JP3338927B2 - Desmear apparatus and desmear method for laser drilling machine - Google Patents

Desmear apparatus and desmear method for laser drilling machine

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JP3338927B2
JP3338927B2 JP14102498A JP14102498A JP3338927B2 JP 3338927 B2 JP3338927 B2 JP 3338927B2 JP 14102498 A JP14102498 A JP 14102498A JP 14102498 A JP14102498 A JP 14102498A JP 3338927 B2 JP3338927 B2 JP 3338927B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いて
プリント回路基板、特に多層プリント回路基板にバイア
ホールを形成するレーザ穴あけ加工装置に組み合わされ
て、バイアホールを形成した後にこのバイアホールに残
留する残渣成分を除去するためのデスミア装置及びデス
ミア方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser drilling apparatus for forming a via hole in a printed circuit board, particularly a multilayer printed circuit board, using a laser beam. The present invention relates to a desmear apparatus and a desmear method for removing a residual residue component.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の小型化、高密度実装化に伴
う、プリント回路基板の高密度化の要求に応えて、近
年、複数のプリント回路基板を積層した多層プリント回
路基板が登場してきた。このような多層プリント回路基
板では、上下に積層されたプリント回路基板間で導電層
(銅基板)同士を電気的に接続する必要がある。このよ
うな接続は、プリント回路基板の樹脂層(ポリイミド、
エポキシ系樹脂等のポリマー)に、下層の導電層に達す
るバイアホールと呼ばれる穴を形成し、その穴の内部に
メッキを施すことによって実現される。
2. Description of the Related Art In response to the demand for higher density of printed circuit boards in accordance with the miniaturization and high-density mounting of electronic devices, recently, multilayer printed circuit boards in which a plurality of printed circuit boards are stacked have appeared. In such a multilayer printed circuit board, it is necessary to electrically connect conductive layers (copper boards) between printed circuit boards stacked one above another. Such connection is made by a resin layer (polyimide,
This is realized by forming a hole called a via hole reaching the lower conductive layer in a polymer such as an epoxy resin) and plating the inside of the hole.

【0003】バイアホールを形成する方法として、以前
は、機械的な微細ドリルが用いられていた。しかし、プ
リント回路基板の高密度化に伴うバイアホールの径の縮
小に伴い、最近では微細ドリルに代えてレーザ光を利用
したレーザ穴あけ加工装置が採用されるようになってき
た。
[0003] As a method of forming via holes, a mechanical fine drill was used before. However, with the reduction in the diameter of via holes accompanying the increase in density of printed circuit boards, recently, a laser drilling apparatus using laser light instead of a fine drill has been adopted.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】例えば、炭酸ガスレー
ザやYAGレーザを用いてバイアホールを形成するレー
ザ穴あけ加工装置は良く知られており、安価で高速加工
が可能であるという利点がある。しかしながら、このよ
うなレーザ穴あけ加工装置で形成されたバイアホール
は、樹脂層に形成した穴の底面、すなわち露出させよう
とする導電層の表面の一部または全面に薄い(ポリイミ
ド、エポキシ系樹脂では厚さ1μm以下)残渣成分(ス
ミアと呼ばれる)が残ってしまうという問題点がある。
For example, a laser drilling apparatus for forming a via hole using a carbon dioxide gas laser or a YAG laser is well known, and has the advantage of being inexpensive and capable of high-speed processing. However, the via hole formed by such a laser drilling apparatus is thin on the bottom surface of the hole formed in the resin layer, that is, on a part or the entire surface of the conductive layer to be exposed (for polyimide or epoxy resin, There is a problem that a residual component (called smear) remains (thickness of 1 μm or less).

【0005】この残渣成分は、この後さらにレーザ光を
照射しても完全に除去することはできない。これは、レ
ーザ光をさらに照射して残渣成分を蒸発させようとして
も、このとき周囲の樹脂が溶出して(導電層は銅である
ことが多く、熱の拡散が速いため)新たな残渣成分を形
成してしまうためと思われる。
[0005] This residual component cannot be completely removed by further irradiating a laser beam thereafter. This is because even if the residual component is evaporated by further irradiating the laser beam, the surrounding resin elutes at this time (the conductive layer is often made of copper and the heat diffusion is fast), and the new residual component is removed. It is thought that it forms.

