JP3411324B2 - 導波路付半導体レーザ - Google Patents
導波路付半導体レーザInfo
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- JP3411324B2 JP3411324B2 JP07779293A JP7779293A JP3411324B2 JP 3411324 B2 JP3411324 B2 JP 3411324B2 JP 07779293 A JP07779293 A JP 07779293A JP 7779293 A JP7779293 A JP 7779293A JP 3411324 B2 JP3411324 B2 JP 3411324B2
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- laser
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光伝送又は光計測・光
交換等に用いられる導波路付半導体レーザに関する。
交換等に用いられる導波路付半導体レーザに関する。
【0002】
【従来の技術】光伝送分野、特に光加入者網を構成する
には受光素子と発光素子を集積化した安価な送受信モジ
ュールが必要となる。そこで用いられる光集積回路用の
半導体レーザは、作製が容易で且つ低閾値で大きな光出
力が取り出されることが望まれる。
には受光素子と発光素子を集積化した安価な送受信モジ
ュールが必要となる。そこで用いられる光集積回路用の
半導体レーザは、作製が容易で且つ低閾値で大きな光出
力が取り出されることが望まれる。
【0003】半導体レーザを発振させるには共振器を構
成する必要があり、劈開面又は回折格子の導入が不可欠
である。回折格子の導入は、作製が複雑となるため、結
晶端面を用いたファブリペローレーザが望ましい。劈開
ではなく、エッチングによってファブリペローレーザの
共振器端面を作製した従来構造を図11に示す。
成する必要があり、劈開面又は回折格子の導入が不可欠
である。回折格子の導入は、作製が複雑となるため、結
晶端面を用いたファブリペローレーザが望ましい。劈開
ではなく、エッチングによってファブリペローレーザの
共振器端面を作製した従来構造を図11に示す。
【0004】図11に示すように、半導体基板上におい
て、半導体レーザの活性槽(コア)1と導波路2は、溝
3を介して結合している。活性槽1は、導波路2よりも
バンドギャップ波長が長い。レーザ発振は、半導体レー
ザの一方の端面7と、溝3で構成される端面と間で行わ
れる。
て、半導体レーザの活性槽(コア)1と導波路2は、溝
3を介して結合している。活性槽1は、導波路2よりも
バンドギャップ波長が長い。レーザ発振は、半導体レー
ザの一方の端面7と、溝3で構成される端面と間で行わ
れる。
【0005】半導体材料は屈折率が3以上と空気のそれ
に比べて大きいため、半導体材料を伝播するビーム径が
小さいほど、空気中に出射した際により大きな回折効果
を受け、放射状に広がる。例えば、溝幅5μmでは多く
の光が散乱し、半導体レーザから導波路への結合効率は
10%以下になってしまう。また、活性槽1と導波路2
の間の溝3で結合されず散乱される光は、基板上に迷光
として存在することとなり、例えば、モノリシック集積
された受光素子への雑音になるという問題がある。
に比べて大きいため、半導体材料を伝播するビーム径が
小さいほど、空気中に出射した際により大きな回折効果
を受け、放射状に広がる。例えば、溝幅5μmでは多く
の光が散乱し、半導体レーザから導波路への結合効率は
10%以下になってしまう。また、活性槽1と導波路2
の間の溝3で結合されず散乱される光は、基板上に迷光
として存在することとなり、例えば、モノリシック集積
された受光素子への雑音になるという問題がある。
【0006】図12は図11の改良された従来例であ
る。同図に示すように、活性層1と導波路コア2の両方
は、溝3に近づくに従って、コア幅が細まるテーパコア
4となって、微小コアに接続されている。活性層1の幅
が徐々に細くなっていくことにより、顕著な伝搬損失の
増大を招くことなく、溝3端面で導波路光のビーム形状
が拡大される。
る。同図に示すように、活性層1と導波路コア2の両方
は、溝3に近づくに従って、コア幅が細まるテーパコア
4となって、微小コアに接続されている。活性層1の幅
が徐々に細くなっていくことにより、顕著な伝搬損失の
増大を招くことなく、溝3端面で導波路光のビーム形状
が拡大される。
【0007】ビーム形状が拡大されていることにより、
溝3に出射した光の溝3伝搬中の回折効果が小さく、溝
3の導波路側におけるビーム形状は溝3への出射前のビ
ーム形状と殆ど変化しない。一方、導波路2の幅が溝3
から離れるに従い徐々に広がるため、溝3端面で拡大さ
れていたビーム形状は、再び導波路2の大きさで決まる
大きさに戻る。従って、溝3の近傍では、拡大されたビ
ーム同士の結合となるため、結合効率が改善される。
溝3に出射した光の溝3伝搬中の回折効果が小さく、溝
