JP3387847B2 - Semiconductor integrated circuit and method of manufacturing the same - Google Patents

Semiconductor integrated circuit and method of manufacturing the same

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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の階層マクロ
を搭載する半導体集積回路に関し、特に、各下位階層マ
クロにおけるクロックスキュー(Clock Ske
w)の低減を図ることにより高速処理が可能となる半導
体集積回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit having a plurality of hierarchical macros mounted thereon, and more particularly to a clock skew (Clock Skew) in each lower hierarchical macro.
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit capable of high speed processing by reducing w).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の半導体集積回路では、C
AD(計算機援用設計)を用いてレイアウトする場合、
各階層マクロの入力部分であるCTS(Clock T
reeSynthesis)の設計工程において、その
遅延値をCADライブラリに登録された素子および配線
の遅延値に基づいて計算し、この計算結果により回路へ
のバッファ挿入または配線長の調整を行なって、全体の
遅延を調整していた。
2. Description of the Related Art Conventionally, in this type of semiconductor integrated circuit, C
When laying out using AD (computer aided design),
CTS (Clock T which is an input part of each layer macro
In the design process of reeSynthesis), the delay value is calculated based on the delay value of the element and the wiring registered in the CAD library, and the buffer is inserted into the circuit or the wiring length is adjusted according to the calculation result, and the total delay is calculated. Was being adjusted.

【0003】例えば、図3および図4に示されるよう
に、4つの下位階層マクロ101〜104に対して上位
階層マクロ105を有する場合、CTS処理は、下位階
層マクロ101〜104と上位階層マクロ105との二
つに大別される。
For example, as shown in FIGS. 3 and 4, when the upper layer macro 105 is provided for the four lower layer macros 101 to 104, the CTS process is performed by the lower layer macros 101 to 104 and the upper layer macro 105. It is roughly divided into two.

【0004】まず、下位階層マクロ101〜104それ
ぞれ内のCTS処理を行なう。すなわち、下位階層マク
ロ101では、CTSバッファ121からフリップフロ
ップ(以後、FFと略称する)回路131までのクロッ
ク伝搬遅延が上記計算値に基づいて所定値に設定され
る。同様に、下位階層マクロ102〜104それぞれで
は、CTSバッファ122〜124それぞれからFF回
路132〜134それぞれまでのクロック伝搬遅延が上
記計算値それぞれに基づいて所定値に設定される。
First, the CTS process in each of the lower hierarchy macros 101 to 104 is performed. That is, in the lower layer macro 101, the clock propagation delay from the CTS buffer 121 to the flip-flop (hereinafter abbreviated as FF) circuit 131 is set to a predetermined value based on the calculated value. Similarly, in each of the lower hierarchy macros 102 to 104, the clock propagation delay from each of the CTS buffers 122 to 124 to each of the FF circuits 132 to 134 is set to a predetermined value based on each of the calculated values.

【0005】次いで、上述した各下位階層マクロ101
〜104内に設定された遅延情報に基づいて、上位階層
マクロ105のCTSバッファ125から下位階層マク
ロ101〜104内部それぞれのFF回路131〜13
4までの伝搬遅延が同一になるように、バッファ挿入ま
たは配線長の調整が行なわれる。
Next, each of the above-mentioned lower layer macros 101
.. to 104, the FF circuits 131 to 13 inside the CTS buffer 125 of the upper layer macro 105 to the lower layer macros 101 to 104, respectively.
Buffer insertion or wiring length adjustment is performed so that the propagation delays up to 4 are the same.

【0006】この調整の際、下位階層マクロ101〜1
04それぞれの内部遅延差が大きい場合、上位階層マク
ロ105内で行なうCTS処理での遅延調整幅が多様と
なる。例えば、図示されるように、上位階層のCTSバ
ッファ125から下位階層マクロ101のFF回路13
1までの場合では、配線は長いがゲートに遅延調整用バ
ッファは不要である。他方、上位階層のCTSバッファ
125から下位階層マクロ102のFF回路132まで
の場合では、配線は短いがゲートとして多数の遅延調整
用バッファが存在する。
At the time of this adjustment, the lower layer macros 101 to 1
When the respective internal delay differences 04 are large, the delay adjustment width in the CTS process performed in the upper layer macro 105 becomes diverse. For example, as illustrated, the CTS buffer 125 in the upper layer to the FF circuit 13 in the macro 101 in the lower layer.
In the cases up to 1, the wiring is long, but the delay adjustment buffer is not required in the gate. On the other hand, in the case of the upper layer CTS buffer 125 to the FF circuit 132 of the lower layer macro 102, the wiring is short, but a large number of delay adjustment buffers exist as gates.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
集積回路では、複数の階層マクロそれぞれに対するクロ
ックスキューが悪化するので、高速処理ができないとい
う問題点がある。
The above-described conventional semiconductor integrated circuit has a problem that high-speed processing cannot be performed because the clock skew for each of a plurality of hierarchical macros deteriorates.