【0006】このため、従来は、残渣成分を除去するた
めに、レーザ加工処理後に、過マンガン酸液を使用した
ウエットプロセスが必要であった。このウエットプロセ
スには、以下の2つの目的がある。
For this reason, conventionally, a wet process using a permanganate solution has been required after the laser processing in order to remove the residual components. This wet process has the following two purposes.

【0007】1.導電層表面の残渣成分の除去 2.バイアホールの内壁及び導電層表面の粗化処理 上記の粗化処理は、ウエットプロセスの条件出しが容易
であるが、残渣成分の除去は条件出しが難しい。すなわ
ち、残渣成分の除去のためには、通常、膨潤−過マンガ
ン酸エッチング−還元の工程が必要であり、液の種類、
過マンガン酸の濃度、液温、浸透時間、バイアホールへ
の液浸透方法等の条件出しが難しい。
[0007] 1. 1. Removal of residual components on the conductive layer surface Roughening treatment of inner wall of via hole and conductive layer surface The above roughening treatment makes it easy to set conditions for the wet process, but it is difficult to set conditions for removing residual components. That is, in order to remove the residual components, a swelling-permanganate etching-reduction step is usually required, and the type of the liquid,
It is difficult to determine the conditions such as the concentration of permanganate, the liquid temperature, the permeation time, and the method of permeating the liquid into the via holes.

【0008】そこで、本発明の課題は、ウエットプロセ
ス無しでバイアホールの残渣成分を除去することのでき
るデスミア装置を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a desmear apparatus capable of removing a residual component of a via hole without a wet process.

【0009】本発明はまた、上記のデスミア装置に適し
たデスミア方法を提供しようとするものである。
Another object of the present invention is to provide a desmear method suitable for the above desmear apparatus.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、レーザ穴あけ
加工装置におけるレーザ発振器からのレーザ光を、金属
膜上に形成された樹脂層に照射して前記樹脂層にバイア
ホールを形成し、該バイアホールに残留する残渣成分を
除去するためのデスミア装置であって、グリーン光を発
生するためのグリーン光発生装置と、発生されたグリー
ン光を線状のビーム光に変換する線状ビーム発生ユニッ
トと、前記線状のビーム光を前記バイアホールの形成さ
れた領域を走査させる走査手段とを備えたことを特徴と
する。
According to the present invention, a resin layer formed on a metal film is irradiated with a laser beam from a laser oscillator in a laser drilling apparatus to form a via hole in the resin layer. A desmear device for removing residual components remaining in a via hole, a green light generating device for generating green light, and a linear beam generating unit for converting the generated green light into a linear beam light And scanning means for scanning the linear beam light over the area where the via hole is formed.

【0011】なお、前記レーザ加工装置は、所定のサイ
ズを持つ母板に設定された前記所定のサイズより十分に
小さなサイズの複数の加工領域に1つの加工領域毎に穴
あけ加工を行うものであり、前記線状のビーム光の長さ
は、前記加工領域の一辺より長く設定されている。
[0011] The laser processing apparatus performs a drilling operation for each processing region in a plurality of processing regions having a size sufficiently smaller than the predetermined size set on a mother plate having a predetermined size. The length of the linear beam light is set longer than one side of the processing region.

【0012】また、前記グリーン光発生装置は、YAG
レーザ発振器からのパルス状のレーザ光から波長532
(nm)の第2高調波を抽出して出力するものであり、
前記線状ビーム発生ユニットは、前記線状のビーム光を
パルス状にして照射する。
Further, the green light generating device may be a YAG
Wavelength 532 from pulsed laser light from laser oscillator
(Nm) is extracted and output.
The linear beam generating unit irradiates the linear beam light in a pulse shape.

【0013】更に、前記線状のビーム光のパルス1回当
たりの照射エネルギーは、1(mJ)以下であることを
特徴とする。
Further, the irradiation energy of the linear beam light per pulse is 1 (mJ) or less.

【0014】更に、前記グリーン光発生装置と前記線状
ビーム発生ユニットとの間が光ファイバで接続されてい
ることを特徴とする。
Further, the invention is characterized in that the green light generating device and the linear beam generating unit are connected by an optical fiber.

