JP3320614B2 - Bonding method and bonding apparatus - Google Patents

Bonding method and bonding apparatus

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体チップの電極
バンブに対応するインナーリードをボンディングする方
法およびボンディング装置に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method and apparatus for bonding an inner lead corresponding to an electrode bump of a semiconductor chip.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器のコンパクト化が進む
中、それら電子機器の主要電子部品である半導体装置も
高容量化やコンパクト化などが求められている。そし
て、これら半導体装置の製造・組み立て手段として、た
とえば入出力用リード単位が間欠的に設けられたフィル
ムのインナーリード(先端部)と、半導体チップ面の対
応する電極バンブとを位置合わせして電気的に接続する
TAB(Tape Automated Bonding)方式が採られている。
そして、この TAB方式を実施するボンディング装置は、
接続すべきインナーリードと半導体チップの電極(たと
えば電極バンブ)とを自動的に選択・決定する機能を備
えていないため、一般的に、オペレータがボンディング
装置の ITVカメラによるビデオ画像を目視しながら、ボ
ンディングする相手をテーチィングしている。
2. Description of the Related Art In recent years, as electronic devices have become more compact, semiconductor devices, which are the main electronic components of those electronic devices, are also required to have higher capacities and smaller sizes. As means for manufacturing and assembling these semiconductor devices, for example, the inner leads (tips) of a film provided with intermittent input / output lead units are aligned with the corresponding electrode bumps on the semiconductor chip surface, and electric power is supplied. Connect
TAB (Tape Automated Bonding) method is adopted.
And the bonding equipment that implements this TAB method is
Since it does not have a function to automatically select and determine the inner lead to be connected and the electrode (for example, electrode bump) of the semiconductor chip, the operator generally looks at the video image from the ITV camera of the bonding device while watching the video image. Teaching partner to be bonded.

【0003】図7 (a), (b)は、従来の TAB方式におけ
るインナーリードと半導体チップ面の対応する電極バン
ブとの位置合わせの実施態様を模式的に示したものであ
る。このボンディングにおいては、図7 (a)に一部を拡
大して平面的に示すごとく、ビデオ画像上で、インナー
リード1と半導体チップ2面の電極バンブ3との位置ズ
レが認められたときは、たとえば半導体チップ2を載置
した半導体チップステージ4について、X−Y−θ軸の
調整を繰り返して、図7 (b)に一部を拡大して平面的に
示すように、インナーリード1と半導体チップ2面の電
極バンブ3との位置ズレがない状態に設定する。
FIGS. 7A and 7B schematically show an embodiment of alignment between an inner lead and a corresponding electrode bump on a semiconductor chip surface in a conventional TAB method. In this bonding, as shown in FIG. 7 (a), when a part of the inner lead 1 and the electrode bump 3 on the surface of the semiconductor chip 2 are misaligned on the video image, as shown in an enlarged plan view, For example, with respect to the semiconductor chip stage 4 on which the semiconductor chip 2 is mounted, the adjustment of the XY-θ axis is repeated to partially enlarge the inner lead 1 as shown in FIG. The semiconductor chip 2 is set in a state where there is no misalignment with the electrode bumps 3.

【0004】こうして、半導体チップステージ4の位置
決めが行われ、インナーリード1と電極バンブ3との位
置が正確に合った時点で、その位置をボンディング装置
側に入力する。そして、ボンディング操作を連続的に行
うときは、前記インナーリード1および電極バンブ3に
つき、それぞれ2カ所の検出点を検出して、最初ボンデ
ィング装置側に入力したインナーリード1と電極バンブ
3との位置関係を採るように、半導体チップステージ4
の位置を補正して TAB方式を実施している。
In this way, when the position of the semiconductor chip stage 4 is determined and the position of the inner lead 1 and the position of the electrode bump 3 are accurately matched, the position is input to the bonding apparatus. When the bonding operation is performed continuously, two detection points are detected for each of the inner lead 1 and the electrode bump 3, and the positions of the inner lead 1 and the electrode bump 3 which are first input to the bonding apparatus side are detected. Semiconductor chip stage 4
The TAB method is implemented by correcting the position of.

【0005】上記、位置合わせ終了後、ボンディング条
件(ボンディング荷重)を設定し、インナーリード1と
電極バンブ3とのボンディングを行っている。ここで、
ボンディング条件は、インナーリード1の数によって設
定され、たとえば各インナーリード1当たり(単位ボン
ディング箇所)、たとえば0.2(N)の荷重で、インナーリ
ード1当たり(ボンディング箇所数) 450とすると、0.
2(N)× 450= 90(N)となるので、 90(N)の荷重を入力し
ている。つまり、インナーリード1の数が異なるごとに
(品種が異なるごとに)、対応するボンディング条件を
入力している。なお、図8は、上記 TAB方式おいて、イ
ンナーリード1と電極バンブ3とを位置合わせ、および
ボンディングするときのフローチャートである。
After the completion of the above-described positioning, the bonding condition (bonding load) is set, and the bonding between the inner lead 1 and the electrode bump 3 is performed. here,
The bonding conditions are set according to the number of inner leads 1. For example, if each inner lead 1 (unit bonding position), for example, with a load of 0.2 (N) and 450 per inner lead (number of bonding positions), then 0.
Since 2 (N) x 450 = 90 (N), a load of 90 (N) is input. That is, each time the number of the inner leads 1 is different (each time the type is different), the corresponding bonding condition is input. FIG. 8 is a flowchart when the inner lead 1 and the electrode bump 3 are aligned and bonded in the TAB method.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記 TAB方式は、生産
性もしくは量産性などの点で関心を寄せられながら、従
来の手段では、次のような不都合があり、なお、歩留ま
りや生産性などの点で問題がある。
The above-mentioned TAB method has attracted attention in terms of productivity or mass productivity. However, conventional means have the following disadvantages, and still have problems such as yield and productivity. There is a problem in point.