【0008】その理由は、上位階層マクロから下位階層
マクロまでのクロック伝搬遅延の調整を下位階層マクロ
それぞれにおけるフリップフロップ回路まで総合的に行
なっているからである。このような調整では、下位階層
マクロそれぞれに対する調整に基づく配線長および遅延
ゲートの組み合わせにより多様な状態が生じるので、半
導体集積回路の製造の際に、各階層マクロに対してトラ
ンジスタゲートのプロセスばらつきまたは配線長ばらつ
きが大きくなるからである。
The reason is that the clock propagation delay from the upper layer macro to the lower layer macro is adjusted comprehensively to the flip-flop circuits in each of the lower layer macros. In such an adjustment, various states occur depending on the combination of the wiring length and the delay gate based on the adjustment for each lower layer macro. Therefore, when manufacturing a semiconductor integrated circuit, the process variation of the transistor gate for each layer macro or This is because the wiring length variation becomes large.

【0009】本発明の課題は、このような問題点を解決
し、各下位階層マクロにおけるクロックスキューの低減
を図ることにより高速処理が可能となる半導体集積回路
を提供することである。
An object of the present invention is to solve the above problems and to provide a semiconductor integrated circuit capable of high speed processing by reducing the clock skew in each lower layer macro.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明による半導体集積
回路は、複数の階層マクロを搭載する場合、各階層マク
ロ内に、それぞれの内部でクロック位相を調整する位相
同期ループ(PLL)マクロを備えている。
A semiconductor integrated circuit according to the present invention, when a plurality of hierarchical macros are mounted, is provided with a phase locked loop (PLL) macro for adjusting the clock phase inside each hierarchical macro. ing.

【0011】従って、各階層マクロのPLLで位相調節
により位相を一致させることができるので上位階層での
CTS処理では下位階層マクロのPLL入力までの遅延
対策のみを配慮すればよい。
Therefore, since the phases of the PLLs of the macros of the respective layers can be matched with each other by adjusting the phase, in the CTS processing in the upper layer, it is only necessary to take measures against the delay until the PLL input of the lower layer macro.

【0012】このような手段を有する半導体集積回路で
は、上位階層のCTSバッファから、このCTSバッフ
ァに接続する複数の下位階層マクロそれぞれにおける入
力までの遅延差は小さいので、配線のみの調節でクロッ
ク遅延を同一とすることができる。
In the semiconductor integrated circuit having such means, the delay difference from the CTS buffer in the upper layer to the input in each of the plurality of lower layer macros connected to the CTS buffer is small. Can be the same.

【0013】従って、下位階層マクロでも、それぞれが
同一遅延となるように調節すればよい。
Therefore, even the lower layer macros may be adjusted so that they have the same delay.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0015】図1は本発明の実施の一形態を示すブロッ
ク平面図、また図2は図1を階層別に並べ変えたブロッ
ク接続図である。
FIG. 1 is a block plan view showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a block connection diagram in which FIG. 1 is rearranged by hierarchy.

