JP3396872B2 - Voltage detection circuit and high voltage output circuit - Google Patents

Voltage detection circuit and high voltage output circuit

Info

Publication number
JP3396872B2
JP3396872B2 JP03635692A JP3635692A JP3396872B2 JP 3396872 B2 JP3396872 B2 JP 3396872B2 JP 03635692 A JP03635692 A JP 03635692A JP 3635692 A JP3635692 A JP 3635692A JP 3396872 B2 JP3396872 B2 JP 3396872B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
circuit
detection circuit
field effect
voltage detection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP03635692A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH05234389A (en
Inventor
工 宮下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP03635692A priority Critical patent/JP3396872B2/en
Publication of JPH05234389A publication Critical patent/JPH05234389A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3396872B2 publication Critical patent/JP3396872B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Power Sources (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】〔目次〕 産業上の利用分野 従来の技術(図9,10) 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段(図1,2) 作用 実施例 (1)第1の実施例の説明(図3,4) (2)第2の実施例の説明(図5,6) (3)第3の実施例の説明(図7,8) 発明の効果[Table of Contents] Industrial applications Conventional technology (Figs. 9 and 10) Problems to be Solved by the Invention Means for Solving the Problems (FIGS. 1 and 2) Action Example (1) Description of the first embodiment (FIGS. 3 and 4) (2) Description of the second embodiment (FIGS. 5 and 6) (3) Description of the third embodiment (FIGS. 7 and 8) The invention's effect

【0002】[0002]

【産業上の利用分野】本発明は、電圧検出回路及び高電
圧出力回路に関するものであり、更に詳しく言えば、不
揮発性記憶装置(EEPROM,EPROM,フラッシ
ュ型のEPROM)やLCD(Liquid Crystal Dis
play)装置のデータ書込みに係る高電圧を検出する回路
及びその出力装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a voltage detection circuit and a high voltage output circuit, and more specifically, to a nonvolatile memory device (EEPROM, EPROM, flash type EPROM) or LCD (Liquid Crystal Disk).
circuit) and a device for outputting the same, which detects a high voltage for writing data in the device.

【0003】近年、情報処理装置の高性能化、高機能化
及び多様化の要求に伴い、各種データに係わり紫外線消
去再書込み可能な読出し専用メモリ(以下単にEPRO
Mという)や電気的に消去再書込み可能な読出し専用メ
モリ(EEPROM)等の不揮発性半導体記憶装置がI
Cカードや家電製品等を制御するマイクロコンピュータ
に組み込まれている。また、そのサポートツールとして
画像表示をする液晶表示(LCD)装置が使用されてい
る。
In recent years, with the demand for higher performance, higher functionality and diversification of information processing devices, a read-only memory (hereinafter simply referred to as EPRO) capable of erasing and rewriting ultraviolet rays relating to various data.
Non-volatile semiconductor memory device such as a read-only memory (EEPROM) that is electrically erasable and rewritable
It is built into a microcomputer that controls C cards and home appliances. In addition, a liquid crystal display (LCD) device that displays an image is used as a support tool.

【0004】ところで、従来例のEEPROM,EPR
OM,フラッシュ型のEPROM及びLCD装置等のデ
ータ書込みをする際に、その書込み電圧を検出する回路
は、その高電圧を分圧するレベル変換回路や被比較電圧
を検出する電圧比較部から成り、例えば、その電圧制御
は被比較電圧と基準電圧とを比較することにより行われ
ている。
By the way, the conventional EEPROM, EPR
The circuit for detecting the write voltage when writing data in the OM, flash type EPROM, LCD device, etc. is composed of a level conversion circuit for dividing the high voltage and a voltage comparison section for detecting the compared voltage. The voltage control is performed by comparing the compared voltage with the reference voltage.

【0005】このため、電圧検出系のトランジスタの閾
値電圧のバラつきにより、被比較電圧の出力がバラつい
て、その精度良い出力制御の妨げとなることがある。そ
こで、EEPROM,EPROM,フラッシュ型のEP
ROM等の負荷回路に供給する電圧の検出系を工夫し
て、該負荷回路を構成するトランジスタの耐圧に依存し
た電圧制御を行うこと、その幅広い電圧出力制御を行う
こと、及び、その信頼性の向上を図ることができる回路
や装置が望まれている。
Therefore, variations in the threshold voltage of the transistors of the voltage detection system may cause variations in the output of the compared voltage, which may hinder accurate output control. Therefore, EEPROM, EPROM, flash type EP
By devising a detection system for a voltage supplied to a load circuit such as a ROM to perform voltage control depending on the breakdown voltage of a transistor forming the load circuit, to perform a wide range of voltage output control, and to improve its reliability. There is a demand for a circuit and a device that can be improved.

【0006】[0006]

【従来の技術】図9,10は、従来例に係る説明図であ
る。図9(a),(b)は、従来例に係る高電圧出力回
路及び電圧検出回路の構成図であり、図9(a)は、従
来例に係るEPROM(メモリ素子)の書込み電圧供給
回路の構成図を示している。
2. Description of the Related Art FIGS. 9 and 10 are explanatory views of a conventional example. 9A and 9B are configuration diagrams of a high voltage output circuit and a voltage detection circuit according to a conventional example, and FIG. 9A is a write voltage supply circuit for an EPROM (memory element) according to the conventional example. FIG.

【0007】例えば、EPROMの書込み電圧供給回路
やLCD装置の駆動電圧出力回路等に適用される高電圧
出力回路は、図9(a)において、電圧検出回路1及び
高電圧発生回路2から成る。なお、電圧検出回路1は高
電圧発生回路2の被検出点p1に接続され、それがレベ
ル変換回路1A及び電圧比較回路1Bから成る。
For example, a high voltage output circuit applied to a write voltage supply circuit of an EPROM, a drive voltage output circuit of an LCD device, or the like comprises a voltage detection circuit 1 and a high voltage generation circuit 2 in FIG. 9 (a). The voltage detection circuit 1 is connected to the detected point p1 of the high voltage generation circuit 2, and it is composed of a level conversion circuit 1A and a voltage comparison circuit 1B.

【0008】また、当該高電圧出力回路の機能は、例え
ば、EPROM3にデータを再書込みする場合に、予
め、該再書込みに係る電圧VPPに対して、当該電圧検出
回路1に基準電圧Vref が設定されると、高電圧発生回
路2から電圧VPPが出力され、該電圧VPPがEPROM
3の書込み回路に供給される。
The function of the high voltage output circuit is, for example, when rewriting data in the EPROM 3, a reference voltage Vref is set in the voltage detecting circuit 1 in advance with respect to the voltage VPP related to the rewriting. Then, the high voltage generating circuit 2 outputs the voltage VPP, which is the EPROM.
3 write circuit.

【0009】この際に、電圧検出回路1のレベル変換回
路1Aでは、該電圧VPPが被比較電圧vとなる低電圧に
レベル変換され、該被比較電圧vと基準電圧Vref とが
電圧比較回路1Bにより比較され、その電圧検出信号S
Vが高電圧発生回路2に帰還され、該高電圧発生回路2
では電圧検出信号SVに基づいて電圧VPPが一定出力さ
れる。
At this time, in the level conversion circuit 1A of the voltage detection circuit 1, the voltage VPP is level-converted into a low voltage which becomes the compared voltage v, and the compared voltage v and the reference voltage Vref are compared. And the voltage detection signal S
V is fed back to the high voltage generation circuit 2 and the high voltage generation circuit 2
Then, the voltage VPP is constantly output based on the voltage detection signal SV.

【0010】なお、図9(b),図10(a),(b)
は、従来例に係る高電圧発生回路2に適用される電圧検
出回路の構成例を示している。例えば、図9(b)にお
いて、被比較電圧vに係わり、再書込みに係る電圧VPP
をトランジスタにより分圧する第1の電圧検出回路はn
個のn型のエンハンスメント電界効果トランジスタTN
e と、1個のn型のディプレッション電界効果トランジ
スタTNd から成るレベル変換回路1Aと、低電圧源V
CCに接続されたコンパレータCOMP ,インバータIN及
び基準電圧Vref を生成する抵抗R及びn型のディプレ
ッション電界効果トランジスタTNd から成る電圧比較
回路1Bから構成される。
Incidentally, FIG. 9 (b), FIG. 10 (a), (b)
Shows a configuration example of a voltage detection circuit applied to the high voltage generation circuit 2 according to the conventional example. For example, in FIG. 9B, the voltage VPP related to rewriting is related to the compared voltage v.
The first voltage detection circuit that divides the
N-type enhancement field effect transistors TN
e, a level conversion circuit 1A composed of one n-type depletion field effect transistor TNd, and a low voltage source V
It is composed of a comparator COMP connected to CC, an inverter IN, a resistor R for generating a reference voltage Vref, and a voltage comparison circuit 1B composed of an n-type depletion field effect transistor TNd.

【0011】また、図10(a)において、再書込みに係
る電圧VPPに対して、基準電圧Vref が固定される第2
の電圧検出回路は、ダイオードD,基準抵抗Rrから成
るレベル変換回路1Aと、低電圧源VCCに接続されたコ
ンパレータCOMP ,インバータIN及び基準電圧Vref
を生成する抵抗R及び定電流源Iから成る電圧比較回路
1Bから成る。
Further, in FIG. 10A, the second reference voltage Vref is fixed with respect to the rewriting voltage VPP.
Is a level conversion circuit 1A composed of a diode D and a reference resistor Rr, a comparator COMP connected to a low voltage source VCC, an inverter IN and a reference voltage Vref.
The voltage comparator circuit 1B is composed of a resistor R and a constant current source I.

【0012】さらに、図10(b)において、再書込みに
係る電圧VPPに対して、基準電圧Vref が可変される第
3の電圧検出回路は、ダイオードD,基準抵抗Rrから
成るレベル変換回路1Aと、4個のp型のエンハンスメ
ント電界効果トランジスタTPe ,4個のn型のディプ
レッション電界効果トランジスタTNd ,4個のスイッ
チング素子SW及び2個のn型のエンハンスメント電界
効果トランジスタTNe から成る可変電圧比較回路1C
から構成される。
Further, in FIG. 10B, the third voltage detection circuit in which the reference voltage Vref is variable with respect to the voltage VPP related to rewriting is the level conversion circuit 1A composed of the diode D and the reference resistance Rr. A variable voltage comparison circuit 1C including four p-type enhancement field effect transistors TPe, four n-type depletion field effect transistors TNd, four switching elements SW and two n-type enhancement field effect transistors TNe.
Composed of.

【0013】なお、第1,第2の電圧検出回路では、基
準電圧Vref が固定されることから再書込みに係る制御
目標電圧VPPが一定値である。これに対して、第2の電
圧検出回路では基準電圧Vref が可変されることから再
書込みに係る目標電圧VPPがある制御範囲に設定するこ
とができる。
In the first and second voltage detection circuits, since the reference voltage Vref is fixed, the control target voltage VPP for rewriting has a constant value. On the other hand, since the reference voltage Vref is variable in the second voltage detection circuit, the target voltage VPP for rewriting can be set within a certain control range.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来例の第
1の電圧検出回路によれば、図9(b)に示すように、
被比較電圧vに係わり、レベル変換回路1Aのn個のn
型のエンハンスメント電界効果トランジスタTNe によ
り再書込みに係る電圧VPPを分圧して得ている。
By the way, according to the first voltage detecting circuit of the conventional example, as shown in FIG.
The n number of n of the level conversion circuit 1A are related to the compared voltage v.
The voltage VPP for rewriting is divided and obtained by the enhancement type field effect transistor TNe of the type.

【0015】このため、当該n個のエンハンスメント電
界効果トランジスタTNe の閾値電圧のバラつきによ
り、被比較電圧vの出力がバラつきを生じる。これは、
エンハンスメント電界効果トランジスタTNe の製造プ
ロセスのバラつき、例えば、不純物イオン注入の制御の
困難性により変動するものと考えられる。
Therefore, the output of the compared voltage v varies due to variations in the threshold voltage of the n enhancement field effect transistors TNe. this is,
It is considered that it varies due to variations in the manufacturing process of the enhancement field effect transistor TNe, for example, the difficulty of controlling the impurity ion implantation.

【0016】このことで、電圧比較回路1Bから高電圧
発生回路2に帰還される電圧検出信号SVがバラつき、
該高電圧発生回路2による電圧VPPの精度良い出力制御
の妨げとなる。
As a result, the voltage detection signal SV fed back from the voltage comparison circuit 1B to the high voltage generation circuit 2 varies,
This hinders accurate output control of the voltage VPP by the high voltage generation circuit 2.