【0015】更に、前記走査手段は、前記線状のビーム
光を振らせて前記母板上を走査させることができる。
Further, the scanning means can scan the base plate by oscillating the linear beam light.

【0016】更に、前記レーザ穴あけ加工装置が前記母
板を搭載してX軸方向及びY軸方向に移動させるための
X−Yステージを備えている場合には、該X−Yステー
ジを前記走査手段として用いることができる。
Further, in the case where the laser drilling apparatus includes an XY stage for mounting the mother plate and moving the mother plate in the X-axis direction and the Y-axis direction, the XY stage is used for the scanning. It can be used as a means.

【0017】前記走査手段はまた、互いに隣接する走査
領域の一部が重なるように走査することを特徴とする。
[0017] The scanning means is further characterized in that scanning is performed such that a part of scanning areas adjacent to each other overlaps.

【0018】本発明によるデスミア方法は、金属膜上に
形成された樹脂層にレーザ光を照射することにより形成
されたバイアホールに残留する残渣成分を除去するため
のデスミア方法において、グリーン光を断面が線状のビ
ーム光に変換したうえで、該線状のビーム光を前記バイ
アホールの形成された領域を走査させることによりデス
ミアを行うことを特徴とする。
The desmear method according to the present invention is directed to a desmear method for removing a residue component remaining in a via hole formed by irradiating a resin layer formed on a metal film with a laser beam. Is converted into a linear light beam, and then the linear light beam is scanned in an area where the via hole is formed, thereby performing desmearing.

【0019】このデスミア方法においては、所定のサイ
ズを持つ母板に設定された前記所定のサイズより十分に
小さなサイズの複数の加工領域に1つの加工領域毎に少
なくとも1つのバイアホールが形成され、前記線状のビ
ーム光の長さは、前記加工領域の一辺より長く設定さ
れ、前記線状のビーム光の走査を、互いに隣接する走査
領域の一部が重なるように行うことを特徴とする。
In this desmearing method, at least one via hole is formed in each of a plurality of processing regions having a size sufficiently smaller than the predetermined size set in a mother plate having a predetermined size, The length of the linear light beam is set to be longer than one side of the processing region, and scanning of the linear light beam is performed so that a part of the scanning regions adjacent to each other overlap.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施の形態の説
明に入る前に、本発明によるデスミア装置が組み合わさ
れるレーザ穴あけ加工装置について図6、図7を参照し
て説明する。図6において、CO2 (炭酸ガス)レーザ
によるレーザ発振器10で発生されたパルス状のレーザ
光は、反射ミラー11により90°角度を変えてマスク
13に導かれる。マスク13では、ビアホール径を規定
する穴を通過することによって、レーザ光のビーム径が
絞り込まれてX−Yスキャナ14に導かれる。X−Yス
キャナ14はレーザ光を振らせるためのものであり、振
られたレーザ光は焦点合わせ用レンズとして作用しfθ
レンズとも呼ばれる加工レンズ15を通してX−Yステ
ージ16上におかれたワーク(プリント配線基板)17
に照射される。X−Yステージ16はX軸方向の駆動機
構とY軸方向の駆動機構とを有して、ワーク17をX−
Y平面上で移動させて位置調整することができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Before describing a preferred embodiment of the present invention, a laser drilling apparatus to which a desmear apparatus according to the present invention is combined will be described with reference to FIGS. In FIG. 6, a pulsed laser beam generated by a laser oscillator 10 using a CO 2 (carbon dioxide gas) laser is guided to a mask 13 at an angle of 90 ° by a reflection mirror 11. In the mask 13, the beam diameter of the laser beam is narrowed by passing through a hole that defines a via hole diameter, and the laser beam is guided to the XY scanner 14. The XY scanner 14 is for oscillating the laser light, and the oscillated laser light acts as a focusing lens and fθ
Work (printed wiring board) 17 placed on an XY stage 16 through a processing lens 15 also called a lens
Is irradiated. The XY stage 16 has a drive mechanism in the X-axis direction and a drive mechanism in the Y-axis direction.
The position can be adjusted by moving on the Y plane.

