JP3344525B2 - 薄膜太陽電池装置および薄膜太陽電池装置の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、機械的強度の弱い薄
膜太陽電池の機械的強度を上げるために、薄膜太陽電池
をガラス基板に貼り付けて製造した薄膜太陽電池装置お
よび薄膜太陽電池装置の製造方法である。

【０００２】

【従来の技術】図６は、従来の薄膜太陽電池をガラス基
板に貼り付ける方法を説明するための模式図である。図
６(a)において、１はガラス基板、２は透明樹脂であっ
て貫通穴３を表面に形成した薄膜太陽電池４をガラス基
板に貼り付ける。

【０００３】次に、同図(ａ)，(ｂ)に従って薄膜太陽電
池の貼り付け方法を説明する。まず、ガラス基板１上に
透明樹脂２を落滴した後に、透明樹脂２を介してガラス
基板に貫通穴３を有する薄膜太陽電池４を圧接して貼り
付ける。図６(b)はガラス基板１に貼り付けられた薄膜
太陽電池４を示している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従来の薄膜太陽電池を
用いた薄膜太陽電池装置の製造方法は、以上のように透
明樹脂を単にガラス基板に落すだけであるため、図６
（ａ）に示すように透明樹脂の膜厚には表面張力の関係
で均一性がない。

【０００５】そのため、薄膜太陽電池をガラス基板に貼
着した際、図６（ｂ）に示すように透明樹脂の薄い所で
は、ガラス基板１と薄膜太陽電池４の間に気泡８が発生
し、反対に透明樹脂の厚い所では、貫通穴３からの透明
樹脂がしみでてしみ出し９が存在する。

【０００６】このような気泡８やしみ出し９が存在した
状態で、薄膜太陽電池４の構造を完成するための後工程
を行った場合、例えば、ウエット処理により貫通穴３を
通して気泡８中に薬液が残って絶縁不良を起こしたり、
しみ出し９が存在した場合に貫通穴３上に電極を形成す
ると、電極と貫通穴３付近の薄膜太陽電池との間に接触
不良を起こす等の太陽電池の品質を低下させるという問
題点がある。

【０００７】この発明は上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、ガラス基板全面に均一の厚さで
透明樹脂を塗布して透明樹脂のしみ出しや、貼着面に気
泡が存在しない薄膜太陽電池装置および薄膜太陽電池装
置の製造方法を得ることを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係る薄
膜太陽電池装置の製造方法は、透明樹脂をガラス基板の
表面に落とした後に、前記ガラス基板をスピナーにより
回転させ、前記ガラス基板上の前記透明樹脂を遠心力に
より膜厚を均一にして前記ガラス基板上に広げて塗布す
る工程と、前記透明樹脂が塗布されたガラス基板上に、
複数の貫通穴が格子状に配列形成された薄膜太陽電池を
移動させて前記ガラス基板に位置合わせした後に接着す
る工程と、前記ガラス基板に貼り付けられた前記薄膜太
陽電池を所定の真空中に所定の時間放置して前記ガラス
基板と前記薄膜太陽電池の間の気泡を抜く工程と、前記
ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池を所定の温
度で所定の時間だけ熱処理して前記透明樹脂を硬化させ
る工程とを含み、前記塗布された透明樹脂は、総体積が
前記複数の貫通穴の総体積を越えない膜厚である。

【０００９】請求項２の発明に係る薄膜太陽電池装置の
製造方法は、透明樹脂をガラス基板の表面に落とした後
に、前記ガラス基板をローラの間に通し、前記透明樹脂
の膜 厚を均一にして前記ガラス基板上に印刷により均一
に塗布する工程と、前記透明樹脂が塗布されたガラス基
板上に、複数の貫通穴が格子状に配列形成された薄膜太
陽電池を移動させて前記ガラス基板に位置合わせした後
に接着する工程と、前記ガラス基板に貼り付けられた前
記薄膜太陽電池を所定の真空中に所定の時間放置して前
記ガラス基板と前記薄膜太陽電池の間の気泡を抜く工程
と、前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池を
所定の温度で所定の時間だけ熱処理して前記透明樹脂を
硬化させる工程とを含み、前記塗布された透明樹脂は、
総体積が前記複数の貫通穴の総体積を越えない膜厚であ
る。

【００１０】請求項３の発明に係る薄膜太陽電池装置の
製造方法は、請求項１または２に記載の薄膜太陽電池装
置の製造方法において、前記薄膜太陽電池に貫通させた
貫通穴の断面形状を台形とし、前記貫通穴の開口面積の
小さい面を前記ガラス基板との接着面とする。

【００１１】請求項４の発明に係る薄膜太陽電池装置の
製造方法は、請求項３に記載の薄膜太陽電池装置の製造
方法において、前記薄膜太陽電池の接着面もしくは前記
ガラス基板の接着面のいずれか一方をピラミッド構造の
凹凸形状にし、前記塗布される透明樹脂の総体積は、前
記ピラミッド構造を前記透明樹脂で埋める体積以上、前
記ピラミッド構造を前記透明樹脂で埋める体積と前記複
数の貫通穴の総体積の和以下である。