【0017】また、従来例の第2の電圧検出回路によれ
ば、図10(a)に示すように、被比較電圧vに係わり、
レベル変換回路1AのダイオードDの電子なだれ(Ava
lnche Breakdown)現象を利用することにより、再書込
みに係る電圧VPPを検出している。
Further, according to the second voltage detection circuit of the conventional example, as shown in FIG.
Electron avalanche of diode D of level conversion circuit 1A (Ava
The voltage VPP related to rewriting is detected by utilizing the lnche Breakdown phenomenon.

【0018】このため、EPROM3のデータData の
再書込みをする電圧VPP,例えば、12.5〜30〔V〕程
度に対して電圧検出系の駆動電源VCCを低電圧,例え
ば、3〜5〔V〕程度に設計する要求があった場合に、
その逆耐電圧が高く設定されたダイオードDを使用しな
ければならない。このことで、基準抵抗Rrに流れる電
子なだれ電流が大きくなる。
For this reason, the drive voltage Vcc of the voltage detection system is low, for example, about 3 to 5 [V] for the voltage VPP for rewriting the data Data of the EPROM 3, for example, about 12.5 to 30 [V]. If there is a request to design
The diode D whose reverse withstand voltage is set high must be used. As a result, the electron avalanche current flowing through the reference resistor Rr increases.

【0019】さらに、従来例の第3の電圧検出回路によ
れば、図10(b)に示すように、被比較電圧vに係わ
り、第2の電圧検出回路と同様に、レベル変換回路1A
のダイオードDの電子なだれ現象を利用することによ
り、再書込みに係る電圧VPPを検出して、その被比較電
圧vを可変電圧比較回路1Cによりスイッチング素子S
Wを選択することで、電圧検出信号SVに係わり、
「粗」,「密」に制御している。
Further, according to the third conventional voltage detecting circuit, as shown in FIG. 10 (b), the level converting circuit 1A is related to the compared voltage v and is similar to the second voltage detecting circuit.
By utilizing the electron avalanche phenomenon of the diode D, the voltage VPP related to rewriting is detected, and the compared voltage v is changed by the variable voltage comparison circuit 1C to the switching element S.
By selecting W, it is related to the voltage detection signal SV,
The control is "coarse" and "fine".

【0020】このため、電圧比較回路1Bから高電圧発
生回路2に帰還される電圧検出信号SVが段階的にな
り、該高電圧発生回路2による電圧VPPの円滑な出力制
御の妨げとなる。このことで、当該電圧VPPが供給され
るEPROM3の書込み回路(以下単に負荷回路ともい
う)を構成するトランジスタの耐圧に依存した幅広い電
圧出力制御を行うことが困難となる。
Therefore, the voltage detection signal SV fed back from the voltage comparison circuit 1B to the high voltage generation circuit 2 becomes stepwise, which hinders the smooth output control of the voltage VPP by the high voltage generation circuit 2. This makes it difficult to perform a wide voltage output control depending on the breakdown voltage of a transistor that forms the write circuit (hereinafter, also simply referred to as a load circuit) of the EPROM 3 to which the voltage VPP is supplied.

【0021】これにより、第1〜第3の電圧検出回路の
信頼性の低下から当該電圧VPPが供給されるEPROM
3の絶縁が脅かされたり、所望のデータ書込みや消去処
理を行うことができずに、無駄な時間を費やすという問
題がある。なお、当該電圧検出回路の内蔵するEPRO
M3では信頼性の低下を招く。
As a result, since the reliability of the first to third voltage detection circuits is lowered, the EPROM to which the voltage VPP is supplied is supplied.
There is a problem that the insulation of No. 3 is threatened, the desired data writing and erasing processing cannot be performed, and wasteful time is spent. The EPRO built in the voltage detection circuit
In M3, the reliability is lowered.

【0022】本発明は、かかる従来例の問題点に鑑み創
作されたものであり、負荷回路に供給する電圧の検出系
を工夫して、該負荷回路を構成するトランジスタの耐圧
に依存した電圧制御を行うこと、その幅広い電圧出力制
御を行うこと、及び、その信頼性の向上を図ることが可
能となる電圧検出回路及び高電圧出力回路の提供を目的
とする。
The present invention has been made in view of the problems of the conventional example, and devises the detection system of the voltage supplied to the load circuit to control the voltage depending on the breakdown voltage of the transistor constituting the load circuit. It is an object of the present invention to provide a voltage detection circuit and a high voltage output circuit capable of performing a wide range of voltage output control and improving its reliability.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】図1(a)〜(d)は、
本発明に係る電圧検出回路の原理図であり、図2は本発
明に係る高電圧出力回路の原理図をそれぞれ示してい
る。
[Means for Solving the Problems] FIGS.
FIG. 3 is a principle diagram of a voltage detection circuit according to the present invention, and FIG. 2 is a principle diagram of a high voltage output circuit according to the present invention.

【0024】本発明の第1の電圧検出回路は、図1
(a)に示すように、被電圧検出部p1と接地線GND
との間に接続され、かつ、該被電圧検出部p1に係る第
1の電圧V1に基づいて該第1の電圧V1より小さい第
2の電圧V2を出力する電圧出力回路11と、前記第2
の電圧V2に基づいて該被電圧検出部p1に係る電圧検
出信号SVを出力する信号検出回路12とを具備し、少
なくとも、前記被電圧検出部p1を含む第1の電圧V1
の供給線に第1の電界効果トランジスタ13のソース電
極或いはドレイン電極のいずれか一方が接続されるとと
もに、前記第1の電界効果トランジスタ13のウエル部
が接地線GNDに接続され、更に前記電圧出力回路11
と前記信号検出回路12とを接続する接続点に前記ウエ
ル部が接続され、前記第1の電界効果トランジスタ13
のブレークダウン電圧はゲート電圧によって制御される
ことを特徴とする。
The first voltage detection circuit of the present invention is shown in FIG.
As shown in (a), the voltage detection part p1 and the ground line GND
A voltage output circuit 11 connected between the second voltage V1 and the second voltage V2 which is lower than the first voltage V1 based on the first voltage V1 of the voltage-detected part p1;
And a signal detection circuit 12 for outputting a voltage detection signal SV relating to the voltage detection part p1 based on the voltage V2 of the first voltage V1 including at least the voltage detection part p1.
Is connected to either the source electrode or the drain electrode of the first field effect transistor 13, the well portion of the first field effect transistor 13 is connected to the ground line GND, and the voltage output Circuit 11
The well portion is connected to a connection point connecting the signal detection circuit 12 with the first field effect transistor 13
The breakdown voltage is controlled by the gate voltage.

【0025】また、本発明の第2の電圧検出回路は、図
1(a)に示すように、前記第1の電圧検出回路におい
て、前記電圧出力回路11と前記信号検出回路12とを
接続する接続点p2と被電圧検出部p1との間に、図1
(c)、(d)に示す第2の電界効果トランジスタ14
A又はダイオード14Bが接続され、該第2の電界効果
トランジスタ14Aのブレークダウン電圧はゲート電圧
によって制御されることを特徴とする。
In the second voltage detection circuit of the present invention, as shown in FIG. 1A, the voltage output circuit 11 and the signal detection circuit 12 are connected to each other in the first voltage detection circuit. Between the connection point p2 and the voltage detection part p1,
Second field effect transistor 14 shown in (c) and (d)
A or a diode 14B is connected, and the breakdown voltage of the second field effect transistor 14A is controlled by the gate voltage.

【0026】更に、本発明の別の電圧検出回路は、図3
(a)、(b)に示すように、カソードが電圧供給線V
PPと電気的に接続され、アノードが接地線と電気的に接
続されたダイオードDrと、一導電型半導体基板内の反
対導電型ウエル上にゲート電極13Dが形成され、該ゲ
ート電極13Dの片側の前記ウエル表面に一導電型不純
物拡散領域13Cを有すると共に、該不純物拡散領域1
3Cが前記ダイオードDrのカソードと電気的に接続さ
れ、且つ、前記ウエルが前記ダイオードDrのアノード
と電気的に接続された変形電界効果トランジスタ23
と、前記ダイオードDrのアノードの電圧が入力され、
該電圧に基づいて前記電圧供給線の電圧を制御する電圧
検出信号SVを出力する信号検出回路22と、を備え、
前記変形電界効果トランジスタ23のゲート電圧により
該変形電界効果トランジスタ23のブレーク電圧を制御
することを特徴とする。
Further, another voltage detecting circuit of the present invention is shown in FIG.
As shown in (a) and (b), the cathode is the voltage supply line V.
A diode Dr, which is electrically connected to PP and whose anode is electrically connected to a ground line, and a gate electrode 13D are formed on a well of opposite conductivity type in a semiconductor substrate of one conductivity type. One side of the gate electrode 13D is formed. The well surface has an impurity diffusion region 13C of one conductivity type and the impurity diffusion region 1
A modified field effect transistor 23 in which 3C is electrically connected to the cathode of the diode Dr, and the well is electrically connected to the anode of the diode Dr.
And the voltage of the anode of the diode Dr is input,
A signal detection circuit 22 that outputs a voltage detection signal SV that controls the voltage of the voltage supply line based on the voltage,
The break voltage of the modified field effect transistor 23 is controlled by the gate voltage of the modified field effect transistor 23.

【0027】さらに、本発明の高電圧出力回路は、図2
に示すように負荷回路18に電圧VPPを供給する可変電
圧供給手段16と、前記電圧VPPを検出して前記可変電
圧供給手段16に電圧検出信号SVを出力する電圧検出
手段17とを具備し、前記電圧検出手段17が第1又は
第2の電圧検出回路、又は上記別の電圧検出回路からな
ることを特徴とする。
Further, the high voltage output circuit of the present invention is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the load circuit 18 is provided with a variable voltage supply means 16 for supplying a voltage VPP, and a voltage detection means 17 for detecting the voltage VPP and outputting a voltage detection signal SV to the variable voltage supply means 16. It is characterized in that the voltage detecting means 17 comprises a first or second voltage detecting circuit or another voltage detecting circuit.

【0028】[0028]

【0029】[0029]

【0030】[0030]

【作 用】本発明の第1の電圧検出回路によれば、図1
(a)に示すように電圧出力回路11及び信号検出回路
12が具備され、被電圧検出部p1を含む第1の電圧V
1の供給線に電流検出用ダミー電界効果トランジスタ1
3が接続される。
[Operation] According to the first voltage detection circuit of the present invention, FIG.
As shown in (a), the voltage output circuit 11 and the signal detection circuit 12 are provided, and the first voltage V including the voltage-detected portion p1.
1 current supply dummy field effect transistor 1
3 are connected.

【0031】例えば、被電圧検出部p1と接地線GNDと
の間に接続された電圧出力回路11により、該検出部p
1に係る第1の電圧V1が、該電圧V1よりも低い電圧
レベル(V2<V1)に変換され、それが信号検出回路
12に出力される。
For example, by the voltage output circuit 11 connected between the voltage detection part p1 and the ground line GND, the detection part p
The first voltage V1 according to No. 1 is converted to a voltage level (V2 <V1) lower than the voltage V1 and is output to the signal detection circuit 12.

【0032】また、被電圧検出部p1と接地線GNDとの
間に接続された電流検出用ダミー電界効果トランジスタ
13,例えば、そのバックゲートにバイアス素子15が
直列に接続され、かつ、そのバイアス素子15が接地線
GNDに接続された電流検出用ダミー電界効果トランジス
タ13により、該検出部p1に係る第1の電圧V1より
も低い電圧レベルに変換された電圧が信号検出回路12
に出力される。
In addition, a current detecting dummy field effect transistor 13 connected between the voltage-detected portion p1 and the ground line GND, for example, a bias element 15 is connected in series to its back gate, and the bias element is connected to the bias element 15. A voltage converted into a voltage level lower than the first voltage V1 of the detection section p1 by the current detection dummy field effect transistor 13 of which 15 is connected to the ground line GND is a signal detection circuit 12
Is output to.

【0033】この際に、電流検出用ダミー電界効果トラ
ンジスタ13では、ゲート電圧Vg1と第1の電圧V1に
基づくゲートジャンクションのブレークダウン現象によ
り被電圧検出部p1からバックゲートに電流が流れ、こ
れに基づいてバイアス素子15に電圧降下が生じる。な
お、この電圧検出情報は電圧出力回路11でレベル変換
された第2の電圧V2と共に信号検出回路12に出力さ
れる。
At this time, in the dummy field effect transistor 13 for current detection, a current flows from the voltage detection part p1 to the back gate due to the breakdown phenomenon of the gate junction based on the gate voltage Vg1 and the first voltage V1. As a result, a voltage drop occurs in the bias element 15. The voltage detection information is output to the signal detection circuit 12 together with the second voltage V2 whose level has been converted by the voltage output circuit 11.

