JP3409995B2 - Inductance element and method of manufacturing the same - Google Patents
Inductance element and method of manufacturing the sameInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、携帯電話機などの
高周波帯域で用いられる移動体通信機器等に使用される
表面実装型のインダクタンス素子に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface mount type inductance element used for mobile communication equipment used in a high frequency band such as a mobile phone.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来インダクタンス素子は、フェライト
などからなるコアの外周に絶縁被覆導線を巻線してコイ
ルとし、この両端に電極を形成することによって製造さ
れている。しかしながらこのような方法では製造工程が
複雑であり、装置が大がかりになり製造コストが高くな
る。また、巻線工程の作業性が悪く、素子の小型化が困
難であるという問題があった。2. Description of the Related Art Conventionally, an inductance element has been manufactured by winding an insulating coated wire around a core made of ferrite or the like to form a coil, and forming electrodes on both ends of the coil. However, in such a method, the manufacturing process is complicated, the apparatus becomes large, and the manufacturing cost becomes high. In addition, the workability of the winding process is poor, and it is difficult to reduce the size of the device.
【0003】この問題に対して巻線によらないインダク
タンス素子が種々提案されている。特開昭54−140
164号公報および特公昭62−8924号公報にはフ
ェライト、合成樹脂または絶縁性セラミック等からなる
磁芯の表面に塗布、無電解メッキまたは蒸着等の方法に
より導体膜を形成し、螺旋状に切削することによりイン
ダクタンス素子を得る方法が記載されている。また、特
開平6−215950号公報には、スパイラル状に溝が
形成された基体の溝に導電層を作成し、コイルパターン
を形成することによりコイルを得る方法が記載されてい
る。このような構成によれば、コイル導体および端部電
極が同時に形成でき、製造工程を大幅に減らすことがで
きる。To solve this problem, various inductance elements that do not use windings have been proposed. JP-A-54-140
No. 164 and Japanese Patent Publication No. 62-8924, a conductor film is formed on the surface of a magnetic core made of ferrite, synthetic resin, insulating ceramic or the like by a method such as electroless plating or vapor deposition, and is cut into a spiral shape. A method of obtaining an inductance element by doing is described. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-215950 describes a method of obtaining a coil by forming a conductive layer in a groove of a base having spiral grooves and forming a coil pattern. With such a configuration, the coil conductor and the end electrode can be formed at the same time, and the manufacturing process can be significantly reduced.
【0004】ところで、近年、携帯電話などの高周波帯
域で用いられる移動体通信機器の進歩に伴い、それらに
用いられるインダクタンス素子の小型化、軽量化、高帯
域化がさらに求められてきている。この要求に応えるた
めに、インダクタンス素子の基体は優れた高周波伝送特
性を向上させるため、低誘電特性を有する事が必要であ
り、材料の開発が行われている。低誘電特性を有する磁
芯を使用した場合、静電気の分布容量を減らし、自己共
振周波数を高くすることでQ値の周波数特性を伸ばし、
高周波におけるロスを減らすことができる。このため、
低誘電率である材料が求められている。上記したような
従来のインダクタンス素子においては、基体としてフェ
ライト等の絶縁性セラミックスが用いられているが、こ
の誘電率は通常4〜5程度と比較的高く、高周波誘電特
性としては不十分であった。By the way, in recent years, with the progress of mobile communication devices used in high frequency bands such as mobile phones, there has been a further demand for miniaturization, weight reduction and higher band of inductance elements used therein. In order to meet this demand, the substrate of the inductance element is required to have a low dielectric property in order to improve excellent high frequency transmission characteristics, and materials are being developed. When a magnetic core with low dielectric properties is used, the distributed capacitance of static electricity is reduced and the self-resonance frequency is increased to extend the frequency characteristics of the Q value,
The loss at high frequencies can be reduced. For this reason,
There is a need for materials that have a low dielectric constant. In the conventional inductance element as described above, an insulating ceramic such as ferrite is used as a substrate, but its dielectric constant is relatively high, usually about 4 to 5, and it is insufficient as high frequency dielectric characteristics. .
【0005】また、誘電率の低い材料として、絶縁性セ
ラミック材料に代えて絶縁性合成樹脂等の開発が行われ
てきている。しかしながら、低誘電率で電気特性は良好
であり、さらにコイル導体および端子部を薄膜または厚
膜により形成するときに必要な基体の耐熱性、導体膜と
の接着性、加工性その他の要求される項目を兼ね備える
材料を用いたインダクタンス素子はこれまでに提案され
ていない。As a material having a low dielectric constant, an insulating synthetic resin or the like has been developed in place of the insulating ceramic material. However, it has a low dielectric constant and good electrical characteristics, and further requires heat resistance of the substrate, adhesiveness with the conductor film, workability, etc., which are required when forming the coil conductor and the terminal portion with a thin film or a thick film. An inductance element using a material having all the items has not been proposed so far.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような事
情に鑑みてなされたものであり、前記のような巻き線に
よらないインダクダンス素子を改良して、小型、高性能
を実現し、さらに低コストで製造が可能なインダクタン
ス素子を得ることを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and improves the induction element that does not depend on the winding as described above to realize small size and high performance. It is another object of the present invention to obtain an inductance element that can be manufactured at low cost.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は下記
(1)〜(7)の方法により達成できる。The objects of the present invention can be achieved by the following methods (1) to (7).