【００１２】請求項５の発明に係る薄膜太陽電池装置の
製造方法は、複数の貫通穴が格子状に配列形成された薄
膜太陽電池にピラミッド構造の凹凸形状が形成された面
にフォトレジストを塗布する工程と、前記薄膜太陽電池
のフォトレジストが塗布された面とは逆の面よりフォト
レジスタを感光させ、現像、熱硬化させて、前記貫通穴
を硬化されたフォトレジストにより埋める工程と、ガラ
ス基板上の透明樹脂の膜厚を均一にして前記ガラス基板
上に広げて塗布する工程と、前記透明樹脂が塗布された
ガラス基板上に、前記薄膜太陽電池を移動させて前記貫
通穴が硬化されたフォトレジストにより埋められた面を
前記ガラス基板に位置合わせした後に接 着する工程と、
前記ガラス基板に貼り付けられた前記薄膜太陽電池を所
定の真空中に所定の時間放置して前記ガラス基板と前記
薄膜太陽電池の間の気泡を抜く工程と、前記ガラス基板
上に接着された前記薄膜太陽電池を所定の温度で所定の
時間だけ熱処理して前記透明樹脂を硬化させる工程とを
含むものである。

【００１３】請求項６の発明に係る薄膜太陽電池装置の
製造方法は、請求項１ないし５のいずれかに記載の薄膜
太陽電池装置の製造方法において、前記薄膜太陽電池の
密度が前記透明樹脂の密度より低いものである。

【００１４】請求項７の発明に係る薄膜太陽電池装置
は、ガラス基板と、複数の貫通穴が格子状に配列形成さ
れ、貫通させた貫通穴の断面形状が台形である薄膜太陽
電池と、前記ガラス基板上に膜厚を均一にして塗布さ
れ、総体積が前記複数の貫通穴の総体積を越えない膜厚
であり、前記ガラス基板と前記薄膜太陽電池の貫通穴の
開口面積の小さい面を接着する透明樹脂とを備え、前記
ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池を所定の真
空中に所定の時間放置して前記ガラス基板と前記薄膜太
陽電池の間の気泡が抜かれ、前記ガラス基板上に接着さ
れた前記薄膜太陽電池を所定の温度で所定の時間熱処理
して前記透明樹脂が硬化させられたものである。

【００１５】請求項８の発明に係る薄膜太陽電池装置
は、請求項７に記載の薄膜太陽電池装置において、前記
薄膜太陽電池の接着面もしくは前記ガラス基板の接着面
のいずれか一方がピラミッド構造の凹凸形状であり、前
記塗布される透明樹脂の総体積は、前記ピラミッド構造
を前記透明樹脂で埋める体積以上、前記ピラミッド構造
を前記透明樹脂で埋める体積と前記複数の貫通穴の総体
積の和以下である。

【００１６】請求項９の発明に係る薄膜太陽電池装置
は、ガラス基板と、複数の貫通穴が格子状に配列形成さ
れ、貫通させた貫通穴の断面形状が台形であり、ピラミ
ッド構造の凹凸形状が形成された面にフォトレジストが
塗布されて前記貫通穴の開口面積の小さい面が硬化され
たフォトレジストにより埋められた薄膜太陽電池と、前
記ガラス基板上に膜厚を均一にして塗布され、前記ガラ
ス基板と前記薄膜太陽電池の貫通穴の開口面積の小さい
面が硬化されたフォトレジストにより埋められた面を接
着する透明樹脂とを備え、前記ガラス基板上に接着され
た前記薄膜太陽電池を所定の真空中に所定の時間放置し
て前記ガラス基板と前記薄膜太陽電池の間の気泡が抜か
れ、前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池を
所定の温度で所定の時間熱処理して前記透明樹脂が硬化
させられたものである。

【００１７】請求項１０の発明に係る薄膜太陽電池装置
は、請求項７ないし９のいずれかに記載の薄膜太陽電池
装置において、前記薄膜太陽電池の密度が前記透明樹脂
の密度より低い。

【００１８】

【００１９】

【００２０】

【００２１】

【作用】請求項１の発明における薄膜太陽電池装置の製
造方法は、透明樹脂をガラス基板の表面に落とした後
に、前記ガラス基板をスピナーにより回転させ、前記ガ
ラス基板上の前記透明樹脂を遠心力により膜厚を均一に
して前記ガラス基板上に広げて塗布する工程と、前記透
明樹脂が塗布されたガラス基板上に、複数の貫通穴が格
子状に配列形成された薄膜太陽電池を移動させて前記ガ
ラス基板に位置合わせした後に接着する工程と、前記ガ
ラス基板に貼り付けられた前記薄膜太陽電池を所定の真
空中に所定の時間放置して前記ガラス基板と前記薄膜太
陽電池の間の気泡を抜く工程と、前記ガラス基板上に接
着された前記薄膜太陽電池を所定の温度で所定の時間だ
け熱処理して前記透明樹脂を硬化させる工程とを含み、
前記塗布された透明樹脂は、総体積が前記複数の貫通穴
の総体積を越えない膜厚であるため、基板と薄膜太陽電
池を接着した際に、接着部に気泡が溜まったり接着剤が
外部にしみ出ることはない。

