JP3365519B2 - Phase change optical disk - Google Patents

Phase change optical disk

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JP3365519B2
JP3365519B2 JP12976193A JP12976193A JP3365519B2 JP 3365519 B2 JP3365519 B2 JP 3365519B2 JP 12976193 A JP12976193 A JP 12976193A JP 12976193 A JP12976193 A JP 12976193A JP 3365519 B2 JP3365519 B2 JP 3365519B2
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【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、照射されるレーザパワ
ーの差で記録層に結晶−非晶質間の相変化を生じさせる
ことにより、情報を高速かつ高密度に記録、再生、消去
することができる、繰り返し特性の優れた相変化型光デ
ィスクに関するものである。 【0002】 【従来の技術】相変化型光ディスクは、記録層として、
照射されるレーザパワーの差で結晶−非晶質間の相変化
が生じる材料を透明な基板の一方の面に有するものであ
り、レーザ光のパワーを変化させるだけで古い情報を消
去すると同時に新たな情報を記録すること(以下、「オ
ーバーライト」と称する)ができるという利点を有して
いる。 【0003】このオーバーライトが可能な相変化型光デ
ィスクの記録材料としては、In−Se系合金(App
l.Phys.Lett.第50巻、667頁、198
7年)やIn−Sb−Te合金(Appl.Phys.
Lett.第50巻、16頁、1987年)、Ge−T
e−Sb合金等のカルコゲン合金が主として用いられて
いる。 【0004】このようなカルコゲン合金を記録層として
実際に記録・消去を行う場合には、記録・消去の際に生
じる熱により基板が変形することを防止したり、記録層
の酸化や変形を防止するために、通常、この記録層の直
下と直上とのいずれか一方または双方に、金属あるいは
半金属の、酸化物、炭化物、窒化物、フッ化物、および
硫化物から選ばれた少なくとも一種類からなる保護層を
設けている。これらの保護層材料うちZnSにSiO2
等のガラス形成材料を添加したものを保護層とすると、
耐熱性や記録層との密着性に優れるため好ましい。 【0005】そして、カルコゲン合金からなる記録層
と、記録層の直下および/または直上に設けた保護層
と、記録層の基板側とは反対側に設けた冷却層を兼ねた
反射層(Al合金膜)とからなる三層または四層構造を
透明基板上に備えたものが、記録・消去特性の点で好適
であるために相変化型光ディスクの主流となっている。
図4は、従来の一般的な四層構造の相変化型光ディスク
を示す断面図である。このような三層または四層構造の
相変化型光ディスクについては、従来より、オーバーラ
イト繰り返し可能回数の増加や消去特性の改善に関する
数々の提案がなされており、特開平3−232133号
公報にはZnSとSiO2 とからなる保護層に窒素を添
加することが、特開平4−141488号公報にはSb
−Te−Ge系合金に窒素を含ませたものを記録層とす
ることが開示されている。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記保
護層に窒素を添加する方法においては、アーカイバル特
性(高温高湿下での非晶質ピットの安定性)や再生光安
定性(繰り返し再生に対する非晶質ピットの安定性)が
低下するという問題点があった。また、Sb−Te−G
e系合金に窒素を含ませたものを記録層とする方法にお
いては、通常、Sb−Te−Ge系合金をターゲットと
し、Arガスと窒素ガスとの混合ガスを用いスパッタリ
ング法により成膜を行う。 【0007】スパッタリング法による成膜に際しては、
ターゲットの成分以外に残留ガス成分等の不純物が膜中
に入り込むことがあり、このような不純物の存在が、オ
ーバーライトの繰り返しにより膜質を変化させて初期設
計特性から離れた特性を示すことがある。そして、Sb
−Te−Ge系合金からなる記録層全体に窒素が存在す
るこの方法では、Sb、Te、Geの各記録層材料構成
元素と窒素との結合状態が、成膜時(初期)と、オーバ
ーライトを繰り返した後とで変化し、例えば1回記録時
とオーバーライトを繰り返した100回記録時とでは記
録感度に大きな違いが生じるため、記録感度が安定する
までに100回程度の繰り返し記録・消去が必要になる
