JPH10208299A - Optical information recording medium and its production - Google Patents

Optical information recording medium and its production

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Publication number
JPH10208299A
JPH10208299A JP8348413A JP34841396A JPH10208299A JP H10208299 A JPH10208299 A JP H10208299A JP 8348413 A JP8348413 A JP 8348413A JP 34841396 A JP34841396 A JP 34841396A JP H10208299 A JPH10208299 A JP H10208299A
Authority
JP
Japan
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protective layer
layer
recording
thin film
optical information
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP8348413A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masato Terada
正人 寺田
Kazuyuki Furuya
一之 古谷
Tatsuya Okamura
立也 岡村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve both of the small variation in the recording marks occurring in the state of a recording layer and the durability to many times of repetitive overwriting by forming a second protective layer of a thin film which consists of a compsn. contg. carbon and hydrogen and has an absorption coefft. within a specific range. SOLUTION: This optical information recording medium is constituted by successively laminating a first protective layer 2, the recording layer 3, the second protective layer 4 and a refractive index layer 5 on a transparent substrate 1. The recording layer 3 reversibly performs the phase transition from the crystalline state to the amorphous state according to the intensity of photoirradiation. The second protective layer 4 is a thin film consisting of a compsn. contg. carbon and hydrogen and the absorption coefft. thereof is specified to a range of 0.05 to 2.5. As a result, the light transmitted through the amorphous part of the recording layer 3 is absorbed in the second protective layer 4. Consequently, the light absorption quantity of the recording layer 3 is higher in the crystalline parts than in the amorphous part. Oxygen is contained in the thin film constituting the second protective layer 4, by which the fluidization of the thin film constituting the recording layer 3 is prevented even if overwriting is repeated many times.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光照射により情報
の記録、消去、および再生が可能な光情報記録媒体、特
に、記録層として、結晶状態と非晶質状態との間で可逆
的に相変化する材料を用いた、いわゆる相変化型光情報
記録媒体、およびその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical information recording medium capable of recording, erasing, and reproducing information by irradiating light, and more particularly, to a recording layer, reversibly between a crystalline state and an amorphous state. The present invention relates to a so-called phase-change optical information recording medium using a phase-change material, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報を光で記録したり再生したり
できる光情報記録媒体は、高度情報化社会における記録
媒体の中心的役割を担うものとして注目され、積極的に
研究が進められている。その中で、特に、円形の薄い板
材を基板として用いた光ディスクは、今後のマルチメデ
ィアの普及にともない最も有力な記録媒体として注目さ
れている。
2. Description of the Related Art In recent years, optical information recording media capable of recording and reproducing information with light have been attracting attention as playing a central role in recording media in an advanced information society, and have been actively studied. I have. Among them, an optical disk using a circular thin plate as a substrate has attracted attention as the most influential recording medium with the spread of multimedia in the future.

【0003】このような光ディスクには、コンパクトデ
ィスクやレーザディスクに代表される再生専用型、ユー
ザーによる情報の書き込みが可能な追記型、情報の書換
えが可能な書換え可能型の三種類がある。このうち、書
換え可能型には、光磁気方式と相変化方式とがあり、相
変化方式では結晶−非晶質間の相変化が可逆的に生じる
材料を記録層として用いている。
There are three types of such optical disks: a read-only type typified by a compact disk or a laser disk, a write-once type in which a user can write information, and a rewritable type in which information can be rewritten. Among them, the rewritable type includes a magneto-optical type and a phase change type. In the phase change type, a material in which a phase change between crystal and amorphous reversibly occurs is used as a recording layer.

【0004】相変化方式による情報の記録は、記録信号
に応じて(例えば、図4に示すように)強度変調させた
レーザ光を、記録面に照射することにより行うため、古
い情報を消去しながら同時に新たな情報を記録すること
(いわゆる「オーバーライト」)が簡単にできる。すな
わち、記録層のうち、強いパワー(記録パワー)のレー
ザ光が短時間照射された部分は、融点以上に急熱され融
解された後に、急冷されることにより非晶質状態となっ
て記録マークが形成され、これより弱いパワー(消去パ
ワー)のレーザ光が照射された部分は、融点よりも低い
結晶化可能温度範囲まで昇温されて結晶状態となる。
Recording of information by the phase change method is performed by irradiating a recording surface with a laser beam whose intensity is modulated according to a recording signal (for example, as shown in FIG. 4). At the same time, it is easy to record new information (so-called "overwrite"). That is, a portion of the recording layer irradiated with a laser beam having a high power (recording power) for a short time is rapidly heated to a temperature equal to or higher than its melting point, melted, and then rapidly cooled to form an amorphous state. Is formed, and the portion irradiated with the laser beam having a weaker power (erasing power) is heated to a crystallizable temperature range lower than the melting point to be in a crystalline state.

【0005】従来の相変化型光ディスクは、信号振幅を
大きくしたり、繰り返し特性を改善したりする目的で、
記録層以外にも複数の層を設けた多層膜積層構造になっ
ている。例えば、ポリカーボネート樹脂などで形成され
た透明な基板の上に、第一保護層、記録層、第二保護
層、反射層をこの順に設けた四層構造のものがある。
[0005] Conventional phase-change type optical discs have a purpose of increasing signal amplitude and improving repetition characteristics.
It has a multilayer structure in which a plurality of layers are provided in addition to the recording layer. For example, there is a four-layer structure in which a first protective layer, a recording layer, a second protective layer, and a reflective layer are provided in this order on a transparent substrate formed of a polycarbonate resin or the like.

【0006】そして、第一保護層および第二保護層とし
ては、記録層の保護特性に優れ且つ記録消去の繰り返し
に十分な機械特性を有する、ZnSとSiO2 との混合
膜などが用いられている。また、記録層としては、結晶
化速度の速いSb−Te−Ge合金などを主成分とする
ものが、反射層としては、安価であり耐環境性にも優れ
ているAlを主成分とする合金が、広く用いられてい
る。
As the first protective layer and the second protective layer, a mixed film of ZnS and SiO 2 having excellent protection characteristics of the recording layer and sufficient mechanical characteristics for repetition of recording / erasing is used. I have. The recording layer is mainly composed of an Sb-Te-Ge alloy or the like having a high crystallization rate, and the reflective layer is composed of an alloy mainly composed of Al which is inexpensive and has excellent environmental resistance. Is widely used.

