JP3342537B2 - Spin processing device - Google Patents

Spin processing device

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JP3342537B2
JP3342537B2 JP16156893A JP16156893A JP3342537B2 JP 3342537 B2 JP3342537 B2 JP 3342537B2 JP 16156893 A JP16156893 A JP 16156893A JP 16156893 A JP16156893 A JP 16156893A JP 3342537 B2 JP3342537 B2 JP 3342537B2
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cup
substrate
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rotating
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久顕 宮迫
治道 広瀬
均 佐藤
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は回転テ−ブルによって
基板を回転させて処理するスピン処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spin processing apparatus for processing a substrate by rotating a substrate using a rotating table.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば液晶表示装置の製造過程におい
ては、ワ−クとしてのガラス製の基板に回路パタ−ンを
形成するための成膜プロセスやフォトプロセスがある。
これらのプロセスでは、上記基板の処理と洗浄とが繰り
返し行われる。洗浄された基板を乾燥させたり、基板に
レジストを均一に塗布するためには、上記基板を回転テ
−ブに保持し、この回転テ−ブルとともに回転させ、そ
れによって生じる遠心力を利用するようにしている。
2. Description of the Related Art For example, in a process of manufacturing a liquid crystal display device, there are a film forming process and a photo process for forming a circuit pattern on a glass substrate as a work.
In these processes, the processing of the substrate and the cleaning are repeatedly performed. In order to dry the washed substrate or apply the resist evenly on the substrate, the substrate is held on a rotating table, rotated with the rotating table, and the centrifugal force generated thereby is used. I have to.

【0003】図5に従来のスピン処理装置を示す。同図
中1はカップである。このカップ1は下カップ2aと上
カップ2bとから構成されている。上記下カップ2aは
上面が開放したお椀状に形成され、その底部中心部分に
は通孔3が形成され、上端縁には受けフランジ4が形成
されている。
FIG. 5 shows a conventional spin processing apparatus. In the figure, reference numeral 1 denotes a cup. The cup 1 includes a lower cup 2a and an upper cup 2b. The lower cup 2a is formed in a bowl shape with an open upper surface, a through hole 3 is formed at the center of the bottom, and a receiving flange 4 is formed at the upper edge.

【0004】上記上カップ2bは外周面が凸曲面をなし
たリング状に形成されていて、その外周面には取付け部
材5を介して連結フランジ6が設けられている。そし
て、上カップ2bはその連結フランジ6を上記受けフラ
ンジ4にパッキング7を介して接合させ、それらを複数
の蝶ナット8で結合することで一体化されている。
The upper cup 2b is formed in a ring shape with an outer peripheral surface having a convex curved surface, and a coupling flange 6 is provided on the outer peripheral surface via a mounting member 5. The upper cup 2b is integrated by joining the connecting flange 6 to the receiving flange 4 via a packing 7 and connecting them with a plurality of wing nuts 8.

【0005】上記下カップ2aに形成された通孔3から
そのカップ1の内部へはモ−タ9の駆動軸11が挿通さ
れている。この駆動軸11の上端には回転テ−ブル12
が取付けられている。この回転テ−ブル12の上面には
支持ピン13および支持ピン13よりも径方向外方にガ
イドピン14がそれぞれ周方向に所定間隔で突設されて
いる。上記支持ピン13は回転テ−ブル12の上面に供
給される基板15の下面を支持し、上記ガイドピン14
は上記基板15の外周面に係合してその基板15が回転
テ−ブル12上で動くのを阻止している。
A drive shaft 11 of a motor 9 is inserted from the through hole 3 formed in the lower cup 2a into the inside of the cup 1. A rotating table 12 is provided at the upper end of the drive shaft 11.
Is installed. On the upper surface of the rotary table 12, a support pin 13 and guide pins 14 project radially outward from the support pin 13 at predetermined intervals in the circumferential direction. The support pins 13 support the lower surface of the substrate 15 supplied to the upper surface of the rotary table 12, and the guide pins 14
Engages with the outer peripheral surface of the substrate 15 to prevent the substrate 15 from moving on the rotating table 12.

