JP3320457B2 - 粒子処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、医薬、農薬、食品、電
子材料、化成品等の製造分野で粉体粒子処理を目的とし
て使用される粒子処理装置に関し、詳しくは各種原料粉
体粒子に造粒・コーティング等の処理を施して粉体粒子
の付加価値を向上させるための装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】原料粉体粒子に造粒、コーティング等の
処理を施すための装置として、遠心転動流動式と呼ばれ
る粒子処理装置が従来から多数提案されている（特公昭
61-5770号、特開昭62-258734号等公報参照）。これらの
装置は、円筒型をなす処理容器の下部に水平回転する円
形の回転盤を設けると共に、この回転盤と処理容器との
間に形成されたリング状の隙間から主に垂直方向のガス
流、例えば、上昇空気流を噴出させる点を要旨とするも
のである。

【０００３】具体的にこの装置の作用を説明すると、処
理容器内に供給された粉体粒子（以下、単に「粒子」と
呼ぶ）は、回転盤の回転に伴う遠心力により、回転盤上
を径方向に転動する。次に粒子は、リング状の隙間を通
過した上昇空気流に吹き上げられて処理容器の内径面に
沿って上昇しながら流動し、やがて、処理容器の中心付
近に向かって落下する。このような粒子の転動・流動中
に、処理容器内の所定位置に設けたスプレーノズルから
バインダー液やコーティング液を噴霧することにより、
粒子の造粒・コーティング等の処理作業がなされる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、今日、粒子
処理装置の開発にあたっては、如何に粒子の循環的な転
動・流動運動を活発化させるか、また、如何にＧＭＰ
（Good ManufacturingPractice）的に優れた装置を提供
するかが重要な課題となっている。このような課題達成
を阻害するものとして、従来装置には以下の問題点があ
った。

【０００５】ＧＭＰ的に優れた装置を提供するために
は、処理容器内の粒子が、回転盤と処理容器の間の隙間
を通過し、回転盤の下方空間に落下するのを確実に防止
する必要がある。落下により回転盤の下方空間に滞留し
た粒子は、粒子の入れ替え後、再始動時に異種粒子中に
混入し、いわゆるクロスコンタミネーションを生じるか
らである。

【０００６】このクロスコンタミネーションの防止策の
一例が、特公昭61−5770号等に開示されている。この装
置は、回転盤の外径面と対向する処理容器の内径面に、
リング状の中空チューブ体を配設し、この中空チューブ
体を膨張させて回転盤の外径面と密着させることにより
粒子の落下を阻止するものである。しかし、この装置
は、装置の停止時、即ち、隙間への空気流の非導入時お
ける粒子の落下阻止を主目的としており、装置の作動
時、即ち、空気流の導入時における粒子の落下阻止につ
いては考慮されていない。この場合、あえて粒子の落下
を阻止しようとすれば、隙間の幅を極端に狭くしたり
（0.5mm程度）、上昇空気流の風速を極端に大きくする
（10m/sec以上）等の非現実的な対策が必要となり、好
ましくない。

【０００７】一方、装置の作動時における粒子の落下を
阻止し得る構造として、特開昭62−258734号公報に開示
されたものが挙げられる。この装置では、隙間から落下
した粒子を隙間の下方に配置した通気性の漏れ止め手段
（例えば金網）で回収し、回収した粒子を通気空気流に
よって処理容器内に再び戻すようにしている。しかし、
この構造では、漏れ止め手段での圧損が大きくなるた
め、上昇空気圧の低下を招きやすく、粒子の流動性の低
下を招くおそれがある。

【０００８】また、従来装置では、処理容器の内径面
の、流動粒子の最上昇位置付近に粒子が付着しやすく、
ＧＭＰ的に問題となっていた。これは、処理容器の下方
に位置する粒子が上昇空気流により活発な流動運動を行
なうのに対し、最上昇位置に達した粒子には上昇空気流
がそれほど作用せず、粒子が滞留することに基づく。従
来装置では、このような粒子の付着に対して適切な対策
を施したものはほとんど見受けられず、改善が要望され
ている。