【００２２】請求項２の発明における薄膜太陽電池装置
の製造方法は、透明樹脂をガラス基 板の表面に落とした
後に、前記ガラス基板をローラの間に通し、前記透明樹
脂の膜厚を均一にして前記ガラス基板上に印刷により均
一に塗布する工程と、前記透明樹脂が塗布されたガラス
基板上に、複数の貫通穴が格子状に配列形成された薄膜
太陽電池を移動させて前記ガラス基板に位置合わせした
後に接着する工程と、前記ガラス基板に貼り付けられた
前記薄膜太陽電池を所定の真空中に所定の時間放置して
前記ガラス基板と前記薄膜太陽電池の間の気泡を抜く工
程と、前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池
を所定の温度で所定の時間だけ熱処理して前記透明樹脂
を硬化させる工程とを含み、前記塗布された透明樹脂
は、総体積が前記複数の貫通穴の総体積を越えない膜厚
であるため、基板と薄膜太陽電池を接着した際に、接着
部に気泡が溜まったり接着剤が外部にしみ出ることはな
い。

【００２３】請求項３の発明における薄膜太陽電池装置
の製造方法は、前記薄膜太陽電池に貫通させた貫通穴の
断面形状を台形とし、前記貫通穴の開口面積の小さい面
を前記ガラス基板との接着面とするため、貫通穴に入射
する光の内、貫通穴の内壁に入射した成分は反射されて
再び向かいの内壁に当たるため有効に光が吸収され、薄
膜太陽電池の後処理で貫通穴に溜まった薬液の除去が容
易になる。

【００２４】請求項４の発明における薄膜太陽電池装置
の製造方法は、前記薄膜太陽電池の接着面もしくは前記
ガラス基板の接着面のいずれか一方をピラミッド構造の
凹凸形状にし、前記塗布される透明樹脂の総体積は、前
記ピラミッド構造を前記透明樹脂で埋める体積以上、前
記ピラミッド構造を前記透明樹脂で埋める体積と前記複
数の貫通穴の総体積の和以下であるため、貫通穴より液
状接着材がしみ出すことがない。

【００２５】請求項５の発明に係る薄膜太陽電池装置の
製造方法は、複数の貫通穴が格子状に配列形成された薄
膜太陽電池にピラミッド構造の凹凸形状が形成された面
にフォトレジストを塗布する工程と、前記薄膜太陽電池
のフォトレジストが塗布された面とは逆の面よりフォト
レジスタを感光させ、現像、熱硬化させて、前記貫通穴
を硬化されたフォトレジストにより埋める工程と、ガラ
ス基板上の透明樹脂の 膜厚を均一にして前記ガラス基板
上に広げて塗布する工程と、前記透明樹脂が塗布された
ガラス基板上に、前記薄膜太陽電池を移動させて前記貫
通穴が硬化されたフォトレジストにより埋められた面を
前記ガラス基板に位置合わせした後に接着する工程と、
前記ガラス基板に貼り付けられた前記薄膜太陽電池を所
定の真空中に所定の時間放置して前記ガラス基板と前記
薄膜太陽電池の間の気泡を抜く工程と、前記ガラス基板
上に接着された前記薄膜太陽電池を所定の温度で所定の
時間だけ熱処理して前記透明樹脂を硬化させる工程とを
含むため、貫通穴より薄膜太陽電池表面への液状接着剤
のしみ出しが容易に阻止できる。

【００２６】請求項６の発明における薄膜太陽電池装置
の製造方法は、前記薄膜太陽電池の密度が前記透明樹脂
の密度より低いため、薄膜太陽電池が液状接着剤に沈む
ことがないため液状接着剤のしみ出しを阻止できる。

【００２７】請求項７の発明における薄膜太陽電池装置
は、ガラス基板と、複数の貫通穴が格子状に配列形成さ
れ、貫通させた貫通穴の断面形状が台形である薄膜太陽
電池と、前記ガラス基板上に膜厚を均一にして塗布さ
れ、総体積が前記複数の貫通穴の総体積を越えない膜厚
であり、前記ガラス基板と前記薄膜太陽電池の貫通穴の
開口面積の小さい面を接着する透明樹脂とを備え、前記
ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池を所定の真
空中に所定の時間放置して前記ガラス基板と前記薄膜太
陽電池の間の気泡が抜かれ、前記ガラス基板上に接着さ
れた前記薄膜太陽電池を所定の温度で所定の時間熱処理
して前記透明樹脂が硬化させられたもので、薄膜太陽電
池の接着時に貫通穴より液状接着材がしみ出すことがな
い。