【0034】このため、電流検出用ダミー電界効果トラ
ンジスタ13のゲート電圧vg1を可変制御することで、
ゲートジャンクションのブレーク電圧VBDをVBD≒VBD
0+vg1とする電圧制御を行うことが可能となる。但
し、ブレーク電圧VBD1はゲート電圧vg1=0の時のブ
レーク電圧である。
Therefore, by variably controlling the gate voltage vg1 of the current detecting dummy field effect transistor 13,
Break voltage VBD of the gate junction is VBD ≈ VBD
It is possible to control the voltage at 0 + vg1. However, the break voltage VBD1 is a break voltage when the gate voltage vg1 = 0.

【0035】このことで、従来例のように、当該電圧検
出回路を構成するトランジスタの閾値電圧がバラついた
場合であっても、ゲート電圧vg1を可変制御することに
より、被比較電圧となる第2の電圧V2を安定性良く出
力することが可能となる。
As a result, even if the threshold voltage of the transistor forming the voltage detection circuit varies as in the conventional example, the gate voltage vg1 is variably controlled to become the compared voltage. It is possible to output the voltage V2 of 2 with good stability.

【0036】これにより、精度良い電圧検出信号SVに
基づいて他の回路の出力制御を信頼性良く行うことが可
能となる。本発明の第2の電圧検出回路によれば、図1
(a)に示すように第1の電圧検出回路において、電圧
変換回路11と信号検出回路12とを接続する点p2と
被電圧検出部p1と間に電流検出用ダミー電界効果トラ
ンジスタ13を補助する電圧検出補助素子14が接続さ
れる。
As a result, the output control of the other circuits can be performed with high reliability based on the accurate voltage detection signal SV. According to the second voltage detection circuit of the present invention, FIG.
As shown in (a), in the first voltage detection circuit, the current detection dummy field effect transistor 13 is assisted between the point p2 connecting the voltage conversion circuit 11 and the signal detection circuit 12 and the voltage detection part p1. The voltage detection auxiliary element 14 is connected.

【0037】例えば、電界効果トランジスタ14A又はダ
イオード14Bから成る電圧検出補助素子14が被電圧検
出部p1と接続点p2との間に接続される。このため、
該検出部p1に係る第1の電圧V1が、電圧出力回路1
1,電流検出用ダミー電界効果トランジスタ13,電界
効果トランジスタ14A及びダイオード14Bにより、該電
圧V1よりも低い電圧レベル(V2<V1)に変換さ
れ、それが信号検出回路12に集合して出力される。
For example, the voltage detection auxiliary element 14 composed of the field effect transistor 14A or the diode 14B is connected between the voltage detection part p1 and the connection point p2. For this reason,
The first voltage V1 related to the detection part p1 is the voltage output circuit 1
1. The voltage is converted into a voltage level (V2 <V1) lower than the voltage V1 by the current detecting dummy field effect transistor 13, the field effect transistor 14A and the diode 14B, and the voltage level is collectively output to the signal detection circuit 12. .

【0038】この際に、電圧検出補助素子14では、ゲ
ート電圧Vg2に基づき、当該電界効果トランジスタ14A
に寄生する横型バイポーラトランジスタの動作に係るス
イッチバック現象やそのパンチスルー現象により被電圧
検出部p1からバイアス素子15に電流が流れ、これに
基づいてバイアス素子15に電圧降下が生じる。
At this time, in the voltage detection auxiliary element 14, based on the gate voltage Vg2, the field effect transistor 14A concerned.
A current flows from the voltage detection part p1 to the bias element 15 due to the switchback phenomenon and the punch-through phenomenon related to the operation of the lateral bipolar transistor parasitic on the bias bipolar element 15, and a voltage drop occurs in the bias element 15 based on this.

【0039】また、ダイオード14Bのブレークダウン現
象により被電圧検出部p1からバイアス素子15に電流
が流れ、これに基づいてバイアス素子15に電圧降下が
生じる。
Further, due to the breakdown phenomenon of the diode 14B, a current flows from the voltage-detected portion p1 to the bias element 15, and accordingly, a voltage drop occurs in the bias element 15.

【0040】このため、電界効果トランジスタ14Aのゲ
ート電圧Vg2を可変制御することで、電流検出用ダミー
電界効果トランジスタ13の電圧制御を補助することが
可能となる。このことで、従来例のように、当該電圧検
出回路を構成するトランジスタの閾値電圧がバラついた
場合であっても、ゲート電圧vg2を可変制御することに
より、第1の電圧検出回路と同様に、第2の電圧V2を
安定性良く出力することが可能となる。
Therefore, by variably controlling the gate voltage Vg2 of the field effect transistor 14A, it becomes possible to assist the voltage control of the dummy field effect transistor 13 for current detection. As a result, even when the threshold voltage of the transistor forming the voltage detection circuit is varied as in the conventional example, the gate voltage vg2 is variably controlled, so that the first voltage detection circuit can be controlled in the same manner as the first voltage detection circuit. , The second voltage V2 can be output with good stability.

【0041】これにより、精度良い電圧検出信号SVに
基づいて他の回路の出力制御を信頼性良く実行すること
が可能となる。さらに、本発明の第3の電圧検出回路に
よれば、図1(b)に示すように第1,第2の電圧検出
回路において、被電圧検出部p1に接続された電流検出
用ダミー電界効果トランジスタ13や電圧検出補助素子
14の他方が、バイアス素子15を直列に接続して接地
線GNDに接続される。
As a result, the output control of the other circuits can be executed with high reliability based on the accurate voltage detection signal SV. Further, according to the third voltage detection circuit of the present invention, as shown in FIG. 1B, in the first and second voltage detection circuits, the dummy electric field effect for current detection connected to the voltage detection part p1 is connected. The other of the transistor 13 and the voltage detection auxiliary element 14 is connected to the ground line GND by connecting the bias element 15 in series.

【0042】例えば、電流検出用ダミー電界効果トラン
ジスタ13や電圧検出補助素子14とバイアス素子15
との接続点p3に係る電圧情報が信号検出回路12に入
力される。
For example, the dummy field effect transistor 13 for current detection, the voltage detection auxiliary element 14 and the bias element 15 are used.
The voltage information regarding the connection point p3 with is input to the signal detection circuit 12.

【0043】このため、該検出部p1に係る第1の電圧
V1が、電圧出力回路11,電流検出用ダミー電界効果
トランジスタ13,電界効果トランジスタ14A及びダイ
オード14Bにより、該電圧V1よりも低い電圧レベル
(V2<V1)に変換され、それが個別に信号検出回路
12に出力される。
Therefore, the first voltage V1 related to the detecting portion p1 is lower than the voltage V1 by the voltage output circuit 11, the current detecting dummy field effect transistor 13, the field effect transistor 14A and the diode 14B. It is converted to (V2 <V1), which is individually output to the signal detection circuit 12.

【0044】このことで、信号検出回路12において、
個別に入力された電圧検出に係る信号の論理和や排他論
理和等の信号処理をすることで、電圧検出機能の多様化
を図ることが可能となる。
As a result, in the signal detection circuit 12,
It is possible to diversify the voltage detection function by performing signal processing such as logical sum or exclusive logical sum of the individually input voltage detection signals.

【0045】これにより、例えば、当該第1の電圧V1
が供給される負荷回路を構成するトランジスタと同一条
件で電流検出用ダミー電界効果トランジスタ13や電圧
検出補助素子14を形成することにより、当該電圧検出
信号SVに基づいて他の回路の出力制御を精度良く実行
することが可能となる。
Thus, for example, the first voltage V1
The dummy field effect transistor 13 for current detection and the voltage detection auxiliary element 14 are formed under the same conditions as the transistors constituting the load circuit to which the voltage is supplied, thereby accurately controlling the output of other circuits based on the voltage detection signal SV. It becomes possible to execute well.

【0046】さらに、本発明の高電圧出力回路によれ
ば、図2に示すように可変電圧供給手段16及び電圧検
出手段17が具備され、該電圧検出手段17が本発明の
第1〜第3の電圧検出回路から成る。
Further, according to the high voltage output circuit of the present invention, as shown in FIG. 2, the variable voltage supply means 16 and the voltage detection means 17 are provided, and the voltage detection means 17 is the first to third aspects of the present invention. Voltage detection circuit.

【0047】例えば、負荷回路18の構成トランジスタ
に類似する構造のトランジスタにより構成された第1,
第2や第3の電圧検出回路が当該高電圧出力回路に設け
られる。また、可変電圧供給手段16から負荷回路18
に電圧VPPが供給される際に、該電圧VPPが第1,第2
や第3の電圧検出回路等の電圧検出手段17により検出
され、その電圧検出信号SVが電圧検出手段17から可
変電圧供給手段16に出力される。
For example, the first and the first transistors each having a structure similar to that of the load circuit 18 are formed.
Second and third voltage detection circuits are provided in the high voltage output circuit. In addition, from the variable voltage supply means 16 to the load circuit 18
When the voltage VPP is supplied to the
The voltage detection signal SV is detected by the voltage detection means 17 such as a third voltage detection circuit or the like, and the voltage detection signal SV is output from the voltage detection means 17 to the variable voltage supply means 16.

【0048】このため、電圧検出手段17において、レ
ベル変換をするダイオードの電子なだれ現象を利用し、
例えば、負荷回路18がEPROM等であって、そのデ
ータの再書込みをする電圧VPPを検出する場合であっ
て、その書込み電圧(高電圧)に対して電圧検出系の駆
動電源を低電圧に設計する要求があった場合にも、該検
出回路のリファンレンス電流を小さく設定することがで
きる。
Therefore, in the voltage detecting means 17, the electron avalanche phenomenon of the diode for level conversion is utilized,
For example, when the load circuit 18 is an EPROM or the like and the voltage VPP for rewriting the data is detected, the drive power supply of the voltage detection system is designed to be a low voltage with respect to the write voltage (high voltage). Even if there is a request to do so, the reference current of the detection circuit can be set small.

【0049】このことで、当該電圧検出手段17の基準
抵抗等に流れる無駄な電流を小さく抑えることが可能と
なる。また、電圧検出手段17から可変電圧供給手段1
6に帰還される電圧検出信号SVがゲート電圧vg1やv
g2に依存した円滑な制御により得られることから、該電
圧供給手段16により目標電圧を安定して出力すること
が可能となる。
As a result, it is possible to suppress the useless current flowing through the reference resistance of the voltage detecting means 17 to a small value. Also, from the voltage detection means 17 to the variable voltage supply means 1
The voltage detection signal SV fed back to 6 is the gate voltage vg1 or v
Since it is obtained by smooth control depending on g2, the target voltage can be stably output by the voltage supply means 16.

【0050】このことで、EPROM,EEPROM等
の負荷回路18を構成するトランジスタの耐圧に依存し
た幅広い電圧出力制御を行うことが可能となる。これに
より、第1〜第3の電圧検出回路の信頼性の向上が図ら
れることから、所望のデータ書込みや消去処理を行うこ
とが可能となり、無駄な時間を省略することが可能とな
る。また、当該高電圧出力回路の内蔵する半導体集積回
路装置の信頼性の向上を図ることが可能となる。
As a result, it is possible to perform a wide range of voltage output control depending on the breakdown voltage of the transistors forming the load circuit 18 such as EPROM and EEPROM. As a result, the reliability of the first to third voltage detection circuits is improved, so that desired data writing and erasing processing can be performed, and wasteful time can be omitted. Further, it is possible to improve the reliability of the semiconductor integrated circuit device incorporated in the high voltage output circuit.

【0051】[0051]

【実施例】次に、図を参照しながら本発明の実施例につ
いて説明をする。図3〜8は、本発明の各実施例に係る
電圧検出回路及び高電圧出力回路を説明する図である。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings. 3 to 8 are diagrams illustrating a voltage detection circuit and a high voltage output circuit according to each embodiment of the present invention.

【0052】(1)第1の実施例の説明 図3は、本発明の第1の実施例に係る電圧検出回路の構
成図であり、図3(a)は、その回路図であり、図3
(b)は電流検出用ダミー電界効果トランジスタの断面
図をそれぞれ示している。
(1) Description of First Embodiment FIG. 3 is a block diagram of a voltage detection circuit according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 3 (a) is a circuit diagram thereof. Three
3B is a sectional view of the dummy field effect transistor for current detection.

