JP3332146B2 - Manufacturing method of liquid crystal display device - Google Patents
Manufacturing method of liquid crystal display deviceInfo
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Description
【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
わり、特に高分子液晶を用いた液晶表示装置に関する。The present invention relates to a liquid crystal display, and more particularly to a liquid crystal display using a polymer liquid crystal.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータのディス
プレイや携帯情報端末の表示部に用いられる表示装置と
して、薄型・軽量の液晶表示装置が注目されている。さ
らに、この液晶表示装置は、壁掛けテレビやコンピュー
タ用の大型のディスプレイとしての用途も期待されてい
る。2. Description of the Related Art In recent years, a thin and lightweight liquid crystal display device has been receiving attention as a display device used for a display of a personal computer or a display section of a portable information terminal. Further, this liquid crystal display device is also expected to be used as a large display for a wall-mounted television or a computer.
【０００３】図９は、従来のスイッチング素子として薄
膜トランジスタ（以下ＴＦＴと呼ぶ）を用いて形成した
アクティブマトリクス型液晶表示装置の等価回路の一例
である。まず、画素電極４がマトリクス状に形成されて
おり、この画素電極４には、スイッチング素子であるＴ
ＦＴ１が接続されて設けられている。このＴＦＴ１のゲ
ート電極には走査配線としてのゲート配線２が接続さ
れ、ゲート電極に入力されるゲート信号によってＴＦＴ
１が駆動制御される。また、ＴＦＴ１のソース電極には
信号配線としてのソース配線３が接続され、ＴＦＴ１の
駆動時に、ＴＦＴ１を介してデータ（表示）信号が画素
電極４に入力される。FIG. 9 shows an example of an equivalent circuit of an active matrix type liquid crystal display device formed using thin film transistors (hereinafter referred to as TFTs) as conventional switching elements. First, the pixel electrodes 4 are formed in a matrix.
FT1 is connected and provided. The gate electrode of the TFT 1 is connected to a gate wiring 2 as a scanning wiring, and the TFT 1 is driven by a gate signal input to the gate electrode.
1 is drive-controlled. The source electrode of the TFT 1 is connected to a source wiring 3 as a signal wiring. When the TFT 1 is driven, a data (display) signal is input to the pixel electrode 4 via the TFT 1.
【０００４】各ゲート配線２とソース配線３とは、マト
リクス状に配列された画素電極４の周囲を通り、互いに
直交差するように設けられている。さらに、ＴＦＴ１の
ドレイン電極は画素電極４および付加容量（図でＣｓと
記載部分）に接続されており、この付加容量の対向電極
はそれぞれ共通配線５（以下Ｃｓ配線と呼ぶ）に接続さ
れている。そして、対向電極２１と画素電極４の間の液
晶（図でＣｌｃと記載部分）を駆動している。このよう
な液晶表示装置は、電極を設けた２枚のガラス基板間に
配向膜が配置されシール材で封止されている空セル内に
液晶がスペーサーと共に封入挟持されている。Each of the gate wirings 2 and the source wirings 3 are provided so as to pass around the pixel electrodes 4 arranged in a matrix and to cross each other at right angles. Further, the drain electrode of the TFT 1 is connected to the pixel electrode 4 and an additional capacitor (portion denoted by Cs in the figure), and the opposing electrodes of the additional capacitor are connected to a common line 5 (hereinafter referred to as a Cs line). . Then, the liquid crystal (the portion described as Clc in the figure) between the counter electrode 21 and the pixel electrode 4 is driven. In such a liquid crystal display device, a liquid crystal is sealed together with a spacer in an empty cell in which an alignment film is disposed between two glass substrates provided with electrodes and sealed with a sealing material.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】現在の液晶表示装置を
構成する液晶パネルは、液晶表示装置の大型化にともな
って注入に時間がかかることや、パネル内のセル間隔の
均一性を確保することが困難であるだけでなく、液晶層
を挟むガラスなどの基板によってセルの間隔を保つた
め、それぞれの基板はある一定以上の強度および撓みに
くさをもっている必要があり、このためガラス基板を薄
くするには限界があり、重量低減が困難である。The liquid crystal panel which constitutes the current liquid crystal display device requires a long time for injection as the size of the liquid crystal display device increases, and the uniformity of cell intervals in the panel is ensured. Not only is it difficult, but also to maintain the cell spacing with a substrate such as glass that sandwiches the liquid crystal layer, each substrate must have a certain degree of strength and a certain degree of resistance to bending. Have limitations and it is difficult to reduce weight.
【０００６】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたもので、製造原価の低減と、さらに表示装置の軽
量化を図ることができる液晶表示装置を提供する。ま
た、液晶層の信頼性向上を図ることができる液晶表示装
置を提供する。The present invention has been made to solve the above problems, and provides a liquid crystal display device capable of reducing the manufacturing cost and further reducing the weight of the display device. Further, a liquid crystal display device capable of improving the reliability of a liquid crystal layer is provided.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置の
製造方法は、少なくとも２つの電極間に配置された液晶
層を駆動して表示を行う液晶表示装置の製造方法におい
て、フィルムシートに液晶層を形成してラミネートフィ
ルムで該液晶層を覆って高分子液晶フィルムを形成し、
該高分子液晶フィルムを一対の配向用ローラーの間を通
過させて該液晶層に一軸延伸処理を施した後、電極が設
けられたガラス基板上に、該ラミネートフィルムを剥離
しながら該液晶層の大きさよりも小さい領域に液晶層を
貼り付けた後、貼り付けられていない領域の該液晶層を
除去し、該液晶層が除去された領域の該フィルムシート
を該ガラス基板に貼り付けることを特徴とする。According to the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising:
The manufacturing method is a method of manufacturing a liquid crystal display device in which a liquid crystal layer disposed between at least two electrodes is driven to perform display, wherein a liquid crystal layer is formed on a film sheet, and the liquid crystal layer is covered with a laminate film. Forming a liquid crystal film,
After passing the polymer liquid crystal film between a pair of alignment rollers and subjecting the liquid crystal layer to a uniaxial stretching treatment, a glass substrate provided with electrodes is peeled off the laminate film while removing the laminate film. After attaching the liquid crystal layer to the area smaller than the size , the liquid crystal layer in the area where the liquid crystal layer is not attached is removed, and the film sheet in the area where the liquid crystal layer is removed is attached to the glass substrate. It is characterized by attaching.
【０００８】また、前記液晶層を覆うフィルムシートの
少なくとも一部が導電膜であっても良い。[0008] At least a part of the film sheet covering the liquid crystal layer may be a conductive film.
【０００９】また、前記導電膜が異方性導電膜であって
も良い。The conductive film may be an anisotropic conductive film.
【００１０】また、電極が設けられた基板上に、前記高
分子フィルムが設けられ、該電極部に前記フィルムシー
トの前記導電膜が配置され、該導電膜を介して該基板と
別の基板に設けられた電極とが接続されていても良い。Further, the polymer film is provided on a substrate provided with electrodes, the conductive film of the film sheet is disposed on the electrode portion, and the conductive film is provided on another substrate via the conductive film. The provided electrode may be connected.
【００１１】また、前記導電膜が液晶駆動用電極であっ
ても良い。The conductive film may be a liquid crystal driving electrode.