【0008】(1) 基体と、コイル導体と、端子部を
備えたインダクタンス素子であって、前記基体が単量体
として少なくともフマル酸ジエステルを含む単量体組成
物を重合して得られた低誘電性高分子材料からなり、コ
イル導体および端子部が導電性を有する膜により形成さ
れていることを特徴とするインダクタンス素子。(1) An inductance element having a base, a coil conductor, and a terminal portion, which is obtained by polymerizing a monomer composition containing at least fumaric acid diester as a monomer. An inductance element comprising a dielectric polymer material, wherein a coil conductor and a terminal portion are formed of a film having conductivity.
【0009】(2) 前記基体が角柱状であることを特
徴とする(1)のインダクタンス素子。(2) The inductance element according to (1), characterized in that the base is prismatic.
【0010】(3) 前記コイル導体が銅または銀を主
成分とする材料からなることを特徴とする(1)または
(2)のインダクタンス素子。(3) The inductance element according to (1) or (2), wherein the coil conductor is made of a material containing copper or silver as a main component.
【0011】(4) 前記コイル導体の厚さが0.5〜
100μmであることを特徴とする(1)〜(3)のイ
ンダクタンス素子。(4) The thickness of the coil conductor is 0.5 to
The inductance element according to any one of (1) to (3), which has a thickness of 100 μm.
【0012】(5) 前記コイル導体を無電解メッキに
より形成することを特徴とする(1)〜(4)のいずれ
かのインダクタンス素子を作製する製造方法。(5) A manufacturing method for producing an inductance element according to any one of (1) to (4), characterized in that the coil conductor is formed by electroless plating.
【0013】(6) 前記コイル導体を無電解メッキお
よび電気メッキにより形成する事を特徴とする(1)〜
(4)のいずれかのインダクタンス素子を作製する製造
方法。(6) The coil conductor is formed by electroless plating and electroplating (1) to
A manufacturing method for manufacturing the inductance element according to any one of (4).
【0014】(7) 前記コイル導体を厚膜法により形
成する事を特徴とする(1)〜(4)のいずれかのイン
ダクタンス素子を作製する製造方法。(7) A method of manufacturing an inductance element according to any one of (1) to (4), characterized in that the coil conductor is formed by a thick film method.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】本発明のインダクタンス素子は、
基体と、コイル導体と、端子部を備えており、前記基体
は、単量体として少なくともフマル酸ジエステルを含む
単量体組成物を重合して得られた低誘電性高分子材料
(以下、フマレート樹脂と称する)からなることを特徴
とする。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The inductance element of the present invention is
A low dielectric polymer material obtained by polymerizing a monomer composition containing at least fumaric acid diester as a monomer (hereinafter referred to as fumarate) is provided with a base, a coil conductor, and a terminal portion. (Referred to as resin).
【0016】安価で、加工性の良いインダクタンス素子
に用いる樹脂製の基体に要求される性能は優れた高周波
数伝送特性および低誘電特性はもとより、半田付け工程
で必要な耐熱性、コイル製造に必要な導体膜との密着性
およびメッキ工程で必要な耐化学薬品性が必要不可欠で
ある。In addition to high-frequency transmission characteristics and low-dielectric characteristics, which are excellent in performance required for a resin substrate used for an inductance element which is inexpensive and has good workability, heat resistance required in a soldering process and coil manufacturing are required. Adhesion to various conductor films and chemical resistance required in the plating process are essential.
【0017】低誘電率を有する高分子材料としてはポリ
エチレン、ポリプロピレンおよびポリカーボネート等の
熱可塑性樹脂や酸硬化型エポキシ樹脂が挙げられる。し
かし、前者は導体膜との接着性、耐熱性が劣り、基体表
面に導体膜を形成するためには不十分であり、後者は前
者に比べれば耐熱性がやや勝るとはいえ、本発明のフマ
レート樹脂より劣る。Examples of the polymer material having a low dielectric constant include thermoplastic resins such as polyethylene, polypropylene and polycarbonate and acid-curable epoxy resins. However, the former is inferior in adhesiveness to a conductor film and heat resistance and is insufficient for forming a conductor film on the surface of a substrate, and the latter is slightly better in heat resistance than the former, but the present invention Inferior to fumarate resin.