【0053】例えば、負荷回路が要求する12.5〜30
〔V〕程度の被電圧検出部(以下被検出点p1ともい
う)の電圧VPPを検出する第1の電圧検出回路は、図3
(a)において、レベル変換回路21,アナログ信号検
出回路22,n型変形電界効果トランジスタ(以下単に
n型変形MOSFETという)23及び抵抗R11から成
る。
For example, 12.5 to 30 required by the load circuit
The first voltage detection circuit for detecting the voltage VPP of the voltage detection part (hereinafter also referred to as the detection point p1) of about [V] is shown in FIG.
In (a), it comprises a level conversion circuit 21, an analog signal detection circuit 22, an n-type modified field effect transistor (hereinafter simply referred to as n-type modified MOSFET) 23 and a resistor R11.

【0054】すなわち、レベル変換回路21は電圧出力
回路11の一実施例であり、ダイオードD及び基準抵抗
Rrから成る。ダイオードDのカソード(−)が被電圧
検出部p1に接続され、そのアノード(+)が基準抵抗
Rrに接続されて接地線GNDに接続される。また、その
アノード(+)と基準抵抗Rrの一端とに接続した点
(以下接続点p2という)がアナログ信号検出回路22
のn型デプレッション電界効果トランジスタTd1のゲー
トGに接続される。
That is, the level conversion circuit 21 is an example of the voltage output circuit 11, and is composed of the diode D and the reference resistance Rr. The cathode (−) of the diode D is connected to the voltage detection part p1, and the anode (+) thereof is connected to the reference resistance Rr and connected to the ground line GND. Further, a point (hereinafter referred to as a connection point p2) connected to the anode (+) and one end of the reference resistance Rr is the analog signal detection circuit 22.
Of the n-type depletion field effect transistor Td1.

【0055】なお、レベル変換回路21の機能は、被検
出点p1に係る電圧VPP=第1の電圧V1に基づいて被
検出電圧となる第2の電圧V2,〔V2<V1〕をアナ
ログ信号検出回路22に出力するものである。
The function of the level conversion circuit 21 is to detect the second voltage V2 [V2 <V1] which is the detected voltage based on the voltage VPP related to the detected point p1 = the first voltage V1 as an analog signal. It is output to the circuit 22.

【0056】アナログ信号検出回路22は信号検出回路
12の一実施例であり、第2の電圧V2に基づいて被検
出点p1に係る電圧検出信号SVを外部に出力するもの
である。例えば、アナログ信号検出回路22は2個のn
型デプレッション電界効果トランジスタTd1,Td2,4
個のp型エンハンスメント電界効果トランジスタTp1〜
Tp4,2個のn型エンハンスメント電界効果トランジス
タTe1,Te2及びインバータIN1から成る。また、当該
信号検出回路22は3〜5〔V〕程度の低電圧源VCCに
接続される。
The analog signal detection circuit 22 is an embodiment of the signal detection circuit 12, and outputs the voltage detection signal SV related to the detected point p1 to the outside based on the second voltage V2. For example, the analog signal detection circuit 22 has two n
Type depletion field effect transistors Td1, Td2, 4
P-type enhancement field effect transistors Tp1
Tp4, two n-type enhancement field effect transistors Te1 and Te2, and an inverter IN1. The signal detection circuit 22 is connected to a low voltage source Vcc of about 3 to 5 [V].

【0057】n型変形MOSFET23は電流検出用ダ
ミー電界効果トランジスタ13の一実施例であり、被検
出点p1を含む第1の電圧V1の供給線に接続される。
なお、n型変形MOSFET23はn型MOSFETの
ソースに相当するnチャネル領域が一つのみ形成された
構造である。
The n-type modified MOSFET 23 is one example of the dummy field effect transistor 13 for current detection, and is connected to the supply line of the first voltage V1 including the detected point p1.
The n-type modified MOSFET 23 has a structure in which only one n-channel region corresponding to the source of the n-type MOSFET is formed.

【0058】例えば、n型変形MOSFET23は図3
(b)に示すように、n型Si(シリコン)基板13Aに
p型ウエル層13Bが設けられ、該p型ウエル層13Bにn
+不純物拡散層13Cとゲート酸化膜を介してゲート電極
13Dが形成されて成るものである。
For example, the n-type modified MOSFET 23 is shown in FIG.
As shown in (b), an n-type Si (silicon) substrate 13A is provided with a p-type well layer 13B, and the p-type well layer 13B is n-type.
+ Gate electrode via impurity diffusion layer 13C and gate oxide film
13D is formed.

【0059】また、図3(b)において、寄生ダイオー
ドD11はpn接合により生じ、ゲート電圧Vg1と第1の
電圧(VPP)V1に基づくゲートジャンクションのブレ
ークダウン現象により被検出点p1からp型ウエル層
(バックゲート)13Bに電流を流す。
Further, in FIG. 3B, the parasitic diode D11 is generated by the pn junction, and the breakdown phenomenon of the gate junction based on the gate voltage Vg1 and the first voltage (VPP) V1 causes the p-type well from the detected point p1. An electric current is passed through the layer (back gate) 13B.

【0060】抵抗R11はバイアス素子15の一実施例で
あり、n型変形MOSFET23のバックゲートと接地
線(n型Si基板13A)GNDとの間に接続され、ゲート
ジャンクションのブレークダウン現象により生ずる電流
に基づいて電圧降下を生じる。
The resistor R11 is one embodiment of the bias element 15, is connected between the back gate of the n-type modified MOSFET 23 and the ground line (n-type Si substrate 13A) GND, and is a current generated by the breakdown phenomenon of the gate junction. A voltage drop is generated based on

【0061】なお、この電圧検出情報は被検出点p2の
電圧検出情報と共に、アナログ信号検出回路22に出力
される。また、n型変形MOSFET23のゲートGに
は、ゲート電圧vg1が供給され、ゲートジャンクション
のブレークダウンが制御される。
The voltage detection information is output to the analog signal detection circuit 22 together with the voltage detection information of the detected point p2. Further, the gate voltage vg1 is supplied to the gate G of the n-type modified MOSFET 23, and the breakdown of the gate junction is controlled.

【0062】このようにして 本発明の第1の電圧検出
回路は、図3(a)に示すようにレベル変換回路21及
びアナログ信号検出回路22が具備され、少なくとも、
被検出点p1を含む第1の電圧V1の供給線にn型変形
MOSFET23及び抵抗R11が接続される。
As described above, the first voltage detection circuit of the present invention is provided with the level conversion circuit 21 and the analog signal detection circuit 22 as shown in FIG.
The n-type modified MOSFET 23 and the resistor R11 are connected to the supply line of the first voltage V1 including the detected point p1.

【0063】例えば、被検出点p1と接地線GNDとの間
に接続されたレベル変換回路21により、該検出部p1
に係る第1の電圧V1が、該電圧V1よりも低い電圧レ
ベル(V2<V1)に変換され、それがアナログ信号検
出回路22に出力される。
For example, by the level conversion circuit 21 connected between the detected point p1 and the ground line GND, the detection part p1
Is converted into a voltage level (V2 <V1) lower than the voltage V1 and is output to the analog signal detection circuit 22.

【0064】また、被検出点p1と接地線GNDとの間に
抵抗R11を介して接続されたn型変形MOSFET23
により、該検出点p1に係る第1の電圧V1よりも低い
電圧レベルに変換された電圧がアナログ信号検出回路2
2に出力される。
The n-type modified MOSFET 23 connected between the detected point p1 and the ground line GND through the resistor R11.
As a result, the voltage converted to a voltage level lower than the first voltage V1 related to the detection point p1 is converted into the analog signal detection circuit 2
2 is output.

【0065】この際に、n型変形MOSFET23で
は、ゲート電圧Vg1と第1の電圧V1に基づくゲートジ
ャンクションのブレークダウン現象により被検出点p1
からバックゲートに電流が流れ、これに基づいて抵抗R
11に電圧降下が生じる。なお、この電圧検出情報がレベ
ル変換回路21でレベル変換された第2の電圧V2と共
にアナログ信号検出回路22に出力される。
At this time, in the n-type modified MOSFET 23, the detection point p1 is generated due to the breakdown phenomenon of the gate junction based on the gate voltage Vg1 and the first voltage V1.
Current flows from the back gate to the back gate, and based on this, the resistance R
A voltage drop occurs at 11. The voltage detection information is output to the analog signal detection circuit 22 together with the second voltage V2 whose level is converted by the level conversion circuit 21.

【0066】このため、n型変形MOSFET23のゲ
ート電圧vg1を可変制御することで、ゲートジャンクシ
ョンのブレーク電圧VBDをVBD≒VBD0+vg1とする電
圧制御を行うことが可能となる。但し、ブレーク電圧V
BD1はゲート電圧vg1=0の時のブレーク電圧である。
Therefore, by variably controlling the gate voltage vg1 of the n-type modified MOSFET 23, it is possible to control the voltage so that the break voltage VBD of the gate junction becomes VBD≈VBD0 + vg1. However, the break voltage V
BD1 is a break voltage when the gate voltage vg1 = 0.

【0067】このことで、従来例のように、当該第1の
電圧検出回路を構成するトランジスタの閾値電圧がバラ
ついた場合であっても、ゲート電圧vg1を可変制御する
ことにより、被比較電圧となる第2の電圧V2を安定性
良く出力することが可能となる。
As a result, even if the threshold voltage of the transistor forming the first voltage detection circuit varies as in the conventional example, the gate voltage vg1 is variably controlled to control the compared voltage. It becomes possible to output the second voltage V2 which becomes

【0068】これにより、精度良い電圧検出信号SVに
基づいて他の回路の出力制御を信頼性良く実行すること
が可能となる。次に、第1の電圧検出回路が適用される
本発明の高電圧出力回路について当該検出回路の機能を
補足しながら説明をする。
As a result, the output control of the other circuits can be reliably executed based on the accurate voltage detection signal SV. Next, the high voltage output circuit of the present invention to which the first voltage detection circuit is applied will be described while supplementing the function of the detection circuit.

【0069】図4は、本発明の第1の実施例に係る高電
圧出力回路の構成図を示している。例えば、EEPRO
M28にデータ書込みをする際に、その書込み電圧VPP
を自動電圧制御をする高電圧出力回路は、図4におい
て、低電圧倍化高圧発生回路26及び電圧検出回路101
から成る。
FIG. 4 is a block diagram of a high voltage output circuit according to the first embodiment of the present invention. For example, EEPRO
When writing data to M28, write voltage VPP
The high voltage output circuit for automatically controlling the voltage is shown in FIG. 4 as a low voltage doubling high voltage generation circuit 26 and a voltage detection circuit 101.
Consists of.

【0070】すなわち、低電圧倍化高圧発生回路26は
可変電圧供給手段16の一実施例であり、負荷回路18
の一例となるEEPROM28にデータ書込み用電圧V
PPを供給するものである。例えば、当該高圧発生回路2
6は発振器26A,タイミング制御回路26B,複数のスイ
ッチングトランジスタTN1〜TNn及び複数の電荷蓄積用
容量C1〜Cnから成り、基準クロックCKや電圧検出
信号SVに基づいて所12データ書込み用電圧VPPを発
生するものである。
That is, the low voltage doubling high voltage generation circuit 26 is an embodiment of the variable voltage supply means 16, and the load circuit 18
The data writing voltage V is stored in the EEPROM 28 as an example.
It supplies PP. For example, the high voltage generating circuit 2
Reference numeral 6 is an oscillator 26A, a timing control circuit 26B, a plurality of switching transistors TN1 to TNn, and a plurality of charge storage capacitors C1 to Cn, and generates a voltage VPP for writing data at 12 locations based on a reference clock CK and a voltage detection signal SV. To do.

【0071】なお、スイッチングトランジスタTN1のソ
ースとゲートは、電源線VCCに接続され、残りのスイッ
チングトランジスタTN2〜TNnはスイッチングトランジ
スタTN1と被検出点p1との間に、そのソースとドレイ
ンを直列にして接続され、それ等のゲートが各電荷蓄積
用容量C1〜Cnに接続されてソースに接続される。ま
た、各電荷蓄積用容量C1〜Cnの他の一端は、その奇
数列に係る部分と偶数列に係る部分とが個別に接続され
て、各々タイミング制御回路26Bの出力部に接続され
る。
The source and gate of the switching transistor TN1 are connected to the power supply line Vcc, and the remaining switching transistors TN2 to TNn have their sources and drains connected in series between the switching transistor TN1 and the point to be detected p1. The respective gates are connected to the respective charge storage capacitors C1 to Cn and connected to the source. Further, the other end of each of the charge storage capacitors C1 to Cn is connected to the output section of the timing control circuit 26B so that the portions related to the odd columns and the portions related to the even columns are individually connected.

