JP3351647B2 - Scanning electron microscope - Google Patents
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、試料上に電子ビームを
細く集束し、更に試料上の特定領域で電子ビームの走査
を行うようにした走査電子顕微鏡に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a scanning electron microscope in which an electron beam is narrowly focused on a sample and the electron beam is scanned in a specific area on the sample.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図１は従来の走査電子顕微鏡の光学系を
示している。１は電子銃であり、電子銃１は電子放射エ
ミッタ２、引出電極３、加速電極４より構成されてい
る。詳細に図示していないが、エミッタ２と加速電極４
との間に加速電源から加速電圧が印加され、また、エミ
ッタ２と引出電極３との間には引出電圧が印加される。
なお、加速電極４は接地電位とされている。2. Description of the Related Art FIG. 1 shows an optical system of a conventional scanning electron microscope. Reference numeral 1 denotes an electron gun. The electron gun 1 includes an electron emission emitter 2, an extraction electrode 3, and an acceleration electrode 4. Although not shown in detail, the emitter 2 and the accelerating electrode 4
An acceleration voltage is applied between the emitter 2 and the extraction electrode 3 between the emitter 2 and the extraction electrode 3.
Note that the acceleration electrode 4 is set to the ground potential.
【０００３】電子銃１より発生し加速された電子ビーム
ＥＢは、コンデンサレンズ５によって集束される。コン
デンサレンズ５によって集束された電子ビームは、対物
レンズ絞り６を通過し、開き角制御レンズ７によって集
束される。開き角制御レンズ７によって集束された電子
ビームは、対物レンズ８によって試料９上に細く集束さ
れる。The electron beam EB generated and accelerated by the electron gun 1 is focused by a condenser lens 5. The electron beam focused by the condenser lens 5 passes through the objective lens aperture 6 and is focused by the aperture angle control lens 7. The electron beam focused by the aperture angle control lens 7 is narrowly focused on the sample 9 by the objective lens 8.
【０００４】図１には図示していないが、電子ビームの
光路に沿って電子ビームの偏向コイルが配置されてお
り、また、試料９の近傍又は対物レンズ８の中、あるい
は対物レンズ８の上方には例えば２次電子検出器が配置
されている。この偏向コイルにより電子ビームは試料９
上で２次元的に走査され、この走査に伴って試料９から
発生した２次電子は、検出器によって検出される。そし
て、検出信号を電子ビームの走査と同期した陰極線管に
供給すれば、陰極線管上には試料の走査像を表示するこ
とができる。Although not shown in FIG. 1, a deflection coil for the electron beam is arranged along the optical path of the electron beam, and is located near the sample 9 or in the objective lens 8 or above the objective lens 8. Is provided with, for example, a secondary electron detector. The electron beam is converted by the deflection coil into the sample 9.
The two-dimensional scanning is performed above, and the secondary electrons generated from the sample 9 by the scanning are detected by the detector. When the detection signal is supplied to the cathode ray tube synchronized with the scanning of the electron beam, a scanned image of the sample can be displayed on the cathode ray tube.
【０００５】さて、試料９に照射される電子ビーム（プ
ローブ）の直径ｄは、試料９上に集束されるプローブの
開き角αの関数であり、次の関係式で表すことができ
る。 ｄ＝Ｐ／α2 ＋Ｑ・α2 ＋Ｃ・α6 上式で、Ｐは回折収差に関する係数、Ｑは色収差に関す
る係数、Ｃは球面収差に関する係数である。この内、Ｐ
は電子ビームの波長（加速電圧）に依存し、また、Ｑ，
Ｃは対物レンズ８の形状によって決まる。図２はプロー
ブ径ｄと開き角αとの関係を示したグラフであり、プロ
ーブ径ｄが開き角αによって変化することを示してい
る。なお、グラフ中に開き角に応じた回折収差、色収
差、球面収差の量変化も併せて表示してある。この図か
ら明らかなように、プローブ径ｄを最小にする開き角α
opt が存在しており、この最適開き角αopt は、次のよ
うに表すことができる。[0005] Now, an electron beam (pro
Lobe) diameter d of the probe focused on sample 9
It is a function of the opening angle α and can be expressed by the following relational expression
You. d = P / αTwo + Q ・ αTwo + C ・ α6 In the above equation, P is a coefficient relating to diffraction aberration, and Q is relating to chromatic aberration.