【0007】ここで、相変化型光ディスクの記録層は、
オーバーライトによる記録・消去の際(初回の記録を除
いて)に、直前の記録・消去に応じて部分的に非晶質状
態または結晶状態になっている。そして、前述のような
記録層材料は、一般に結晶状態の方が非晶質状態より熱
伝導率が高く、記録層で発生した熱の逸散は結晶状態に
ある部分の方が大きい。また、前述のような、従来の層
構成の相変化型光ディスクでは、記録層での光吸収率は
結晶状態より非晶質状態の方が高い。さらに、結晶状態
にある部分を溶融するためには潜熱が必要である。
Here, the recording layer of the phase change optical disk is
At the time of recording / erasing by overwriting (except for the first recording), it is partially in an amorphous state or a crystalline state according to the immediately preceding recording / erasing. The recording layer material as described above generally has a higher thermal conductivity in the crystalline state than in the amorphous state, and the heat dissipated in the recording layer is larger in the crystalline state than in the crystalline state. Further, in the phase change type optical disk having the conventional layer configuration as described above, the light absorption in the recording layer is higher in the amorphous state than in the crystalline state. Furthermore, latent heat is required to melt the crystalline portion.

【0008】これらのことから、直前の記録により結晶
状態となった記録層の部分に、直前の記録により非晶質
状態となった部分と同等の記録マークを形成するには、
結晶状態部分の方が非晶質状態部分よりも大きなエネル
ギーを必要とするにも関わらず、記録マーク形成のため
に必要な熱の吸収量は、結晶状態部分の方が非晶質状態
部分よりも少ない。
From these facts, in order to form a recording mark equivalent to a portion which has become amorphous by the immediately preceding recording on a portion of the recording layer which has been brought into a crystalline state by the immediately preceding recording,
Despite the fact that the crystalline state portion requires more energy than the amorphous state portion, the amount of heat absorption required for forming a recording mark is larger in the crystalline state portion than in the amorphous state portion. Also less.

【0009】その結果、オーバーライトにより形成され
た記録マークは、記録前に非晶質状態であった部分と結
晶状態であった部分とで、形や大きさに差が生じること
になる。すなわち、非晶質状態の部分に形成された記録
マークは、結晶状態の部分に形成されたものより溶融さ
れる領域が大きくなるため、例えば、結晶状態の部分に
設定通りの記録マークを形成しようとすると、非晶質状
態の部分には、設定とは異なる(大きな)記録マークが
形成されるという問題があった。
As a result, the recording mark formed by overwriting has a difference in shape and size between a portion that was in an amorphous state and a portion that was in a crystalline state before recording. That is, a recording mark formed in a portion in an amorphous state has a larger area to be melted than that formed in a portion in a crystalline state. Then, there is a problem that a recording mark different from the setting is formed in the amorphous portion.

【0010】特に、高密度化記録の主流となるマークエ
ッジ記録では、記録信号をマークの両端に対応させるた
め、記録マークの形状や大きさのバラツキが直接エラー
につながることになる。
In particular, in mark edge recording, which is the mainstream of high-density recording, since the recording signal is made to correspond to both ends of the mark, variations in the shape and size of the recording mark directly lead to errors.

【0011】そのため、記録層の光吸収量を、結晶状態
の方が非晶質状態より高くなるようにして、記録前に非
晶質状態であったか結晶状態であったかに関わらず同じ
記録マークが形成されるようにする方法が各種提案され
ている。
Therefore, the amount of light absorption of the recording layer is made higher in the crystalline state than in the amorphous state, so that the same recording mark is formed regardless of whether the recording layer was in the amorphous state or in the crystalline state before recording. Various methods have been proposed to make this possible.

【0012】この方法の一つとして、本出願人は先に、
記録層の上側にある保護層(第二保護層)を光吸収性
(吸収係数kが0.05〜2.5の範囲にある)の材料
で形成した光情報記録媒体を出願した(国際公開番号
WO96/17344)。この中で、前記保護層を形成
する材料として、炭素および炭素に金属または半金属を
添加したものが好適であることを開示した。
As one of the methods, the present applicant has first described
We have applied for an optical information recording medium in which a protective layer (second protective layer) on the upper side of the recording layer is formed of a light-absorbing material (having an absorption coefficient k in the range of 0.05 to 2.5) (International Publication). number
WO 96/17344). Among them, it is disclosed that carbon and a material obtained by adding a metal or a metalloid to carbon are suitable as a material for forming the protective layer.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】一方、相変化型の光情
報記録媒体においては、オーバーライトを多数回繰り返
すと、繰り返し回数とともに熱的ダメージが蓄積され
て、記録層をなす薄膜の流動(非晶質状態にする際に、
記録層内で溶解した物質が、記録トラック方向の温度の
低い部分に向かって押し出されること)が起こり、膜厚
等が変動して初期の記録・再生特性が維持できなくな
り、ジッター特性やエラーレートの悪化が生じるという
問題もある。そして、前述の本出願人が先に出願した光
情報記録媒体の場合も、この点においては改善の余地が
あった。
On the other hand, in an optical information recording medium of the phase change type, when overwriting is repeated many times, thermal damage is accumulated along with the number of repetitions, and the flow of the thin film forming the recording layer (non-flow) is increased. When making it crystalline,
The substance dissolved in the recording layer is extruded toward the lower temperature portion in the recording track direction), the film thickness fluctuates and the initial recording / reproduction characteristics cannot be maintained, and the jitter characteristics and error rate There is also a problem that deterioration of the data occurs. In the case of the optical information recording medium filed by the present applicant, there is still room for improvement in this respect.