3の導波路側におけるビーム形状は溝3への出射前のビ
ーム形状と殆ど変化しない。一方、導波路2の幅が溝3
から離れるに従い徐々に広がるため、溝3端面で拡大さ
れていたビーム形状は、再び導波路2の大きさで決まる
大きさに戻る。従って、溝3の近傍では、拡大されたビ
ーム同士の結合となるため、結合効率が改善される。
【0008】しかし、活性槽1と導波路2の間の溝3の
間で結合されずに散乱される光は、基板上に迷光として
存在することとなり、例えばモノリシック集積された受
光素子への雑音になるという問題が生じる。更に、活性
層と導波路とのテーパ状の突き合わせ部において、サブ
ミクロンオーダーの合わせ精度が必要となるので作製が
非常に難しい。
間で結合されずに散乱される光は、基板上に迷光として
存在することとなり、例えばモノリシック集積された受
光素子への雑音になるという問題が生じる。更に、活性
層と導波路とのテーパ状の突き合わせ部において、サブ
ミクロンオーダーの合わせ精度が必要となるので作製が
非常に難しい。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】このように集積回路に
おいて結晶面を作製するというとこは、半導体レーザの
導波路との間に溝が生じるためにレーザ発振光が空気中
に放射され、導波路中への光の取り出しが悪くなる、溝
部で反射した光の一部が迷光としてデバイス内に放射さ
れる、マスク合わせが難しい等という問題が生じる。
おいて結晶面を作製するというとこは、半導体レーザの
導波路との間に溝が生じるためにレーザ発振光が空気中
に放射され、導波路中への光の取り出しが悪くなる、溝
部で反射した光の一部が迷光としてデバイス内に放射さ
れる、マスク合わせが難しい等という問題が生じる。
【0010】本発明は、上記従来技術に鑑みてなされた
ものであり、ファブリペローレーザと導波路との結合を
改善するために、光の取り出し用の合分岐回路をレーザ
ーの共振器構造の内部に導入することにより、導波路か
ら大きな光出力の取り出せるモノリシック集積回路を提
供することを目的とする。
ものであり、ファブリペローレーザと導波路との結合を
改善するために、光の取り出し用の合分岐回路をレーザ
ーの共振器構造の内部に導入することにより、導波路か
ら大きな光出力の取り出せるモノリシック集積回路を提
供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】斯かる目的を達成する本
発明の半導体レーザの構成は、従来の構造が導波路と活
性層との結合面と共振器構造端面とを同一とするのに対
し、光出力を取り出すための合分岐回路をレーザー共振
器の内部に導入し、半導体レーザが発振するために必要
となるレーザー共振器と、活性層と導波路との結合面を
別にすることを特徴とする。
発明の半導体レーザの構成は、従来の構造が導波路と活
性層との結合面と共振器構造端面とを同一とするのに対
し、光出力を取り出すための合分岐回路をレーザー共振
器の内部に導入し、半導体レーザが発振するために必要
となるレーザー共振器と、活性層と導波路との結合面を
別にすることを特徴とする。
【0012】
【作用】本発明の導波路付半導体レーザは、光出力を取
り出すための導波路部を分岐構造によって新たに構成
し、半導体レーザが発振するために必要となる共振器構
造端面と導波路との結合面を別にすることにより大きな
光出力が導波路から得られることを特徴としている。こ
れにより光導波路から取り出せる光出力の大きなモノリ
シック光集積回路を提供することができる。
り出すための導波路部を分岐構造によって新たに構成
し、半導体レーザが発振するために必要となる共振器構
造端面と導波路との結合面を別にすることにより大きな
光出力が導波路から得られることを特徴としている。こ
れにより光導波路から取り出せる光出力の大きなモノリ
シック光集積回路を提供することができる。
【0013】
【実施例】以下、本発明について、図面に示す実施例を
参照して詳細に説明する。図1〜7に本発明の実施例を
示す。これらは、何れもInP系の材料を使用したもの
である。これらの実施例は、次の三つの種類に分類する
ことができる。 タイプA:レーザ共振器端面の一方と導波路の端面が同
一となっているもの タイプB:レーザ共振器両端面と導波路が垂直となって
いるもの タイプC:レーザ共振器両端面が同一端面で構成されて
おり、分岐導波路の端面とは対向する反対側の端面とな
っているもの 図1,図2,図3に示す実施例1,2,3はタイプAに
属し、図4,図5に示す実施例4,5はタイプBに属
し、図6,図7はタイプCに属する。
参照して詳細に説明する。図1〜7に本発明の実施例を
示す。これらは、何れもInP系の材料を使用したもの
である。これらの実施例は、次の三つの種類に分類する
ことができる。 タイプA:レーザ共振器端面の一方と導波路の端面が同
一となっているもの タイプB:レーザ共振器両端面と導波路が垂直となって
いるもの タイプC:レーザ共振器両端面が同一端面で構成されて
おり、分岐導波路の端面とは対向する反対側の端面とな
