JP3349598B2 - Metallized film defect detection method capacitor - Google Patents

Metallized film defect detection method capacitor

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【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】この発明は、基材フィルム上に連続して形成された金属蒸着面(蒸着部)と非蒸着面(マージン部)とが交互に縞状に形成されたコンデンサ用金属化フィルムの、その製造中における欠陥の検出方法に関するものである。 BACKGROUND OF THE INVENTION This invention is a metal capacitor in which a metal-deposited surface formed continuously on a substrate film (the deposition unit) and the non-deposition surface (margin portion) is formed in stripes alternately of the film, to a method of detecting defects during its manufacture.

【0002】 [0002]

【従来の技術】一般に、コンデンサ素子を製造するために用いる金属蒸着フィルムは、巻回コンデンサまたは積層コンデンサ用基材としてよく知られている。 In general, metallized film used for producing the capacitor element is well known as a base for the rolled capacitor or multilayer capacitor. この金属蒸着フィルムは電気的な短絡を防止するため、金属蒸着フィルムの流れ方向の一側縁に沿って連続的な金属非蒸着部(マージン部)が設けられて製造されている。 The metallized film is to prevent electrical short, a continuous metal-deposition unit along one side edge of the flow direction of the metallized film (margin portion) are manufactured is provided. このマージン部は、予め基材フィルムの表面に複数本の細幅のテープを当てがい、またはオイルを塗布するなどの方法によってマスキングを施してから金属を蒸着させ、その後に上記マージン部の中央をスリッター装置の刃によりスリットしつつ巻き取ることによって、個々のコンデンサ素子用蒸着フィルムとして製造している。 This margin portion, purchase against a tape of a plurality of narrow on the surface of the advance base film, or oil metal is deposited from masked by a method such as coating, and the center of then the margin portion by winding while the slit by blades of the slitter apparatus, are manufactured as a vapor deposition film for the individual capacitor elements.

【0003】このように製造されるコンデンサ素子用の蒸着フィルムにあっては、品質管理のため金属蒸着部およびマージン部の幅を厳密に管理する必要があるとともに、金属蒸着部蒸着面を厳密に管理する必要がある。 [0003] In the deposition film capacitor device fabricated in this way, together with the need to strictly control the width of the metal deposition portion and a margin portion for quality control strictly the metal deposition portion deposition surface there is a need to manage. これは、後に製品として形成されるコンデンサの容量が金属蒸着部の容量で決まり、この金属蒸着部にピンホールや線状の欠陥があると容量が一定とならずバラついた製品が得られるからである。 It was later determined capacitance of the capacitor formed as a product in a volume of metal deposition portion, because product capacity when there is a pinhole or linear defect in the metal deposition portion with roses not constant is obtained it is. このため、従来はマージン部を切断するためのスリッタ装置においては主に目視による検査を行っている。 Therefore, conventionally, which primarily visual inspection in slitter for cutting a margin portion. しかし、高速度で移動する金属蒸着フィルムの欠陥を検出することは困難であり、そのため、CCDカメラを利用して金属化フィルムの欠陥を検出する方法が行われていた。 However, it is difficult to detect a defect of metallized film moving at high speed, therefore, a method for detecting defects in the metallized film by using a CCD camera has been carried out.

【0004】 [0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、CCDカメラを利用して検出する方法では大きな撮像空間を必要とし、入り混んだスリッター装置に組み込むことが困難である。 [SUMMARY OF THE INVENTION Incidentally, requires a large imaging space in a detection method using a CCD camera, it is difficult to incorporate the crowded slitter apparatus enters. また、コンデンサ素子用金属化フィルムは、金属蒸着面と透明なマージン部が移動方向に縞状に形成されており、金属化フィルムの幅方向にCCD素子の走査を行うと、透明なマージン部からの強い光をカメラのCC Also, metallized film capacitor element is metallized surface and a transparent margin portion is formed in stripes in the moving direction, when the scanning of the CCD elements in the width direction of the metallized film, a transparent margin portion strong light camera of the CC of
Dが検出し、いわゆるスミヤと称されるCCD素子の隣の画素に電荷の漏曳が生じ、欠陥の検出を困難にしていた。 D is detected, Mo曳 charge next to the pixel of the CCD element, so called smear is generated, has been difficult to detect the defect.