【0014】本発明は、このような従来技術の問題点に
着目してなされたものであり、記録層の状態に起因する
記録マークのばらつきが小さいことと、多数回の繰り返
しオーバーライトに対する耐久性の両方に優れた相変化
型の光情報記録媒体を提供することを課題とする。
The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and has a small variation in the recording marks due to the state of the recording layer, and a durability against repeated overwriting many times. It is an object to provide a phase-change type optical information recording medium which is excellent in both of them.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1に係る発明は、図1に示すように、透明な
基板1と、この基板の上に形成された第一保護層2と、
この第一保護層の上に形成され、且つ光照射の強度に応
じて結晶状態−非晶質状態の相変化が可逆的になされる
記録層3と、この記録層の上に形成された第二保護層4
と、この第二保護層の上に形成された反射層とを備えた
光情報記録媒体において、第二保護層4は炭素と酸素と
を含む組成の薄膜であり、当該薄膜の吸収係数は0.0
5〜2.5の範囲にあることを特徴とする光情報記録媒
体を提供する。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 comprises a transparent substrate 1 and a first protective layer formed on the substrate, as shown in FIG. 2 and
A recording layer 3 formed on the first protective layer and having a reversible phase change from a crystalline state to an amorphous state in accordance with the intensity of light irradiation; and a third layer formed on the recording layer. Two protective layers 4
And a reflection layer formed on the second protective layer, the second protective layer 4 is a thin film having a composition containing carbon and oxygen, and the absorption coefficient of the thin film is 0. .0
An optical information recording medium characterized by being in the range of 5-2.5.

【0016】この光情報記録媒体によれば、第二保護層
を形成する薄膜の吸収係数が0.05〜2.5の範囲に
あるため、記録層の非晶質部分を透過した光はこの第二
保護層で吸収される。その結果、記録層の光吸収量は、
結晶部分の方が非晶質部分より高くなる。なお、第二保
護層を形成する薄膜の吸収係数は0.1以上であること
がより好ましい。
According to this optical information recording medium, since the absorption coefficient of the thin film forming the second protective layer is in the range of 0.05 to 2.5, light transmitted through the amorphous portion of the recording layer is Absorbed by the second protective layer. As a result, the light absorption of the recording layer is
The crystalline part is higher than the amorphous part. The absorption coefficient of the thin film forming the second protective layer is more preferably 0.1 or more.

【0017】また、第二保護層をなす薄膜に酸素が含ま
れていることにより、オーバーライトを多数回繰り返し
ても、記録層をなす薄膜の流動が防止される。本発明の
光情報記録媒体において、第二保護層の膜厚は、10n
m以上40nm以下の範囲であることが好ましい。10
nmより薄いと、第二保護層による非晶質部分を透過し
た光の吸収量が小さく、前記作用が十分に得られないと
ともに、記録・消去の感度が不十分となる。一方、40
nmより厚いと、徐冷構造となって記録マークの端部の
消し残りが生じやすく、消去比が低下したり、オーバラ
イトの繰り返しによって記録層の物質移動が大きくなっ
たりするため好ましくない。第二保護層の膜厚のより好
ましい範囲は、15nm以上40nm以下の範囲であ
る。
Further, since oxygen is contained in the thin film forming the second protective layer, even if overwriting is repeated many times, the flow of the thin film forming the recording layer is prevented. In the optical information recording medium of the present invention, the thickness of the second protective layer is 10 n
It is preferably in the range from m to 40 nm. 10
If the thickness is smaller than nm, the amount of light transmitted through the amorphous portion by the second protective layer is small, so that the above-mentioned effect cannot be obtained sufficiently and the sensitivity of recording / erasing becomes insufficient. On the other hand, 40
If the thickness is larger than nm, it becomes unfavorable because it becomes a slow cooling structure and the erased portion of the end of the recording mark is liable to be generated, the erasing ratio is lowered, and the mass transfer of the recording layer is increased by repeated overwriting. A more preferable range of the thickness of the second protective layer is a range of 15 nm or more and 40 nm or less.

【0018】本発明の光情報記録媒体において、第二保
護層をなす薄膜は、請求項2に示すように、酸素を全体
の0.5at%以上5.0at%以下の範囲で含有して
いることが好ましい。
In the optical information recording medium of the present invention, the thin film constituting the second protective layer contains oxygen in a range of 0.5 at% to 5.0 at% as a whole. Is preferred.

【0019】第二保護層における酸素の含有率が0.5
at%未満であると、記録層をなす薄膜の流動を防止す
る作用が実質的に得られない。また、第二保護層におけ
る酸素の含有率が5.0at%を超えると、記録感度や
消去比の低下が生じる。
The oxygen content in the second protective layer is 0.5
At less than at%, the effect of preventing the flow of the thin film forming the recording layer cannot be substantially obtained. On the other hand, when the oxygen content in the second protective layer exceeds 5.0 at%, the recording sensitivity and the erasing ratio decrease.

【0020】請求項3に係る発明は、請求項1または2
に記載の光情報記録媒体の製造方法であって、第二保護
層は、酸素ガスを5×10-6Torr以上1×10-4
orr以下の分圧で含む不活性ガス雰囲気下で、炭素を
含むターゲットを用いてスパッタリング法により形成す
ることを特徴とするものである。
The invention according to claim 3 is the invention according to claim 1 or 2
3. The method for manufacturing an optical information recording medium according to 1., wherein the second protective layer comprises oxygen gas of 5 × 10 −6 Torr or more and 1 × 10 −4 T.
It is characterized by being formed by a sputtering method using a target containing carbon in an inert gas atmosphere containing a partial pressure of orr or less.

【0021】スパッタリング法により形成される第二保
護層中の酸素含有率は、スパッタリング雰囲気を不活性
ガス(例えばArガス)と酸素との混合ガス雰囲気と
し、酸素の分圧を変化させることによって制御すること
ができる。
The oxygen content in the second protective layer formed by the sputtering method is controlled by changing the partial pressure of oxygen by changing the sputtering atmosphere to a mixed gas atmosphere of an inert gas (for example, Ar gas) and oxygen. can do.

【0022】第二保護層中の酸素含有率は、例えば、基
板に成膜された膜をX線光電子分光分析装置にかけて、
酸素および炭素の分光強度を検出し、その検出値とそれ
ぞれの相対感度係数を用いて、下記の式から算出するこ
とができる。
The oxygen content in the second protective layer can be determined, for example, by subjecting the film formed on the substrate to X-ray photoelectron spectroscopy.
The spectral intensities of oxygen and carbon are detected, and can be calculated from the following equation using the detected values and the respective relative sensitivity coefficients.

【0023】[0023]

【数1】 (Equation 1)

【0024】ここで、Io:酸素の検出強度 Ic:炭素の検出強度 RSFo:酸素に対する装置の相対感度係数 RSFc:炭素に対する装置の相対感度係数 図2のグラフは、このようにして算出された酸素含有率
と、スパッタリング雰囲気の酸素分圧との関係の一例を
示す。
Here, Io: detected intensity of oxygen Ic: detected intensity of carbon RSFO: relative sensitivity coefficient of the device to oxygen RSFc: relative sensitivity coefficient of the device to carbon The graph of FIG. An example of the relationship between the content and the oxygen partial pressure of the sputtering atmosphere is shown.