【0006】上記下カップ2aの底壁には複数の排水口
体17が設けられ、この排水口体17は図示しないタン
クに配管接続されている。また、下カップ2aの周壁に
は、上カップ2bの下端よりも上部に周方向に所定間隔
で複数の排気口体16が接続され、これらは図示しない
排気ポンプに配管接続されている。
A plurality of drainage ports 17 are provided on the bottom wall of the lower cup 2a, and the drainage ports 17 are connected to a tank (not shown) by piping. Further, a plurality of exhaust ports 16 are connected to the peripheral wall of the lower cup 2a at predetermined intervals in the circumferential direction above the lower end of the upper cup 2b, and these are connected to an exhaust pump (not shown) by piping.

【0007】このような構成のスピン処理装置によれ
ば、上記基板15を乾燥させたり、基板15に図示しな
い供給ノズルから滴下されたレジストを均一に分布させ
る場合などには、上記モ−タ9に通電し、その駆動軸1
1に取付けられた回転テ−ブル12を回転させる。
According to the spin processing apparatus having such a configuration, when the substrate 15 is dried or when the resist dropped from a supply nozzle (not shown) is uniformly distributed on the substrate 15, the motor 9 is used. To the drive shaft 1
Rotate the rotary table 12 attached to 1.

【0008】回転テ−ブル12を回転させて遠心力を発
生させれば、その遠心力によって基板15の上面に付着
した洗浄液を乾燥させたり、その上面に滴下させられた
レジストを均一に分布せるなどのことができる。
When the rotating table 12 is rotated to generate a centrifugal force, the centrifugal force causes the cleaning liquid adhered to the upper surface of the substrate 15 to be dried or the resist dropped on the upper surface to be uniformly distributed. And so on.

【0009】ところで、回転テ−ブル12を回転させる
と、その回転によって遠心力が発生するだけでなく、カ
ップ1内には回転テ−ブル12の回転にともない空気の
流れが生じることが避けられない。その空気流は図5に
矢印Aで示すように回転テ−ブル12の外周面から排気
口体16へ吸引される流れとなる。
When the rotary table 12 is rotated, the rotation not only generates a centrifugal force but also prevents the flow of air in the cup 1 due to the rotation of the rotary table 12. Absent. The air flow is drawn into the exhaust port 16 from the outer peripheral surface of the rotary table 12 as shown by an arrow A in FIG.

【0010】上記空気流Aが乱れのない状態であればよ
いのだが、その空気流Aは回転テ−ブル12の外周面か
ら下方へ向かって流れ、上カップ2bの下端を通ったの
ち、上方へ向かって流れ方向を変えて排気口体16から
流出するという、その経路が屈曲した状態にある。
It is only necessary that the air flow A be in a state without disturbance. The air flow A flows downward from the outer peripheral surface of the rotary table 12, passes through the lower end of the upper cup 2b, and then moves upward. The flow direction is changed toward the outlet port 16 and flows out of the exhaust port body 16, and the path is in a bent state.

【0011】そのため、回転テ−ブル11の回転によっ
て空気流Aが生じると、その空気流Aが排気口体16へ
円滑に流れずらいため、回転テ−ブル12の回転によっ
て生じる空気流Aの一部が同図に矢印Bで示すような空
気流となる。つまり、乱気流となる。乱気流Bの発生に
よって空気の一部が回転テ−ブ12上に保持された基板
15の上面に向かう流れとなるから、空気中に含まれた
微粒子が上記基板15の上面に付着しやすくなり、基板
15を汚染するということがある。
Therefore, when the air flow A is generated by the rotation of the rotary table 11, the air flow A does not easily flow to the exhaust port body 16, so that one of the air flows A generated by the rotation of the rotary table 12 is generated. The part has an air flow as shown by an arrow B in FIG. That is, the air becomes turbulent. Due to the generation of the turbulence B, a part of the air flows toward the upper surface of the substrate 15 held on the rotary table 12, so that the fine particles contained in the air easily adhere to the upper surface of the substrate 15, The substrate 15 may be contaminated.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来のス
ピン処理装置においては、回転テ−ブルを回転させるこ
とで発生する空気流の一部が乱気流となり、上記回転テ
−ブルの上面に保持された基板に向かう流れとなるか
ら、空気中に含まれた微粒子が上記基板に付着し易いと
いうことがあった。
As described above, in the conventional spin processing apparatus, a part of the air flow generated by rotating the rotary table becomes turbulent and is held on the upper surface of the rotary table. Therefore, the fine particles contained in the air may easily adhere to the substrate.