【００１２】[0012]
【００１３】以下に、本発明の作用を説明すると、電極
間に配置された液晶層を駆動して表示を行い、該液晶層
として配向制御された高分子液晶フィルムを用い、該高
分子液晶フィルムが液晶層とフィルムシートから成り、
該フィルムシートが少なくとも該液晶層の端面を覆って
いることにより、液晶層の間隙を一定にすることができ
る。また、従来の液晶プロセスで必須であったスペーサ
ーが不要となり、スペーサー散布工程が不要になる。ま
た、絶縁性基板（対向側）を必ずしも必要としないため
液晶表示装置の軽量化が図れる。さらに、フィルムシー
トとして液晶層を保護するラミネートフィルムや、偏光
板、カラーフィルター、位相差板などの機能性を付与し
たベースシート並びに、均一な圧力が加わるようにする
ためのクッション層を用いて、液晶層の端面を覆うよう
にすることにより、工程数を増加させることなく液晶層
の信頼性を確保することができる。The operation of the present invention will be described below. Display is performed by driving a liquid crystal layer disposed between electrodes, and a polymer liquid crystal film whose orientation is controlled is used as the liquid crystal layer. Consists of a liquid crystal layer and a film sheet,
Since the film sheet covers at least the end face of the liquid crystal layer, the gap between the liquid crystal layers can be made constant. In addition, the spacer which is indispensable in the conventional liquid crystal process is not required, and the step of dispersing the spacer is not required. Further, since an insulating substrate (opposite side) is not necessarily required, the weight of the liquid crystal display device can be reduced. Furthermore, using a laminated film that protects the liquid crystal layer as a film sheet, a polarizing sheet, a color filter, a base sheet that has been given functionality such as a retardation plate, and a cushion layer so that uniform pressure is applied, By covering the end face of the liquid crystal layer, the reliability of the liquid crystal layer can be ensured without increasing the number of steps.
【００１４】また、前記液晶層を覆うフィルムシートの
少なくとも一部が導電膜であり、該導電膜を用いて基板
上に形成された電極間を接続する導電膜として用いるこ
とができる。その際に、導電膜を異方性導電膜とするこ
とにより、電極間のピッチが狭い場合でも接続を行うこ
とができる。さらに、該導電膜を液晶駆動用電極として
用いることにより、液晶駆動用電極を別に形成する必要
が無くなり製造原価の低減が図れる。Further, at least a part of the film sheet covering the liquid crystal layer is a conductive film, and the conductive film can be used as a conductive film for connecting electrodes formed on a substrate. At this time, by using an anisotropic conductive film as the conductive film, connection can be made even when the pitch between the electrodes is narrow. Further, by using the conductive film as a liquid crystal driving electrode, it is not necessary to separately form a liquid crystal driving electrode, and the manufacturing cost can be reduced.
【００１５】また、電極間に配置された液晶層を駆動し
て表示を行う液晶表示装置での製造方法で、電極が設け
られた基板上に、液晶層とフィルムシートから成る高分
子液晶フィルムを貼り付ける際に、該高分子液晶フィル
ムを該基板上に該高分子液晶フィルムの大きさよりも小
さい領域を貼り付けた後、貼り付けられていない領域の
該液晶層を除去し、該液晶層が除去された領域の該フィ
ルムシートを該基板に貼り付けることにより、工程数を
増やすことなく液晶表示装置として完成後は、フィルム
シートが液晶層を覆い信頼性を確保することができる。
なお、工程によっては、製造途中で液晶層の端面が外気
に触れる可能性があるが、端面の外気に触れた部分は除
去するため、表示に影響はない。According to a method of manufacturing a liquid crystal display device for displaying by driving a liquid crystal layer disposed between electrodes, a polymer liquid crystal film comprising a liquid crystal layer and a film sheet is formed on a substrate provided with electrodes. When attaching, after attaching the polymer liquid crystal film to the substrate in an area smaller than the size of the polymer liquid crystal film, the liquid crystal layer in the area where the polymer liquid crystal film is not attached is removed. By sticking the film sheet in the removed area to the substrate, the film sheet covers the liquid crystal layer after the completion as a liquid crystal display device without increasing the number of steps, thereby ensuring reliability.
Note that, depending on the process, the end face of the liquid crystal layer may come into contact with the outside air during the production, but since the portion of the end face that has come into contact with the outside air is removed, the display is not affected.
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を用いて説明する。 （実施形態１）図２は、本発明の液晶表示装置の１画素
平面図で、図１は、図２のＡ−Ａ’線断面図である。図
２において、絶縁性基板（アクティブマトリクス側）に
は、複数の画素電極４がマトリクス状に設けられてお
り、互いに直交差するように、走査配線としてのゲート
配線２と信号配線としてのソース配線３が設けられ、ゲ
ート配線２と平行にソース配線３と直交差するように、
付加容量形成用としてＣｓ配線５が設けられている。隣
接する画素電極４どうしは、上下方向にはゲート配線２
上で、また、左右方向はソース配線３上で分離されるた
め、画素電極４の間で液晶に電界がかからない部分は、
全て遮光される構造となっている。ＴＦＴ（薄膜トラン
ジスタ）１は、これらのゲート配線２とソース配線３の
交差部分において、画素電極４に接続されるスイッチン
グ素子として設けられ、このＴＦＴ１のドレイン電極
は、接続線６および層間絶縁膜（図１の８）に設けられ
たコンタクトホール９を介して画素電極４に接続され
る。従って、この画素に対応する付加容量はＣｓ配線５
上で接続線６とその間の絶縁膜を用いて形成される。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (Embodiment 1) FIG. 2 is a plan view of one pixel of the liquid crystal display device of the present invention, and FIG. 1 is a sectional view taken along line AA 'of FIG. In FIG. 2, a plurality of pixel electrodes 4 are provided in a matrix on an insulating substrate (active matrix side), and a gate wiring 2 as a scanning wiring and a source wiring as a signal wiring are arranged so as to be orthogonal to each other. 3 so as to be orthogonal to the source line 3 in parallel with the gate line 2,
A Cs wiring 5 is provided for forming an additional capacitance. The adjacent pixel electrodes 4 are vertically connected to each other by the gate wiring 2.
In addition, since the horizontal direction is separated on the source line 3, a portion where no electric field is applied to the liquid crystal between the pixel electrodes 4 is:
All are light-shielded structures. A TFT (thin film transistor) 1 is provided as a switching element connected to a pixel electrode 4 at an intersection of the gate wiring 2 and the source wiring 3, and a drain electrode of the TFT 1 is connected to a connection line 6 and an interlayer insulating film (see FIG. 1) is connected to the pixel electrode 4 via the contact hole 9 provided in 8). Therefore, the additional capacitance corresponding to this pixel is the Cs line 5
It is formed using the connection line 6 and an insulating film therebetween.
【００１７】図１を用いて本実施形態の液晶表示装置の
製造方法について説明する。まず、図１において、ガラ
ス基板などの絶縁性基板（アクティブマトリクス側）１
０上に、タンタル、アルミなどで図２のゲート配線２お
よびゲート電極１２、前記ゲート配線２およびゲート電
極１２と同時にＣｓ配線５を形成し、チッ化シリコン、
酸化シリコンなどでゲート絶縁膜７、アモルファスシリ
コン、ポリシリコンなどで半導体層１５、オーミックコ
ンタクト層であるｎ+シリコン１７、１８を順次形成す
る。A method for manufacturing the liquid crystal display of the present embodiment will be described with reference to FIG. First, in FIG. 1, an insulating substrate (active matrix side) 1 such as a glass substrate is used.
2, a gate wiring 2 and a gate electrode 12 of FIG. 2 and a Cs wiring 5 are formed simultaneously with the gate wiring 2 and the gate electrode 12 of FIG.