っているもの 図1,図2,図3に示す実施例1,2,3はタイプAに
属し、図4,図5に示す実施例4,5はタイプBに属
し、図6,図7はタイプCに属する。
【0014】〔実施例1〕図1に本発明の実施例1を示
す。即ち、図1に示すように、半導体基板上において、
活性層1と導波路2とが直線状に結合され、導波路2中
に合分岐回路として非対称合分岐構造10が挿入されて
いる。この非対称合分岐構造10は、導波路2と平行な
分岐導波路5と接続している。分岐導波路5は、光出力
を取り出すために設けられるものである。
す。即ち、図1に示すように、半導体基板上において、
活性層1と導波路2とが直線状に結合され、導波路2中
に合分岐回路として非対称合分岐構造10が挿入されて
いる。この非対称合分岐構造10は、導波路2と平行な
分岐導波路5と接続している。分岐導波路5は、光出力
を取り出すために設けられるものである。
【0015】非対称合分岐構造10としては、図8に示
すミラーを用いた非対称合分岐構造、図9に示す非対称
Y分岐構造が用いられる。また、非対称合分岐構造10
に代えて図10に示す方向性結合器を用いても良い。活
性層1の図中左方の端面は導波路1との結合面であり、
活性層1の図中右方の端面7は結晶の劈開面を利用した
ものである。また、導波路2の図中右方の端面は活性層
1との接合面であり、導波路2の図中右方の端面6は、
結晶の劈開面を利用したものである。
すミラーを用いた非対称合分岐構造、図9に示す非対称
Y分岐構造が用いられる。また、非対称合分岐構造10
に代えて図10に示す方向性結合器を用いても良い。活
性層1の図中左方の端面は導波路1との結合面であり、
活性層1の図中右方の端面7は結晶の劈開面を利用した
ものである。また、導波路2の図中右方の端面は活性層
1との接合面であり、導波路2の図中右方の端面6は、
結晶の劈開面を利用したものである。
【0016】本実施例においては、レーザ共振器は活性
層1の図中右方の端面(劈開面)7と導波路2の図中左
方の端面(劈開面)6により構成され、活性層1と導波
路2との結合面は、レーザ共振器を構成しない。従っ
て、活性層1で発光した光は、活性層1と導波路2との
結合面を透過し、導波路2、非対称合分岐構造10を経
て導波され、導波路2の図中左方の端面6で反射され、
更に、導波路2、非対称合分岐構造10を経て導波さ
れ、活性層1と導波路2との結合面を透過し、活性層1
の図中右方の端面7との間で反射することを繰り返し、
レーザ発振を起こす。また、レーザ発振光は、非対称合
分岐構造10により分岐されて、分岐導波路5により取
り出される。
層1の図中右方の端面(劈開面)7と導波路2の図中左
方の端面(劈開面)6により構成され、活性層1と導波
路2との結合面は、レーザ共振器を構成しない。従っ
て、活性層1で発光した光は、活性層1と導波路2との
結合面を透過し、導波路2、非対称合分岐構造10を経
て導波され、導波路2の図中左方の端面6で反射され、
更に、導波路2、非対称合分岐構造10を経て導波さ
れ、活性層1と導波路2との結合面を透過し、活性層1
の図中右方の端面7との間で反射することを繰り返し、
レーザ発振を起こす。また、レーザ発振光は、非対称合
分岐構造10により分岐されて、分岐導波路5により取
り出される。
【0017】このように、本実施例においては、活性層
1と導波路2との結合面は、レーザ共振器を構成しない
ため、非対称合分岐構造10は、レーザ共振器内部に存
在することになる。この為、レーザ共振器内のフィード
バック効率が低減することとなるが、溝を介した場合よ
りも導波路2に効率よく結合するので、分岐導波路5か
ら取り出せる光出力を大きくすることができる。
1と導波路2との結合面は、レーザ共振器を構成しない
ため、非対称合分岐構造10は、レーザ共振器内部に存
在することになる。この為、レーザ共振器内のフィード
バック効率が低減することとなるが、溝を介した場合よ
りも導波路2に効率よく結合するので、分岐導波路5か
ら取り出せる光出力を大きくすることができる。
【0018】ここで、非対称合分岐構造10としては、
図8に示すように、導波路11,12,13のサイズを
異ならせると共に反射ミラー14を用いてその分岐比を
変化させることができる。即ち、図8に示すように、第
一の入出力導波路11は、図中右方へ行くに従って、幅
が広がる形状であり、左側から第一の入出力導波路11
へ入射したビームは導波路幅が広がることに基づいて、
そのビーム径を広げながら、分岐部に到達する。
図8に示すように、導波路11,12,13のサイズを
異ならせると共に反射ミラー14を用いてその分岐比を
変化させることができる。即ち、図8に示すように、第
一の入出力導波路11は、図中右方へ行くに従って、幅
が広がる形状であり、左側から第一の入出力導波路11
へ入射したビームは導波路幅が広がることに基づいて、
そのビーム径を広げながら、分岐部に到達する。
【0019】分岐部において、第一の入出力導波路11
は第二、第三の入出力導波路12,13に分岐され、第
三の入出力導波路13は、第一の入出力導波路11と平