【0018】また、比較的耐熱性および導体膜との密着
性が優れた、ポリフェニレンオキサイドおよびジアリル
フタレート樹脂等の熱硬化性樹脂は誘電率が比較的高い
ため、高周波数用の基体としては不十分である。フマレ
ート樹脂は、特願平8−042072に詳細に説明した
とおり、1.8〜3.0程度の十分に低い比誘電率を有
するため、静電分布容量を減らし、自己共振周波数を高
くすることでQ値の周波数特性を伸ばし、高周波におけ
るロスを減らすことができる。また、金属材料との接着
性が良好であり、かつ耐化学薬品性に優れている。これ
は基体に導体膜を作製する場合に重要な特性であり、良
質な導体膜を基体に形成し、レーザートリミングあるい
は切削により、コイルを作成する場合に導体膜が基体か
ら剥離することを防止する。さらに、本発明の樹脂は2
90℃以上の分解温度を持ち、リフロー炉等による半田
付け工程で必要な耐熱温度230〜260℃を満足して
いる。Further, thermosetting resins such as polyphenylene oxide and diallyl phthalate resins, which are relatively excellent in heat resistance and adhesion to a conductor film, have a relatively high dielectric constant and are therefore insufficient as a substrate for high frequencies. Is. Since the fumarate resin has a sufficiently low relative dielectric constant of about 1.8 to 3.0, as described in detail in Japanese Patent Application No. 8-042072, it is necessary to reduce the electrostatic capacitance and increase the self-resonant frequency. Can extend the frequency characteristic of the Q value and reduce the loss at high frequencies. Further, it has good adhesiveness to a metal material and excellent chemical resistance. This is an important characteristic when forming a conductor film on a substrate, and prevents a conductor film from peeling off from the substrate when forming a coil by forming a good quality conductor film on the substrate and performing laser trimming or cutting. . Further, the resin of the present invention is 2
It has a decomposition temperature of 90 ° C or higher, and satisfies the heat resistant temperature of 230 to 260 ° C required in the soldering process using a reflow furnace or the like.
【0019】本発明の基体は高分子材料であるため、成
形性および加工性が良好である。レーザートリミングに
より、コイルを作製する場合や、基体の成形または切削
加工が容易にできる。すなわち、セラミック等の基体に
比較し、基体を安価に製造することが可能となる。Since the substrate of the present invention is a polymeric material, it has good moldability and processability. By laser trimming, it is possible to easily manufacture a coil, or to mold or cut a substrate. That is, it becomes possible to manufacture the base body at a lower cost than the base body made of ceramic or the like.
【0020】本発明に使用されるフマレート樹脂の原料
となるフマル酸ジエステル単量体は特に限定されるもの
ではないが、式(1)で示される化合物が好ましい。The fumaric acid diester monomer used as a raw material of the fumarate resin used in the present invention is not particularly limited, but the compound represented by the formula (1) is preferable.
【0021】[0021]
【化1】 [Chemical 1]
【0022】(式(1)中、R1はアルキル基またはシ
クロアルキル基を表し、R2はアルキル基、シクロアル
キル基またはアリール基を表し、R1およびR2は同一で
も異なるものでもよい。)
また、本発明に用いるフマレート樹脂は、前記式(1)
で示されるフマル酸ジエステル単量体のみを重合したも
のでもよく、さらに式(2)で示されるビニル系単量体
と共重合したものでもよい。(In the formula (1), R 1 represents an alkyl group or a cycloalkyl group, R 2 represents an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and R 1 and R 2 may be the same or different. ) Further, the fumarate resin used in the present invention has the above formula (1)
The polymer may be obtained by polymerizing only the fumaric acid diester monomer represented by the formula (1) or may be copolymerized with the vinyl-based monomer represented by the formula (2).
【0023】[0023]
【化2】 [Chemical 2]
【0024】(式(2)中、Xは水素原子またはメチル
基を表し、Yはフッ素原子、塩素原子、アルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、エーテル基、アシル基または
エステル基を表す。)
以下、本発明のインダクタンス素子の製造方法について
説明する。(In the formula (2), X represents a hydrogen atom or a methyl group, and Y represents a fluorine atom, a chlorine atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an ether group, an acyl group or an ester group.) A method of manufacturing the inductance element of the present invention will be described.
【0025】フマレート樹脂を切削または押し出し等の
公知の方法によりボビン形状に加工する。このボビン全
面に導体膜を蒸着またはメッキまたは厚膜法等の公知の
成膜技術により形成する。ボビンの端子部を除いた全面
をカッターやレーザートリミング等の機械加工により螺
旋状に溝を形成することにより、コイルを形成する。そ
の後、トリミング部に樹脂等を塗布し、保護層を形成し
たのち、ボビンの端部を電気メッキ等により、電極部を
作製し、インダクタンス素子を得る。The fumarate resin is processed into a bobbin shape by a known method such as cutting or extrusion. A conductor film is formed on the entire surface of this bobbin by a known film forming technique such as vapor deposition, plating, or thick film method. A coil is formed by spirally forming a groove on the entire surface of the bobbin excluding the terminal portion by machining such as a cutter or laser trimming. After that, a resin or the like is applied to the trimming portion to form a protective layer, and then an electrode portion is formed by electroplating the end portion of the bobbin to obtain an inductance element.
