JP3077114B2 - Coating device - Google Patents

Coating device

Info

Publication number
JP3077114B2
JP3077114B2 JP03143805A JP14380591A JP3077114B2 JP 3077114 B2 JP3077114 B2 JP 3077114B2 JP 03143805 A JP03143805 A JP 03143805A JP 14380591 A JP14380591 A JP 14380591A JP 3077114 B2 JP3077114 B2 JP 3077114B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inner cup
glass substrate
recovery passage
lid
passage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP03143805A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0584460A (en
Inventor
宏仁 佐合
勝彦 工藤
博嗣 熊澤
重美 藤山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd filed Critical Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority to JP03143805A priority Critical patent/JP3077114B2/en
Publication of JPH0584460A publication Critical patent/JPH0584460A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3077114B2 publication Critical patent/JP3077114B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ(LC
D)の製造工程等に用いる塗布装置に関する。
The present invention relates to a liquid crystal display (LC).
The present invention relates to a coating apparatus used in the manufacturing process D).

【0002】[0002]

【従来の技術】ブラウン管(CRT)に代わる表示装置
として、表面に画素を構成する電極や素子を形成した2
枚のガラス基板の間に液晶を注入した構造の液晶ディス
プレイが注目されている。そして上記の画素としては薄
膜トランジスタ(TFT)や金属/絶縁体/金属接合
(MIM)などの素子で駆動せしめるアクティブマトリ
クス方式が高画質の画面が得られるため主流になりつつ
ある。
2. Description of the Related Art As a display device replacing a cathode ray tube (CRT), an electrode or an element forming a pixel is formed on the surface.
A liquid crystal display having a structure in which liquid crystal is injected between two glass substrates has attracted attention. As the above-mentioned pixels, an active matrix system driven by an element such as a thin film transistor (TFT) or a metal / insulator / metal junction (MIM) is becoming mainstream because a high-quality screen can be obtained.

【0003】上記の薄膜トランジスタ等をガラス基板上
に形成する技術はシリコンウェハ等に集積回路を形成す
る半導体製造技術をそのまま応用している。レジスト液
の塗布も一連の工程のうちの一つであり、この工程では
インナーカップ内の真空チャックにセットしたガラス基
板上にレジスト液を滴下し、次いでスピンナーによって
真空チャックとインナーカップを一体的に回転せしめ、
遠心力によってガラス基板表面にレジスト液を均一に塗
布するようにしている。
The technique of forming the above-mentioned thin film transistor and the like on a glass substrate directly applies a semiconductor manufacturing technique of forming an integrated circuit on a silicon wafer and the like. The application of a resist solution is also one of a series of steps, in which a resist solution is dropped onto a glass substrate set on a vacuum chuck in an inner cup, and then the vacuum chuck and the inner cup are integrated by a spinner. Rotate it,
The resist solution is uniformly applied to the surface of the glass substrate by centrifugal force.