行であるのに対し、第二の入出力導波路12は、図中斜
め右下へ延びている。
は第二、第三の入出力導波路12,13に分岐され、第
三の入出力導波路13は、第一の入出力導波路11と平
行であるのに対し、第二の入出力導波路12は、図中斜
め右下へ延びている。
【0020】ここで、分岐部の図中上半分においては、
反射ミラー14が斜めに配置されているため、反射ミラ
ー14で反射した光は、第二の入出力導波路12に出射
することになる一方、反射ミラー14で反射しない分岐
部の図中下半分へ伝搬する光は、そのまま直進して、第
三の入出力導波路13へ出射することになる。ここで
は、モード変換は徐々に行われるので、原理的にはモー
ド変換ロスは起こらない。
反射ミラー14が斜めに配置されているため、反射ミラ
ー14で反射した光は、第二の入出力導波路12に出射
することになる一方、反射ミラー14で反射しない分岐
部の図中下半分へ伝搬する光は、そのまま直進して、第
三の入出力導波路13へ出射することになる。ここで
は、モード変換は徐々に行われるので、原理的にはモー
ド変換ロスは起こらない。
【0021】図8に示す非対称合分岐構造10は、反射
ミラー14を用いて分岐角を自由に設定することができ
るので、例えば、二つの入出力導波路のなす角を90°
にすることができ、分岐回路サイズのコンパクト化が可
能となり、集積化に大きな利点を有する。尚、反射ミラ
ー14の位置を分岐部の図中上半分、つまり、第一の入
出力導波路11の図中上半分としていたため、入出力導
波路12,13の出射光量は等しいが、反射ミラー14
の図中右端の位置を上下させることにより、入出力導波
路12,13の出力光量を加減することができる。
ミラー14を用いて分岐角を自由に設定することができ
るので、例えば、二つの入出力導波路のなす角を90°
にすることができ、分岐回路サイズのコンパクト化が可
能となり、集積化に大きな利点を有する。尚、反射ミラ
ー14の位置を分岐部の図中上半分、つまり、第一の入
出力導波路11の図中上半分としていたため、入出力導
波路12,13の出射光量は等しいが、反射ミラー14
の図中右端の位置を上下させることにより、入出力導波
路12,13の出力光量を加減することができる。
【0022】例えば、反射ミラー14の図中右端の位置
を中央より上側へ移動させることにより、第三の入出力
導波路13への出射光量を第二の入出力導波路12への
出射光量に比べて大きくすることができ、逆に、反射ミ
ラー14の図中右端の位置を中央より下側へ移動させる
ことにより、第二の入出力導波路12への出射光量を第
三の入出力導波路13への出射光量に比べて大きくする
ことができる。ここでは、分岐の場合について説明した
が、合波の場合も分岐の場合と逆過程として同様に考え
ることができる。
を中央より上側へ移動させることにより、第三の入出力
導波路13への出射光量を第二の入出力導波路12への
出射光量に比べて大きくすることができ、逆に、反射ミ
ラー14の図中右端の位置を中央より下側へ移動させる
ことにより、第二の入出力導波路12への出射光量を第
三の入出力導波路13への出射光量に比べて大きくする
ことができる。ここでは、分岐の場合について説明した
が、合波の場合も分岐の場合と逆過程として同様に考え
ることができる。
【0023】尚、活性層1の端面7に金属又は誘電体多
層膜からなる高反射膜を設けることにより、レーザの閾
値低減を行うことができる。本実施例の半導体レーザと
従来の半導体レーザについて実際の特性について調べた
ところ、波長1.3μm帯の半導体レーザについては、
図11に示す従来の半導体レーザでは、発振閾値15m
A、電流50mAにおいて、導波路2から光出力0.3
Wが得られたのに対し、図1に示す本実施例において
は、分岐導波路5からの取り出し光量を増加するために
分岐導波路5への分岐比を70%としたとき、同一基板
上で発振閾値20mA、電流50mAにおいて、導波路
5からの光出力1mWが得られた。
層膜からなる高反射膜を設けることにより、レーザの閾
値低減を行うことができる。本実施例の半導体レーザと
従来の半導体レーザについて実際の特性について調べた
ところ、波長1.3μm帯の半導体レーザについては、
図11に示す従来の半導体レーザでは、発振閾値15m
A、電流50mAにおいて、導波路2から光出力0.3
Wが得られたのに対し、図1に示す本実施例において
は、分岐導波路5からの取り出し光量を増加するために
分岐導波路5への分岐比を70%としたとき、同一基板
上で発振閾値20mA、電流50mAにおいて、導波路
5からの光出力1mWが得られた。
【0024】このように、共振器内のフィードバック効
率が非対称合分岐構造の導入によって、発振閾値の僅か
な上昇がみられたが、分岐導波路5から取り出せる光出
力は大きく増大していることが判る。更に、分岐導波路
5の図中左側における導波路端近傍で、分岐導波路5が
端面6に近づくにしたがって、テーパ状に導波路幅を細
くすることで、光ファイバとも良好な結合を行うことも
可能である。
率が非対称合分岐構造の導入によって、発振閾値の僅か