【0026】このように本発明は、安価な樹脂基体を用
い、巻線によりコイルを形成すること無く、簡易にイン
ダクタンス素子を得ることが可能である。As described above, according to the present invention, it is possible to easily obtain an inductance element by using an inexpensive resin base and without forming a coil by winding.
【0027】基体形状は、用途に応じて種々の形状とす
ることが可能であるが、プリント基板等に実装する場
合、実装安定性を得るために角柱状とするのが好まし
い。The shape of the substrate may be various according to the application, but when it is mounted on a printed circuit board or the like, it is preferably a prismatic shape in order to obtain mounting stability.
【0028】また、基体に形成する導体としては電気抵
抗率が低く、高周波特性が良好であることから、銅また
は銀を主成分とする金属を用いることが好ましい。ま
た、このときの導体膜の下限には特に限定はないが、通
常0.5μm程度である。導体膜の厚みが0.5μm未
満の場合、導体膜に欠陥を生じたり、導体膜そのものの
電気抵抗値が上昇したりして良好な高周波特性が得られ
ない。Further, as the conductor formed on the substrate, it is preferable to use a metal containing copper or silver as a main component because it has a low electric resistivity and good high frequency characteristics. The lower limit of the conductive film at this time is not particularly limited, but is usually about 0.5 μm. When the thickness of the conductor film is less than 0.5 μm, a good high frequency characteristic cannot be obtained due to defects in the conductor film or an increase in the electric resistance value of the conductor film itself.
【0029】また、上限は厚膜法の場合100μm程度
であるが、通常のメッキ法等の場合、好ましくは50μ
m、さらに好ましくは30μmである。導体の厚さが1
00μmを超える場合は導体膜内の歪みが生じ、導体と
基体との密着性が悪化する。さらに、切削加工あるいは
レーザートリミングに時間を必要とする。また、導体膜
作製のコストがアップする等にも問題点がある。The upper limit is about 100 μm in the thick film method, but is preferably 50 μm in the ordinary plating method.
m, and more preferably 30 μm. Conductor thickness is 1
If it exceeds 00 μm, distortion occurs in the conductor film and the adhesion between the conductor and the substrate deteriorates. Further, it requires time for cutting or laser trimming. There is also a problem in that the cost for producing the conductor film is increased.
【0030】[0030]
[実施例1]式(1)で示されるフマレート樹脂(ジシ
クロヘキシルフマレートのホモポリマ 略称:HDC
H、分子量:800,000)をトルエンに溶解し、角
形容器に注入し、ゴミや埃が入らないようにトルエンを
ゆっくり蒸発させ、厚さ1mmの樹脂板を形成する。こ
の板から切削により図1の角柱形状に加工し、ボビンと
した。Example 1 A fumarate resin represented by the formula (1) (a homopolymer of dicyclohexyl fumarate: HDC)
(H, molecular weight: 800,000) is dissolved in toluene and poured into a rectangular container, and toluene is slowly evaporated so that dust and dirt do not enter to form a resin plate having a thickness of 1 mm. This plate was cut into a prismatic shape as shown in FIG. 1 to obtain a bobbin.
【0031】次に、無電解メッキによりボビンに銅メッ
キをし、さらに電気メッキによりボビンの全面に銅メッ
キ層を20μm形成した。メッキした外周面を螺旋状に
レーザートリミングしてコイル導体を形成した。Next, the bobbin was plated with copper by electroless plating, and a copper plating layer of 20 μm was formed on the entire surface of the bobbin by electroplating. The plated outer peripheral surface was helically laser-trimmed to form a coil conductor.
【0032】トリミング部分に基体と同一のフマレート
樹脂を塗布して保護層を形成した後、端部に電気メッキ
法により、銅、ニッケルおよび錫の三層メッキを施し、
電極部を作製した。これにより図2に示すインダクタン
ス素子を得た。図2において、1は基体、2はメッキ
膜、3は保護層、4は端部のメッキ層を示す。The trimmed portion is coated with the same fumarate resin as the substrate to form a protective layer, and then the end portion is subjected to three-layer plating of copper, nickel and tin by electroplating,
The electrode part was produced. As a result, the inductance element shown in FIG. 2 was obtained. In FIG. 2, 1 is a substrate, 2 is a plated film, 3 is a protective layer, and 4 is an end plated layer.
【0033】このインダクタンス素子を、ヒューレット
パッカード社製のインピーダンスアナライザ(HP41
94A)を用いて(周波数100MHz)Q値を測定し
た。また、ヒューレットパッカード社製のネットワーク
アナライザ(HP8753C)を用いて自己共振周波数
を測定した。また、この素子を260℃の半田浴に2分
間浸した後、外観のフクレ、変色を目視で観察し、耐熱
性の評価を行った。これらの結果を表1に示す。This inductance element is used as an impedance analyzer (HP41
The Q value was measured using (94A) (frequency 100 MHz). Moreover, the self-resonant frequency was measured using a network analyzer (HP8753C) manufactured by Hewlett-Packard Company. After dipping this element in a solder bath at 260 ° C. for 2 minutes, blisters and discoloration of the appearance were visually observed to evaluate heat resistance. The results are shown in Table 1.