【0021】図7において、X−Yスキャナ14は、2
つのガルバノミラー14−1,14−2を組み合わせて
成るガルバノスキャナと呼ばれるものである。すなわ
ち、2つの反射ミラーをガルバノメータの駆動原理で独
立して回動させることにより、レーザ光を加工レンズ1
5を通してワーク17の所望の複数の位置に連続して照
射することができる。
In FIG. 7, the XY scanner 14
This is a so-called galvano scanner formed by combining two galvanometer mirrors 14-1 and 14-2. That is, the two reflection mirrors are independently rotated according to the driving principle of the galvanometer, so that the laser light is
5, it is possible to continuously irradiate a plurality of desired positions of the work 17.

【0022】なお、CO2 レーザによるレーザ光の場
合、1つのバイアホール当たりパルス状のレーザ光を数
回(通常2〜3回)照射することで穴あけが行われる。
また、通常、X−Yスキャナ14による走査範囲は数c
m四方の領域であり、後述するように、ワーク17には
この走査範囲により決まる領域が加工領域としてマトリ
クス状に設定される。そして、レーザ穴あけ加工装置
は、加工領域に複数の穴あけ加工を行い、ある加工領域
の穴あけ加工が終了したら、次の加工領域に移動して同
じパターンの穴あけ加工を行う。次の加工領域への移動
は、通常、X−Yステージ16により行われる。
In the case of laser light from a CO 2 laser, a hole is formed by irradiating a pulsed laser light per via hole several times (usually two to three times).
Usually, the scanning range of the XY scanner 14 is several c.
The area determined by this scanning range is set in the form of a matrix in the work 17 as a processing area, as will be described later. Then, the laser drilling device performs a plurality of drilling operations on the processing region, and when the drilling operation of a certain processing region is completed, moves to the next processing region and performs the drilling operation of the same pattern. The movement to the next processing area is usually performed by the XY stage 16.

【0023】本発明によるデスミア装置は、上記のよう
なレーザ穴あけ加工装置に組み合わされるが、特にレー
ザ発振器のタイプによる制約を受けることは無い。
The desmear apparatus according to the present invention is combined with the laser drilling apparatus as described above, but is not particularly limited by the type of the laser oscillator.

【0024】図1〜図3を参照して、本発明の好ましい
実施の形態について説明する。図1において、本形態に
おけるデスミア装置は、あらかじめ定められた波長を持
つグリーン光を発生するためのグリーン光発生装置1
と、発生されたグリーン光を断面が線状のビーム光に変
換する線状ビーム発生ユニット2とを含む。更に、図示
していないが、線状のビーム光をバイアホールの形成さ
れた加工領域を走査させる走査機構を含む。
A preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In FIG. 1, a desmear device according to the present embodiment is a green light generating device 1 for generating green light having a predetermined wavelength.
And a linear beam generating unit 2 for converting the generated green light into a linear light beam in cross section. Further, although not shown, a scanning mechanism for scanning a processing area in which the via hole is formed with a linear beam light is included.

【0025】線状ビーム発生ユニット2により生成され
る線状のビーム光のサイズ、特に長さは、図2に一例を
示すように、加工領域の一辺よりやや長くなるように設
定されている。図2の例は、加工領域が一辺5cmの正
方形の場合であり、この場合長さ60mm、幅0.1m
m以上にされる。このように、線状のビーム光のサイズ
は、加工領域の面積にもよるが、長さは約30〜60m
m、幅は0.1〜0.5mm程度である。
The size, particularly the length, of the linear beam light generated by the linear beam generating unit 2 is set to be slightly longer than one side of the processing area, as shown in an example in FIG. The example of FIG. 2 is a case where the processing area is a square having a side of 5 cm, in which case the length is 60 mm and the width is 0.1 m.
m or more. As described above, the size of the linear beam light depends on the area of the processing region, but the length is about 30 to 60 m.
m, and the width is about 0.1 to 0.5 mm.