【0025】このグラフから分かるように、酸素分圧を
5×10-6Torr以上1×10-4Torr以下とする
ことにより、酸素含有率を0.5at%以上5.0at
%以下の範囲にすることができる。
As can be seen from this graph, by setting the oxygen partial pressure to 5 × 10 −6 Torr or more and 1 × 10 −4 Torr or less, the oxygen content becomes 0.5 at% or more and 5.0 at%.
% Or less.

【0026】なお、第二保護層における酸素含有率の上
限値5.0at%は、5.0at%を超える酸素含有率
とするために酸素分圧を1×10-4Torrよりも大き
くすると、成膜速度が遅くなって生産性が低下するとい
う観点からも設定される。
The upper limit of the oxygen content of the second protective layer, 5.0 at%, is 5.0 at%, when the oxygen partial pressure is made larger than 1 × 10 -4 Torr in order to obtain an oxygen content exceeding 5.0 at%. It is also set from the viewpoint that the film formation rate is slowed and the productivity is reduced.

【0027】一般に、第二保護層は、記録層を保護して
長期間に渡ってデータを安定的に保存するために、耐熱
性や記録層との密着性、水分等からの遮断性に優れてい
ることが必要である。また、オーバーライトの繰り返し
耐久性を高くするためには、耐熱性および機械的強度が
高いことが要求される。そのため、本発明の光情報記録
媒体は、第二保護層をなす薄膜の組成を、炭素および酸
素に加えて金属または半金属を含むものとすることがで
きる。
In general, the second protective layer is excellent in heat resistance, adhesion to the recording layer, and shielding from moisture, etc., for protecting the recording layer and stably storing data for a long period of time. It is necessary to be. Also, in order to increase the repetition durability of overwriting, high heat resistance and high mechanical strength are required. Therefore, in the optical information recording medium of the present invention, the composition of the thin film forming the second protective layer can include a metal or a metalloid in addition to carbon and oxygen.

【0028】この場合に、使用可能な金属または半金属
としては、具体的には、Al、Ag、W、Ti、Mo、
Ni、Pt、Cr、Pd、V、Tc、Nb、Ta、R
e、およびIrからなる群から選ばれた少なくとも1種
の金属または半金属が挙げられる。
In this case, usable metals or metalloids include, specifically, Al, Ag, W, Ti, Mo,
Ni, Pt, Cr, Pd, V, Tc, Nb, Ta, R
e, and at least one metal or metalloid selected from the group consisting of Ir.

【0029】この場合の第二保護層は、炭素のターゲッ
トと金属または半金属のターゲットを別々に用意して、
同時にスパッタリングする共スパッタ法や、炭素と金属
または半金属との混合物からなる一つのターゲットを用
意してスパッタリングする方法によって成膜することが
できる。
In this case, the second protective layer is prepared by separately preparing a carbon target and a metal or metalloid target.
The film can be formed by a co-sputtering method in which sputtering is performed at the same time or a method in which one target made of a mixture of carbon and a metal or a metalloid is prepared and sputtering is performed.

【0030】この場合でも、第二保護層は、酸素を全体
の0.5at%以上5.0at%以下の範囲で含有して
いることが好ましい。また、第二保護層は、スパッタリ
ング雰囲気の酸素分圧を5×10-6Torr以上1×1
-4Torr以下として形成することが好ましい。
Also in this case, it is preferable that the second protective layer contains oxygen in a range of 0.5 at% or more and 5.0 at% or less. In addition, the second protective layer has an oxygen partial pressure of 5 × 10 −6 Torr or more and 1 × 1 in the sputtering atmosphere.
It is preferable to form it as 0 -4 Torr or less.

【0031】一方、前述のように、本発明の光情報記録
媒体は、第二保護層を形成する薄膜の吸収係数が0.0
5〜2.5の範囲にあるため、記録層の非晶質部分を透
過した光はこの第二保護層で吸収され、その結果、記録
層の光吸収量について、結晶部分の方が非晶質部分より
高くなるという作用を有する。この作用は、非晶質状態
の記録層を通過する光量が多いほど大きくなる。そのた
め、記録層の下側に形成される第一保護層の膜厚は、基
板側から光を照射した際の反射率が小さくなる値に設定
することが好ましい。
On the other hand, as described above, in the optical information recording medium of the present invention, the absorption coefficient of the thin film forming the second protective layer is 0.0
Since it is within the range of 5 to 2.5, light transmitted through the amorphous portion of the recording layer is absorbed by the second protective layer. As a result, the light absorption amount of the recording layer is more amorphous in the crystalline portion. It has the effect of being higher than the quality part. This effect increases as the amount of light passing through the amorphous recording layer increases. Therefore, the thickness of the first protective layer formed below the recording layer is preferably set to a value that reduces the reflectance when light is irradiated from the substrate side.

【0032】前記反射率は、一般に、入射光の波長に応
じた、基板の屈折率と吸収係数、基板上に積層される各
層の厚さ、屈折率、吸収係数により一義的に決まる。そ
こで、基板に、第一保護層、記録層、第二保護層、およ
び反射層を順次積層した構造の光情報記録媒体につい
て、基板側から光を照射したときの反射率と第一保護層
の厚みとの関係をシミュレーションした一例を図3にグ
ラフで示す。また、シミュレーションに用いた各層の厚
さおよび光学定数(屈折率、吸収係数)を下記の表1に
示す。
In general, the reflectance is uniquely determined by the refractive index and the absorption coefficient of the substrate and the thickness, refractive index, and absorption coefficient of each layer laminated on the substrate according to the wavelength of the incident light. Thus, for an optical information recording medium having a structure in which a first protective layer, a recording layer, a second protective layer, and a reflective layer are sequentially laminated on a substrate, the reflectance when the substrate is irradiated with light and the reflectance of the first protective layer. FIG. 3 is a graph showing an example of a simulation of the relationship with the thickness. Table 1 below shows the thicknesses and optical constants (refractive index, absorption coefficient) of each layer used in the simulation.

