JPH11342490A - Desmear device for laser piercing equipment, and desmear method - Google Patents

Desmear device for laser piercing equipment, and desmear method

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JPH11342490A
JPH11342490A JP10149223A JP14922398A JPH11342490A JP H11342490 A JPH11342490 A JP H11342490A JP 10149223 A JP10149223 A JP 10149223A JP 14922398 A JP14922398 A JP 14922398A JP H11342490 A JPH11342490 A JP H11342490A
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JP
Japan
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laser
desmear
laser light
work
scanning
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Application number
JP10149223A
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Japanese (ja)
Inventor
Shiro Hamada
史郎 浜田
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Publication of JPH11342490A publication Critical patent/JPH11342490A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a desmear device for removing a residue component of a via hole without a wet process. SOLUTION: This invention relates to a desmear device for removing a residue component left in a via hole formed on a metallic film of a work 17 by means of a laser piercing equipment. This desmear device comprises a laser light generator 1 for generating a laser light having a predetermined wavelength required for removing the residue component, a polygon mirror 2 for scanning the generated laser light across overall length of the work width direction, and a stage 3 for moving the work in a direction perpendicular to the scanning direction of the laser light at right angle.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いて
プリント配線基板、特に多層プリント配線基板にバイア
ホールを形成するレーザ穴あけ加工装置に内蔵あるいは
組み合わされて、バイアホールに残留する残渣成分を除
去するためのデスミア装置及びデスミア方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser drilling apparatus for forming via holes in a printed wiring board, particularly a multilayer printed wiring board using a laser beam. The present invention relates to a desmear apparatus and a desmear method for removing.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の小型化、高密度実装化に伴
う、プリント配線基板の高密度化の要求に応えて、近
年、複数のプリント配線基板を積層した多層プリント配
線基板が登場してきた。このような多層プリント配線基
板では、上下に積層されたプリント配線基板間で導電層
(銅基板)同士を電気的に接続する必要がある。このよ
うな接続は、プリント配線基板の樹脂層(ポリイミド、
エポキシ系樹脂等のポリマー)に、下層の導電層に達す
るバイアホールと呼ばれる穴を形成し、その穴の内部に
メッキを施すことによって実現される。
2. Description of the Related Art In response to the demand for higher density of printed wiring boards in accordance with the miniaturization and high-density mounting of electronic devices, recently, multilayer printed wiring boards in which a plurality of printed wiring boards are stacked have appeared. In such a multilayer printed wiring board, it is necessary to electrically connect conductive layers (copper boards) between printed wiring boards stacked one above another. Such connection is made by a resin layer (polyimide,
This is realized by forming a hole called a via hole reaching the lower conductive layer in a polymer such as an epoxy resin) and plating the inside of the hole.

【0003】バイアホールを形成する方法として、以前
は、機械的な微細ドリルが用いられていた。しかし、プ
リント配線基板の高密度化に伴うバイアホールの径の縮
小に伴い、最近では微細ドリルに代えてレーザ光を利用
したレーザ穴あけ加工装置が採用されるようになってき
た。
[0003] As a method of forming via holes, a mechanical fine drill was used before. However, with the reduction in the diameter of via holes accompanying the increase in density of printed wiring boards, recently, a laser drilling apparatus using laser light instead of a fine drill has been adopted.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】例えば、炭酸ガスレー
ザやYAGレーザを用いてバイアホールを形成するレー
ザ穴あけ加工装置は良く知られており、安価で高速加工
が可能であるという利点がある。しかしながら、このよ
うなレーザ穴あけ加工装置で形成されたバイアホール
は、樹脂層に形成した穴の底面、すなわち露出させよう
とする導電層の表面の一部または全面に薄い(ポリイミ
ド、エポキシ系樹脂では厚さ1μm以下)残渣成分(ス
ミアと呼ばれる)が残ってしまうという問題点がある。
For example, a laser drilling apparatus for forming a via hole using a carbon dioxide gas laser or a YAG laser is well known, and has the advantage of being inexpensive and capable of high-speed processing. However, the via hole formed by such a laser drilling apparatus is thin on the bottom surface of the hole formed in the resin layer, that is, on a part or the entire surface of the conductive layer to be exposed (for polyimide or epoxy resin, There is a problem that a residual component (called smear) remains (thickness of 1 μm or less).