【0004】そして、滴下した塗布液の一部は遠心力に
よってインナーカップ内壁に飛び散る。この塗布液をそ
のままにしておくと乾燥して固化し、小さな破片となっ
てガラス基板表面に付着することとなる。これを防止す
べく本出願人は先に、インナーカップの外周壁にドレイ
ンパイプを取り付け、余分な塗布液についてはドレイン
パイプを介してインナーカップの周囲に設けた環状且つ
底面が傾斜した回収通路に排出し、この回収通路の最も
低い部分から下方にパイプを垂下し、このパイプを介し
て塗布液或いは塗布液を含む洗浄液を回収する技術を提
案した。
[0004] A part of the dropped coating liquid scatters on the inner wall of the inner cup due to centrifugal force. If this coating solution is left as it is, it is dried and solidified, and becomes small fragments and adheres to the surface of the glass substrate. In order to prevent this, the present applicant first attaches a drain pipe to the outer peripheral wall of the inner cup, and supplies excess coating liquid to a recovery passage provided around the inner cup through the drain pipe and having an inclined bottom surface. A technique has been proposed in which the pipe is drained downward from the lowest part of the recovery passage, and a coating liquid or a cleaning liquid containing the coating liquid is recovered through the pipe.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来技術にお
いて、効果的に塗布液或いは塗布液を含む洗浄液を回収
するには、回収通路の傾斜角を大きくすればよいのであ
るが、傾斜角を大きくすると装置全体の高さが大きくな
ってしまう。また回収通路の底面にパイプを開口せしめ
ても塗布液の自重でパイプ内に滞留するため、回収通路
内に塗布液が残りやすい。
In the prior art described above, in order to effectively collect the coating liquid or the cleaning liquid containing the coating liquid, the inclination angle of the collection passage may be increased, but the inclination angle is increased. Then, the height of the whole apparatus becomes large. Even if the pipe is opened at the bottom of the recovery passage, the coating liquid stays in the pipe by its own weight, so that the coating liquid easily remains in the recovery passage.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明は、塗布装置のインナーカップの外側に環状の塗布
液回収通路を設け、この回収通路にインナーカップから
突出するドレインパイプをその先端が回収通路の外側壁
近傍まで伸びるように臨ませ、更に回収通路の外側壁に
は一端が開口する回収パイプは回収通路の接線方向に沿
って外側に導出した。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides an annular coating liquid recovery passage outside an inner cup of a coating apparatus, and a drain pipe protruding from the inner cup in the recovery passage. The recovery pipe extends to the vicinity of the outer wall of the recovery passage, and a recovery pipe having one end opened on the outer wall of the recovery passage is led out along the tangential direction of the recovery passage.

【0007】[0007]

【作用】インナーカップから突出するドレインパイプの
先端は回収通路の外側壁近傍まで伸びているので、スピ
ンナーによってインナーカップを回転せしめるとドレイ
ンパイプが回収通路内を走行し、回収通路内に排出流を
強制的に発生せしめる。
[Function] Since the tip of the drain pipe protruding from the inner cup extends to the vicinity of the outer wall of the recovery passage, when the inner cup is rotated by a spinner, the drain pipe runs in the recovery passage and discharges the discharge flow into the recovery passage. Force it to occur.

【0008】[0008]

【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。ここで、図1は本発明に係る塗布装置を組み
込んだ被膜形成ラインの平面図、図2は同塗布装置の蓋
体を上げた状態の断面図、図3は図2のA−A方向矢視
図、図4は同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断面図であ
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. Here, FIG. 1 is a plan view of a film forming line incorporating the coating apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of the coating apparatus in a state in which a lid is raised, and FIG. FIG. 4 is a sectional view of the coating apparatus in a state where a lid is closed.

【0009】被膜形成ラインは図1の左側を上流部と
し、この上流部に矩形状をなす板状被処理物としてのガ
ラス基板Wの投入部1を設け、この投入部1の下流側に
本発明に係る塗布装置2を配置し、この塗布装置2の下
流側に順次、減圧乾燥装置3、ガラス基板Wの裏面洗浄
装置4及びホットプレート5a・・・とクーリングプレー
ト5bを備えた加熱部5を配置し、投入部1から加熱部
5に至るまでは搬送装置6によってガラス基板Wの前後
端の下面を支持した状態で搬送し、加熱部5においては
垂直面内でクランク動をなす搬送装置7によりガラス基
板Wの下面を支持した状態で各ホットプレート5a上を
順次移し換え、最終的にクーリングプレート5bで温度
を調整しつつガラス基板Wを搬送するようにしている。
The coating film forming line has an upstream portion on the left side of FIG. 1, and an input portion 1 for a glass substrate W as a rectangular plate-like workpiece to be processed is provided on the upstream portion. A coating unit 2 according to the present invention is arranged, and a heating unit 5 having a vacuum drying unit 3, a back surface cleaning unit 4 for a glass substrate W, a hot plate 5a... Is transported from the charging section 1 to the heating section 5 while the lower surfaces of the front and rear ends of the glass substrate W are supported by the transport apparatus 6, and the heating section 5 performs a crank motion in a vertical plane. While the lower surface of the glass substrate W is supported by 7, each hot plate 5 a is sequentially transferred, and finally the glass substrate W is transported while the temperature is adjusted by the cooling plate 5 b.