A gate insulating film 7 made of silicon oxide or the like, a semiconductor layer 15 made of amorphous silicon, polysilicon or the like, and n + silicon 17 and 18 serving as ohmic contact layers are sequentially formed.
【００１８】次に、ソース配線３、ソース電極１３、ド
レイン電極１４および接続線６を構成するＩＴＯなどの
透明導電膜およびタンタル、アルミなどの金属膜を、ス
パッタ法により順次成膜して所定形状にパターニングす
る。このように、ソース配線３などを２層構造とするこ
とにより、ソース配線３を構成する金属層の一部に膜の
欠損があったとしても、ＩＴＯなどの透明導電膜により
電気的に接続されるので、ソース配線３の断線を少なく
できるという利点がある。また、接続線６をＩＴＯなど
の透明導電膜で形成することにより開口率の低下を生じ
させない。Next, a transparent conductive film such as ITO and a metal film such as tantalum and aluminum forming the source wiring 3, the source electrode 13, the drain electrode 14, and the connection line 6 are sequentially formed by sputtering to a predetermined shape. Is patterned. In this manner, by forming the source wiring 3 and the like in a two-layer structure, even if a part of the metal layer forming the source wiring 3 has a film defect, it is electrically connected by the transparent conductive film such as ITO. Therefore, there is an advantage that disconnection of the source wiring 3 can be reduced. In addition, since the connection line 6 is formed of a transparent conductive film such as ITO, the aperture ratio does not decrease.
【００１９】さらに、その上に、層間絶縁膜８として比
誘電率３．４の感光性のアクリル樹脂をスピン塗布法に
より例えば３μｍの膜厚で形成する。ここでは、前記感
光性のアクリル樹脂として、ベースポリマーは、メタク
リル酸とグリシジルメタクリレートのポリマーで、感光
剤としてナフトキシジアジド系ポジ型感光剤のものを使
用した。次に、この樹脂に対して、所望のパターンに従
って露光し、アルカリ性の溶液によって現像処理する。
これにより露光された部分のみがアルカリ性の溶液によ
ってエッチングされ、層間絶縁膜８を貫通するコンタク
トホール９が形成されることになる。Further, a photosensitive acrylic resin having a relative dielectric constant of 3.4 is formed thereon as an interlayer insulating film 8 to a thickness of, for example, 3 μm by a spin coating method. Here, as the photosensitive acrylic resin, a base polymer was a polymer of methacrylic acid and glycidyl methacrylate, and a naphthoxydiazide-based positive photosensitive agent was used as the photosensitive agent. Next, the resin is exposed according to a desired pattern and developed with an alkaline solution.
As a result, only the exposed portion is etched by the alkaline solution, and a contact hole 9 penetrating through the interlayer insulating film 8 is formed.
【００２０】さらに、その上に、画素電極４となるＩＴ
Ｏなどの透明導電膜をスパッタ法により形成し、パター
ニングする。これにより画素電極４は、層間絶縁膜８を
貫くコンタクトホール９を介して、ＴＦＴ１のドレイン
電極１４と接続されている接続線６と接続されることに
なる。Further, on top of that, an IT
A transparent conductive film such as O is formed by sputtering and patterned. As a result, the pixel electrode 4 is connected to the connection line 6 connected to the drain electrode 14 of the TFT 1 via the contact hole 9 penetrating the interlayer insulating film 8.
【００２１】そして、後に説明する液晶層３０となる予
め配向制御処理を施した高分子液晶フィルムを絶縁性基
板（アクティブマトリクス側）１０の画素電極４および
層間絶縁膜８上にラミネート法を用いて形成した。ここ
で、本発明で用いる液晶層３０となる高分子液晶は、そ
れ自身が電界に応答する必要があるために、ポリメタク
リレートやポリアクリレート、ポリシロキサン等のポリ
マーを主鎖とし、液晶分子が側鎖として結合している側
鎖型の高分子液晶を用いることができる。側鎖となる液
晶は強誘電性液晶、反強誘電性液晶またはネマティック
液晶が利用できる。Then, a polymer liquid crystal film, which has been subjected to an orientation control process in advance to become a liquid crystal layer 30 described later, is laminated on the pixel electrode 4 and the interlayer insulating film 8 of the insulating substrate (active matrix side) 10 by a laminating method. Formed. Here, since the polymer liquid crystal used as the liquid crystal layer 30 used in the present invention needs to respond to an electric field itself, it has a polymer such as polymethacrylate, polyacrylate, or polysiloxane as a main chain, and the liquid crystal molecules are A side chain type polymer liquid crystal bonded as a chain can be used. As the liquid crystal serving as a side chain, a ferroelectric liquid crystal, an antiferroelectric liquid crystal, or a nematic liquid crystal can be used.
【００２２】動作原理としては、主鎖であるポリメタク
リレートなどは熱硬化や光硬化などで硬化して、液晶層
３０の間隙が一定になるように、また液晶分子が流出し
ないように働き、側鎖となる強誘電性液晶であるＳｍＣ
＊相液晶などは硬化せずに電界に反応して動く。このた
め、一般的な液晶表示装置と同様に動作する。The principle of operation is that the main chain, such as polymethacrylate, is cured by heat curing or light curing to keep the gap between the liquid crystal layers 30 constant and prevent liquid crystal molecules from flowing out. SmC which is a ferroelectric liquid crystal that becomes a chain
* Phase liquid crystals move in response to an electric field without curing. For this reason, it operates similarly to a general liquid crystal display device.
【００２３】その後、ガラス基板などの絶縁性基板（対
向側）２０上に、赤、緑、青３色のカラーフィルター２
２（図面では２色のカラーフィルターを示す２２ａ、２
２ｂとして図示）と対向電極２１および図示しない偏光
板を形成した絶縁性基板（対向側）２０をその液晶層３
０上に形成する。ここで、対向電極２１と絶縁性基板
（アクティブマトリックス側）との導通をとるためのカ
ーボンペーストを所定の場所に塗布した後、エポキシ樹
脂を介して、絶縁性基板（アクティブマトリックス側）
１０と貼り合せた。Thereafter, a color filter 2 of three colors of red, green and blue is formed on an insulating substrate (opposite side) 20 such as a glass substrate.
2 (22a, 2a, 2b,
2b), an insulative substrate (opposite side) 20 on which a counter electrode 21 and a polarizing plate (not shown) are formed.
0. Here, after applying a carbon paste for establishing conduction between the counter electrode 21 and the insulating substrate (active matrix side) at a predetermined location, the insulating substrate (active matrix side) is interposed via epoxy resin.
10 was pasted.
【００２４】また、通常液晶表示装置は絶縁性基板（ア
クティブマトリックス側）１０と絶縁性基板（対向側）
２０とを貼り合せる際、表示領域にシリカスペーサーを
散布することにより、液晶が注入される間隙を確保する
が、本発明では、液晶層３０がその役割を果たすために
不要となる。In general, a liquid crystal display device has an insulating substrate (active matrix side) 10 and an insulating substrate (opposite side).
At the time of bonding, the liquid crystal layer 30 is dispersed in the display area to secure a gap into which the liquid crystal is injected. However, in the present invention, the liquid crystal layer 30 does not need to play its role.