【0005】この発明はこのような点に鑑みてなされたもので、製造中におけるコンデンサ用金属化フィルムの金属蒸着面におけるピンホール状および線状の欠陥を、 [0005] The present invention has been made in view of these points, the pinhole-shaped and linear defects in the metal-deposited surface of the metallized film capacitor in the manufacture,
簡単な装置で確実に検出できる検出方法を提供することを目的とする。 And to provide a detection method that can reliably detect with a simple device.

【0006】 [0006]

【課題を解決するための手段】この発明は、金属化フィルムのシート面の片側に高周波蛍光灯を配置し、これと対応する他方側に幅方向のスリットを有する遮光板および流れ方向に配列された2分割受光素子を配置し、上記高周波蛍光灯からの拡散光を金属化フィルムに照射して、この金属化フィルムの流れ方向の二つの測定領域からの透過した光を上記2分割受光素子で受光するようにし、この二つの受光素子からの信号A,Bからの和信号A+Bおよび差信号A−Bを演算して出力させ、 これら SUMMARY OF THE INVENTION This invention is a high frequency fluorescent lamp is arranged on one side of the sheet surface of the metallized film, is arranged in the light shielding plate and the flow direction with the other widthwise direction side slits corresponding to this It was divided into two arranged light receiving elements, by irradiating the diffused light from the high frequency fluorescent lamp metallized film, with the transmitted above the light receiving device the light from the two measurement areas in the flow direction of the metallized film as received, the signal a from the two light receiving elements, a sum signal a + B and the difference signal a-B and calculates to output from B, these
和信号、差信号の変化分をそれぞれあらかじめ設定され The sum signal, the variation of the difference signal is set in advance, respectively
た各設定値と比較し、設定値以上の変化分が入力された Compared with the setting value, the inputted change in set value or more partial
場合に欠陥であると検出し、これによりコンデンサ用金属化フィルムの金属蒸着部における欠陥を検出するようにしたコンデンサ用金属化フィルム欠陥検出方法である。 Detected to be defective when, thereby a metallized film defect detection method for a capacitor which is adapted to detect defects in the metal deposition portion of the metallized film capacitor.

【0007】 [0007]

【作用】2分割受光素子とスリットを有する遮光板とにより金属化フィルムの流れ方向上流側と下流側に二つの測定領域a,bが設定されるので、この二つの測定領域a,bから2分割受光素子を通じて得られる信号A,B [Action] the light receiving device and two measuring area a in the flow direction upstream and downstream of the metallized film by a light shielding plate having a slit, since b is set, the two measurement regions a, a b 2 signal obtained through the light receiving device A, B
の和信号A+Bと差信号A−Bを利用することにより、 By utilizing the sum signal A + B and difference signal A-B,
移動方向に金属蒸着部と非金属蒸着部が縞状に形成された金属化フィルムの金属蒸着部にある欠陥の検出を簡単でコンパクトな装置ながら確実に検出を行うことが可能となる。 Metal deposition portion and a non-metal deposition portion in the moving direction becomes possible to perform reliably detected while simple and compact device to detect defects in the metal deposition portion of the metal films formed in stripes.

【0008】 [0008]

【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。 BRIEF DESCRIPTION OF THE PREFERRED embodiment of the invention with reference to the accompanying drawings. 図1は欠陥検出を行う検出装置の概略構成を示す斜視図、図2は側面図である。 Figure 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a detection device for performing defect detection, Fig. 2 is a side view. 即ち、高周波蛍光灯1 In other words, the high-frequency fluorescent lamp 1
と複数の2分割受光素子3が金属化フィルム2を挟んでその幅方向に平行にそれぞれ反対側に対向するように設置される。 A plurality of the light receiving element 3 is disposed so as to face the opposite side respectively parallel in the width direction across the metallized film 2. 各2分割受光素子3と金属化フィルム2の間に所定の長さと幅を有するスリット4aを設けた遮光板4が配される。 Light shielding plate 4 provided with a slit 4a having a predetermined length and width is disposed between the light receiving device 3 and the metallized film 2. この遮光板4に設けられたスリット4a Slit 4a provided on the light shielding plate 4
から各2分割受光素子3の二つの受光部3a,3bに入射する光信号A,Bを得る。 Two light receiving portion 3a of the light receiving device 3 from the optical signal incident on the 3b A, obtaining a B.