【0010】塗布装置2はスピンナー装置の軸21に取
り付けられたインナーカップ22の外側にアウターカッ
プ23を配設している。インナーカップ22は底板22
aと側板22bからなり、アウターカップ23は軸21
が貫通する底板23a、本体23b及び側板23cから
構成される。
The coating device 2 has an outer cup 23 disposed outside an inner cup 22 attached to a shaft 21 of a spinner device. Inner cup 22 is bottom plate 22
a and a side plate 22b.
Are constituted by a bottom plate 23a, a main body 23b, and a side plate 23c that penetrate through.

【0011】そして、インナーカップ22の底板22a
の中央にはガラス基板Wを吸着固定する真空チャック2
4を設け、側板22bの下部にはドレインパイプ25を
取り付け、一方本体23bには環状のドレイン回収通路
27を形成している。なお、ドレインパイプ25はスリ
ット又は多数の孔を有する円形庇状物であってもよい。
The bottom plate 22a of the inner cup 22
Vacuum chuck 2 for holding glass substrate W by suction at the center of
4, a drain pipe 25 is attached to a lower portion of the side plate 22b, while an annular drain recovery passage 27 is formed in the main body 23b. The drain pipe 25 may be a slit or a circular eave-shaped object having a large number of holes.

【0012】回収通路27は外側壁27aを内方に向っ
て斜めに形成することで断面略三角形状をなし、底面2
7bは一箇所に向って傾斜し、更に径方向内方に開口す
る幅狭部27cを形成し、この幅狭部27cを介して前
記ドレインパイプ25を回収通路27に臨ませ、且つド
レインパイプ25の先端を前記外側壁27aの近傍まで
伸ばしている。
The recovery passage 27 has a substantially triangular cross section by forming the outer wall 27a obliquely inward, and has a bottom surface 2a.
7b is inclined toward one place, and further forms a narrow portion 27c that opens radially inward. The drain pipe 25 faces the collection passage 27 through the narrow portion 27c, and the drain pipe 25 Is extended to the vicinity of the outer side wall 27a.

【0013】また回収通路27の最も低い部分の外側壁
下部には回収パイプ28が開口している。この回収パイ
プ28は図3に示すようにドレインパイプ25の回転方
向と同方向の回収通路27の接線方向に沿って外側に導
出されている。
A collecting pipe 28 is opened at the lower part of the outer wall at the lowest part of the collecting passage 27. As shown in FIG. 3, the recovery pipe 28 extends outward along a tangential direction of the recovery passage 27 in the same direction as the rotation direction of the drain pipe 25.

【0014】一方、インナーカップ22及びアウターカ
ップ23の上方には図1に示すようにアーム29、30
を配置している。これらアーム29、30は直線動、回
転動、上下動或いはこれらを合成した動きが可能で互い
に干渉しないようになっている。そして、アーム29に
はレジスト液等の塗布液を滴下するノズルを取り付け、
アーム30の先端には下方に伸びる軸31を取り付け、
この軸31にはノズル孔32を穿設し、このノズル孔3
2をジョイント及びアーム30内を通るホース33、3
4を介してチッ素ガス供給源及び洗浄液供給源につなげ
ている。
On the other hand, above the inner cup 22 and the outer cup 23, as shown in FIG.
Has been arranged. The arms 29 and 30 can be moved linearly, rotationally, vertically, or a combination thereof, so that they do not interfere with each other. A nozzle for dropping a coating liquid such as a resist liquid is attached to the arm 29,
A shaft 31 extending downward is attached to the tip of the arm 30,
The shaft 31 has a nozzle hole 32 formed therein.
Hoses 33 passing through the joint and arm 30
4 are connected to a nitrogen gas supply source and a cleaning liquid supply source.