という問題点があった。 【0008】本発明は、このような従来技術の問題点に
着目してなされたものであり、アーカイバル特性や再生
光安定性および記録感度の安定性を確保しながら、オー
バーライト繰り返し可能回数の増加と消去特性の改善が
なされた相変化型光ディスクを提供することを目的とす
る。 【0009】 【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の相変化型光ディスクは、透明な基板と、こ
の基板の一方の面に形成された、照射されるレーザパワ
ーの差で結晶−非晶質間の相変化が生じる材料からなる
記録層と、この記録層と前記基板との間および記録層の
外側のいずれか一方または双方に形成された保護層とを
備えた相変化型光ディスクにおいて、前記保護層の材料
は、金属又は半金属の酸化物、フッ化物、硫化物から選
ばれた少なくとも一種と、ZnSと、の混合物であり、
前記保護層と記録層との間に、保護層材料と窒素とから
り、厚さが10nm以下の補助層を設けたことを特徴
とするものである。 【0010】ここで、記録層と前記基板との間および記
録層の外側の双方に保護層を有する場合(すなわち、上
側保護層および下側保護層を有する場合)には、上側保
護層と記録層との間、および下側保護層と記録層との
間、の一方もしくは両方に保護層材料と窒素とからなる
厚さが10nm以下の補助層を設ける。本発明の相変化
型光ディスクの一例を図1に示す。この例は、上側保護
層および下側保護層の両方を備えたものであり、透明な
基板1の上に下側保護層2、その上に記録層3、保護層
材料と窒素とからなる厚さが10nm以下の補助層4、
上側保護層5、反射層6、紫外線硬化樹脂層7が順次積
層されている。 【0011】各層をなす材料は従来より公知のものが使
用でき、透明基板1としては光学特性が良好で機械的強
度が大きく、且つ寸法安定性に優れるポリカーボネイト
やガラスなどが適している。記録層3の材料としては、
In−Sb−Te、Ge−Te−Sb、In−Sb−T
l、Ge−Te−Sn−Au、Ge−Te−Sb−Pd
等のTeまたはSeをベースとする合金が好ましい。 【0012】保護層2,5の材料は、金属又は半金属の
酸化物、フッ化物、硫化物から選ばれた少なくとも一種
と、ZnSとの混合物であり、例えば、SiO2 、Si
O、Ta2 5 、ZrO2 等の酸化物、MgF2 等のフ
ッ化物、およびSmS、SrS等の硫化物から選ばれた
少なくとも一種と、ZnSとの混合物が好ましい。保護
層材料と窒素とからなる補助層4は、例えば次の方法に
より形成される。通常の手段で基板1の一方の面に下側
保護層2と記録層3とを成膜した後に、保護層材料をタ
ーゲットとし、Arガス(一般的な成膜ガス)と窒素ガ
スとの混合ガスでスパッタリング法により、保護層材料
と窒素とからなる膜(補助層4)を成膜する。この時、
窒素ガスはArガスと別系統のガスラインから装置内に
導入してもよいし、Arガスと混合したものを導入して
もよい。そして、この後に、保護層材料をターゲットと
し、窒素ガスを含まないArガスのみによるスパッタリ
ングを行うことにより、上側保護層5を所定厚さで成膜
する。また、下側保護層2と記録層3との間に補助層を
設ける場合には、下側保護層2の成膜後且つ記録層3の
成膜前に前記と同様のことを行う。 【0013】 【0014】形成された補助層4中の窒素含有量は、上
記の方法の場合、成膜ガス中の窒素ガス分圧により決ま
る。そして、補助層4中の窒素含有量として好適な値
は、記録層3や保護層2,5のターゲット組成や成膜条
件により若干異なるが、窒素ガス分圧で10〜80μto
rrである。また、保護層材料と窒素とからなる補助層の
厚は、10nm以下とする。この膜厚が10nmを超
えると、保護層全体に窒素を含有させた場合と同様の問
題点を有するようになる。 【0015】 【作用】本発明においては、保護層を、金属又は半金属
の酸化物、フッ化物、硫化物から選ばれた少なくとも一
種と、ZnSと、の混合物で形成するとともに、保護層
と記録層との間に保護層材料と窒素とからなる厚さが1
0nm以下の補助層を設けたことにより、すなわち、記
録層に隣接する保護層全体ではなく、保護層の記録層と
の界面側にのみ窒素を存在させたことにより、アーカイ
バル特性や再生光安定性を確保することができるし、記
録層全体に窒素を含有させる方法のようにオーバーライ
トの繰り返しに伴う記録感度の安定性を確保できないと
いうこともないから、安定した非晶質ピットを形成する
ことができる。 【0016】 【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
る。 <実施例1> 次のような手順により、図1に示す層構造の相変化型光
ディスクを作製した。まず、直径130mm厚さが1.
