JP3351434B2 - Resin composition for laminate and laminate - Google Patents

Resin composition for laminate and laminate

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JP3351434B2
JP3351434B2 JP9649592A JP9649592A JP3351434B2 JP 3351434 B2 JP3351434 B2 JP 3351434B2 JP 9649592 A JP9649592 A JP 9649592A JP 9649592 A JP9649592 A JP 9649592A JP 3351434 B2 JP3351434 B2 JP 3351434B2
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道雄 大場
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【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プリント配線基板製造
に用いる積層板用樹脂組成物に関するものであり、耐ク
ラック性、耐熱性等に優れた樹脂組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin composition for a laminate used for manufacturing a printed wiring board, and more particularly to a resin composition having excellent crack resistance and heat resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピュ−タ−、通信機器、計測機器等
の産業用電子機器に用いられるプリント配線基板用材料
には、ガラス基材エポキシ銅張積層板が最も多く使用さ
れている。最近、回路の微細化、スルホ−ルの小径化、
および高多層化が急速に進展するに伴って、積層板に対
する要求性能は一段と厳しさを増している。特に、小径
ドリル加工時の機械的衝撃によるマイクロクラック発生
は、スルホ−ルの導通不良やハロ−イングの原因として
重大な問題となっており、従来の積層板材料では対応し
きれず、緊急に解決すべき課題とされている。
2. Description of the Related Art As a material for printed wiring boards used for industrial electronic equipment such as computers, communication equipment, measuring equipment, etc., glass-base epoxy copper-clad laminates are most often used. Recently, miniaturization of circuit, reduction of diameter of sulfol,
With the rapid progress of multi-layering and higher multi-layering, the required performance for laminates has become even more severe. In particular, the occurrence of microcracks due to mechanical shock during small-diameter drilling is a serious problem as a cause of poor sulfor conduction and haloing. It is a task to be done.

【0003】このような耐クラック性を改良する方法と
しては、積層板原料であるエポキシ樹脂を強靱化するこ
とが効果的である。エポキシ樹脂強靱化の手法として
は、エラストマ−を配合したり、熱可塑性樹脂を配合す
る方法が公知であり、旧くから様々な試みがなされてい
る。中でも、カルボキシル基末端のブタジエン−アクリ
ロニトリルゴム(CTBN)は代表的な配合剤として知られ、
広く用いられている。しかしながら、CTBNを配合した場
合には、樹脂の耐熱性や耐湿性が悪くなるため、高度の
半田耐熱性や吸湿耐熱性を必要とする積層板用途には適
用し難いものであった。また、半導体封止用エポキシ樹
脂の分野では、低応力化のためポリシロキサン化合物を
配合する試みが広く行われているが、ポリシロキサン化
合物は本質的にエポキシ樹脂との相溶性が悪いため、こ
れを配合した場合には、均一な溶液のワニスを調製した
り、均一なプリプレグを作製したりすることが難かし
く、積層板用途に適用することは困難であった。
As a method of improving the crack resistance, it is effective to make the epoxy resin, which is a raw material of the laminate, tough. As a method of toughening an epoxy resin, a method of blending an elastomer or a thermoplastic resin is known, and various attempts have been made for a long time. Among them, carboxyl group-terminated butadiene-acrylonitrile rubber (CTBN) is known as a typical compounding agent,
Widely used. However, when CTBN is blended, the heat resistance and moisture resistance of the resin are deteriorated, so that it has been difficult to apply it to laminates that require high solder heat resistance and high moisture absorption heat resistance. In the field of epoxy resins for semiconductor encapsulation, attempts have been made to mix polysiloxane compounds to reduce stress, but polysiloxane compounds are inherently poorly compatible with epoxy resins. When it was blended, it was difficult to prepare a varnish of a uniform solution or to prepare a uniform prepreg, and it was difficult to apply the varnish to a laminate.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】これまでのところ、実
用に耐え得るようなポリシロキサン配合エポキシ樹脂積
層板製造技術は開示されていない。本発明者らは、特定
のポリシロキサン化合物を特定の方法でエポキシ樹脂に
配合することにより、積層板材料としての基本特性を損
なわずに耐クラック性を大幅に改良可能であることを見
出し、本発明を完成するに至った。
To date, no technique for producing a polysiloxane-containing epoxy resin laminate that can withstand practical use has been disclosed. The present inventors have found that by adding a specific polysiloxane compound to an epoxy resin by a specific method, crack resistance can be significantly improved without impairing the basic properties as a laminate material. The invention has been completed.

【0005】すなわち、本発明は、(A).1分子中に2個
以上のエポキシ基を含有するエポキシ樹脂、(B).硬化剤
および(C).分子中にカルボキシル基を含有するポリシロ
キサン化合物を必須成分とし、該(A) の全部または一部
と該(C) とを触媒存在下で、該(C) 中のカルボキシル基
の90%以上が反応するまで予備反応した後、配合して
なる積層板用樹脂組成物を基材に含侵したプリプレグを
積層成形してなる積層板であり、好ましい実施態様にお
いては、(C) のカルボキシル当量が 500〜5000の範囲で
あること、また、その配合量が樹脂組成物総量の1〜20
重量%であることである。
That is, the present invention relates to (A) an epoxy resin containing two or more epoxy groups in one molecule, (B) a curing agent and (C) a polysiloxane containing a carboxyl group in the molecule. The compound is an essential component, and all or part of (A) is preliminarily reacted with (C) in the presence of a catalyst until 90% or more of the carboxyl groups in (C) are reacted, and then compounded. A laminate obtained by laminating and molding a prepreg impregnated in a base material with the resin composition for a laminate, and in a preferred embodiment, the carboxyl equivalent of (C) is in the range of 500 to 5000, , The amount of which is 1 to 20 of the total amount of the resin composition
% By weight.