【0072】電圧検出回路101 は電圧検出手段17の一
実施例であり、電圧VPPを検出して電圧検出信号SVを
低電圧倍化高圧発生回路26のタイミング制御回路26B
に出力するものである。なお、電圧検出回路101 が本発
明の第1の実施例に係る電圧検出回路から成り、高圧発
生回路26や該電圧検出回路101 ,特に、n型変形MO
SFET23がEEPROM28の構成トランジスタと
同一のマスクにより形成されたトランジスタから構成さ
れる。
The voltage detection circuit 101 is an embodiment of the voltage detection means 17, and detects the voltage VPP and doubles the voltage detection signal SV to the low voltage double voltage generation circuit 26 timing control circuit 26B.
Is output to. The voltage detection circuit 101 comprises the voltage detection circuit according to the first embodiment of the present invention, and the high voltage generation circuit 26 and the voltage detection circuit 101, especially the n-type modified MO.
The SFET 23 is composed of a transistor formed by the same mask as the constituent transistor of the EEPROM 28.

【0073】このようにして、本発明の第1の実施例に
係る高電圧出力回路によれば、図4に示すように低電圧
倍化高圧発生回路26及び電圧検出回路101 が具備さ
れ、該電圧検出回路101 が本発明の第1の実施例に係る
電圧検出回路から成る。
Thus, according to the high voltage output circuit of the first embodiment of the present invention, the low voltage doubling high voltage generating circuit 26 and the voltage detecting circuit 101 are provided as shown in FIG. The voltage detection circuit 101 comprises the voltage detection circuit according to the first embodiment of the present invention.

【0074】例えば、EEPROM28の構成トランジ
スタと同一構造のトランジスタにより構成された第1の
電圧検出回路が当該高電圧出力回路に設けられる。ま
た、低電圧倍化高圧発生回路26からEEPROM28
に電圧VPPが供給される際に、該電圧VPPが第1の電圧
検出回路のレベル変換回路21及びn型変形MOSFE
T23により検出され、その電圧検出信号SVが電圧検
出回路101 から低電圧倍化高圧発生回路26のタイミン
グ制御回路26Bに帰還される。
For example, the high voltage output circuit is provided with a first voltage detection circuit composed of transistors having the same structure as the constituent transistors of the EEPROM 28. In addition, the low voltage doubled high voltage generation circuit 26 to the EEPROM 28
When the voltage VPP is supplied to the circuit, the voltage VPP is applied to the level conversion circuit 21 of the first voltage detection circuit and the n-type modified MOSFE.
The voltage detection signal SV detected by T23 is fed back from the voltage detection circuit 101 to the timing control circuit 26B of the low voltage doubled high voltage generation circuit 26.

【0075】このため、電圧検出回路101 において、レ
ベル変換をするダイオードDrの電子なだれ現象を利用
し、EEPROM28にデータを再書込みする電圧VPP
を検出する場合であって、その書込み電圧(高電圧)に
対して電圧検出系の駆動電源を低電圧VCCに設計する要
求があった場合にも、該検出回路のリファンレンス電流
を小さく設定することができる。
Therefore, in the voltage detection circuit 101, the electron avalanche phenomenon of the diode Dr for level conversion is used to rewrite the data in the EEPROM 28 with the voltage VPP.
In the case of detecting the write voltage and there is a demand for designing the drive power supply of the voltage detection system to the low voltage Vcc for the write voltage (high voltage), the reference current of the detection circuit is set small. can do.

【0076】このことで、当該電圧検出回路101 の基準
抵抗Rrに流れる無駄な電流を小さく抑えることが可能
となる。また、電圧検出回路101 から低電圧倍化高圧発
生回路26に帰還される電圧検出信号SVがゲート電圧
vg1に依存した円滑な制御により得られることから、該
電圧検出回路101 により目標電圧VPPを安定して出力す
ることが可能となる。
As a result, it is possible to suppress the useless current flowing through the reference resistor Rr of the voltage detecting circuit 101 to be small. Further, since the voltage detection signal SV fed back from the voltage detection circuit 101 to the low voltage doubled high voltage generation circuit 26 is obtained by smooth control depending on the gate voltage vg1, the target voltage VPP is stabilized by the voltage detection circuit 101. Then, it is possible to output.

【0077】このことからEEPROM28を構成する
書込み回路28Aやメモリセル28Bのトランジスタの耐圧
を考慮した幅広い電圧出力制御(フィードバック制御)
を行うことが可能となる。
From this, a wide range of voltage output control (feedback control) considering the withstand voltage of the write circuit 28A and the memory cell 28B constituting the EEPROM 28 is performed.
It becomes possible to do.

【0078】これにより、電圧検出回路101 の信頼性の
向上が図られることから、所望のデータ書込みや消去処
理を行うことが可能となり、無駄な再書込み時間を省略
することが可能となる。また、当該高電圧出力回路の内
蔵する半導体集積回路装置の信頼性の向上を図ることが
可能となる。
As a result, the reliability of the voltage detection circuit 101 is improved, so that desired data writing and erasing processing can be performed, and unnecessary rewriting time can be omitted. Further, it is possible to improve the reliability of the semiconductor integrated circuit device incorporated in the high voltage output circuit.

【0079】(2)第2の実施例の説明 図5は、本発明の第2の実施例に係る電圧検出回路の構
成図であり、図6は、本発明の第2の実施例に係る高電
圧出力回路の構成図をそれぞれ示している。
(2) Description of Second Embodiment FIG. 5 is a block diagram of a voltage detection circuit according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 6 relates to a second embodiment of the present invention. The respective block diagrams of the high-voltage output circuit are shown.

【0080】図5において、第1の実施例と異なるのは
第2の実施例では、n型変形MOSFET23を補助す
るn型MOSFET24Aやツェナーダイオード24Bが設
けられるものである。
In FIG. 5, the second embodiment is different from the first embodiment in that an n-type MOSFET 24A and a Zener diode 24B for assisting the n-type modified MOSFET 23 are provided.

【0081】すなわち、n型MOSFET24Aやツェナ
ーダイオード24Bは電圧検出補助素子14の一実施例で
あり、レベル変換回路21とアナログ信号検出回路22
とを接続する点p2と被検出点p1と間に接続される。
That is, the n-type MOSFET 24A and the Zener diode 24B are an example of the voltage detection auxiliary element 14, and the level conversion circuit 21 and the analog signal detection circuit 22 are included.
It is connected between a point p2 that connects and the point to be detected p1.

【0082】また、n型MOSFET24Aは、ゲート電
圧Vg2に基づき、当該MOSFET24Aに寄生する横型
バイポーラトランジスタQの動作に係るスイッチバック
現象やそのダイオードD12によるパンチスルー現象によ
り被検出点p1から抵抗R12に電流を流す。
The n-type MOSFET 24A receives a current from the detection point p1 to the resistor R12 based on the gate voltage Vg2 due to the switchback phenomenon related to the operation of the lateral bipolar transistor Q parasitic on the MOSFET 24A and the punch-through phenomenon due to the diode D12. Shed.

【0083】さらに、抵抗R12はバイアス素子15の一
実施例であり、レベル変換回路21のダイオードDr,
n型変形MOSFET23のバックゲート及び電圧検出
補助素子14の共通バイアス素子となるものである。な
お、抵抗R12は接続点p2と接地線GNDとの間に接続さ
れる。これにより、ゲートジャンクションのブレークダ
ウン現象,スイッチバック現象及びパンチスルー現象よ
り生ずる電流に基づいて電圧降下を生じ、被検出電圧と
なる第2の電圧V2を発生する。
Further, the resistor R12 is an embodiment of the bias element 15, and the diode Dr, of the level conversion circuit 21
It serves as a back gate of the n-type modified MOSFET 23 and a common bias element of the voltage detection auxiliary element 14. The resistor R12 is connected between the connection point p2 and the ground line GND. As a result, a voltage drop occurs based on the current generated by the breakdown phenomenon of the gate junction, the switchback phenomenon, and the punchthrough phenomenon, and the second voltage V2 that is the detected voltage is generated.

【0084】このようにして、本発明の第2の実施例に
係る電圧検出回路によれば、図5に示すように、レベル
変換回路21とアナログ信号検出回路22とを接続する
点p2と被検出点p1と間にn型変形MOSFET23
を補助するn型MOSFET24Aやツェナーダイオード
24Bが接続される。
In this way, according to the voltage detection circuit of the second embodiment of the present invention, as shown in FIG. 5, the point p2 connecting the level conversion circuit 21 and the analog signal detection circuit 22 and the target N-type modified MOSFET 23 between the detection point p1
N-type MOSFET 24A and Zener diode to assist the
24B is connected.

【0085】このため、該検出点p1に係る第1の電圧
V1が、ダイオードD11,n型変形MOSFET23,
n型MOSFET24Aやツェナーダイオード24Bによ
り、該電圧V1よりも低い電圧レベル(V2<V1)に
変換され、それがアナログ信号検出回路22に集合して
出力される。
Therefore, the first voltage V1 related to the detection point p1 is the diode D11, the n-type modified MOSFET 23,
The voltage is converted to a voltage level (V2 <V1) lower than the voltage V1 by the n-type MOSFET 24A and the Zener diode 24B, and the voltage level is collected and output to the analog signal detection circuit 22.

【0086】この際に、n型変形MOSFET23で
は、ゲート電圧Vg1と第1の電圧V1に基づくゲートジ
ャンクションのブレークダウン現象により被検出点p1
からバックゲートに電流が流れる。また、電圧検出補助
素子14のn型MOSFET24Aでは、ゲート電圧Vg2
と第1の電圧V1に基づき、当該MOSFET24Aに寄
生する横型バイポーラトランジスタの動作に係るスイッ
チバック現象やそのパンチスルー現象により被検出点p
1から抵抗R12に電流が流れる。
At this time, in the n-type modified MOSFET 23, the detection point p1 is generated due to the breakdown phenomenon of the gate junction based on the gate voltage Vg1 and the first voltage V1.
Current flows from the back gate to the back gate. Further, in the n-type MOSFET 24A of the voltage detection auxiliary element 14, the gate voltage Vg2
On the basis of the first voltage V1 and the first voltage V1, the detected point p due to the switchback phenomenon or the punch-through phenomenon related to the operation of the lateral bipolar transistor parasitic on the MOSFET 24A.
A current flows from 1 to the resistor R12.

【0087】さらに、ツェナーダイオード24Bのブレー
クダウン現象により被検出点p1からR12に電流が流
れ、これに基づいて該R12に電圧降下が生じ、該電圧検
出情報がレベル変換回路21でレベル変換された第2の
電圧V2と共にアナログ信号検出回路22に出力され
る。
Further, a current flows from the detected point p1 to R12 due to the breakdown phenomenon of the Zener diode 24B, and a voltage drop occurs at R12 based on this, and the voltage detection information is level-converted by the level conversion circuit 21. It is output to the analog signal detection circuit 22 together with the second voltage V2.

【0088】このため、n型MOSFET24Aのゲート
電圧Vg2を可変制御することで、n型変形MOSFET
23の電圧制御を補助することが可能となる。このこと
で、従来例のように、当該電圧検出回路を構成するトラ
ンジスタの閾値電圧がバラついた場合であっても、ゲー
ト電圧vg2を可変制御することにより、第1の実施例と
同様に、第2の電圧V2の出力を安定性良く制御するこ
とが可能となる。
Therefore, by variably controlling the gate voltage Vg2 of the n-type MOSFET 24A, the n-type modified MOSFET can be obtained.
It becomes possible to assist the voltage control of 23. As a result, even when the threshold voltage of the transistor that constitutes the voltage detection circuit varies as in the conventional example, the gate voltage vg2 is variably controlled, so that the same operation as in the first embodiment is performed. It is possible to control the output of the second voltage V2 with good stability.

【0089】これにより、精度良い電圧検出信号SVに
基づいて他の回路の出力制御をすることが可能となる。
次に、本発明の第2の高電圧出力回路について当該検出
回路の機能を補足しながら説明をする。
This makes it possible to control the output of other circuits based on the accurate voltage detection signal SV.
Next, the second high voltage output circuit of the present invention will be described while supplementing the function of the detection circuit.

【0090】図6は、本発明の第2の実施例に係る高電
圧出力回路の構成図を示している。図6において、第1
の実施例と異なるのは第2の実施例では、高電圧出力回
路に電圧検出回路102 が設けられるものである。
FIG. 6 is a block diagram of a high voltage output circuit according to the second embodiment of the present invention. In FIG. 6, the first
The second embodiment is different from the second embodiment in that the high voltage output circuit is provided with the voltage detection circuit 102 in the second embodiment.