【００２５】図３は、高分子液晶フィルムのプロセスフ
ロー図である。図３において、まず図３（ａ）に示すよ
うに、液晶層３０となる側鎖型強誘電性高分子液晶と溶
媒となるジクロロエタン溶液を、フィルムシートである
ベースシート３１となるロール状態の１０μｍ厚のポリ
エチレンテレフタレートシート上にブレードコーター３
３を用いて塗布した。その際、塗布する領域は表示領域
と成る部分に相当するように開口部を設けたマスク３７
によって決定され、該開口部はベースシート３１より小
さい。そして、溶媒を乾燥させた後、図３（ｂ）に示す
ように、コロナ放電処理もしくはフッ素系の離型剤を塗
布する等の表面処理を施したフィルムシートであるラミ
ネートフィルム３２となる１０μｍのポリプロピレンフ
ィルムをラミネート貼り付けローラー３４で圧着しなが
ら、液晶層３０を端面を含むように覆うように貼り合わ
せた。なお、このようにラミネートフィルム３２に表面
処理を施すことによって表面張力を高め後の工程で剥が
し易くすることができる。また、これにより、製造途中
に液晶層３０が外気に触れるおそれは無くなる。FIG. 3 is a process flow chart of a polymer liquid crystal film. In FIG. 3, first, as shown in FIG. 3 (a), a side-chain type ferroelectric polymer liquid crystal serving as a liquid crystal layer 30 and a dichloroethane solution serving as a solvent are applied to a base sheet 31 serving as a film sheet in a roll state of 10 μm. Blade coater 3 on thick polyethylene terephthalate sheet
3 was applied. At this time, a mask 37 provided with an opening so that an area to be applied corresponds to a part to be a display area.
And the opening is smaller than the base sheet 31. Then, after drying the solvent, as shown in FIG. 3B, a 10 μm-thick laminated film 32 which is a film sheet subjected to a corona discharge treatment or a surface treatment such as applying a fluorine-based release agent is applied. The liquid crystal layer 30 was adhered so as to cover the liquid crystal layer 30 including the end face while pressing the polypropylene film with the laminating adhesive roller 34. In addition, by performing the surface treatment on the laminate film 32 as described above, the surface tension can be increased, and the laminate film 32 can be easily peeled in a later step. This eliminates the risk that the liquid crystal layer 30 will come into contact with the outside air during the production.
【００２６】次に、図３（ｃ）に示すように、この積層
フィルムを液晶分子がＳｍＣ＊相を示す温度下で一対の
配向用ローラー３５の間を通過させ、液晶層３０に一軸
延伸処理を施し、続いて、高分子液晶のガラス転移温度
以下に急冷することで液晶の配向を固定化した。Next, as shown in FIG. 3 (c), the laminated film is passed between a pair of alignment rollers 35 at a temperature at which the liquid crystal molecules show the SmC * phase, and the liquid crystal layer 30 is uniaxially stretched. Then, the orientation of the liquid crystal was fixed by rapid cooling to a temperature lower than the glass transition temperature of the polymer liquid crystal.
【００２７】次に、図３（ｄ）に示すように、ロール状
の液晶層３０とベースシート３１、ラミネートフィルム
３２との積層フィルムを、ラミネートフィルム３２を剥
離しながら図示しない画素電極などを形成し、表面に紫
外線吸収剤を含む接着剤３９が形成された絶縁性基板
（アクティブマトリクス側）１０とを加熱圧着しなが
ら、液晶層貼り付けローラー３６を用いて貼り合わせ
た。このとき、さらに絶縁性基板（アクティブマトリク
ス側）１０の裏面から紫外光を当ててさらに密着性を高
めた。このように裏面から紫外光を照射することによ
り、紫外線吸収剤を含む接着剤で紫外線が吸収され液晶
層３０が劣化しない。Next, as shown in FIG. 3 (d), a laminated film of the roll-shaped liquid crystal layer 30, the base sheet 31, and the laminated film 32 is formed by peeling off the laminated film 32 to form pixel electrodes (not shown). Then, the insulating substrate (active matrix side) 10 on the surface of which an adhesive 39 containing an ultraviolet absorbent was formed was bonded using a liquid crystal layer bonding roller 36 while being heated and pressed. At this time, ultraviolet light was further applied from the back surface of the insulating substrate (active matrix side) 10 to further improve the adhesion. By irradiating ultraviolet light from the back surface in this way, ultraviolet rays are absorbed by the adhesive containing the ultraviolet absorbent, and the liquid crystal layer 30 does not deteriorate.
【００２８】このように、高分子液晶フィルムを用いる
ことで、高分子液晶フィルムの製造段階で液晶層３０の
膜厚を制御することができ、容易に所望の膜厚を有する
液晶層３０を得ることができ、高表示品位の液晶表示装
置を生産性良く製造することができる。このとき、液晶
層３０を製造途中では、フィルムシートであるラミネー
トフィルム３２で液晶の端面を覆い液晶層３０を保護
し、液晶表示装置として完成後は、フィルムシートであ
るベースシート３１が液晶層３０の端面を覆って保護す
る。これにより、別途液晶層３０が外気に触れないよう
にするために保護樹脂などを別途設ける必要が無くな
り、工程数を増加させることなく液晶層の信頼性を確保
することができる。As described above, by using the polymer liquid crystal film, the thickness of the liquid crystal layer 30 can be controlled at the stage of manufacturing the polymer liquid crystal film, and the liquid crystal layer 30 having a desired film thickness can be easily obtained. Thus, a liquid crystal display device with high display quality can be manufactured with high productivity. At this time, during the production of the liquid crystal layer 30, the end face of the liquid crystal is covered with a laminate film 32 as a film sheet to protect the liquid crystal layer 30, and after the completion of the liquid crystal display device, the base sheet 31 as the film sheet is replaced with the liquid crystal layer 30. Cover and protect the end face. This eliminates the need to separately provide a protective resin or the like so that the liquid crystal layer 30 does not come into contact with the outside air, thereby ensuring the reliability of the liquid crystal layer without increasing the number of steps.
【００２９】（実施形態２）本発明の実施形態２の液晶
表示装置の形成方法を、プロセスフロー図である図４お
よび図５を用いて説明する。なお、実施形態１と同じ部
分の説明は省略する。本実施形態では、高分子液晶フィ
ルムを形成する際に、まず、図４（ａ）に示すように、
フィルムシートであるベースシート３１となるロール状
態の１０μｍ厚のポリエチレンテレフタレート上に、ラ
ミネート時のクッション機能を果たすクッション層３８
となる５μｍ厚のアクリル系樹脂を貼り付ける。次に、
この上に図示しないポリイミドを０．５μｍ厚で配置し
てラビング処理を施し配向膜とした。そして、図４
（ｂ）に示すように、液晶層３０となる側鎖型高分子液
晶と溶媒となるジクロロエタン溶液を５μｍ厚でブレー
ドコーター３３を用いて塗布した。そして、溶媒を乾燥
させた後、図４（ｃ）に示すように、フィルムシートで
あるラミネートフィルム３２となる１０μｍのポリビニ
ルアルコールフィルムをラミネート貼り付けローラー３
４で圧着しながら貼り合わせた。(Embodiment 2) A method for forming a liquid crystal display device according to Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5, which are process flow diagrams. The description of the same parts as in the first embodiment is omitted. In the present embodiment, when forming the polymer liquid crystal film, first, as shown in FIG.
A cushion layer 38 that performs a cushioning function at the time of lamination on 10 μm-thick polyethylene terephthalate in a roll state to be a base sheet 31 which is a film sheet.
5 μm thick acrylic resin is applied. next,
A polyimide (not shown) was disposed thereon at a thickness of 0.5 μm and rubbed to form an alignment film. And FIG.