【0009】幅640mm以下を有する金属化フィルム2上には、例えば幅40mmの金属蒸着部2aが非蒸着部(マージン部)2bを設けて16条縞状に形成されている(図では6条の場合を示す)。 [0009] Width 640mm on metallized film 2 having the following, for example, metal deposition portion 2a of 40mm wide are formed in the non-deposition portion (margin portion) 2b and provided 16 Article stripe (Article 6 in FIG. It shows the case of). この実施例では、金属化フィルム2の主に金属蒸着部2a上に存在するピンホール状の欠陥および線状の欠陥を検出するのである。 In this embodiment, it is to detect mainly defects like pinholes present on metallized portions 2a and linear defect of the metallized film 2.
金属化フィルム2は矢印で示す方向に高速で移動しており、その移動速度は50m/分〜300m/分である。 Metallized film 2 is moving at high speed in the direction indicated by the arrow, the movement speed is 50 m / min ~300M / min.

【0010】金属化フィルム2の上流側と下流側の二つの測定領域a,bを透過した光は、金属化フィルム2の幅方向に設けられた遮光板4上のスリット 4aを通り、 [0010] Two measurement areas upstream and downstream of the metallized film 2 a, the light transmitted through the b passes through the slits 4a of the light shielding plate 4 provided in the width direction of the metal films 2,
そのスリット4aに対応する所定の距離に設けられ流れ Flow provided at a predetermined distance corresponding to the slit 4a
方向に配置された 2分割受光素子3の受光部3a,3b Light receiving portion 3a of the light receiving element 3 disposed in the direction, 3b
に到達する。 To reach. 金属化フィルム2上から受光部3aに到達する領域aと受光部3bに到達する領域bとは金属化フィルム2の流れ方向の上流側と下流側にずれた位置となる。 A position shifted upstream and downstream of the flow direction metallized film 2 and the region b which reaches the light receiving portion 3b and the region a which reaches the light receiving portion 3a from above metallized film 2. これが測定領域a,bとなる。 This is the measurement area a, b.

【0011】 [0011]

【0012】 [0012]

【0013】 二つの受光素子3a,3bは、従って金属 [0013] Two of the light receiving elements 3a, 3b are therefore metal
化フィルム2に縞状に形成された一条の不透明な金属蒸 Opaque metal vapor of Ichijo formed in stripes on the films 2
着部2aと透明な非蒸着部であるマージン部2bの幅方 Wearing part width direction of the margin portion 2b is a 2a and transparent non-deposition unit
向を透過した二つの測定領域a,bからの光量をそれぞ Two measuring area a that has passed through the counter, the amount of light from b it
れ受光し、全幅を測定するときには2分割受光素子3を Is received, the light receiving device 3 when measuring the full width
16個幅方向に直線状に並べて測定することになる。 It will measure side by side in a straight line 16 the width direction. This
れにより、金属化フィルム2の移動方向に約1mm間隔 By Les, about 1mm intervals in the moving direction of the metal films 2
を有して前後する測定領域a,bの全幅を透過した全光 Back and forth with a measuring area a, the total light transmitted through the full width of b
量を受光することになる。 It will be receiving the amount. 図3に金属化フィルム2の一部分の拡大図を示す。 It shows an enlarged view of a portion of the metallized film 2 in FIG. 金属化フィルム2の金属蒸着部2 Metallized film 2 metal deposition section 2
aに例えば符号5で示すピンホールが存在すると、金属化フィルム2の流れ方向の上流側と下流側の位置の異なる測定領域a,bを通過するときに光量の変化として捉えることができる。 When the pinhole shown in example reference numeral 5 in a present, may be regarded as a change in light intensity as it passes through the different measurement regions a, b of the position of the upstream side and the downstream side of the flow direction metallized film 2. 従って、二つの受光部3a,3bのそれぞれの信号A,Bの差信号A−Bを利用することにより、図4に拡大して示すような欠陥検出信号Oを得ることが可能となる。 Thus, two light receiving sections 3a, each of the signals A 3b, by using the difference signal A-B of B, it is possible to obtain a defect detection signal O as shown in the enlarged view of FIG. ここで、Cはノイズ信号であり、O Here, C is a noise signal, O
が差信号である。 There is a difference signal.