Is a coefficient relating to spherical aberration. Among them, P
Depends on the wavelength (acceleration voltage) of the electron beam, and Q,
C is determined by the shape of the objective lens 8. Figure 2 shows the
5 is a graph showing the relationship between the diameter d and the opening angle α.
Shows that the probe diameter d changes with the opening angle α.
You. In the graph, diffraction aberration and color
The difference and the change in the amount of spherical aberration are also shown. This figure
As can be seen, the opening angle α that minimizes the probe diameter d
optAnd the optimal opening angle αoptNext
Can be expressed as follows.
【０００６】[0006]
【数１】 (Equation 1)
【０００７】図１の光学系において、開き角制御レンズ
７は、この（１）式を満足するように動作する。In the optical system shown in FIG. 1, the aperture angle control lens 7 operates so as to satisfy the equation (1).
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】図１の光学系では、開
き角制御レンズ７の像点Ｉは、開き角制御レンズ７と対
物レンズ８との間に位置するようにレンズ７は制御され
ている。このため、開き角制御レンズ７の焦点距離は短
くなり、レンズ７としては強励磁のレンズを用いる必要
がある。そのため、レンズ７のコイルを始めとして、各
構成部品が大型化し、また、電源も大きなものを使用す
る必要がある。もちろん、コスト的にも高いものとなら
ざるを得ない。In the optical system shown in FIG. 1, the lens 7 is controlled such that the image point I of the aperture angle control lens 7 is located between the aperture angle control lens 7 and the objective lens 8. I have. For this reason, the focal length of the opening angle control lens 7 becomes short, and it is necessary to use a strongly excited lens as the lens 7. Therefore, each component such as the coil of the lens 7 becomes large, and a large power source needs to be used. Of course, the cost must be high.
【０００９】更に、開き角制御レンズ７のヨーク材料と
しては、強励磁とするために純鉄を使用しているが、こ
の純鉄を使用したヨーク材料は、磁気ヒステリシスが大
きく、レンズ７の強度を調整したり、制御したりした場
合、レンズ７の像点の位置再現性が悪くなる欠点を有し
ている。Further, pure iron is used as a yoke material of the aperture angle control lens 7 for strong excitation. The yoke material using this pure iron has a large magnetic hysteresis and a high strength of the lens 7. In the case where is adjusted or controlled, there is a disadvantage that the position reproducibility of the image point of the lens 7 is deteriorated.
【００１０】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、小型で安価な構成とすることがで
き、また、開き角制御レンズの調整を行っても像点の再
現性の良い走査電子顕微鏡を実現するにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object a small and inexpensive configuration, and the reproduction of an image point even when the aperture angle control lens is adjusted. The aim is to realize a good scanning electron microscope.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に基づく
走査電子顕微鏡は、電子銃からの電子ビームをコンデン
サレンズで集束し、対物レンズ絞りを通過させ、開き角
制御レンズで集束し、対物レンズで試料上に細く集束す
るように構成した走査電子顕微鏡において、相対的に大
きな径の対物レンズ絞りと小さな径の対物レンズ絞りと
を選択的に電子ビーム通路に配置できるようになってお
り、前記相対的に大きな径の対物レンズ絞りは、これを
電子ビーム通路に配置した際には、開き角制御レンズの
像点を対物レンズの下方、または無限遠に位置させるも
のであり、前記相対的に小さな径の対物レンズ絞りは、
これを電子ビーム通路に配置した際には、開き角制御レ
ンズの像点を開き角制御レンズの上方に位置させるもの
であることを特徴としている。According to a first aspect of the present invention, there is provided a scanning electron microscope wherein an electron beam from an electron gun is focused by a condenser lens, passed through an objective lens aperture, focused by an opening angle control lens, and In a scanning electron microscope configured to focus finely on a sample with a lens, a relatively large
With a large diameter objective lens aperture and a small diameter objective lens aperture
Can be selectively placed in the electron beam path.
And the relatively large diameter objective lens diaphragm
When placed in the electron beam path, the aperture angle control lens
If the image point is located below the objective lens or at infinity
The objective lens aperture having a relatively small diameter is
When this is placed in the electron beam path, the opening angle control level
With the image point of the lens positioned above the angle control lens
It is characterized by being.
【００１２】[0012]
【００１３】請求項２の発明に基づく走査電子顕微鏡
は、開き角制御レンズのヨーク材料として、パーマロイ
を用いたことを特徴としている。A scanning electron microscope according to a second aspect of the present invention is characterized in that permalloy is used as a yoke material for the aperture angle control lens.