【0007】先ず、インナーリード1および電極バンブ
3の位置設定は、モニターに写し出された画像をオペレ
ーターが目視しながら行うため、X−Y−θ軸の正確な
(精度よく)調整には多くの時間を要するだけでなく、
歩留まりも劣ることが懸念される。つまり、ボンディン
グ装置の立上げや品種の切り替え時に要する時間が長く
なるため、運転稼働率が低下しして生産性に悪影響を及
ぼすし、また、位置決め,調整はオペレーターの目視に
よるので、位置精度の問題から歩留まり低下も懸念され
る。
First, since the position of the inner leads 1 and the electrode bumps 3 is set while the operator visually observes the image displayed on the monitor, many adjustments are required for accurate (accurate) adjustment of the XY-θ axes. Not only takes time,
It is feared that the yield is inferior. In other words, the time required to start up the bonding apparatus or change the product type becomes longer, which lowers the operation rate and adversely affects the productivity. In addition, since positioning and adjustment are performed visually by an operator, the position accuracy is reduced. There is a concern that the yield may decrease due to the problem.

【0008】次に、連続ボンディングに当たっては、イ
ンナーリード1側および電極バンブ3側ともそれぞれ2
カ所の検出で位置合わせを行うが、たとえばインナーリ
ード1の一部に変形がある場合、その変形を無視した位
置合わせとなるため、位置ズレ不良やアウターリード変
形不良などを発生するボンディングが行われる恐れもあ
る。
Next, in the continuous bonding, both the inner lead 1 side and the electrode bump 3 side are 2
Alignment is performed by detecting a position. For example, if a part of the inner lead 1 is deformed, the alignment is performed ignoring the deformation, and therefore bonding is performed to cause a positional deviation defect or an outer lead deformation defect. There is fear.

【0009】本発明は上記事情に対処してなされたもの
で、狭ピッチのインナーリードの場合でも、煩雑な操作
などを要せずに、信頼性の高いボンディングを行うこと
ができる半導体チップのボンディング方法およびボンデ
ィング装置の提供を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has been made in consideration of the above circumstances, and is capable of performing highly reliable bonding without complicated operations even in the case of an inner lead having a narrow pitch. A method and a bonding apparatus are provided.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、半導
体チップの一主面上に設けられた電極群を対応するイン
ナーリード群にボンディングする方法において、予め入
力しておいた前記インナーリードの設計値座標および半
導体チップの電極座標情報と、検出した前記インナーリ
ードの2点マークおよび前記電極の2点マークとに基づ
いて、前記インナーリードの全てについて、対応するイ
ンナーリードおよび電極の位置関係を座標照合して位置
決めした後、インナーリードと電極とを接合することを
特徴とするボンディング方法である。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of bonding an electrode group provided on one main surface of a semiconductor chip to a corresponding inner lead group. and electrode coordinate information of the design value coordinates and semiconductor chips, detected the In'nari
Based on the two-point mark on the lead and the two-point mark on the electrode.
Then , the bonding method is characterized in that, for all of the inner leads, the positional relationship between the corresponding inner leads and the electrodes is coordinate-checked and positioned, and then the inner leads and the electrodes are joined.

【0011】請求項2の発明は、半導体チップの一主面
上に設けられた電極群を対応するインナーリード群にボ
ンディングするボンディング装置において、前記ボンデ
ィング装置は、前記インナーリードの設計値座標および
半導体チップの電極座標情報を入力できる機能と、前記
インナーリードの2点マークおよび前記電極の2点マー
クをそれぞれ検出する機能とを備え、かつ前記入力した
インナーリードの設計値座標、半導体チップの電極座標
情報、前記検出した前記インナーリードの2点マークお
よび前記電極の2点マークに基づいて、前記インナーリ
ードの全てについて、対応するインナーリードおよびと
電極の位置関係を座標照合して半導体チップステージの
X,Y,θを動作させて対応するインナーリードと電極
とを位置決めする機構とを具備することを特徴とするボ
ンディング装置である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided one main surface of a semiconductor chip.
Bore the electrode group provided above to the corresponding inner lead group.
In the bonding apparatus for bonding, the bond
The design value coordinates of the inner lead and
A function for inputting electrode coordinate information of the semiconductor chip;
Two-point mark on inner lead and two-point mark on the electrode
And a function for detecting each of the
Inner lead design value coordinates, semiconductor chip electrode coordinates
Information, the detected two-point mark of the inner lead and
And the two-point mark on the electrode,
For all leads, the corresponding inner leads and
The position of the electrodes is collated and the semiconductor chip stage
Operate X, Y, θ and corresponding inner leads and electrodes
And a mechanism for positioning
It is a binding device.

【0012】[0012]

【0013】[0013]

【0014】請求項の発明は、半導体チップの一主面
上に設けられた電極群を対応するインナーリード群にボ
ンディングするボンディング装置において、前記ボンデ
ィング装置は、前記インナーリードの設計値座標および
半導体チップの電極座標情報を入力できる機能を備え、
かつ対応するインナーリードおよびと電極の位置関係を
座標照合して半導体チップステージのX,Y,θを動作
させて対応するインナーリードと電極とを位置決めする
機構と;ボンディング荷重をボンディング箇所数×単位
荷重として入力し、ボンディング荷重を制御する機構
と;を具備することを特徴とするボンディング装置であ
る。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a bonding apparatus for bonding an electrode group provided on one main surface of a semiconductor chip to a corresponding inner lead group, the bonding apparatus comprising: a design value coordinate of the inner lead; Equipped with a function to input chip electrode coordinate information,
And a mechanism for positioning the corresponding inner lead and the electrode by operating the X, Y, and θ of the semiconductor chip stage by coordinate-checking the positional relationship between the corresponding inner lead and the electrode; and setting the bonding load to the number of bonding locations × unit. A mechanism for inputting a load and controlling a bonding load.