【００２８】請求項８の発明における薄膜太陽電池装置
は、前記薄膜太陽電池の接着面もしくは前記ガラス基板
の接着面のいずれか一方がピラミッド構造の凹凸形状で
あり、前記塗布される透明樹脂の総体積は、前記ピラミ
ッド構造を前記透明樹脂で埋める体積以上、前記ピラミ
ッド構造を前記透明樹脂で埋める体積と前記複数の貫通
穴の総体積の和以下であるため、薄膜太陽電池の接着時
に貫通穴より液状接着材がしみ出すことがない。

【００２９】請求項９の発明における薄膜太陽電池装置
は、ガラス基板と、複数の貫通穴が格子状に配列形成さ
れ、貫通させた貫通穴の断面形状が台形であり、ピラミ
ッド構造の凹凸形状が形成された面にフォトレジストが
塗布されて前記貫通穴の開口面積の小さい面が硬化され
たフォトレジストにより埋められた薄膜太陽電池と、前
記ガラス基板上に膜厚を均一にして塗布され、前記ガラ
ス基板と前記薄膜太陽電池の貫通穴の開口面積の小さい
面が硬化されたフォトレジストにより埋められた面を接
着する透明樹脂とを備え、前記ガラス基板上に接着され
た前記薄膜太陽電池を所定の真空中に所定の時間放置し
て前記ガラス基板と前記薄膜太陽電池の間の気泡が抜か
れ、前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池を
所定の温度で所定の時間熱処理して前記透明樹脂が硬化
させられたため、貫通穴より薄膜太陽電池表面への液状
接着剤のしみ出しが容易に阻止できる。

【００３０】請求項１０の発明における薄膜太陽電池装
置は、前記薄膜太陽電池の密度が前記透明樹脂の密度よ
り低いため、薄膜太陽電池が液状接着剤に沈むことがな
いため液状接着剤のしみ出しを阻止できる。

【００３１】

【００３２】

【００３３】

【００３４】

【実施例】実施例１． 以下、この発明の一実施例を図について説明する。図１
は本実施例にかかる薄膜太陽電池装置の製造方法を説明
する模式図である。図において、１はガラス基板で、例
えばコ−ニング7059ガラス、２は透明樹脂、４は貫通穴
３が表面に形成された薄膜太陽電池を示している。ここ
で、透明樹脂２はガラス基板１と薄膜太陽電池４とを接
着するための接着材で、例えば、２液タイプの熱硬化型
シリコ−ン系の透明樹脂を使用する。

【００３５】また。貫通穴３は、薄膜太陽電池４を図示
しない耐熱基板より分離する際に、沸化水素酸が薄膜太
陽電池４と耐熱基板間の剥離層に達して溶解し除去させ
るために、薄膜太陽電池の表面に例えば格子状に配列さ
れている。その形状は、例えば異方性エッチングにより
四角錐の先端をとった形をしている。

【００３６】次に、製造方法を図１の(ａ)〜(ｄ)に従っ
て説明する。まず２液の樹脂を常温で混合させる。この
時、透明樹脂２の粘度は10〜20ポイズとなる。そして、
透明樹脂２を図１の(ａ)のようにガラス基板１の表面に
落とした後に、ガラス基板１をスピナー（図示せず）に
より回転させ、ガラス基板１上の透明樹脂２を遠心力に
より膜厚を均一にしてガラス基板１上に広げて塗布す
る。

【００３７】または、透明樹脂２を落としたガラス基板
１を例えばローラ（図示しない）の間に通し、透明樹脂
の膜厚を均一にしてガラス基板１上に印刷により均一に
塗布する。この時、塗布された透明樹脂２は、透明樹脂
２の総体積が貫通穴３の総体積を越えないような膜厚を
塗布する。

【００３８】例えば貫通穴３のピッチ、形状が、図２
(ａ)の上面図、同図示（ｂ)の断面図に示されているよ
うに、貫通穴の開口部ａ=240μm、底部ｂ=100μm、ピッ
チｃ=1.5mm、薄膜太陽電池１の厚みｈ=100μm、貫通穴
３の形成角度ｘ=55°の場合、塗布される透明樹脂２の
膜厚tは1.35μm以下にする。

【００３９】上記で規定された膜厚の透明樹脂２が塗布
されたガラス基板１上に、例えば治具により真空吸着さ
れた薄膜太陽電池４を移動させる（図１(ｃ)）。この
時、同図)に示すように貫通穴３の開口面積の小さい面
をガラス基板１との接着面にする。また、図１(ｄ)のよ
うに貫通穴３の開口面積の大きい面をガラス基板１との
接着面にも良い。