【０００９】そこで、本発明の主な目的は、粒子の活発
な流動運動を確保しつつ、粒子のクロスコンタミネーシ
ョンを確実に防止すること、および、処理容器の内径面
への粒子の付着を低減させることによりＧＭＰ的に優れ
た粒子処理装置を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、略円筒状をなす処理容器と、この処理
容器内の底部近傍で水平回転する回転盤とを有し、系外
より回転盤の下方に供給されたガス流を、回転盤の外径
面とこれに対向する処理容器の内径面との間に形成され
たリング状隙間から上方に噴出させ、この上昇ガス流と
回転盤の回転運動との相乗作用により、処理容器内の粒
子に転動流動を行なわせて造粒・コーティングなどの粒
子処理作業を施す装置において、前記リング状隙間の直
下部に、内径側内周面の上端部に前記回転盤の下面との
間でシールを行なうシール部を有すると共に、外径側内
周面が処理容器の内径面と連結され、かつ、前記リング
状隙間との対向部位を開口させたリング状ダクトを設
け、このリング状ダクトに、接線方向でかつ前記回転盤
の回転方向と同一方向に向けて下部ノズルを装着した。

【００１１】略円筒状をなす処理容器と、この処理容器
内の底部近傍で水平回転する回転盤とを有し、系外より
回転盤の下方に供給されたガス流を、回転盤の外径面と
これに対向する処理容器の内径面との間に形成されたリ
ング状隙間から上方に噴出させ、この上昇ガス流と回転
盤の回転運動との相乗作用により、処理容器内の粒子に
転動流動を行なわせて造粒・コーティングなどの粒子処
理作業を施す装置において、前記リング状隙間の直下部
に、内径側内周面の上端部に前記回転盤の下面との間で
シールを行なうシール部を有すると共に、外径側内周面
が処理容器の内径面と連結され、かつ、前記リング状隙
間との対向部位を開口させたリング状ダクトを設け、こ
のリング状ダクトに、接線方向でかつ前記回転盤の回転
方向と同一方向に向けて下部ノズルを装着し、前記処理
容器の、回転盤の外径面との対向部位を、周方向の複数
箇所で分割し、この分割により形成された円弧状の分割
体を、それぞれ処理容器から独立して径方向に進退移動
自在に構成した。

【００１２】略円筒状をなす処理容器と、この処理容器
内の底部近傍で水平回転する回転盤とを有し、系外より
回転盤の下方に供給されたガス流を、回転盤の外径面と
これに対向する処理容器の内径面との間に形成されたリ
ング状隙間から上方に噴出させ、この上昇ガス流と回転
盤の回転運動との相乗作用により、処理容器内の粒子に
転動流動を行なわせて造粒・コーティングなどの粒子処
理作業を施す装置において、前記リング状隙間の直下部
に、内径側内周面の上端部に前記回転盤の下面との間で
シールを行なうシール部を有すると共に、外径側内周面
が処理容器の内径面と連結され、かつ、前記リング状隙
間との対向部位を開口させたリング状ダクトを設け、こ
のリング状ダクトに、接線方向でかつ前記回転盤の回転
方向と同一方向に向けて下部ノズルを装着し、前記リン
グ状隙間を構成する回転盤の外径面と、これに対向する
処理容器の内径面とを略平行な傾斜面に形成し、かつ、
回転盤の外径面と処理容器の傾斜面とを垂直方向に相対
移動させる。

【００１３】略円筒状をなす処理容器と、この処理容器
内の底部近傍で水平回転する回転盤とを有し、系外より
回転盤の下方に供給されたガス流を、回転盤の外径面と
これに対向する処理容器の内径面との間に形成されたリ
ング状隙間から上方に噴出させ、この上昇ガス流と回転
盤の回転運動との相乗作用により、処理容器内の粒子に
転動流動を行なわせて造粒・コーティングなどの粒子処
理作業を施す装置において、前記処理容器の内径面の、
流動粒子の平均最上昇位置付近に、処理容器の内部空間
に向けてガス流を供給する帯状のガス噴出部を設けた。