【0026】なお、グリーン光発生装置1は、ここで
は、YAGレーザ発振器を用いてそこからのパルス状の
レーザ光から波長532(nm)の第2高調波を抽出し
て出力するものである。線状ビーム発生ユニット2は、
線状のビーム光をパルス状にして照射する。そして、線
状のビーム光のパルス1回当たりの照射エネルギーは、
1(mJ)以下とすることで残渣成分の除去、すなわち
デスミアが可能となる。これは、前に述べたように、レ
ーザ穴あけ加工装置からのパルス状のレーザ光をそのま
ま照射したのでは、照射エネルギーが高いために残渣成
分の除去ができないが、特定波長を持つグリーン光を利
用することで、残渣成分の除去に適した照射エネルギー
を得ることができるからである。勿論、このグリーン光
が樹脂層及び導電層に影響を及ぼすことは無い。
The green light generating device 1 uses a YAG laser oscillator to extract the second harmonic having a wavelength of 532 (nm) from the pulsed laser light therefrom and output the same. The linear beam generating unit 2
The linear beam light is irradiated in a pulse shape. The irradiation energy per pulse of the linear beam light is
When the content is 1 (mJ) or less, removal of the residual components, that is, desmearing becomes possible. This is because, as mentioned earlier, if the pulsed laser beam from the laser drilling machine is directly irradiated, the residual energy cannot be removed due to the high irradiation energy, but green light with a specific wavelength is used. By doing so, irradiation energy suitable for removing the residual component can be obtained. Of course, this green light does not affect the resin layer and the conductive layer.

【0027】本形態においては、グリーン光が可視光で
あることから、グリーン光発生装置1と線状ビーム発生
ユニット2との間が光ファイバ3で接続される。
In this embodiment, since the green light is visible light, the optical fiber 3 connects between the green light generator 1 and the linear beam generating unit 2.

【0028】図3を参照して、線状ビーム発生ユニット
2の一例について説明する。線状ビーム発生ユニット2
は、複数のレンズを組合せて成るコリメータレンズ2
1、複数のプリズムを組合せて成るウエッジプリズム2
2、複数のレンズの組合せによるシリンドリカルレンズ
23を含む。グリーン光発生装置1からのグリーン光を
集光レンズ4で集光し、光ファイバを経由して線状ビー
ム発生ユニット2に導入すると、円形あるいは矩形のあ
る断面積を持つグリーン光が断面線状のビームに変換さ
れる。
An example of the linear beam generating unit 2 will be described with reference to FIG. Linear beam generation unit 2
Is a collimator lens 2 formed by combining a plurality of lenses.
1. Wedge prism 2 formed by combining a plurality of prisms
2. Includes a cylindrical lens 23 formed by a combination of a plurality of lenses. When the green light from the green light generating device 1 is condensed by the condensing lens 4 and introduced into the linear beam generating unit 2 via an optical fiber, the green light having a circular or rectangular cross-sectional area becomes linear in cross section. Is converted into a beam.

【0029】次に、図4をも参照して、グリーン光によ
る線状のビーム光の走査方法について説明する。図4に
おいて、ワーク17には数cm四方の等面積の多数の加
工領域17−1がマトリクス状に連続して設定されてい
る。前に述べたように、レーザ穴あけ加工装置による穴
あけ加工は、破線の矢印で示す軌跡で加工領域17−1
毎に順に行われる。
Next, a method of scanning a linear light beam with green light will be described with reference to FIG. In FIG. 4, a large number of processing regions 17-1 having the same area of several cm square are continuously set in a matrix on the work 17. As described above, the drilling by the laser drilling device is performed in the processing area 17-1 along the locus indicated by the broken arrow.
It is performed in order for each time.

【0030】第1の走査方法では、すべての加工領域に
対する穴あけ加工が終了すると、線状ビーム発生ユニッ
ト2を穴あけ加工と同じ軌跡で移動させる。この移動軌
跡は図4に実線の矢印で示している。特に、前に述べた
ように、線状のビーム光Bの長さを、加工領域17−1
の一辺よりやや長くなるように設定し、線状のビーム光
Bがワーク17の一端から他端へ向けて走査する工程
と、他端から一端へ向けて戻りながら走査する工程にお
いて走査領域の一部が重なるように走査する。これは、
図2に示すように、線状ビーム発生ユニット2で発生さ
れた線状のビーム光Bは、その両端においてエネルギー
密度が低くなることが避けられないので、残渣成分の除
去を確実にするためである。
In the first scanning method, when the drilling for all the processing areas is completed, the linear beam generating unit 2 is moved along the same locus as the drilling. This movement locus is shown by a solid line arrow in FIG. In particular, as described above, the length of the linear light beam B is set to the processing area 17-1.
Is set to be slightly longer than one side of the workpiece 17 in the step of scanning the linear beam light B from one end to the other end of the work 17 and the step of scanning while returning from the other end to one end. Scan so that the parts overlap. this is,
As shown in FIG. 2, the linear beam light B generated by the linear beam generating unit 2 is inevitably reduced in energy density at both ends thereof, so that it is necessary to reliably remove residue components. is there.