【００４０】しかし、図１(ｄ)の向きに薄膜太陽電池４
を貼り付けた場合、実験的に図６(ｂ)に示したしみ出し
９が大きく、かつ貫通穴３の中にウエット処理により薬
液が溜まり易いという問題がある。そのため、図１(ｃ)
の向きに薄膜太陽電池４を貼り付けることが望ましい。
この薄膜太陽電池４をガラス基板１に位置合わせした後
に接着させる。最後に、このようにガラス基板１上に接
着された薄膜太陽電池４を例えば温度１５０℃のオ−ブ
ン等により３０ｍｉｎの間熱処理し、透明樹脂２を硬化
させる。

【００４１】実施例２． 実施例１においては、ガラス基板１と薄膜太陽電池４と
を単に貼り付けただけであったが、貼り付け後、硬化前
にガラス基板１に貼り付けられた薄膜太陽電池４を0.1T
orr程度の真空中に約１時間放置し、図６(b)に示した気
泡８を抜いてから透明樹脂２を硬化させても良い。

【００４２】実施例３． 実施例１においては、ガラス基板１と薄膜太陽電池４と
の貼り付け面はフラットであったが、図３に示すように
薄膜太陽電池４の表面がピラミッド構造５のような凹凸
をしていた方が気泡が抜け易い。もちろん、ガラス基板
１に凹凸があっても構わない。尚、この時、塗布される
透明樹脂２の総体積は、ピラミッド構造５を透明樹脂２
で埋める体積以上、ピラミッド構造５を透明樹脂２で埋
める体積と貫通穴３の総体積の和以下にしておく必要が
ある。

【００４３】実施例１と同様の貫通穴３の形状で、ピラ
ミッド構造５の高さが例えば4μmの場合、塗布される透
明樹脂２の膜厚は2.7μm以上、3.5μm以下である。以上
のように、貼り付けられた薄膜太陽電池４の図６(b)に
示した気泡率（気泡面積/薄膜太陽電池面積）としみ出
し率（しみ出しのある貫通穴数/全貫通穴数）の透明樹
脂２の塗布膜厚依存性を図４に示す。

【００４４】実施例４． 実施例１においては、透明樹脂２の塗布膜厚を制御する
ことにより貫通穴３からの図６に示した気泡８、しみ出
し９を制御したが、実施例４では、貫通穴３を例えば、
フォトレジストで埋めることにより貫通穴３からの気泡
８、しみ出し９を防いでも良い。

【００４５】以下、この防止方法を図５に従って詳細を
記述する。図において、１はガラス基板、２は透明樹
脂、３は貫通穴、４は薄膜太陽電池、５はピラミッド構
造、６は塗布されたフォトレジスト、７は硬化されたフ
ォトレジストを示している。

【００４６】先ず、図５(ａ)に示すように薄膜太陽電池
４のピラミッド構造５が形成された面にフォトレジスト
６を塗布する。次に、フォトレジストが塗布された面と
は逆の面よりフォトレジスタ６を感光させ、現像、熱硬
化させる。これらの処理を繰り返すことで、図５(ｂ)の
ように貫通穴３を硬化されたフォトレジスト７により埋
めることができる。これを以下、実施例１〜３と同様の
方法により薄膜太陽電池４をガラス基板１に貼り付ける
（図５(ｃ)）。

【００４７】実施例５． 実施例１〜４においては、特に接着時におけるガラス基
板１と薄膜太陽電池４の位置関係を規定しなかったが、
薄膜太陽電池４をガラス基板１の上にすることで、図６
(ｂ)に示したしみ出し９を少なくすることできる。

【００４８】実施例６． 実施例５においては、特に透明樹脂２と薄膜太陽電池４
の材料の密度を規定しなかったが、薄膜太陽電池４の密
度を透明樹脂２の密度より低くしておく方が良い。これ
により、薄膜太陽電池４が透明樹脂２に沈むことがない
ので、図６（ｂ）に示したしみ出しを抑さえることがで
きる。

【００４９】実施例７． 実施例１〜６においては、特に薄膜太陽電池４の材料を
規定しなかったが、その材料は主にシリコンが使用され
ている。そのシリコンは、熱処理によりその結晶粒を粒
径拡大させたものが使用され、その中で特に有効な熱処
理の方法としては、帯域溶融再結晶化法（Zone-Melting
Recrystallization）が挙げられる。この手法により、
結晶粒径が数mm以上で膜厚数μmからの多結晶シリコン
を形成することができるため、帯域溶融再結晶化法は、
本実施例における薄膜太陽電池４の代表的な形成方法で
ある。