【００１４】また、回転盤の中央部を略円錐型に隆起さ
せた。

【００１５】処理容器の側面壁に、処理液供給用ノズル
と粉末供給用ノズルを設けた。

【００１６】処理容器の側面壁に、粒子の流動範囲内を
狙って粉末供給用ノズルを設けると共に、この粉末供給
用ノズル内に同芯状態で処理液供給用ノズルを収容し
た。

【００１７】処理容器の側面壁に、粒子の流動範囲内に
検出部を位置させて湿潤度検出手段を設けた。

【００１８】

【作用】リング状隙間から落下した粒子は、リング状ダ
クトで回収され、下部ノズルから供給される接線方向の
ガス流によって当該ダクト内を回転盤と同方向に旋回す
る。ここで、リング状ダクトが、その内径側内周面に設
けたシール部により回転盤に対してシールされているた
め、ダクト内の粒子が外部に漏れることはない。やが
て、この粒子は、旋回しながらリング状隙間を経て回転
盤の上方に吹き上げられ、処理容器内を旋回・上昇す
る。また、回転盤上を転動してリング状隙間に達した粒
子も、この旋回ガス流を受けて処理容器内を旋回しなが
ら上昇する。このように、粒子に旋回ガス流を作用させ
た場合には、単に垂直方向のガス流のみを作用させる場
合に比べて、粒子の流動運動がより活発化する。

【００１９】処理容器の、少なくとも回転盤の外径面と
の対向部位を、周方向で複数に分割し、この分割によっ
て形成された円弧状の分割体を、それぞれ処理容器から
独立して径方向に進退移動自在に構成することにより、
リング状隙間の幅を縮小・拡大させることが可能とな
り、円滑な隙間調整が行なえる。

【００２０】処理容器の内径面の、流動粒子の平均最上
昇位置付近に、処理容器の内部空間に向けてガス流を供
給するガス噴出部を形成することにより、処理容器の内
径面に付着した粒子は、ガス噴出部から供給されたガス
流によって処理容器の内部方向に吹き飛ばされる。これ
により、処理容器の内径面に付着する粒子を低減させる
ことが可能となる。また、このガス流により、処理容器
の上部に生じる粒子の滞留域が消滅するので、粒子の流
動運動をより活発化させることが可能となる。

【００２１】

【実施例】以下、本発明の実施例を図１乃至図８に基づ
いて説明する。

【００２２】図１は、本発明にかかる粒子処理装置の断
面図である。但し、図１では、粒子処理装置の上部構
造、例えば排気設備等の図示を省略している。

【００２３】ほぼ円筒状をなす処理容器（１）の底部に
は、処理容器（１）の下端縁に近接させて円形の回転盤
（３）が水平に配置される。この回転盤（３）は、下方
に配置した無段可変速式のモータ（図示省略）により駆
動され、任意の速度で一定方向、例えば図面右回りに回
転する。この回転盤（３）の外周部は、漸次薄肉化しな
がら上方に向けてカーブを描くように形成され、かつ、
その外径面は略垂直に形成されている。回転盤（３）の
中心部には、略円錐型の隆起部材（５）が装着されてお
り、この隆起部材（５）の外周面と回転盤（３）の上面
とは、滑らかな曲面で連続している。これにより、上方
から落下した粒子は、隆起部材（５）を滑り落ちながら
円滑にその運動方向を径方向に変換する。従って、粒子
の流動運動が円滑化され、効率的な粒子処理作業が可能
となる。

【００２４】上記回転盤（３）の周囲でかつ回転盤
（３）とほぼ同一平面上には、隙間調整機構（７）が設
けられる。この隙間調整機構（７）は、円弧状をなす複
数の分割体（９）を薄型のエアシリンダ（11）でそれぞ
れ径方向に進退運動させることにより、分割体（９）の
内径面と、回転盤（３）の外径面との間に形成されたリ
ング状隙間（13）を縮小・拡大させるためのものであ
る。

【００２５】分割体（９）は、図２の断面図に示すよう
に、適当なリング体を周方向に４等分することにより形
成され、各分割体（９）の中央部でかつ外径側には４つ
のエアシリンダ（11）がそれぞれ連結されている。各分
割体（９）間には、基板（19）に固設した二等辺三角形
型をなすガイド（15）が配置されており、このガイド
（15）によって各分割体（９）の移動方向が径方向に規
制される。