【0005】この残渣成分は、この後さらに同じレーザ
光を照射しても完全に除去することはできない。これ
は、レーザ光をさらに照射して残渣成分を蒸発させよう
としても、このとき周囲の樹脂が溶出して(導電層は銅
であることが多く、熱の拡散が速いため)新たな残渣成
分を形成してしまうためと思われる。
[0005] This residual component cannot be completely removed even if the same laser beam is irradiated thereafter. This is because even if the residual component is evaporated by further irradiating the laser beam, the surrounding resin elutes at this time (the conductive layer is often made of copper and the heat diffusion is fast), and the new residual component is removed. It is thought that it forms.

【0006】このため、従来は、残渣成分を除去するた
めに、レーザ加工処理後に、過マンガン酸液を使用した
ウエットプロセスが必要であった。このウエットプロセ
スには、以下の2つの目的がある。
For this reason, conventionally, a wet process using a permanganate solution has been required after the laser processing in order to remove the residual components. This wet process has the following two purposes.

【0007】1.導電層表面の残渣成分の除去 2.バイアホールの内壁及び導電層表面の粗化処理 上記の粗化処理は、ウエットプロセスの条件出しが容易
であるが、残渣成分の除去は条件出しが難しい。すなわ
ち、残渣成分の除去のためには、通常、膨潤−過マンガ
ン酸エッチング−還元の工程が必要であり、液の種類、
過マンガン酸の濃度、液温、浸透時間、バイアホールへ
の液浸透方法等の条件出しが難しい。
[0007] 1. 1. Removal of residual components on the conductive layer surface Roughening treatment of inner wall of via hole and conductive layer surface The above roughening treatment makes it easy to set conditions for the wet process, but it is difficult to set conditions for removing residual components. That is, in order to remove the residual components, a swelling-permanganate etching-reduction step is usually required, and the type of the liquid,
It is difficult to determine the conditions such as the concentration of permanganate, the liquid temperature, the permeation time, and the method of permeating the liquid into the via holes.

【0008】そこで、本発明の課題は、ウエットプロセ
ス無しでバイアホールの残渣成分を除去することのでき
るデスミア装置を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a desmear apparatus capable of removing a residual component of a via hole without a wet process.

【0009】本発明の他の課題は、レーザ穴あけ加工装
置に適したデスミア方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a desmear method suitable for a laser drilling machine.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、レーザ穴あけ
加工装置におけるレーザ発振器からのレーザ光を、ワー
クにおける金属膜上に形成された樹脂層に照射して形成
されたバイアホールに残留する残渣成分を除去するため
のデスミア装置であって、前記残渣成分を除去するため
に必要なあらかじめ定められた波長を持つレーザ光を発
生するためのレーザ光発生装置と、発生されたレーザ光
を前記ワークの幅方向全長にわたってスキャンさせるス
キャン手段と、前記ワークを前記レーザ光のスキャン方
向と直角な方向に移動させる移動手段とを備えたことを
特徴とする。
According to the present invention, there is provided a laser drilling machine which irradiates a resin layer formed on a metal film on a work with a laser beam from a laser oscillator to form a residue remaining in a via hole formed on the metal film. A desmear device for removing a component, a laser light generating device for generating a laser beam having a predetermined wavelength necessary for removing the residual component, and A scanning means for scanning over the entire length in the width direction, and a moving means for moving the work in a direction perpendicular to the scanning direction of the laser beam.

【0011】前記スキャン手段は、ポリゴンミラーであ
ることが好ましい。
It is preferable that the scanning means is a polygon mirror.

【0012】また、前記レーザ光発生装置は、波長19
2(nm)から650(nm)までの範囲のガスレーザ
発振器あるいは固体レーザ発振器を含むことを特徴とす
る。
The laser light generator has a wavelength of 19.
A gas laser oscillator or a solid-state laser oscillator in a range from 2 (nm) to 650 (nm) is included.