【0013】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、回転テ−ブルを回転させ
ることで空気流が生じても、その空気流が基板の上面に
向かう乱気流となって、基板に微粒子が付着し易いとい
うことがないようにしたスピン処理装置を提供すること
にある。
The present invention has been made based on the above circumstances, and an object of the present invention is that even if an air flow is generated by rotating a rotary table, the air flow becomes a turbulent air flow toward the upper surface of the substrate. It is another object of the present invention to provide a spin processing apparatus in which fine particles are not easily attached to a substrate.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明は、基板を回転させることで、この基板に所
定の処理を行うスピン処理装置において、カップと、こ
のカップの底部中心部から内部へ挿通され回転駆動され
る駆動軸と、この駆動軸の一端に連結されるとともに上
面に上記基板が保持される回転テ−ブルと、上記カップ
の内底部において上記回転テーブルよりも低い位置に設
けられ、導入口を有する整流板と、この整流板に設けら
れ、上記回転テ−ブルの回転によってこの回転方向に生
じる空気の流れを上記導入口に導入するガイド板と、
記カップの底部に設けられ上記ガイド板により上記導入
口に導入された空気をカップの外部へ排出する排出口
を具備したことを特徴とするスピン処理装置にある。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a spin processing apparatus for performing a predetermined process on a substrate by rotating the substrate. A drive shaft that is inserted into and driven to rotate, a rotary table connected to one end of the drive shaft and holding the substrate on the upper surface, and a lower portion of the inner bottom of the cup lower than the rotary table. Setting
Vignetting, the integer Nagareban having inlet et provided on the rectifying plate
The rotation of the rotary table causes the rotation in this direction.
A guide plate for introducing a flow of Jill air to the inlet, the introduction by the guide plate provided at the bottom of the cup
And a discharge port for discharging air introduced into the mouth to the outside of the cup.

【0015】[0015]

【作用】上記構成によれば、回転テ−ブルの回転によっ
て生じた空気流は整流板に形成された導入部に円滑に流
入するため、基板の上面に向かう乱気流の発生を防止
し、基板の上面に微粒子が付着しずらくなる。
According to the above construction, the air flow generated by the rotation of the rotary table smoothly flows into the introduction portion formed in the current plate, so that the generation of turbulent airflow toward the upper surface of the substrate is prevented, and Fine particles hardly adhere to the upper surface.

【0016】[0016]

【実施例】以下、この発明の一実施例を図1乃至図3を
参照して説明する。図1に示すスピン処理装置は、たと
えば液晶表示装置の基板や半導体ウエハなどの基板20
を乾燥させるためのもので、その装置はカップ21を備
えている。このカップ21は下カップ22a、上カップ
22bおよび内カップ22cから構成されている。下カ
ップ22aは上面が開放したお椀状をなしていて、その
上端縁にはシ−ルパッキング23が取着され、底壁中心
部には通孔24が形成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. The spin processing apparatus shown in FIG. 1 is, for example, a substrate of a liquid crystal display device or a substrate 20 such as a semiconductor wafer.
The apparatus is provided with a cup 21. The cup 21 includes a lower cup 22a, an upper cup 22b, and an inner cup 22c. The lower cup 22a has a bowl shape with an open upper surface, a seal packing 23 is attached to the upper edge thereof, and a through hole 24 is formed in the center of the bottom wall.

【0017】上記通孔24には、モ−タ25の駆動軸2
6が挿通され、カップ21内に突出した上記駆動軸26
の上端は回転テ−ブル27の下面に設けられた円盤状の
連結部材28に連結されている。この連結部材28の下
面周辺部には円周溝29が形成され、この円周溝29に
は上記通孔24の周縁部を形成する周壁24aの上端部
が挿入されている。
The drive shaft 2 of the motor 25 is
6 through which the drive shaft 26 protrudes into the cup 21.
Is connected to a disk-shaped connecting member 28 provided on the lower surface of the rotary table 27. A circumferential groove 29 is formed around the lower surface of the connecting member 28, and the upper end of the peripheral wall 24 a forming the peripheral edge of the through hole 24 is inserted into the circumferential groove 29.