As shown in (b), a side chain type polymer liquid crystal as the liquid crystal layer 30 and a dichloroethane solution as a solvent were applied with a thickness of 5 μm using a blade coater 33. Then, after drying the solvent, as shown in FIG. 4C, a 10 μm polyvinyl alcohol film serving as a laminate film 32 as a film sheet is laminated with a laminating roller 3.
4 and bonded together.
【００３０】次に、図４（ｄ）に示すように、ロール状
の液晶層３０とベースシート３１などを積層した積層フ
ィルムをラミネートフィルム３２を剥離しながら、図示
しない画素電極などを形成した絶縁性基板（アクティブ
マトリクス側）１０と加熱圧着しながら、液晶層貼り付
けローラー３６を用いて貼り合わせた。このとき、この
圧着領域は少なくとも表示領域を含み積層フィルムや絶
縁性基板（アクティブマトリクス側）１０より小さな領
域とする。そして、絶縁性基板（アクティブマトリクス
側）１０上に、端部が浮いた状態で積層フィルムが貼り
付けられる。Next, as shown in FIG. 4D, a laminated film in which a roll-shaped liquid crystal layer 30 and a base sheet 31 are laminated is peeled off from the laminated film 32 while an insulating film (not shown) is formed on which pixel electrodes and the like are formed. The liquid crystal layer was adhered to the active substrate (active matrix side) 10 using a liquid crystal layer adhering roller 36 while being heated and pressed. At this time, the crimping region is a region including at least the display region and smaller than the laminated film or the insulating substrate (active matrix side) 10. Then, the laminated film is stuck on the insulating substrate (active matrix side) 10 in a state where the ends are floating.
【００３１】そして、図５（ｅ）に示すように、前記基
板をエッチャントで先の工程で圧着しなかった端部の液
晶層３０と図示しない配向膜を取り除く。このとき、エ
ッチャントとしては液晶層３０および図示しない配向膜
が除去でき、クッション層３８をエッチングしない選択
比を有するものを用いることが望ましい。Then, as shown in FIG. 5E, the liquid crystal layer 30 and the alignment film (not shown) are removed from the end portion of the substrate, which was not pressed in the previous step, with an etchant. At this time, it is desirable to use an etchant having a selectivity that can remove the liquid crystal layer 30 and the alignment film (not shown) and does not etch the cushion layer 38.
【００３２】その後、端部のフィルムが浮いた状態にな
っている絶縁性基板（アクティブマトリクス側）１０に
対して、再び液晶層貼り付けローラー３６で圧着を施し
て、クッション層３８およびベースシート３１が液晶層
３０の端部を覆うようにした。そして、必要に応じて図
５（ｇ）に示すように、ベースシート３１を剥がし、実
施形態１と同様に対向電極２１を備えた絶縁性基板（対
向側）２０を配置して液晶表示装置を形成した。Then, the insulating substrate (active matrix side) 10 in which the film at the end is in a floating state is pressed again by the liquid crystal layer attaching roller 36, and the cushion layer 38 and the base sheet 31 are pressed. Cover the edges of the liquid crystal layer 30. Then, as shown in FIG. 5 (g), if necessary, the base sheet 31 is peeled off, and the insulating substrate (opposite side) 20 provided with the counter electrode 21 is arranged in the same manner as in the first embodiment to complete the liquid crystal display device. Formed.
【００３３】ところで、対向する電極間に印加された電
圧はできる限り液晶層３０に効果的にかかる必要があ
る。しかし、この構造では、電極間に印加された電圧は
液晶層３０だけでなく、ベースシート３１、クッション
層３８、配向膜で分圧されることになる。この影響を極
力少なくするためには、各層の機能をできるだけ１つの
層に持たせてフィルムを少なくしたり、さらに各層の膜
厚を薄くしたり、各層を高誘電率の材料で構成すること
が有効である。Incidentally, the voltage applied between the opposing electrodes needs to be applied to the liquid crystal layer 30 as effectively as possible. However, in this structure, the voltage applied between the electrodes is divided not only by the liquid crystal layer 30 but also by the base sheet 31, the cushion layer 38, and the alignment film. In order to minimize this effect, the function of each layer should be provided to one layer as much as possible to reduce the number of films, the thickness of each layer should be reduced, and each layer should be made of a material having a high dielectric constant. It is valid.
【００３４】また、液晶層３０とクッション層３８との
選択比が十分とれない場合は、クッション層の機能をベ
ースシート３１に持たせてクッション層３８を配置しな
いようにし、液晶層３０とベースシート３１の間に無機
膜を配置して、選択比を十分取れるようにしても良い。
この場合、さまざまな種類の無機膜（例えば、チッ化シ
リコン、アルミナ、酸化タンタルなど）を使用すること
により、膜厚や誘電率を自由に選択することができる。When the selectivity between the liquid crystal layer 30 and the cushion layer 38 is not sufficient, the function of the cushion layer is provided in the base sheet 31 so that the cushion layer 38 is not disposed. An inorganic film may be arranged between the bases 31 to ensure a sufficient selectivity.
In this case, by using various kinds of inorganic films (for example, silicon nitride, alumina, tantalum oxide, and the like), the film thickness and the dielectric constant can be freely selected.
【００３５】さらに、ベースシート３１にさまざまな機
能を付与して偏光板、カラーフィルターなどとして利用
することもできる。例えば、ベースシート３１を偏光板
として用いる場合、ベースシート３１にクッション層３
８や液晶層３０を形成する前に、一軸延伸処理を施した
後、ヨウ素または二色性色素で染色することにより実現
する。この場合、絶縁性基板（アクティブマトリクス
側）１０に積層フィルムを貼合せた後に、ベースシート
３１を剥離しない。Further, various functions can be imparted to the base sheet 31 to be used as a polarizing plate, a color filter and the like. For example, when the base sheet 31 is used as a polarizing plate, the cushion layer 3
Before forming the liquid crystal layer 8 or the liquid crystal layer 30, the film is subjected to a uniaxial stretching treatment, and then dyed with iodine or a dichroic dye. In this case, the base sheet 31 is not peeled off after the laminated film is bonded to the insulating substrate (active matrix side) 10.
【００３６】このように、本実施形態の液晶表示装置の
製造方法では、高分子液晶フィルムを用いることで、高
分子液晶フィルムの製造段階で液晶層３０の膜厚を制御
することができ、容易に所望の膜厚を有する液晶層３０
を得ることができ、高表示品位の液晶表示装置を生産性
良く製造することができる。As described above, in the method of manufacturing the liquid crystal display device of the present embodiment, the thickness of the liquid crystal layer 30 can be controlled at the stage of manufacturing the polymer liquid crystal film by using the polymer liquid crystal film. Liquid crystal layer 30 having a desired film thickness
And a liquid crystal display device with high display quality can be manufactured with high productivity.
【００３７】その際に、液晶表示装置完成後は、フィル
ムシートであるベースシート３１や、クッション層３８
が液晶層３０の端面を覆って保護する。これにより、別
途液晶層３０が外気に触れないようにするための保護樹
脂などを別途設ける必要が無くなり、工程数を増加させ
ることなく液晶層の信頼性を確保することができる。ま
た、液晶表示装置の製造途中で液晶層３０の端面が仮に
外気に触れたとしても、その部分は除去するため表示に
影響はない。At this time, after the completion of the liquid crystal display device, the base sheet 31 which is a film sheet and the cushion layer 38
Covers and protects the end face of the liquid crystal layer 30. Accordingly, it is not necessary to separately provide a protective resin or the like for preventing the liquid crystal layer 30 from being exposed to the outside air, and the reliability of the liquid crystal layer can be secured without increasing the number of steps. Also, even if the end face of the liquid crystal layer 30 is exposed to the outside air during the manufacture of the liquid crystal display device, the display is not affected because that part is removed.