【0033】[0033]

【表1】 [Table 1]

【0034】図3のグラフから、反射率が極小となる第
一保護層の厚さは、例えば点Aの約70nm、点Bの約
230nmであり、第一保護層の厚さをこれらのいずれ
かの値またはその近傍の厚さとすることで、非晶質状態
の記録層を通過する光量を多くして、記録層の光吸収量
を結晶部分の方が非晶質部分より高くすることができ
る。また、第一保護層の厚さが、上記点Aおよび点Bで
の厚さに対して±30nmとなる範囲にあれば、記録層
の光吸収量を結晶部分の方が非晶質部分より高くするこ
とができる。
From the graph of FIG. 3, the thickness of the first protective layer at which the reflectivity is minimized is, for example, about 70 nm at point A and about 230 nm at point B. By setting the thickness at or near that value, the amount of light passing through the amorphous recording layer can be increased, and the light absorption of the recording layer can be higher in the crystalline portion than in the amorphous portion. it can. Further, when the thickness of the first protective layer is within a range of ± 30 nm with respect to the thickness at the points A and B, the light absorption amount of the recording layer is larger in the crystalline part than in the amorphous part. Can be higher.

【0035】このように、第一保護層の厚さは、記録層
の光吸収量を結晶部分の方が非晶質部分より高くするた
めには、反射率が極小を示す厚さ±30nmの範囲であ
ることが好ましい。また、オーバーライトの繰り返しに
より生じる熱の影響を基板に与えないという点からは、
100nm以上であることが好ましい。さらに、成膜時
に発生する熱の影響で基板が変形することを防止するた
めには、400nm以下であることが好ましい。
As described above, the thickness of the first protective layer is set to a thickness of ± 30 nm at which the reflectance shows a minimum in order to make the light absorption of the recording layer higher in the crystalline portion than in the amorphous portion. It is preferably within the range. In addition, from the viewpoint that the heat generated by repeated overwriting is not exerted on the substrate,
It is preferably 100 nm or more. Further, in order to prevent the substrate from being deformed by the influence of heat generated during film formation, the thickness is preferably 400 nm or less.

【0036】したがって、本発明の光情報記録媒体にお
いて、第一保護層の膜厚は、100nm以上400nm
以下の範囲で、前述の反射率が極小を示す厚さ±30n
mを満たす厚さに設定することが好ましい。
Therefore, in the optical information recording medium of the present invention, the thickness of the first protective layer is 100 nm or more and 400 nm or more.
Within the following range, the thickness at which the above-mentioned reflectance shows a minimum is ± 30 n.
It is preferable to set the thickness to satisfy m.

【0037】また、第一保護層の材料としては、従来よ
り公知の誘電体材料が使用可能であり、例えばZnS、
SiO2 、SiO、Al2 3 、MgO、Si3 4
AlN、MgF2 、SiCなどの硫化物、酸化物、窒化
物、フッ化物、炭化物、またはそれらの混合物(例えば
ZnS−SiO2 )を挙げることができる。
As the material of the first protective layer, a conventionally known dielectric material can be used. For example, ZnS,
SiO 2 , SiO, Al 2 O 3 , MgO, Si 3 N 4 ,
Examples thereof include sulfides such as AlN, MgF 2 , and SiC, oxides, nitrides, fluorides, carbides, and mixtures thereof (for example, ZnS—SiO 2 ).

【0038】本発明の光情報記録媒体における記録層の
材料としては、従来より公知の相変化型記録層材料が使
用可能であり、例えば、Sb−Te−Ge合金、In−
Sb合金、In−Sb−Te合金、またはIn−Se合
金を主成分とするものなどが挙げられる。
As the material for the recording layer in the optical information recording medium of the present invention, conventionally known phase-change type recording layer materials can be used, for example, Sb-Te-Ge alloy, In-
Examples include an Sb alloy, an In-Sb-Te alloy, and an alloy containing an In-Se alloy as a main component.

【0039】また、記録層の厚さは10nm以上50n
m以下が好ましい。記録層の厚さが10nmより薄い
と、結晶状態と非晶質状態での反射率の差が小さくな
り、信号品質が低下する。また、記録層の厚さが50n
mより厚いと、非晶質状態での光吸収量が大きくなり、
結晶部分での光吸収量を、非晶質部分での光吸収量以上
とすることができない。記録層の厚さの特に好ましい範
囲は、20nm以上35nm以下である。
The thickness of the recording layer is 10 nm or more and 50 n or more.
m or less is preferable. If the thickness of the recording layer is less than 10 nm, the difference between the reflectance in the crystalline state and the reflectance in the amorphous state becomes small, and the signal quality deteriorates. The recording layer has a thickness of 50 n.
When the thickness is larger than m, the amount of light absorption in the amorphous state increases,
The amount of light absorption in the crystalline portion cannot be greater than the amount of light absorption in the amorphous portion. A particularly preferred range of the thickness of the recording layer is from 20 nm to 35 nm.

【0040】本発明の光情報記録媒体における基板の材
料としては、ガラス、ポリプロピレン、アクリル樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル
樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂などの透明材
料が挙げられるが、これらの中で、ポリカーボネート樹
脂およびアクリル樹脂が光学的、機械的特性の面で好適
である。
As the material of the substrate in the optical information recording medium of the present invention, glass, polypropylene, acrylic resin,
Transparent materials such as a polycarbonate resin, a polystyrene resin, a vinyl chloride resin, an epoxy resin, and a polyolefin resin are exemplified. Among them, the polycarbonate resin and the acrylic resin are preferable in terms of optical and mechanical properties.

【0041】本発明の光情報記録媒体における反射層の
材料としては、Al、Ni、Cr、Au、Ti、Cu、
Zr、Hf、Si、Mgなどの金属、およびこれらの合
金を用いることが、熱伝導率や光学定数の観点から好ま
しい。この中で、Alに対して、Cr、Ti、Si、C
u、Zr、Hf等からなる群から選ばれた少なくとも1
種を、0.5at.%以上40at.%以下の割合で加
えた合金を用いることが特に好ましい。
As the material of the reflection layer in the optical information recording medium of the present invention, Al, Ni, Cr, Au, Ti, Cu,
It is preferable to use metals such as Zr, Hf, Si, and Mg, and alloys thereof from the viewpoint of thermal conductivity and optical constant. Among them, Cr, Ti, Si, C
at least one selected from the group consisting of u, Zr, Hf, etc.
Seeds are added at 0.5 at. % At least 40 at. % Is particularly preferred.