【００２６】図３は、隙間調整機構（７）の周辺構造を
示す拡大断面図である。同図に示すように、分割体
（９）は、案内部材（17）と基板（19）との間に配置さ
れる。前記案内部材（17）は、処理容器（１）の下端部
に装着されており、その内径面は、回転盤（３）の外周
側上面および処理容器（１）の内径面と連続したカーブ
を描く曲面状に形成されている。また、案内部材（17）
には、分割体（９）および案内部材（17）間の接触部
と、外部空間とを連通するパージエアー流路（21）が形
成されている。このパージエアー流路（21）にエアーを
吹き込むことにより、案内部材（17）および分割体
（９）間の隙間への粒子の侵入を防止することができ
る。基板（19）には、突部（23）が設けられると共に、
この突部（23）より外径側に規制部材（25）が装着され
ている。突部（23）の外径面と規制部材（25）の内径面
とで構成された凹部（27）には、分割体（９）の下面に
突設した係合部（29）が径方向の隙間（ｓ）をもって嵌
め込まれている。これにより、分割体（９）は、隙間
（ｓ）の範囲内で径方向に移動可能となる。前記エアシ
リンダ（11）は、基板（19）上に装着されており、その
ピストンロッド（31）は案内部材（17）を貫通して分割
体（９）内に嵌入固定されている。分割体（９）と基板
（19）との間の内径側には、分割体（９）の径方向移動
を円滑ならしめるべく、低摩擦性を有するテフロンリン
グ（32）が装着されている。

【００２７】このような構成により、各エアシリンダ
（11）を進出・縮退させると、各分割体（９）が径方向
に進退動作を行い、リング状隙間（13）の幅（ｔ）が縮
小・拡大する。これにより、処理作業中における所望の
隙間量（ｔ）が簡単に得られる。また、各エアシリンダ
（11）を独立して進出・縮退させることにより、必要箇
所のみで隙間調整を行なうことも可能である。即ち、例
えば回転盤（３）と処理容器（１）との偏心により、リ
ング状隙間（13）に幅広部分および幅狭部分が生じた場
合であっても、当該幅広部分および幅狭部分のみを所定
の幅に調整することができる。

【００２８】なお、本実施例では、規制部材（25）およ
び係合部（29）間の隙間の幅（ｓ）と、分割体（９）の
最進出時（図３に示す状態をいう）におけるリング状隙
間の幅（ｔ）とを何れも１mm程度としている。従って、
リング状隙間の幅（ｔ）は、1mm〜2mmの範囲内で調整可
能となっている。

【００２９】図４に隙間調整機構（７）の他の実施例を
示す。これは、リング状隙間（13）を、回転盤（３）の
外径面と、これに対向させて処理容器（１）の内径面に
装着したリング状の隙間構成部材（30）の内径面とで構
成し、回転盤（３）を昇降機構（図示省略）で上下動さ
せることにより、垂直方向の隙間調整を行なうものであ
る。この時、回転盤（３）の外径面、および、隙間構成
部材（30）の内径面は、リング状隙間（13）の断面が外
径側に向けて昇り傾斜となる傾斜面に形成されている。
これにより、昇降機構を起動して回転盤（３）を昇降さ
せると、リング状隙間（13）の幅を拡大・縮小させるこ
とが可能となる。なお、前記隙間調整は、回転盤（３）
を固定して隙間構成部材（30）を昇降させたり、リング
状隙間（13）の断面を外径側に向けて下り傾斜とした場
合でも同様に行なえる。

【００３０】回転盤（３）の下方には、上面を開放させ
たリング状ダクト（33）が設けられる。このリング状ダ
クト（33）は、外径側に配した外方部材（35）と内径側
に配した断面Ｌ型の内方部材（37）とを組み合わせて構
成され、外方部材（35）および内方部材（37）の内面
は、連続した滑らかな曲面状に形成されている。外方部
材（35）は、シールリング（39）を介して基板（19）の
内径面に装着される。この時、外方部材（35）、基板
（19）、テフロンリング（32）、最進出時における分割
体（９）の各内径面は、それぞれ同一垂直面上に位置さ
せる。また、案内部材（17）の内径側の最突出部と、最
退入時における分割体（９）の内径面も同一垂直面上に
位置させる。内方部材（37）の上端部には、回転盤
（３）の下面と気密に摺接するシール部（41）、例えば
Ｖリングが装着されている。

【００３１】前記リング状ダクト（33）には、図５に示
すように、接線方向でかつ回転盤（３）の回転方向と同
一方向に向けて下部ノズル（43）が連結される。この下
部ノズル（43）からは、図示しない加熱給気源から供給
された高温のガス流、例えば空気流が噴出する。なお、
下部ノズル（43）は、図示のようにリング状ダクト（3
3）の一ヶ所のみに設ける他、複数箇所に設けておいて
もよい。

【００３２】図１中の参照番号（45）は、前記リング状
ダクト（33）を処理容器（１）の底部に固定するための
クランプ機構である。このクランプ機構（45）を解除す
ることにより、リング状ダクト（33）を処理容器（１）
の底部から取り外すことができる。このように、リング
状ダクト（33）を処理容器（１）の底部に着脱自在に装
着することにより、リング状ダクト（33）の洗浄作業が
容易にかつ確実に行なえるようになる。