【0014】線状欠陥などの大欠陥の場合には、二つの受光部3a,3bのそれぞれの信号A,Bの和信号A+ [0014] In the case of large defects such as linear defect, two light receiving sections 3a, each of the signals A 3b, the sum signal B A +
Bを利用することにより、図5に示すような和信号Pが得られる。 By using B, and the sum signal P as shown in FIG. 5 is obtained. これは測定領域a,bを透過する全光量であって、測定領域a,bに存在するマージン部2bの大きさにより和信号Pは影響されるが、線状欠陥などの大欠陥がなければ和信号Pは一定である。 This is a total amount of light transmitted measurement region a, the b, measurement area a, the sum signal P by the size of the margin portions 2b present in b but is affected, if there is no large defects such as linear defect sum signal P is constant. 金属化フィルム2 Metallized film 2
の金属蒸着部2aに存在する傷などの大欠陥があれば、 If there is a large defects such as scratches that are present in the metal deposition part 2a,
その欠陥が存在する位置からの和信号に更に傷などによる欠陥信号(A+Bの変化分)が付加されるので和信号Pの変化量から検出することが可能となる。 Further, since the defect signal by a scratch on the sum signal from the position where the defect is present (amount of change in the A + B) is added and it is possible to detect the amount of change in the sum signal P.

【0015】上記差信号Oは、位置が若干ずれた測定領域a,bからの光を二つの受光部3a,3bでそれぞれ検出してそれぞれの信号を引き算しているので、外部から光が入っても受光部3a,3bともに信号が変化するので、差信号Oは変化しない。 [0015] the difference signal O is located slightly offset measurement area a, light from b two light receiving portion 3a, since the subtraction of each of the signals detected respectively 3b, enters the light from the outside It is receiving portion 3a, since 3b both signal changes, the difference signal O does not change. このため、S/N比に優れ、微小な欠陥も容易に検出することができる。 Therefore, excellent S / N ratio, can be easily detected minute defects. この例では、0.5mm×0.5mmの微小な欠陥を検出することができた。 In this example, it was possible to detect minute defects of 0.5 mm × 0.5 mm. これに反し上記和信号Pは測定領域a, The sum signal P contrary the measurement area a,
bの全透過光量を与える信号であり、これは光量変化を捉えているため、透明なマージン部2bを含んだり、強い外乱光などがある場合にはこれらの影響を受けることになる。 b is a signal that gives the total amount of transmitted light, this is because it captures the light amount change, or include a transparent margin portion 2b, so that these affected if there is such a strong disturbance light. 従って、ノイズ信号は大きくなり微小欠陥の検出はできず、大きな欠陥のみの検出となる。 Accordingly, the noise signal can not detect the increased and micro-defects, the detection of large defects only.

【0016】次に、第6図のブロック図に基づいて測定方法を簡単に説明する。 Next, briefly described measuring method based on the block diagram of Figure 6. 高周波蛍光灯1により照射された金属化フィルム2の移動方向に位置の異なる二つの測定領域a,bを透過した光は、遮光板4のスリット4a Frequency fluorescent lamp 1 by irradiated metallized film 2 in the moving direction of the position two different measurement regions a, the light transmitted through the b is the light shielding plate 4 slits 4a
を通して2分割受光素子3の受光部3a,3bにより検出される。 The light receiving element 3 of the light receiving portion 3a through is detected by 3b. この2分割受光素子3の受光部3a,3bからの信号は電流電圧変換器7で変換さる。 Light receiving portion 3a of the light receiving device 3, the signal from 3b is Ru is converted by a current-voltage converter 7. 一方の信号経路であるA−Bはコンデンサを介して差動AC増幅器8で差信号増幅し、コンデンサを介して交流分のみを比較器10に入力する。 Which is one of the signal paths A-B via a capacitor to the difference signal amplified by the differential AC amplifier 8 is inputted to the comparator 10 only AC component through a capacitor. 他方の信号経路であるA+BはD Which is the other signal path A + B is D
C増幅器9により直流増幅された後コンデンサを介してその変化成分が比較器11に入ることになる。 The change component is to enter the comparator 11 via a capacitor after being DC amplification by C amplifier 9.

【0017】上記比較器10,11には、感度設定のための電流電圧変換器12,13がそれぞれ接続されていて、これらで設定された値と2分割受光素子3の受光部3a,3bからの信号A−B,A+Bの変化分がそれぞれ比較され、設定値以上の検出値が入力された場合のみピンホールなどの微小欠陥出力Qおよび線状の傷などの大欠陥出力Rがそれぞれ出力されるように構成されている。 [0017] the comparator 10 and 11, a current-voltage converter 12 and 13 for the sensitivity setting is not connected, respectively, the values ​​set in these and the light receiving element 3 of the light receiving portion 3a, from 3b signal a-B of, variation of a + B are compared respectively, large defect output R of such minute defects outputs Q and linear flaws such as pinholes only when the detected value of the set value or more is inputted is outputted It is configured so that.

【0018】 [0018]

【発明の効果】以上説明したとおり、この発明のコンデンサ用金属化フィルム欠陥検出方法によれば、高価なC As described in the foregoing, according to the metallized film defect detection method for a capacitor of the present invention, expensive C
CDを使用することなく簡単な2分割受光素子の差信号および和信号を演算することにより確実に高速で移動する縞状に形成された金属化フィルムにおける金属蒸着部の欠陥を検出することが可能となる。 Possible to detect defects of metal deposition portion of the metal films formed in stripes moving at reliably high speed by calculating a difference signal and a sum signal of the simple two-split light receiving element without using a CD to become. そして、光源および検出器ともに細長い部材で構成されており、しかも近接した取り付けが可能であり、スペースを取らないで容易にスリッター装置のローラ間にも設置することが可能である。 And is composed of a light source and detector are both elongate members, yet is capable of approaching the mounting, it is also possible to install between the rollers of easily slitter apparatus without taking up space. 従って、品質管理が極めて向上し、高精度の製品を製造することができる。 Therefore, it is possible to quality control is very improved, to manufacture high precision products.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】この発明のコンデンサ用金属化フィルム欠陥検出方法を説明する検出装置の概略構成を示す斜視図、 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a detection apparatus for explaining the metallized film defect detection method for a capacitor of the present invention,

【図2】図1の側面図、 FIG. 2 is a side view of FIG. 1,

【図3】金属化フィルムの一部分の拡大斜視図、 Figure 3 is an enlarged perspective view of a portion of the metallized film,

【図4】差信号の波形図、 Figure 4 is a waveform diagram of the difference signal,

【図5】和信号の波形図、 FIG. 5 is a waveform diagram of the sum signal,

【図6】測定装置のブロック図である。 6 is a block diagram of a measuring device.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 高周波蛍光灯 2 金属化フィルム 3 二分割受光素子 4 遮光板 4a スリット 5 点状欠陥 7 電流電圧変換器 8 差動AC増幅器 9 DC増幅器 10,11 比較器 12、13 電流電圧変換器 14 コンデンサ a,b 測定領域 1 high frequency fluorescent lamp 2 metallized film 3 bisected light-receiving element 4 shading plate 4a slit 5 points defects 7 current-voltage converter 8 differential AC amplifier 9 DC amplifier 10, 11 comparators 12, 13 current-voltage converter 14 capacitor a , b measurement area

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭54−158987(JP,A) 特開 平4−168638(JP,A) 特開 平1−197639(JP,A) 実公 昭48−7105(JP,Y1) (58)調査した分野(Int.Cl. 7 ,DB名) G01N 21/892 G01N 21/894 H01G 4/18 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (56) reference Patent Sho 54-158987 (JP, a) JP flat 4-168638 (JP, a) JP flat 1-197639 (JP, a) the actual public Akira 48- 7105 (JP, Y1) (58 ) investigated the field (Int.Cl. 7, DB name) G01N 21/892 G01N 21/894 H01G 4/18

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】 (57) [the claims]
  1. 【請求項1】 金属化フィルムのシート面の片側に高周波蛍光灯を配置し、これと対応する他方側に幅方向のスリットを有する遮光板および流れ方向に配列された2分割受光素子を配置し、上記高周波蛍光灯からの拡散光を金属化フィルムに照射して、この金属化フィルムの流れ方向の二つの測定領域からの透過した光を上記2分割受光素子で受光するようにし、この二つの受光素子からの信号A,Bからの和信号A+Bおよび差信号A−Bを演算して出力させ、 これら和信号、差信号の変化分をそれ 1. A high-frequency fluorescent lamps arranged on one side of the sheet surface of the metallized film, which as arranged the light receiving elements arranged in the light shielding plate and the flow direction with a corresponding other widthwise direction side slits , by irradiating the diffused light from the high frequency fluorescent lamp metallized film, the transmitted light from the two measurement areas in the flow direction of the metallized film so as to received by the light receiving device, of the two signal a from the light receiving element, the sum signal a + B and the difference signal a-B and calculates to output from B, these sum signals, the variation of the difference signal it
    ぞれあらかじめ設定された各設定値と比較し、設定値以 Compared with the set value set in advance, respectively, a set value or more
    上の変化分が入力された場合に欠陥であると検出し、これによりコンデンサ用金属化フィルムの金属蒸着部にお Detected to be a defective when variation above is input, thereby contact the metal deposition portion of the metallized film capacitor
    ける欠陥を検出するようにしたことを特徴とするコンデンサ用金属化フィルム欠陥検出方法。 Metallized film defect detection method for a capacitor, characterized in that to detect the kick defects.
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