【００１４】[0014]
【作用】請求項１の発明は、開き角制御レンズの像点
を、対物レンズ絞りの径に応じて、対物レンズの下方、
または無限遠、または開き角制御レンズの上方に位置さ
せる。According to the first aspect of the present invention, the image point of the aperture angle control lens is set below the objective lens according to the diameter of the objective lens stop .
Or it is located at infinity or above the aperture angle control lens.
【００１５】[0015]
【００１６】請求項２の発明は、開き角制御レンズのヨ
ーク材料として、パーマロイを用いた。According to the second aspect of the present invention, permalloy is used as a yoke material for the aperture angle control lens.
【００１７】[0017]
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図３は、本発明に基づく走査電子顕微鏡の
一実施例を示しており、図１の構成と同一ないしは類似
構成要素には同一番号を付してある。１は電子銃であ
り、電子銃１は電子放射エミッタ２、引出電極３、加速
電極４より構成されている。エミッタ２と加速電極４と
の間に加速電源１１から加速電圧が印加され、また、エ
ミッタ２と引出電極３との間には引出電源１２から引出
電圧が印加される。なお、加速電極４は接地電位とされ
ている。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 3 shows an embodiment of the scanning electron microscope according to the present invention, and the same or similar components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. Reference numeral 1 denotes an electron gun. The electron gun 1 includes an electron emission emitter 2, an extraction electrode 3, and an acceleration electrode 4. An accelerating voltage is applied between the emitter 2 and the accelerating electrode 4 from an accelerating power source 11, and an extracting voltage is applied between the emitter 2 and the extracting electrode 3 from an extracting power source 12. Note that the acceleration electrode 4 is set to the ground potential.
【００１８】電子銃１より発生し加速された電子ビーム
ＥＢは、制御電源１３から励磁電流が供給されるコンデ
ンサレンズ５によって集束される。コンデンサレンズ５
によって集束された電子ビームは、対物レンズ絞り６を
通過し、開き角制御レンズ１４によって集束される。開
き角制御レンズ１４は弱励磁のレンズが使用されてお
り、そのヨーク材料はパーマロイ等の低ヒステリシスの
磁性材料が用いられている。The electron beam EB generated and accelerated by the electron gun 1 is focused by a condenser lens 5 supplied with an excitation current from a control power supply 13. Condenser lens 5
The focused electron beam passes through the objective lens aperture 6 and is focused by the aperture angle control lens 14. The aperture angle control lens 14 is a weakly excited lens, and its yoke material is a low hysteresis magnetic material such as permalloy.
【００１９】弱励磁の開き角制御レンズ１４には制御電
源１５から励磁電流が供給されており、その像点は、試
料９の下方となるように制御されている。開き角制御レ
ンズ７によって集束された電子ビームは、制御電源１６
から励磁電流が供給される対物レンズ８によって試料９
上に細く集束される。An excitation current is supplied from a control power supply 15 to the weak excitation aperture angle control lens 14, and its image point is controlled to be below the sample 9. The electron beam focused by the aperture angle control lens 7 is supplied to a control power supply 16.
The sample 9 is supplied by the objective lens 8 to which the excitation current is supplied from
Focused narrowly on top.
【００２０】１７はコンピュータのごとき制御装置であ
り、制御装置１７は加速電源１１、引出電源１２、コン
デンサレンズ制御電源１３、開き角制御レンズの制御電
源１５、対物レンズ制御電源１６と接続されており、そ
れらを制御すると共に、各電源からのデータを入手す
る。制御装置１７内には、制御テーブル１８が設けられ
ている。このような構成の動作を次に説明する。Reference numeral 17 denotes a control device such as a computer. The control device 17 is connected to the acceleration power supply 11, the extraction power supply 12, the condenser lens control power supply 13, the control power supply 15 for the opening angle control lens, and the objective lens control power supply 16. Control them and obtain data from each power source. A control table 18 is provided in the control device 17. The operation of such a configuration will now be described.
【００２１】電子銃１より発生し加速された電子ビーム
ＥＢは、コンデンサレンズ５によって集束される。コン
デンサレンズ５によって集束された電子ビームは、対物
レンズ絞り６を通過し、開き角制御レンズ１４によって
集束される。開き角制御レンズ１４によって集束された
電子ビームは、対物レンズ８によって試料９上に細く集
束される。The electron beam EB generated and accelerated by the electron gun 1 is focused by the condenser lens 5. The electron beam focused by the condenser lens 5 passes through the objective lens aperture 6 and is focused by the aperture angle control lens 14. The electron beam focused by the aperture angle control lens 14 is narrowly focused on the sample 9 by the objective lens 8.