【0015】また、前記軸31にはベアリング35及び
磁気シール36を介してボス部37を回転自在に嵌合
し、このボス部37にインナーカップ22の上面開口を
閉塞するための円板状をなすアルミニウム製の蓋体38
を取り付けている。また、この蓋体38の上方のアーム
30の先端下面にはアウターカップ23の上面開口を閉
塞するための蓋体39を固着している。
A boss 37 is rotatably fitted to the shaft 31 via a bearing 35 and a magnetic seal 36. The boss 37 has a disk shape for closing the upper opening of the inner cup 22. Eggplant aluminum lid 38
Is installed. Further, a lid 39 for closing an upper surface opening of the outer cup 23 is fixed to a lower surface of a distal end of the arm 30 above the lid 38.

【0016】蓋体39はアーム30の先端下面に取り付
けた筒体40の外周にリング状のスライド部材41を介
して上下摺動自在に保持され、また蓋体39の内周縁に
はテフロン製の軸受け41を取付け、この軸受け41に
筒体40に植設したガイドポスト42を係合している。
The lid 39 is vertically slidably held on the outer periphery of a cylindrical body 40 attached to the lower surface of the distal end of the arm 30 via a ring-shaped slide member 41. The inner peripheral edge of the lid 39 is made of Teflon. A bearing 41 is mounted, and a guide post 42 implanted in a cylindrical body 40 is engaged with the bearing 41.

【0017】而して、図2に示すようにアーム30が上
昇している場合には、蓋体39に固着した受け部材43
が蓋体38に固着したピン44に係合して蓋体38の位
置決めを行ない、また図4に示すようにアーム30が降
りて蓋体38,39がそれぞれインナーカップ22及び
アウターカップ23の開口を閉塞する場合には、蓋体3
9はガイドポスト42に沿って上昇し、ピン44から受
け部材43は抜け出る。
When the arm 30 is raised as shown in FIG. 2, the receiving member 43 fixed to the lid 39 is provided.
Engages with a pin 44 fixed to the lid 38 to position the lid 38, and as shown in FIG. 4, the arm 30 descends so that the lids 38 and 39 are opened in the inner cup 22 and the outer cup 23, respectively. To close the lid,
9 rises along the guide post 42, and the receiving member 43 comes out of the pin 44.

【0018】一方、蓋体38の下面にはビス45によっ
てインナーカップ22内の乱流を防止する整流板46を
取り付けている。この整流板46はガラス基板Wより若
干大きな寸法で且つ相似形をしている。
On the other hand, a rectifying plate 46 for preventing turbulent flow in the inner cup 22 is attached to the lower surface of the lid 38 by screws 45. The current plate 46 is slightly larger in size than the glass substrate W and has a similar shape.

【0019】またインナーカップ22の内周面の上端部
には複数個の係止部47を設け、これら係止部47にビ
ス48にてブロック49を固着し、このブロック49の
下面に環状をなす飛散防止リング50を取り付けてい
る。この飛散防止リング50は蓋体38を閉じた状態で
前記整流板46よりも上方に位置し、整流板46が上昇
する際に干渉しないための開口51を形成している。
At the upper end of the inner peripheral surface of the inner cup 22, a plurality of locking portions 47 are provided, and a block 49 is fixed to these locking portions 47 with screws 48. An anti-scattering ring 50 is attached. The scattering prevention ring 50 is located above the rectifying plate 46 with the lid 38 closed, and forms an opening 51 for preventing interference when the rectifying plate 46 rises.

【0020】以上において、ガラス基板W表面にレジス
ト液を均一に塗布するには、インナーカップ22及びア
ウターカップ23の上面を開放して真空チャック24上
に固着されているガラス基板Wの表面にアーム29に取
り付けられているノズルからレジスト液を滴下し、次い
でアーム29を後退せしめて図2に示すようにインナー
カップ22及びアウターカップ23上にアーム30を回
動させて蓋体38、39を臨ませる。
In the above, in order to uniformly apply the resist solution to the surface of the glass substrate W, the upper surfaces of the inner cup 22 and the outer cup 23 are opened and the arm is attached to the surface of the glass substrate W fixed on the vacuum chuck 24. The resist solution is dropped from a nozzle attached to the nozzle 29, the arm 29 is then retracted, and the arm 30 is rotated on the inner cup 22 and the outer cup 23 as shown in FIG. I do.