な上昇がみられたが、分岐導波路5から取り出せる光出
力は大きく増大していることが判る。更に、分岐導波路
5の図中左側における導波路端近傍で、分岐導波路5が
端面6に近づくにしたがって、テーパ状に導波路幅を細
くすることで、光ファイバとも良好な結合を行うことも
可能である。
【0025】〔実施例2〕本発明の実施例2を図2に示
す。本実施例は、実施例1における導波路2の図中左側
部分を活性層1′に置換したものであり、その他の構成
は、実施例1と同様である。
す。本実施例は、実施例1における導波路2の図中左側
部分を活性層1′に置換したものであり、その他の構成
は、実施例1と同様である。
【0026】本実施例は、実施例1に比較して、活性層
領域が長くなるため、増幅領域が増大し、発振閾値が低
減する効果がある。尚、活性層1′の位置は、導波路2
の中間にしてもよく、また、二つ以上に分割しても良
い。尚、活性層1の端面7に金属又は誘電体多層膜から
なる高反射膜を設けることにより、更に、レーザの閾値
低減を行うことができる。
領域が長くなるため、増幅領域が増大し、発振閾値が低
減する効果がある。尚、活性層1′の位置は、導波路2
の中間にしてもよく、また、二つ以上に分割しても良
い。尚、活性層1の端面7に金属又は誘電体多層膜から
なる高反射膜を設けることにより、更に、レーザの閾値
低減を行うことができる。
【0027】〔実施例3〕本発明の実施例3を図3に示
す。本実施例は、レーザ共振器の一方の端面を、エッチ
ングによる溝3で構成するものである。即ち、実施例1
において、導波路2の図中左方部分を削除し、その削除
した導波路2の端面にエッチングによる溝3を設けたも
のであり、その他の構成は、実施例1と同様である。
す。本実施例は、レーザ共振器の一方の端面を、エッチ
ングによる溝3で構成するものである。即ち、実施例1
において、導波路2の図中左方部分を削除し、その削除
した導波路2の端面にエッチングによる溝3を設けたも
のであり、その他の構成は、実施例1と同様である。
【0028】従って、本実施例では、レーザ共振器は、
レーザ共振器は活性層1の図中右方の端面(劈開面)7
と導波路2の図中左方の端面である溝3により構成さ
れ、図中左方の端面(劈開面)8はレーザ共振器を構成
しない。この為、劈開面を用いることのできない集積用
半導体レーザの作製において優れている。尚、実施例2
と同様に、導波路2の一部を活性層1′と置換しても良
く、また、活性層1の端面7に金属又は誘電体多層膜か
らなる高反射膜を設けることにより、更に、レーザの閾
値低減を行うことができる。
レーザ共振器は活性層1の図中右方の端面(劈開面)7
と導波路2の図中左方の端面である溝3により構成さ
れ、図中左方の端面(劈開面)8はレーザ共振器を構成
しない。この為、劈開面を用いることのできない集積用
半導体レーザの作製において優れている。尚、実施例2
と同様に、導波路2の一部を活性層1′と置換しても良
く、また、活性層1の端面7に金属又は誘電体多層膜か
らなる高反射膜を設けることにより、更に、レーザの閾
値低減を行うことができる。
【0029】〔実施例4〕本発明の実施例4を図4に示
す。本実施例は、図3に示す実施例1において、導波路
2と分岐導波路5とを平行ではなく、直角に配置したも
のであり、従って、導波路2と分岐導波路5とは異なる
出射端面を有する。また、分岐導波路5の出射端面8に
は、光ファイバとの結合を良くするため、反射防止膜を
被覆することが望ましい。尚、その他の構成は、実施例
1と同様である。
す。本実施例は、図3に示す実施例1において、導波路
2と分岐導波路5とを平行ではなく、直角に配置したも
のであり、従って、導波路2と分岐導波路5とは異なる
出射端面を有する。また、分岐導波路5の出射端面8に
は、光ファイバとの結合を良くするため、反射防止膜を
被覆することが望ましい。尚、その他の構成は、実施例
1と同様である。
【0030】図1,2に示す実施例では、端面6はレー
ザ共振器端面をも構成するので、低閾値レーザを実現す
るためには、端面6の反射率が高い程好ましい。しか
し、端面6は、分岐導波路5の出射端面を構成するの
で、端面6の反射率を高めると、閾値が高くなる欠点が
ある。これに対し、本実施例では、レーザ共振器を構成
する端面6,7には金属又は誘電体多層膜よりなる高反
射膜を被覆し、分岐導波路5の出射端面8には反射防止
膜を被覆することができるので、分岐導波路5からの取
り出し光の増大とレーザの低閾値とを同時に実現するこ
とができる。
ザ共振器端面をも構成するので、低閾値レーザを実現す
るためには、端面6の反射率が高い程好ましい。しか
し、端面6は、分岐導波路5の出射端面を構成するの
で、端面6の反射率を高めると、閾値が高くなる欠点が
ある。これに対し、本実施例では、レーザ共振器を構成
する端面6,7には金属又は誘電体多層膜よりなる高反
射膜を被覆し、分岐導波路5の出射端面8には反射防止
膜を被覆することができるので、分岐導波路5からの取
り出し光の増大とレーザの低閾値とを同時に実現するこ
とができる。
【0031】例えば、端面6,7に高反射膜を、端面8
