plate 8a First optical path difference detecting device 8b ..... 2nd optical path difference detection device 9 ..... calculation device

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 【請求項1】計測方向に沿って一体的に移動可能に設け
られた第1及び第2計測用反射手段と、それぞれ所定位
置に固設された第1及び第2参照用反射手段と、光束を
供給する光源手段と、該光源手段からの光束に基づい
て,前記第1計測用反射手段を介して前記計測方向に沿
って気体中を往復する第1計測光路と前記第1参照用反
射手段を介して気体中を往復する第1参照光路とを形成
し,該第1計測光路及び第1参照光路を経由した各光束
によって第1測定出力を生成する第1干渉計手段と、前
記光源手段からの光束に基づいて,前記第2計測用反射
手段を介して前記第1計測光路とほぼ平行な方向に沿っ
て気体中を往復する第2計測光路と前記第2参照用反射
手段を介して気体中を往復する第2参照光路とを形成
し,該第2計測光路及び第2参照光路を経由した各光束
によって第2測定出力を生成する第2干渉計手段と、前
記第1及び第2測定出力に基づいて所定の演算を行う演
算手段とを有し、 前記第1干渉計手段から前記第1参照用反射手段までの
前記第1参照光路は、前記第2干渉計手段から前記第2
参照用反射手段までの前記第2参照光路と等しい光学的
光路長を有し、 前記第1干渉計手段から前記第1計測用反射手段の基準
位置までの前記第1計測光路の光学的光路長をlM1
し、前記第2干渉計手段から前記第2計測用反射手段の
基準位置までの前記第2計測光路の光学的光路長を
M2、前記第1干渉計手段から前記第1参照用反射手段
までの前記第1参照光路の光学的光路長をlR1、前記第
2干渉計手段から前記第2参照用反射手段までの前記第
2参照光路の光学的光路長をlR2、前記基準位置からの
前記第1及び第2計測用反射手段の変位をxとすると
き、 前記第1及び第2計測用反射手段は、以下の範囲を少な
くとも移動可能、もしくは以下の範囲の1部を少なくと
も移動可能に構成されることを特徴とする干渉計装置。 lR1−lM1≦x≦lR2−lM2
(57) [Claim 1] First and second measuring reflecting means provided integrally movable along a measuring direction, and first and second reflecting means fixed at predetermined positions, respectively. A second reference reflecting unit, a light source unit for supplying a light beam, and a first measurement reciprocating in the gas along the measurement direction via the first measurement reflecting unit based on the light beam from the light source unit. An optical path and a first reference optical path reciprocating in the gas via the first reference reflecting means are formed, and a first measurement output is generated by each light beam passing through the first measurement optical path and the first reference optical path. (1) an interferometer means, and a second measurement optical path reciprocating in a gas along a direction substantially parallel to the first measurement optical path via the second measurement reflection means based on a light beam from the light source means. A second reference optical path reciprocating in the gas via the second reference reflecting means; A second interferometer means for generating a second measurement output by each light beam passing through the second measurement light path and the second reference light path; and a calculation means for performing a predetermined calculation based on the first and second measurement outputs. And wherein the first reference optical path from the first interferometer means to the first reference reflection means is provided by the second interferometer means from the second interferometer means.
The optical path length of the first measurement optical path from the first interferometer means to the reference position of the first measurement reflection means has an optical path length equal to the second reference light path up to the reference reflection means. Is 1 M1 , the optical path length of the second measurement optical path from the second interferometer means to the reference position of the second measurement reflection means is 1 M2 , and the first interferometer means is used for the first reference. The optical path length of the first reference light path to the reflection means is l R1 , the optical path length of the second reference light path from the second interferometer means to the second reference reflection means is l R2 , When the displacement of the first and second measurement reflection means from a position is x, the first and second measurement reflection means are movable at least in the following range, or at least part of the following range. An interferometer device configured to be movable. l R1 -l M1 ≤x≤l R2 -l M2
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