【0015】請求項の発明は、半導体チップの一主面
上に設けられた電極群を対応するインナーリード群にボ
ンディングするボンディング装置において、前記ボンデ
ィング装置は、前記インナーリードの設計値座標、半導
体チップの電極座標情報および半導体チップの検出エリ
ア情報を入力できる機能を備え、かつ検出エリア情報に
基づいて対応するインナーリードおよびと電極の位置関
係を座標照合して半導体チップステージのX,Y,θを
動作させて対応するインナーリードと電極とを位置決め
する機構と;ボンディング荷重をボンディング箇所数×
単位荷重として入力し、ボンディング荷重を制御する機
構と;を具備することを特徴とするボンディング装置で
ある。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a bonding apparatus for bonding an electrode group provided on one principal surface of a semiconductor chip to a corresponding inner lead group, wherein the bonding apparatus comprises: a design value coordinate of the inner lead; It has a function of inputting the electrode coordinate information of the chip and the detection area information of the semiconductor chip, and performs coordinate matching of the positional relationship between the corresponding inner lead and the electrode based on the detection area information to perform X, Y, θ of the semiconductor chip stage. And a mechanism for positioning the corresponding inner lead and the electrode by operating the bonding load;
A mechanism for inputting as a unit load and controlling the bonding load.

【0016】すなわち、本発明はインナーリードと半導
体チップ上の電極とを電気的および機械的に接続・接合
するに当たり、インナーリードの設計値の座標と、半導
体チップの電極の座標情報とを予め外部から入力してお
くことを前提とする。ここで、半導体チップの電極は、
いわゆる電極端子でもよいが、この電極端子面にバンプ
を形成・配置した構成としてもよい。そして、前記入力
した設計値の座標および座標情報と、たとえば ITVカメ
ラで写したインナーリードおよび電極の両画像の位置関
係を座標照合し、要すれば、チップステージをX−Y−
θ調整して、インナーリードおよび電極の位置関係を自
動的に補正・調整した後、対応するインナーリードと電
極とをボンディングするものである。
That is, according to the present invention, when electrically connecting and joining the inner lead and the electrode on the semiconductor chip electrically and mechanically, the coordinates of the design value of the inner lead and the coordinate information of the electrode of the semiconductor chip are previously stored in the external device. It is assumed that input is made from. Here, the electrodes of the semiconductor chip are
Although a so-called electrode terminal may be used, a configuration in which a bump is formed and arranged on this electrode terminal surface may be used. Then, the coordinates of the input design values and the coordinate information are collated with the positional relationship between the image of the inner lead and the image of the electrode captured by an ITV camera, and if necessary, the chip stage is moved to the XY-axis.
After the θ adjustment, the positional relationship between the inner lead and the electrode is automatically corrected and adjusted, the corresponding inner lead and the electrode are bonded.

【0017】本発明に係る手段では、 ITVカメラが撮像
したインナーリードの合わせマーク2点,電極の合わせ
マーク2点をそれぞれ入力する一方、予め外部から入力
しておいた TABのインナーリード設計値の座標とおよび
ボンディングする半導体チップの電極バンブの座標情報
を座標照合し、この座標照合に基づいて、対応するイン
ナーリードおよび電極バンブを自動的に位置調整する構
成を採っている。つまり、オペレーターの目視による位
置調整など行わないため、量産性もしくは生産性が高
く、かつ精度のよい位置決めがなされので、信頼性の高
いボンディングを行うことができる。
According to the means of the present invention, two alignment marks of the inner lead and two alignment marks of the electrode imaged by the ITV camera are input, respectively, while the design value of the TAB inner lead design value input from outside in advance is input. The coordinate and the coordinate information of the electrode bump of the semiconductor chip to be bonded are coordinate-checked, and the position of the corresponding inner lead and electrode bump is automatically adjusted based on the coordinate check. That is, since the position is not visually adjusted by the operator, the mass production or the productivity is high, and the positioning is performed with high accuracy, so that highly reliable bonding can be performed.

【0018】また、上記設計値の座標および座標情報の
いわゆる基準値の他に、半導体チップの検出エリア情報
も入力した場合、さらには各種のボンディング条件デー
タを入力しておいたときは、これら検出エリア情報、ボ
ンディング条件データによって、検出対照領域を予め設
定したり、ボンディング条件の選択設定など自動化で
き、さらに、ボンディング操作の自動化が容易になる。
In addition to the coordinates of the design values and the so-called reference values of the coordinate information, when the detection area information of the semiconductor chip is also input, and when various bonding condition data are input, these detection values are detected. According to the area information and the bonding condition data, the detection target area can be set in advance, the selection and setting of the bonding condition can be automated, and the automation of the bonding operation can be easily performed.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、図1,図2,図3,図4,
図5および図6を参照して実施例を説明する。 図1
は、第1の実施例に係るボンディング装置の要部構成を
斜視的に示したものである。このボンディング装置は、
基本的には従来の場合と変わらないが、インナーリード
の設計値の座標と、ボンディングする半導体チップの電
極(たとえば電極バンブ)の座標情報とを外部から入力
でき、また、この入力された両データと ITVカメラ画像
とで、位置関係を座標照合できる機能を持たせた点を相
違点としている。具体的に示すと、このボンディング装
置は、次のように構成されている。
FIG. 1, FIG. 2, FIG. 3, FIG.
An embodiment will be described with reference to FIGS. FIG.
FIG. 1 is a perspective view showing a main part configuration of a bonding apparatus according to a first embodiment. This bonding equipment
Basically, although not different from the conventional case, the coordinates of the design values of the inner leads and the coordinate information of the electrodes (for example, electrode bumps) of the semiconductor chip to be bonded can be externally input. The difference is that it has a function that can collate the positional relationship between the image and the ITV camera image. Specifically, this bonding apparatus is configured as follows.