【0006】以下、本発明の構成について説明する。本
発明の(A) 成分としては、多官能エポキシ樹脂であれば
どのようなものでもよいが、積層板用途で汎用されるも
のとして、例えば、ビスフェノ−ルA型エポキシ樹脂、
ビスフェノ−ルAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェ
ノ−ルF型エポキシ樹脂、フェノ−ルノボラック型エポ
キシ樹脂、クレゾ−ルノボラック型エポキシ樹脂、ジフ
ェニル骨格を有するエポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有
するエポキシ樹脂、トリフェニルメタン骨格を有するエ
ポキシ樹脂、およびこれらのエポキシ樹脂構造中の水素
原子の一部をハロゲン化することにより難燃化したエポ
キシ樹脂等が好ましいものとして挙げられる。2種類以
上のエポキシ樹脂を併用してもよい。
Hereinafter, the configuration of the present invention will be described. As the component (A) of the present invention, any polyfunctional epoxy resin may be used. Examples of the component commonly used in laminate applications include, for example, bisphenol A type epoxy resin,
Bisphenol A novolak type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, epoxy resin having diphenyl skeleton, epoxy resin having naphthalene skeleton, and triphenylmethane skeleton Preferred are epoxy resins having the same, and epoxy resins which are made flame-retardant by halogenating a part of hydrogen atoms in these epoxy resin structures. Two or more epoxy resins may be used in combination.

【0007】また、(B) 成分の硬化剤としては、ビスフ
ェノ−ルA、ビスフェノ−ルF、ポリビニルフェノ−
ル、フェノ−ルノボラック樹脂、クレゾ−ルノボラック
樹脂、ビスフェノ−ルAノボラック樹脂、ビスフェノ−
ルFノボラック樹脂などの多官能フェノ−ル類、および
これら多官能フェノ−ル類のハロゲン化物、ジシアンジ
アミド、その他、芳香族アミン類、酸無水物類等が挙げ
られる。これらの中で、多官能フェノ−ル類、またはこ
れらのハロゲン化物がポリシロキサン化合物との相溶性
の点から特に望ましい。硬化剤の配合量としては、エポ
キシ樹脂のエポキシ基に対する硬化剤の反応基の当量比
(反応基/エポキシ基)が、ジシアンジアミドでは 0.5
〜0.7 、その他は 0.7〜1.2 の範囲となる量が好まし
い。
[0007] The curing agents of component (B) include bisphenol A, bisphenol F and polyvinyl phenol.
Phenol-novolak resin, cresol-novolak resin, bisphenol-A novolak resin, bisphenol-novolak resin
And polyfunctional phenols such as F-novolak resin, and halides, dicyandiamide, and other aromatic amines and acid anhydrides of these polyfunctional phenols. Among these, polyfunctional phenols or their halides are particularly desirable from the viewpoint of compatibility with the polysiloxane compound. As for the amount of the curing agent, the equivalent ratio of the reactive group of the curing agent to the epoxy group of the epoxy resin (reactive group / epoxy group) is 0.5 in dicyandiamide.
To 0.7, and others are preferably in the range of 0.7 to 1.2.

【0008】(C) の分子中にカルボキシル基を含有する
ポリシロキサン化合物成分としては、分子の両末端にカ
ルボキシル基を有するもの、分子の片末端のみにカルボ
キシル基を有するもの、分子の側鎖にカルボキシル基を
有するもの、分子の側鎖並びに末端にカルボキシル基を
有するものが挙げられ、下記の一般式で示される。 X-Si(R)2O-[Si(R)2O-]m [Si(R)(X)O-]n Si(R)2-X 式中の、R は同種又は異種の炭化水素基 (メチル基、エ
チル基、フェニル基など) 、X は R1COOH 又は R( R
1は、エチレン、プロピレン等の炭化水素鎖) であり、
少なくとも分子中の1個以上のX は、R1COOHである。
The polysiloxane compound component having a carboxyl group in the molecule (C) includes a compound having a carboxyl group at both ends of the molecule, a compound having a carboxyl group at only one end of the molecule, and a compound having a carboxyl group at one end of the molecule. Examples include those having a carboxyl group, those having a carboxyl group at the side chain and at the terminal of the molecule, and are represented by the following general formula. X-Si (R) 2 O- [Si (R) 2 O-] m [Si (R) (X) O-] n Si (R) 2 -X where R is the same or different hydrocarbon Group (methyl group, ethyl group, phenyl group, etc.), X is R 1 COOH or R (R
1 is a hydrocarbon chain such as ethylene and propylene)
At least one or more X in the molecule is R 1 COOH.