【0018】上記下カップ22aの底壁の上記通孔24
の周辺部には遮蔽リング31が上記連結部材28の外周
面を覆う状態で設けられている。それによって、基板2
0を後述するごとく乾燥させる際にカップ1内に飛散す
る液体が上記通孔24を通ってモ−タ25を濡らすのを
防止できるようになっている。
The through hole 24 in the bottom wall of the lower cup 22a
A shielding ring 31 is provided at the periphery of the connecting member 28 so as to cover the outer peripheral surface of the connecting member 28. Thereby, the substrate 2
As will be described later, it is possible to prevent liquid splashing into the cup 1 from wetting the motor 25 through the through hole 24 when the 0 is dried.

【0019】上記回転テ−ブル27の上面には複数の支
持ピン32と、その支持ピン32よりも径方向外方に位
置する複数のガイドピン33とが周方向に所定間隔で突
設されている。支持ピン32は回転テ−ブル27の上面
に供給される上記基板20の下面を支持し、上記ガイド
ピン33は上記基板20の外周面に係合し、その基板2
0が回転テ−ブル27上でずれ動くのを阻止するように
なっている。
A plurality of support pins 32 and a plurality of guide pins 33 located radially outward from the support pins 32 are provided on the upper surface of the rotary table 27 at predetermined intervals in the circumferential direction. I have. The support pins 32 support the lower surface of the substrate 20 supplied to the upper surface of the rotary table 27, and the guide pins 33 engage with the outer peripheral surface of the substrate 20,
0 is prevented from moving on the rotating table 27.

【0020】上記下カップ22aの内底部には帯電する
ことがないよう、導電性の材料によってリング状に形成
された整流板34が配設されている。この整流板34に
は、図2と図3に示すように一端が上記整流板34の外
周面に開放した複数の導入口35が周方向に所定の間隔
で形成されている。上記整流板34の上面の上記導入口
35の部分にはガイド板36が設けられている。このガ
イド板36は、一端部36aが上記整流板34の上面に
接合固定され、上記導入口35の上面側に位置する他端
部36bが所定の角度で曲げ起こされている。
A rectifying plate 34 formed of a conductive material in a ring shape is disposed on the inner bottom of the lower cup 22a so as not to be charged. As shown in FIGS. 2 and 3, a plurality of inlets 35 having one end open to the outer peripheral surface of the rectifying plate 34 are formed at predetermined intervals in the circumferential direction. A guide plate 36 is provided at a portion of the inlet 35 on the upper surface of the current plate 34. One end 36a of the guide plate 36 is fixedly joined to the upper surface of the rectifying plate 34, and the other end 36b located on the upper surface side of the inlet 35 is bent at a predetermined angle.

【0021】つまり、ガイド板36は、回転テ−ブル2
7が図2に矢印Xで示す方向に回転駆動されることで、
同じ方向に生じる空気流Cが上記導入口35に流入し易
いように曲成されている。言い換えれば、上記導入口3
5とガイド板36とで、上記回転テ−ブル27の回転に
よって生じる空気流Cを導入する方向に向かって開口し
た導入部37を形成している。
That is, the guide plate 36 is connected to the rotary table 2.
7 is driven to rotate in the direction indicated by the arrow X in FIG.
The airflow C generated in the same direction is bent so as to easily flow into the introduction port 35. In other words, the inlet 3
The guide plate 36 and the guide plate 36 form an introduction portion 37 that opens in a direction in which the air flow C generated by the rotation of the rotary table 27 is introduced.