【００５０】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、透明樹脂をガ
ラス基板の表面に落とした後に、前記ガラス基板をスピ
ナーにより回転させ、前記ガラス基板上の前記透明樹脂
を遠心力により膜厚を均一にして前記ガラス基板上に広
げて塗布する工程と、前記透明樹脂が塗布されたガラス
基板上に、複数の貫通穴が格子状に配列形成された薄膜
太陽電池を移動させて前記ガラス基板に位置合わせした
後に接着する工程と、前記ガラス基板に貼り付けられた
前記薄膜太陽電池を所定の真空中に所定の時間放置して
前記ガラス基板と前記薄膜太陽電池の間の気泡を抜く工
程と、前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池
を所定の温度で所定の時間だけ熱処理して前記透明樹脂
を硬化させる工程とを含み、前記塗布された透明樹脂
は、総体積が前記複数の貫通穴の総体積を越えない膜厚
であるため、高品質で機械的強度の高い薄膜太陽電池装
置を得ることができるという効果がある。

【００５１】請求項２の発明によれば、透明樹脂をガラ
ス基板の表面に落とした後に、前記ガラス基板をローラ
の間に通し、前記透明樹脂の膜厚を均一にして前記ガラ
ス基板上に印刷により均一に塗布する工程と、前記透明
樹脂が塗布されたガラス基板上に、複数の貫通穴が格子
状に配列形成された薄膜太陽電池を移動させて前記ガラ
ス基板に位置合わせした後に接着する工程と、前記ガラ
ス基板に貼り付けられた前記薄膜太陽電池を所定の真空
中に所定の時間放置して前記ガラス基板と前記薄膜太陽
電池の間の気泡を抜く工程と、前記ガラス基板上に接着
された前記薄膜太陽電池を所定の温度で所定の時間だけ
熱処理して前記透明樹脂を硬化させる工程とを含み、前
記塗布された透明樹脂は、総体積が前記複数の貫通穴の
総体積を越えない膜厚であるため、高品質で機械的強度
の高い薄膜太陽電池装置を得ることができるという効果
がある。

【００５２】請求項３の発明によれば、前記薄膜太陽電
池に貫通させた貫通穴の断面形状を台形とし、前記貫通
穴の開口面積の小さい面を前記ガラス基板との接着面と
するため、高品質の薄膜太陽電池装置を得ることができ
るという効果がある。

【００５３】請求項４の発明によれば、前記薄膜太陽電
池の接着面もしくは前記ガラス基板の接着面のいずれか
一方をピラミッド構造の凹凸形状にし、前記塗布される
透明樹脂の総体積は、前記ピラミッド構造を前記透明樹
脂で埋める体積以上、前記ピラミッド構造を前記透明樹
脂で埋める体積と前記複数の貫通穴の総体積の和以下で
あるため、薄膜太陽電池の電極形成面の汚染を抑制でき
るという効果がある。

【００５４】請求項５の発明によれば、複数の貫通穴が
格子状に配列形成された薄膜太陽電池にピラミッド構造
の凹凸形状が形成された面にフォトレジストを塗布する
工程と、前記薄膜太陽電池のフォトレジストが塗布され
た面とは逆の面よりフォトレジスタを感光させ、現像、
熱硬化させて、前記貫通穴を硬化されたフォトレジスト
により埋める工程と、ガラス基板上の透明樹脂の膜厚を
均一にして前記ガラス基板上に広げて塗布する工程と、
前記透明樹脂が塗布されたガラス基板上に、前記薄膜太
陽電池を移動させて前記貫通穴が硬化されたフォトレジ
ストにより埋められた面を前記ガラス基板に位置合わせ
した後に接着する工程と、前記ガラス基板に貼り付けら
れた前記薄膜太陽電池を所定の真空中に所定の時間放置
して前記ガラス基板と前記薄膜太陽電池の間の気泡を抜
く工程と、前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽
電池を所定の温度で所定の時間だけ熱処理して前記透明
樹脂を硬化させる工程とを含むため、貫通穴より薄膜太
陽電池表面への液状接着剤のしみ出しを容易に阻止でき
るという効果がある。

【００５５】請求項６の発明によれば、前記薄膜太陽電
池の密度が前記透明樹脂の密度より低いため、薄膜太陽
電池が液状接着剤に沈むことがないため液状接着剤のし
み出しを阻止できるという効果がある。

【００５６】請求項７の発明によれば、ガラス基板と、
複数の貫通穴が格子状に配列形成され、貫通させた貫通
穴の断面形状が台形である薄膜太陽電池と、前記ガラス
基板上に膜厚を均一にして塗布され、総体積が前記複数
の貫通穴の総体積を越えない膜厚であり、前記ガラス基
板と前記薄膜太陽電池の貫通穴の開口面積の小さい面を
接着する透明樹脂とを備え、前記ガラス基板上に接着さ
れた前記薄膜太陽電池を所定の真空中に所定の時間放置
して前記ガラス基板と前記薄膜太陽電池の間の気泡が抜
かれ、前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池
を所定の温度で所定の時間熱処理して前記透明樹脂が硬
化させられたので、薄膜太陽電池の電極形成面の汚染を
抑制できるという効果がある。