に反射防止膜を被覆することにより、発振閾値7mW、
電流50mWにおいて分岐導波路5から光出力8mWの
良好な結果が得られた。尚、高反射膜、反射防止膜は、
必ず必要なものではなく、これらの被覆を行わずに使用
することも可能である。
に反射防止膜を被覆することにより、発振閾値7mW、
電流50mWにおいて分岐導波路5から光出力8mWの
良好な結果が得られた。尚、高反射膜、反射防止膜は、
必ず必要なものではなく、これらの被覆を行わずに使用
することも可能である。
【0032】〔実施例5〕本発明の実施例5を図5に示
す。本実施例は、図4に示す実施例4において、導波路
2の一部を、活性層1′で置換したものであり、その他
の構成は実施例4と同様である。
す。本実施例は、図4に示す実施例4において、導波路
2の一部を、活性層1′で置換したものであり、その他
の構成は実施例4と同様である。
【0033】本実施例においても、レーザ共振器を構成
する端面6,7には金属又は誘電体多層膜よりなる高反
射膜を被覆し、分岐導波路5の出射端面8には反射防止
膜を被覆することができるので、分岐導波路5からの取
り出し光の増大とレーザの低閾値とを同時に実現するこ
とができる。尚、高反射膜、反射防止膜の被覆を行わず
に使用することも可能である。
する端面6,7には金属又は誘電体多層膜よりなる高反
射膜を被覆し、分岐導波路5の出射端面8には反射防止
膜を被覆することができるので、分岐導波路5からの取
り出し光の増大とレーザの低閾値とを同時に実現するこ
とができる。尚、高反射膜、反射防止膜の被覆を行わず
に使用することも可能である。
【0034】尚、実施例4,5においても、図3に示す
実施例3と同様にエッチングによる溝3を形成してレー
ザ共振器の一方を構成しても良い。このようにすると、
レーザ発振は、溝3で構成される端面と、活性層の一方
の端面7との間で起こり、非対称合分岐構造10を介し
て分岐導波路5から光を取り出すことができる。更に、
レーザ共振器の両方の端面を、エッチングによる溝3で
構成しても良い。
実施例3と同様にエッチングによる溝3を形成してレー
ザ共振器の一方を構成しても良い。このようにすると、
レーザ発振は、溝3で構成される端面と、活性層の一方
の端面7との間で起こり、非対称合分岐構造10を介し
て分岐導波路5から光を取り出すことができる。更に、
レーザ共振器の両方の端面を、エッチングによる溝3で
構成しても良い。
【0035】〔実施例6〕本発明の実施例6を図6に示
す。本実施例は、コ字状に折れ曲がった導波路2を用い
るものである。即ち、図6に示すように、半導体基板上
においては、コ字状に折れ曲がった導波路2と活性層1
とが結合されると共に導波路2中には非対称合分岐構造
10が挿入され、その折曲部には全反射ミラー9が配置
されている。この非対称合分岐構造10は、導波路2と
平行な分岐導波路5と接続している。分岐導波路5は、
光出力を取り出すために設けられるものである。
す。本実施例は、コ字状に折れ曲がった導波路2を用い
るものである。即ち、図6に示すように、半導体基板上
においては、コ字状に折れ曲がった導波路2と活性層1
とが結合されると共に導波路2中には非対称合分岐構造
10が挿入され、その折曲部には全反射ミラー9が配置
されている。この非対称合分岐構造10は、導波路2と
平行な分岐導波路5と接続している。分岐導波路5は、
光出力を取り出すために設けられるものである。
【0036】本実施例では、半導体レーザとしての共振
器端面は、活性層1と導波路2とを介して一つの端面7
で構成されるので、端面7に高反射膜を被覆することに
より、一度に共振器の両端面に高反射膜を設けることが
できるという利点がある。
器端面は、活性層1と導波路2とを介して一つの端面7
で構成されるので、端面7に高反射膜を被覆することに
より、一度に共振器の両端面に高反射膜を設けることが
できるという利点がある。
【0037】〔実施例7〕本発明の実施例7を図7に示
す。本実施例は、図6に示す実施例6において、導波路
2の一部を活性層1′で置換した構成であり、その他の
構成は、実施例6と同様である。本実施例においても、
半導体レーザとしての共振器端面は、活性層1と導波路
2とを介して一つの端面7で構成されるので、一度に共
振器の両端面に高反射膜を設けることができるという利
点がある。
す。本実施例は、図6に示す実施例6において、導波路
2の一部を活性層1′で置換した構成であり、その他の
構成は、実施例6と同様である。本実施例においても、
半導体レーザとしての共振器端面は、活性層1と導波路
2とを介して一つの端面7で構成されるので、一度に共
振器の両端面に高反射膜を設けることができるという利
点がある。
【0038】尚、実施例6,7において、図3に示す実
施例3のように同様にエッチングによる溝3を形成して
レーザ共振器の一方の端面を構成しても良い。このよう
にすると、レーザ発振は、溝3で構成される端面と、活
性層の一方の端面7との間で起こり、非対称合分岐構造
10を介して分岐導波路5から光を取り出すことができ