【0020】すなわち、 TABテープ搬送系5と、この T
ABテープ搬送系5に沿い、かつ近接して配置された半導
体チップステージ6と、この半導体チップステージ6を
X−Y−θに動作させる駆動機構7と、前記半導体チッ
プステージ6に半導体チップ8を搬送する半導体チップ
搬送系9と、前記 TABテープ搬送系5上方に設置されて
TABテープ10の単位インナーリード部10′部を撮像して
単位インナーリード部10′部の2点マークを入力する第
1の ITVカメラ11と、半導体チップステージ6上方に設
置されて半導体チップ8の電極バンブ12群を撮像し、電
極バンブ12群の2点マークを入力する第2の ITVカメラ
13とを備えている。
That is, the TAB tape transport system 5 and the TB
A semiconductor chip stage 6 disposed along and close to the AB tape transport system 5, a drive mechanism 7 for operating the semiconductor chip stage 6 in XY-θ, and a semiconductor chip 8 mounted on the semiconductor chip stage 6; The semiconductor chip transport system 9 for transporting and the TAB tape transport system 5
A first ITV camera 11 for taking an image of the unit inner lead portion 10 'of the TAB tape 10 and inputting a two-point mark of the unit inner lead portion 10', and a semiconductor chip 8 mounted above the semiconductor chip stage 6; A second ITV camera that captures 12 groups of electrode bumps and inputs the two-point mark of 12 groups of electrode bumps
13 and.

【0021】さらに、前記 TABテープ10の単位インナー
リード部10′の設計値座標、および半導体チップ8の電
極バンブ12群の座標情報(たとえばCAD データ,フロッ
ピー)をそれぞれ入力できるメモリー部14と、前記 ITV
カメラ11,13による対応する各2点マークを、前記メモ
リー部14に入力された単位インナーリード部10′の設計
値座標,半導体チップ8の電極バンブ12群の座標情報と
それぞれ座標照合を行う座標照合手段15と、前記座標照
合手段15の照合に基づき半導体チップステージ6をX−
Y−θ駆動させる(位置合わせ)駆動機構7の制御を行
う制御系16と、前記対応・位置合わせした単位インナー
リード部10′および電極バンブ12を圧着して接合させる
ボンデング手段17とを具備している。
Further, a memory unit 14 for inputting design value coordinates of the unit inner lead portion 10 'of the TAB tape 10 and coordinate information (for example, CAD data and floppy) of the group of electrode bumps 12 of the semiconductor chip 8; ITV
The corresponding two-point marks from the cameras 11 and 13 are used for coordinate matching with the design value coordinates of the unit inner lead portion 10 ′ and the coordinate information of the electrode bumps 12 group of the semiconductor chip 8 input to the memory portion 14. The semiconductor chip stage 6 is moved to the X-
A control system 16 for controlling the Y-θ drive (positioning) drive mechanism 7 and a bonding means 17 for pressing and bonding the corresponding and aligned unit inner lead portions 10 ′ and the electrode bumps 12 are provided. ing.

【0022】次に、上記構成ボンディング装置による T
ABテープ10に対する半導体チップ8の位置合わせ,ボン
ディング操作について説明する。
Next, T
The positioning and bonding operation of the semiconductor chip 8 with respect to the AB tape 10 will be described.

【0023】図2はこの実施態様において、 TABテープ
10に対する半導体チップ8の位置合わせの状態を概念的
に示した平面図であり、また、図3は実施手順を示すフ
ローチャートである。先ず、メモリー部14に TABテープ
10の単位インナーリード部10′の設計値座標および半導
体チップ8の電極バンブ12群の座標情報をそれぞれ入力
する。その後、 TABテープ搬送系5で TABテープ10を間
欠的に搬送する一方、半導体チップ搬送系9で半導体チ
ップステージ6に半導体チップ8を搬送・セットする。
FIG. 2 shows a TAB tape in this embodiment.
FIG. 4 is a plan view conceptually showing a state of alignment of the semiconductor chip 8 with respect to 10, and FIG. 3 is a flowchart showing an implementation procedure. First, a TAB tape in the memory unit 14
The design value coordinates of the ten unit inner lead portions 10 'and the coordinate information of the electrode bumps 12 of the semiconductor chip 8 are input. Thereafter, the TAB tape 10 is transported intermittently by the TAB tape transport system 5, and the semiconductor chip 8 is transported and set on the semiconductor chip stage 6 by the semiconductor chip transport system 9.

【0024】この段階で、 TABテープ搬送系5の対応す
る単位インナーリード部10′を第1の ITVカメラ11で読
取り、その単位インナーリード部10′に予め付けられて
いる2点マーク 10a, 10bをメモリー部14に入力する。
また、半導体チップステージ6上の半導体チップ8の電
極バンブ12群を第2の ITVカメラ13で読取り、その電極
バンブ12群近傍に予め付けられている2点マーク 12a,
12bもメモリー部14に入力する。
At this stage, the corresponding unit inner lead portion 10 'of the TAB tape transport system 5 is read by the first ITV camera 11, and the two-point marks 10a, 10b previously attached to the unit inner lead portion 10'. Is input to the memory unit 14.
The second ITV camera 13 reads the group of electrode bumps 12 of the semiconductor chip 8 on the semiconductor chip stage 6, and the two-point marks 12a, 12a,
12b is also input to the memory unit 14.