【００５７】請求項８の発明によれば、前記薄膜太陽電
池の接着面もしくは前記ガラス基板の接着面のいずれか
一方がピラミッド構造の凹凸形状であり、前記塗布され
る透明樹脂の総体積は、前記ピラミッド構造を前記透明
樹脂で埋める体積以上、前記ピラミッド構造を前記透明
樹脂で埋める体積と前記複数の貫通穴の総体積の和以下
であるため、薄膜太陽電池の電極形成面の汚染を抑制で
きるという効果がある。

【００５８】請求項９の発明によれば、ガラス基板と、
複数の貫通穴が格子状に配列形成され、貫通させた貫通
穴の断面形状が台形であり、ピラミッド構造の凹凸形状
が形成された面にフォトレジストが塗布されて前記貫通
穴の開口面積の小さい面が硬化されたフォトレジストに
より埋められた薄膜太陽電池と、前記ガラス基板上に膜
厚を均一にして塗布され、前記ガラス基板と前記薄膜太
陽電池の貫通穴の開口面積の小さい面が硬化されたフォ
トレジストにより埋められた面を接着する透明樹脂とを
備え、前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池
を所定の真空中に所定の時間放置して前記ガラス基板と
前記薄膜太陽電池の間の気泡が抜かれ、前記ガラス基板
上に接着された前記薄膜太陽電池を所定の温度で所定の
時間熱処理して前記透明樹脂が硬化させられたため、貫
通穴より薄膜太陽電池表面への液状接着剤のしみ出しが
容易に阻止できるという効果がある。

【００５９】請求項１０の発明によれば、前記薄膜太陽
電池の密度が前記透明樹脂の密度より低いため、薄膜太
陽電池が液状接着剤に沈むことがないため液状接着剤の
しみ出しを阻止できるという効果がある。

【００６０】

【００６１】

【００６２】

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施例による薄膜太陽電池の
貼り付け方法を説明する模式図と貼り付け後の断面構造
図である。

【図２】 本発明の第１の実施例による薄膜太陽電池の
貫通穴の形状図である。

【図３】 本発明の第３の実施例によるピラミッド構造
を有する薄膜太陽電池の断面構造図である。

【図４】 本発明の第３の実施例による薄膜太陽電池の
気泡、しみ出しと透明樹脂の塗布膜厚の関係図である。

【図５】 本発明の第４の実施例による薄膜太陽電池貼
り付け方法を説明する模式図と貼り付け後の断面構造図
である。

【図６】 従来の薄膜太陽電池の貼り付け方法の一例を
示すための模式図である。

【符号の説明】

１ ガラス基板、２ 透明樹脂、３ 薄膜太陽電池、４ 貫
通穴、５ ピラミッド構造の凹凸部、６ 塗布されたフォ
トレジスト、７ 硬化されたフォトレジスト、８薄膜太
陽電池とガラス基板との間にできた気泡、９ 貫通穴か
らしみ出した透明樹脂。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−223378（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−33931（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−275503（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−209645（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 31/04 - 31/078