【0042】また、反射層の厚さは、使用する金属の種
類、および合金の場合には合金成分の混合割合によって
異なるが、25nm以上200nm以下の範囲であるこ
とが好ましい。25nmより薄いと、反射層の熱容量が
少なくて徐冷構造となるため、消去比が低下したり、オ
ーバライトの繰り返しによって記録層の物質移動が大き
くなったりするため好ましくない。一方、200nmよ
り厚いと、記録および消去の感度が不十分となるため好
ましくない。
The thickness of the reflective layer varies depending on the type of metal used and, in the case of an alloy, the mixing ratio of alloy components, but is preferably in the range of 25 nm to 200 nm. When the thickness is less than 25 nm, the heat capacity of the reflective layer is small and the structure becomes a slow cooling structure, so that the erasing ratio is lowered and the mass transfer of the recording layer is increased by repeated overwriting, which is not preferable. On the other hand, when the thickness is more than 200 nm, the sensitivity for recording and erasing becomes insufficient, which is not preferable.

【0043】なお、基板の上に形成される各層の成膜方
法は、従来より公知の真空蒸着法やスパッタリング法を
採用することができるが、生産性などの点からスパッタ
リング法を採用することが好ましい。特に、第二保護層
の成膜方法としては、前述のように、酸素を所定の含有
率で含む炭素膜を形成するために、スパッタリング法を
採用することが好ましい。
As a method of forming each layer formed on the substrate, a conventionally known vacuum deposition method or sputtering method can be adopted, but from the viewpoint of productivity and the like, the sputtering method can be adopted. preferable. In particular, as a method for forming the second protective layer, as described above, it is preferable to employ a sputtering method in order to form a carbon film containing oxygen at a predetermined content.

【0044】[0044]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を具体的
な実施例により詳細に説明する。以下のようにして、図
1に示す四層構造の相変化型光ディスク(片面)を作製
した。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to specific examples. A four-layer structure phase-change optical disk (one side) shown in FIG. 1 was produced as follows.

【0045】すなわち、先ず、案内溝を設けた清浄なポ
リカーボネート基板1の上に、厚さ230nmのZnS
−SiO2 薄膜からなる第一保護層2、厚さ25nmの
SbTeGe合金薄膜からなる記録層3、炭素および酸
素を含む薄膜(酸素の含有率が下記の表2に示す各値で
ある)からなる厚さ20nmの第二保護層4、さらに、
厚さ150nmのAl合金薄膜からなる反射層5を、順
次スパッタリング法により成膜して積層した。
That is, first, on a clean polycarbonate substrate 1 provided with a guide groove, a 230 nm-thick ZnS
Consisting -SiO 2 first protective layer 2 formed of a thin film, a recording layer 3 made of SbTeGe alloy thin film having a thickness of 25 nm, a thin film containing carbon and oxygen (oxygen content is the value shown in Table 2 below) A second protective layer 4 having a thickness of 20 nm,
The reflective layer 5 made of an Al alloy thin film having a thickness of 150 nm was sequentially formed by a sputtering method and laminated.

【0046】ここで、各層の膜厚は、予め各層毎に単層
で成膜し、得られた薄膜の膜厚を触針式表面段差計で測
定することで、形成された膜厚に対する薄膜形成速度と
成膜時間の関係を各層毎に導き出し、その関係を用いて
目的の膜厚となる薄膜形成速度と成膜時間で成膜するこ
とにより制御した。
Here, the film thickness of each layer is determined in advance by forming a single layer for each layer, and measuring the film thickness of the obtained thin film with a stylus type surface step meter. The relationship between the formation speed and the film formation time was derived for each layer, and the relationship was controlled by forming a film at the thin film formation speed and the film formation time having a target film thickness using the relationship.

【0047】また、第二保護層4の成膜に際しては、N
o.1以外については、スパッタリング装置内にArガス
と同時に酸素ガスを導入して、各サンプル毎に、下記の
表2に示す所定の酸素分圧となるよう酸素ガスの流量を
調整した。なお、No.1については、Arガスのみを導入
してスパッタリングを行った。
When the second protective layer 4 is formed, N
Except for o.1, oxygen gas was introduced into the sputtering apparatus at the same time as Ar gas, and the flow rate of oxygen gas was adjusted for each sample so that the predetermined oxygen partial pressure shown in Table 2 below was obtained. In addition, about No.1, sputtering was performed by introducing only Ar gas.

【0048】成膜された第二保護層4については、X線
光電子分光分析装置を用いる前述の方法に従って、膜中
に含まれる酸素含有率を測定した。また、各サンプルに
ついて第二保護層4の吸収係数を測定した。これらの測
定結果についても下記の表2に示す。
For the formed second protective layer 4, the oxygen content in the film was measured according to the method described above using an X-ray photoelectron spectrometer. The absorption coefficient of the second protective layer 4 was measured for each sample. The results of these measurements are also shown in Table 2 below.

【0049】次いで、反射層5の表面を紫外線硬化樹脂
で被覆することにより片面ディスクを完成させる。この
ようにして作製した同一の片面ディスク2枚を、反射層
側を内側にしてホットメルト接着剤で接着することによ
り、全面密着構造の相変化型光ディスクの各サンプルを
作製した。
Next, the surface of the reflective layer 5 is coated with an ultraviolet curable resin to complete a single-sided disk. Two samples of the same single-sided disk manufactured in this manner were bonded with a hot melt adhesive with the reflection layer side facing inward, thereby producing each sample of a phase-change optical disk having a full-contact structure.

【0050】得られた各サンプルを駆動装置(レーザ光
の波長:λ=680nm、対物レンズの開口数:NA=
0.6)にかけて、線速度15m/sで回転させ、周波
数f 2 (ここでは、16MHz)の信号をピークパワー
を変化させ、各ピークパワーで10回ずつオーバーライ
トし、記録信号のC/N(搬送波対雑音)比を測定し
た。そして、各サンプル毎に、C/N比が40dBを超
えるのに必要なピークパワーを記録感度とした。
Each of the obtained samples is driven by a driving device (laser light
Wavelength: λ = 680 nm, numerical aperture of objective lens: NA =
0.6), and rotate at a linear velocity of 15 m / s.
Number f Two(Here, 16MHz) signal with peak power
And overwrite 10 times at each peak power.
And measure the C / N (carrier to noise) ratio of the recorded signal.
Was. Then, for each sample, the C / N ratio exceeds 40 dB
The peak power required to obtain the recording sensitivity was defined as the recording sensitivity.