【0034】[実施例2]式(1)で示されるフマレー
ト樹脂(ジシクロヘキシルフマレートのホモポリマ 略
称:HDCH、分子量:800,000)をトルエンに
溶解し、角形容器に注入し、ゴミや埃が入らないように
トルエンをゆっくり蒸発させ、厚さ1mmの樹脂板を形
成する。この板から切削により図1の角柱形状に加工
し、ボビンとした。Example 2 A fumarate resin represented by the formula (1) (a homopolymer of dicyclohexyl fumarate, abbreviated as HDCH, molecular weight: 800,000) was dissolved in toluene and poured into a rectangular container to remove dust and dirt. To avoid this, toluene is slowly evaporated to form a resin plate having a thickness of 1 mm. This plate was cut into a prismatic shape as shown in FIG. 1 to obtain a bobbin.
【0035】次に、無電解メッキ法と電気メッキ法を併
用し、このボビンの全面に銀メッキ層を10μm形成し
た。メッキした外周面を螺旋状にレーザートリミングし
てコイル導体を形成した。Next, the electroless plating method and the electroplating method were used together to form a silver plating layer of 10 μm on the entire surface of this bobbin. The plated outer peripheral surface was helically laser-trimmed to form a coil conductor.
【0036】トリミング部分に基体と同一のフマレート
樹脂を塗布して保護層を形成した後、端部に電気メッキ
法により、銀、ニッケルおよび錫の三層メッキを施し、
電極部を作製した。これにより、実施例1と同様の構造
を有するインダクタンス素子を得た。The trimmed portion is coated with the same fumarate resin as that of the substrate to form a protective layer, and then the end portion is subjected to three-layer plating of silver, nickel and tin by electroplating,
The electrode part was produced. As a result, an inductance element having the same structure as in Example 1 was obtained.
【0037】このインダクタンス素子を、ヒューレット
パッカード社製のインピーダンスアナライザ(HP41
94A)を用いて(周波数100MHz)Q値を測定し
た。また、ヒューレットパッカード社製のネットワーク
アナライザ(HP8753C)を用いて自己共振周波数
を測定した。また、この素子を260℃の半田浴に2分
間浸した後、外観のフクレ、変色を目視で観察し、耐熱
性の評価を行った。これらの結果を表1に示す。This inductance element is used as an impedance analyzer (HP41
The Q value was measured using (94A) (frequency 100 MHz). Moreover, the self-resonant frequency was measured using a network analyzer (HP8753C) manufactured by Hewlett-Packard Company. After dipping this element in a solder bath at 260 ° C. for 2 minutes, blisters and discoloration of the appearance were visually observed to evaluate heat resistance. The results are shown in Table 1.
【0038】[実施例3]式(1)で示されるフマレー
ト樹脂(ジシクロヘキシルフマレートとジイソピロピル
フマレートの共重合体 略称:CDIP、分子量:13
00,000)をトルエンに溶解し、角形容器に注入
し、ゴミや埃が入らないようにトルエンをゆっくり蒸発
させ、厚さ1mmの樹脂板を形成する。この板から切削
により図1の角柱形状に加工し、ボビンとした。Example 3 A fumarate resin represented by the formula (1) (copolymer of dicyclohexyl fumarate and diisopyropyr fumarate: abbreviated name: CDIP, molecular weight: 13)
(0,000) is dissolved in toluene and poured into a rectangular container, and toluene is slowly evaporated to prevent dust and dirt from entering to form a resin plate having a thickness of 1 mm. This plate was cut into a prismatic shape as shown in FIG. 1 to obtain a bobbin.
【0039】次に、無電解メッキ法と電気メッキ法を併
用し、このボビンの全面に銅メッキ膜を50μm形成し
た。メッキした外周面を螺旋状にレーザートリミングし
てコイル導体を形成した。Next, an electroless plating method and an electroplating method were used together to form a copper plating film of 50 μm on the entire surface of this bobbin. The plated outer peripheral surface was helically laser-trimmed to form a coil conductor.
【0040】トリミング部分に基体と同一のフマレート
樹脂を塗布して保護層を形成した後、端部に電気メッキ
法により、銅、ニッケルおよび錫の三層メッキを施し、
電極部を作製した。これにより、実施例1と同様の構造
を有するインダクタンス素子を得た。The trimmed portion is coated with the same fumarate resin as that of the substrate to form a protective layer, and then the end portion is plated with three layers of copper, nickel and tin by electroplating.
The electrode part was produced. As a result, an inductance element having the same structure as in Example 1 was obtained.