【0021】そして図4に示すように、アーム30を下
降することで蓋体38によりインナーカップ22の上面
を閉塞し、蓋体39によりアウターカップ23の上面開
口を閉塞したならば、スピンナーによって真空チャック
24とインナーカップ22を一体的に回転せしめ、遠心
力によりレジスト液をガラス基板Wの表面に均一に拡散
塗布する。
Then, as shown in FIG. 4, if the upper surface of the inner cup 22 is closed by the lid 38 by lowering the arm 30 and the upper surface opening of the outer cup 23 is closed by the lid 39, a vacuum is applied by the spinner. The chuck 24 and the inner cup 22 are rotated integrally, and the resist solution is uniformly diffused and applied to the surface of the glass substrate W by centrifugal force.

【0022】またノズルからガラス基板W上に滴下され
たレジスト液の一部は遠心力によりガラス基板W周縁か
らインナーカップ22内周面に飛散し、インナーカップ
22の内周面をつたってドレインパイプ25内に入り、
このドレインパイプ25から回収通路27内に排出され
る。そして、ドレインパイプ25は前記したように先端
が回収通路27の外側壁27a近傍まで伸びているの
で、スピンナーによってインナーカップ22とともにド
レインパイプ25が回転すると、このドレインパイプ2
5が回収通路27内でファンの作用をなし、回収通路2
7に沿って強制的に旋回流が発生する。
A part of the resist solution dropped from the nozzle onto the glass substrate W is scattered from the peripheral edge of the glass substrate W to the inner peripheral surface of the inner cup 22 by centrifugal force, and passes through the inner peripheral surface of the inner cup 22 to form a drain pipe. Enter 25,
The water is discharged from the drain pipe 25 into the recovery passage 27. As described above, the tip of the drain pipe 25 extends to the vicinity of the outer wall 27a of the recovery passage 27. Therefore, when the drain pipe 25 rotates together with the inner cup 22 by the spinner, the drain pipe 2
5 functions as a fan in the collection passage 27 and the collection passage 2
A swirling flow is forcibly generated along 7.

【0023】更に前記したように、回収通路27の外側
壁27aには回収パイプ28が開口し、この回収パイプ
28は回収通路の接線方向に沿って外側に伸びているの
で、回収通路27内に入った塗布液は前記旋回流によっ
てそのまま抵抗なく回収パイプに入り回収される。
Further, as described above, a recovery pipe 28 is opened in the outer wall 27a of the recovery passage 27, and the recovery pipe 28 extends outward along the tangential direction of the recovery passage. The applied coating liquid enters the recovery pipe without resistance by the swirling flow and is recovered.

【0024】次いで、以上の処理においてインナーカッ
プ22内は減圧状態になっているので、このまま蓋をあ
けてガラス基板Wを取り出すと、インナーカップ22内
の空気が乱れてレジスト液がスポット的にガラス基板W
表面に付着するおそれがある。そこでレジスト液が均一
に塗布されたガラス基板Wを取り出すには、先ず窒素ガ
ス供給源につながるパイプ33及びノズル孔32を介し
て蓋体38と整流板46の間の空間に窒素ガス等を導入
し減圧状態を解除して行う。このときノズル孔32から
のガスは整流板46があるため、ガラス基板W表面のレ
ジスト液に直接吹き付けられることがない。
Next, since the inside of the inner cup 22 is in a reduced pressure state in the above processing, if the glass substrate W is taken out by opening the lid as it is, the air in the inner cup 22 is disturbed and the resist solution is spotted on the glass. Substrate W
It may adhere to the surface. Therefore, in order to take out the glass substrate W coated with the resist solution uniformly, first, nitrogen gas or the like is introduced into the space between the lid 38 and the rectifying plate 46 through the pipe 33 and the nozzle hole 32 connected to the nitrogen gas supply source. And then release the pressure reduction state. At this time, the gas from the nozzle holes 32 is not directly blown onto the resist solution on the surface of the glass substrate W because of the presence of the current plate 46.