【0022】上記整流板34の下面には、周方向に1つ
おきの導入口35と対応する部分に、それぞれ帯状板を
くの字状に曲成した支持部材38が設けられている。こ
の支持部材38は上記整流板34を下カップ22aの内
底部で所定の高さで支持するとともに、上記導入口35
に流入した空気流Cを整流板34の下面側の周方向に沿
ってガイドする。
On the lower surface of the rectifying plate 34, support members 38 each of which is formed by bending a strip-shaped plate are provided at portions corresponding to every other inlet 35 in the circumferential direction. The support member 38 supports the current plate 34 at a predetermined height at the inner bottom of the lower cup 22a, and also supports the inlet 35
Is guided along the circumferential direction on the lower surface side of the current plate 34.

【0023】上記下カップ22aの底部には、支持部材
38が設けられていない部分の導入口35と対応する箇
所に、それぞれ排出口39が形成されている。各排出口
39には排出口体40が接続されている。排出口体40
には排出管41が接続され、各排出管41はタンク43
に連通している。
A discharge port 39 is formed at the bottom of the lower cup 22a at a position corresponding to the introduction port 35 where the support member 38 is not provided. An outlet body 40 is connected to each outlet 39. Discharge body 40
Is connected to a discharge pipe 41, and each discharge pipe 41 is connected to a tank 43.
Is in communication with

【0024】上記下カップ22aの上端部には上記上カ
ップ22bが着脱自在に取着されている。この上カップ
22bは上記回転テ−ブル27と対応する部分が開放し
たリング状をなしていて、その下端部には上記下カップ
22aの上端縁に設けられたパッキング23の部分に液
密かつ着脱自在に係合取着される係合部44が形成され
ている。
The upper cup 22b is detachably attached to the upper end of the lower cup 22a. The upper cup 22b has a ring shape in which a portion corresponding to the rotary table 27 is open, and a lower end thereof is liquid-tight and detachably attached to a packing 23 provided on an upper edge of the lower cup 22a. An engaging portion 44 is formed to be freely engaged.

【0025】上記内カップ22cは外周面が凸曲面に形
成されたリング状をなしていて、その下端部は上記上カ
ップ22bの内面周辺部に取着された断面クランク状の
保持リング45に係合保持されている。つまり、上記内
カップ22cは上記回転テ−ブル27の周辺部分を覆う
状態で設けられている。
The inner cup 22c has a ring shape in which the outer peripheral surface is formed into a convex curved surface, and the lower end thereof is connected to a holding ring 45 having a crank-shaped cross section attached to the inner peripheral portion of the upper cup 22b. Are held together. That is, the inner cup 22c is provided so as to cover the peripheral portion of the rotary table 27.

【0026】つぎに、上記構成のスピン処理装置によっ
て回転テ−ブル27に供給された基板20を乾燥させる
場合について説明する。上記回転テ−ブル27に洗浄液
によって洗浄されて濡れた状態にある基板20が供給さ
れると、モ−タ25に通電されて上記回転テ−ブル27
が回転駆動される。それによって、基板20に付着した
洗浄液に遠心力が作用するから、その遠心力で洗浄液が
除去され、基板20が乾燥させられる。
Next, the case where the substrate 20 supplied to the rotary table 27 is dried by the spin processing apparatus having the above configuration will be described. When the substrate 20 which has been cleaned by the cleaning liquid and is wet is supplied to the rotary table 27, the motor 25 is energized and the rotary table 27 is supplied.
Is driven to rotate. As a result, a centrifugal force acts on the cleaning liquid attached to the substrate 20, so that the cleaning liquid is removed by the centrifugal force and the substrate 20 is dried.

【0027】上記基板20から除去された洗浄液は、カ
ップ22cの内面に当たって滴下し、下カップ22aの
内底部に設けられた整流板34の導入口35から排出口
39および排出管41を通ってタンク43へ排出され
る。
The cleaning liquid removed from the substrate 20 drips on the inner surface of the cup 22c, passes through the inlet 35 of the rectifying plate 34 provided at the inner bottom of the lower cup 22a, passes through the outlet 39 and the discharge pipe 41, and is then removed from the tank. It is discharged to 43.