【００３３】上記構成により、リング状隙間（13）から
落下した粒子は、下部ノズル（43）から供給される接線
方向の空気流により、リング状ダクト（33）内で回転盤
（３）と同方向に旋回する。やがて、粒子は、旋回しな
がら遠心力によってリング状ダクト（33）内を外径側に
移動し、外方部材（35）と内方部材（37）の連結部に形
成された滑らかな連続曲面に案内されて円滑に上昇運動
を開始する。そして、この粒子は、リング状隙間（13）
を経て回転盤（３）の上方に吹き上げられ、処理容器
（１）内を旋回しながら上昇する。この時、処理容器
（１）の内径がリング状隙間（13）の最大径よりも大き
くされ、しかも、案内部材（17）および処理容器（１）
の内径面が滑らかな曲面で連続していることから、リン
グ状隙間（13）を通過した粒子は、遠心力によって効率
よく処理容器（１）の内径面の近傍に移動し、上昇運動
を開始することができる。一方、回転盤（３）上を径方
向に転動した粒子は、リング状隙間（13）に達したとこ
ろで旋回空気流を受け、同様に処理容器（１）内を旋回
しながら上昇する。この時、回転盤（３）の外周側上面
から案内部材（17）及び処理容器（１）の内径面にかけ
ては滑らかな曲面状に形成されているので、回転盤
（３）上の粒子は、リング状隙間（13）を越えて処理容
器（１）の内径面まで円滑に転動し、効率よく上昇運動
を開始することができる。

【００３４】上記構成では、リング状ダクト（33）が、
内方部材（37）の上部に設けたシール部（41）により、
回転盤（３）に対してシールされているため、リング状
ダクト（33）に回収された粒子が外部に漏れることはな
い。従って、装置の作動時・停止時、即ち、旋回空気流
の導入時・非導入時を問わず、リング状隙間（13）から
落下した粒子が、外部に漏れることはない。また、リン
グ状ダクト（33）の内部が滑らかな曲面に形成されてい
るので、リング状ダクト（33）内に付着する粒子の量が
比較的少なくなり、かつ、その付着力も低くなる。従っ
て、所定の処理作業完了後、クランプ機構（45）を解除
し、リング状ダクト（33）を取り外して洗浄作業を行な
う際にも、容易に且つ確実に付着粒子を除去することが
できる。これにより、粒子のコンタミネーションが確実
に回避され、ＧＭＰの問題も完全に解消される。

【００３５】また、リング状隙間（13）から落下した粒
子および回転盤（３）上を転動した粒子の何れにも回転
盤（３）の回転方向と同方向の旋回空気流が作用するの
で、従来装置のように垂直方向の空気流のみを作用させ
る場合に比べ、粒子の流動運動をより活発化させること
が可能である。

【００３６】さらに、リング状隙間（13）に空気流を流
通させるための空気流供給部が、比較的厚みの薄いリン
グ状ダクト（33）で構成されており、従来装置のそれに
比べてコンパクトな構造となっている。従って、リング
状ダクト（33）の取り外し作業やその後の洗浄作業も容
易に且つ迅速に行なうことができる。

【００３７】なお、図４に示す隙間調整機構（７）、即
ち、回転盤（３）を昇降させて隙間調整を行なう機構を
採用する場合には、回転盤（３）の昇降によって回転盤
（３）とシール部（41）との間に隙間が形成され、粒子
の漏れが生じるおそれがある。従って、この場合には、
リング状ダクト（33）の気密性を確保すべくシール部
（41）の舌片（41ａ）の長さを通常より若干長くさせて
おくのが望ましい。但し、舌片（41ａ）の長さが短く、
これによって回転盤（３）とシール部（41）の間に若干
の隙間が形成されている場合にも、リング状ダクト（3
3）内のほとんどの粒子が遠心力によって外径側に飛ば
されているため、内径側の隙間から粒子が外部に漏れだ
すおそれはほとんどない。

【００３８】処理容器（１）の内径面の、流動粒子の平
均的な最上昇位置には、帯状のガス噴出部、例えば空気
噴出部（50）が設けられる。以下、この空気噴出部（5
0）の構造を図６および図７に基づいて説明する。