【0025】前記単位インナーリード部10′の2点マー
ク 10a, 10b、および電極バンブ12の2点マーク 12a,
12bについての入力情報に対応し、メモリー部14から単
位インナーリード部10′の設計値座標および半導体チッ
プ8の電極バンブ12群の座標情報をそれぞれ読み出して
座標照合手段15において座標照合を行う。
The two-point marks 10a, 10b of the unit inner lead portion 10 'and the two-point marks 12a, 12a,
Corresponding to the input information of 12b, the design value coordinates of the unit inner lead portion 10 'and the coordinate information of the group of electrode bumps 12 of the semiconductor chip 8 are read out from the memory portion 14, and the coordinate matching means 15 performs coordinate matching.

【0026】そして、上記操作によって、単位インナー
リード部10′の全リードおよび電極バンブ12の座標照合
で、設計値座標に対する検出座標値が許容の範囲にある
ときは、半導体チップステージ6を TABテープ10の単位
インナーリード部10′に移動して、半導体チップ8面の
電極バンブ12群と対応するいインナーリード群とを一括
的にボンディングする。一方、前記座標照合で、設計値
座標に対する検出座標値が許容の範囲を超えているとき
は、その TABテープ10の単位インナーリード部10′を搬
出し(ボンディングを行わず)、新たに搬送されてきた
次段の単位インナーリード部10′を対象として、上記と
同様に検出操作・座標照合を行って、連続的にボンディ
ングを進行する。
In the above operation, when coordinates detected for all the leads of the unit inner lead portion 10 'and the electrode bumps 12 are within the permissible range with respect to the design value coordinates, the semiconductor chip stage 6 is attached to the TAB tape. The unit moves to the ten unit inner lead portions 10 ', and the electrode bumps 12 on the surface of the semiconductor chip 8 and the corresponding inner lead groups are collectively bonded. On the other hand, in the coordinate verification, when the detected coordinate value with respect to the design value coordinate exceeds the allowable range, the unit inner lead portion 10 'of the TAB tape 10 is carried out (without performing bonding) and newly conveyed. The detection operation and the coordinate collation are performed in the same manner as described above for the unit inner lead portion 10 'of the next stage, and the bonding is continuously advanced.

【0027】上記ボンディングにおいて、 TABテープ10
の単位インナーリード部10′と半導体チップ8の電極バ
ンブ12群との位置合わせ,照合を容易に行えることは、
ボンディング操作の立ち上げや品種切り替え時の段取り
などに要する時間の大幅な低減となる。つまり、1回当
たりのオペレータの目視による位置合わせ,位置調整に
比べて、位置合わせ,照合の所要時間を 1/2〜 1/3程度
と大幅に低減できる。また、個人差による位置精度のバ
ラツキもなくなるので、品質・歩留まりの向上が図られ
る。特に、全インナーリードの現状検出後、設計値座標
との照合で、インナーリード変形などの TABテープに起
因する位置ズレ不良を未然に防止できることは、品質・
歩留まり向上に大きく寄与することになる。
In the above bonding, the TAB tape 10
That the unit inner lead portion 10 'and the electrode bumps 12 of the semiconductor chip 8 can be easily aligned and collated.
The time required for setting up the bonding operation and setting up when changing the product type is greatly reduced. In other words, the time required for position adjustment and collation can be greatly reduced to about 1/2 to 1/3 as compared with the position adjustment and position adjustment performed visually by the operator at one time. In addition, since there is no variation in position accuracy due to individual differences, the quality and yield can be improved. In particular, after detecting the current state of all the inner leads, it is possible to prevent positional deviation defects such as deformation of the inner leads due to TAB tape by collation with the design value coordinates beforehand.
This will greatly contribute to improving the yield.

【0028】図4 (a), (b)は、第2の実施例の実施態
様を概念的に示した平面図である。この実施例は、前記
第1の実施例の場合に比べて、次の点で相違している。
すなわち、インナーリードの設計値の座標およびボンデ
ィングする半導体チップの電極(たとえば電極バンブ)
の座標情報の他に、半導体チップの位置検出エリア情報
とを外部から入力し、これら入力されたデータと ITVカ
メラ画像とで、位置関係を座標照合できる機能を持たせ
た点を相違点としている。
FIGS. 4A and 4B are plan views conceptually showing an embodiment of the second embodiment. This embodiment is different from the first embodiment in the following points.
That is, the coordinates of the design values of the inner leads and the electrodes (for example, electrode bumps) of the semiconductor chip to be bonded
The difference is that in addition to the coordinate information described above, the position detection area information of the semiconductor chip is input from the outside, and a function that allows the input data and the ITV camera image to perform the coordinate collation of the positional relationship is the difference. .

【0029】次にボンディング操作について、前記図3
のフローチャートを参照して説明する。先ず、メモリー
部14に TABテープ10の単位インナーリード部10′の設計
値座標、半導体チップ8の位置検出エリア情報 12a′,
12b′、および半導体チップ8の電極バンブ12群の座標
情報をそれぞれ入力する。ここで、位置検出エリア情報
12a′, 12b′は、位置決め用の2点マーク 12a, 12b
を含んだ形と成っている。その後、 TABテープ搬送系5
で TABテープ10を間欠的に搬送する一方、半導体チップ
搬送系9で半導体チップステージ6に半導体チップ8を
搬送・セットする。
Next, the bonding operation will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to the flowchart of FIG. First, the design value coordinates of the unit inner lead portion 10 ′ of the TAB tape 10, the position detection area information 12 a ′ of the semiconductor chip 8,
12b 'and the coordinate information of the electrode bumps 12 of the semiconductor chip 8 are input. Here, the position detection area information
12a 'and 12b' are two-point marks for positioning 12a and 12b
It has a shape that includes After that, TAB tape transport system 5
While the TAB tape 10 is intermittently conveyed, the semiconductor chip 8 is conveyed and set on the semiconductor chip stage 6 by the semiconductor chip conveying system 9.