【0041】このインダクタンス素子を、ヒューレット
パッカード社製のインピーダンスアナライザ(HP41
94A)を用いて(周波数100MHz)Q値を測定し
た。また、ヒューレットパッカード社製のネットワーク
アナライザ(HP8753C)を用いて自己共振周波数
を測定した。結果を表1に示す。This inductance element is used as an impedance analyzer (HP41
The Q value was measured using (94A) (frequency 100 MHz). Moreover, the self-resonant frequency was measured using a network analyzer (HP8753C) manufactured by Hewlett-Packard Company. The results are shown in Table 1.
【0042】[実施例4]式(1)で示されるフマレー
ト樹脂(ジシクロヘキシルフマレートとジイソピロピル
フマレートの共重合体 略称:CDIP、分子量:13
00,000)をトルエンに溶解し、角形容器に注入
し、ゴミや埃が入らないようにトルエンをゆっくり蒸発
させ、厚さ1mmの樹脂板を形成する。この板から切削
により図1の角柱形状に加工し、ボビンとした。Example 4 Fumarate resin represented by the formula (1) (copolymer of dicyclohexyl fumarate and diisopyropyr fumarate: abbreviated name: CDIP, molecular weight: 13)
(0,000) is dissolved in toluene and poured into a rectangular container, and toluene is slowly evaporated to prevent dust and dirt from entering to form a resin plate having a thickness of 1 mm. This plate was cut into a prismatic shape as shown in FIG. 1 to obtain a bobbin.
【0043】次に、このボビンの全面に厚膜法により銀
塗料を塗布し、100μmの導電塗膜を形成した。この
塗膜の外周面を螺旋状にレーザートリミングしてコイル
導体を形成した。Next, a silver paint was applied to the entire surface of this bobbin by a thick film method to form a conductive coating film of 100 μm. The outer peripheral surface of this coating film was spirally laser-trimmed to form a coil conductor.
【0044】トリミング部分に基体と同一のフマレート
樹脂を塗布して保護層を形成した後、端部に電気メッキ
法により、銅、ニッケルおよび錫の三層メッキを施し、
電極部を作製した。これにより、実施例1と同様の構造
を有するインダクタンス素子を得た。The trimmed portion is coated with the same fumarate resin as that of the substrate to form a protective layer, and then the end portion is plated with three layers of copper, nickel and tin by electroplating.
The electrode part was produced. As a result, an inductance element having the same structure as in Example 1 was obtained.
【0045】このインダクタンス素子を、ヒューレット
パッカード社製のインピーダンスアナライザ(HP41
94A)を用いて(周波数100MHz)Q値を測定し
た。また、ヒューレットパッカード社製のネットワーク
アナライザ(HP8753C)を用いて自己共振周波数
を測定した。また、この素子を260℃の半田浴に2分
間浸した後、外観のフクレ、変色を目視で観察し、耐熱
性の評価を行った。これらの結果を表1に示す。This inductance element is used as an impedance analyzer (HP41
The Q value was measured using (94A) (frequency 100 MHz). Moreover, the self-resonant frequency was measured using a network analyzer (HP8753C) manufactured by Hewlett-Packard Company. After dipping this element in a solder bath at 260 ° C. for 2 minutes, blisters and discoloration of the appearance were visually observed to evaluate heat resistance. The results are shown in Table 1.
【0046】[比較例1]実施例1のフマレート樹脂に
代えて住友ベークライト社製の酸硬化型エポキシ樹脂
(THPA硬化)を用いて、他は実施例1と同様の方法
でインダクタンス素子を作成した。Comparative Example 1 An inductance element was prepared in the same manner as in Example 1 except that the fumarate resin of Example 1 was replaced with an acid-curable epoxy resin (THPA curing) manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd. .
【0047】これらのインダクタンス素子を、インピー
ダンスアナライザを用いて(周波数100MHz)比誘
電率、Q値を測定した。また、ネットワークアナライザ
を用いて自己共振周波数を測定した。また、この素子を
260℃の半田浴に2分間浸した後、外観のフクレ、変
色を目視で観察し、耐熱性の評価を行った。これらの結
果を表1に示す。The relative permittivity and Q value of these inductance elements were measured using an impedance analyzer (frequency 100 MHz). The self-resonant frequency was measured using a network analyzer. After dipping this element in a solder bath at 260 ° C. for 2 minutes, blisters and discoloration of the appearance were visually observed to evaluate heat resistance. The results are shown in Table 1.
【0048】[比較例2]実施例1のフマレート樹脂に
代えて松下電工製のポリフェニレンオキサイド(PP
O)を用いて、他は実施例1と同様の方法でインダクタ
ンス素子を作成した。[Comparative Example 2] Instead of the fumarate resin of Example 1, polyphenylene oxide (PP) manufactured by Matsushita Electric Works, Ltd.
O) was used to manufacture an inductance element in the same manner as in Example 1 except for the above.