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明樹脂をガラス基板の表面に落とした
   後に、前記ガラス基板をスピナーにより回転させ、前記
   ガラス基板上の前記透明樹脂を遠心力により膜厚を均一
   にして前記ガラス基板上に広げて塗布する工程と、 前記透明樹脂が塗布されたガラス基板上に、複数の貫通
   穴が格子状に配列形成された薄膜太陽電池を移動させて
   前記ガラス基板に位置合わせした後に接着する工程と、 前記ガラス基板に貼り付けられた前記薄膜太陽電池を所
   定の真空中に所定の時間放置して前記ガラス基板と前記
   薄膜太陽電池の間の気泡を抜く工程と、 前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池を所定
   の温度で所定の時間だけ熱処理して前記透明樹脂を硬化
   させる工程と を含み、 前記塗布された透明樹脂は、総体積が前記複数の貫通穴
   の総体積を越えない膜厚である ことを特徴とする薄膜太
   陽電池装置の製造方法。
2. 【請求項２】 透明樹脂をガラス基板の表面に落とした
   後に、前記ガラス基板をローラの間に通し、前記透明樹
   脂の膜厚を均一にして前記ガラス基板上に印刷により均
   一に塗布する工程と、 前記透明樹脂が塗布されたガラス基板上に、複数の貫通
   穴が格子状に配列形成された薄膜太陽電池を移動させて
   前記ガラス基板に位置合わせした後に接着する工程と、 前記ガラス基板に貼り付けられた前記薄膜太陽電池を所
   定の真空中に所定の時間放置して前記ガラス基板と前記
   薄膜太陽電池の間の気泡を抜く工程と、 前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池を所定
   の温度で所定の時間だけ熱処理して前記透明樹脂を硬化
   させる工程と を含み、 前記塗布された透明樹脂は、総体積が前記複数の貫通穴
   の総体積を越えない膜 厚である ことを特徴とする薄膜太
   陽電池装置の製造方法。
3. 【請求項３】 前記薄膜太陽電池に貫通させた貫通穴の
   断面形状を台形とし、 前記貫通穴の開口面積の小さい面を前記ガラス基板との
   接着面とする ことを特徴とする請求項１または２に記載
   の薄膜太陽電池装置の製造方法。
4. 【請求項４】 前記薄膜太陽電池の接着面もしくは前記
   ガラス基板の接着面のいずれか一方をピラミッド構造の
   凹凸形状にし、 前記塗布される透明樹脂の総体積は、前記ピラミッド構
   造を前記透明樹脂で埋める体積以上、前記ピラミッド構
   造を前記透明樹脂で埋める体積と前記複数の貫通穴の総
   体積の和以下である ことを特徴とする請求項３に記載の
   薄膜太陽電池装置の製造方法。
5. 【請求項５】 複数の貫通穴が格子状に配列形成された
   薄膜太陽電池にピラミッド構造の凹凸形状が形成された
   面にフォトレジストを塗布する工程と、 前記薄膜太陽電池のフォトレジストが塗布された面とは
   逆の面よりフォトレジスタを感光させ、現像、熱硬化さ
   せて、前記貫通穴を硬化されたフォトレジストにより埋
   める工程と、 ガラス基板上の透明樹脂の膜厚を均一にして前記ガラス
   基板上に広げて塗布する工程と、 前記透明樹脂が塗布されたガラス基板上に、前記薄膜太
   陽電池を移動させて前記貫通穴が硬化されたフォトレジ
   ストにより埋められた面を前記ガラス基板に位置合わせ
   した後に接着する工程と、 前記ガラス基板に貼り付けられた前記薄膜太陽電池を所
   定の真空中に所定の時間放置して前記ガラス基板と前記
   薄膜太陽電池の間の気泡を抜く工程と、 前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池を所定
   の温度で所定の時間だけ熱処理して前記透明樹脂を硬化
   させる工程と を含むことを特徴とする薄膜太陽電池装置
   の製造方法。
6. 【請求項６】 前記薄膜太陽電池の密度が前記透明樹脂
   の密度より低いことを特徴とする請求項１ないし５のい
   ずれかに記載の薄膜太陽電池装置の製 造方法。
7. 【請求項７】 ガラス基板と、 複数の貫通穴が格子状に配列形成され、貫通させた貫通
   穴の断面形状が台形である薄膜太陽電池と、 前記ガラス基板上に膜厚を均一にして塗布され、総体積
   が前記複数の貫通穴の総体積を越えない膜厚であり、前
   記ガラス基板と前記薄膜太陽電池の貫通穴の開口面積の
   小さい面を接着する透明樹脂と を備え、 前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池を所定
   の真空中に所定の時間放置して前記ガラス基板と前記薄
   膜太陽電池の間の気泡が抜かれ、 前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池を所定
   の温度で所定の時間熱処理して前記透明樹脂が硬化させ
   られた ことを特徴とする薄膜太陽電池装置。
8. 【請求項８】 前記薄膜太陽電池の接着面もしくは前記
   ガラス基板の接着面のいずれか一方がピラミッド構造の
   凹凸形状であり、 前記塗布される透明樹脂の総体積は、前記ピラミッド構
   造を前記透明樹脂で埋める体積以上、前記ピラミッド構
   造を前記透明樹脂で埋める体積と前記複数の貫通穴の総
   体積の和以下である ことを特徴とする請求項７に記載の
   薄膜太陽電池装置。
9. 【請求項９】 ガラス基板と、 複数の貫通穴が格子状に配列形成され、貫通させた貫通
   穴の断面形状が台形であり、ピラミッド構造の凹凸形状
   が形成された面にフォトレジストが塗布されて前記貫通
   穴の開口面積の小さい面が硬化されたフォトレジストに
   より埋められた薄膜太陽電池と、 前記ガラス基板上に膜厚を均一にして塗布され、前記ガ
   ラス基板と前記薄膜太陽電池の貫通穴の開口面積の小さ
   い面が硬化されたフォトレジストにより埋められた面を
   接着する透明樹脂と を備え、 前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池を所定
   の真空中に所定の時間 放置して前記ガラス基板と前記薄
   膜太陽電池の間の気泡が抜かれ、 前記ガラス基板上に接着された前記薄膜太陽電池を所定
   の温度で所定の時間熱処理して前記透明樹脂が硬化させ
   られた ことを特徴とする薄膜太陽電池装置。
10. 【請求項１０】 前記薄膜太陽電池の密度が前記透明樹
    脂の密度より低い ことを特徴とする請求項７ないし９の
    いずれかに記載の薄膜太陽電池装置。