【0030】この段階で、 TABテープ搬送系5の対応す
る単位インナーリード部10′を第1の ITVカメラ11で読
取り、その単位インナーリード部10′に予め付けられて
いる2点マーク 10a, 10bをメモリー部14に入力する。
また、半導体チップステージ6上の半導体チップ8の電
極バンブ12群を第2の ITVカメラ13で読取り、その電極
バンブ12群近傍に予め付けられている位置決め用の2点
マーク 12a, 12bを含む位置検出エリア情報 12a′, 1
2b′もメモリー部14に入力する。
At this stage, the corresponding unit inner lead portion 10 'of the TAB tape transport system 5 is read by the first ITV camera 11, and the two-point marks 10a, 10b previously attached to the unit inner lead portion 10'. Is input to the memory unit 14.
The second ITV camera 13 reads the group of electrode bumps 12 of the semiconductor chip 8 on the semiconductor chip stage 6, and positions the two groups of positioning marks 12a and 12b near the group of electrode bumps 12 in advance. Detection area information 12a ', 1
2b 'is also input to the memory unit 14.

【0031】前記単位インナーリード部10′の2点マー
ク 10a, 10b、および電極バンブ12の位置検出エリア情
報 12a′, 12b′についての入力情報に対応し、メモリ
ー部14から単位インナーリード部10′の設計値座標およ
び半導体チップ8の位置検出エリア情報 12a′, 12b′
をそれぞれ読み出して、一次的な位置合わせを行った
後、引き続き電極バンブ12群の座標情報を読み出して座
標照合手段15において2点マーク 12a, 12b座標照合を
行う。
Corresponding to the input information on the two-point marks 10a and 10b of the unit inner lead section 10 'and the position detection area information 12a' and 12b 'of the electrode bump 12, the memory section 14 sends the unit inner lead section 10'. Design value coordinates and position detection area information 12a ', 12b' of the semiconductor chip 8
Are read out, and the primary position is adjusted. Then, the coordinate information of the electrode bumps 12 is read out, and the coordinate matching means 15 performs the two-point mark 12a, 12b coordinate matching.

【0032】そして、上記操作によって、単位インナー
リード部10′の全リードおよび電極バンブ12の座標照合
で、設計値座標に対する検出座標値が許容の範囲にある
ときは、半導体チップステージ6を TABテープ10の単位
インナーリード部10′に移動して、半導体チップ8面の
電極バンブ12群と対応するいインナーリード群とを一括
的にボンディングする。一方、前記座標照合で、設計値
座標に対する検出座標値が許容の範囲を超えているとき
は、その TABテープ10の単位インナーリード部10′を搬
出し(ボンディングを行わず)、新たに搬送されてきた
次段の単位インナーリード部10′を対象として、上記と
同様に検出操作・座標照合を行って、連続的にボンディ
ングを進行する。
When the coordinates of all the leads of the unit inner lead portion 10 'and the electrode bumps 12 are collimated by the above operation and the detected coordinate values with respect to the design value coordinates are within the allowable range, the semiconductor chip stage 6 is connected to the TAB tape. The unit moves to the ten unit inner lead portions 10 ', and the electrode bumps 12 on the surface of the semiconductor chip 8 and the corresponding inner lead groups are collectively bonded. On the other hand, in the coordinate verification, when the detected coordinate value with respect to the design value coordinate exceeds the allowable range, the unit inner lead portion 10 'of the TAB tape 10 is carried out (without performing bonding) and newly conveyed. The detection operation and the coordinate collation are performed in the same manner as described above for the unit inner lead portion 10 'of the next stage, and the bonding is continuously advanced.

【0033】図5は、第3の実施例のボンディング装置
のブロック図である。この実施例の場合も、上記第1実
施例の場合(図1参照)と基本的には同様の構成を採っ
ている。たとえば CADやフロッピディスクから、電極バ
ンブ12群の座標情報だけでなく、リード面積情報(ボン
ディング面積…リードの本数に対応する)が入力される
構成を採っている。ここで、 ITVカメラ11,13による読
取りと座標情報との座標照合、X−Y−θ軸の補正など
についは、上記した通りなのでその説明を省略する。一
方、前記リード面積情報に基づいて、メモリー部14の設
定荷重演算部で算出され、荷重変換部で所要の荷重が選
択・設定されボンディングツールに印加される。つま
り、読み込ませたリード面積情報に基づいて、ダイボン
ド荷重が計算され、荷重設定が自動的に行われてボンデ
ィングが進行する。
FIG. 5 is a block diagram of a bonding apparatus according to the third embodiment. This embodiment also has basically the same configuration as the first embodiment (see FIG. 1). For example, a configuration is adopted in which not only coordinate information of the electrode bumps 12 group but also lead area information (bonding area... Corresponding to the number of leads) is input from CAD or a floppy disk. Here, since the reading by the ITV cameras 11 and 13 and the collation of the coordinate information with the coordinate information, the correction of the XY-θ axis, and the like are as described above, the description thereof will be omitted. On the other hand, based on the lead area information, the load is calculated by the set load calculator of the memory unit 14, and the required load is selected and set by the load converter and applied to the bonding tool. That is, the die bond load is calculated based on the read lead area information, the load is automatically set, and the bonding proceeds.