【0049】これらのインダクタンス素子を、インピー
ダンスアナライザを用いて(周波数100MHz)比誘
電率、Q値を測定した。また、ネットワークアナライザ
を用いて共振周波数を測定した。また、この素子を26
0℃の半田浴に2分間浸した後、外観のフクレ、変色を
目視で観察し、耐熱性の評価を行った。これらの結果を
表1に示す。The relative permittivity and Q value of these inductance elements were measured using an impedance analyzer (frequency 100 MHz). The resonance frequency was measured using a network analyzer. In addition, this element is
After soaking in a solder bath at 0 ° C for 2 minutes, blisters and discoloration of the appearance were visually observed to evaluate heat resistance. The results are shown in Table 1.
【0050】[比較例3]実施例1のフマレート樹脂に
代えて三菱瓦斯化学製のポリカーボネート(PC)を用
いて、他は実施例1と同様の方法でインダクタンス素子
を作成した。[Comparative Example 3] An inductance element was prepared in the same manner as in Example 1 except that polycarbonate (PC) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company was used instead of the fumarate resin of Example 1.
【0051】これらのインダクタンス素子を、インピー
ダンスアナライザを用いて(周波数100MHz)比誘
電率、Q値を測定した。また、ネットワークアナライザ
を用いて共振周波数を測定した。また、この素子を26
0℃の半田浴に2分間浸した後、外観のフクレ、変色を
目視で観察し、耐熱性の評価を行った。これらの結果を
表1に示す。The relative permittivity and Q value of these inductance elements were measured using an impedance analyzer (frequency 100 MHz). The resonance frequency was measured using a network analyzer. In addition, this element is
After soaking in a solder bath at 0 ° C for 2 minutes, blisters and discoloration of the appearance were visually observed to evaluate heat resistance. The results are shown in Table 1.
【0052】[比較例4]実施例1のフマレート樹脂に
代えて旭有機材料製のジアリルフタレート(DAP)を
用いて、他は実施例1と同様の方法でインダクタンス素
子を作成した。Comparative Example 4 An inductance element was prepared in the same manner as in Example 1 except that diallyl phthalate (DAP) made by Asahi Organic Material was used instead of the fumarate resin of Example 1.
【0053】これらのインダクタンス素子を、インピー
ダンスアナライザを用いて(周波数100MHz)比誘
電率、Q値を測定した。また、ネットワークアナライザ
を用いて共振周波数を測定した。また、この素子を26
0℃の半田浴に2分間浸した後、外観のフクレ、変色を
目視で観察し、耐熱性の評価を行った。これらの結果を
表1に示す。この表1で比較例として挙げたものは、従
来一般的に使用されている材質を採用したものである。The relative permittivity and Q value of these inductance elements were measured using an impedance analyzer (frequency 100 MHz). The resonance frequency was measured using a network analyzer. In addition, this element is
After soaking in a solder bath at 0 ° C for 2 minutes, blisters and discoloration of the appearance were visually observed to evaluate heat resistance. The results are shown in Table 1. The materials listed as comparative examples in Table 1 are materials that are generally used in the past.
【0054】[0054]
【表1】 [Table 1]
【0055】表1において、基体特性の比誘電率および
Q値は1mm角で長さ120mmのサンプルを作成し、
特願平8−127996の誘電特性測定装置(通称:摂
動法)により、1GHzの周波数で測定した値である。
また、素子の自己共振周波数およびQ値は100MHz
の周波数で測定した値である。In Table 1, a sample having a relative dielectric constant and a Q value of the substrate characteristics of 1 mm square and a length of 120 mm was prepared.
It is a value measured at a frequency of 1 GHz by a dielectric property measuring device (commonly known as a perturbation method) of Japanese Patent Application No. 8-127996.
Also, the self-resonant frequency and Q value of the device are 100MHz.
It is the value measured at the frequency.
【0056】また、半田耐熱性の評価はコイルを260℃
の半田浴に2分間浸し、外観のフクレ、変色を目視で判
定し、○は異常が認められなかったインダクタンス素
子、×は異常が認められたインダクタンス素子を示す。The solder heat resistance is evaluated by setting the coil at 260 ° C.
It is soaked in the solder bath of No. 2 for 2 minutes, and blister and discoloration of the appearance are visually judged. O indicates an inductance element in which no abnormality is observed, and X indicates an inductance element in which abnormality is observed.
【0057】表1の実施例1および3の素子特性は基体
に用いるフマレート樹脂の種類および導体の厚みによら
ず、素子の高い自己共振周波数およびQ値を示す。一
方、比較例1は自己共振周波数が実施例とほぼ同じで有
るが、Q値が劣り、高周波用の素子としては不十分であ
る。また、一般的に電子部品に使用される樹脂を用いた
比較例2〜4は自己共振周波数およびQ値が劣り、さら
に、不向きである。The device characteristics of Examples 1 and 3 in Table 1 show high self-resonant frequency and Q value of the device regardless of the type of fumarate resin used for the substrate and the thickness of the conductor. On the other hand, although the self-resonance frequency of Comparative Example 1 is almost the same as that of the example, the Q value is inferior, and it is insufficient as a high frequency element. Further, Comparative Examples 2 to 4 using a resin generally used for electronic parts are inferior in self-resonance frequency and Q value, and are not suitable.