【0028】一方、回転テ−ブル27が回転駆動されれ
ば、そのときの遠心力によって上記回転テ−ブル27の
回転方向と同方向の空気流Cが発生する。回転テ−ブル
27の回転によって生じた空気流Cは、図1に矢印で示
すようにポンプ42の吸引力によって内カップ22cの
内周面にガイドされて下方へ向かい、その流れ方向に向
いて開口した導入部37へ流入する。つまり、空気流C
は、その流れ方向に対して所定の角度で曲げ起こされた
ガイド板36にガイドされて整流板34に形成された導
入口35へ流入する。
On the other hand, if the rotary table 27 is driven to rotate, an air flow C in the same direction as the rotation direction of the rotary table 27 is generated by the centrifugal force at that time. The air flow C generated by the rotation of the rotary table 27 is guided downward by the suction force of the pump 42 on the inner peripheral surface of the inner cup 22c as shown by the arrow in FIG. It flows into the opened introduction part 37. That is, the air flow C
Is guided by the guide plate 36 bent at a predetermined angle with respect to the flow direction, and flows into the inlet 35 formed in the rectifying plate 34.

【0029】導入口35へ流入した空気流Cは整流板3
4の下面の支持部材38に沿って流れ、排出口39から
流出して排気管41を通り、タンク43を経て図示しな
い排気ポンプを介して外気に放散される。
The airflow C that has flowed into the inlet 35 is
4 flows along the supporting member 38 on the lower surface, flows out from the discharge port 39, passes through the exhaust pipe 41, and is radiated to the outside air via the tank 43 and the exhaust pump (not shown).

【0030】すなわち、回転テ−ブル27の回転によっ
て生じた空気流Cは、下カップ22aの内底部に設けら
れた整流板34に、上記空気流Cを導入する方向に向か
って開口して形成された導入部37に円滑に流入するた
め、乱気流を生じることなく円滑に排出されることにな
る。それによって、回転テ−ブル27の上面に保持され
た基板20に向かう空気流が生じるのが防止されるか
ら、上記基板20に空気中に含まれる微粒子が付着しず
らくなる。
That is, the air flow C generated by the rotation of the rotary table 27 is formed on the current plate 34 provided on the inner bottom of the lower cup 22a so as to open in the direction in which the air flow C is introduced. Since the gas smoothly flows into the introduced introduction portion 37, the gas is smoothly discharged without generating turbulence. This prevents an air flow from flowing toward the substrate 20 held on the upper surface of the rotary table 27, so that the fine particles contained in the air hardly adhere to the substrate 20.

【0031】また、上カップ22bを下カップ22aに
着脱自在に係合保持する構成とした。そのため、メンテ
ナンス時における上記上カップ22bの着脱を容易に行
えるから、作業性の向上が計れる。さらに、上記上カッ
プ22bの内部に内カップ22cを保持したので、回転
テ−ブル27を回転させて基板20を乾燥させていると
きに、上記基板20が破損して飛散しても、その破片は
内カップ2cにぶつかり、上カップ22bに直接ぶつか
ることがない。そのため、上記上カップ22bを損傷さ
せることがないから、外観が良好な状態で維持されるば
かりか、変形して下カップ22aに着脱させることがで
きなくなるということもない。
The upper cup 22b is detachably engaged with the lower cup 22a. Therefore, the upper cup 22b can be easily attached and detached at the time of maintenance, so that workability can be improved. Further, since the inner cup 22c is held inside the upper cup 22b, even if the substrate 20 is broken and scattered while the rotating table 27 is being rotated to dry the substrate 20, the fragments are broken. Hits the inner cup 2c and does not directly hit the upper cup 22b. Therefore, since the upper cup 22b is not damaged, not only the appearance is maintained in a good state, but also it is not deformed and cannot be attached to and detached from the lower cup 22a.

【0032】基板20を乾燥させるときに飛散する洗浄
液と、遠心力によって生じる空気流Cとの排出を、整流
板34に形成された導入部37に連通する同一の排出管
41を介して行うようにした。そのため、洗浄液の排出
と、空気流Cの排出とを別々に行う場合に比べて配管構
造の簡略化を計ることができる。
The cleaning liquid scattered when the substrate 20 is dried and the air flow C generated by the centrifugal force are discharged through the same discharge pipe 41 communicating with the introduction portion 37 formed in the current plate 34. I made it. Therefore, simplification of the piping structure can be achieved as compared with the case where the discharge of the cleaning liquid and the discharge of the air flow C are separately performed.