【００３９】図６に示すように、処理容器（１）の外径
面には、２つのカバー（51）（51）が略半周ごとに装着
されている。このカバー（51）と処理容器（１）の外径
面とで囲繞された空間が空気流路（53）（53）となる。
両空気流路（53）（53）の一端部には、図示しない加熱
給気源と接続した上部ノズル（54）（54）が、接線方向
でかつ回転盤（３）の回転方向と同一方向に向けて連結
されている。

【００４０】図７に示すように、処理容器（１）の側面
壁（1a）の、カバー（51）で覆われた部分の内径面に
は、環状溝（55）が形成されている。側面壁（1a）の内
径面には、この環状溝（55）を塞ぐようにして焼結金網
からなる抵抗板（57）が装着されている。この抵抗板
（57）としては、焼結金網の他、粒子の通過を阻止し、
且つ、一定の通気抵抗を有する通気性材料が利用でき
る。また、側面壁（1a）には、環状溝（55）と空気流路
（53）とを連通する吐出口（60）が円周等配位置の複数
箇所に設けられている。

【００４１】このような構成により、上部ノズル（54）
から供給された空気流は、空気流路（53）、吐出口（6
0）、環状溝（55）、抵抗板（57）を順次通過し、空気
噴出部（50）から処理容器（１）の内部に噴出する。こ
の空気流により、処理容器（１）の内径面に付着しよう
とする粒子が吹き飛ばされるので、粒子の付着量の低減
を図ることが可能になる。また、この空気流の作用によ
り粒子の滞留域も消滅するので、粒子の流動運動の活発
化および乾燥作業の迅速化が達成される。

【００４２】なお、図６に示すように、カバー（51）の
一端部には蝶番（62）が装着され、また、他端部には適
当なロック機構（図示省略）が装着されている。従っ
て、ロック機構を解除すれば、二点鎖線で示すようにカ
バー（51）を開放することができ、これによって空気流
路（53）や吐出口（60）等の洗浄作業を容易に且つ確実
に行うことができる。また、上述のように空気流路（5
3）と処理容器（１）の内部空間との間に、一定の通気
抵抗を有する抵抗板（57）を介在させることにより、空
気流を、上部ノズル（54）の近傍のみからだけなく、空
気流路（53）の全域から均等に噴出させることができ
る。

【００４３】図１に示すように、処理容器（１）内の回
転盤（３）と空気噴出部（50）との間には、バインダー
液やコーティング液を供給するための処理液供給ノズル
（65）が設けられる。この位置に処理液供給ノズル（6
5）を設けることにより、バインダー液等が流動粒子の
最上昇位置と最下降位置の間、即ち、粒子の流動範囲内
に直接噴霧されることとなる。従って、これらの材料を
処理容器（１）内の粒子全体に満遍無く行き渡せること
ができ、効率的なコーティング、造粒作業を行なうこと
が可能となる。

【００４４】また、処理容器（１）内の空気噴出部（5
0）の上方には、修飾造粒用の粉末を供給するための粉
末供給用ノズル（67）が設けられる。造粒作業中にこの
粉末供給用ノズル（67）から適当な粉末を供給すること
により、粉末が流動粒子の表面に付着して層状の修飾造
粒が施される。

【００４５】前記処理液供給用ノズル（65）および粉末
供給用ノズル（67）は、本出願人が特開平4-145937号で
提案したように、一体化させておいてもよい。具体的に
は、図８に示すように、粉末供給用ノズル（67）内に、
先端部を当該粉末供給用ノズル（67）の先端開口からや
や後退させて処理液供給用ノズル（65）を同芯状態で収
納する。また、粉末供給用ノズル（67）の基端部側の外
径面に粉末供給用のホッパー（71）と空気供給口（73）
とを設けると共に、先端部側の内径面に所定の間隔で多
数の空気吹き出し口（75）を設けたリング状部材（77）
を装着する。この処理液供給用ノズル（65）および粉末
供給用ノズル（67）は、その開口部を回転盤（３）と空
気噴出部（50）との間に位置させて、接線方向で且つ回
転盤（３）の回転方向と同一方向に向けて処理容器
（１）の側面壁に装着する。