【0034】図6 (a)は第4の実施例のボンディング態
様の概略を示す断面図、図6 (b)は同じくボンディング
態様の概略を示す平面図である。すなわち、上記では T
ABテープのインナーリードと半導体チップ8の電極バン
ブ12とのボンディングについて例示したが、 LOC(Lead
on Chip)方式の場合も対象になる。さらに詳述すると、
電極バンブ12を形成具備していない半導体チップ8′の
電極形成面に、絶縁性テープ18を介してインナーリード
1群を配置し、これらのインナーリード1先端部と半導
体チップ8′面の電極とをワイヤボンデング19する LOC
方式のボンディング方法もしくはボンディング装置にお
いても同様に適用できる。
FIG. 6A is a sectional view schematically showing a bonding mode of the fourth embodiment, and FIG. 6B is a plan view schematically showing a bonding mode. That is, T
Although the bonding between the inner leads of the AB tape and the electrode bumps 12 of the semiconductor chip 8 has been exemplified, LOC (Lead
on chip) method. More specifically,
On the electrode forming surface of the semiconductor chip 8 ′ having no electrode bumps 12, a group of inner leads 1 is disposed via an insulating tape 18, and the tips of the inner leads 1 and the electrodes on the surface of the semiconductor chip 8 ′ are LOC to wire bond 19
The present invention can be similarly applied to a bonding method or a bonding apparatus of a system.

【0035】なお、本発明は上記例示の構成に限定され
るものでなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲でいろい
ろの変形を採ることができる。たとえば、インナーリー
ドはTABテープに設置されている場合だけでなく、いわ
ゆるリードフレーム型の場合などであってもよい。
The present invention is not limited to the above-described configuration, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, the inner lead may be of a so-called lead frame type as well as being installed on a TAB tape.

【0036】[0036]

【発明の効果】上記説明から分かるように、請求項1お
よび請求項2の発明によれば、高い生産性もしくは量産
性を確保しながら、高品質の半導体装置を歩留まりよく
製造できる。
As can be seen from the above description, according to the first and second aspects of the present invention, a high-quality semiconductor device can be manufactured with high yield while ensuring high productivity or mass productivity.

【0037】また、請求項3ないし請求項6の発明によ
れば、高い稼働率,生産性で、高品質な半導体装置を歩
留まりよく提供することができる。
Further, according to the third to sixth aspects of the present invention, it is possible to provide a high-quality semiconductor device with a high operation rate and a high productivity at a high yield.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1実施例のボンディング装置の要部構成を示
す斜視図。
FIG. 1 is a perspective view showing a main configuration of a bonding apparatus according to a first embodiment.

【図2】図1に図示したボンディング装置における TAB
テープのインナーリード部と半導体チップの電極バンブ
との位置合わせの実施態様を模式的に示す平面図。
FIG. 2 shows a TAB in the bonding apparatus shown in FIG. 1;
FIG. 4 is a plan view schematically showing an embodiment of alignment between an inner lead portion of a tape and an electrode bump of a semiconductor chip.

【図3】第1実施例のボンディング操作を説明するため
のフローチャート図。
FIG. 3 is a flowchart for explaining the bonding operation of the first embodiment.

【図4】第2実施例のボンディング装置における TABテ
ープのインナーリード部と半導体チップの電極バンブと
の位置合わせの実施態様を模式的に示す平面図。
FIG. 4 is a plan view schematically showing an embodiment of positioning of an inner lead portion of a TAB tape and an electrode bump of a semiconductor chip in a bonding apparatus according to a second embodiment.

【図5】第3実施例のボンディング装置の概略構成を示
すブロック図。
FIG. 5 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a bonding apparatus according to a third embodiment.

【図6】第4実施例の実施態様を示すもので、 (a)は断
面図、 (b)は平面図。
FIGS. 6A and 6B show an embodiment of the fourth embodiment, in which FIG. 6A is a cross-sectional view and FIG. 6B is a plan view.

【図7】(a), (b)は従来の TABテープのインナーリー
ド部と半導体チップの電極バンブとの位置合わせの実施
態様を模式的に示す平面図。
FIGS. 7A and 7B are plan views schematically showing an embodiment of alignment between a conventional inner lead portion of a TAB tape and an electrode bump of a semiconductor chip.

【図8】従来のボンディング操作を説明するためのフロ
ーチャート図。
FIG. 8 is a flowchart for explaining a conventional bonding operation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……インナーリード 2,8,8′……半導体チップ 3,12……電極バンブ(電極) 4,6……半導体チップステージ 5…… TABテープ搬送系 7……半導体チップステージ駆動機構 9……半導体チップ搬送系 10…… TABテープ 10′,19……インナーリード部 10a,10b ……インナーリード部マーク 11……第1の ITVカメラ 12a,12b ……電極バンブ群マーク 12a′ 12b′……位置検出エリア情報 13……第2の ITVカメラ 14……メモリー部 15……座標照合手段 16……駆動機構の制御系 17……ボンディング手段 18……絶縁性テープ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Inner lead 2,8,8 '... Semiconductor chip 3,12 ... Electrode bump (electrode) 4,6 ... Semiconductor chip stage 5 ... TAB tape transport system 7 ... Semiconductor chip stage drive mechanism 9 ... ... Semiconductor chip transport system 10 ... TAB tape 10 ', 19 ... Inner lead part 10a, 10b ... Inner lead part mark 11 ... First ITV camera 12a, 12b ... Electrode bump group mark 12a' 12b '... … Position detection area information 13… Second ITV camera 14… Memory unit 15… Coordinate collating means 16… Control system of drive mechanism 17… Bonding means 18… Insulating tape