【0013】特に、前記固体レーザ発振器として、YA
GまたはYLFレーザ発振器からのパルス状のレーザ光
から波長532(nm)の第2高調波を抽出して出力す
るものを使用することが好ましい。
In particular, YA is used as the solid-state laser oscillator.
It is preferable to use one that extracts and outputs a second harmonic having a wavelength of 532 (nm) from pulsed laser light from a G or YLF laser oscillator.

【0014】該デスミア装置を前記レーザ穴あけ加工装
置に組み込む場合には、前記レーザ穴あけ加工装置は前
記ワークを搭載してX軸方向及びY軸方向に移動させる
ためのX−Yステージを備えていることにより、該X−
Yステージを前記移動手段として兼用することができ
る。
When the desmearing apparatus is incorporated in the laser drilling apparatus, the laser drilling apparatus has an XY stage for mounting the workpiece and moving the workpiece in the X-axis direction and the Y-axis direction. The X-
The Y stage can be used also as the moving means.

【0015】本発明によるデスミア方法は、レーザ発振
器からのレーザ光をワークにおける金属膜上に形成され
た樹脂層に照射して形成されたバイアホールに残留する
残渣成分を除去するためのデスミア方法であって、波長
192(nm)から650(nm)までの範囲のレーザ
光を照射してデスミアを行うことを特徴とする。
A desmear method according to the present invention is a desmear method for removing a residual component remaining in a via hole formed by irradiating a resin layer formed on a metal film in a work with a laser beam from a laser oscillator. Desmearing is performed by irradiating laser light having a wavelength of 192 (nm) to 650 (nm).

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施の形態の説
明に入る前に、本発明によるデスミア装置が組み合わさ
れるレーザ穴あけ加工装置について図2、図3を参照し
て説明する。図2において、CO2 (炭酸ガス)レーザ
によるレーザ発振器10で発生されたパルス状のレーザ
光は、反射ミラー11により90°角度を変えてマスク
13に導かれる。マスク13では、ビアホール径を規定
する穴を通過することによって、レーザ光のビーム径が
絞り込まれてX−Yスキャナ14に導かれる。X−Yス
キャナ14はレーザ光を振らせるためのものであり、振
られたレーザ光は焦点合わせ用レンズとして作用しfθ
レンズとも呼ばれる加工レンズ15を通してX−Yステ
ージ16上におかれたワーク(プリント配線基板)17
に照射される。X−Yステージ16はX軸方向の駆動機
構とY軸方向の駆動機構とを有して、ワーク17をX−
Y平面上で移動させて位置調整することができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Before describing a preferred embodiment of the present invention, a laser drilling apparatus to which a desmear apparatus according to the present invention is combined will be described with reference to FIGS. In FIG. 2, a pulsed laser beam generated by a laser oscillator 10 using a CO 2 (carbon dioxide gas) laser is guided to a mask 13 at a 90 ° angle by a reflection mirror 11. In the mask 13, the beam diameter of the laser beam is narrowed by passing through a hole that defines the via hole diameter, and the laser beam is guided to the XY scanner 14. The XY scanner 14 is for oscillating the laser light, and the oscillated laser light acts as a focusing lens and fθ
Work (printed wiring board) 17 placed on an XY stage 16 through a processing lens 15 also called a lens
Is irradiated. The XY stage 16 has a drive mechanism in the X-axis direction and a drive mechanism in the Y-axis direction.
The position can be adjusted by moving on the Y plane.

【0017】図3において、X−Yスキャナ14は、2
つのガルバノミラー14−1,14−2を組み合わせて
成るガルバノスキャナと呼ばれるものである。すなわ
ち、2つの反射ミラーをガルバノメータの駆動原理で独
立して回動させることにより、レーザ光を加工レンズ1
5を通してワーク17の所望の複数の位置に連続して照
射することができる。
Referring to FIG. 3, the XY scanner 14
This is a so-called galvano scanner formed by combining two galvanometer mirrors 14-1 and 14-2. That is, the two reflection mirrors are independently rotated according to the driving principle of the galvanometer, so that the laser light is
5, it is possible to continuously irradiate a plurality of desired positions of the work 17.