【0031】第2の走査方法では、線状ビーム発生ユニ
ット2は固定とし、X−Yステージ16でワーク17を
移動させることにより、図4で説明したのとまったく同
じ軌跡で走査を行うことができる。すなわち、X−Yス
テージ16をデスミア装置用の走査手段として共用する
ことができる。
In the second scanning method, the linear beam generating unit 2 is fixed, and the workpiece 17 is moved on the XY stage 16 so that scanning can be performed with exactly the same locus as described with reference to FIG. it can. That is, the XY stage 16 can be commonly used as scanning means for the desmear apparatus.

【0032】なお、バイアホールを形成する樹脂の種類
により、照射エネルギーを調整する必要がある。この場
合、デスミア処理も、穴あけ加工と同様、線状のビーム
光Bを同じ個所に複数回照射することで行われるので、
照射エネルギーの調整は、線状のビーム光Bを振らせる
場合にはその発生パルス周期を変えることで行うことが
できる。一方、X−Yステージ16を走査手段として使
用する場合には、その送り速度を変えることで実現でき
る。
It is necessary to adjust the irradiation energy depending on the type of the resin forming the via hole. In this case, the desmear process is performed by irradiating the same portion with the linear beam light B a plurality of times, similarly to the drilling process.
The adjustment of the irradiation energy can be performed by changing the generated pulse cycle when the linear light beam B is to be oscillated. On the other hand, when the XY stage 16 is used as a scanning means, it can be realized by changing the feed speed.

【0033】また、線状のビーム光Bをビームスプリッ
タを通すことで、図2に示すエネルギー密度の高い領域
LBのみを取り出すようにすれば、上に述べた重複走査
は不要となる。
Further, if the linear beam light B is passed through the beam splitter so that only the high energy density region LB shown in FIG. 2 is extracted, the above-described overlapping scanning becomes unnecessary.

【0034】デスミア処理に要する時間は数秒程度であ
るが、これを更に短縮するために、穴あけ加工とデスミ
ア処理とを並行させる方法を採用しても良い。すなわ
ち、穴あけ加工のための光学系と、線状ビーム発生ユニ
ット2とを隣接して配置し、ある加工領域に対する穴あ
け加工が終了して穴あけ加工のための光学系が次の加工
領域に移動する時に、加工直後の領域を線状のビーム光
Bにより走査するようにする。この場合、図5に示すよ
うに、1列の最後の加工領域17−11では線状のビー
ム光Bを90度回転させ、更にその隣の加工領域17−
12でも線状のビーム光Bを90度回転させる必要があ
る。
Although the time required for the desmearing process is about several seconds, in order to further reduce the time, a method in which the boring process and the desmearing process are performed in parallel may be adopted. That is, the optical system for drilling and the linear beam generating unit 2 are arranged adjacent to each other, and the drilling for one processing area is completed, and the optical system for drilling moves to the next processing area. At times, the area immediately after the processing is scanned by the linear light beam B. In this case, as shown in FIG. 5, in the last processing region 17-11 in one row, the linear light beam B is rotated by 90 degrees, and the processing region 17-
12, the linear light beam B needs to be rotated by 90 degrees.

【0035】以上説明したデスミア装置は、残渣成分の
除去を必要とするすべてのレーザ穴あけ加工装置に適用
可能であり、更には本発明者により提案されている特願
平9−125422号(特開平10−58178号公
報)に示されているような複数軸ガルバノスキャナを用
いたレーザ加工装置にも適用され得る。
The desmear apparatus described above is applicable to all laser drilling apparatuses which require removal of residual components, and is further disclosed in Japanese Patent Application No. 9-125422 proposed by the present inventors (Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-58178) can be applied to a laser processing apparatus using a multi-axis galvano scanner.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、条件出しの難しい従来のウエットプロセス無しでバ
イアホールの残渣成分を除去することが可能となり、穴
あけ加工に要する時間を大幅に短縮することができる。
また、本発明によるデスミア装置は、既設のレーザ穴あ
け加工装置にも容易に組み付けることができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to remove the residual component of the via hole without the conventional wet process in which the conditions are difficult to determine, and the time required for drilling is greatly reduced. can do.
Further, the desmear apparatus according to the present invention can be easily assembled to an existing laser drilling apparatus.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるデスミア装置の好ましい実施の形
態の構成を示した図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a preferred embodiment of a desmear apparatus according to the present invention.