【0009】これらの中で分子の両末端にカルボキシル
基を有する化合物が特に好ましい。また、本発明のポリ
シロキサン化合物を配合する際には、エポキシ樹脂およ
び硬化剤とポリシロキサン化合物との相溶性を高めるた
め、予め、(A) のエポキシ樹脂の全部又は一部と(C) の
ポリシロキサン化合物とを触媒存在下で、(C) のカルボ
キシル基の90%以上が反応するまで予備反応することが
望ましい。
Of these, compounds having carboxyl groups at both ends of the molecule are particularly preferred. When the polysiloxane compound of the present invention is blended, in order to enhance the compatibility between the epoxy resin and the curing agent and the polysiloxane compound, all or part of the epoxy resin (A) and (C) It is desirable to carry out a preliminary reaction with the polysiloxane compound in the presence of a catalyst until at least 90% of the carboxyl groups of (C) have reacted.

【0010】予備反応を行わずに、あるいは予備反応が
不十分な段階で、本発明の分子中にカルボキシルを有す
るポリシロキサン化合物を配合した場合には、相溶性が
極めて悪く、ワニスが2層に分離してしまうため、実質
的に使用不可能である。予備反応時の (A)と(C) との配
合比は、反応を円滑に進めるためには、(A) のエポキシ
基に対する (C)のカルボキシル基の当量比(カルボキシ
ル基/エポキシ基)が 0.5以下、好ましくは 0.3以下で
あることが望ましい。当量比が 0.5を越えると、反応中
にゲル化を生じやすい。
When the polysiloxane compound having a carboxyl in the molecule of the present invention is blended without performing the preliminary reaction or at a stage where the preliminary reaction is insufficient, the compatibility is extremely poor, and the varnish becomes two layers. Since they are separated, they are practically unusable. The mixing ratio of (A) and (C) at the time of the preliminary reaction should be such that the equivalent ratio of the carboxyl group of (C) to the epoxy group of (A) (carboxyl group / epoxy group) is necessary for the reaction to proceed smoothly. It is desirably 0.5 or less, preferably 0.3 or less. If the equivalent ratio exceeds 0.5, gelation tends to occur during the reaction.

【0011】予備反応に用いる触媒成分としてはイミダ
ゾール、2-メチルイミダゾール、2-エチルイミダゾー
ル、2-エチル−4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミ
ダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、1-シアノエチル
−2-エチル−4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル−
2-フェニルイミダゾール等のイミダゾール化合物、トリ
エチルアミン、ベンジルジメチルアミン等の3級アミン
類、トリフェニルフォスフィン等のリン化合物等が例示
される。これらの触媒は、最終的にワニス成分として必
要な量を上限として、任意の量を予備反応時に配合する
ことができる。通常、ワニス中に配合する触媒量はエポ
キシ樹脂 100重量部に対して 0.03 〜0.5 重量部の範囲
である。
The catalyst components used in the preliminary reaction include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl -4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-
Examples thereof include imidazole compounds such as 2-phenylimidazole, tertiary amines such as triethylamine and benzyldimethylamine, and phosphorus compounds such as triphenylphosphine. Any of these catalysts may be added at the time of the preliminary reaction, up to the amount finally required as a varnish component. Usually, the amount of the catalyst to be incorporated in the varnish is in the range of 0.03 to 0.5 part by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin.

【0012】反応条件は、無溶剤下、あるいは溶剤存在
下で窒素ガスを吹き込みながら攪拌し、 100〜160 ℃の
温度で 0.5〜20時間反応させることが好ましい。特に、
溶剤としてメチルイソブチルケトン(=MIBK) 、トルエ
ン、キシレン、ジメチルホルムアミド等を用いて還流下
で反応を行うと、均一に反応が進み、反応を制御しやす
い点で好ましい。例えば、イミダゾ−ル系触媒を用い、
最終的にワニス成分として必要な全量を予備反応時に添
加した場合には、MIBK還流下では 4〜7 時間程度、キシ
レン還流下では 1〜3 時間程度でカルボキシル基の反応
は完結する。
The reaction is preferably carried out at a temperature of 100 to 160 ° C. for 0.5 to 20 hours with stirring while blowing nitrogen gas in the absence or presence of a solvent. In particular,
It is preferable to perform the reaction under reflux using methyl isobutyl ketone (= MIBK), toluene, xylene, dimethylformamide or the like as a solvent, since the reaction proceeds uniformly and the reaction is easily controlled. For example, using an imidazole catalyst,
When the entire amount required as a varnish component is finally added during the preliminary reaction, the reaction of the carboxyl group is completed in about 4 to 7 hours under reflux of MIBK and about 1 to 3 hours under reflux of xylene.

【0013】また、(C) のポリシロキサン化合物のカル
ボキシル当量は 500〜5000、より好ましくは 700〜3000
の範囲であることが望ましい。カルボキシル当量が 500
未満では、耐熱性が悪くなり、また、5000を越えるとエ
ポキシ樹脂や硬化剤との相溶性が悪くなるため、均一な
ワニス溶液を調製することが困難となったり、諸物性の
低下を生じたりする場合が多くなる。
The carboxyl equivalent of the polysiloxane compound (C) is 500 to 5000, more preferably 700 to 3000.
Is desirably within the range. Carboxyl equivalent is 500
If it is less than 5, the heat resistance becomes poor, and if it exceeds 5,000, the compatibility with the epoxy resin or the curing agent becomes poor, so that it becomes difficult to prepare a uniform varnish solution, or various physical properties may be reduced. More often.