【0016】図1に示されるように半導体集積回路10
は、4つの下位階層マクロ1〜4および上位階層マクロ
5を搭載しており、2段構成を有するものとする。下位
階層マクロ1〜4および上位階層マクロ5それぞれには
PLLマクロ11〜15それぞれが搭載されている。従
って、例えば、PLLマクロ11はマクロに対する入力
を受ける一方、CTSバッファ21を介して下位階層マ
クロ1におけるフリップフロップ(FF)回路31に接
続する最終段のバッファまでループを形成している。他
のPLLマクロ12〜14も同様である。PLLマクロ
15は半導体集積回路10に対するクロック入力と下位
階層マクロの入力点までのクロック位相を一致させる。
As shown in FIG. 1, the semiconductor integrated circuit 10
Is equipped with four lower layer macros 1 to 4 and an upper layer macro 5, and has a two-stage configuration. PLL macros 11 to 15 are mounted on the lower layer macros 1 to 4 and the upper layer macros 5, respectively. Therefore, for example, the PLL macro 11 receives an input to the macro and forms a loop up to the final stage buffer connected to the flip-flop (FF) circuit 31 in the lower hierarchy macro 1 via the CTS buffer 21. The same applies to the other PLL macros 12 to 14. The PLL macro 15 matches the clock input to the semiconductor integrated circuit 10 with the clock phase up to the input point of the lower layer macro.

【0017】従来との相違点は、下位階層マクロ1〜4
それぞれにPLLマクロ11〜14それぞれが搭載さ
れ、上位階層マクロと下位階層マクロとの間から、遅延
ゲートとして部分的に必要とされていた全ての遅延調整
用バッファを削除していることである。
The difference from the prior art is that the lower hierarchy macros 1 to 4 are
That is, the PLL macros 11 to 14 are respectively mounted, and all the delay adjustment buffers that are partially required as delay gates are deleted from between the upper layer macro and the lower layer macro.

【0018】各階層マクロ1〜5では、PLLマクロ1
1〜15それぞれによりクロック位相を入力と出力とで
一致させることができるので、位相を一致させた後、C
TSバッファ21〜25それぞれにより遅延調整のため
のCTS処理が実行される。従って、各階層マクロ1〜
5のCTS処理は、どの階層マクロから開始されてもよ
く、その順序は任意である。
In each layer macro 1 to 5, the PLL macro 1
Since the clock phase can be matched between the input and the output by each of 1 to 15, after matching the phases, C
CTS processing for delay adjustment is executed by each of the TS buffers 21 to 25. Therefore, each layer macro 1
The CTS process of No. 5 may be started from any hierarchical macro, and the order thereof is arbitrary.

【0019】下位階層マクロ1で行なう場合、CTSバ
ッファ21からFF回路31までのクロック伝搬遅延を
バッファ挿入および配線長の調整により行なう。他の下
位階層マクロ2〜4も同様に同一のクロック伝搬遅延が
得られるようにバッファ挿入および配線長により調整す
る。
When the lower layer macro 1 is used, clock propagation delay from the CTS buffer 21 to the FF circuit 31 is performed by inserting the buffer and adjusting the wiring length. Similarly, the other lower layer macros 2 to 4 are adjusted by buffer insertion and wiring length so that the same clock propagation delay can be obtained.

【0020】他方、上位階層マクロ5の場合、下位階層
マクロ1〜4それぞれの内部ではPLLマクロ11〜1
4により位相差を無しにできるので、上位階層マクロ5
のCTS処理は、CTS25から各下位階層マクロ1〜
4のPLLマクロ11〜14それぞれの入力点までのク
ロック伝搬遅延をバッファ挿入および配線長の調整によ
り行なう。
On the other hand, in the case of the upper layer macro 5, the PLL macros 11 to 1 are provided inside the lower layer macros 1 to 4, respectively.
4, the phase difference can be eliminated, so the upper layer macro 5
The CTS process of CTS25 is performed from
Clock propagation delay up to the input points of the four PLL macros 11 to 14 is performed by inserting a buffer and adjusting the wiring length.

【0021】上位階層マクロ5のPLLマクロ25は、
このPLL25の入力点から下位階層マクロ1〜4のF
F回路31〜34それぞれの入力点までの位相差を無し
として他の半導体集積回路とのクロック位相合わせを行
なっている。
The PLL macro 25 of the upper layer macro 5 is
From the input point of this PLL 25 to the F of the lower hierarchy macros 1 to 4
Clock phase matching with other semiconductor integrated circuits is performed without the phase difference up to the input points of the F circuits 31 to 34.