【0018】なお、CO2 レーザによるレーザ光の場
合、1つのバイアホール当たりパルス状のレーザ光を数
回(通常2〜3回)照射することで穴あけが行われる。
また、通常、X−Yスキャナ14による走査範囲は数c
m四方の領域であるが、ワーク17の大きさは、後述す
るように、50(cm)×60(cm)程度の大きさを
持つ。このため、ワーク17にはX−Yスキャナ14の
走査範囲により決まる領域が加工領域としてマトリクス
状に設定される。そして、レーザ穴あけ加工装置は、加
工領域に複数の穴あけ加工を行い、ある加工領域の穴あ
け加工が終了したら、次の加工領域に移動して同じパタ
ーンの穴あけ加工を行う。次の加工領域への移動は、通
常、X−Yステージ16により行われる。
In the case of laser light from a CO 2 laser, drilling is performed by irradiating pulsed laser light per via hole several times (usually two to three times).
Usually, the scanning range of the XY scanner 14 is several c.
Although the area is m square, the size of the work 17 is about 50 (cm) × 60 (cm) as described later. For this reason, an area determined by the scanning range of the XY scanner 14 is set in the work 17 in a matrix as a processing area. Then, the laser drilling device performs a plurality of drilling operations on the processing region, and when the drilling operation of a certain processing region is completed, moves to the next processing region and performs the drilling operation of the same pattern. The movement to the next processing area is usually performed by the XY stage 16.

【0019】本発明によるデスミア装置は、上記のよう
なレーザ穴あけ加工装置に内蔵あるいは組み合わされる
が、特にレーザ発振器のタイプによる制約を受けること
は無い。
The desmear apparatus according to the present invention is built in or combined with the laser drilling apparatus as described above, but is not particularly limited by the type of laser oscillator.

【0020】図1を参照して、本発明の好ましい実施の
形態について説明する。はじめに、レーザ穴あけ加工装
置と別置き型のデスミア装置について説明する。このデ
スミア装置は、図2で説明したレーザ穴あけ加工装置に
より形成されたワーク17のバイアホールに残留する残
渣成分を除去するためのものであり、残渣成分を除去す
るために必要なあらかじめ定められた波長を持つレーザ
光を発生するためのレーザ光発生装置1と、発生された
レーザ光をワーク17の幅方向全長にわたってスキャン
させるポリゴンミラー2と、ワーク17をレーザ光のス
キャン方向と直角な方向、すなわち図の紙面に対して垂
直な方向に移動させるためのステージ3とを備えてい
る。なお、レーザ光発生装置1で発生されたレーザ光を
ポリゴンミラー2に導くために折り返しミラー4、5が
配置され、レーザ光のビーム径を規定するためのマスク
6が配置されているが、これらの要素は本発明の要旨を
なすものではなく、任意に変更可能である。
A preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. First, a laser drilling device and a separate type desmear device will be described. This desmear apparatus is for removing a residual component remaining in a via hole of the work 17 formed by the laser drilling apparatus described with reference to FIG. 2, and is a predetermined method required for removing the residual component. A laser light generator 1 for generating laser light having a wavelength, a polygon mirror 2 for scanning the generated laser light over the entire length of the work 17 in the width direction, and a direction perpendicular to the laser light scanning direction; That is, it has a stage 3 for moving in a direction perpendicular to the plane of the drawing. In addition, folding mirrors 4 and 5 are arranged to guide the laser light generated by the laser light generating device 1 to the polygon mirror 2, and a mask 6 for defining the beam diameter of the laser light is arranged. Are not the gist of the present invention and can be arbitrarily changed.