る。更に、レーザ共振器の両方の端面を、エッチングに
よる溝3で構成しても良い。レーザ共振器を構成する端
面6,7には金属又は誘電体多層膜よりなる高反射膜を
被覆し、分岐導波路5の出射端面8には反射防止膜を被
覆することができる。
施例3のように同様にエッチングによる溝3を形成して
レーザ共振器の一方の端面を構成しても良い。このよう
にすると、レーザ発振は、溝3で構成される端面と、活
性層の一方の端面7との間で起こり、非対称合分岐構造
10を介して分岐導波路5から光を取り出すことができ
る。更に、レーザ共振器の両方の端面を、エッチングに
よる溝3で構成しても良い。レーザ共振器を構成する端
面6,7には金属又は誘電体多層膜よりなる高反射膜を
被覆し、分岐導波路5の出射端面8には反射防止膜を被
覆することができる。
【0039】尚、上述した実施例1〜7において非対称
合分岐構造10としては、他に、図9に示すように導波
路のサイズを異ならせることにより、分岐比を変化させ
ることのできる非対称Y分岐構造を用いることができ
る。この構造では、図9中左側から第一の入出力導波路
11へ入射したビームは分岐部で緩やかにモード変換さ
れ、第二、第三の入出力導波路12,13へ分岐して出
射する。合波の場合も同様である。第二、第三の入出力
導波路12,13の幅、分岐角、高さを変化させること
により、分岐比を調整することができる。分岐導波路へ
の結合を考慮すると、分岐角はあまり大きく取ることが
できない。
合分岐構造10としては、他に、図9に示すように導波
路のサイズを異ならせることにより、分岐比を変化させ
ることのできる非対称Y分岐構造を用いることができ
る。この構造では、図9中左側から第一の入出力導波路
11へ入射したビームは分岐部で緩やかにモード変換さ
れ、第二、第三の入出力導波路12,13へ分岐して出
射する。合波の場合も同様である。第二、第三の入出力
導波路12,13の幅、分岐角、高さを変化させること
により、分岐比を調整することができる。分岐導波路へ
の結合を考慮すると、分岐角はあまり大きく取ることが
できない。
【0040】更に、非対称合分岐構造10に代えて、図
10に示すように方向性結合器を利用したものも考えら
れる。この構造では、導波路は四つあるが、どれかを未
使用とすると、図9と同様な効果が得られる。合波の場
合も同様である。二つの導波路長を調整することによ
り、その分岐比を任意に設定することができる。この実
施例でも、方向性結合器を構成する二つの導波路から分
岐させてゆく上での分岐角をあまり大きくとることがで
きない。
10に示すように方向性結合器を利用したものも考えら
れる。この構造では、導波路は四つあるが、どれかを未
使用とすると、図9と同様な効果が得られる。合波の場
合も同様である。二つの導波路長を調整することによ
り、その分岐比を任意に設定することができる。この実
施例でも、方向性結合器を構成する二つの導波路から分
岐させてゆく上での分岐角をあまり大きくとることがで
きない。
【0041】上記実施例では、レーザからの光の取り出
しを多くするため、合分岐回路として非対称合分岐構造
を用いた構成となっているが、合分岐回路として対称合
分岐構造を用いることも可能である。本発明は、GaAs
系の他の半導体材料に対しても有効であり、波長につい
ても任意の構成が可能である。また、本発明は、ファブ
リペローレーザに限るものではなく、DFBレーザ、D
BRレーザ及びリングレーザにも有効である。更に、2
分岐に限るものではなく、それを越える分岐数を持つ場
合や多段に分岐する場合でも同様の効果が得られる。
しを多くするため、合分岐回路として非対称合分岐構造
を用いた構成となっているが、合分岐回路として対称合
分岐構造を用いることも可能である。本発明は、GaAs
系の他の半導体材料に対しても有効であり、波長につい
ても任意の構成が可能である。また、本発明は、ファブ
リペローレーザに限るものではなく、DFBレーザ、D
BRレーザ及びリングレーザにも有効である。更に、2
分岐に限るものではなく、それを越える分岐数を持つ場
合や多段に分岐する場合でも同様の効果が得られる。
【0042】
【発明の効果】以上、実施例に基づいて具体的に説明し
たように、本発明によれば、光の取り出すための合分岐
回路をレーザ共振器内部に導入することにより、レーザ
共振器を構成する端面と導波路との光結合部が別にな
り、分岐導波路から大きな光出力を取り出すことができ
る。
たように、本発明によれば、光の取り出すための合分岐
回路をレーザ共振器内部に導入することにより、レーザ
共振器を構成する端面と導波路との光結合部が別にな
り、分岐導波路から大きな光出力を取り出すことができ
る。
【図1】本発明の実施例1に係る導波路付半導体レーザ
の模式図である。
の模式図である。
【図2】本発明の実施例2に係る導波路付半導体レーザ
の模式図である。
の模式図である。
【図3】本発明の実施例3に係る導波路付半導体レーザ
の模式図である。
の模式図である。
【図4】本発明の実施例4に係る導波路付半導体レーザ
の模式図である。
の模式図である。
【図5】本発明の実施例5に係る導波路付半導体レーザ