【0022】上位階層マクロ5から下位階層マクロ1〜
4までの総合の特性としては、下位階層マクロ1〜4の
内部でPLLマクロ11〜14それぞれによりクロック
伝搬遅延の位相を一致させるように位相調整をしている
ので、上位階層マクロ5のCTSバッファ25における
CTS処理では各下位階層マクロ1〜4の入口であるP
LLマクロ11〜14それぞれの入力点までの遅延を考
慮すればよいことになる。
The upper layer macro 5 to the lower layer macros 1 to 1
As for the total characteristics up to 4, the PLL macros 11 to 14 inside the lower layer macros 1 to 4 perform the phase adjustment so that the phases of the clock propagation delays are matched with each other. In the CTS process of No. 25, P, which is the entrance to each of the lower layer macros 1 to 4
It is only necessary to consider the delays to the input points of the LL macros 11 to 14.

【0023】従って、上位階層マクロ5でのCTS処理
で、下位階層マクロ1〜4のFF回路31〜34それぞ
れまでのクロック伝搬遅延を考慮する必要がない。この
結果、上位階層マクロ5のCTS処理において、クロッ
ク伝搬遅延の調整幅は少なくて済み、配線長の調整のみ
で容易に遅延調整ができるので、遅延バッファの挿入に
よる遅延調整は不要となる。
Therefore, in the CTS processing in the upper layer macro 5, it is not necessary to consider the clock propagation delays to the FF circuits 31 to 34 of the lower layer macros 1 to 4, respectively. As a result, in the CTS process of the upper layer macro 5, the adjustment width of the clock propagation delay is small, and the delay adjustment can be easily performed only by adjusting the wiring length, so that the delay adjustment by inserting the delay buffer is unnecessary.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、下
位階層マクロそれぞれにPLLマクロを備えて下位階層
マクロ内部のクロック伝搬遅延に対する位相を一致させ
て位相差を無しにできるので、上位階層マクロのCTS
処理では、下位階層マクロ内のクロック伝搬遅延を配慮
する必要がなく、かつ下位階層マクロの入力点までのク
ロック伝搬遅延の調整幅は小さい。従って、配線のみで
遅延の調整が可能であるのみならず、調整幅が小さいの
で、配線のばらつきが少ない。また、このCTS処理の
ために遅延調整用のバッファなどを遅延ゲートとして用
いていないので、トランジスタのプロセスばらつきも少
ない。
As described above, according to the present invention, each lower layer macro is provided with a PLL macro, and the phase with respect to the clock propagation delay in the lower layer macro can be matched to eliminate the phase difference. Macro CTS
In the processing, it is not necessary to consider the clock propagation delay in the lower layer macro, and the adjustment range of the clock propagation delay up to the input point of the lower layer macro is small. Therefore, not only the delay can be adjusted only by the wiring, but also the adjustment width is small, so that there is little variation in the wiring. Further, since a buffer for delay adjustment or the like is not used as a delay gate for this CTS processing, the process variation of the transistor is small.

【0025】これらの結果、クロックスキューの低減を
図ることができるという効果を得ることができるので、
高速の半導体集積回路を得ることができる。
As a result, the effect that the clock skew can be reduced can be obtained.
A high-speed semiconductor integrated circuit can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の一形態を示すブロック平面図で
ある。
FIG. 1 is a block plan view showing an embodiment of the present invention.

【図2】図1の各マクロを階層別に並べ変えたブロック
接続図である。
FIG. 2 is a block connection diagram in which each macro of FIG. 1 is rearranged for each layer.

【図3】従来の一例を示すブロック平面図である。FIG. 3 is a block plan view showing a conventional example.

【図4】図3の各マクロを階層別に並べ変えたブロック
接続図である。
FIG. 4 is a block connection diagram in which each macro of FIG. 3 is rearranged for each layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、2、3、4 下位階層マクロ 5 上位階層マクロ 10 半導体集積回路 11、12、13、14、15 PLL(位相同期ル
ープ)マクロ 21、22、23、24、25 CTSバッファ 31、32、33、34 FF(フリップフロップ)
回路
1, 2, 3, 4 Lower layer macro 5 Upper layer macro 10 Semiconductor integrated circuits 11, 12, 13, 14, 15 PLL (phase locked loop) macros 21, 22, 23, 24, 25 CTS buffers 31, 32, 33 , 34 FF (flip-flop)
circuit