【0051】また、各サンプルに対して、前記と同様に
して周波数f1 (ここでは、6MHz)の信号を記録
し、この上に別の周波数f2 (ここでは、16MHz)
の信号を一回オーバーライトした。この時、ピークパワ
ーを記録感度の1.3倍、バイアスパワーをピークパワ
ーの約43%に設定した。
For each sample, a signal of the frequency f 1 (here, 6 MHz) is recorded in the same manner as described above, and another signal f 2 (here, 16 MHz) is recorded thereon.
Was overwritten once. At this time, the peak power was set to 1.3 times the recording sensitivity, and the bias power was set to about 43% of the peak power.

【0052】ここで、オーバーライト前に周波数f1
信号強度IB を測定しておき、オーバーライト後に周波
数f1 の残留信号強度IA を測定した。そして、各サン
プル毎に、オーバーライト前後の周波数f1 の信号強度
の差(IB −IA )を消去比として算出した。
[0052] Here, in advance by measuring the signal intensity I B of a frequency f 1 before overwriting was measured residual signal intensity I A of the frequency f 1 after overwriting. Then, each sample was calculated overwriting difference in signal intensity of the frequency f 1 before and after the (I B -I A) as an erase ratio.

【0053】なお、C/N比の測定および消去比算出の
ための信号強度の測定は、スペクトラムアナライザーを
用いて行った。また、各サンプルを前記駆動装置にかけ
て線速度8.4m/sで回転させ、2−7RLL変調の
3Tから8Tまでがランダムに現れる信号を、ピークパ
ワーを記録感度の1.3倍、バイアスパワーをピークパ
ワーの約43%に設定して、同一トラックに対して10
万回オーバーライトした。その後に、各サンプルをジッ
ターアナライザにかけて、ビットエラー率10-5に相当
するジッター値を測定し、この値をウインドウ幅で規格
化した「ウインドウ占有率」を算出した。このウインド
ウ占有率が低いほど、繰り返しオーバーライトに対する
耐久性が高いものとなる。
The measurement of the C / N ratio and the measurement of the signal intensity for calculating the erasure ratio were performed using a spectrum analyzer. Further, each sample was rotated at a linear velocity of 8.4 m / s by the driving device, and a signal in which 3T to 8T of 2-7 RLL modulation appeared at random was set to a peak power of 1.3 times the recording sensitivity and a bias power of 1.3 times. Set to about 43% of the peak power and set 10% for the same track.
Overwritten 10,000 times. Thereafter, each sample was subjected to a jitter analyzer to measure a jitter value corresponding to a bit error rate of 10 −5, and to calculate a “window occupancy” obtained by normalizing this value with a window width. The lower the window occupancy, the higher the durability against repeated overwriting.

【0054】これらの結果を下記の表2に併せて示す。The results are shown in Table 2 below.

【0055】[0055]

【表2】 [Table 2]

【0056】これらの結果から分かるように、第二保護
層4の成膜をArガスと酸素ガスとの混合ガス雰囲気下
で行ったNo.2〜No.7は、第二保護層4として実質的に炭
素と酸素を含む薄膜が形成されたため、第二保護層4が
Arガスのみの雰囲気下で成膜されたNo.1の場合と比較
して、ウインドウ占有率が低く、繰り返しオーバーライ
トに対する耐久性が高いものとなった。
As can be seen from these results, No. 2 to No. 7 in which the second protective layer 4 was formed in a mixed gas atmosphere of Ar gas and oxygen gas were substantially used as the second protective layer 4. Since the thin film containing carbon and oxygen was formed as a whole, the window occupancy was lower than that of No. 1 in which the second protective layer 4 was formed in an atmosphere containing only Ar gas, and the The durability was high.

【0057】ただし、No.7は、第二保護層4の酸素含有
率が5.9at%と高いため、消去比が24.7dBと
極端に低くなった。したがって、繰り返しオーバーライ
トに対する耐久性と消去比の両立のためには、No.2〜N
o.6のように、第二保護層4の酸素含有率を0.65a
t%以上4.8at%以下とすることが好ましい。
However, in No. 7, since the oxygen content of the second protective layer 4 was as high as 5.9 at%, the erasing ratio was extremely low at 24.7 dB. Therefore, in order to achieve both the durability against repeated overwriting and the erasing ratio, No. 2 to N
As shown in o.6, the oxygen content of the second protective layer 4 was set to 0.65a
It is preferable to set it to t% or more and 4.8 at% or less.

【0058】また、No.3〜No.5のように、第二保護層4
の酸素含有率が0.95at%から3.3at%の範囲
にあると、特に、ウインドウ占有率が60%未満と低く
なって繰り返しオーバーライトに対する耐久性が著しく
高く、消去比および記録感度も高く保持される。したが
って、第二保護層4の酸素含有率は0.95at%以上
3.3at%以下であることがより好ましい。
Further, as shown in No. 3 to No. 5, the second protective layer 4
In particular, when the oxygen content is in the range of 0.95 at% to 3.3 at%, the window occupancy is reduced to less than 60%, the durability against repeated overwriting is remarkably increased, and the erasing ratio and the recording sensitivity are also increased. Will be retained. Therefore, the oxygen content of the second protective layer 4 is more preferably 0.95 at% or more and 3.3 at% or less.