【0025】このようにして、所定枚数のガラス基板W
にレジスト液を均一に塗布した後には余分な塗布液の一
部がインナーカップ22内周面等に付着している。これ
を放置しておくと乾燥固化して雰囲気中に飛散し、ガラ
ス基板W表面に付着するため、洗浄を行う。
Thus, a predetermined number of glass substrates W
After the resist solution is uniformly applied to the inner cup 22, a part of the excess coating solution adheres to the inner peripheral surface of the inner cup 22 or the like. If this is left as it is, it is dried and solidified, scatters in the atmosphere, and adheres to the surface of the glass substrate W, so that cleaning is performed.

【0026】洗浄はガラス基板Wを除いた状態でインナ
ーカップ22とアウターカップ23を蓋体38,39で
閉じて行う。即ち、洗浄液供給源につながるパイプ34
及びノズル孔32を介して蓋体38と整流板46の間の
空間に洗浄液を供給する。すると洗浄液は遠心力によっ
て整流板46の表面を流れ、前記同様に回収通路27を
介して外部に排出される。
Cleaning is performed by closing the inner cup 22 and the outer cup 23 with the lids 38 and 39 with the glass substrate W removed. That is, the pipe 34 connected to the cleaning liquid supply source
The cleaning liquid is supplied to the space between the lid 38 and the current plate 46 via the nozzle hole 32. Then, the cleaning liquid flows on the surface of the current plate 46 by centrifugal force, and is discharged to the outside via the recovery passage 27 in the same manner as described above.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
インナーカップから突出するドレインパイプ先端を回収
通路の外側壁近傍まで伸ばしたので、スピンナーによっ
てインナーカップを回転せしめるとドレインパイプが回
収通路内でファンの作用をなし、回収通路に沿って強制
的に旋回流を形成する。そして、回収通路の外側壁には
一端が開口する回収パイプを回収通路の接線方向に沿っ
て外側に伸しておけば抵抗なく回収通路内に入った塗布
液或いは洗浄液は外部に排出される。したがって、塗布
液の回収率が高まり、固化した塗布液がガラス基板表面
に付着する確率も低くなる。
According to the present invention as described above,
Since the tip of the drain pipe protruding from the inner cup is extended to the vicinity of the outer wall of the recovery passage, when the inner cup is rotated by a spinner, the drain pipe acts as a fan in the recovery passage and forcibly turns along the recovery passage Form a flow. Then, if a recovery pipe having one end opened to the outside wall of the recovery passage extends outward along the tangential direction of the recovery passage, the coating liquid or the cleaning liquid that has entered the recovery passage without resistance is discharged to the outside. Therefore, the recovery rate of the coating liquid is increased, and the probability that the solidified coating liquid adheres to the glass substrate surface is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る塗布装置を組み込んだ被膜形成ラ
インの平面図
FIG. 1 is a plan view of a film forming line incorporating a coating apparatus according to the present invention.

【図2】同塗布装置の蓋体を上げた状態の断面図FIG. 2 is a cross-sectional view of the coating apparatus in a state where a lid is raised.