2mmで、片面に1.6μmピッチの溝が形成されてい
るポリカーボネート基板1をチャンバーに入れて、溝面
側の面に、RF(高周波)スパッタリング法によりZn
SとSiO2 とからなる(ZnS:SiO=80:2
0)ターゲットを使用して180nmの保護層2を形成
した。次に、この保護層2の上に、Sb−Te−Ge系
合金をターゲットして25nmの記録層3を形成し
た。 【0017】 【0018】 【0019】 【0020】 【0021】 【0022】 【0023】この記録層3の上に、Arガス分圧10m
torr、窒素分圧20μtorrでZnSとSiO2 とからな
る(ZnS:SiO=80:20)ターゲットを使用し
てスパッタリングを行い、3、5、10、15nmの窒
素を含む補助層4をそれぞれ形成した後に、窒素を完全
に除去してZnSとSiO2 とからなる保護層5を20
nm形成した。そして、この保護層5の上にAl合金か
らなる150nmの反射層6を形成した。この上に紫外
線硬化樹脂をスピンコート法により5μm塗布し、これ
に紫外線を照射して硬化させることにより、樹脂層7を
形成した。また、比較例として、図2に示すような、補
助層4の形成を行わず、記録層3の上に、Arガス分圧
10mtorr、窒素分圧20μtorrでZnSとSiO 2
からなる(ZnS:SiO=80:20)ターゲットを
使用してスパッタリングを行い、20nmの保護層5a
を形成したものも作製した。 【0024】このようにして得られた相変化型光ディス
クの各サンプルを駆動装置にかけ、線速度約5m/sで
回転させ、波長が830nmのレーザによりピークパワ
ー21mW、バイアスパワー10mWで、1.5T信号
を100回オーバーライトしてからリードパワー(1.
8mW)で再生し、CNRを測定した後、レーザをリー
ドパワーで照射することを繰り返し、300万回後と6
00万回後にもCNRを測定して、CNRの減少量を調
べた結果を図にグラフで示す。また、比較例のディス
クについても同様の測定をし、その結果も図に合わせ
て示す。 【0025】このグラフから分かるように、補助層4を
有するディスクは、補助層4なしのディスクと比較して
CNRの減少量が小さく、再生光安定性に優れている。
特に、補助層4の膜厚が10nm以下の場合にその効果
が高い。 【0026】 【0027】 【0028】 【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、保護層を、金属又は半金属の酸化物、フッ化物、硫
化物から選ばれた少なくとも一種と、ZnSと、の混合
物で形成するとともに、保護層と記録層との間に保護層
材料と窒素とからなる厚さが10nm以下の補助層を設
けたことにより、すなわち、記録層に隣接する保護層全
体ではなく、保護層の記録層との界面側にのみ窒素を存
在させたことにより、アーカイバル特性や再生光安定
改善がなされ、しかも記録層全体に窒素を含有させる
方法のようにオーバーライトの繰り返しに伴う記録感度
の安定性の悪化を招かない相変化型光ディスクを提供す
ることができる。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing information at high speed by causing a phase change between a crystal and an amorphous layer in a recording layer by a difference in irradiation laser power. The present invention relates to a phase-change type optical disc which can be recorded, reproduced, and erased at high density and has excellent repetition characteristics. 2. Description of the Related Art A phase change type optical disk has a recording layer
A material that undergoes a phase change between crystal and amorphous due to the difference in irradiation laser power is provided on one surface of a transparent substrate. This has the advantage that it is possible to record important information (hereinafter referred to as “overwrite”). As a recording material of a phase-change type optical disk capable of overwriting, an In—Se alloy (App
l. Phys. Lett. 50, 667, 198
7 years) or an In-Sb-Te alloy (Appl. Phys.