【0058】実施例2および4は導体の材質、厚みおよ
びコイルの巻数が異なった場合の実施例であり、高性能
インダクダンス素子としての特性を十分に満足してい
る。Examples 2 and 4 are examples in which the material and thickness of the conductor and the number of turns of the coil are different, and the characteristics as a high-performance inductance element are sufficiently satisfied.
【0059】また、半田耐熱性に関して実施例はすべて
良好であるのに対し、比較例は半田処理が不能であり、
半田以外の適当な処理を必要とする。このことは本発明
により、従来得られなかった高効率インダクタンス素子
を容易な方法で製造できる事を意味する。即ち、本発明
は特性の向上およびコストダウンと言う両面で顕著な効
果を奏するものである。All of the examples are good in terms of soldering heat resistance, while the comparative example is incapable of soldering.
Appropriate processing other than soldering is required. This means that the present invention makes it possible to manufacture a high-efficiency inductance element, which has never been obtained, by a simple method. That is, the present invention has remarkable effects in terms of both improvement of characteristics and cost reduction.
【0060】[0060]
【発明の効果】以上のように本発明は基体と、コイル導
体と、端子部を備えたインダクタの基体が単量体として
フマル酸ジエステルを含む単量体組成物を重合して得ら
れた低誘電性高分子材料からなり、コイル導体および端
子部が導体膜により形成することにより、移動体通信機
器に実装される素子の小型化、高性能化および低コスト
化の要求を満足する素子を工業的生産し、市場に供給を
可能とするものである。INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, according to the present invention, the substrate of the inductor having the substrate, the coil conductor, and the terminal portion is obtained by polymerizing the monomer composition containing the fumaric acid diester as a monomer. Industrialized device that is made of dielectric polymer material and that satisfies the requirements of downsizing, high performance, and cost reduction of devices mounted in mobile communication devices by forming coil conductors and terminals with conductive films. It can be produced statically and supplied to the market.
【図1】本発明のインダクタンス素子に使用する基体の
一例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an example of a substrate used for an inductance element of the present invention.
【図2】本発明のインダクタンス素子の一例の形態を示
す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing a form of an example of an inductance element of the present invention.
1 インダクタンス素子の基体 2 導体層(メッキ膜) 3 保護層 4 端部のメッキ層 1 Inductance element substrate 2 Conductor layer (plating film) 3 protective layer 4 Edge plating layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−10704(JP,A) 特開 平3−37257(JP,A) 特開 平7−297033(JP,A) 特開 平7−57936(JP,A) 特開 平9−208627(JP,A) 特開 平10−189344(JP,A) 特開 平8−181019(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01F 17/00 H01F 27/29 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A 2-10704 (JP, A) JP-A 3-37257 (JP, A) JP-A 7-297033 (JP, A) JP-A 7- 57936 (JP, A) JP 9-208627 (JP, A) JP 10-189344 (JP, A) JP 8-181019 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01F 17/00 H01F 27/29
Claims (7)
インダクタンス素子であって、前記基体が単量体として
少なくともフマル酸ジエステルを含む単量体組成物を重
合して得られた低誘電性高分子材料からなり、コイル導
体および端子部が導電性を有する膜により形成されてい
ることを特徴とするインダクタンス素子。1. An inductance element comprising a substrate, a coil conductor, and a terminal portion, wherein the substrate has a low dielectric constant obtained by polymerizing a monomer composition containing at least fumaric acid diester as a monomer. An inductance element comprising a conductive polymer material, wherein the coil conductor and the terminal portion are formed of a conductive film.
る請求項1のインダクタンス素子。2. The inductance element according to claim 1, wherein the base has a prismatic shape.
する材料からなることを特徴とする請求項1または2の
インダクタンス素子。3. The inductance element according to claim 1, wherein the coil conductor is made of a material containing copper or silver as a main component.
μmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1
項記載のインダクタンス素子。4. The coil conductor has a thickness of 0.5 to 100.
μm, any one of claims 1 to 3 characterized in that
Inductance element according to the paragraph.
成することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記
載のインダクタンス素子を作製する製造方法。5. The method for producing an inductance element according to claim 1, wherein the coil conductor is formed by electroless plating.
気メッキにより形成する事を特徴とする請求項1〜4の
いずれか1項記載のインダクタンス素子を作製する製造
方法。6. The method for producing an inductance element according to claim 1, wherein the coil conductor is formed by electroless plating and electroplating.
事を特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載のイン
ダクタンス素子を作製する製造方法。7. The manufacturing method for producing an inductance element according to claim 1, wherein the coil conductor is formed by a thick film method.
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