【0021】レーザ光発生装置1としては、波長192
(nm)から650(nm)までの範囲のガスレーザ発
振器あるいは固体レーザ発振器のいずれを使用しても良
い。例えば、固体レーザ発振器としては、YAGまたは
YLFレーザ発振器からのパルス状のレーザ光から波長
532(nm)の第2高調波を抽出して出力するものが
適している。これは、実験の結果、この波長のレーザ光
が最もデスミア効果の高いことが確認されているからで
ある。更に言えば、波長については300(nm)〜5
50(nm)が好ましく、レーザ発振器についてはQス
イッチYAGまたはYLFレーザ、Ar,Cu蒸気レー
ザ等があげられる。また、照射面でのエネルギー密度
は、0.05〜1J/cm2 程度で良い。勿論、本形態
で使用されるレーザ光は、バイアホール以外の樹脂層に
影響を及ぼすことは無い。
The laser light generator 1 has a wavelength of 192.
Either a gas laser oscillator or a solid-state laser oscillator in a range from (nm) to 650 (nm) may be used. For example, a solid-state laser oscillator that extracts and outputs a second harmonic having a wavelength of 532 (nm) from pulsed laser light from a YAG or YLF laser oscillator is suitable. This is because, as a result of experiments, it has been confirmed that laser light of this wavelength has the highest desmear effect. More specifically, the wavelength is 300 (nm) to 5
It is preferably 50 (nm), and the laser oscillator may be a Q-switched YAG or YLF laser, an Ar, Cu vapor laser, or the like. The energy density on the irradiation surface may be about 0.05 to 1 J / cm 2 . Of course, the laser beam used in the present embodiment does not affect the resin layer other than the via holes.

【0022】上記のように、デスミア除去用のレーザ光
を、ポリゴンミラー2によりワーク17の幅方向全長に
わたってスキャンし、しかもこれに並行してステージ3
によりワーク17をスキャン方向と直角な方向に移動さ
せることにより、みかけ上、デスミア除去用のレーザ光
をワーク17の全面に照射することができる。このため
に、ポリゴンミラー2によるスキャン速度に対してステ
ージ3の移動速度を低くするように設定される。なお、
ステージ3の駆動源にはサーボモータあるいはステップ
モータが使用されることが多く、この場合、ステージ3
をポリゴンミラー2による1回のスキャンが終了する毎
にステップ状に移動させるようにすることができる。い
ずれにしても、デスミア除去用のレーザ光をワーク17
の全面に照射することにより、バイアホールの底部に残
留する残渣成分を効率良く除去することができる。ま
た、ポリゴンミラー2は、通常、数十cmの範囲の走査
が可能であり、前に述べたワーク17の大きさに十分に
対応できる。
As described above, the laser beam for desmear removal is scanned by the polygon mirror 2 over the entire length of the work 17 in the width direction.
By moving the workpiece 17 in a direction perpendicular to the scanning direction, the laser beam for desmear removal can be apparently applied to the entire surface of the workpiece 17. For this purpose, the moving speed of the stage 3 is set to be lower than the scanning speed of the polygon mirror 2. In addition,
In many cases, a servo motor or a step motor is used as a drive source of the stage 3.
Can be moved stepwise each time one scan by the polygon mirror 2 is completed. In any case, the laser beam for desmear removal is applied to the work 17.
By irradiating the entire surface of the via hole, residual components remaining at the bottom of the via hole can be efficiently removed. In addition, the polygon mirror 2 can normally scan in a range of several tens of cm, and can sufficiently cope with the size of the work 17 described above.

【0023】次に、本発明によるデスミア装置を図2で
説明したようなレーザ穴あけ加工装置に組み込む場合に
ついて説明する。図2で説明したように、レーザ穴あけ
加工装置はワーク17を搭載してX軸方向及びY軸方向
に移動させるためのX−Yステージ16を備えている。
このようなレーザ穴あけ加工装置に組み込む場合、例え
ばポリゴンミラー2を図2に示した加工レンズ15の左
側に配置する。そして、図1で説明したステージ3に代
えて、X−Yステージ16を兼用することができる。
Next, a case where the desmear apparatus according to the present invention is incorporated in a laser drilling apparatus as described with reference to FIG. 2 will be described. As described in FIG. 2, the laser drilling apparatus includes the XY stage 16 on which the work 17 is mounted and moved in the X-axis direction and the Y-axis direction.
When incorporated in such a laser drilling apparatus, for example, the polygon mirror 2 is arranged on the left side of the processing lens 15 shown in FIG. The XY stage 16 can be used in place of the stage 3 described with reference to FIG.