【0091】例えば、EEPROM28にデータ書込み
をする際に、その書込み電圧VPPを自動電圧制御をする
第2の高電圧出力回路は、図6において、低電圧倍化高
圧発生回路26及び電圧検出回路102 から成る。なお、
第1の実施例と同じ名称,記号のものは同じ機能を有す
るため説明を省略する。
For example, the second high voltage output circuit for automatically controlling the write voltage VPP when writing data to the EEPROM 28 is the low voltage double high voltage generating circuit 26 and the voltage detecting circuit 102 shown in FIG. Consists of. In addition,
The same names and symbols as those in the first embodiment have the same functions, so that the description thereof will be omitted.

【0092】すなわち、電圧検出回路102 は電圧検出手
段17の他の一実施例であり、電圧VPPを検出して電圧
検出信号SVを低電圧倍化高圧発生回路26のタイミン
グ制御回路26Bに出力するものである。なお、電圧検出
回路102 が本発明の第2の実施例に係る電圧検出回路か
ら成り、高圧発生回路26や該電圧検出回路101 ,特
に、n型変形MOSFET23がEEPROM28の構
成トランジスタと同一のマスクにより形成されたトラン
ジスタから構成される。
That is, the voltage detection circuit 102 is another embodiment of the voltage detection means 17, and detects the voltage VPP and outputs the voltage detection signal SV to the timing control circuit 26B of the low voltage double high voltage generation circuit 26. It is a thing. The voltage detecting circuit 102 comprises the voltage detecting circuit according to the second embodiment of the present invention, and the high voltage generating circuit 26 and the voltage detecting circuit 101, especially the n-type modified MOSFET 23 are formed by the same mask as the constituent transistors of the EEPROM 28. It is composed of formed transistors.

【0093】このようにして、本発明の第2の実施例に
係る高電圧出力回路によれば、図6に示すように低電圧
倍化高圧発生回路26及び電圧検出回路102 が具備さ
れ、該電圧検出回路102 が本発明の第2の実施例に係る
電圧検出回路から成る。
In this way, according to the high voltage output circuit of the second embodiment of the present invention, the low voltage doubling high voltage generating circuit 26 and the voltage detecting circuit 102 are provided as shown in FIG. The voltage detection circuit 102 comprises the voltage detection circuit according to the second embodiment of the present invention.

【0094】例えば、低電圧倍化高圧発生回路26から
EEPROM28に電圧VPPが供給される際に、該電圧
VPPが電圧検出回路102 のレベル変換回路21及びn型
変形MOSFET23, n型MOSFET24Aやツェナ
ーダイオード24Bにより検出され、その電圧検出信号S
Vが電圧検出回路102 から低電圧倍化高圧発生回路26
のタイミング制御回路26Bに出力される。
For example, when the voltage VPP is supplied from the low voltage doubled high voltage generation circuit 26 to the EEPROM 28, the voltage VPP is supplied to the level conversion circuit 21 of the voltage detection circuit 102, the n-type modified MOSFET 23, the n-type MOSFET 24A and the Zener diode. The voltage detection signal S detected by 24B
V from the voltage detection circuit 102 to the low voltage doubled high voltage generation circuit 26
Is output to the timing control circuit 26B.

【0095】このため、第1の実施例と同様に、当該電
圧検出回路102 のリファンレンス電流を小さく設定する
ことができ、その抵抗R11に流れる無駄な電流を小さく
抑えることが可能となる。また、電圧検出回路102 から
低電圧倍化高圧発生回路26に帰還される電圧検出信号
SVがゲート電圧vg1やvg2に依存した円滑な制御によ
り得られることから、該電圧検出回路102 により目標電
圧VPPを安定して出力することが可能となる。
Therefore, similarly to the first embodiment, the reference current of the voltage detecting circuit 102 can be set small, and the useless current flowing through the resistor R11 can be suppressed small. Further, since the voltage detection signal SV fed back from the voltage detection circuit 102 to the low voltage doubled high voltage generation circuit 26 is obtained by smooth control depending on the gate voltages vg1 and vg2, the target voltage VPP is generated by the voltage detection circuit 102. Can be output stably.

【0096】これにより、第1の実施例と同様に、EE
PROM28の構成トランジスタの耐圧を考慮した幅広
い電圧出力制御を行うことが可能となり、また、当該高
電圧出力回路の内蔵する半導体集積回路装置の信頼性の
向上を図ることが可能となる。
As a result, the EE is the same as in the first embodiment.
A wide range of voltage output control can be performed in consideration of the breakdown voltage of the constituent transistors of the PROM 28, and the reliability of the semiconductor integrated circuit device in which the high voltage output circuit is built can be improved.

【0097】(3)第3の実施例の説明 図7は、本発明の第3の実施例に係る電圧検出回路の構
成図であり、図8は、その高電圧出力回路の構成図をそ
れぞれ示している。
(3) Description of Third Embodiment FIG. 7 is a block diagram of a voltage detection circuit according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a block diagram of its high voltage output circuit. Shows.

【0098】図7において、第1,第2の実施例と異な
るのは第3の実施例では、被検出点p1にそれぞれ接続
されたn型変形MOSFET23,n型MOSFET24
A及びレベル変換回路21の被検出電圧V21〜V24が個
別に検出され、それを処理する信号検出論理回路32が
設けられるものである。
In FIG. 7, the difference from the first and second embodiments is that in the third embodiment, the n-type modified MOSFET 23 and the n-type MOSFET 24 respectively connected to the detected point p1.
A signal detection logic circuit 32 for individually detecting the detected voltages V21 to V24 of the A and level conversion circuit 21 and processing them is provided.

【0099】例えば、負荷回路が要求する12.5〜30
〔V〕程度の被検出点p1の電圧VPPを検出する第3の
電圧検出回路は、図7において、被検出点p1と接地線
GNDとの間に抵抗R101 , R102 ,R103 ,基準抵抗R
rを介して接続されたn型変形MOSFET23,n型
MOSFET24A,レベル変換回路21やその信号を処
理する信号検出論理回路32から成る。
For example, 12.5 to 30 required by the load circuit
The third voltage detection circuit for detecting the voltage VPP at the detected point p1 of about [V] is shown in FIG. 7 and has resistors R101, R102, R103, and a reference resistor R between the detected point p1 and the ground line GND.
It is composed of an n-type modified MOSFET 23, an n-type MOSFET 24A, a level conversion circuit 21 and a signal detection logic circuit 32 which processes the signal thereof, which are connected via r.

【0100】すなわち、第1の被検出電圧V21はn型変
形MOSFET23のバックゲートと接地線GND線との
間に接続された抵抗R1O1 の接続点p21から得られ、そ
れが信号検出論理回路32のn型ディプレッション電界
効果トランジスタTd31 に入力される。
That is, the first detected voltage V21 is obtained from the connection point p21 of the resistor R1O1 connected between the back gate of the n-type modified MOSFET 23 and the ground line GND, which is the signal detection logic circuit 32. It is input to the n-type depletion field effect transistor Td31.

【0101】また、第2の被検出電圧V22はn型MOS
FET24のバックゲートと接地線GND線との間に接続
された抵抗R1O2 の接続点p22から得られ、それが信号
検出論理回路32のn型ディプレッション電界効果トラ
ンジスタTd32 に入力される。さらに、第3の被検出電
圧V23はn型MOSFET24のドレインDと接地線G
ND線との間に接続された抵抗R1O3 の接続点p23から得
られ、それが信号検出論理回路32のn型ディプレッシ
ョン電界効果トランジスタTd33 に入力される。
The second detected voltage V22 is an n-type MOS.
It is obtained from the connection point p22 of the resistor R1O2 connected between the back gate of the FET 24 and the ground line GND, which is input to the n-type depletion field effect transistor Td32 of the signal detection logic circuit 32. Further, the third detected voltage V23 is the drain D of the n-type MOSFET 24 and the ground line G.
It is obtained from the connection point p23 of the resistor R1O3 connected to the ND line, and is input to the n-type depletion field effect transistor Td33 of the signal detection logic circuit 32.

【0102】なお、第4の被検出電圧V24はレベル変換
回路21のダイオードDrと接地線GNDに接続された基
準抵抗Rrとの接続点p24から得られ、それが信号検出
論理回路32のn型ディプレッション電界効果トランジ
スタTd34 に入力される。
The fourth detected voltage V24 is obtained from the connection point p24 between the diode Dr of the level conversion circuit 21 and the reference resistor Rr connected to the ground line GND, which is the n-type of the signal detection logic circuit 32. It is input to the depletion field effect transistor Td34.

【0103】信号検出論理回路32は信号検出回路12
の他の一実施例であり、第1〜第4の被検出電圧V21〜
V24に基づいて被検出点p1に係る電圧検出信号SVを
外部に出力するものである。例えば、信号検出論理回路
32は5個のn型デプレッション電界効果トランジスタ
Td31 〜Td35 ,4個のp型エンハンスメント電界効果
トランジスタTp31 〜Tp34 ,2個のn型エンハンスメ
ント電界効果トランジスタTe31 ,Te32 及びインバー
タIN2から成り、4入力論理和回路を構成する。また、
当該信号検出論理回路32は3〜5〔V〕程度の低電圧
源VCCに接続される。
The signal detection logic circuit 32 is the signal detection circuit 12
It is another example of the first to fourth detected voltages V21-
The voltage detection signal SV related to the detected point p1 is output to the outside based on V24. For example, the signal detection logic circuit 32 includes five n-type depletion field effect transistors Td31 to Td35, four p-type enhancement field effect transistors Tp31 to Tp34, two n-type enhancement field effect transistors Te31 and Te32 and an inverter IN2. It constitutes a 4-input logical sum circuit. Also,
The signal detection logic circuit 32 is connected to a low voltage source Vcc of about 3 to 5 [V].

【0104】なお、第1,第2の実施例と同じ名称,記
号のものは同じ機能を有するため説明を省略する。この
ようにして、本発明の第3の実施例に係る電圧検出回路
によれば、図7に示すように被検出点p1に接続された
n型変形MOSFET23,n型MOSFET24A及び
レベル変換回路21のダイオードDrの他方の電極部が
抵抗R101, R102 ,R103 ,基準抵抗Rrを介して接
地線GNDに接続され、かつ、接続点p21〜p24に係る被
検出電圧V21〜V24が個別に検出されている。
The same names and symbols as those of the first and second embodiments have the same functions, so that the description thereof will be omitted. Thus, according to the voltage detection circuit of the third embodiment of the present invention, as shown in FIG. 7, the n-type modified MOSFET 23, the n-type MOSFET 24A and the level conversion circuit 21 connected to the detected point p1 are connected. The other electrode portion of the diode Dr is connected to the ground line GND through the resistors R101, R102, R103 and the reference resistor Rr, and the detected voltages V21 to V24 relating to the connection points p21 to p24 are individually detected. .

【0105】このため、n型変形MOSFET23,n
型MOSFET24A及びレベル変換回路21のダイオー
ドDrにより個別に検出された接続点p21〜p24に係る
電圧情報(〔V21〜V24〕<V1)が信号検出論理回路
32に入力されると、その信号の4入力論理和処理等を
することで、従来例に比べて電圧検出機能の多様化を図
ることが可能となる。
Therefore, the n-type modified MOSFETs 23, n
When the voltage information ([V21-V24] <V1) relating to the connection points p21-p24 individually detected by the MOSFET 24A and the diode Dr of the level conversion circuit 21 is input to the signal detection logic circuit 32, 4 of the signal is input. By performing input OR processing or the like, it becomes possible to diversify the voltage detection function as compared with the conventional example.

【0106】例えば、従来例のように、当該電圧検出回
路を構成するトランジスタの閾値電圧がバラついた場合
であっても、第1,第2の実施例と同様に、n型MOS
FET24Aのゲート電圧Vg2を可変制御することで、n
型変形MOSFET23の電圧制御を補助することが可
能となる。
For example, even when the threshold voltage of the transistors forming the voltage detection circuit varies as in the conventional example, the n-type MOS is used as in the first and second embodiments.
By variably controlling the gate voltage Vg2 of the FET 24A,
It becomes possible to assist the voltage control of the mold modification MOSFET 23.

【0107】これにより、当該第1の電圧V1が供給さ
れる負荷回路を構成するトランジスタと同一条件でn型
変形MOSFET23,n型MOSFET24A及びレベ
ル変換回路21のダイオードDrを形成した場合に、そ
の中のどれか一つにより接続点p21〜p24に係る電圧情
報V21〜V24が検出されれば、当該電圧検出信号SVに
基づいて他の回路の出力制御を精度良く実行することが
可能となる。
As a result, when the n-type modified MOSFET 23, the n-type MOSFET 24A and the diode Dr of the level conversion circuit 21 are formed under the same conditions as the transistors constituting the load circuit to which the first voltage V1 is supplied, If the voltage information V21 to V24 relating to the connection points p21 to p24 is detected by any one of them, the output control of other circuits can be accurately executed based on the voltage detection signal SV.