【００４６】以下、上述の一体化させた処理液供給用ノ
ズル（65）および粉末供給用ノズル（67）の作用・効果
を説明する。

【００４７】空気供給口（73）に圧縮空気を供給し、リ
ング状部材（77）の空気吹き出し口（75）から空気を噴
出させながら、処理液供給用ノズル（65）からコーティ
ング液やバインダー液を噴霧する。すると、空気吹き出
し口（75）から吹き出す空気により、粉末供給用ノズル
（67）の前方に粒子密度の低い空間が現出する。従っ
て、処理液供給用ノズル（65）から供給された、分散、
霧化した液滴が効率よく流動粒子と接触できるようにな
り、粗大粒子や団粒のない良好なコーティングや造粒を
施すことが可能となる。

【００４８】また、修飾造粒を施す場合は、処理液供給
用ノズル（65）からバインダー液を噴霧すると共に、粉
末供給用ホッパー（71）に粉末を供給する。この粉末
は、空気供給口（73）から供給された空気流により、リ
ング状部材（77）の空気吹き出し口（75）から分散状態
で噴出する。従って、粉末が効率よく且つ迅速に流動粒
子に付着できるようになり、粒子の表面に良好な層状の
修飾造粒を施すことが可能となる。

【００４９】粒子の湿潤度を検出するための湿潤度検出
手段（78）は、その検出部（79）を回転盤（３）と空気
噴出部（50）との間、即ち、粒子の流動範囲内に位置さ
せて処理容器（１）の側壁に設けらる。これにより、流
動粒子の湿潤度が直接的に検知できるので、より一層正
確な湿潤度が検出できる。この湿潤度検出手段（78）の
出力は、前記処理液供給ノズル（65）の給液ポンプ（図
示省略）を制御する制御装置（図示省略）に入力させ
る。

【００５０】

【発明の効果】本発明装置によれば以下のような各種効
果が得られる。

【００５１】リング状隙間の直下部にリング状ダクト
を設けているので、装置の作動・停止時を問わず、リン
グ状隙間から落下した粒子を確実に回収することができ
る。しかも、一旦回収された粒子は、下部ノズルから供
給されたガス流により、外部に漏れることなく確実にリ
ング状隙間を経て回転盤の上方空間に戻される。従っ
て、粒子のコンタミネーションを確実に回避することが
できる。また、リング状隙間を通過したガス流が、回転
盤の回転方向に旋回しているので、流動粒子に旋回力を
作用させることができ、粒子の流動運動をより活発化さ
せることが可能になる。

【００５２】分割体を径方向に進退移動させることに
より、容易にリング状隙間の調整が行なえる。また、処
理容器と回転盤の偏心等により、リング状隙間に幅広部
分や幅狭部分が生じている場合にも、必要箇所のみで精
密な隙間調整を行なうことが可能になる。

【００５３】流動粒子の平均最上昇位置に設けた帯状
のガス噴出部から、処理容器の内部空間に向けてガス流
を供給することにより、処理容器の内径面に付着する粒
子が低減する。また、処理容器内の粒子の滞留域が消滅
し、流動運動の活発化や乾燥作業の迅速化も達成され
る。

【００５４】上記〜の効果に基づき、本発明によれ
ば、ＧＭＰ的に優れ、且つ、造粒作業やコーティング作
業等の粒子処理作業を効率的になし得る装置の提供が可
能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明装置の断面図である。

【図２】図１中のA−A線での断面図である。

【図３】隙間調整機構付近の拡大断面図である。

【図４】隙間調整機構の他の実施例を示す断面図であ
る。

【図５】リング状ダクトの全体斜視図である。

【図６】図１中のB−B線での断面図である。

【図７】空気噴出部付近の断面図である。

【図８】本出願人が既に提案したスプレーノズルの断面
図である。

【符号の説明】

１ 処理容器 ３ 回転盤 ５ 隆起部材 ９ 分割体 13 リング状隙間 33 リング状ダクト 41 シール部 50 ガス噴出部（空気噴出部） 65 処理液供給用ノズル 67 粉末供給用ノズル 78 湿潤度検出手段 79 検出部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−258734（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B01J 2/00 - 2/30