【００３８】（実施形態３）本発明の実施形態３の液晶
表示装置の断面図を図６に示す。なお、実施形態１、２
と同じ部分の説明は省略する。本実施形態では、高分子
液晶フィルムを形成する際に、図示しないベースシート
上にＩＴＯなどの導電膜４１を表示領域の周辺に相当す
る部分に選択的に形成した。つぎに、液晶層３０を表示
領域相当領域で導電膜４１と一部重なるようにマスクを
用いて形成した。この後、実施の実施の形態１に述べた
のと同じように、ポリプロピレンフィルムによって図示
しないラミネートフィルムを形成し、一軸延伸によって
液晶の配向を施した。(Embodiment 3) FIG. 6 is a sectional view of a liquid crystal display device according to Embodiment 3 of the present invention. Embodiments 1 and 2
The description of the same parts as described above is omitted. In the present embodiment, when forming the polymer liquid crystal film, a conductive film 41 such as ITO is selectively formed on a base sheet (not shown) in a portion corresponding to the periphery of the display area. Next, the liquid crystal layer 30 was formed using a mask so as to partially overlap the conductive film 41 in a region corresponding to the display region. Thereafter, in the same manner as described in Embodiment 1, a laminate film (not shown) was formed from a polypropylene film, and the liquid crystal was oriented by uniaxial stretching.
【００３９】そして、先に図示しない接着剤を形成した
絶縁性基板（アクティブマトリクス側）１０上に、積層
フィルムのラミネートフィルムを剥離しながら加熱圧着
して密着させた後、ベースシートを剥離した。ガラスか
ら成る絶縁性基板（対向側）２０にカラーフィルター２
２と対向電極２１を配置し、この絶縁性基板（対向側）
２０と、液晶層３０とを図示しないエポキシ樹脂を介し
て貼り合わせ、圧着して対向電極２１と導電膜４１を接
続した。これと該絶縁性基板（アクティブマトリクス
側）１０とをエポキシ樹脂を介して貼合せ、圧着するこ
とで、導電膜４１と絶縁性基板（アクティブマトリクス
側）１０との導通をとった。この構成により、対向電極
２１への信号入力も絶縁性基板（アクティブマトリクス
側）１０から行うことができる。Then, the laminated film of the laminated film was adhered to the insulating substrate (active matrix side) 10 previously formed with an adhesive (not shown) by heating and pressing while peeling the laminated film, and then the base sheet was peeled. Color filter 2 on insulating substrate (opposite side) 20 made of glass
2 and the counter electrode 21 are arranged, and the insulating substrate (opposite side)
The liquid crystal layer 20 and the liquid crystal layer 30 were bonded together via an epoxy resin (not shown), and pressed to connect the counter electrode 21 and the conductive film 41. The conductive film 41 and the insulating substrate (active matrix side) 10 were electrically connected by bonding and pressing the insulating substrate (active matrix side) 10 and the insulating substrate 10 via an epoxy resin. With this configuration, signal input to the counter electrode 21 can also be performed from the insulating substrate (active matrix side) 10.
【００４０】ここで、導電膜４１への信号入力は直接テ
ープキャリアパッケージなどの図示しない外部回路基板
を接続しても良いし、絶縁性基板（アクティブマトリク
ス側）１０上の電極を介して、絶縁性基板（アクティブ
マトリクス側）１０上の回路と接続して入力しても良
い。Here, the signal input to the conductive film 41 may be directly connected to an external circuit board (not shown) such as a tape carrier package, or may be insulated via an electrode on the insulating substrate (active matrix side) 10. May be connected to a circuit on the active substrate (active matrix side) 10 and input.
【００４１】また、単純マトリクス方式やセグメント方
式の場合には、対向側に複数の信号を入力する必要があ
るが、前述の少なくとも液晶性高分子層の端面を覆う導
電膜４１として、異方性導電薄膜にして、複数の信号を
外部回路基板などを用いて複数の信号を入力できるよう
にする。この構成は、特に電極間のピッチが狭い場合に
有効である。In the case of the simple matrix system or the segment system, it is necessary to input a plurality of signals to the opposite side, but the conductive film 41 covering at least the end surface of the liquid crystalline polymer layer is anisotropic. A conductive thin film is used to input a plurality of signals using an external circuit board or the like. This configuration is particularly effective when the pitch between the electrodes is narrow.
【００４２】このように、本実施形態では、導電膜４１
が液晶層３０の端面を覆うように形成されているため、
液晶表示装置の完成後に液晶層３０が外気に触れるおそ
れがない。これにより、別途液晶層３０が外気に触れな
いようにするための保護樹脂などを別途設ける必要が無
くなり、工程数を増加させることなく液晶層の信頼性を
確保することができる。また、対向電極２１への信号入
力を絶縁性基板（アクティブマトリクス側）１０から行
うことができ、外部回路基板を接続する際に、基板を反
転させて接続する必要がない。As described above, in the present embodiment, the conductive film 41
Is formed so as to cover the end face of the liquid crystal layer 30,
There is no fear that the liquid crystal layer 30 will come into contact with the outside air after the completion of the liquid crystal display device. Accordingly, it is not necessary to separately provide a protective resin or the like for preventing the liquid crystal layer 30 from being exposed to the outside air, and the reliability of the liquid crystal layer can be secured without increasing the number of steps. In addition, signal input to the counter electrode 21 can be performed from the insulating substrate (active matrix side) 10, and when connecting an external circuit board, there is no need to invert the board and connect it.
【００４３】（実施形態４）本発明の実施形態４の液晶
表示装置の断面図を図７に示す。なお、実施形態１ない
し３と同じ部分の説明は省略する。本実施形態では、高
分子液晶フィルムを形成する際に、対向基板２０となる
ベースシートであるロール状態の１００μｍのポリエチ
レンテレフタレートフィルムの上に赤の顔料を含有させ
た感光性のアクリル系樹脂のフィルムを貼付け、画素に
相当するパターンにしたがって露光した後、現像処理を
おこない、赤のカラーフィルタを形成した。次に、緑、
青についても同様におこないカラーフィルター２２を形
成した。このとき、必要に応じて黒の感光性フィルムを
用いてブラックマトリクスを形成してよい。(Embodiment 4) FIG. 7 is a sectional view of a liquid crystal display device according to Embodiment 4 of the present invention. The description of the same parts as in the first to third embodiments will be omitted. In this embodiment, when forming a polymer liquid crystal film, a photosensitive acrylic resin film containing a red pigment on a rolled 100 μm polyethylene terephthalate film which is a base sheet serving as the opposite substrate 20. Was adhered and exposed according to a pattern corresponding to the pixel, and then developed to form a red color filter. Next, green,
The same process was performed for blue to form a color filter 22. At this time, if necessary, a black matrix may be formed using a black photosensitive film.