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−250345(JP,A) 特開 平4−321247(JP,A) 特開 平2−218142(JP,A) 特開 平2−250343(JP,A) 特開 平3−72645(JP,A) 特開 平4−33349(JP,A) 特開 平4−102339(JP,A) 実開 平6−66028(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) References JP-A-2-250345 (JP, A) JP-A-4-321247 (JP, A) JP-A-2-218142 (JP, A) JP-A-2- 250343 (JP, A) JP-A-3-72645 (JP, A) JP-A-4-33349 (JP, A) JP-A-4-102339 (JP, A) JP-A-6-66028 (JP, U) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 21/60

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体チップの一主面上に設けられた電
極群を対応するインナーリード群にボンディングする方
法において、予め入力しておいた前記インナーリードの
設計値座標および半導体チップの電極座標情報と、検出
した前記インナーリードの2点マークおよび前記電極の
2点マークとに基づいて、前記インナーリードの全てに
ついて、対応するインナーリードおよび電極の位置関係
を座標照合して位置決めした後、インナーリードと電極
とを接合することを特徴とするボンディング方法。
In a method of bonding an electrode group provided on one main surface of a semiconductor chip to a corresponding inner lead group, a design value coordinate of the inner lead and electrode coordinate information of the semiconductor chip which are input in advance. And the detection
The two-point mark of the inner lead and the electrode
Based on the two-point mark, all of the inner leads
And a method of bonding the inner lead and the electrode after positioning the corresponding inner lead and the electrode by coordinate matching.
【請求項2】 半導体チップの一主面上に設けられた電
極群を対応するインナーリード群にボンディングするボ
ンディング装置において、前記ボンディング装置は、前
記インナーリードの設計値座標および半導体チップの電
極座標情報を入力できる機能と、前記インナーリードの
2点マークおよび前記電極の2点マークをそれぞれ検出
する機能とを備え、かつ前記入力したインナーリードの
設計値座標、半導体チップの電極座標情報、前記検出し
た前記インナーリードの2点マークおよび前記電極の2
点マークに基づいて、前記インナーリードの全てについ
て、対応するインナーリードおよびと電極の位置関係を
座標照合して半導体チップステージのX,Y,θを動作
させて対応するインナーリードと電極とを位置決めする
機構とを具備することを特徴とするボンディング装置。
2. A bonding apparatus for bonding an electrode group provided on one main surface of a semiconductor chip to a corresponding inner lead group, the bonding apparatus comprising: a design value coordinate of the inner lead; and electrode coordinate information of the semiconductor chip. And the function of the inner lead
Two-point mark and two-point mark of the electrode are detected respectively
And a function of the input inner lead.
Design value coordinates, semiconductor chip electrode coordinate information,
The two-point mark of the inner lead and the two-point mark of the electrode
Based on the dot marks, all of the inner leads
Te, X of the corresponding inner leads and the semiconductor chip stage the positional relationship with the coordinate matching electrode, Y, characterized by comprising a mechanism for positioning the inner lead and the electrode corresponding by operating the θ to Bonding equipment.
【請求項3】 半導体チップの一主面上に設けられた電
極群を対応するインナーリード群にボンディングするボ
ンディング装置において、前記ボンディング装置は、前
記インナーリードの設計値座標および半導体チップの電
極座標情報を入力できる機能を備え、かつ対応するイン
ナーリードおよび電極の位置関係を座標照合して半導体
チップステージのX,Y,θを動作させて対応するイン
ナーリードと電極とを位置決めする機構と;ボンディン
グ荷重をボンディング箇所数×単位荷重として入力し、
ボンディング荷重を制御する機構と;を具備することを
特徴とするボンディング装置。
3. A bonding apparatus for bonding an electrode group provided on one main surface of a semiconductor chip to a corresponding inner lead group, the bonding apparatus comprising: a design value coordinate of the inner lead and electrode coordinate information of the semiconductor chip. And a mechanism for positioning the corresponding inner lead and electrode by operating the X, Y, and θ of the semiconductor chip stage by coordinate-checking the positional relationship between the corresponding inner lead and electrode; and a bonding load. Is input as the number of bonding points x unit load,
A mechanism for controlling a bonding load.
【請求項4】 半導体チップの一主面上に設けられた電
極群を対応するインナーリード群にボンディングするボ
ンディング装置において、前記ボンディング装置は、前
記インナーリードの設計値座標、半導体チップの電極座
標情報および半導体チップの検出エリア情報を入力でき
る機能を備え、かつ検出エリア情報に基づいて対応する
インナーリードおよび電極の位置関係を座標照合して半
導体チップステージのX,Y,θを動作させて対応する
インナーリードと電極とを位置決めする機構と;ボンデ
ィング荷重をボンディング箇所数×単位荷重として入力
し、ボンディング荷重を制御する機構と;を具備するこ
とを特徴とするボンディング装置。
4. A bonding apparatus for bonding an electrode group provided on one main surface of a semiconductor chip to a corresponding inner lead group, the bonding apparatus comprising: a design value coordinate of the inner lead; and electrode coordinate information of the semiconductor chip. And a function for inputting the detection area information of the semiconductor chip. The position relation of the corresponding inner lead and electrode is coordinate-matched based on the detection area information to operate the X, Y, and θ of the semiconductor chip stage. A bonding apparatus comprising: a mechanism for positioning an inner lead and an electrode; and a mechanism for controlling a bonding load by inputting a bonding load as the number of bonding locations × a unit load.
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