【００２２】図３には図示していないが、電子ビームの
光路に沿って電子ビームの偏向コイルが配置されてお
り、また、試料９の近傍には又は対物レンズ８の中、あ
るいは対物レンズ８の上方例えば２次電子検出器が配置
されている。この偏向コイルにより電子ビームは試料９
上で２次元的に走査され、この走査に伴って試料９から
発生した２次電子は、検出器によって検出される。そし
て、検出信号を電子ビームの走査と同期した陰極線管に
供給すれば、陰極線管上には試料の走査像を表示するこ
とができる。Although not shown in FIG. 3, a deflection coil for the electron beam is arranged along the optical path of the electron beam, and is provided in the vicinity of the sample 9, in the objective lens 8, or in the objective lens 8. For example, a secondary electron detector is arranged above the above. The electron beam is converted by the deflection coil into the sample 9.
The two-dimensional scanning is performed above, and the secondary electrons generated from the sample 9 by the scanning are detected by the detector. When the detection signal is supplied to the cathode ray tube synchronized with the scanning of the electron beam, a scanned image of the sample can be displayed on the cathode ray tube.
【００２３】さて、開き角制御レンズ１４は弱励磁とさ
れており、このレンズ１４の像点は対物レンズ８の下方
のＩ1 となるように制御されている。対物レンズ８はこ
の開き角制御レンズ１４によって集束された電子ビーム
を試料９上に細く集束する。試料９に照射される電子ビ
ームの開き角αは、開き角制御レンズ１４の励磁を変化
させ、開き角制御レンズ１４の像点を光軸上で移動させ
ることによって最適な値としている。また、対物レンズ
絞り６の大きさに応じても、開き角αは最適な値に制御
される。The opening angle control lens 14 is weakly excited, and the image point of the lens 14 is controlled to be I 1 below the objective lens 8. The objective lens 8 narrowly focuses the electron beam focused by the aperture angle control lens 14 on the sample 9. The opening angle α of the electron beam applied to the sample 9 is set to an optimum value by changing the excitation of the opening angle control lens 14 and moving the image point of the opening angle control lens 14 on the optical axis. Also, the opening angle α is controlled to an optimum value according to the size of the objective lens diaphragm 6.
【００２４】このように、開き角制御レンズ１４を弱励
磁としているため、そのヨーク，コイル等の構成要素を
小型とすることができる。また、弱励磁のレンズである
ため、ヨーク材料としてパーマロイ等の低ヒステリシス
の磁性材料を用いることができるので、開き角を制御す
るために制御電源１５からの励磁電流を変化させても、
ヒステリシスの影響がほとんどなく、像点Ｉ1 の位置の
再現性を著しく向上させることができる。As described above, since the aperture angle control lens 14 is weakly excited, components such as the yoke and the coil can be reduced in size. Further, since the lens is a weakly excited lens, a low hysteresis magnetic material such as permalloy can be used as a yoke material. Therefore, even if the exciting current from the control power supply 15 is changed to control the opening angle,
Effect of hysteresis little, can significantly improve the reproducibility of the position of the image point I 1.
【００２５】また、開き角制御レンズ１４として、パー
マロイ等の初期透磁率の高い磁性材料を用いたので、外
部磁場変動に対する走査像の乱れに対して影響が少なく
なる。Further, since a magnetic material having a high initial magnetic permeability such as permalloy is used as the aperture angle control lens 14, the influence on the disturbance of the scanned image due to the fluctuation of the external magnetic field is reduced.
【００２６】次に、開き角制御レンズ１４の制御動作に
ついて説明する。開き角αは、プローブ径ｄが最小とな
るように制御されるが、このためには、前記した（１）
式を満足するように開き角制御レンズ１４を制御する必
要がある。このため、電子ビームの加速電圧に依存した
Ｐの値、対物レンズ８と試料９との間の距離（ワーキン
グディスタンス：ＷＤ）に依存したＱ，Ｃの値に基づい
て、最適開き角αoptとなる開き角制御レンズ１４の励
磁電流の値がテーブルの形で制御装置１７の制御テーブ
ル１８内に形成されている。Next, the control operation of the opening angle control lens 14 will be described. The opening angle α is controlled so that the probe diameter d is minimized.