【0024】このように組み込むことにより、ワーク1
7に対する穴あけ加工の終了後、ポリゴンミラー2によ
りデスミア用のレーザ光をスキャンさせながら、X−Y
ステージ16をポリゴンミラー2のスキャンと直角な方
向、すなわちX軸方向、Y軸方向の一方に移動させるこ
とで、デスミア除去用のレーザ光をワーク17の全面に
照射することができる。
By incorporating the work 1 in this manner, the work 1
7 is completed, the X-Y is scanned while the polygon mirror 2 scans the laser beam for desmear.
By moving the stage 16 in a direction perpendicular to the scanning of the polygon mirror 2, that is, in one of the X-axis direction and the Y-axis direction, it is possible to irradiate the entire surface of the work 17 with a laser beam for desmear removal.

【0025】デスミア処理に要する時間を短縮するため
に、穴あけ加工とデスミア処理とを並行させる方法を採
用しても良い。すなわち、X−Yスキャナ14、加工レ
ンズ15を含む穴あけ加工のための光学系と、ポリゴン
ミラー2とを隣接して配置し、ある加工領域に対する穴
あけ加工が終了して穴あけ加工のための光学系が次の加
工領域に移動する時に、加工直後の領域をデスミア用の
レーザ光により走査するようにする。ポリゴンミラー2
による走査範囲は数cm程度で良い。勿論、加工領域毎
の並行ではなく、穴あけ直後に、そこにデスミア用のレ
ーザ光を照射してほぼ同時的にデスミアを行うようにす
ることもできる。
In order to reduce the time required for the desmear processing, a method of making the boring processing and the desmear processing in parallel may be adopted. That is, the optical system for drilling including the XY scanner 14 and the processing lens 15 and the polygon mirror 2 are arranged adjacent to each other, and the drilling for a certain processing area is completed, and the optical system for drilling is completed. Is moved to the next processing area, the area immediately after the processing is scanned by the laser beam for desmearing. Polygon mirror 2
Scan range may be about several cm. Of course, it is also possible to irradiate a laser beam for desmearing immediately after drilling, and to perform desmearing almost simultaneously, instead of in parallel for each processing region.

【0026】以上説明したデスミア装置は、残渣成分の
除去を必要とするすべてのレーザ穴あけ加工装置に適用
可能であり、更には本発明者により提案されている特願
平9−125422号に示されているような複数軸ガル
バノスキャナを用いたレーザ加工装置にも適用され得
る。
The desmear apparatus described above is applicable to all laser drilling apparatuses which require removal of residual components, and is further disclosed in Japanese Patent Application No. 9-125422 proposed by the present inventors. The present invention can also be applied to a laser processing apparatus using a multi-axis galvano scanner as described above.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、条件出しの難しい従来のウエットプロセス無しでバ
イアホールの残渣成分を除去することが可能となり、穴
あけ加工に要する時間を大幅に短縮することができる。
また、本発明によるデスミア装置は、既設のレーザ穴あ
け加工装置にも容易に組み付けることができ、この場合
には省スペース化が可能となる。
As described above, according to the present invention, it is possible to remove the residual component of the via hole without the conventional wet process in which the conditions are difficult to determine, and the time required for drilling is greatly reduced. can do.
Further, the desmear apparatus according to the present invention can be easily assembled to an existing laser drilling apparatus, and in this case, space can be saved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるデスミア装置の実施の形態の構成
を示した図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an embodiment of a desmear apparatus according to the present invention.

【図2】本発明が組み合わされるレーザ穴あけ加工装置
の一例の構成を示した図である。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of an example of a laser drilling apparatus to which the present invention is combined.

【図3】図2に示されたX−Yスキャナの構成を示した
図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of an XY scanner illustrated in FIG. 2;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ光発生装置 2 ポリゴンミラー 3 ステージ 4、5 折り返しミラー 6、13 マスク 10 レーザ発振器 11 反射ミラー 14 X−Yスキャナ 14−1、14−2 ガルバノミラー 15 加工レンズ 16 X−Yステージ 17 ワーク DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser light generator 2 Polygon mirror 3 Stage 4, 5 Folding mirror 6, 13 Mask 10 Laser oscillator 11 Reflection mirror 14 XY scanner 14-1, 14-2 Galvano mirror 15 Processing lens 16 XY stage 17 Work

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H05K 3/46 H05K 3/46 X ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H05K 3/46 H05K 3/46 X