【0033】図4(a)、(b)はこの発明のスピン処
理装置と、従来のスピン処理装置によって基板を乾燥処
理する場合に、図1と図5にそれぞれPで示す、基板の
上方の位置での微粒子(パ−テイクル)を計測した結果
を示す。なお、カップには4mmaqの排気圧を印加し
た。また、各図において、縦軸は微粒子数であり、横軸
は回転テ−ブルを回転させてからの経過時間である。
FIGS. 4A and 4B show a case where a substrate is dried by a spin processing apparatus of the present invention and a conventional spin processing apparatus. The result of measurement of fine particles (particles) at positions is shown. Note that an exhaust pressure of 4 mmaq was applied to the cup. In each figure, the vertical axis represents the number of fine particles, and the horizontal axis represents the elapsed time after rotating the rotary table.

【0034】図4(a)に示すこの発明の装置によれ
ば、粒径が1μm以上の微粒子の発生はほとんどなく、
0.3 μm以上の微粒子の発生は回転テ−ブルを回転させ
たのち、3〜6分の間にわずかにある程度であった。
According to the apparatus of the present invention shown in FIG. 4A, there is almost no generation of fine particles having a particle size of 1 μm or more.
The generation of fine particles of 0.3 μm or more was slightly to some extent within 3 to 6 minutes after rotating the rotating table.

【0035】図4(b)に示す従来の装置では、回転テ
−ブルを回転させたのち直ぐに、粒径が1μm以上の微
粒子と0.3 μm以上の微粒子がかなり多く発生すること
が測定され、しかもそれらの微粒子の数は時間の経過と
ともに増加する傾向にあることが認められた。
In the conventional apparatus shown in FIG. 4 (b), it is measured that, after rotating the rotary table, a large number of fine particles having a particle diameter of 1 μm or more and fine particles of 0.3 μm or more are generated immediately. It was found that the number of these fine particles tended to increase with time.

【0036】このような測定結果から、この発明の装置
は従来の装置に比べ、基板の上方に微粒子が流れ込みず
らい構成であるといえる。つまり、回転テ−ブル27を
回転させることで、その外周に遠心力による空気流Cが
生じても、その空気流Cによって基板20の上面に向か
う乱気流の発生を押さえることができるため、基板20
の上方における微粒子数が少なくなると考察できる。
From the above measurement results, it can be said that the apparatus of the present invention has a configuration in which fine particles hardly flow above the substrate, as compared with the conventional apparatus. In other words, by rotating the rotary table 27, even if the air flow C due to the centrifugal force is generated on the outer periphery, the generation of the turbulence toward the upper surface of the substrate 20 can be suppressed by the air flow C.
It can be considered that the number of fine particles in the upper part of the graph decreases.

【0037】なお、この発明は上記一実施例に限定され
ず、その発明の要旨の範囲内で種々変形可能である。た
とえば、上記一実施例では洗浄された基板を乾燥させる
場合について説明したが、基板にレジストなどの処理液
を均一に散布させる場合にも、この発明の装置を用いれ
ば、その処理液に微粒子が付着するのを防止することが
できる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified within the scope of the invention. For example, in the above-described embodiment, the case where the washed substrate is dried is described. However, even when the processing liquid such as a resist is uniformly sprayed on the substrate, if the apparatus of the present invention is used, the processing liquid may contain fine particles. Adhesion can be prevented.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上述べたようにこの発明は、カップの
内底部の回転テーブルよりも低い位置に整流板を設け、
この整流板に回転テ−ブルの回転によってこの回転方向
に生じる空気の流れを導入するガイド板を設け、このガ
イド板により導入口に導入された空気をカップの底部に
設けられた排出口から外部へ排出するようにした。その
ため、回転テ−ブルの回転によってその回転方向に生じ
る空気流は、上記ガイド板によって導入口へ強制的にガ
イドされて排出口から外部へ排出されるため、カップ内
に乱気流が発生するのを防止することができる。 乱気流
の発生を防止できれば、回転テ−ブルに保持された基板
に向かう空気の流れが生じ難くなるから、気流に含まれ
る微粒子が上記基板に付着するのを防止することができ
る。
As described above, according to the present invention, the current plate is provided at a position lower than the rotary table at the inner bottom of the cup .
The direction of rotation is changed by the rotation of the rotating table
A guide plate for introducing the flow of air generated in the cup is provided, and the air introduced into the inlet is discharged to the outside from the outlet provided at the bottom of the cup by the guide plate. That
As a result, the rotation of the rotary table
The air flow forced to the inlet by the guide plate
And is discharged to the outside through the discharge port.
A turbulent air flow can be prevented from being generated. Turbulence
If it is possible to prevent the occurrence of
Air flow toward
Particles can be prevented from adhering to the substrate.
You.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施例を示す装置の縦断面図。FIG. 1 is a longitudinal sectional view of an apparatus showing one embodiment of the present invention.