【００４４】こうしてカラーフィルタ２２を形成した
後、対向電極となるＩＴＯなどの導電膜４２を転写法な
どを用いて形成した。その上に、図示しないポリイミド
層を０．５μｍの膜厚に塗布し、これをラビングして配
向層とした後、表示領域に相当する部分に液晶層３０を
形成した。そして、図示しないラミネートフィルムを形
成して、積層フィルムを完成させ、絶縁性基板（アクテ
ィブマトリクス側）１０に貼り付けた。After the color filter 22 was formed in this manner, a conductive film 42 such as ITO serving as a counter electrode was formed by a transfer method or the like. A polyimide layer (not shown) was applied thereon to a thickness of 0.5 μm and rubbed to form an alignment layer. Then, a liquid crystal layer 30 was formed in a portion corresponding to a display region. Then, a laminated film (not shown) was formed to complete the laminated film, which was attached to the insulating substrate (active matrix side) 10.
【００４５】ここで、対向電極である導電膜４２への信
号入力は、絶縁性基板（アクティブマトリクス側）１０
上の電極を介して行ったり、絶縁性基板（アクティブマ
トリクス側）１０上に形成された回路と接続して入力し
てもよい。Here, the signal input to the conductive film 42 as the counter electrode is performed by the insulating substrate (active matrix side) 10.
The input may be performed through the upper electrode or by connecting to a circuit formed on the insulating substrate (active matrix side) 10.
【００４６】なお、本実施形態では予め表示領域に相当
する部分に選択的に液晶層３０を形成したが、実施形態
２に示したように、一旦積層されたフィルムを周辺部だ
け浮かせて圧着し、この浮かせた部分の液晶層３０をエ
ッチングした後、エッチャントから保護する機能を兼ね
る導電膜４２を圧着しても良い。この場合は、液晶層３
０を溶かすエッチャントである有機溶液などはカラーフ
ィルター２２などの有機膜にダメージを与える可能性が
あるが、ＩＴＯなど無機膜をエッチングしないため、こ
のエッチング工程のダメージでカラーフィルター２２な
どを保護する役目を果たす。In the present embodiment, the liquid crystal layer 30 is selectively formed in advance in a portion corresponding to the display area. However, as shown in the second embodiment, the laminated film is floated only at the peripheral portion and pressure-bonded. After etching the liquid crystal layer 30 in the floating portion, the conductive film 42 serving also as a function of protecting from an etchant may be pressed. In this case, the liquid crystal layer 3
An organic solution or the like which is an etchant that dissolves 0 may damage an organic film such as the color filter 22, but does not etch an inorganic film such as ITO. Fulfill.
【００４７】このように、本実施形態では、液晶層３０
の保護を工程を増加させることがないだけでなく、ベー
スシートが対向基板２０を兼ねているため、液晶表示装
置として軽量化が図れ、さらに製造工程の短縮が図れ
る。As described above, in the present embodiment, the liquid crystal layer 30
Not only does the process not increase the number of steps, but also because the base sheet also serves as the counter substrate 20, the weight of the liquid crystal display device can be reduced, and the manufacturing process can be further shortened.
【００４８】（実施形態５）本発明の実施形態５の液晶
表示装置の断面図を図８に示す。なお、実施形態１ない
し４と同じ部分の説明は省略する。本実施形態では、高
分子液晶フィルムを形成する際に、図示しないベースシ
ートの上に、図示しないポリイミド層を０．５μｍの膜
厚に塗布し、これをラビングして配向層とした後、側鎖
型高分子液晶のジクロロエタン溶液をブレードコーター
を用いて塗布し、液晶層３０を形成した。そして、図示
しないラミネートフィルムを形成して、積層フィルムを
完成させた。(Embodiment 5) FIG. 8 is a sectional view of a liquid crystal display device according to Embodiment 5 of the present invention. The description of the same parts as in the first to fourth embodiments will be omitted. In the present embodiment, when forming a polymer liquid crystal film, a polyimide layer (not shown) is applied to a thickness of 0.5 μm on a base sheet (not shown), and rubbed to form an alignment layer. A dichloroethane solution of a chain type polymer liquid crystal was applied using a blade coater to form a liquid crystal layer 30. Then, a laminated film (not shown) was formed to complete the laminated film.
【００４９】そして、絶縁性基板（アクティブマトリク
ス側）１０に、図示しないラミネートフィルムを剥離し
ながら表示領域に相当する部分だけ加熱圧着した。そし
て、図示しないベースシートを剥離した後、対向電極と
なる導電膜４２としてスパッタ法によってＩＴＯを成膜
した。このとき、導電膜４２は液晶層３０を端面を含め
て覆うように形成する。そして、カラーフィルター２２
を備えた絶縁性基板（対向側）２０と、絶縁性基板（ア
クティブマトリクス側）１０とをエポキシ樹脂を介して
貼り合わせた。Then, only the portion corresponding to the display area was heat-pressed to the insulating substrate (active matrix side) 10 while peeling off the laminate film (not shown). Then, after peeling off a base sheet (not shown), ITO was formed as a conductive film 42 serving as a counter electrode by a sputtering method. At this time, the conductive film 42 is formed so as to cover the liquid crystal layer 30 including the end face. And the color filter 22
The insulating substrate (opposite side) 20 provided with the insulating substrate (active matrix side) 10 was bonded via an epoxy resin.
【００５０】ここで、対向電極である導電膜４２への信
号入力は直接テープキャリアパッケージなどの外部回路
基板を接続しても良いし、絶縁性基板（アクティブマト
リクス側）１０上の電極を介して行ったり、絶縁性基板
（アクティブマトリクス側）１０上の回路と接続して入
力してもよい。Here, the signal input to the conductive film 42 as the counter electrode may be directly connected to an external circuit board such as a tape carrier package, or may be performed via an electrode on the insulating substrate (active matrix side) 10. Alternatively, the input may be performed by connecting to a circuit on the insulating substrate (active matrix side) 10.
【００５１】このように、本実施形態では、導電膜４２
が液晶層３０の端面を覆うように形成されているため、
液晶表示装置の完成後に液晶層３０が外気に触れるおそ
れがない。これにより、別途液晶層３０が外気に触れな
いようにするための保護樹脂などを別途設ける必要が無
くなり、工程数を増加させることなく液晶層の信頼性を
確保することができる。As described above, in the present embodiment, the conductive film 42
Is formed so as to cover the end face of the liquid crystal layer 30,
There is no fear that the liquid crystal layer 30 will come into contact with the outside air after the completion of the liquid crystal display device. Accordingly, it is not necessary to separately provide a protective resin or the like for preventing the liquid crystal layer 30 from being exposed to the outside air, and the reliability of the liquid crystal layer can be secured without increasing the number of steps.
【００５２】[0052]
【発明の効果】本発明の液晶表示装置によると、電極間
に配置された液晶層を駆動して表示を行い、該液晶層と
して配向制御された高分子液晶フィルムを用い、該高分
子液晶フィルムが液晶層とフィルムシートから成り、該
フィルムシートが少なくとも該液晶層の端面を覆ってい
ることにより、液晶層の間隙を一定にすることができ
る。また、従来の液晶プロセスで必須であったスペーサ
ーが不要となり、スペーサー散布工程が不要になる。ま
た、絶縁性基板（対向側）を必ずしも必要としないため
液晶表示装置の軽量化が図れる。さらに、フィルムシー
トとして液晶層を保護するラミネートフィルムや、偏光
板、カラーフィルター、位相差板などの機能性を付与し
たベースシート並びに、均一な圧力が加わるようにする
ためのクッション層を用いて、液晶層の端面を覆うよう
にすることにより、工程数を増加させることなく液晶層
の信頼性を確保することができる。According to the liquid crystal display device of the present invention, display is performed by driving a liquid crystal layer disposed between electrodes, and a polymer liquid crystal film whose orientation is controlled is used as the liquid crystal layer. Is composed of a liquid crystal layer and a film sheet, and the gap between the liquid crystal layers can be made constant because the film sheet covers at least the end face of the liquid crystal layer. In addition, the spacer which is indispensable in the conventional liquid crystal process is not required, and the step of dispersing the spacer is not required. Further, since an insulating substrate (opposite side) is not necessarily required, the weight of the liquid crystal display device can be reduced. Furthermore, using a laminated film that protects the liquid crystal layer as a film sheet, a polarizing plate, a color filter, a base sheet that has been given functionality such as a retardation plate, and a cushion layer so that uniform pressure is applied, By covering the end face of the liquid crystal layer, the reliability of the liquid crystal layer can be ensured without increasing the number of steps.
【００５３】また、前記液晶層を覆うフィルムシートの
少なくとも一部が導電膜であり、該導電膜を用いて基板
上に形成された電極間を接続する導電膜として用いるこ
とができる。その際に、導電膜を異方性導電膜とするこ
とにより、電極間のピッチが狭い場合でも接続を行うこ
とができる。さらに、該導電膜を液晶駆動用電極として
用いることにより、液晶駆動用電極を別に形成する必要
が無くなり製造原価の低減が図れる。Further, at least a part of the film sheet covering the liquid crystal layer is a conductive film, and the conductive film can be used as a conductive film for connecting electrodes formed on a substrate. At this time, by using an anisotropic conductive film as the conductive film, connection can be made even when the pitch between the electrodes is narrow. Further, by using the conductive film as a liquid crystal driving electrode, it is not necessary to separately form a liquid crystal driving electrode, and the manufacturing cost can be reduced.
【００５４】また、本発明の製造方法によると、電極が
設けられた基板上に、液晶層とフィルムシートから成る
高分子液晶フィルムを貼り付ける際に、該高分子液晶フ
ィルムを該基板上に該高分子液晶フィルムの大きさより
も小さい領域を貼り付けた後、貼り付けられていない領
域の該液晶層を除去し、該液晶層が除去された領域の該
フィルムシートを該基板に貼り付けることにより、工程
数を増やすことなく液晶表示装置として完成後は、フィ
ルムシートが液晶層を覆い信頼性を確保することができ
る。なお、工程によっては、製造途中で液晶層の端面が
外気に触れる可能性があるが、端面の外気に触れた部分
は除去するため、表示に影響はない。Further, according to the production method of the present invention, when a polymer liquid crystal film composed of a liquid crystal layer and a film sheet is pasted on a substrate provided with electrodes, the polymer liquid crystal film is placed on the substrate. After attaching an area smaller than the size of the polymer liquid crystal film, removing the liquid crystal layer in an area where the liquid crystal layer is not attached, and attaching the film sheet in an area where the liquid crystal layer is removed to the substrate. After the completion of the liquid crystal display device without increasing the number of steps, the film sheet covers the liquid crystal layer to ensure reliability. Note that, depending on the process, the end face of the liquid crystal layer may come into contact with the outside air during the production, but since the portion of the end face that has come into contact with the outside air is removed, the display is not affected.
【図１】本発明の実施形態１の液晶表示装置の断面図で
ある。FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の実施形態１の液晶表示装置の平面図で
ある。FIG. 2 is a plan view of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.
【図３】本発明の実施形態１の液晶表示装置のプロセス
フロー図である。FIG. 3 is a process flow chart of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.
【図４】本発明の実施形態２の液晶表示装置のプロセス
フロー図である。FIG. 4 is a process flow chart of the liquid crystal display device according to Embodiment 2 of the present invention.
【図５】本発明の実施形態２の液晶表示装置のプロセス
フロー図である。FIG. 5 is a process flow chart of the liquid crystal display device according to Embodiment 2 of the present invention.
【図６】本発明の実施形態３の液晶表示装置の断面図で
ある。FIG. 6 is a sectional view of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.
【図７】本発明の実施形態４の液晶表示装置の断面図で
ある。FIG. 7 is a sectional view of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention.
【図８】本発明の実施形態５の液晶表示装置の断面図で
ある。FIG. 8 is a sectional view of a liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention.
【図９】従来の液晶表示装置の等価回路図である。FIG. 9 is an equivalent circuit diagram of a conventional liquid crystal display device.
１ ＴＦＴ（薄膜トランジスタ） ２ ゲート配線 ３ ソース配線 ４ 画素電極 ８ 層間絶縁膜 １０ 絶縁性基板（アクティブマトリクス側） ２０ 絶縁性基板（対向側） ２１ 偏光板 ３０ 液晶層 ３１ ベースシート ３２ ラミネートフィルム ３８ クッション層 ３９ 接着剤 ４１ 導電膜 ４２ 導電膜（対向電極） REFERENCE SIGNS LIST 1 TFT (thin film transistor) 2 gate wiring 3 source wiring 4 pixel electrode 8 interlayer insulating film 10 insulating substrate (active matrix side) 20 insulating substrate (opposite side) 21 polarizing plate 30 liquid crystal layer 31 base sheet 32 laminate film 38 cushion layer 39 adhesive 41 conductive film 42 conductive film (counter electrode)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久保 真澄 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (72)発明者 前川 和広 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 審査官 右田 昌士 (56)参考文献 特開 平７−120761（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−236520（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−20479（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−253712（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−350626（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1337 G02F 1/13 101 G02F 1/1343 G02F 1/1333 G02F 1/1362 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Masumi Kubo 22-22, Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka Inside Sharp Corporation (72) Inventor Kazuhiro Maekawa 22-22, Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka Sharp Corporation Examiner Masashi Migita (56) References JP-A-7-120761 (JP, A) JP-A-2-236520 (JP, A) JP-A-7-20479 (JP, A) JP-A 1-253712 (JP JP, A) JP-A-4-350626 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G02F 1/1337 G02F 1/13 101 G02F 1/1343 G02F 1/1333 G02F 1 / 1362
Claims (1)
晶層を駆動して表示を行う液晶表示装置の製造方法にお
いて、 フィルムシートに液晶層を形成してラミネートフィルム
で該液晶層を覆って高分子液晶フィルムを形成し、該高
分子液晶フィルムを一対の配向用ローラーの間を通過さ
せて該液晶層に一軸延伸処理を施した後、 電極が設けられたガラス基板上に、該ラミネートフィル
ムを剥離しながら該液晶層の大きさよりも小さい領域に
液晶層を貼り付けた後、貼り付けられていない領域の該
液晶層を除去し、該液晶層が除去された領域の該フィル
ムシートを該ガラス基板に貼り付けることを特徴とする
液晶表示装置の製造方法。1. A method of manufacturing a liquid crystal display device for performing display by driving a liquid crystal layer disposed between at least two electrodes, comprising: forming a liquid crystal layer on a film sheet; and covering the liquid crystal layer with a laminate film. After forming a molecular liquid crystal film and passing the polymer liquid crystal film between a pair of alignment rollers to perform a uniaxial stretching treatment on the liquid crystal layer, the laminated film is placed on a glass substrate provided with electrodes. In the area smaller than the size of the liquid crystal layer while peeling
After pasting the liquid crystal layer, and removing the liquid crystal layer in the region not attached, the film sheet of the liquid crystal layer has been removed region of the liquid crystal display device, characterized in that affixed to the glass substrate Production method.
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| JPH1138416A JPH1138416A (en) | 1999-02-12 |
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