の模式図である。
の模式図である。
【図6】本発明の実施例6に係る導波路付半導体レーザ
の模式図である。
の模式図である。
【図7】本発明の実施例7に係る導波路付半導体レーザ
の模式図である。
の模式図である。
【図8】非対称合分岐導波路の一例を示す模式図であ
る。
る。
【図9】非対称合分岐導波路の他の例を示す模式図であ
る。
る。
【図10】方向性結合器の一例を示す模式図である。
【図11】従来技術に係る半導体レーザと導波路との溝
を介した結合を模式的に示す説明図である。
を介した結合を模式的に示す説明図である。
【図12】従来技術に係る半導体レーザと導波路との溝
を介した結合を模式的に示す説明図である。
を介した結合を模式的に示す説明図である。
1、1′ 活性層(半導体レーザコア)
2 導波路(コア)
3 溝
4 テーパコア
5 分岐導波路
6,7,8 端面
9 全反射ミラー
10 非対称合分波構造
11 第一の入出力導波路
12 第二の入出力導波路
13 第三の入出力導波路
14 反射ミラー
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 柴田 泰夫
東京都千代田区内幸町一丁目1番6号
日本電信電話株式会社内
(72)発明者 笠谷 和生
東京都千代田区内幸町一丁目1番6号
日本電信電話株式会社内
(72)発明者 永沼 充
東京都千代田区内幸町一丁目1番6号
日本電信電話株式会社内
(56)参考文献 特開 平2−188981(JP,A)
特開 昭64−25588(JP,A)
特開 平2−159786(JP,A)
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
H01S 5/00 - 5/50
Claims (4)
- 【請求項1】 半導体基板上に作成された導波路と、該
導波路に結合され、前記導波路よりもバンドギャップ波
長の長い活性層とを有する導波路付半導体レーザにおい
て、前記導波路中に合分岐回路を挿入することにより、
一つ又は二つ以上の分岐導波路に分岐することを特徴と
する導波路付半導体レーザ。 - 【請求項2】 請求項1において、前記合分岐回路とし
て非対称合分岐構造又は方向性結合器を用いることを特
徴とする導波路付半導体レーザ。 - 【請求項3】 請求項1又は2において、前記導波路、
活性層の端面のうち、レーザ共振器を構成する端面に
は、金属又は誘導体多層膜からなる高反射膜が設けられ
ていることを特徴とする導波路付半導体レーザ。 - 【請求項4】 請求項1,2又は3において、前記分岐
導波路の前記合分岐回路と結合している端面と異なる端
面近傍は導波路端に近づくに従ってテーパ状に導波路幅
が細くなることを特徴とする導波路付半導体レーザ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07779293A JP3411324B2 (ja) | 1993-04-05 | 1993-04-05 | 導波路付半導体レーザ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07779293A JP3411324B2 (ja) | 1993-04-05 | 1993-04-05 | 導波路付半導体レーザ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06291419A JPH06291419A (ja) | 1994-10-18 |
JP3411324B2 true JP3411324B2 (ja) | 2003-05-26 |
Family
ID=13643845
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP07779293A Expired - Fee Related JP3411324B2 (ja) | 1993-04-05 | 1993-04-05 | 導波路付半導体レーザ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3411324B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5028805B2 (ja) * | 2006-01-23 | 2012-09-19 | 富士通株式会社 | 光モジュール |
-
1993
- 1993-04-05 JP JP07779293A patent/JP3411324B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06291419A (ja) | 1994-10-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020108 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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