【0108】次に、本発明の第3の高電圧出力回路につ
いて当該検出回路の機能を補足しながら説明をする。図
8は、本発明の第3の実施例に係る高電圧出力回路の構
成図を示している。図8において、第1,第2の実施例
と異なるのは第3の実施例では、高電圧出力回路に電圧
検出回路103 が設けられるものである。
Next, the third high voltage output circuit of the present invention will be described while supplementing the function of the detection circuit. FIG. 8 is a block diagram of a high voltage output circuit according to the third embodiment of the present invention. In FIG. 8, the third embodiment differs from the first and second embodiments in that the high voltage output circuit is provided with a voltage detection circuit 103.

【0109】例えば、不図示のEPROMやLCD装置
の駆動回路にデータ書込みや駆動電圧を供給する際に、
その書込み電圧や駆動電圧VPPを自動電圧制御をする第
3の高電圧出力回路は、図8において、電圧制御回路3
1及び電圧検出回路103 から成る。なお、第1,2の実
施例と同じ名称,記号のものは同じ機能を有するため説
明を省略する。
For example, when writing data or supplying a drive voltage to a drive circuit of an EPROM or LCD device (not shown),
A third high voltage output circuit for automatically controlling the write voltage and the drive voltage VPP is shown in FIG.
1 and a voltage detection circuit 103. It is to be noted that those having the same names and symbols as those in the first and second embodiments have the same functions, and therefore the description thereof is omitted.

【0110】すなわち、電圧制御回路31は可変電圧供
給手段16の一実施例であり、外部から可変供給される
電圧VPPを電圧制御信号SVに基づいてON/OFF制御
するものである。例えば、当該電圧制御回路31は5個
のp型エンハンスメント電界効果トランジスタ(以下第
1〜第5のトランジスタという)TP41 〜TP45 ,4個
のn型エンハンスメント電界効果トランジスタ(以下第
6〜第9のトランジスタという)TN41 〜TN44 及び1
個の電荷蓄積用容量Cから成り、電圧検出信号SVに基
づいて所望のデータ書込み用電圧や駆動電圧VPPを出力
制御するものである。
That is, the voltage control circuit 31 is an embodiment of the variable voltage supply means 16, and ON / OFF controls the voltage VPP variably supplied from the outside based on the voltage control signal SV. For example, the voltage control circuit 31 includes five p-type enhancement field effect transistors (hereinafter referred to as first to fifth transistors) TP41 to TP45 and four n-type enhancement field effect transistors (hereinafter sixth to ninth transistors). TN41 to TN44 and 1
The charge storage capacitor C is provided for controlling output of a desired data write voltage or drive voltage VPP based on the voltage detection signal SV.

【0111】第1,第3のトランジスタTP41 ,TP43
及び第6,7のトランジスタTN41,TN42 が,互いに
ソースとドレインとが直列に接続されて、それが電圧V
PPに係る電源線と接地線GNDとの間に接続され、かつ、
第2,第4のトランジスタTP42 ,TP44 及び第8,9
のトランジスタTN43 ,TN44 が,互いにソースとドレ
インとが直列に接続されて、それが電圧VPPに係る電源
線と接地線GNDとの間に接続される。
First and third transistors TP41, TP43
The sixth and seventh transistors TN41 and TN42 have their sources and drains connected in series with each other, and the source and drain thereof are connected to the voltage V
It is connected between the power line related to PP and the ground line GND, and
Second and fourth transistors TP42, TP44 and eighth and ninth transistors
The transistors TN43 and TN44 of which source and drain are connected in series to each other are connected between the power supply line for the voltage VPP and the ground line GND.

【0112】また、第5のトランジスタTP45 は電圧V
PPが可変供給される外部接続点と被検出点p1との間に
接続され、そのドレイン(被検出点p1)部に電荷蓄積
用容量Cが接続される。なお、第1のトランジスタTP4
1 のゲートが第2,第4のトランジスタTP42 ,TP44
のソース,ドレイン接続部に接続されて第5のトランジ
スタTP45 のゲートに接続される。
The fifth transistor TP45 has a voltage V
The PP is connected between an external connection point to which PP is variably supplied and the detected point p1, and the charge storage capacitance C is connected to the drain (detected point p1) portion thereof. The first transistor TP4
The gate of 1 is the second and fourth transistors TP42, TP44
Of the fifth transistor TP45 and connected to the source / drain connection part thereof.

【0113】さらに、第2のトランジスタTP42 のゲー
トが第1,第3のトランジスタTP41 ,TP43 のソー
ス,ドレイン接続部に接続され、第3,4,6及び8の
トランジスタTP43 ,TP44 ,TN41 ,TN43 の各ゲー
トが接続されて電源線VCCに接続される。また、第7の
トランジスタTP42 のゲートと第9のトランジスタTN4
4 のゲートとの間にインバータIN3が接続され、該トラ
ンジスタTN42 のゲートに電圧制御信号SVが入力され
る。
Further, the gate of the second transistor TP42 is connected to the source / drain connection portions of the first and third transistors TP41, TP43, and the third, fourth, sixth and eighth transistors TP43, TP44, TN41, TN43. Are connected to the power supply line Vcc. Also, the gate of the seventh transistor TP42 and the ninth transistor TN4
The inverter IN3 is connected to the gate of the transistor 4 and the voltage control signal SV is input to the gate of the transistor TN42.

【0114】電圧検出回路103 は電圧検出手段17の一
実施例であり、電圧VPPを検出して電圧検出信号SVを
電圧制御回路31の第7のトランジスタTN42 に出力す
るものである。なお、電圧検出回路103 が本発明の第3
の実施例に係る電圧検出回路から成り、該電圧制御回路
31や電圧検出回路103 ,特に、n型変形MOSFET
23及びn型MOSFET24Aの構成トランジスタが同
一のマスクにより形成されたトランジスタから構成され
る。
The voltage detection circuit 103 is an embodiment of the voltage detection means 17, and detects the voltage VPP and outputs the voltage detection signal SV to the seventh transistor TN42 of the voltage control circuit 31. The voltage detection circuit 103 is the third embodiment of the present invention.
The voltage control circuit 31 and the voltage detection circuit 103, especially the n-type modified MOSFET.
The transistors constituting the 23 and n-type MOSFET 24A are formed by the same mask.

【0115】このようにして、本発明の第3の実施例に
係る高電圧出力回路によれば、図8に示すように電圧制
御回路31及び電圧検出回路103 が具備され、該電圧検
出回路103 が本発明の第3の電圧検出回路から成る。
Thus, according to the high voltage output circuit of the third embodiment of the present invention, the voltage control circuit 31 and the voltage detection circuit 103 are provided as shown in FIG. 8, and the voltage detection circuit 103 is provided. Is a third voltage detection circuit of the present invention.

【0116】例えば、EPROMやLCD装置の駆動回
路を構成するトランジスタに類似する構造のトランジス
タにより構成された第3の電圧検出回路103 が当該高電
圧出力回路に設けられる。また、電圧制御回路31から
不図示のEPROMやLCD装置の駆動回路にデータ書
込みや駆動電圧を供給する際に、該電圧VPPが第3の電
圧検出回路等により検出され、その電圧検出信号SVが
電圧検出回路103 から電圧制御回路31に出力される。
For example, the third voltage detection circuit 103 formed by a transistor having a structure similar to that of a transistor forming a drive circuit of an EPROM or LCD device is provided in the high voltage output circuit. Further, when writing data or supplying a drive voltage from the voltage control circuit 31 to a drive circuit of an EPROM or LCD device (not shown), the voltage VPP is detected by a third voltage detection circuit or the like, and the voltage detection signal SV is detected. It is output from the voltage detection circuit 103 to the voltage control circuit 31.

【0117】このため、電圧検出回路103 において、レ
ベル変換をするダイオードDRの電子なだれ現象を利用
し、例えば、EPROMに係るデータの再書込みをする
電圧VPPを検出する場合であって、その書込み電圧(高
電圧)に対して電圧検出系の駆動電源を低電圧VCCに設
計する要求があった場合にも、該検出回路のリファンレ
ンス電流を小さく設定することができる。
Therefore, in the voltage detection circuit 103, for example, when the electron avalanche phenomenon of the diode DR for level conversion is used to detect the voltage VPP for rewriting data relating to the EPROM, the write voltage Even when there is a request to design the driving power supply of the voltage detection system to have a low voltage Vcc with respect to (high voltage), the reference current of the detection circuit can be set small.

【0118】このことで、当該電圧検出回路103 の基準
抵抗Rr に流れる無駄な電流を小さく抑えることが可能
となる。また、電圧検出回路103 から電圧制御回路31
に帰還される電圧検出信号SVがゲート電圧vg1やvg2
に依存した円滑な制御により得られることから、該電圧
制御回路31により目標電圧を安定して出力することが
可能となる。
As a result, it is possible to suppress the useless current flowing through the reference resistor Rr of the voltage detecting circuit 103 to be small. In addition, the voltage detection circuit 103 to the voltage control circuit 31
The voltage detection signal SV fed back to the gate voltage vg1 or vg2
Since the voltage control circuit 31 can obtain a target voltage in a stable manner, the voltage control circuit 31 can output the target voltage in a stable manner.

【0119】このことで、EPROM,EEPROMや
LCD装置等を構成するトランジスタの耐圧に依存した
幅広い電圧出力制御を行うことが可能となる。これによ
り、第3の電圧検出回路の信頼性の向上が図られること
から、所望のデータ書込みや消去処理を行うことが可能
となる。例えば、フラッシュメモリの追加消去回数を減
らすことができ、無駄な処理時間を省略することが可能
となる。また、当該高電圧出力回路の内蔵する半導体集
積回路装置の信頼性の向上を図ることが可能となる。
As a result, it becomes possible to perform a wide range of voltage output control depending on the breakdown voltage of the transistors forming the EPROM, EEPROM, LCD device and the like. As a result, the reliability of the third voltage detection circuit is improved, and it is possible to perform desired data writing and erasing processing. For example, it is possible to reduce the number of times of additional erasing of the flash memory, and it is possible to omit wasteful processing time. Further, it is possible to improve the reliability of the semiconductor integrated circuit device incorporated in the high voltage output circuit.

【0120】[0120]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の第1の電
圧検出回路によれば、電圧出力回路及び信号検出回路が
具備され、被電圧検出部の電圧供給線に電流検出用ダミ
ー電界効果トランジスタが接続され、その電圧よりも低
い電圧が信号検出回路に出力される。
As described above, according to the first voltage detection circuit of the present invention, the voltage output circuit and the signal detection circuit are provided, and the dummy electric field effect for current detection is provided in the voltage supply line of the voltage detection target portion. The transistor is connected and a voltage lower than that voltage is output to the signal detection circuit.

【0121】このため、電流検出用ダミー電界効果トラ
ンジスタのゲート電圧を可変制御することで、ゲートジ
ャンクションのブレーク電圧に係る電圧制御を行うこと
が可能となる。このことで、従来例のように、当該電圧
検出回路を構成するトランジスタの閾値電圧がバラつい
た場合であっても、ゲート電圧を可変制御することによ
り、被比較電圧の出力の安定化を図ることが可能とな
る。
Therefore, by variably controlling the gate voltage of the current detecting dummy field effect transistor, it becomes possible to control the voltage related to the break voltage of the gate junction. As a result, even if the threshold voltage of the transistor forming the voltage detection circuit varies as in the conventional example, the output of the compared voltage is stabilized by variably controlling the gate voltage. It becomes possible.

【0122】また、本発明の第2の電圧検出回路によれ
ば、電圧変換回路と信号検出回路とを接続する点と被電
圧検出部と間に電圧検出補助素子が接続される。このた
め、電圧検出補助素子では、ゲート電圧に基づき、横型
バイポーラトランジスタの動作に係るスイッチバック現
象やそのパンチスルー現象により被電圧検出部の電圧情
報を検出することができる。また、ダイオードのブレー
クダウン現象により被電圧検出部の電圧情報を検出する
ことができる。このことから電圧検出補助素子により電
流検出用ダミー電界効果トランジスタの電圧制御を補助
することが可能となる。
Further, according to the second voltage detection circuit of the present invention, the voltage detection auxiliary element is connected between the point connecting the voltage conversion circuit and the signal detection circuit and the voltage detection target portion. Therefore, the voltage detection auxiliary element can detect the voltage information of the voltage detection target portion based on the gate voltage by the switchback phenomenon or the punch-through phenomenon related to the operation of the lateral bipolar transistor. Further, the voltage information of the voltage detection target portion can be detected by the breakdown phenomenon of the diode. From this, it becomes possible to assist the voltage control of the dummy field effect transistor for current detection by the voltage detection auxiliary element.