【0014】(C) のポリシロキサン化合物の配合量は、
1〜20重量%、より好ましくは 2〜10重量%の範囲であ
ることが望ましい。配合量が1重量%未満では、耐クラ
ック性の改良効果が小さく、また、20重量%を越えると
エポキシ樹脂や硬化剤との相溶性が悪くなったり、かえ
って諸物性の低下を生じたりする場合が多くなる。
The compounding amount of the polysiloxane compound (C) is as follows:
It is desirable that the content be in the range of 1 to 20% by weight, more preferably 2 to 10% by weight. If the amount is less than 1% by weight, the effect of improving crack resistance is small, and if it exceeds 20% by weight, the compatibility with the epoxy resin or the curing agent becomes poor, or the physical properties are reduced. Increase.

【0015】また、本発明の樹脂組成物を用いた最終硬
化物の相分散は、ポリシロキサン化合物の種類や配合
量、エポキシ樹脂や硬化剤の種類、および硬化条件によ
っても異なるが、エポキシ樹脂中にポリシロキサン化合
物が0.01〜 2μm程度の平均粒径で細かく分散した相構
造を示す。ポリシロキサン化合物の分散状態は硬化物の
物性と密接な関連があり、積層板用としては平均粒径が
0.01〜0.5 μm程度となるように配合量や硬化条件など
を定めることが好ましい。なお、本発明の樹脂組成物に
は上記成分の他に、本発明の趣旨を損なわない範囲で、
他の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、エラストマ−、シラ
ンカップリング剤、紫外線吸収剤、無機物等の成分を添
加してもよい。
The phase dispersion of the final cured product using the resin composition of the present invention depends on the type and amount of the polysiloxane compound, the type of the epoxy resin and the curing agent, and the curing conditions. Fig. 3 shows a phase structure in which the polysiloxane compound is finely dispersed with an average particle size of about 0.01 to 2 µm. The dispersion state of the polysiloxane compound is closely related to the physical properties of the cured product.
It is preferable to determine the blending amount and the curing conditions so as to be about 0.01 to 0.5 μm. In addition, the resin composition of the present invention, in addition to the above components, in a range that does not impair the spirit of the present invention,
Components such as other thermosetting resins, thermoplastic resins, elastomers, silane coupling agents, ultraviolet absorbers, and inorganic substances may be added.

【0016】本発明は分子中にカルボキシル基を含有
し、かつカルボキシル当量が 500〜5000の範囲のポリシ
ロキサン化合物を樹脂組成物総量の 1〜20重量%の範囲
で配合量で、カルボキシル機の90%以上が反応するまで
エポキシ樹脂と反応させた後配合する点にあり、前記説
明の通り、エポキシ樹脂との反応性が極めて高いため予
備反応は短時間で完結し、しかも反応物はエポキシ樹脂
や硬化剤との相溶性に優れており、均一なワニス溶液を
調製可能な点で、積層板用樹脂組成物として極めて好適
なものである。また、本発明の樹脂組成物を基材に含浸
したプリプレグを積層成形することにより製造した積層
板は、耐クラック性の著しい改善効果とともに、銅箔等
の金属との接着性が向上し、かつガラス転移温度の低下
をほとんど生じない等の点で、極めて優れた特性を有す
る。
According to the present invention, a polysiloxane compound having a carboxyl group in the molecule and having a carboxyl equivalent in the range of 500 to 5000 is compounded in the range of 1 to 20% by weight of the total amount of the resin composition, % Or more is reacted and then blended with the epoxy resin until the reaction is completed. As described above, the reactivity with the epoxy resin is extremely high, so that the preliminary reaction is completed in a short time, and the reactant is epoxy resin or the like. It is extremely suitable as a resin composition for laminates in that it has excellent compatibility with a curing agent and can prepare a uniform varnish solution. Further, the laminated plate produced by laminating and molding a prepreg impregnated with a resin composition of the present invention on a base material, together with a remarkable effect of improving crack resistance, improved adhesion to metals such as copper foil, and It has extremely excellent properties in that the glass transition temperature hardly decreases.

【0017】[0017]

【実施例】以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明
する。なお、実施例、比較例中の部、%は特に断らない
限り重量基準である。 反応例1 分子両末端にカルボキシル基を有するカルボキシル当量
1000 のポリジメチルシロキサン化合物 67g、ブロム化
ビスフェノ−ルA型エポキシ樹脂(臭素含有率21重量
%、エポキシ当量 480) 150g、2-エチル−4-メチルイミ
ダゾ−ル(=2E4MZ)1g およびメチルイソブチルケトン(=M
IBK)約300gをセパラブルフラスコに入れ、冷却管、攪
拌器、窒素導入管、温度計を取り付けて、オイルバス上
115℃で、5時間反応させた。反応物のポリシロキサン
中のカルボキシル基の反応率は98%以上であった。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples. Parts and% in Examples and Comparative Examples are based on weight unless otherwise specified. Reaction Example 1 Carboxyl equivalent having carboxyl groups at both molecular ends
67 g of 1000 polydimethylsiloxane compound, 150 g of brominated bisphenol A type epoxy resin (bromine content: 21% by weight, epoxy equivalent: 480), 1 g of 2-ethyl-4-methylimidazole (= 2E4MZ) and methyl isobutyl ketone (= M
IBK) Put about 300 g in a separable flask, attach a cooling tube, stirrer, nitrogen introduction tube, thermometer, and put it on an oil bath
The reaction was performed at 115 ° C. for 5 hours. The conversion of carboxyl groups in the polysiloxane of the reactant was 98% or more.

【0018】実施例1 反応例1の予備反応物に、反応例1で用いたものと同一
のブロム化ビスフェノ−ルA型エポキシ樹脂 560g 、テ
トラブロムビスフェノ−ルA型エポキシ樹脂(臭素含有
率 48 %、エポキシ当量 400)190g、クレゾ−ルノボラ
ック型エポキシ樹脂(エポキシ当量 215)100gおよびビ
スフェノ−ルAノボラック樹脂(水酸基当量 118)280g
を加え、さらにアセトンで希釈することにより、ポリシ
ロキサン化合物を全樹脂分の5%配合したワニスを調製
した。
EXAMPLE 1 560 g of the same brominated bisphenol A-type epoxy resin and tetrabromobisphenol A-type epoxy resin (bromine content) used in Reaction Example 1 48%, epoxy equivalent 400) 190 g, cresol novolak type epoxy resin (epoxy equivalent 215) 100 g and bisphenol A novolak resin (hydroxyl equivalent 118) 280 g
Was added and further diluted with acetone to prepare a varnish in which the polysiloxane compound was blended at 5% of the total resin.

【0019】このワニスを厚さ0.18mmのガラス織布に含
浸、乾燥させ、樹脂量42%のプリプレグを得た。このプ
リプレグを4枚重ね、両面に厚さ35μmの銅箔を配置し
て圧力 30kg/cm2、 170℃、90分間プレスし、厚さ 0.8
mmの両面銅張積層板を得た。また、ガラス織布の代わり
に 1m2当り 100g のガラス不織布を用いて、同様にワニ
スを含浸、乾燥させ、樹脂量81%のプリプレグを得た。
このプリプレグを8枚重ね、両面に離型フィルムを配置
して、同様にプレスし、厚さ 3.2mmの積層板を得た。
The varnish was impregnated into a glass woven fabric having a thickness of 0.18 mm and dried to obtain a prepreg having a resin amount of 42%. Four prepregs were stacked, and a copper foil having a thickness of 35 μm was placed on both sides and pressed at a pressure of 30 kg / cm 2 at 170 ° C. for 90 minutes to obtain a thickness of 0.8.
mm double-sided copper-clad laminate was obtained. Further, instead of woven glass fabric with a nonwoven glass fabric of 1 m 2 per 100 g, similarly impregnated with the varnish and dried to give the resin amount 81% of the prepreg.
Eight sheets of this prepreg were stacked, release films were arranged on both sides, and pressed similarly to obtain a laminate having a thickness of 3.2 mm.

【0020】さらに、上記で得た厚さ 0.8mmの両面銅張
積層板を用い、試験用の内層プリント配線パターンを形
成し、ブラックオキサイド処理した後、両面に厚さ0.18
mmのガラス織布を用いたプリプレグを 2枚ずつ重ね、さ
らに両面に厚さ18μmの銅箔を配置して、圧力 30kg/c
m2、 170℃、90分間プレスして両面銅張の4層板を得
た。この4層板に孔径 0.4mmφ、2.54mmピッチでスルー
ホール孔 2,000をドリルにて 7万 r.p.m. 20μm/回転
の条件で孔あけし、スルーホールメッキしてスルーホー
ル4層板を製造した。
Further, using the double-sided copper-clad laminate having a thickness of 0.8 mm obtained above, an inner printed wiring pattern for testing was formed, black oxide treated, and then 0.18
2 mm prepreg using glass woven fabric, and 18μm thick copper foil on both sides, pressure 30kg / c
Pressing at m 2 , 170 ° C. for 90 minutes gave a double-sided copper-clad four-layer plate. A 2,000 through-hole hole was drilled in this four-layer plate at a hole diameter of 0.4 mmφ and a pitch of 2.54 mm at a condition of 70,000 rpm and 20 μm / rotation by a drill, and a through-hole plating was performed to manufacture a through-hole four-layer plate.

【0021】上記で製造した積層板について、下記に説
明する試験をした結果を表1−1、1−2に示した。 ・銅箔ピ−ル強度 (単位 kg/cm) :JIS C 6481に基づき、0.8mm 厚の銅張積層板にて測定 ・ガラス転移温度 (Tg、単位 ℃) :粘弾性(=DMA)にて、0.8mm 厚の銅張積層板にて測定 ・アイゾット衝撃試験 (IZ、単位 kg cm/cm) :JIS K 7110に基き、ノッチ無しにて 3.2mm厚のガラス
不織布基材積層板にて測定. ・破壊靱性試験 KIC :破壊靱性値 (単位 MPa m
1/2) GIC :破壊エネルギー (単位 kJ/m2) :ASTM E 399に基く3点曲げ法(=SENB試験)を採用し、
3.2mm 厚のガラス不織布基材積層板にて測定。 な
お、 GICは破壊に至るまでの荷重−変位曲線の囲む面積
を基に算出した。 ・ハローイングおよびメッキしみ込み (単位 μm) :スルーホール4層板の任意のスルーホール部 50箇所
について測定
Tables 1-1 and 1-2 show the results of the tests described below for the laminates produced above. -Copper foil peel strength (unit: kg / cm): Measured with a 0.8 mm thick copper-clad laminate based on JIS C 6481-Glass transition temperature (Tg, unit: ° C): Viscoelasticity (= DMA) , Measured on a 0.8 mm thick copper clad laminate ・ Izod impact test (IZ, unit kg cm / cm): Measured on a 3.2 mm thick glass nonwoven laminate with no notch based on JIS K 7110.・ Fracture toughness test K IC : Fracture toughness value (MPa unit)
1/2 ) G IC : Breaking energy (unit: kJ / m 2 ): Adopt the three-point bending method (= SENB test) based on ASTM E 399.
Measured on a 3.2 mm thick glass nonwoven substrate laminate. The G IC was calculated based on the area surrounding the load-displacement curve leading to fracture. -Haloing and plating soak (unit: μm): Measured at 50 arbitrary through-holes on a 4-layer through-hole plate

【0022】実施例2〜4 反応例1におけるポリシロキサン化合物の代わりに、表
1に示される分子両末端にカルボキシル基を有するポリ
ジメチルシロキサン化合物を用い、反応例1、および実
施例1と同様にして予備反応、ワニス調製、プリプレグ
作製、およびプレス成形を行い、それぞれのポリシロキ
サン化合物を全樹脂分の5%配合した 0.8mm厚のガラス
織布基材銅張積層板、および 3.2mm厚のガラス不織布基
材積層板を得た。得られた積層板を実施例1と同様に評
価した結果を表1に示した。
Examples 2 to 4 In place of the polysiloxane compound in Reaction Example 1, a polydimethylsiloxane compound having a carboxyl group at both molecular terminals shown in Table 1 was used, in the same manner as in Reaction Example 1 and Example 1. Preliminary reaction, varnish preparation, prepreg preparation, and press molding were performed, and each polysiloxane compound was blended at 5% of the total resin. A nonwoven substrate laminate was obtained. Table 1 shows the results of evaluating the obtained laminate in the same manner as in Example 1.

【0023】実施例5、6 反応例1におけるポリシロキサン化合物の配合量を 40g
又は 143g とした以外は、反応例1、および実施例1
と同様にして、ポリシロキサン化合物をそれぞれ全樹脂
分の3%又は10%配合した積層板を得た。得られた積層
板を実施例1と同様に評価した結果を表1に示した。
Examples 5 and 6 The amount of the polysiloxane compound in Reaction Example 1 was 40 g.
Reaction Example 1 and Example 1 except that the amount was 143 g.
In the same manner as in the above, laminates containing 3% or 10% of the polysiloxane compound in the total resin were obtained. Table 1 shows the results of evaluating the obtained laminate in the same manner as in Example 1.

【0024】実施例7 反応例1におけるポリシロキサン化合物の代わりに、分
子の側鎖にカルボキシル基を有するカルボキシル当量 4
000 のポリジメチルシロキサン化合物 40gを配合した以
外は、反応例1、および実施例1と同様にして、ポリシ
ロキサン化合物を全樹脂分の3%配合した積層板を得
た。得られた積層板を実施例1と同様に評価した結果を
表1に示した。
Example 7 Instead of the polysiloxane compound in Reaction Example 1, a carboxyl equivalent having a carboxyl group on the side chain of the molecule was used.
In the same manner as in Reaction Example 1 and Example 1 except that 40 g of 000 polydimethylsiloxane compound was blended, a laminated board containing 3% of the total resin with the polysiloxane compound was obtained. Table 1 shows the results of evaluating the obtained laminate in the same manner as in Example 1.

【0025】比較例1 実施例1で用いたものと同一のブロム化ビスフェノ−ル
A型エポキシ樹脂 710g 、テトラブロムビスフェノ−ル
A型エポキシ樹脂 190g 、クレゾ−ルノボラック型エポ
キシ樹脂 100g 、ビスフェノ−ルAノボラック樹脂 280
g および2E4MZ1g を混合し、アセトンを加え、ワニスを
調製した。このワニスを用いて、実施例1と同様にし
て、ポリシロキサン化合物を含まない積層板を得た。得
られた積層板を実施例1と同様に評価した結果を表1に
示した。
Comparative Example 1 710 g of brominated bisphenol A type epoxy resin, 190 g of tetrabromobisphenol A type epoxy resin, 100 g of cresol novolac type epoxy resin and bisphenol which are the same as those used in Example 1 A novolak resin 280
g and 2E4MZ1g were mixed, and acetone was added to prepare a varnish. Using this varnish, in the same manner as in Example 1, a laminate containing no polysiloxane compound was obtained. Table 1 shows the results of evaluating the obtained laminate in the same manner as in Example 1.

【0026】実施例8 反応例1におけるポリシロキサン化合物の配合量を32g
とした以外は、反応例1と同様にして予備反応を行っ
た。この反応物に、実施例1で用いたものと同一のブロ
ム化ビスフェノ−ルA型エポキシ樹脂 750g 、クレゾ−
ルノボラック型エポキシ樹脂 100g 、ジシアンジアミド
25g、溶剤としてジメチルホルムアミド、メチルセルソ
ルブ、およびアセトンを加え、ワニスを調製した。この
ワニスを用いて、実施例1と同様にして、ポリシロキサ
ン化合物を全樹脂分の3%配合した積層板を得た。得ら
れた積層板を実施例1と同様に評価した結果を表1に示
した。
Example 8 The amount of the polysiloxane compound in Reaction Example 1 was 32 g.
A preliminary reaction was carried out in the same manner as in Reaction Example 1, except that To this reaction product, 750 g of the same brominated bisphenol A type epoxy resin as used in Example 1,
Lunovolak type epoxy resin 100g, dicyandiamide
A varnish was prepared by adding 25 g of dimethylformamide, methylcellosolve, and acetone as solvents. Using this varnish, in the same manner as in Example 1, a laminated board containing a polysiloxane compound in an amount of 3% of the total resin was obtained. Table 1 shows the results of evaluating the obtained laminate in the same manner as in Example 1.

【0027】比較例2 実施例1で用いたものと同一のブロム化ビスフェノ−ル
A型エポキシ樹脂 900g 、クレゾ−ルノボラック型エポ
キシ樹脂 100g 、ジシアンジアミド 25g、2E4MZ 1g、溶
剤としてジメチルホルムアミド、メチルセルソルブ、お
よびアセトンを加え、ワニスを調製した。このワニスを
用いて、実施例1と同様にして、ポリシロキサン化合物
を含まない積層板を得た。得られた積層板を実施例1と
同様に評価した結果を表1に示した。
Comparative Example 2 900 g of the same brominated bisphenol A type epoxy resin as used in Example 1, 100 g of cresol novolac type epoxy resin, 25 g of dicyandiamide, 1 g of 2E4MZ, dimethylformamide as solvent, methylcellosolve, And acetone were added to prepare a varnish. Using this varnish, in the same manner as in Example 1, a laminate containing no polysiloxane compound was obtained. Table 1 shows the results of evaluating the obtained laminate in the same manner as in Example 1.

【0028】なお、表1−1、1−2中の略号等は、上
記実施例1の記載の他、下記によった。 *1) 予備反応時、およびワニス 配合時の合計量 :ブロム化ビスフェノ−ルA型エポキシ樹脂(臭素含有
率21重量%、エポキシ当量 480) *2) TBA-EP :テトラブロムビスフェノ−ルA型エポキシ
樹脂(臭素含有率 48 %、エポキシ当量 400) *3) CN-EP : クレゾールノボラック型エポキシ樹脂 (エ
ポキシ当量 215) *4) BPA-N : ビスフェノ−ルAノボラック樹脂(水酸基
当量 118) *5) 2E4MZ : 2-エチル−4-メチルイミダゾール
The abbreviations and the like in Tables 1-1 and 1-2 are as described below in addition to the description in Example 1. * 1) Total amount at the time of preliminary reaction and at the time of mixing varnish: brominated bisphenol A type epoxy resin (bromine content: 21% by weight, epoxy equivalent: 480) * 2) TBA-EP: tetrabromobisphenol A Epoxy resin (bromine content 48%, epoxy equivalent 400) * 3) CN-EP: Cresol novolak epoxy resin (epoxy equivalent 215) * 4) BPA-N: Bisphenol A novolak resin (hydroxyl equivalent 118) * 5) 2E4MZ: 2-ethyl-4-methylimidazole

【0029】[0029]

【表1】 表1−1 単位 実1 実2 実3 実4 実5 成分 ポリシ :(-COOH)の位置 両端 両端 両端 両端 両端 ロキサ :(-COOH)当量 g/mol 1000 750 1700 2700 1000 : 配合量 g 67 67 67 67 40 : 配合量 % 5 5 5 5 3 ブロム化エポキシ樹脂*1 g 710 710 710 710 710 :TBA-EP *2 g 190 190 190 190 190 CN-EP *3 g 100 100 100 100 100 BPA-N *4 g 280 280 280 280 280 ジシアンジアミド g 2E4MZ *5 g 1 1 1 1 1 物性 銅箔ピール強度 kg/cm 1.8 1.8 1.9 1.7 1.8 ガラス転移温度 ℃ 153 153 154 154 153 IZ (ノッチ ナシ) kg cm/cm 33 31 38 34 28 KIC (破壊靱性値) MPa m1/2 3.6 3.5 3.7 3.6 3.4 GIC (破壊エネルギー) kJ/m2 4.5 4.2 4.6 4.5 3.6 ハローイング 平均 μm 80 100 70 90 90 最大 μm 150 230 160 170 160 メッキしみ込み 平均 μm 12 14 11 14 12 最大 μm 30 38 31 32 33 TABLE 1 TABLE 1-1 units real 1 real 2 real 3 real 4 real five components policy: - position of (COOH) ends at both ends across both ends across Rokisa: (- COOH) equivalent g / mol 1000 750 1700 2700 1000 emissions: Compounded amount g 67 67 67 67 40: Compounded amount% 5 5 5 5 3 Brominated epoxy resin * 1 g 710 710 710 710 710 710: TBA-EP * 2 g 190 190 190 190 190 CN-EP * 3 g 100 100 100 100 100 BPA-N * 4 g 280 280 280 280 280 Dicyandiamide g 2E4MZ * 5 g 1 1 1 1 1 Physical properties Copper foil peel strength kg / cm 1.8 1.8 1.9 1.7 1.8 Glass transition temperature ° C 153 153 154 154 154 153 IZ (Notch None ) kg cm / cm 33 31 38 34 28 K IC (fracture toughness) MPa m 1/2 3.6 3.5 3.7 3.6 3.4 G IC (fracture energy) kJ / m 2 4.5 4.2 4.6 4.5 3.6 Hello average μm 80 100 70 90 90 Max μm 150 230 160 170 160 Plating average μm 12 14 11 14 12 Max μm 30 38 31 32 33

【0030】[0030]

【表2】 表1−2 単位 実6 実7 実8 比1 比2 成分 ポリシ :(-COOH)の位置 両端 側鎖 両端 ロキサ :(-COOH)当量 g/mol 1000 4000 1000 : 配合量 g 143 40 32 : 配合量 % 10 3 3 ブロム化エポキシ樹脂*1 g 710 710 900 710 900 :TBA-EP *2 g 190 190 190 CN-EP *3 g 100 100 100 100 100 BPA-N *4 g 280 280 280 ジシアンジアミド g 25 25 2E4MZ *5 g 1 1 1 1 1 物性 銅箔ピール強度 kg/cm 1.7 1.7 2.1 1.7 2.0 ガラス転移温度 ℃ 151 153 152 153 152 IZ (ノッチ ナシ) kg cm/cm 44 29 30 20 25 KIC (破壊靱性値) MPa m1/2 3.7 3.4 3.6 3.1 3.3 GIC (破壊エネルギー) kJ/m2 4.8 3.5 4.0 2.8 3.3 ハローイング 平均 μm 90 110 120 160 150 最大 μm 150 220 230 310 300 メッキしみ込み 平均 μm 11 18 16 23 21 最大 μm 35 40 35 47 50 [Table 2] Table 1-2 Unit Actual 6 Actual 7 Actual 8 Ratio 1 Ratio 2 component policy : Position of (-COOH) Both ends Side chain Both ends Loxa : (-COOH) equivalent g / mol 1000 4000 1000 N : Compounding amount g 143 40 32: Blended amount% 10 3 3 Brominated epoxy resin * 1 g 710 710 900 710 900: TBA-EP * 2 g 190 190 190 CN-EP * 3 g 100 100 100 100 100 BPA-N * 4 g 280 280 280 Dicyandiamide g 25 25 2E4MZ * 5 g 1 1 1 1 1 Physical properties Copper foil peel strength kg / cm 1.7 1.7 2.1 1.7 2.0 Glass transition temperature ℃ 151 153 152 153 152 IZ (Notch pear) kg cm / cm 44 29 30 20 25 K IC (fracture toughness) MPa m 1/2 3.7 3.4 3.6 3.1 3.3 G IC (fracture energy) kJ / m 2 4.8 3.5 4.0 2.8 3.3 Haloing average μm 90 110 120 160 150 Maximum μm 150 220 230 310 300 Plating Penetration average μm 11 18 16 23 21 Maximum μm 35 40 35 47 50

【0031】[0031]

【発明の効果】以上の実施例、および比較例から明らか
なように、本発明の樹脂組成物より製造した積層板は耐
衝撃性、耐クラック性、銅箔接着性、および耐熱性に極
めて優れたものであり、小径ドリル加工時における機械
的衝撃にも十分耐え得るものである。
As is clear from the above Examples and Comparative Examples, the laminates produced from the resin composition of the present invention are extremely excellent in impact resistance, crack resistance, copper foil adhesion and heat resistance. Therefore, it can sufficiently withstand the mechanical impact during small diameter drilling.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H05K 1/03 630 H05K 1/03 630B (56)参考文献 特開 昭62−98793(JP,A) 特開 昭62−96521(JP,A) 特開 平4−103615(JP,A) 特開 平4−108851(JP,A) 特開 平3−197529(JP,A) 特開 平3−177415(JP,A) 特開 平3−95214(JP,A) 特開 平2−86148(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08L 63/00 - 63/10 C08L 83/06 B23B 27/38 C08G 59/14 C08J 5/24 H05K 1/03 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI H05K 1/03 630 H05K 1/03 630B (56) References JP-A-62-98793 (JP, A) JP-A-62-96521 (JP, A) JP-A-4-103615 (JP, A) JP-A-4-108851 (JP, A) JP-A-3-197529 (JP, A) JP-A-3-177415 (JP, A) JP-A-3-95214 (JP, A) JP-A-2-86148 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C08L 63/00-63/10 C08L 83/06 B23B 27/38 C08G 59/14 C08J 5/24 H05K 1/03

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 (A).1分子中に2個以上のエポキシ基を
含有するエポキシ樹脂、(B).硬化剤および(C).分子中に
カルボキシル基を含有するポリシロキサン化合物を必須
成分とし、該(A) の全部または一部と該(C) とを触媒存
在下で、該(C) 中のカルボキシル基の90%以上が反応
するまで予備反応した後、配合してなる積層板用樹脂組
成物を基材に含侵したプリプレグを積層成形してなる積
層板。
1. Essential components are (A) an epoxy resin containing two or more epoxy groups in one molecule, (B) a curing agent and (C) a polysiloxane compound containing a carboxyl group in the molecule. A laminate prepared by preliminarily reacting all or part of (A) with (C) in the presence of a catalyst until 90% or more of the carboxyl groups in (C) are reacted, and then blending A laminate obtained by laminating a prepreg obtained by impregnating a base material with a resin composition for use.
【請求項2】 (C) のカルボキシル当量が 500〜5000の
範囲である請求項1記載の積層板。
2. The laminate according to claim 1, wherein the carboxyl equivalent of (C) is in the range of 500 to 5,000.
【請求項3】 (C) の配合量が樹脂組成物総量の1〜20
重量%である請求項1記載の積層板。
3. The compounding amount of (C) is 1 to 20 of the total amount of the resin composition.
The laminate according to claim 1, which is in weight%.
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