【図2】同じく整流板の一部分の斜視図。FIG. 2 is a perspective view of a part of the current plate.

【図3】同じく整流板の一部分の平面図。FIG. 3 is a plan view of a part of the current plate.

【図4】この発明の装置と従来の装置における基板上方
での微粒子の発生状態の測定結果のグラフ。
FIG. 4 is a graph showing measurement results of the state of generation of fine particles above a substrate in the apparatus of the present invention and a conventional apparatus.

【図5】従来の装置の縦断面図。FIG. 5 is a longitudinal sectional view of a conventional device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20…基板、21…カップ、25…モ−タ、26…駆動
軸、27…回転テ−ブル、34…整流板、35…導入
口、36…ガイド板、37…導入部、41…排出管。
Reference Signs List 20 ... substrate, 21 ... cup, 25 ... motor, 26 ... drive shaft, 27 ... rotary table, 34 ... rectifier plate, 35 ... inlet, 36 ... guide plate, 37 ... introduction part, 41 ... discharge tube .

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 黒川 禎明 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地1 株式会社芝浦製作所大船工場内 (56)参考文献 特開 平4−247264(JP,A) 特開 平3−80527(JP,A) 実開 平3−109676(JP,U) 実開 平3−128472(JP,U) 実開 平4−111728(JP,U) 実開 昭57−183744(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/027 B05C 11/08 G03F 7/16 H01L 21/304 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoshiaki Kurokawa 1000-1, Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Inside the Ofuna Plant of Shibaura Works Co., Ltd. (56) References JP-A-4-247264 (JP, A) 3-80527 (JP, A) Japanese Utility Model 3-109676 (JP, U) Japanese Utility Model 3-128472 (JP, U) Japanese Utility Model 4-111728 (JP, U) Japanese Utility Model Application 57-183744 (JP, U.S.A.) U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 21/027 B05C 11/08 G03F 7/16 H01L 21/304

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基板を回転させることで、この基板に所
定の処理を行うスピン処理装置において、カップと、こ
のカップの底部中心部から内部へ挿通され回転駆動され
る駆動軸と、この駆動軸の一端に連結されるとともに上
面に上記基板が保持される回転テ−ブルと、上記カップ
の内底部において上記回転テーブルよりも低い位置に設
けられ、導入口を有する整流板と、この整流板に設けら
れ、上記回転テ−ブルの回転によってこの回転方向に生
じる空気の流れを上記導入口に導入するガイド板と、
記カップの底部に設けられ上記ガイド板により上記導入
口に導入された空気をカップの外部へ排出する排出口
を具備したことを特徴とするスピン処理装置。
In a spin processing apparatus for performing a predetermined process on a substrate by rotating the substrate, a cup, a drive shaft that is inserted through a center of a bottom of the cup into the inside and is driven to rotate, A rotating table connected to one end of the cup and holding the substrate on the upper surface, and a lower portion of the inner bottom of the cup than the rotating table.
Vignetting, the integer Nagareban having inlet et provided on the rectifying plate
The rotation of the rotary table causes the rotation in this direction.
A guide plate for introducing a flow of Jill air to the inlet, the introduction by the guide plate provided at the bottom of the cup
A discharge port for discharging air introduced into the mouth to the outside of the cup.
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