【0059】第二保護層4を成膜する際のスパッタリン
グ雰囲気ガス中の酸素分圧については、この実施例で
は、1×10-5Torr以上1×10-4Torr以下と
すれば、第二保護層4の酸素含有率を0.65at%以
上4.8at%以下として、繰り返しオーバーライトに
対する耐久性と消去比とに優れた相変化型光ディスクを
得ることができるため好ましい。また、2×10-5To
rr以上6×10-5Torr以下とすれば、第二保護層
4の酸素含有率を0.95at%以上3.3at%以下
として、繰り返しオーバーライトに対する耐久性が著し
く高く、消去比および記録感度も高く保持された相変化
型光ディスクを得ることができるためより好ましい。
In this embodiment, the oxygen partial pressure in the sputtering atmosphere gas at the time of forming the second protective layer 4 is set to 1 × 10 −5 Torr or more and 1 × 10 −4 Torr or less. The oxygen content of the protective layer 4 is preferably set to 0.65 at% or more and 4.8 at% or less, because a phase change optical disc having excellent durability against repeated overwriting and excellent erasing ratio can be obtained. Also, 2 × 10 -5 To
If it is rr or more and 6 × 10 −5 Torr or less, the oxygen content of the second protective layer 4 is 0.95 at% or more and 3.3 at% or less, and the durability against repetitive overwriting is remarkably high. This is more preferable because a phase-change optical disk held at a high level can be obtained.

【0060】また、全てのサンプルについて第二保護層
4の吸収係数は0.05〜2.5の範囲にあることか
ら、記録層の光吸収量について、結晶状態の方が非晶質
状態より高くなっているため、記録前の状態(非晶質状
態であったか結晶状態であったか)に関わらず同じ記録
マークが形成されている。
Since the absorption coefficient of the second protective layer 4 is in the range of 0.05 to 2.5 for all samples, the light absorption of the recording layer in the crystalline state is higher than that in the amorphous state. Since the height is higher, the same recording mark is formed irrespective of the state before recording (whether amorphous or crystalline).

【0061】なお、この実施形態では、炭素と酸素を含
む組成の第二保護層4の酸素濃度が0.65at%、0.
95at%、2.1at%、3.3at%、4.8at%である
と、繰り返しオーバーライトに対する耐久性と消去比の
両立という点で好ましいことが示されているが、前記酸
素濃度が0.5at%以上5.0at%以下であれば、同様
の効果を得ることができる。
In this embodiment, the second protective layer 4 having a composition containing carbon and oxygen has an oxygen concentration of 0.65 at.
It has been shown that 95 at%, 2.1 at%, 3.3 at%, and 4.8 at% are preferable in terms of both the durability against repeated overwriting and the erasing ratio, but the oxygen concentration is 0.1%. If it is 5 at% or more and 5.0 at% or less, the same effect can be obtained.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1および2
の光情報記録媒体は、第二保護層を、炭素と酸素とを含
む組成で吸収係数が0.05〜2.5の範囲にある薄膜
とすることによって、記録層の状態に起因する記録マー
クのばらつきが低減され、多数回の繰り返しオーバーラ
イトに対する耐久性にも優れたものとなる。
As described above, claims 1 and 2
The optical information recording medium according to (1), wherein the second protective layer is a thin film having a composition containing carbon and oxygen and having an absorption coefficient in the range of 0.05 to 2.5, so that the recording mark caused by the state of the recording layer is obtained. Is reduced, and the durability against repeated overwriting many times is also excellent.

【0063】特に、請求項2によれば、記録・消去特性
を高くしながら前記効果を高くすることができる。請求
項3の方法によれば、本発明の光情報記録媒体が容易に
得られる。
In particular, according to the second aspect, the effect can be enhanced while improving the recording / erasing characteristics. According to the method of claim 3, the optical information recording medium of the present invention can be easily obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の光情報記録媒体の層構造を示す断面図
である。
FIG. 1 is a sectional view showing a layer structure of an optical information recording medium of the present invention.

【図2】第二保護層の成膜の際のスパッタリング雰囲気
の酸素分圧と、得られた第二保護層の酸素含有率との関
係を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing the relationship between the oxygen partial pressure of a sputtering atmosphere when forming a second protective layer and the oxygen content of the obtained second protective layer.

【図3】四層構造の光情報記録媒体において、基板側か
ら光を入射した反射率と第一保護層の膜厚との関係を示
すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the reflectance of light incident from the substrate side and the thickness of a first protective layer in an optical information recording medium having a four-layer structure.

【図4】記録方式が相変化である光情報記録媒体に対し
て、オーバーライトの際に行われる、レーザ光の強度変
調を示す波形図である。
FIG. 4 is a waveform diagram showing intensity modulation of a laser beam performed during overwriting on an optical information recording medium whose recording method is phase change.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 第一保護層 3 記録層 4 第二保護層 5 反射層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 First protective layer 3 Recording layer 4 Second protective layer 5 Reflective layer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明な基板と、この基板の上に形成され
た第一保護層と、この第一保護層の上に形成され、且つ
光照射の強度に応じて結晶状態−非晶質状態の相変化が
可逆的になされる記録層と、この記録層の上に形成され
た第二保護層と、この第二保護層の上に形成された反射
層とを備えた光情報記録媒体において、第二保護層は炭
素と酸素とを含む組成の薄膜であり、当該薄膜の吸収係
数は0.05〜2.5の範囲にあることを特徴とする光
情報記録媒体。
1. A transparent substrate, a first protective layer formed on the substrate, a crystalline state-amorphous state formed on the first protective layer and depending on the intensity of light irradiation. In a optical information recording medium comprising a recording layer in which the phase change is reversibly performed, a second protective layer formed on the recording layer, and a reflective layer formed on the second protective layer. An optical information recording medium, wherein the second protective layer is a thin film having a composition containing carbon and oxygen, and the thin film has an absorption coefficient in a range of 0.05 to 2.5.
【請求項2】 第二保護層をなす薄膜は、酸素を全体の
0.5at%以上5.0at%以下の範囲で含有してい
ることを特徴とする請求項1記載の光情報記録媒体。
2. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the thin film forming the second protective layer contains oxygen in a range of 0.5 at% or more and 5.0 at% or less.
【請求項3】 第二保護層は、酸素ガスを5×10-6
orr以上1×10 -4Torr以下の分圧で含む不活性
ガス雰囲気下で、炭素を含むターゲットを用いてスパッ
タリング法により形成することを特徴とする請求項1ま
たは2に記載の光情報記録媒体の製造方法。
3. The second protective layer comprises oxygen gas of 5 × 10-6T
1 × 10 or more -FourInert including partial pressure below Torr
In a gas atmosphere, use a carbon-containing target to
2. The method as claimed in claim 1, wherein the step is formed by a taring method.
3. The method for manufacturing an optical information recording medium according to item 2.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7491436B2 (en) 2002-11-18 2009-02-17 Ricoh Company, Ltd. Optical information recording medium

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