【図3】図2のA−A方向矢視図FIG. 3 is a view taken in the direction of arrows AA in FIG. 2;

【図4】同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断面図FIG. 4 is a sectional view of the coating apparatus in a state where a lid is closed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2…塗布装置、22…インナーカップ、23…アウター
カップ、25…ドレインパイプ、27…回収通路、27
a…回収通路の外側壁、27b…回収通路の底面、27
c…回収通路の幅狭部、38,39…蓋体、46…整流
板。
2 ... Coating device, 22 ... Inner cup, 23 ... Outer cup, 25 ... Drain pipe, 27 ... Recovery passage, 27
a: outside wall of collection passage, 27b: bottom surface of collection passage, 27
c: narrow portion of the recovery passage, 38, 39: lid, 46: rectifying plate.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤山 重美 神奈川県藤沢市本藤沢6−13−14−201 (56)参考文献 特開 平4−341366(JP,A) 特開 平1−135565(JP,A) 実開 昭55−28423(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B05C 11/08 B05D 1/26,1/40 G03F 7/16 502 H01L 21/027 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Shigemi Fujiyama 6-13-14-201 Motofujisawa, Fujisawa-shi, Kanagawa (56) References JP-A-4-341366 (JP, A) JP-A-1-135565 (JP, A) Japanese Utility Model Showa 55-28423 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B05C 11/08 B05D 1 / 26,1 / 40 G03F 7/16 502 H01L 21/027

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 スピンナーによって回転せしめられるイ
ンナーカップの外側にアウターカップを配置し、このア
ウターカップに沿って環状の回収通路を設け、この環状
の回収通路にインナーカップから突出するドレインパイ
プを臨ませた塗布装置において、前記ドレインパイプの
先端は回収通路の外側壁近傍まで伸びていることを特徴
とする塗布装置。
1. An outer cup is arranged outside an inner cup rotated by a spinner, an annular collecting passage is provided along the outer cup, and a drain pipe projecting from the inner cup faces the annular collecting passage. The tip of the drain pipe extends to near the outer wall of the recovery passage.
【請求項2】 前記回収通路の外側壁には回収パイプが
開口し、この回収パイプは回収通路の接線方向に沿って
外側に導出されていることを特徴とする請求項1に記載
の塗布装置。
2. The coating apparatus according to claim 1, wherein a collecting pipe is opened on an outer wall of the collecting passage, and the collecting pipe is led out along a tangential direction of the collecting passage. .
JP03143805A 1991-05-20 1991-05-20 Coating device Expired - Lifetime JP3077114B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03143805A JP3077114B2 (en) 1991-05-20 1991-05-20 Coating device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03143805A JP3077114B2 (en) 1991-05-20 1991-05-20 Coating device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0584460A JPH0584460A (en) 1993-04-06
JP3077114B2 true JP3077114B2 (en) 2000-08-14

Family

ID=15347393

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP03143805A Expired - Lifetime JP3077114B2 (en) 1991-05-20 1991-05-20 Coating device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3077114B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19906398B4 (en) * 1999-02-16 2004-04-29 Steag Hamatech Ag Method and device for treating substrates
JP4025030B2 (en) * 2001-04-17 2007-12-19 東京エレクトロン株式会社 Substrate processing apparatus and transfer arm

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0584460A (en) 1993-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2591555B2 (en) Coating device
JP3102831B2 (en) Rotary processing equipment
JPH0468028B2 (en)
JP2937549B2 (en) Coating device
JP3077114B2 (en) Coating device
JP3095202B2 (en) Rotating cup type liquid supply device
JP3250095B2 (en) Cleaning device and cleaning method
US6576055B2 (en) Method and apparatus for controlling air over a spinning microelectronic substrate
JP3108128B2 (en) Coating device
JP2942213B2 (en) Application method
JPH0822418B2 (en) Coating device
US5962193A (en) Method and apparatus for controlling air flow in a liquid coater
JPH0568094B2 (en)
JPH03293055A (en) Coating apparatus
JPH08224527A (en) Coating
JP3189113B2 (en) Processing device and processing method
JPH0478469A (en) Coating method
JP3342537B2 (en) Spin processing device
JP2533401B2 (en) Rotary coating device
JPH0720571B2 (en) Coating device
JP3194071B2 (en) Method and apparatus for forming coating film
US20040194818A1 (en) Hydrophilic components for a spin-rinse-dryer
JPH0620935A (en) Resist coating device
JP2598203B2 (en) Coating device
JP2976082B2 (en) Processing equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20000523

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100616

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100616

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110616

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term