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平10−161769(JP,A) 特開 平11−65699(JP,A) 林美延、笹瀬巌、森真作 他、各階位 でディジタル信号処理型PLLの位相差 平均回数のことなる従属同期網,電子情 報通信学会論文誌 B−▲I▼ ,日 本,1991年 2月,VOL.74 NO. 2,P.129−135 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/822 H01L 21/82 H01L 27/04 JICSTファイル(JOIS)Continuation of the front page (56) References Japanese Patent Laid-Open No. 10-161769 (JP, A) Japanese Patent Laid-Open No. 11-65699 (JP, A) Minobu Hayashi, Iwao Sasase, Shinsaku Mori, etc. Digital signal processing type in each rank Phase difference of PLL Dependent synchronous network with different average frequency, The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers, B- ▲ I ▼, Nihon, February 1991, VOL. 74 NO. 2, P. 129-135 (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 21/822 H01L 21/82 H01L 27/04 JISST file (JOIS)

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数の階層マクロを搭載する半導体集積
回路において、各階層マクロ内に、それぞれの内部でク
ロック位相を調整する位相同期ループ(PLL)マクロ
を備えることを特徴とする半導体集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit having a plurality of hierarchical macros, wherein each hierarchical macro is provided with a phase locked loop (PLL) macro for adjusting a clock phase therein.
【請求項2】 請求項1において、上位階層マクロ内の
位相同期ループは半導体集積回路入力と各下位階層マク
ロそれぞれの入力とのクロック位相を一致させ、かつ各
下位階層マクロの位相同期ループはそれぞれのマクロ内
部のクロック位相を一致させることを特徴とする半導体
集積回路。
2. The phase-locked loop in the upper layer macro according to claim 1, wherein the clock phases of the input of the semiconductor integrated circuit and the respective inputs of the respective lower layer macros match, and the phase-locked loop of each lower layer macro is respectively A semiconductor integrated circuit characterized in that the clock phases in the macro of are matched.
【請求項3】 請求項2において、上位階層マクロのC
TS(ClockTree Synthesis)バッ
ファから、このクロック伝搬遅延バッファに複式接続す
る複数の下位階層マクロそれぞれにおける入力までのク
ロック遅延を同一とする配線を有することを特徴とする
半導体集積回路。
3. The C of the upper layer macro according to claim 2.
A semiconductor integrated circuit having wirings having the same clock delay from a TS (Clock Tree Synthesis) buffer to an input in each of a plurality of lower layer macros that are multiple-connected to the clock propagation delay buffer.
【請求項4】 請求項3において、複数の下位階層マク
ロそれぞれの内部では、下位階層マクロそれぞれが同一
のクロック遅延を有するクロック伝搬遅延バッファおよ
び内部配線を有することを特徴とする半導体集積回路。
4. The semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein inside each of the plurality of lower layer macros, each lower layer macro has a clock propagation delay buffer having the same clock delay and an internal wiring.
【請求項5】 複数の階層マクロを搭載する半導体集積
回路の製造方法において、各階層マクロそれぞれの内部
に位相同期ループマクロを備え、それぞれの階層マクロ
内部でクロック位相を一致させる回路を形成することを
特徴とする半導体集積回路の製造方法。
5. A method of manufacturing a semiconductor integrated circuit having a plurality of hierarchical macros, wherein a phase-locked loop macro is provided inside each hierarchical macro, and a circuit for matching clock phases within each hierarchical macro is formed. A method of manufacturing a semiconductor integrated circuit, comprising:
【請求項6】 請求項5において、上位階層マクロの出
力を、接続する複数の下位階層マクロそれぞれにおける
入力に接続する配線を、それぞれのクロック遅延が同一
となるように調整する一方で、複数の下位階層マクロそ
れぞれでは内部のクロック伝搬遅延バッファおよび配線
の少なくとも一方で同一のクロック遅延を有するように
調整することを特徴とする半導体集積回路の製造方法。
6. The wiring according to claim 5, wherein the wiring connecting the output of the upper layer macro to the input of each of the plurality of connecting lower layer macros is adjusted to have the same clock delay, while A method for manufacturing a semiconductor integrated circuit, wherein each of the lower layer macros is adjusted so that at least one of an internal clock propagation delay buffer and a wiring has the same clock delay.
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林美延、笹瀬巌、森真作 他、各階位でディジタル信号処理型PLLの位相差平均回数のことなる従属同期網,電子情報通信学会論文誌 B−▲I▼ ,日本,1991年 2月,VOL.74 NO.2,P.129−135

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