【図2】図1における線状ビーム発生ユニットにより生
成される線状のビーム光のサイズ及びエネルギー密度の
特性を説明するための図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining characteristics of the size and energy density of a linear beam light generated by a linear beam generating unit in FIG. 1;

【図3】図1に示された線状ビーム発生ユニットの一例
を説明するための内部構成図である。
FIG. 3 is an internal configuration diagram for explaining an example of a linear beam generation unit shown in FIG.

【図4】ワークの加工領域に対する線状のビーム光の走
査方法を説明するための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining a method of scanning a linear light beam on a processing area of a workpiece.

【図5】ワークの加工領域に対する線状のビーム光の走
査方法の他の例を説明するための図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining another example of a method of scanning a linear light beam on a processing region of a work.

【図6】本発明が組み合わされるレーザ穴あけ加工装置
の一例の構成を示した図である。
FIG. 6 is a diagram showing a configuration of an example of a laser drilling apparatus to which the present invention is combined.

【図7】図6に示されたX−Yスキャナの構成を示した
図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration of the XY scanner illustrated in FIG. 6;

【符号の説明】 1 グリーン光発生装置 2 線状ビーム発生ユニット 3 光ファイバ 10 レーザ発振器 11 反射ミラー 13 マスク 14 X−Yスキャナ 14−1、14−2 ガルバノミラー 15 加工レンズ 16 X−Yステージ 17 ワーク[Description of Signs] 1 Green light generating device 2 Linear beam generating unit 3 Optical fiber 10 Laser oscillator 11 Reflection mirror 13 Mask 14 XY scanner 14-1, 14-2 Galvano mirror 15 Processing lens 16 XY stage 17 work

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H05K 3/46 H05K 3/46 X // B23K 101:42 B23K 101:42 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI H05K 3/46 H05K 3/46 X // B23K 101: 42 B23K 101: 42