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザ穴あけ加工装置におけるレーザ発
振器からのレーザ光を、ワークにおける金属膜上に形成
された樹脂層に照射して形成されたバイアホールに残留
する残渣成分を除去するためのデスミア装置であって、
前記残渣成分を除去するために必要なあらかじめ定めら
れた波長を持つレーザ光を発生するためのレーザ光発生
装置と、発生されたレーザ光を前記ワークの幅方向全長
にわたってスキャンさせるスキャン手段と、前記ワーク
を前記レーザ光のスキャン方向と直角な方向に移動させ
る移動手段とを備えたことを特徴とするレーザ穴あけ加
工装置用のデスミア装置。
1. A desmear apparatus for removing a residual component remaining in a via hole formed by irradiating a resin layer formed on a metal film on a workpiece with a laser beam from a laser oscillator in a laser drilling apparatus. And
A laser light generator for generating a laser light having a predetermined wavelength necessary for removing the residual component, a scanning unit for scanning the generated laser light over the entire length in the width direction of the work, and Moving means for moving the work in a direction perpendicular to the scanning direction of the laser beam, the desmearing device for a laser drilling device.
【請求項2】 請求項1記載のデスミア装置において、
前記スキャン手段は、ポリゴンミラーであることを特徴
とするレーザ穴あけ加工装置用のデスミア装置。
2. The desmear device according to claim 1, wherein
A desmear device for a laser drilling device, wherein the scanning means is a polygon mirror.
【請求項3】 請求項1記載のデスミア装置において、
前記レーザ光発生装置は、波長192(nm)から65
0(nm)までの範囲のガスレーザ発振器あるいは固体
レーザ発振器を含むことを特徴とするレーザ穴あけ加工
装置用のデスミア装置。
3. The desmear device according to claim 1, wherein
The laser light generator has a wavelength of 192 (nm) to 65
A desmear device for a laser drilling device, comprising a gas laser oscillator or a solid-state laser oscillator in a range up to 0 (nm).
【請求項4】 請求項3記載のデスミア装置において、
前記固体レーザ発振器として、YAGまたはYLFレー
ザ発振器からのパルス状のレーザ光から波長532(n
m)の第2高調波を抽出して出力するものを使用するこ
とを特徴とするレーザ穴あけ加工装置用のデスミア装
置。
4. The desmear device according to claim 3, wherein
As the solid-state laser oscillator, a wavelength of 532 (n) is obtained from pulsed laser light from a YAG or YLF laser oscillator.
A desmearing device for a laser drilling device, characterized in that a device for extracting and outputting the second harmonic of m) is used.
【請求項5】 請求項1記載のデスミア装置において、
該デスミア装置は前記レーザ穴あけ加工装置に組み込ま
れ、前記レーザ穴あけ加工装置は前記ワークを搭載して
X軸方向及びY軸方向に移動させるためのX−Yステー
ジを備えていることにより、該X−Yステージを前記移
動手段として兼用することを特徴とするレーザ穴あけ加
工装置用のデスミア装置。
5. The desmear device according to claim 1, wherein
The desmear apparatus is incorporated in the laser drilling apparatus, and the laser drilling apparatus includes an XY stage for mounting the workpiece and moving the workpiece in the X-axis direction and the Y-axis direction. -A desmear device for a laser drilling device, wherein a Y stage is also used as the moving means.
【請求項6】 レーザ発振器からのレーザ光をワークに
おける金属膜上に形成された樹脂層に照射して形成され
たバイアホールに残留する残渣成分を除去するためのデ
スミア方法であって、波長192(nm)から650
(nm)までの範囲のレーザ光を照射してデスミアを行
うことを特徴とするデスミア方法。
6. A desmear method for removing a residual component remaining in a via hole formed by irradiating a resin layer formed on a metal film in a work with a laser beam from a laser oscillator, wherein the wavelength is 192. (Nm) to 650
A desmear method comprising irradiating a laser beam in a range up to (nm) to perform desmear.
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JP2001212684A (en) * 2000-02-02 2001-08-07 Shibuya Kogyo Co Ltd Via-hole processing method and its apparatus
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