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 略円筒状をなす処理容器と、この処理容
   器内の底部近傍で水平回転する回転盤とを有し、系外よ
   り回転盤の下方に供給されたガス流を、回転盤の外径面
   とこれに対向する処理容器の内径面との間に形成された
   リング状隙間から上方に噴出させ、この上昇ガス流と回
   転盤の回転運動との相乗作用により、処理容器内の粒子
   に転動流動を行なわせて造粒・コーティングなどの粒子
   処理作業を施す装置において、 前記リング状隙間の直下部に、内径側内周面の上端部に
   前記回転盤の下面との間でシールを行なうシール部を有
   すると共に、外径側内周面が処理容器の内径面と連結さ
   れ、かつ、前記リング状隙間との対向部位を開口させた
   リング状ダクトが設けられ、このリング状ダクトに、接
   線方向でかつ前記回転盤の回転方向と同一方向に向けて
   下部ノズルが装着されていることを特徴とする粒子処理
   装置。
2. 【請求項２】 略円筒状をなす処理容器と、この処理容
   器内の底部近傍で水平回転する回転盤とを有し、系外よ
   り回転盤の下方に供給されたガス流を、回転盤の外径面
   とこれに対向する処理容器の内径面との間に形成された
   リング状隙間から上方に噴出させ、この上昇ガス流と回
   転盤の回転運動との相乗作用により、処理容器内の粒子
   に転動流動を行なわせて造粒・コーティングなどの粒子
   処理作業を施す装置において、 前記リング状隙間の直下部に、内径側内周面の上端部に
   前記回転盤の下面との間でシールを行なうシール部を有
   すると共に、外径側内周面が処理容器の内径面と連結さ
   れ、かつ、前記リング状隙間との対向部位を開口させた
   リング状ダクトが設けられ、このリング状ダクトに、接
   線方向でかつ前記回転盤の回転方向と同一方向に向けて
   下部ノズルが装着され、 前記処理容器の、回転盤の外径面との対向部位が、周方
   向の複数箇所で分割され、この分割により形成された円
   弧状の分割体が、それぞれ処理容器から独立して径方向
   に進退移動自在に構成されていることを特徴とする粒子
   処理装置。
3. 【請求項３】 略円筒状をなす処理容器と、この処理容
   器内の底部近傍で水平回転する回転盤とを有し、系外よ
   り回転盤の下方に供給されたガス流を、回転盤の外径面
   とこれに対向する処理容器の内径面との間に形成された
   リング状隙間から上方に噴出させ、この上昇ガス流と回
   転盤の回転運動との相乗作用により、処理容器内の粒子
   に転動流動を行なわせて造粒・コーティングなどの粒子
   処理作業を施す装置において、 前記リング状隙間の直下部に、内径側内周面の上端部に
   前記回転盤の下面との間でシールを行なうシール部を有
   すると共に、外径側内周面が処理容器の内径面と連結さ
   れ、かつ、前記リング状隙間との対向部位を開口させた
   リング状ダクトが設けられ、このリング状ダクトに、接
   線方向でかつ前記回転盤の回転方向と同一方向に向けて
   下部ノズルが装着され、 前記リング状隙間を構成する回転盤の外径面と、これに
   対向する処理容器の内径面とが略平行な傾斜面に形成さ
   れ、かつ、回転盤の外径面と処理容器の傾斜面とが垂直
   方向に相対移動するよう構成した粒子処理装置。
4. 【請求項４】 略円筒状をなす処理容器と、この処理容
   器内の底部近傍で水平回転する回転盤とを有し、系外よ
   り回転盤の下方に供給されたガス流を、回転盤の外径面
   とこれに対向する処理容器の内径面との間に形成された
   リング状隙間から上方に噴出させ、この上昇ガス流と回
   転盤の回転運動との相乗作用により、処理容器内の粒子
   に転動流動を行なわせて造粒・コーティングなどの粒子
   処理作業を施す装置において、 前記処理容器の内径面の、流動粒子の平均最上昇位置付
   近に、処理容器の内部空間に向けてガス流を供給する帯
   状のガス噴出部が設けられていることを特徴とする粒子
   処理装置。
5. 【請求項５】 回転盤の中央部を略円錐型に隆起させた
   ことを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の粒子処
   理装置。
6. 【請求項６】 処理容器の側面壁に、処理液供給用ノズ
   ルと粉末供給用ノズルが設けられたことを特徴とする請
   求項１、２、３又は４記載の粒子処理装置。
7. 【請求項７】 処理容器の側面壁に、粒子の流動範囲内
   を狙って粉末供給用ノズルが設けられると共に、この粉
   末供給用ノズル内に同芯状態で処理液供給用ノズルが収
   容されたことを特徴とする請求項１、２、３又は４記載
   の粒子処理装置。
8. 【請求項８】 処理容器の側面壁に、粒子の流動範囲内
   に検出部を位置させて湿潤度検出手段を設けたことを特
   徴とする請求項１、２、３又は４記載の粒子処理装置。