Lett. 50, 16, 1987), Ge-T
Chalcogen alloys such as e-Sb alloys are mainly used. When recording / erasing is actually performed using such a chalcogen alloy as a recording layer, the substrate is prevented from being deformed by the heat generated during recording / erasing, and the recording layer is prevented from being oxidized or deformed. In order to do so, usually, one or both directly under and above the recording layer, at least one selected from oxides, carbides, nitrides, fluorides, and sulfides of metals or metalloids Is provided. Of these protective layer materials, SiO 2 is used for ZnS.
When a protective layer is formed by adding a glass forming material such as
It is preferable because it has excellent heat resistance and adhesion to the recording layer. [0005] A recording layer made of a chalcogen alloy, a protective layer provided immediately below and / or immediately above the recording layer, and a reflective layer (Al alloy) serving also as a cooling layer provided on the side of the recording layer opposite to the substrate side. A three- or four-layer structure having a three-layer structure consisting of a film and a film on a transparent substrate is suitable for recording and erasing characteristics, and thus has become the mainstream of phase-change optical disks.
FIG. 4 shows a conventional general four-layer phase change type optical disk.
FIG. For such a three-layer or four-layer phase change optical disk, various proposals have been made with respect to an increase in the number of overwrite repetitions and an improvement in erasing characteristics. Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-141488 discloses that a protective layer composed of ZnS and SiO 2 is doped with nitrogen.
It is disclosed that a recording layer made of -Te-Ge alloy containing nitrogen is disclosed. [0006] However, in the method of adding nitrogen to the protective layer, the archival characteristics (stability of amorphous pits under high temperature and high humidity) and reproduction light stability ( However, there is a problem that the stability of the amorphous pits with respect to repeated reproduction is reduced. Also, Sb-Te-G
In a method of forming a recording layer using nitrogen in an e-based alloy, usually, a film is formed by a sputtering method using an Sb-Te-Ge-based alloy as a target and using a mixed gas of Ar gas and nitrogen gas. . When forming a film by the sputtering method,
In addition to the components of the target, impurities such as residual gas components may enter the film, and the presence of such impurities may change the film quality due to repetition of overwriting and exhibit characteristics deviating from the initial design characteristics. . And Sb
In this method, in which nitrogen is present in the entire recording layer made of a Te-Ge alloy, the bonding state between nitrogen and each of the recording layer material elements of Sb, Te, and Ge is changed between the film formation (initial) and the overwriting. Is repeated, and a large difference occurs in the recording sensitivity between, for example, one-time recording and 100 times of overwriting, so that the recording / erasing is repeated about 100 times until the recording sensitivity is stabilized. There was a problem that it became necessary. The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and it has been found that the overwrite repetition count can be reduced while ensuring archival characteristics, reproduction light stability and recording sensitivity stability. It is an object of the present invention to provide a phase-change optical disk having an increased erasing characteristic and improved erasing characteristics. In order to achieve the above object, a phase change type optical disk according to the present invention comprises a transparent substrate and an irradiating laser power formed on one surface of the substrate. A recording layer made of a material in which a phase change between a crystal and an amorphous occurs due to a difference between the recording layer and a protective layer formed on one or both of the recording layer and the substrate and outside or outside the recording layer. In the phase change optical disk, the material of the protective layer
Is selected from metal, metalloid oxides, fluorides and sulfides.
A mixture of at least one of the above and ZnS,
Wherein between the protective layer and the recording layer, the protective layer material and Ri Na <br/> from nitrogen, in which the thickness is characterized in that a following auxiliary layer 10 nm. Here, when a protective layer is provided both between the recording layer and the substrate and outside the recording layer (that is, when an upper protective layer and a lower protective layer are provided), the upper protective layer and the recording The protective layer material and nitrogen in one or both of the layers and / or between the lower protective layer and the recording layer
An auxiliary layer having a thickness of 10 nm or less is provided. FIG. 1 shows an example of the phase change optical disk of the present invention. This example is provided with both an upper protective layer and a lower protective layer. A lower protective layer 2 is provided on a transparent substrate 1, a recording layer 3 is provided thereon, and a thickness composed of a protective layer material and nitrogen is provided. An auxiliary layer 4 having a thickness of 10 nm or less ;
An upper protective layer 5, a reflective layer 6, and an ultraviolet curable resin layer 7 are sequentially laminated. Conventionally known materials can be used for forming each layer. As the transparent substrate 1, polycarbonate, glass, or the like, which has good optical characteristics, high mechanical strength, and excellent dimensional stability, is suitable. As a material of the recording layer 3,
In-Sb-Te, Ge-Te-Sb, In-Sb-T
1, Ge-Te-Sn-Au, Ge-Te-Sb-Pd
Preferred are Te or Se based alloys. [0012] Material cost of the protective layer 2 and 5, a metal or metalloid
At least one selected from oxides, fluorides, and sulfides
And ZnS, for example, SiO 2 , Si
O, Ta 2 O 5, ZrO 2 oxide such, fluorides such M gF 2, and SmS, and at least one selected from the sulfides such as SrS, a mixture of ZnS are preferred. The auxiliary layer 4 made of the protective layer material and nitrogen is formed, for example, by the following method. After forming the lower protective layer 2 and the recording layer 3 on one surface of the substrate 1 by ordinary means, a mixture of Ar gas (a general film forming gas) and nitrogen gas is used as a target for the protective layer material. A film (auxiliary layer 4) made of a protective layer material and nitrogen is formed by a sputtering method using a gas. At this time,
Nitrogen gas may be introduced into the apparatus from a gas line of a different system from Ar gas, or may be introduced as a mixture with Ar gas. Then, after that, the upper protective layer 5 is formed to have a predetermined thickness by performing sputtering using only the Ar gas that does not contain nitrogen gas, using the protective layer material as a target. When an auxiliary layer is provided between the lower protective layer 2 and the recording layer 3, the same operation as described above is performed after the lower protective layer 2 is formed and before the recording layer 3 is formed. In the above-mentioned method, the nitrogen content in the formed auxiliary layer 4 is determined by the partial pressure of nitrogen gas in the film forming gas. A suitable value for the nitrogen content in the auxiliary layer 4 slightly varies depending on the target composition and the film forming conditions of the recording layer 3 and the protective layers 2 and 5, but is preferably 10 to 80 μto
rr Ru Der. Further, the film thickness of the auxiliary layer consisting of a protective layer material and nitrogen, and 10nm or less. If the film thickness exceeds 10 nm, the same problem as in the case where nitrogen is contained in the entire protective layer will occur. In the present invention, the protective layer is formed of a metal or a semimetal.
At least one selected from oxides, fluorides and sulfides of
A mixture of a seed and ZnS, and a protective layer material and nitrogen having a thickness of 1 between the protective layer and the recording layer.
By providing an auxiliary layer of 0 nm or less , that is, by allowing nitrogen to be present only on the interface between the protective layer and the recording layer, not on the entire protective layer adjacent to the recording layer, archival characteristics and reproduction light stability can be improved. Character can be secured,
If the stability of the recording sensitivity with repeated overwriting cannot be ensured as in the method of including nitrogen in the entire recording layer
Needless to say , stable amorphous pits can be formed. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. Example 1 A phase-change optical disk having a layer structure shown in FIG. 1 was manufactured by the following procedure. First, 130 mm in diameter and 1.
A polycarbonate substrate 1 having a diameter of 2 mm and a groove having a pitch of 1.6 μm formed on one side is placed in a chamber, and a Zn (Zn) is formed on the groove side by RF (high frequency) sputtering.
Consisting of S and SiO 2 (ZnS: SiO = 80: 2
0) A 180 nm protective layer 2 was formed using a target. Next, on the protective layer 2, to form a recording layer 3 of 25nm by targeting Sb-Te-Ge-based alloy. The recording layer 3 has a partial pressure of Ar gas of 10 m on the recording layer 3.
Sputtering was performed using a target composed of ZnS and SiO 2 (ZnS: SiO = 80: 20) at a torr and a nitrogen partial pressure of 20 μtorr to form auxiliary layers 4 containing 3, 5, 10, and 15 nm of nitrogen, respectively. Thereafter, the protective layer 5 made of ZnS and SiO 2 is removed by completely removing nitrogen to form a 20.
nm. Then, either Al alloy on the protective layer 5
A reflective layer 6 having a thickness of 150 nm was formed. UV on this
A line-curing resin is applied by spin coating to a thickness of 5 μm.
The resin layer 7 was formed by irradiating the resin with ultraviolet rays to cure the resin layer 7 . In addition, as a comparative example, a supplement as shown in FIG.
Without forming the auxiliary layer 4, the partial pressure of Ar gas was
10mtorr, ZnS and SiO 2 in the nitrogen partial pressure 20μtorr
(ZnS: SiO = 80: 20) target
Sputtering is performed using a 20 nm protective layer 5a.
Was also prepared. Each sample of the phase-change optical disk obtained in this manner is applied to a driving device and rotated at a linear velocity of about 5 m / s. After overwriting the signal 100 times, the read power (1.
8mW), and after measuring the CNR, irradiating the laser with the read power was repeated.
FIG. 3 is a graph showing the results obtained by measuring the CNR even after 100,000 times and examining the amount of CNR reduction. Further, the same measurement for the disc of Comparative Example, also shown in FIG. 3 also result. As can be seen from the graph, the disk having the auxiliary layer 4 has a smaller decrease in CNR than the disk without the auxiliary layer 4 and has excellent reproduction light stability.
In particular, the effect is high when the thickness of the auxiliary layer 4 is 10 nm or less. As described above, according to the present invention, the protective layer is formed of a metal or metalloid oxide, fluoride or sulfur.
Of ZnS with at least one selected from oxides
And an auxiliary layer having a thickness of 10 nm or less made of a protective layer material and nitrogen is provided between the protective layer and the recording layer, that is, instead of the entire protective layer adjacent to the recording layer, The presence of nitrogen only on the interface between the protective layer and the recording layer enables archival characteristics and reproduction light stability .
Improvements have been made, yet is contained nitrogen throughout the recording layer
Recording sensitivity with repeated overwriting as in the method
A phase change optical disk which does not cause deterioration of the stability of the optical disk can be provided.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の相変化型光ディスクが有する層構造の
一例を示す断面図である。 【図2】<実施例1>において比較例として作製された
相変化型光ディスクの層構造を示す断面図である。 【図3】<実施例1>におけるCNR減少量と再生光照
射回数との関係を示すグラフである。 【図4】従来の一般的な相変化型光ディスクの層構造
(四層構造)を示す断面図である。 【符号の説明】 1 基板 2 保護層 3 記録層 4 補助層 5 保護層 5a 保護層
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a layer structure of a phase change optical disc according to the present invention. FIG. 2 was prepared as a comparative example in <Example 1>.
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a layer structure of a phase change optical disc. FIG. 3 shows the CNR reduction amount and the reproduction light illumination in <Example 1>.
It is a graph which shows the relationship with the number of shots. FIG. 4 is a layer structure of a conventional general phase-change optical disc.
It is sectional drawing which shows (four-layer structure). [Description of Signs] 1 Substrate 2 Protective layer 3 Recording layer 4 Auxiliary layer 5 Protective layer 5a Protective layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−14635(JP,A) 特開 平3−232133(JP,A) 特開 平3−168945(JP,A) 特開 昭63−166046(JP,A) 特開 昭62−298037(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 7/24 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-4-14635 (JP, A) JP-A-3-232133 (JP, A) JP-A-3-168945 (JP, A) JP-A-63-1988 166046 (JP, A) JP-A-62-298037 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G11B 7/24

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 透明な基板と、この基板の一方の面に形
成された、照射されるレーザパワーの差で結晶−非晶質
間の相変化が生じる材料からなる記録層と、この記録層
と前記基板との間および記録層の外側のいずれか一方ま
たは双方に形成された保護層とを備えた相変化型光ディ
スクにおいて、前記保護層の材料は、金属又は半金属の酸化物、フッ化
物、硫化物から選ばれた少なくとも一種と、ZnSと、
の混合物であり、 前記保護層と記録層との間に、保護層材料と窒素とから
り、厚さが10nm以下の補助層を設けたことを特徴
とする相変化型光ディスク。
(57) [Claim 1] A transparent substrate and a material formed on one surface of the substrate, which undergoes a phase change between crystal and amorphous due to a difference in irradiated laser power. In a phase change optical disc comprising a recording layer consisting of: and a protective layer formed between the recording layer and the substrate and / or outside the recording layer, the material of the protective layer is metal. Or semi-metal oxide, fluoride
And at least one selected from sulfides, ZnS,
A mixture of, between the protective layer and the recording layer, the protective layer material and the nitrogen and Ri Na <br/> from a phase change type optical disk, wherein the thickness is provided below the auxiliary layer 10nm .
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