It is necessary to control the opening angle control lens 14 so as to satisfy the expression. For this reason, based on the value of P depending on the acceleration voltage of the electron beam, and the values of Q and C depending on the distance (working distance: WD) between the objective lens 8 and the sample 9, the optimum opening angle α opt is determined. The value of the exciting current of the opening angle control lens 14 is formed in the control table 18 of the control device 17 in the form of a table.
【００２７】このような状態で、加速電源１２、引き出
し電源１３を制御し所定の加速電圧と引出電圧を設定す
ると、加速電源１２と引出電源１３とから制御装置１７
には各電圧に対応した信号が供給される。この各電圧に
基づいて、制御装置１７はコンデンサレンズ制御電源１
３を制御し、各電圧に応じて電子ビームを適正に集束す
る。In this state, when the acceleration power supply 12 and the extraction power supply 13 are controlled to set a predetermined acceleration voltage and extraction voltage, the acceleration power supply 12 and the extraction power supply 13
Are supplied with signals corresponding to the respective voltages. Based on these voltages, the control device 17 controls the condenser lens control power supply 1
3 to properly focus the electron beam according to each voltage.
【００２８】また、対物レンズ８は良く知られた焦点合
わせ機構により、電子ビームが試料９上にジャストフォ
ーカスされるように励磁電流が調整される。このときの
励磁電流に応じた信号は、制御装置１７に供給される。
制御装置１７は、加速電圧に応じた信号、コンデンサレ
ンズの励磁電流に応じた信号、対物レンズの励磁電流に
応じた信号に基づき、制御テーブル１８から最適開き角
となる開き角制御レンズ１４の励磁電流を読みだし、こ
の値を制御電源１６に供給する。このようにして、試料
９に照射される電子ビームの開き角は、最適開き角α
opt とされる。The exciting current of the objective lens 8 is adjusted by a well-known focusing mechanism so that the electron beam is just focused on the sample 9. A signal corresponding to the exciting current at this time is supplied to the control device 17.
Based on a signal corresponding to the accelerating voltage, a signal corresponding to the exciting current of the condenser lens, and a signal corresponding to the exciting current of the objective lens, the control device 17 controls the excitation of the opening angle control lens 14 to be the optimum opening angle from the control table 18. The current is read and this value is supplied to the control power supply 16. In this manner, the opening angle of the electron beam applied to the sample 9 becomes the optimum opening angle α.
opt .
【００２９】図４は本発明の他の実施例を示しており、
図３の実施例と同一部分には同一番号を付してある。こ
の実施例では、試料９に照射される電子ビームの最適開
き角に最も適した対物レンズ絞り６を配置した際、この
絞りの径が小さい場合の開き角制御レンズ１４の動作を
示している。対物レンズ絞り６の径が小さい場合、開き
角制御レンズ１４の励磁電流は制御され、レンズ１４の
像点がレンズ１４の上方のＩ2 に位置される。この結
果、絞り径を変えた場合にも、最適開き角の電子ビーム
を試料９上に照射でき、常に高い分解能で走査電子顕微
鏡観察を行なうことが可能となる。なお、対物レンズ絞
り６を交換し、絞り径を変えた場合には、その情報を制
御装置１７に伝え、制御装置１７により開き角制御レン
ズ１４の制御電源１５を制御するように構成している。FIG. 4 shows another embodiment of the present invention.
The same parts as those in the embodiment of FIG. 3 are denoted by the same reference numerals. This embodiment shows the operation of the aperture angle control lens 14 when the objective lens aperture 6 most suitable for the optimal aperture angle of the electron beam applied to the sample 9 is arranged and the aperture diameter is small. When the diameter of the objective lens aperture 6 is small, the exciting current of the aperture angle control lens 14 is controlled, and the image point of the lens 14 is located at I 2 above the lens 14. As a result, even when the aperture diameter is changed, the electron beam having the optimum opening angle can be irradiated on the sample 9, and the scanning electron microscope can be always observed with a high resolution. When the objective lens aperture 6 is replaced and the aperture diameter is changed, the information is transmitted to the control device 17, and the control power supply 15 of the opening angle control lens 14 is controlled by the control device 17. .
【００３０】[0030]
【発明の効果】以上、説明したように、請求項１記載の
発明は、開き角制御レンズの像点を、対物レンズ絞りの
径に応じて、対物レンズの下方、または無限遠、または
開き角制御レンズの上方に位置させるように構成したの
で、開き角制御レンズを弱励磁のレンズとすることがで
きる。そのため、ヨーク、コイル等の構成要素を小型と
することができる。また、対物レンズ絞りの径に応じて
開き角制御レンズの像点を変化させたので、常に高い分
解能での走査像を観察することができる。 As described above, according to the first aspect of the present invention, the image point of the aperture angle control lens is set at the position of the objective lens stop.
The aperture angle control lens can be a weakly excited lens because it is located below the objective lens, at infinity, or above the aperture angle control lens according to the diameter . Therefore, components such as a yoke and a coil can be reduced in size. Also, depending on the diameter of the objective lens aperture
Since the image point of the aperture angle control lens has been changed,
A scanning image at a resolution can be observed.
【００３１】[0031]
【００３２】請求項２の発明は、開き角制御レンズのヨ
ーク材料として、パーマロイを用いたので、開き角を制
御するために制御電源からの励磁電流を変化させても、
ヒステリシスの影響がほとんどなく、像点の位置の再現
性を著しく向上させることができる。また、開き角制御
レンズのヨーク材料としてパーマロイを用いたので、外
部磁場変動に対する走査像の乱れに対して影響が少なく
なる効果がある。 According to the second aspect of the present invention, since permalloy is used as the yoke material of the opening angle control lens, even if the exciting current from the control power supply is changed to control the opening angle,
There is almost no influence of hysteresis, and the reproducibility of the position of the image point can be remarkably improved. Opening angle control
Since permalloy is used as the yoke material of the lens,
Little influence on scanning image disturbance due to local magnetic field fluctuation
There is an effect.
【００３３】[0033]
【図１】従来の走査電子顕微鏡の光学系を示す図であ
る。FIG. 1 is a diagram showing an optical system of a conventional scanning electron microscope.
【図２】プローブ径と電子ビームの開き角の関係を示す
グラフである。FIG. 2 is a graph showing a relationship between a probe diameter and an opening angle of an electron beam.
【図３】本発明の一実施例である走査電子顕微鏡を示す
図である。FIG. 3 is a diagram showing a scanning electron microscope according to one embodiment of the present invention.
【図４】本発明の一実施例である走査電子顕微鏡を示す
図である。FIG. 4 is a diagram showing a scanning electron microscope according to one embodiment of the present invention.
１ 電子銃 ５ コンデンサレンズ ６ 対物レンズ絞り ８ 対物レンズ ９ 試料 １４ 開き角制御レンズ １７ 制御装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electron gun 5 Condenser lens 6 Objective lens aperture 8 Objective lens 9 Sample 14 Opening angle control lens 17 Controller
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−159943（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−4142（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−17364（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−215780（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−62629（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−78144（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−358045（ＪＰ，Ａ) 特公 昭49−36769（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01J 37/141 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-1-159943 (JP, A) JP-A-61-4142 (JP, A) JP-A-64-17364 (JP, A) JP-A-5-15964 215780 (JP, A) JP-A-5-62629 (JP, A) JP-A-2-78144 (JP, A) JP-A-4-358045 (JP, A) JP-B-49-36769 (JP, B1) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H01J 37/141
Claims (2)
ンズで集束し、対物レンズ絞りを通過させ、開き角制御
レンズで集束し、対物レンズで試料上に細く集束するよ
うに構成した走査電子顕微鏡において、相対的に大きな
径の対物レンズ絞りと小さな径の対物レンズ絞りとを選
択的に電子ビーム通路に配置できるようになっており、
前記相対的に大きな径の対物レンズ絞りは、これを電子
ビーム通路に配置した際には、開き角制御レンズの像点
を対物レンズの下方、または無限遠に位置させるもので
あり、前記相対的に小さな径の対物レンズ絞りは、これ
を電子ビーム通路に配置した際には、開き角制御レンズ
の像点を開き角制御レンズの上方に位置させるものであ
ることを特徴とする走査電子顕微鏡。 In a scanning electron microscope, an electron beam from an electron gun is focused by a condenser lens, passed through an objective lens aperture, focused by an opening angle control lens, and narrowly focused on a sample by the objective lens. , Relatively large
Choose between a small diameter objective lens aperture and a small diameter objective lens aperture.
It can be arranged selectively in the electron beam path,
The relatively large diameter objective lens aperture is
When placed in the beam path, the image point of the aperture angle control lens
Is positioned below the objective lens or at infinity.
The objective lens aperture having a relatively small diameter is
When placed in the electron beam path, the aperture angle control lens
Is positioned above the opening angle control lens.
A scanning electron microscope characterized by the fact that:
パーマロイを用いた請求項１記載の走査電子顕微鏡。The scanning electron microscope according to claim 1, wherein permalloy is used.
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