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 レーザ穴あけ加工装置におけるレーザ発
振器からのレーザ光を、金属膜上に形成された樹脂層に
照射して前記樹脂層にバイアホールを形成し、該バイア
ホールに残留する残渣成分を除去するためのデスミア装
置であって、グリーン光を発生するためのグリーン光発
生装置と、発生されたグリーン光を線状のビーム光に変
換する線状ビーム発生ユニットと、前記線状のビーム光
を前記バイアホールの形成された領域を走査させる走査
手段とを備えたことを特徴とするレーザ穴あけ加工装置
用のデスミア装置。
A laser beam from a laser oscillator in a laser drilling device is applied to a resin layer formed on a metal film to form a via hole in the resin layer, and a residual component remaining in the via hole is removed. A desmear device for removing, a green light generating device for generating green light, a linear beam generating unit for converting the generated green light into a linear beam light, and the linear beam light Scanning means for scanning an area in which the via hole is formed, for a laser drilling apparatus.
【請求項2】 請求項1記載のデスミア装置において、
前記レーザ加工装置は、所定のサイズを持つ母板に設定
された前記所定のサイズより十分に小さなサイズの複数
の加工領域に1つの加工領域毎に穴あけ加工を行うもの
であり、前記線状のビーム光の長さは、前記加工領域の
一辺より長く設定されていることを特徴とするレーザ穴
あけ加工装置用のデスミア装置。
2. The desmear device according to claim 1, wherein
The laser processing apparatus is for performing a drilling process for each of a plurality of processing regions having a size sufficiently smaller than the predetermined size set on a mother plate having a predetermined size for each processing region. A desmear apparatus for a laser drilling apparatus, wherein a length of the light beam is set to be longer than one side of the processing area.
【請求項3】 請求項2記載のデスミア装置において、
前記グリーン光発生装置は、YAGレーザ発振器からの
パルス状のレーザ光から波長532(nm)の第2高調
波を抽出して出力するものであり、前記線状ビーム発生
ユニットは、前記線状のビーム光をパルス状にして照射
することを特徴とするレーザ穴あけ加工装置用のデスミ
ア装置。
3. The desmear device according to claim 2, wherein
The green light generator extracts and outputs a second harmonic having a wavelength of 532 (nm) from a pulsed laser beam from a YAG laser oscillator, and the linear beam generating unit includes the linear beam generator. A desmear apparatus for a laser drilling apparatus, which irradiates a pulsed light beam.
【請求項4】 請求項3記載のデスミア装置において、
前記線状のビーム光のパルス1回当たりの照射エネルギ
ーが1(mJ)以下であることを特徴とするレーザ穴あ
け加工装置用のデスミア装置。
4. The desmear device according to claim 3, wherein
A desmear device for a laser drilling device, wherein the irradiation energy per pulse of the linear beam light is 1 (mJ) or less.
【請求項5】 請求項4記載のデスミア装置において、
前記グリーン光発生装置と前記線状ビーム発生ユニット
との間が光ファイバで接続されていることを特徴とする
レーザ穴あけ加工装置用のデスミア装置。
5. The desmear device according to claim 4, wherein
A desmear device for a laser drilling device, wherein the green light generating device and the linear beam generating unit are connected by an optical fiber.
【請求項6】 請求項2記載のデスミア装置において、
前記走査手段は、前記線状のビーム光を振らせて前記母
板上を走査させることを特徴とするレーザ穴あけ加工装
置用のデスミア装置。
6. The desmear device according to claim 2, wherein
A desmear apparatus for a laser drilling apparatus, wherein the scanning means scans the base plate by oscillating the linear beam light.
【請求項7】 請求項2記載のデスミア装置において、
前記レーザ穴あけ加工装置は前記母板を搭載してX軸方
向及びY軸方向に移動させるためのX−Yステージを備
え、該X−Yステージを前記走査手段として用いること
を特徴とするレーザ穴あけ加工装置用のデスミア装置。
7. The desmear device according to claim 2, wherein
The laser drilling apparatus includes an XY stage for mounting the base plate and moving the mother plate in the X-axis direction and the Y-axis direction, and using the XY stage as the scanning unit. Desmear device for processing equipment.
【請求項8】 請求項2記載のデスミア装置において、
前記走査手段は、互いに隣接する走査領域の一部が重な
るように走査することを特徴とするレーザ穴あけ加工装
置用のデスミア装置。
8. The desmear device according to claim 2, wherein
A desmear apparatus for a laser drilling apparatus, wherein the scanning means performs scanning so that a part of a scanning area adjacent to each other overlaps.
【請求項9】 金属膜上に形成された樹脂層にレーザ光
を照射することにより形成されたバイアホールに残留す
る残渣成分を除去するためのデスミア方法において、グ
リーン光を断面が線状のビーム光に変換したうえで、該
線状のビーム光を前記バイアホールの形成された領域を
走査させることによりデスミアを行うことを特徴とする
デスミア方法。
9. A desmear method for removing a residue component remaining in a via hole formed by irradiating a resin layer formed on a metal film with a laser beam, wherein a green light beam having a linear cross section is used. A desmear method comprising: converting light into light; and performing desmearing by scanning the linear beam light in an area where the via hole is formed.
【請求項10】 請求項9記載のデスミア方法におい
て、所定のサイズを持つ母板に設定された前記所定のサ
イズより十分に小さなサイズの複数の加工領域に1つの
加工領域毎に少なくとも1つのバイアホールが形成され
ており、前記線状のビーム光の長さは、前記加工領域の
一辺より長く設定されており、前記線状のビーム光の走
査を、互いに隣接する走査領域の一部が重なるように行
うことを特徴とするデスミア方法。
10. The desmear method according to claim 9, wherein at least one via is provided in each of a plurality of processing regions having a size sufficiently smaller than the predetermined size set on a mother plate having a predetermined size. A hole is formed, and the length of the linear beam light is set to be longer than one side of the processing region, and scanning of the linear beam light overlaps a part of the scanning regions adjacent to each other. And a desmear method.
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