【0123】さらに、本発明の第3の電圧検出回路によ
れば、被電圧検出部に接続された電流検出用ダミー電界
効果トランジスタや電圧検出補助素子の他方が、バイア
ス素子を直列に接続して接地線に接続され、かつ、該電
圧よりも低い電圧レベルに個別に変換され、それが個別
に信号検出回路に出力される。
Further, according to the third voltage detection circuit of the present invention, the other of the current detection dummy field effect transistor and the voltage detection auxiliary element connected to the voltage detection target has the bias element connected in series. It is connected to the ground line and is individually converted to a voltage level lower than the voltage, which is individually output to the signal detection circuit.

【0124】このため、信号検出回路において、個別に
入力された電圧検出に係る信号の論理処理等をすること
で、電圧検出機能の多様化を図ることが可能となる。こ
れにより、従来例のように、当該電圧検出回路を構成す
るトランジスタの閾値電圧がバラついた場合であって
も、ゲート電圧を可変制御することにより、当該電圧検
出信号に基づいて他の回路の出力制御を精度良く実行す
ることが可能となる。
Therefore, in the signal detection circuit, it is possible to diversify the voltage detection function by logically processing the signals individually input for voltage detection. As a result, even when the threshold voltage of the transistor that configures the voltage detection circuit is varied as in the conventional example, the gate voltage is variably controlled so that other circuits based on the voltage detection signal are controlled. The output control can be executed with high accuracy.

【0125】また、本発明の高電圧出力回路によれば、
可変電圧供給手段及び電圧検出手段が具備され、該電圧
検出手段が本発明の第1〜第3の電圧検出回路から成
る。このため、電圧検出系の駆動電源を低電圧に設計す
る要求があった場合にも、該第1〜第3の電圧検出回路
のリファンレンス電流を小さく設定することができる。
このことで、当該第1〜第3の電圧検出回路のバイアス
素子等に流れる無駄な電流を小さく抑えることが可能と
なる。また、電圧検出手段から可変電圧供給手段に帰還
される電圧検出信号がゲート電圧に依存した円滑な制御
により得られることから、該電圧供給手段により安定し
た目標電圧を出力することが可能となる。
According to the high voltage output circuit of the present invention,
A variable voltage supply means and a voltage detection means are provided, and the voltage detection means comprises the first to third voltage detection circuits of the present invention. Therefore, even if there is a request to design the driving power supply of the voltage detection system to be a low voltage, the reference currents of the first to third voltage detection circuits can be set small.
As a result, it is possible to suppress a wasteful current flowing through the bias elements and the like of the first to third voltage detection circuits. Further, since the voltage detection signal fed back from the voltage detection means to the variable voltage supply means is obtained by smooth control depending on the gate voltage, it becomes possible to output a stable target voltage by the voltage supply means.

【0126】これにより、EPROM,EEPROM等
の負荷回路を構成するトランジスタの耐圧に依存した幅
広い電圧出力制御を行うことが可能となる。また、電圧
検出回路の信頼性の向上が図られることから、所望のデ
ータ書込みや消去処理を行うことが可能となり、無駄な
時間を省略することが可能となる。このことで、当該高
電圧出力回路の内蔵する半導体集積回路装置の信頼性の
向上に寄与するところが大きい。
As a result, it becomes possible to perform a wide range of voltage output control depending on the breakdown voltage of the transistors forming the load circuit such as EPROM and EEPROM. Further, since the reliability of the voltage detection circuit is improved, it is possible to perform desired data writing and erasing processing, and it is possible to omit a wasteful time. This greatly contributes to the improvement of the reliability of the semiconductor integrated circuit device incorporated in the high voltage output circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る電圧検出回路の原理図である。FIG. 1 is a principle diagram of a voltage detection circuit according to the present invention.

【図2】本発明に係る高電圧出力回路の原理図である。FIG. 2 is a principle diagram of a high voltage output circuit according to the present invention.

【図3】本発明の第1の実施例に係る電圧検出回路の構
成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of a voltage detection circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施例に係る高電圧出力回路の
構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram of a high voltage output circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施例に係る電圧検出回路の構
成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram of a voltage detection circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2の実施例に係る高電圧出力回路の
構成図である。
FIG. 6 is a configuration diagram of a high voltage output circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第3の実施例に係る電圧検出回路の構
成図である。
FIG. 7 is a configuration diagram of a voltage detection circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第3の実施例に係る高電圧出力回路の
構成図である。
FIG. 8 is a configuration diagram of a high voltage output circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図9】従来例に係る高電圧出力回路及び電圧検出回路
の構成図である。
FIG. 9 is a configuration diagram of a high voltage output circuit and a voltage detection circuit according to a conventional example.

【図10】従来例に係るその他の電圧検出回路の構成図で
ある。
FIG. 10 is a configuration diagram of another voltage detection circuit according to the conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…電圧出力回路、 12…信号検出回路、 13…電流検出用ダミー電界効果トランジスタ、 14…電圧検出補助素子、 14A…電界効果トランジスタ、 14B…ダイオード、 15…バイアス素子、 16…可変電圧供給手段、 17…電圧検出手段、 V1…第1の電圧、 V2…第2の電圧、 p1…被電圧検出点、 p2,p3…接続点、 vg1,vg2…ゲート電圧。 11 ... voltage output circuit, 12 ... Signal detection circuit, 13 ... Dummy field effect transistor for current detection, 14 ... Voltage detection auxiliary element, 14A ... field effect transistor, 14B ... diode, 15 ... Bias element, 16 ... Variable voltage supply means, 17 ... Voltage detecting means, V1 ... the first voltage, V2 ... second voltage, p1 ... voltage detection point, p2, p3 ... connection point, vg1, vg2 ... Gate voltage.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 被電圧検出部と接地線との間に接続さ
れ、かつ、該被電圧検出部に係る第1の電圧に基づいて
該第1の電圧より小さい第2の電圧を出力する電圧出力
回路と、前記第2の電圧に基づいて該被電圧検出部に係
る電圧検出信号を出力する信号検出回路とを具備し、少
なくとも、前記被電圧検出部を含む第1の電圧の供給線
に第1の電界効果トランジスタのソース電極或いはドレ
イン電極のいずれか一方が接続されるとともに、前記第
1の電界効果トランジスタのウエル部が接地線に接続さ
れ、更に前記電圧出力回路と前記信号検出回路とを接続
する接続点に前記ウエル部が接続され、前記第1の電界
効果トランジスタのブレークダウン電圧はゲート電圧に
よって制御されることを特徴とする電圧検出回路。
1. A voltage which is connected between a voltage-detected portion and a ground line and which outputs a second voltage smaller than the first voltage based on a first voltage of the voltage-detected portion. An output circuit and a signal detection circuit that outputs a voltage detection signal according to the second voltage based on the second voltage, and at least a first voltage supply line including the voltage detected section. Either the source electrode or the drain electrode of the first field effect transistor is connected, the well portion of the first field effect transistor is connected to the ground line, and the voltage output circuit and the signal detection circuit are further connected. The voltage detecting circuit is characterized in that the well portion is connected to a connection point for connecting the above, and the breakdown voltage of the first field effect transistor is controlled by the gate voltage.
【請求項2】 請求項1記載の電圧検出回路において、
前記電圧出力回路と前記信号検出回路とを接続する接続
点と被電圧検出部との間に第2の電界効果トランジスタ
又はダイオードが接続され、該第2の電界効果トランジ
スタのブレークダウン電圧はゲート電圧によって制御さ
れることを特徴とする電圧検出回路。
2. The voltage detection circuit according to claim 1, wherein
A second field effect transistor or a diode is connected between a connection point connecting the voltage output circuit and the signal detection circuit and the voltage detection target part, and the breakdown voltage of the second field effect transistor is a gate voltage. A voltage detection circuit characterized by being controlled by.
【請求項3】 カソードが電圧供給線と電気的に接続さ
れ、アノードが接地線と電気的に接続されたダイオード
と、 一導電型半導体基板内の反対導電型ウエル上にゲート電
極が形成され、該ゲート電極の片側の前記ウエル表面に
一導電型不純物拡散領域を有すると共に、該不純物拡散
領域が前記ダイオードのカソードと電気的に接続され、
且つ、前記ウエルが前記ダイオードのアノードと電気的
に接続された変形電界効果トランジスタと、 前記ダイオードのアノードの電圧が入力され、該電圧に
基づいて前記電圧供給線の電圧を制御する電圧検出信号
を出力する信号検出回路と、を備え、 前記変形電界効果トランジスタのゲート電圧により該変
形電界効果トランジスタのブレーク電圧を制御すること
を特徴とする電圧検出回路。
3. A diode having a cathode electrically connected to a voltage supply line and an anode electrically connected to a ground line, and a gate electrode formed on a well of opposite conductivity type in a semiconductor substrate of one conductivity type, The well surface on one side of the gate electrode has a one conductivity type impurity diffusion region, and the impurity diffusion region is electrically connected to the cathode of the diode,
Further, the modified field effect transistor having the well electrically connected to the anode of the diode, and the voltage detection signal for controlling the voltage of the voltage supply line based on the voltage are input to the voltage of the anode of the diode. And a signal detection circuit for outputting, wherein the break voltage of the modified field effect transistor is controlled by the gate voltage of the modified field effect transistor.
【請求項4】 負荷回路に電圧を供給する可変電圧供給
手段と、前記電圧を検出して前記可変電圧供給手段に電
圧検出信号を出力する電圧検出手段とを具備し、前記電
圧検出手段が請求項1乃至3のいずれかに記載の電圧検
出回路からなることを特徴とする高電圧検出回路。
4. A variable voltage supply means for supplying a voltage to a load circuit, and a voltage detection means for detecting the voltage and outputting a voltage detection signal to the variable voltage supply means, the voltage detection means comprising: A high voltage detection circuit comprising the voltage detection circuit according to any one of items 1 to 3.
JP03635692A 1992-02-24 1992-02-24 Voltage detection circuit and high voltage output circuit Expired - Fee Related JP3396872B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03635692A JP3396872B2 (en) 1992-02-24 1992-02-24 Voltage detection circuit and high voltage output circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03635692A JP3396872B2 (en) 1992-02-24 1992-02-24 Voltage detection circuit and high voltage output circuit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05234389A JPH05234389A (en) 1993-09-10
JP3396872B2 true JP3396872B2 (en) 2003-04-14

Family

ID=12467555

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP03635692A Expired - Fee Related JP3396872B2 (en) 1992-02-24 1992-02-24 Voltage detection circuit and high voltage output circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3396872B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007080306A (en) * 2005-09-09 2007-03-29 Toshiba Corp Nonvolatile semiconductor memory device
JP6027330B2 (en) * 2012-03-30 2016-11-16 ラピスセミコンダクタ株式会社 Voltage generation circuit, semiconductor memory, and voltage control method

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05234389A (en) 1993-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7466189B2 (en) Semiconductor integrated circuit
US5898335A (en) High voltage generator circuit
US5629891A (en) Writable analog reference voltage storage device
KR950003346B1 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
JP5341780B2 (en) Power supply control circuit
US7030682B2 (en) Voltage detection circuit and internal voltage generating circuit comprising it
JPH0620482A (en) Semiconductor device
US20070069800A1 (en) Negative charge-pump with circuit to eliminate parasitic diode turn-on
US6559710B2 (en) Raised voltage generation circuit
JP3566745B2 (en) Voltage converter
RU2137294C1 (en) High-voltage turn-on mos device built around semiconductor integrated circuit
JP3396872B2 (en) Voltage detection circuit and high voltage output circuit
US6670844B2 (en) Charge pump circuit
US7692479B2 (en) Semiconductor integrated circuit device including charge pump circuit capable of suppressing noise
JP7099640B2 (en) Semiconductor equipment
JP2013164886A (en) Semiconductor integrated circuit
JP3180608B2 (en) Power supply selection circuit
KR940008206B1 (en) High voltage switch circuit
US20240072656A1 (en) Power supply device
US20230155498A1 (en) Current source circuit
EP0475066A2 (en) Eeprom analog switch
US6747477B2 (en) Programmable data device and method therefor
TW556413B (en) Multi-valued logical circuit
JP2003069410A (en) Input output buffer circuit
JP2002153044A (en) Voltage-boosting circuit and integrated circuit device and non-volatile semiconductor storage device using it

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20030121

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees