JPH09194610A - Prepreg and laminated sheet prepared by using resin composition with low dielectric constant and low dielectric dissipation factor - Google Patents

Prepreg and laminated sheet prepared by using resin composition with low dielectric constant and low dielectric dissipation factor

Info

Publication number
JPH09194610A
JPH09194610A JP8009974A JP997496A JPH09194610A JP H09194610 A JPH09194610 A JP H09194610A JP 8009974 A JP8009974 A JP 8009974A JP 997496 A JP997496 A JP 997496A JP H09194610 A JPH09194610 A JP H09194610A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
epoxy
resin
weight
curing agent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8009974A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Urabe
博之 浦部
Ken Nagai
憲 永井
Yoshiro Hashimoto
善郎 橋本
Masahiko Ogima
正彦 荻間
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Gas Chemical Co Inc filed Critical Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority to JP8009974A priority Critical patent/JPH09194610A/en
Publication of JPH09194610A publication Critical patent/JPH09194610A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Moulding By Coating Moulds (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a prepreg consisting of a resin compsn. with excellent dielectric characteristics such as dielectric const. and dielectric dissipation factor and good heat resistance, mechanical processability and flame resistance. SOLUTION: This prepreg is prepd. by impregnating a base material with an epoxy resin compsn. consisting of an epoxy resin being at least one kind of epoxy resin contg. at least two epoxy groups in one molecule and further containing at least one brominated epoxy resin, an epoxy resin curing agent being a copolymer wherein styrene and maleic anhydride are essential components, a flexibilizer which can decrease the glass transition temp. of the compsn. by 10-20 deg.C by compounding it in the compsn., and a solvent with a b.p. of at least 100 deg.C being a solvent for these components as essential components. The mean bromination ratio in the whole epoxy resin is at least 30wt.% and the mean epoxy equivalent is at most 500 and the mean hydroxyl group concn. is at most 1×10<-3> mole/g.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、誘電率及び誘電正
接といった誘電特性に優れ、耐熱性、機械加工性、及び
耐燃焼性が良好な樹脂組成物からなるプリプレグ及び電
気絶縁材料用積層板に関するものである。本発明で用い
る樹脂組成物は、基材への含浸性が良好で、誘電率及び
誘電正接が低く、かつ耐熱性、耐薬品性及び耐燃焼性を
有し、機械加工性に優れることから、電気積層板用途へ
の使用に好適である。該樹脂組成物を用いた積層板は、
優れた誘電特性を有しており、電子部品の高密度実装に
ともなうパターンの細密化ならびに信号伝播速度の高速
化、高周波信号の低損失化が可能となることから、広範
囲な多層板材料における層間絶縁層の薄肉化ならびに軽
量化を達成することができる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a prepreg and a laminated plate for an electric insulating material, which are made of a resin composition having excellent dielectric properties such as a dielectric constant and a dielectric loss tangent, and having excellent heat resistance, machinability and flame resistance. It is a thing. The resin composition used in the present invention has good impregnability into a substrate, has a low dielectric constant and dielectric loss tangent, and has heat resistance, chemical resistance and combustion resistance, and is excellent in machinability. It is suitable for use in electrical laminate applications. A laminated board using the resin composition,
Since it has excellent dielectric properties, it enables fine patterning, high signal propagation speed, and low loss of high-frequency signals due to high-density mounting of electronic parts. It is possible to reduce the thickness and weight of the insulating layer.

【0002】また、耐熱性が高いことから、近年主流に
なりつつある表面実装といった、基板自体が高温度条件
にさらされる製造工程において、材料の強度を維持し、
膨張及び収縮量を低減することができるため、電気用積
層板の製造工程をより安定したものとすることができ
る。
In addition, because of its high heat resistance, the strength of the material is maintained in the manufacturing process in which the substrate itself is exposed to high temperature conditions such as surface mounting, which is becoming mainstream in recent years,
Since the amount of expansion and contraction can be reduced, the manufacturing process of the electrical laminate can be made more stable.

【0003】[0003]

【従来の技術】情報化社会の発展にともない、コンピュ
ーターに代表される電子機器の軽薄短小化及び高機能化
が進展してきている。プリント配線板分野においても、
同様の傾向にあり、高多層化ならびに薄型化及び小型化
に対して強い要求がなされるとともに、配線密度の増
加、処理速度の高速化及び高周波の低伝送損失といった
要求が、基板材料及びその製造技術に課されている。
2. Description of the Related Art With the development of an information-oriented society, electronic devices such as computers are becoming lighter, thinner, smaller, and more sophisticated. In the printed wiring board field,
In the same tendency, there are strong demands for higher multilayer, thinner, and smaller size, and the demands for increased wiring density, higher processing speed, and lower transmission loss of high frequency are required for the substrate material and its manufacture. Subject to technology.

【0004】コンピューター演算において、信号伝播速
度は、材料の誘電率の平方根に反比例することならびに
伝送信号の減衰は、誘電正接に比例することなどから、
高速演算用または高周波信号を扱う基板材料では、これ
らの値を極力低く抑えることが必要となる。誘電率を低
く抑制する試みとして、ベース樹脂の組成及び骨格の変
更ならびに基材の面から種々の検討が行われてきている
が、未だ十分な値が得られてはいない。
In computer calculation, the signal propagation speed is inversely proportional to the square root of the dielectric constant of the material, and the attenuation of the transmitted signal is proportional to the dielectric loss tangent.
It is necessary to keep these values as low as possible in a substrate material for high-speed calculation or handling high-frequency signals. As an attempt to suppress the dielectric constant to a low level, various studies have been conducted from the viewpoint of changing the composition and skeleton of the base resin and the surface of the base material, but a sufficient value has not been obtained yet.

【0005】電子機器用途のプリント配線基板として、
これまでエポキシ樹脂を用いた積層板が広く使用されて
きている。しかし、近年の電子機器における実装密度の
増大にともなうパターン配線の高密度化、表面実装方式
への移行及び信号伝播速度の高速化と取り扱う信号の高
周波化にともない、低誘電率及び低誘電正接化ならびに
その耐熱性の向上が強く要望され、樹脂組成、基材など
の面から種々検討がなされてきているのが現状である。
As a printed wiring board for electronic equipment,
Up to now, laminated boards using epoxy resin have been widely used. However, with the recent increase in packaging density in electronic equipment, the density of pattern wiring has been increased, the surface mounting method has been changed, and the signal propagation speed has increased and the frequency of signals to be handled has increased, resulting in a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. At the same time, there is a strong demand for improvement in heat resistance, and various studies have been made in terms of resin composition, base material and the like.

【0006】ラジカル共重合物の中で、スチレンと無水
マレイン酸を必須成分とした共重合物は、それ自身の特
徴、すなわち熱安定性、溶融粘度及び融点の高さならび
に種々の有機溶媒への溶解性から多くの分野で使用され
ている。既に公知である代表的例としては、エポキシ樹
脂と上記共重合物とを混練、粉砕した塗料組成物(特開
昭47−8087)、可撓性エポキシ樹脂、上記共重合
物等による可撓性印刷配線板(特開昭49−10947
6)、エポキシ樹脂、上記共重合物、重合性不飽和基を
有する樹脂及び重合性ビニルモノマーなどからなる積層
板用樹脂組成物(特開平2−127415)などが挙げ
られる。特開昭47−8087は、塗料用組成物として
部分的に硬化、粉砕されたものであり、特開昭49−1
09476は、フレキシブル基板とするために反応性エ
ポキシ希釈剤としてアクリロニトリルブタジエン共重合
体が必須であり、本発明のリジッド基板の加工性改善と
は内容を異にする。特開平2−127415は、重合性
ビニルモノマー以外の溶剤を含有しない、いわゆる湿式
法プロセス用であり、通常使用されている有機溶剤を使
用する乾式法プロセスには適用できず、応用範囲の限定
されたものである。
Among the radical copolymers, the copolymer containing styrene and maleic anhydride as essential components has its own characteristics, namely, thermal stability, high melt viscosity and high melting point, and various organic solvents. It is used in many fields due to its solubility. As a typical example that is already known, a coating composition obtained by kneading and pulverizing an epoxy resin and the above copolymer (Japanese Patent Laid-Open No. 47-8087), a flexible epoxy resin, the flexibility of the above copolymer, etc. Printed wiring board (JP-A-49-10947)
6), a resin composition for a laminate (JP-A-2-127415), which comprises an epoxy resin, the above copolymer, a resin having a polymerizable unsaturated group, and a polymerizable vinyl monomer. Japanese Unexamined Patent Publication No. Sho 47-8087 is a composition for coating composition which is partially cured and pulverized.
No. 09476 requires an acrylonitrile butadiene copolymer as a reactive epoxy diluent for forming a flexible substrate, which is different from the processability improvement of the rigid substrate of the present invention. Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-127415 is for a so-called wet process that does not contain a solvent other than a polymerizable vinyl monomer, cannot be applied to a dry process using an organic solvent that is usually used, and has a limited application range. It is a thing.

【0007】エポキシ樹脂の硬化剤として、スチレンと
無水マレイン酸を必須成分とした共重合物のみを使用し
た実質的な2成分系では、硬化物のガラス転移温度が非
常に高く、200 ℃を大きく越す場合が多い。このため硬
化物はもろくなり、積層板とした際、強度低下や機械加
工性の低下が著しい。特にドリル加工性の低下による孔
内壁粗さやめっきしみ込みの増大は、スルーホールと内
層導体間、またはスルーホール同士のクリアランスが挟
まっている昨今のファインパターン化において、絶縁信
頼性を大幅に低下させる。また、孔内めっき形状がいび
つになるため、接続信頼性に欠ける。それゆえ、これま
で電気用積層板に使用された事は無かった。
In a substantial two-component system in which only a copolymer containing styrene and maleic anhydride as essential components is used as a curing agent for an epoxy resin, the glass transition temperature of the cured product is very high, and the glass transition temperature of 200 ° C. is large. It often goes over. For this reason, the cured product becomes brittle, and when it is used as a laminated plate, the strength and the machinability are significantly deteriorated. In particular, the increase in hole inner wall roughness and plating penetration due to the deterioration of drill workability significantly reduces the insulation reliability in the recent fine patterning where the clearance between the through hole and the inner layer conductor or between the through holes is sandwiched. . In addition, since the plated shape in the hole becomes distorted, the connection reliability is poor. Therefore, it has never been used for electrical laminates.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】これまでのエポキシ樹
脂積層板の多くは、主としてエポキシ樹脂をアミン系、
フェノール系もしくは、酸無水物系硬化剤により半硬化
させた含浸基材を積層加熱成形することにより製造され
ているが、近年の強い低誘電特性化の要求ならびに表面
実装のような製造工程の過酷化に対して、十分な特性値
が得られていないのが現状である。また、誘電特性、耐
熱性などの面から、ポリイミド樹脂、ポリフェニレンエ
ーテル樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂などを用
いた積層板が提示されているが、価格が高価であること
ならびに成形性及び加工性が比較的難しいといった問題
を抱えており、民生用途に広く展開できない状態であ
る。これらから、比較的廉価であり、電子部品の高密度
化及び表面実装に適用可能であるような、更に誘電特性
に優れ、耐熱性の高い積層板が望まれている。
Most of the epoxy resin laminates to date are mainly composed of an epoxy resin based on an amine,
It is manufactured by laminating and heat-molding an impregnated base material that has been semi-cured with a phenol-based or acid-anhydride-based curing agent, but in recent years there has been a strong demand for low dielectric properties and severe manufacturing processes such as surface mounting. The current situation is that sufficient characteristic values have not been obtained in response to this. Further, from the viewpoint of dielectric properties, heat resistance, etc., a laminated board using a polyimide resin, a polyphenylene ether resin, a polytetrafluoroethylene resin, etc. has been proposed, but the price is high, and the moldability and processability are high. It has a relatively difficult problem and cannot be widely deployed for consumer use. From these, there has been a demand for a laminated plate which is relatively inexpensive and has excellent dielectric properties and high heat resistance, which is applicable to high density electronic parts and surface mounting.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、種々検討
した結果、特定のスチレンと無水マレイン酸からなる共
重合物を特定のエポキシ樹脂の必須の硬化剤として用
い、特定の可撓性付与剤を添加し、かつ、特定の溶剤を
用いたエポキシ樹脂組成物が、基材への含浸性ならびに
塗工性が良好で、電気積層板用途に十分適用可能であ
り、また、該樹脂組成物を用いた積層板は、誘電率及び
誘電正接が低く、かつ高耐熱性であり、十分な機械加工
性を有し、難燃性付与が可能な積層板を得ることを見い
出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of various studies, the present inventors have used a copolymer of a specific styrene and maleic anhydride as an essential curing agent for a specific epoxy resin, and have a specific flexibility. An epoxy resin composition using a specific solvent, which contains an imparting agent, has good impregnating properties and coating properties on a substrate, and is sufficiently applicable to electrical laminated board applications. It was found that a laminated sheet using the product has a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, has high heat resistance, has sufficient machinability, and is capable of imparting flame retardancy. It came to completion.

【0010】すなわち、本発明は、1分子中に2個以上
のエポキシ基を有する1種または2種以上のエポキシ樹
脂で、全エポキシ樹脂中の平均ブロム含有率が、30重量
%以上、平均エポキシ当量500 以下、平均水酸基濃度が
1×10-3mol/g以下であるエポキシ樹脂(I) 、スチ
レン及び無水マレイン酸を必須成分としてなる共重合体
であって、スチレンと無水マレイン酸のモル比が、9:
1〜5:5、酸価 100〜600 mgKOH/g、数平均分
子量1000〜3000、1分子中に少なくとも1個の酸無水物
基を有する共重合体を主な硬化剤とし、エポキシ基に対
する酸無水物基のモル比が、0.3〜1.5の範囲であ
る、エポキシ樹脂硬化剤(II)、該エポキシ樹脂(I) と該
硬化剤(II)からなる組成物に配合することで、ガラス転
移温度を10〜20℃低下させられる可撓性付与剤(III) 並
びに沸点が 100℃以上の該樹脂(I) 、該硬化剤(II)及び
該スチレン系化合物(III)の溶剤(IV)、を必須成分とし
てなるエポキシ樹脂組成物を基材に含浸してなるプリプ
レグ並びに、該プリプレグを用いて積層成形してなる低
誘電率、低誘電正接及び高耐熱性で機械加工性に優れる
電気絶縁材料用積層板である。
That is, the present invention is one or two or more epoxy resins having two or more epoxy groups in one molecule, and the average bromine content in all epoxy resins is 30% by weight or more, the average epoxy An epoxy resin (I) having an equivalent hydroxyl group of 500 or less and an average hydroxyl group concentration of 1 × 10 −3 mol / g or less, a copolymer having styrene and maleic anhydride as essential components, and a molar ratio of styrene and maleic anhydride. But 9:
1 to 5: 5, acid value 100 to 600 mgKOH / g, number average molecular weight 1000 to 3000, a copolymer having at least one acid anhydride group in one molecule as a main curing agent, and acid for epoxy group The molar ratio of the anhydride group is in the range of 0.3 to 1.5, by blending the epoxy resin curing agent (II), the composition comprising the epoxy resin (I) and the curing agent (II) , A flexibility-imparting agent (III) capable of lowering the glass transition temperature by 10 to 20 ° C., and a resin (I) having a boiling point of 100 ° C. or higher, the curing agent (II) and a solvent of the styrene compound (III) ( IV), a prepreg obtained by impregnating a base material with an epoxy resin composition containing the essential component, and a low dielectric constant, low dielectric loss tangent and high heat resistance formed by laminating and molding using the prepreg, and excellent machinability It is a laminated board for an electric insulating material.

【0011】本発明のエポキシ樹脂(I) は、請求項記載
の1分子中に2個以上のエポキシ基を有する1種または
2種以上のエポキシ樹脂で、全エポキシ樹脂中の平均ブ
ロム含有率が30重量%以上、平均エポキシ当量500 以下
で、平均水酸基濃度が1×10 -3mol/g以下である。
本エポキシ樹脂に該当すれば、特に限定されるものでは
なく、ブロム化エポキシ樹脂単独もしくは、他のブロム
化エポキシ樹脂、または、非ブロム化エポキシ樹脂など
を、1種もしくは、2種以上適宜混合して使用すること
が可能である。
The epoxy resin (I) of the present invention is described in claims.
One having two or more epoxy groups in one molecule of or
Two or more types of epoxy resin, average of all epoxy resins
ROM content is 30% by weight or more, average epoxy equivalent is 500 or less
And the average hydroxyl group concentration is 1 x 10 -3It is below mol / g.
If it is applicable to this epoxy resin, it is not particularly limited
Brominated epoxy resin alone or other bromine
Epoxy resin or non-brominated epoxy resin, etc.
Use one or two or more kinds as appropriate.
Is possible.

【0012】ブロム化エポキシ樹脂の代表的な例として
は、ブロム化ビスフェノールA系エポキシ樹脂、ブロム
化フェノールノボラック系エポキシ樹脂、多官能エポキ
シ樹脂とテトラブロムビスフェノールAの反応物などが
挙げられる。非ブロム化エポキシ樹脂としては、ビスフ
ェノールA系、ビスフェノールF系、ビフェニル系、ノ
ボラック系、多官能フェノール系、ナフタレン系、グリ
シジルアミン系、グリシジルエステル系、脂環式、アル
コール系などが挙げられる。
Typical examples of the brominated epoxy resin include a brominated bisphenol A type epoxy resin, a brominated phenol novolac type epoxy resin, and a reaction product of a polyfunctional epoxy resin and tetrabromobisphenol A. Examples of the non-brominated epoxy resin include bisphenol A-based, bisphenol F-based, biphenyl-based, novolac-based, polyfunctional phenol-based, naphthalene-based, glycidyl amine-based, glycidyl ester-based, alicyclic and alcohol-based.

【0013】平均エポキシ当量が 500以上のエポキシ樹
脂を用いた場合、繊維質基材への含浸性不良となること
から、プリプレグの外観が著しく低下する。また、全エ
ポキシ樹脂中の平均ブロム含有率が、30重量%以下にな
ると、樹脂組成物(IV)全体での難燃性の保持が困難とな
る。
When an epoxy resin having an average epoxy equivalent of 500 or more is used, impregnation into the fibrous base material becomes poor, and the appearance of the prepreg remarkably deteriorates. Further, when the average bromine content in all epoxy resins is 30% by weight or less, it becomes difficult to maintain flame retardancy in the entire resin composition (IV).

【0014】エポキシ樹脂の中には分子中に2級の水酸
基を有するものがある。水酸基のような大きく分極した
官能基が多いと樹脂組成物(IV)の誘電率および誘電正接
が所望の値より大きくなるため、全エポキシ樹脂中の平
均水酸基濃度が1×10-3mol/g以下である必要があ
る。
Some epoxy resins have a secondary hydroxyl group in the molecule. Since the dielectric constant and dielectric loss tangent of the resin composition (IV) are larger than desired values when there are many highly polarized functional groups such as hydroxyl groups, the average hydroxyl group concentration in all epoxy resins is 1 × 10 -3 mol / g. Must be:

【0015】本発明のエポキシ樹脂硬化剤(II)は、スチ
レン及び無水マレイン酸を必須成分として得られる共重
合樹脂であって、スチレンと無水マレイン酸のモル比が
9:1〜5:5、酸価100 〜600 mgKOH/g、数平
均分子量1000〜3000であり、1分子中に少なくとも1個
の酸無水物基を有する共重合体を主な硬化剤とし、エポ
キシ基に対する酸無水物基のモル比が0.3 〜1.5 の範囲
である。
The epoxy resin curing agent (II) of the present invention is a copolymer resin obtained by using styrene and maleic anhydride as essential components, and the molar ratio of styrene and maleic anhydride is 9: 1 to 5: 5, An acid value of 100 to 600 mg KOH / g, a number average molecular weight of 1000 to 3000, a copolymer having at least one acid anhydride group in one molecule as a main curing agent, The molar ratio is in the range of 0.3 to 1.5.

【0016】その具体的な代表例としては、エルフ・ア
トケム社製のSMA1000A(融点160 ℃、ガラス転移温
度154 ℃、酸価480 mgKOH/g)、2000A(融点15
0 ℃、ガラス転移温度124 ℃、酸価355 mgKOH/
g)及び3000A(融点123 ℃、ガラス転移温度125 ℃、
酸価285 mgKOH/g)などが挙げられる。
Specific examples thereof include SMA 1000A (melting point 160 ° C., glass transition temperature 154 ° C., acid value 480 mgKOH / g), 2000A (melting point 15; manufactured by Elf Atchem.
0 ℃, glass transition temperature 124 ℃, acid value 355 mgKOH /
g) and 3000 A (melting point 123 ℃, glass transition temperature 125 ℃,
The acid value is 285 mgKOH / g).

【0017】エポキシ基に対する酸無水物基のモル比
が、0.3 未満では、誘電特性に向上は少なく、発明効果
が消失する。モル比が1.5 を超えると、樹脂組成物中に
未反応基が残存することから耐湿性の低下、ならびに高
分子量分の増加による繊維質基材への含浸性不良といっ
た問題を呈する。また、数平均分子量が1000以下では硬
化樹脂の架橋密度か低下するため耐熱性の向上効果が得
られず、3000以上ではワニスの粘度が上昇して基材への
含浸性が低下する。
When the molar ratio of the acid anhydride group to the epoxy group is less than 0.3, the improvement in the dielectric property is little and the effect of the invention disappears. If the molar ratio exceeds 1.5, unreacted groups remain in the resin composition, resulting in a decrease in moisture resistance, and an increase in the amount of high molecular weight, resulting in poor impregnation into the fibrous base material. Further, when the number average molecular weight is 1000 or less, the crosslink density of the cured resin decreases, so that the effect of improving heat resistance cannot be obtained, and when the number average molecular weight is 3000 or more, the viscosity of the varnish increases and impregnation into the substrate decreases.

【0018】また、必要に応じ、周知のエポキシ樹脂の
硬化剤(酸無水物、フェノール化合物、アミン化合物な
ど)を、所期の特性を損なわない範囲において、上記重
合物とあわせて使用することも可能である。
If necessary, a known epoxy resin curing agent (an acid anhydride, a phenol compound, an amine compound, etc.) may be used in combination with the above-mentioned polymer as long as the desired properties are not impaired. It is possible.

【0019】本発明では、該樹脂組成物の硬化速度を、
適宜調節するために硬化促進剤を添加することを妨げな
い。これらは、エポキシ樹脂の硬化促進剤として一般に
用いられているものであれば特に限定されない。代表的
な例としては、イミダゾール類及びその誘導体ならびに
第3アミン類などが挙げられる。
In the present invention, the curing rate of the resin composition is
It does not interfere with the addition of curing accelerators for proper adjustment. These are not particularly limited as long as they are commonly used as a curing accelerator for epoxy resins. Representative examples include imidazoles and their derivatives, tertiary amines and the like.

【0020】本発明の可撓性付与剤(III) は、該エポキ
シ樹脂(I) と該硬化剤(II)からなる組成物に40重量%ま
で配合することで、ガラス転移温度を10〜20℃低下させ
られる化合物であり、該エポキシ樹脂(I) と該硬化剤(I
I)からなる硬化物よりもガラス転移温度の低い熱可塑性
樹脂、熱可塑性エラストマー、反応性エラストマーなど
が該当する。
The flexibility-imparting agent (III) of the present invention is added to a composition comprising the epoxy resin (I) and the curing agent (II) in an amount of up to 40% by weight so that the glass transition temperature is 10 to 20. A compound that can be lowered by ° C. The epoxy resin (I) and the curing agent (I
A thermoplastic resin, a thermoplastic elastomer, or a reactive elastomer having a glass transition temperature lower than that of the cured product of I) is applicable.

【0021】該熱可塑性樹脂の具体的な代表例として
は、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンからなる、
実質的に直鎖状の高分子量エポキシ樹脂、およびその臭
素化物、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リアミド樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリアルキ
レングリコール、塩素化ポリプロピレン、ケトン樹脂、
キシレン樹脂、石油樹脂、及び、これらの低重合体など
が挙げられる。中でも、高分子量エポキシ樹脂は、エポ
キシ組成物への相溶性が良好で、接着力も向上するた
め、好ましく用いることができる。
A typical representative example of the thermoplastic resin comprises bisphenol A and epichlorohydrin,
Substantially linear high molecular weight epoxy resin, and its bromide, polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, polymethylmethacrylate, polyalkylene glycol, chlorinated polypropylene, ketone resin,
Examples thereof include xylene resin, petroleum resin, and low polymers thereof. Among them, the high molecular weight epoxy resin has good compatibility with the epoxy composition and also improves the adhesive strength, and thus can be preferably used.

【0022】該熱可塑性エラストマーの具体的な代表例
としては、ポリブタジエンエラストマー、スチレンブタ
ジエンコポリマー、スチレンブタジエンエチレンコポリ
マー、エチレンプロピレンジエンターポリマー、アクリ
ロニトリルブタジエンコポリマー、シリコーン樹脂、ポ
リエステルエラストマー、スチレンブタジエンスチレン
コポリマー、スチレンイソプレンスチレンコポリマー、
スチレンプロピレンコポリマー、油添スチレンブタジエ
ンコポリマー、カプロラクトン型ウレタンエラストマ
ー、アジペート型ウレタンエラストマー、エーテル型ウ
レタンエラストマー、ポリエステル型ポリアミドエラス
トマー、ポリオール型ポリアミドエラストマー等が挙げ
られる。中でもアクリロニトリルブタジエンコポリマー
は、エポキシ組成物への相溶性が良好で、接着力も向上
するため、好ましく用いることができる。
Specific examples of the thermoplastic elastomer include polybutadiene elastomer, styrene butadiene copolymer, styrene butadiene ethylene copolymer, ethylene propylene diene terpolymer, acrylonitrile butadiene copolymer, silicone resin, polyester elastomer, styrene butadiene styrene copolymer, styrene. Isoprene styrene copolymer,
Examples thereof include styrene-propylene copolymer, oil-added styrene-butadiene copolymer, caprolactone type urethane elastomer, adipate type urethane elastomer, ether type urethane elastomer, polyester type polyamide elastomer and polyol type polyamide elastomer. Among them, acrylonitrile butadiene copolymer has good compatibility with the epoxy composition and also has improved adhesive strength, and therefore, can be preferably used.

【0023】該反応性エラストマーの具体的な代表例と
しては、エポキシ変成ポリブタジエン、無水マレイン酸
変成ポリブタジエン、フェノール変成ポリブタジエン、
末端カルボキシポリブタジエン、末端アミノポリブタジ
エン、エポキシ変成アクリロニトリルブタジエンコポリ
マー、無水マレイン酸変成アクリロニトリルブタジエン
コポリマー、フェノール変成アクリロニトリルブタジエ
ンコポリマー、末端カルボキシアクリロニトリルブタジ
エンコポリマー、末端アミノアクリロニトリルブタジエ
ンコポリマー、水酸基末端シリコーンエラストマー、エ
ポキシ変成シリコーンエラストマー、アミノ末端シリコ
ーンエラストマー、酸無水物変成シリコーンエラストマ
ー ポリオレフィングリコール、ポリオキシアルキレンアミ
ン類、ウレタン変成エポキシ樹脂、ラクトン変成エポキ
シ樹脂、水酸基末端ポリカプロラクトン、ポリプロピレ
ングリコール変成エポキシ樹脂、ポリサルファイド変成
エポキシ樹脂等が挙げられる。なお、単官能では反応性
希釈剤として作用し、硬化物の耐薬品性や耐水性に悪影
響をおよぼすので、1分子中に2個以上の官能基を持つ
ことが望ましい。
Specific examples of the reactive elastomer include epoxy-modified polybutadiene, maleic anhydride-modified polybutadiene and phenol-modified polybutadiene.
Terminal carboxy polybutadiene, terminal amino polybutadiene, epoxy modified acrylonitrile butadiene copolymer, maleic anhydride modified acrylonitrile butadiene copolymer, phenol modified acrylonitrile butadiene copolymer, terminal carboxy acrylonitrile butadiene copolymer, terminal amino acrylonitrile butadiene copolymer, hydroxyl group terminated silicone elastomer, epoxy modified silicone elastomer, Amino-terminated silicone elastomer, acid anhydride modified silicone elastomer Polyolefin glycol, polyoxyalkylene amines, urethane modified epoxy resin, lactone modified epoxy resin, hydroxyl group terminated polycaprolactone, polypropylene glycol modified epoxy resin, polysulfide modified epoxy resin, etc. Is mentioned. In addition, since monofunctional acts as a reactive diluent and adversely affects the chemical resistance and water resistance of the cured product, it is desirable to have two or more functional groups in one molecule.

【0024】可撓性付与剤は該エポキシ樹脂(I) と該硬
化剤(II)からなる硬化物のガラス転移温度を10℃から20
℃低下させるように、また、所望の誘電率、誘電正接を
保持させるように、その種類と配合量を選択する事がで
きる。また配合量が40重量%を越えると、誘電特性が悪
化する場合がある、難燃性の保持が困難、ワニスの増粘
によりプリプレグの塗工性が低下する、等の問題が生じ
る。
The flexibility-imparting agent has a glass transition temperature of 10 ° C. to 20 ° C. of a cured product of the epoxy resin (I) and the curing agent (II).
The kind and blending amount can be selected so as to lower the temperature and maintain a desired dielectric constant and dielectric loss tangent. On the other hand, if the blending amount exceeds 40% by weight, the dielectric properties may be deteriorated, it may be difficult to maintain the flame retardancy, and the viscosity of the varnish may deteriorate the coatability of the prepreg.

【0025】ガラス転移温度を10℃から20℃低下させる
と、曲げ弾性率が減少して硬化物の靱性が向上し、機械
加工時のクラックが減少する。特にドリル孔明け時の内
壁粗さが減少して、回路の絶縁信頼性とスルーホールの
接続信頼性を向上させる。ガラス転移温度の低下が10℃
未満では靱性の向上が不十分であり、20℃以上ではリジ
ッド基板としての耐熱性が不足する。
When the glass transition temperature is lowered from 10 ° C. to 20 ° C., the bending elastic modulus is reduced, the toughness of the cured product is improved, and the cracks during machining are reduced. Especially, the inner wall roughness at the time of drilling a hole is reduced, and the insulation reliability of the circuit and the connection reliability of the through hole are improved. Decrease in glass transition temperature is 10 ℃
If it is less than the above range, the toughness is insufficiently improved, and if it is 20 ° C. or more, the heat resistance of the rigid substrate is insufficient.

【0026】本発明の溶剤(IV)は、沸点が100 ℃以上、
好ましくは、120 ℃以上で、該樹脂(I) 、該硬化剤(II)
および該スチレン系化合物(III) を容易に溶解する有機
化合物(良溶媒)である。代表的な例としては、メチル
イソブチルケトン、トルエン、キシレン、ジメチルホル
ムアミド、プロピレングリコールメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピ
レングリコールブチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルジメチルエーテル、3−メチルメトキシブタノール、
プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジプ
ロピレングリコールメチルエーテルなどが挙げられ、そ
れぞれ単独もしくは、2種以上混合して使用することが
可能である。また、沸点が100 ℃未満の他の種類の溶剤
を必要に応じ、得られるプリプレグの外観を損なわない
範囲内で併用してもよい。
The solvent (IV) of the present invention has a boiling point of 100 ° C. or higher,
Preferably, at 120 ° C or higher, the resin (I) and the curing agent (II)
And an organic compound (good solvent) that readily dissolves the styrene compound (III). As typical examples, methyl isobutyl ketone, toluene, xylene, dimethylformamide, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol propyl ether, propylene glycol butyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, 3-methylmethoxybutanol,
Propylene glycol ethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether and the like can be mentioned, and they can be used alone or in admixture of two or more. If necessary, other types of solvents having a boiling point of less than 100 ° C. may be used together within a range that does not impair the appearance of the obtained prepreg.

【0027】本発明においては、所期の特性を損なわな
い範囲において、該樹脂組成物に対して、染料及び顔料
などを添加することも可能である。
In the present invention, it is possible to add a dye, a pigment and the like to the resin composition as long as the desired properties are not impaired.

【0028】また、所期の特性を損なわない範囲におい
て、該樹脂組成物へのUV吸収剤、蛍光増白剤、光重合
開始剤及び酸化防止剤などの添加も可能である。これら
は、周知であり、一般に使用されているものであれば、
特に限定されない。その代表的な例としては、ベンゾト
リアゾール系などの紫外線吸収剤、スチルベン誘導体な
どの蛍光増白剤、チオキサントン系などの光重合開始
剤、ヒンダードフェノール系などの酸化防止剤が挙げら
れる。
Further, a UV absorber, a fluorescent brightening agent, a photopolymerization initiator, an antioxidant and the like can be added to the resin composition as long as the desired properties are not impaired. If these are well known and commonly used,
There is no particular limitation. Typical examples thereof include an ultraviolet absorber such as a benzotriazole type, a fluorescent brightening agent such as a stilbene derivative, a photopolymerization initiator such as a thioxanthone type, and an antioxidant such as a hindered phenol type.

【0029】上記の該樹脂(I) 、該硬化剤(II)、該可撓
性付与剤(III) および該溶剤(IV)を必須成分とする樹脂
組成物を基材に含浸・乾燥し、適宜B-stage化して本発
明のプリプレグを製造する。本発明のこの基材は、公知
の各種電気積層板に用いられているものが使用できる。
A substrate is impregnated with a resin composition containing the resin (I), the curing agent (II), the flexibility-imparting agent (III) and the solvent (IV) as essential components and dried, The prepreg of the present invention is produced by appropriately converting to a B-stage. As the base material of the present invention, those used in various known electric laminates can be used.

【0030】その材質の代表的な例としては、E、D、
S及びQガラスなどの無機物繊維、ポリイミド、ポリア
リレート及びテトラフルオロエチレンなどの有機物繊
維、及びそれらの混合物などが挙げられる。これらを用
いた基材は、その形状により織布、不織布、ロービン
グ、チョップドストランドマット及びサーフェシングマ
ットなどが挙げられるが、上述の種類及び形状は、目的
とする成形物の用途及び性能により適宜選択されるもの
であり、必要により単独もしくは、2種類以上の種類及
び形状からの混合使用が可能である。厚みに特に制限は
ないが、通常0.03〜0.5 mmを用いることができ、シラ
ン系カップリング剤に代表される処理剤により表面処理
したものならびに機械的に開繊処理を施したものは、含
浸性向上などの面からより好適である。
Typical examples of the material are E, D,
Examples thereof include inorganic fibers such as S and Q glass, organic fibers such as polyimide, polyarylate and tetrafluoroethylene, and a mixture thereof. Base materials using these include woven fabrics, non-woven fabrics, rovings, chopped strand mats and surfacing mats depending on their shapes, but the above-mentioned types and shapes are appropriately selected depending on the intended use and performance of the molded product. If necessary, they can be used alone or as a mixture of two or more kinds and shapes. The thickness is not particularly limited, but usually 0.03 to 0.5 mm can be used, and those subjected to surface treatment with a treatment agent typified by a silane coupling agent and those subjected to mechanical opening treatment are impregnable It is more preferable in terms of improvement.

【0031】該基材に対する樹脂の含浸量は、乾燥後の
プリプレグ中の樹脂含有率が20〜90重量%の範囲であ
り、基材に含浸及び塗工させた後、 100〜200 ℃の乾燥
機中で0.5〜30分乾燥し、半硬化(B-stage化)させる
方法などにより得られる。
The amount of resin impregnated into the base material is such that the resin content in the prepreg after drying is in the range of 20 to 90% by weight, and the base material is impregnated and coated and then dried at 100 to 200 ° C. It is obtained by a method such as drying for 0.5 to 30 minutes in a machine and semi-curing (B-stage).

【0032】本発明の積層板は、上記した本発明のプリ
プレグを用いて積層成形してなるものである。具体的に
は、本発明のプリプレグを適宜、複数枚重ね、所望によ
りその片面もしくは両面に銅、アルミニウムなどの金属
箔を配置した構成で積層成形することにより製造する。
The laminated plate of the present invention is formed by laminating using the prepreg of the present invention described above. Specifically, a plurality of the prepregs of the present invention are appropriately stacked, and laminated and molded with a configuration in which a metal foil such as copper or aluminum is placed on one side or both sides, if desired.

【0033】金属箔は、電気積層板用途で用いられてい
るものであれば、特に限定はない。また、積層成形は、
電気用の積層板、多層板などの通常の積層方法が適用で
き、例えば、多段プレス、多段真空プレス、連続成形、
オートクレーブ成形などを使用し、温度 100〜200 ℃、
圧力2〜100 kg/cm2 、0.03〜3時間の範囲であ
る。また、通常のあるいは本発明による積層板からなる
内層用プリント配線板と組み合わせて積層加熱成形する
ことにより、低誘電率及び低誘電正接の絶縁層を有する
多層プリント配線板を製造することができる。
The metal foil is not particularly limited as long as it is used for electric laminates. In addition, laminated molding is
Usual laminating methods such as electric laminated plates and multilayer plates can be applied, for example, multi-stage press, multi-stage vacuum press, continuous molding,
Using autoclave molding, etc., temperature 100 ~ 200 ℃,
The pressure is in the range of 2 to 100 kg / cm 2 , and 0.03 to 3 hours. In addition, a multilayer printed wiring board having an insulating layer having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent can be manufactured by stacking and thermoforming in combination with an ordinary or a printed wiring board for an inner layer which is a laminated board according to the present invention.

【0034】[0034]

【実施例】【Example】

実施例1 スチレン及び無水マレイン酸を必須成分として得られる
共重合樹脂(SMA1000A)35重量%をジメチルホルム
アミド(沸点153 ℃)に少量ずつ投入、全量が溶剤に均
一溶解するまでスピードミキサーにて混合攪拌した。次
いで、アルキルフェノールノボラックエポキシ樹脂とテ
トラブロモビスフェノールAの反応物であるエポキシ樹
脂(LDX4127、エポキシ当量395 、臭素含有率27重量
%、水酸基濃度約3.5 ×10-4mol/g、住友化学工業
(株)製)の35重量%と、テトラブロモビスフェノール
Aジグリシジルエーテル(エピクロン152 、エポキシ当
量360 、臭素含有率45重量%、大日本インキ化学(株)
製)30重量%(2種類のエポキシ樹脂の平均エポキシ当
量379 、臭素含有率35%、平均水酸基濃度2.6 ×10 -4
ol/g)、可撓性付与剤として高分子量エポキシ樹脂
(H360 、大日本インキ化学(株)製)の30重量%を添
加して混合攪拌を続け、均一に混合した時点でスピード
ミキサーから取り出し、ワニスを得た。
 Example 1 Obtained with styrene and maleic anhydride as essential components
Copolymer resin (SMA1000A) 35% by weight in dimethylform
Add little by little to the amide (boiling point 153 ° C), and all the amount is even
The mixture was stirred with a speed mixer until it was completely dissolved. Next
Alkylphenol novolac epoxy resin and TE
Epoxy resin which is a reaction product of trabromobisphenol A
Fat (LDX4127, epoxy equivalent 395, bromine content 27 weight
%, Hydroxyl group concentration about 3.5 x 10-Fourmol / g, Sumitomo Chemical
35% by weight of Tetrabromobisphenol
A diglycidyl ether (Epiclon 152, epoxy
Amount 360, bromine content 45% by weight, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
30% by weight (average epoxy equivalent of two epoxy resins)
Amount 379, bromine content 35%, average hydroxyl group concentration 2.6 x 10 -Fourm
ol / g), a high molecular weight epoxy resin as a flexibility-imparting agent
(H360, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
Add and continue mixing and stirring, and at the time of uniform mixing, speed
It was taken out from the mixer to obtain a varnish.

【0035】このワニスをメチルエチルケトンで希釈
し、ガラスクロス(Eガラス、厚さ0.1 mm)に含浸塗
工し、150 ℃で5分〜10分間乾燥して樹脂含有率45重量
%のタックフリーのプリプレグを得た。次に該プリプレ
グを7枚重ねて上下に18μmの電解銅箔を重ねて、圧力
5N/cm2 、温度130 ℃で30分加熱し、更に220 ℃で
1時間プレスを行い積層板を得た。製造した両面銅張積
層板の物性を測定し、表1に示した。
This varnish was diluted with methyl ethyl ketone, impregnated and coated on glass cloth (E glass, thickness 0.1 mm), and dried at 150 ° C. for 5 to 10 minutes to prepare a tack-free prepreg having a resin content of 45% by weight. Got Next, seven of the prepregs were stacked, and electrolytic copper foils having a thickness of 18 μm were stacked on top and bottom, heated at a pressure of 5 N / cm 2 and a temperature of 130 ° C. for 30 minutes, and further pressed at 220 ° C. for 1 hour to obtain a laminated plate. The physical properties of the produced double-sided copper clad laminate were measured and are shown in Table 1.

【0036】実施例2 溶剤としてキシレンを用い、共重合樹脂(SMA3000
A)40重量%、テトラブロモビスフェノールAジグリシ
ジルエーテル(エピクロン152 )45重量%、クレゾール
ノボラックエポキシ樹脂(ESCN220 F、エポキシ当
量212 、住友化学工業(株)製)10重量%、(2種類の
エポキシ樹脂の平均エポキシ当量333 、臭素含有率37重
量%、平均水酸基濃度約1.2 ×10-4mol/g)、フェ
ノールノボラック樹脂(フェノライトTD2093、水酸基
当量104 、大日本インキ化学(株)製)5重量%、可撓
性付与剤としてアクリロニトリルブタジエンコポリマー
(N−220 S、日本合成ゴム(株)製)15重量%、2−
エチル4−メチルイミダゾール0.05重量%添加して実施
例1と同様にしてワニスを得た。このワニスを用いる他
は実施例1と同様にして積層板を得、物性を測定し、表
1に示した。
Example 2 Using xylene as a solvent, a copolymer resin (SMA3000
A) 40% by weight, tetrabromobisphenol A diglycidyl ether (Epiclone 152) 45% by weight, cresol novolac epoxy resin (ESCN220 F, epoxy equivalent 212, Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 10% by weight, (two types of epoxies) Resin average epoxy equivalent 333, bromine content 37% by weight, average hydroxyl concentration about 1.2 x 10 -4 mol / g), phenol novolac resin (Phenolite TD2093, hydroxyl equivalent 104, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 5 % By weight, 15% by weight of acrylonitrile butadiene copolymer (N-220 S, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) as a flexibility-imparting agent, 2-
A varnish was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.05% by weight of ethyl 4-methylimidazole was added. A laminated board was obtained in the same manner as in Example 1 except that this varnish was used, and its physical properties were measured and shown in Table 1.

【0037】実施例3 溶剤としてジメチルホルムアミドを用い、共重合樹脂
(SMA2000A)40重量%、ブロム化フェノールノボラ
ックエポキシ樹脂(BREN−S、エポキシ当量285 、
臭素含有率35重量%、水酸基濃度0.1 ×10-4mol/g
以下、日本化薬(株)製)60重量%、可撓性付与剤とし
て末端カルボキシポリブタジエン(CTB2000×162 、
宇部興産(株))10重量%、2−エチル4−メチルイミ
ダゾール0.02重量%を添加し、実施例1と同様にしてワ
ニスを得た。このワニスを用いる他は実施例1と同様に
して積層板を得、物性を測定し、表1に示した。
Example 3 Using dimethylformamide as a solvent, 40% by weight of copolymer resin (SMA2000A), brominated phenol novolac epoxy resin (BREN-S, epoxy equivalent 285,
Bromine content 35% by weight, hydroxyl group concentration 0.1 × 10 -4 mol / g
Hereinafter, 60% by weight of Nippon Kayaku Co., Ltd., a terminal carboxypolybutadiene (CTB2000 × 162) as a flexibility-imparting agent,
Ube Industries, Ltd. 10% by weight and 2-ethyl 4-methylimidazole 0.02% by weight were added, and a varnish was obtained in the same manner as in Example 1. A laminated board was obtained in the same manner as in Example 1 except that this varnish was used, and its physical properties were measured and shown in Table 1.

【0038】実施例4 溶剤としてプロピレングリコールメチルエーテルアセテ
ート(沸点146 ℃)を用い、共重合樹脂(SMA3000
A)49重量%、テトラブロモビスフェノールAジグリシ
ジルエーテル(エピクロン152 )48重量%、ビスフェノ
ールAジグリシジルエーテル(エピコート828 、エポキ
シ当量189 、油化シェルエポキシ(株)製)3重量%
(2種類のエポキシ樹脂の平均エポキシ当量 350、臭素
含有率 42重量%、平均水酸基濃度約1.5 ×10-4mol
/g)、可撓性付与剤としてポリテトラメチレングリコ
ール(PTMG1300、三菱化学(株)製)20重量%、2
−エチル−4−メチルイミダゾール0.03重量%添加して
実施例1と同様にしてワニスを得た。このワニスを用い
る他は実施例1と同様にして積層板を得、物性を測定
し、表1に示した。
Example 4 Propylene glycol methyl ether acetate (boiling point: 146 ° C.) was used as a solvent, and a copolymer resin (SMA3000
A) 49% by weight, tetrabromobisphenol A diglycidyl ether (Epiclone 152) 48% by weight, bisphenol A diglycidyl ether (Epicoat 828, epoxy equivalent 189, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) 3% by weight
(The average epoxy equivalent of the two epoxy resins is 350, the bromine content is 42% by weight, the average hydroxyl group concentration is about 1.5 × 10 -4 mol
/ G), 20% by weight of polytetramethylene glycol (PTMG1300, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) as a flexibility-imparting agent, 2
A varnish was obtained in the same manner as in Example 1 with the addition of 0.03% by weight of -ethyl-4-methylimidazole. A laminated board was obtained in the same manner as in Example 1 except that this varnish was used, and its physical properties were measured and shown in Table 1.

【0039】実施例5 溶剤として3−メチルメトキシブタノール(沸点174
℃)を用い、共重合樹脂(SMA2000A)45重量%、テ
トラブロモビスフェノールAジグリシジルエーテル(エ
ピクロン152 )46重量%、ブロム化ビスフェノールA系
エポキシ樹脂(エピコート5048、エポキシ当量675 、臭
素含有率25重量%、油化シェルエポキシ(株)製)9重
量%(2種類のエポキシ樹脂の平均エポキシ当量 412、
臭素含有率41重量%、平均水酸基濃度約 4.1×10-4mo
l/g)、可撓性付与剤として無水マレイン酸変性ポリ
ブタジエン(BN−1015、日本曹達(株)製)15重量
%、ジメチルベンジルアミン 0.05重量%を添加して実
施例1と同様にしてワニスを得た。このワニスを用いる
他は実施例1と同様にして積層板を得、物性を測定し、
表1に示した。
Example 5 As a solvent, 3-methylmethoxybutanol (boiling point 174
45% by weight of copolymer resin (SMA2000A), 46% by weight of tetrabromobisphenol A diglycidyl ether (Epiclone 152), brominated bisphenol A epoxy resin (Epicoat 5048, epoxy equivalent 675, bromine content 25%) %, Manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. 9% by weight (average epoxy equivalent of two kinds of epoxy resins 412,
Bromine content 41% by weight, average hydroxyl group concentration about 4.1 × 10 -4 mo
1 / g), 15% by weight of maleic anhydride-modified polybutadiene (BN-10015, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) as a flexibility-imparting agent, and 0.05% by weight of dimethylbenzylamine were added to the varnish in the same manner as in Example 1. Got A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that this varnish was used, and the physical properties were measured,
The results are shown in Table 1.

【0040】比較例1 可撓性付与剤の無水マレイン酸変性ポリブタジエン(B
N−1015)を配合しない以外は、実施例5と同様にして
積層板を得た。これの物性を表1に示した。
COMPARATIVE EXAMPLE 1 Maleic anhydride-modified polybutadiene (B
A laminated board was obtained in the same manner as in Example 5 except that N-1015) was not blended. The physical properties of this are shown in Table 1.

【0041】比較例2 可撓性付与剤のポリテトラメチレングリコール(PTM
G1300)の配合量を50重量%にした以外は、実施例4と
同様にして積層板を得た。これの物性を表1に示した。
Comparative Example 2 Polytetramethylene glycol (PTM) as a flexibility-imparting agent
A laminated board was obtained in the same manner as in Example 4 except that the blending amount of G1300) was changed to 50% by weight. The physical properties of this are shown in Table 1.

【0042】比較例3 実施例5において、共重合樹脂(SMA2000A)を34重
量%に、テトラブロモビスフェノールAジグリシジルエ
ーテル(エピクロン152 )を35重量%に、ブロム化ビス
フェノールA系エポキシ樹脂(エピコート5049、エポキ
シ当量745 、臭素含有率26重量%、油化シェルエポキシ
(株)製)を31重量%(2種類のエポキシ樹脂の平均エ
ポキシ当量540 、臭素含有率36重量%、平均水酸基濃度
約9.3 ×10-4mol/g)に変更した以外は同様にして
積層板を得た。これの物性を表1に示した。
Comparative Example 3 In Example 5, copolymer resin (SMA2000A) was added to 34% by weight, tetrabromobisphenol A diglycidyl ether (Epiclone 152) was added to 35% by weight, and brominated bisphenol A epoxy resin (Epicoat 5049). , Epoxy equivalent 745, bromine content 26% by weight, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. 31% by weight (average epoxy equivalent 540 of two kinds of epoxy resins, bromine content 36% by weight, average hydroxyl group concentration about 9.3 × A laminated plate was obtained in the same manner except that the amount was changed to 10 −4 mol / g). The physical properties of this are shown in Table 1.

【0043】比較例4 溶剤としてDMFを用い、ジシアンジアミド2重量%、
ブロム化ビスフェノールA系エポキシ樹脂(エピコート
5048)90重量%、クレゾールノボラックエポキシ樹脂
(ESCN220 F)10重量%、(2種類のエポキシ樹脂
の平均エポキシ当量628 、臭素含有率23重量%、平均水
酸基濃度約1.6 ×10-3mol/g)、2−エチル4−
メチルイミダゾール0.02重量%を添加して実施例1と同
様にしてワニスを得た。このワニスを用いる他は実施例
1と同様にしてタックフリーのプリプレグを得た。プレ
ス温度を、130 ℃30分の後、180 ℃90分にする以外は実
施例1と同様にして積層板を得、物性を測定し、表1に
示した。
Comparative Example 4 DMF was used as a solvent and 2% by weight of dicyandiamide,
Brominated bisphenol A epoxy resin (Epicoat
5048) 90% by weight, cresol novolac epoxy resin (ESCN220 F) 10% by weight, (average epoxy equivalent of two types of epoxy resin 628, bromine content 23% by weight, average hydroxyl group concentration about 1.6 x 10 -3 mol / g) , 2-ethyl 4-
A varnish was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.02% by weight of methylimidazole was added. A tack-free prepreg was obtained in the same manner as in Example 1 except that this varnish was used. A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressing temperature was changed to 130 ° C. for 30 minutes and 180 ° C. for 90 minutes, and the physical properties were measured.

【0044】[0044]

【表1】 実施例、比較例 実施例 比較例 No 1 2 3 4 5 1 2 3 4 ガラス転移温度*1 206 190 208 184 200 220 165 190 165 曲げ弾性率 *2 2.2 2.3 2.3 2.0 2.2 2.5 1.8 2.1 2.0 内壁粗さ *3 28 30 29 26 28 40 22 26 28 燃焼性(UL94) V0 V0 V0 V0 V0 V0 HB V0 V0 誘電率 *4 4.4 4.3 4.0 4.3 4.0 4.2 4.7 4.5 4.9 誘電正接 *4 0.007 0.008 0.004 0.008 0.005 0.006 0.012 0.010 0.012 プリプレグ外観*5 ○ ○ ○ ○ ○ ○ × × ○ 注)*1:ガラス転移温度は、DMA法による 単位℃ *2:JIS C6481準拠 単位MPa *3:0.9φドリル 回転数60krpm 送り速度3.6 m/分にて孔明け 4000穴目付近10穴をバイアスカットした各孔最大粗さの平均値 単位μm *4:誘電率、誘電正接は、常態1MHzにて測定。 *5:プリプレグ外観は、目視観察し、下記基準により判定した。 ○:表面形状が平滑、かつ残存気泡無し。 ×:表面凹凸多い。残存気泡多い。[Table 1] Examples and comparative examplesExample Comparative example No 1 2 3 4 5 1 2 3 4 Glass-transition temperature* 1 206 190 208 184 200 220 165 190 165 Flexural modulus* 2 2.2 2.3 2.3 2.0 2.2 2.5 1.8 2.1 2.0 Inner wall roughness* 3 28 30 29 26 28 40 22 26 28 Flammability (UL94) V0 V0 V0 V0 V0 V0 HB V0 V0 Dielectric constant*Four 4.4 4.3 4.0 4.3 4.0 4.2 4.7 4.5 4.9 Dielectric loss tangent*Four 0.007 0.008 0.004 0.008 0.005 0.006 0.012 0.010 0.012 Appearance of prepreg * 5 ○ ○ ○ ○ ○ ○ × × ○ Note) * 1: The glass transition temperature is measured by the DMA method. Unit: ° C * 2: JIS C6481 compliant Unit: MPa * 3: 0.9φ drill Rotation speed 60 krpm Feed rate 3.6 m / min. Average value of maximum roughness of each hole after bias cutting Unit μm * 4: Dielectric constant and dielectric loss tangent were measured at 1MHz in normal condition. * 5: The appearance of the prepreg was visually observed and judged according to the following criteria. ◯: The surface shape is smooth and there are no residual bubbles. X: Many surface irregularities. Many residual bubbles.

【0045】実施例6 実施例5と比較例1によって得た積層板を用い、スルー
ホールの接続信頼性試験を行った。各積層板に0.4 φの
スルーホールを5000穴明けたパターンを用いて、MIL
−P−55110 D 4-8-6-1 に従って冷熱衝撃を100 サイ
クル加えた。冷熱衝撃前後のスルーホール導通抵抗値の
変化を表2に示す。
Example 6 Using the laminated plates obtained in Example 5 and Comparative Example 1, a through hole connection reliability test was conducted. Using a pattern in which 5,000 through holes of 0.4 φ are drilled on each laminated board, MIL
100 cycles of thermal shock were applied according to P-55110 D 4-8-6-1. Table 2 shows the change in the through-hole conduction resistance value before and after the thermal shock.

【0046】[0046]

【表2】 導通抵抗 (mΩ) 変化率 初期値 100サイクル後 (%) 実施例5 248 247 −0.4 比較例1 253 274 +8.3 [Table 2] Conduction resistance (mΩ) Change rate Initial value After 100 cycles (%) Example 5 248 247 -0.4 Comparative Example 1 253 274 +8.3

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明による樹脂組成物は、繊維質基材
への含浸及び塗工性が良好であり、該プリプレグを用い
た電気用積層板は、誘電特性、耐熱性、機械加工性及び
耐燃焼性に対し優れた性能を示していることがわかる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The resin composition according to the present invention has good impregnation and coating properties on a fibrous base material, and an electrical laminate using the prepreg has dielectric properties, heat resistance, machinability and It can be seen that it exhibits excellent performance with respect to combustion resistance.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荻間 正彦 東京都葛飾区新宿6丁目1番1号 三菱瓦 斯化学株式会社東京工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Masahiko Ogima 6-1, 1-1 Shinjuku, Katsushika-ku, Tokyo Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. Tokyo factory

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1分子中に2個以上のエポキシ基を有す
る1種または2種以上のエポキシ樹脂であり、そのうち
少なくとも1種はブロム化されたものであるエポキシ樹
脂(I) スチレン及び無水マレイン酸を必須成分としてなる共重
合体である、エポキシ樹脂硬化剤(II) 該エポキシ樹脂(I) と該硬化剤(II)からなる組成物に配
合することで、ガラス転移温度を10〜20℃低下させられ
る可撓性付与剤(III) 並びに、沸点が100 ℃以上の該樹脂(I) 、該硬化剤(II)
および該可撓性付与剤(III) の溶剤(IV) を必須成分としてなるエポキシ樹脂組成物を、基材に含
浸してなるプリプレグ。
1. An epoxy resin (I) styrene and maleic anhydride, which is one or two or more epoxy resins having two or more epoxy groups in one molecule, at least one of which is brominated. A copolymer having an acid as an essential component, an epoxy resin curing agent (II) by blending the epoxy resin (I) and a composition comprising the curing agent (II) into a glass transition temperature of 10 to 20 ° C. A flexibility-imparting agent (III) which can be reduced, and a resin (I) having a boiling point of 100 ° C. or more, and a curing agent (II)
And a prepreg obtained by impregnating a base material with an epoxy resin composition containing the solvent (IV) of the flexibility-imparting agent (III) as an essential component.
【請求項2】 該樹脂(I) 中の平均ブロム含有率が30重
量%以上、平均エポキシ当量が500 以下、平均水酸基濃
度が1×10-3mol/g以下であることを特徴とする請
求項1記載のプリプレグ。
2. The resin (I) having an average bromine content of 30% by weight or more, an average epoxy equivalent of 500 or less, and an average hydroxyl group concentration of 1 × 10 −3 mol / g or less. The prepreg according to Item 1.
【請求項3】 該硬化剤(II)が、スチレンと無水マレイ
ン酸の構成比が9:1〜5:5、酸価 100〜600 mgK
OH/g、数平均分子量1000〜3000、1分子中に少なく
とも1個の酸無水物基を有する共重合体であることを特
徴とする請求項1記載のプリプレグ。
3. The curing agent (II) has a composition ratio of styrene and maleic anhydride of 9: 1 to 5: 5 and an acid value of 100 to 600 mgK.
The prepreg according to claim 1, which is a copolymer having OH / g, a number average molecular weight of 1000 to 3000, and at least one acid anhydride group in one molecule.
【請求項4】 該エポキシ樹脂(I) の全エポキシ基量を
Aとし、該硬化剤(II)の酸無水物基量をBとした時、
A:B=1:0.3〜1:1.5であることを特徴とし
た請求項1記載のプリプレグ。
4. When the total amount of epoxy groups of the epoxy resin (I) is A and the amount of acid anhydride groups of the curing agent (II) is B,
The prepreg according to claim 1, wherein A: B = 1: 0.3 to 1: 1.5.
【請求項5】 該可撓性付与剤(III) の配合量が、該樹
脂(I) と該硬化剤(II)との総重量に対して40重量%以下
であることを特徴とする請求項1記載のプリプレグ。
5. The content of the flexibility-imparting agent (III) is 40% by weight or less based on the total weight of the resin (I) and the curing agent (II). The prepreg according to Item 1.
【請求項6】 請求項1、2、3、4または5記載のプ
リプレグを積層成形してなる低誘電率、低誘電正接及び
高耐熱性電気絶縁料用積層板。
6. A laminate having a low dielectric constant, a low dielectric loss tangent, and a high heat resistance, which is obtained by laminating and molding the prepreg according to claim 1, 2, 3, 4 or 5.
JP8009974A 1996-01-24 1996-01-24 Prepreg and laminated sheet prepared by using resin composition with low dielectric constant and low dielectric dissipation factor Pending JPH09194610A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8009974A JPH09194610A (en) 1996-01-24 1996-01-24 Prepreg and laminated sheet prepared by using resin composition with low dielectric constant and low dielectric dissipation factor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8009974A JPH09194610A (en) 1996-01-24 1996-01-24 Prepreg and laminated sheet prepared by using resin composition with low dielectric constant and low dielectric dissipation factor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09194610A true JPH09194610A (en) 1997-07-29

Family

ID=11734898

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8009974A Pending JPH09194610A (en) 1996-01-24 1996-01-24 Prepreg and laminated sheet prepared by using resin composition with low dielectric constant and low dielectric dissipation factor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09194610A (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6015872A (en) * 1997-05-22 2000-01-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Substrate for printed circuit board
JP2001291962A (en) * 2000-04-04 2001-10-19 Ibiden Co Ltd Multilayered printed wiring board and producing method therefor
US6613839B1 (en) * 1997-01-21 2003-09-02 The Dow Chemical Company Polyepoxide, catalyst/cure inhibitor complex and anhydride
US7547745B2 (en) 2002-11-26 2009-06-16 Dow Global Technologies, Inc. Epoxy resin hardener of anhydride copolymer and anhydride-elastomer copolymer
US20120083564A1 (en) * 2009-06-22 2012-04-05 Dow Global Technologies Llc Hardener composition for epoxy resins
US9681541B2 (en) 2014-10-22 2017-06-13 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Resin composition, prepreg, metal foil with resin, metal-clad laminated plate, and printed wiring board
US10017601B2 (en) 2013-07-04 2018-07-10 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Resin composition, prepreg and laminate board
US10450405B2 (en) 2014-08-29 2019-10-22 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Resin composition, prepreg, metal foil with resin, metal-clad laminate, printed wiring board

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6613839B1 (en) * 1997-01-21 2003-09-02 The Dow Chemical Company Polyepoxide, catalyst/cure inhibitor complex and anhydride
US6015872A (en) * 1997-05-22 2000-01-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Substrate for printed circuit board
JP2001291962A (en) * 2000-04-04 2001-10-19 Ibiden Co Ltd Multilayered printed wiring board and producing method therefor
US7547745B2 (en) 2002-11-26 2009-06-16 Dow Global Technologies, Inc. Epoxy resin hardener of anhydride copolymer and anhydride-elastomer copolymer
US20120083564A1 (en) * 2009-06-22 2012-04-05 Dow Global Technologies Llc Hardener composition for epoxy resins
US10017601B2 (en) 2013-07-04 2018-07-10 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Resin composition, prepreg and laminate board
US10450405B2 (en) 2014-08-29 2019-10-22 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Resin composition, prepreg, metal foil with resin, metal-clad laminate, printed wiring board
US9681541B2 (en) 2014-10-22 2017-06-13 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Resin composition, prepreg, metal foil with resin, metal-clad laminated plate, and printed wiring board

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100607185B1 (en) Prepreg and laminated board formed of the prepreg
US20120024580A1 (en) Epoxy resin composition, and prepreg and printed circuit board using the same
EP3031863B1 (en) Halogen-free resin composition and uses thereof
EP1461387A1 (en) Prepreg and composition of epoxy resin(s), sma copolymers(s) and bis-maleimide triazine resin(s)
EP1229079A1 (en) Thermosetting resin composition and use thereof
KR100835784B1 (en) Resine composition for printed circuit board and composite substrate and copper laminates using the same
JP3633673B2 (en) Prepreg and laminate
JP2014122339A (en) Thermosetting resin composition, prepreg, laminate, print circuit board, mounting substrate, and method for producing thermosetting resin composition
JPH09194610A (en) Prepreg and laminated sheet prepared by using resin composition with low dielectric constant and low dielectric dissipation factor
JP4915549B2 (en) Resin composition for printed wiring board, prepreg and laminate using the same
JP4770019B2 (en) Prepreg and metal foil-clad laminate
JP4852292B2 (en) Copper-clad laminate
JP2003231762A (en) Prepreg and laminated sheet
JP7352799B2 (en) Resin compositions, prepregs, resin-coated films, resin-coated metal foils, metal-clad laminates, and printed wiring boards
JP3678258B2 (en) Prepreg and laminate
JP2004307761A (en) Thermosetting resin composition, and prepreg, metal-clad laminate and printed wiring board all using the same
JP3261061B2 (en) Resin composition for laminate, prepreg and laminate using the composition
JP3351434B2 (en) Resin composition for laminate and laminate
US20110315435A1 (en) Acid anhydride curable thermosetting resin composition
KR100417067B1 (en) Epoxy resin composition and copper clad laminates having low electric permittimity using the same
WO2023145472A1 (en) Resin composition, prepreg, resin-bearing film, resin-bearing metal foil, metal-clad laminated board, and printed wiring board
JPH1017686A (en) Prepreg and laminate
JP3119578B2 (en) Manufacturing method of printed circuit board
JPS63117053A (en) Thermosetting resin composition and laminated sheet
JP2005002227A (en) Resin composition for laminated plate, prepreg using organic base material, laminated plate, and printed wiring board