JP3309618B2 - X-ray CT system - Google Patents

X-ray CT system

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JP3309618B2
JP3309618B2 JP00238695A JP238695A JP3309618B2 JP 3309618 B2 JP3309618 B2 JP 3309618B2 JP 00238695 A JP00238695 A JP 00238695A JP 238695 A JP238695 A JP 238695A JP 3309618 B2 JP3309618 B2 JP 3309618B2
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ray
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electrode
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博司 北口
滋 出海
智 川崎
克利 佐藤
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、X線CT装置に係り、
特に、半導体結晶を用いたX線検出器を備えるX線CT
装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an X-ray CT apparatus,
In particular, an X-ray CT equipped with an X-ray detector using a semiconductor crystal
It concerns the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】特開平3−36744号公報は、医療用のX線
CT装置に用いる多チャンネル型のX線検出器を開示し
ている。このX線検出器は、1つの半導体結晶と、これ
に対向して設けられた基板とを有する。1つの共通電極
および複数の分割電極が、半導体結晶の基板と対向する
面に設けられる。共通電極に接続される第1バンプ、お
よび各分割電極にそれぞれ接続される複数の第2バンプ
が、基板の半導体結晶と対向する面にそれぞれ設けられ
る。第1バンプおよび各第2バンプに接続される各配線
は、基板の半導体結晶と対向する面側に設けられる。
2. Description of the Related Art Japanese Patent Laying-Open No. 3-36744 discloses a multi-channel type X-ray detector used in a medical X-ray CT apparatus. This X-ray detector has one semiconductor crystal and a substrate provided opposite thereto. One common electrode and a plurality of divided electrodes are provided on a surface of the semiconductor crystal facing the substrate. A first bump connected to the common electrode and a plurality of second bumps respectively connected to the divided electrodes are provided on the surface of the substrate facing the semiconductor crystal. Each wiring connected to the first bump and each second bump is provided on the surface of the substrate facing the semiconductor crystal.

【0003】このX線検出器は、半導体結晶において基
板に対向する面とは反対側の面に、X線を入射する。す
なわち、半導体結晶は、コリメータと基板との間に位置
する。コリメータは、複数のスリットを有する。各スリ
ットから放出されたそれぞれのX線は、上記X線入射面
から半導体結晶に入射される。各々の分割電極は、各ス
リットから放出されたX線の強度に比例して半導体結晶
内に発生した電荷を取り出す。1つの分割電極は、1つ
のスリットから半導体結晶内に入射されたX線によって
発生した電荷を検出する。
[0003] In this X-ray detector, X-rays are incident on the surface of the semiconductor crystal opposite to the surface facing the substrate. That is, the semiconductor crystal is located between the collimator and the substrate. The collimator has a plurality of slits. Each X-ray emitted from each slit is incident on the semiconductor crystal from the X-ray incident surface. Each split electrode takes out charges generated in the semiconductor crystal in proportion to the intensity of the X-ray emitted from each slit. One split electrode detects an electric charge generated by an X-ray incident on the semiconductor crystal from one slit.

【0004】また、特開平2−67999号公報は、X線CT
装置に用いるコリメータを示している。このコリメータ
は、多数の溝が設けられることによって表面に多数のブ
レードが形成された2つのブロックを、各々のブロック
のブレードが互いに接触するように、組み合わせて作成
される。各々のブロックは、X線輻射を吸収できる材料
で作られる。ブレード間の溝は、スリットとなる。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-67999 discloses an X-ray CT.
3 shows a collimator used in the apparatus. This collimator is formed by combining two blocks having a large number of blades formed on the surface thereof by providing a large number of grooves, such that the blades of each block are in contact with each other. Each block is made of a material that can absorb X-ray radiation. The groove between the blades becomes a slit.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】特開平3−36744号公報
に示すような同一の半導体結晶内に複数のX線測定チャ
ンネルがある多チャンネル型のX線検出器は、X線入射
により半導体結晶内に発生する2次電子の最大飛程がチ
ャンネルの間隔より大きい場合、チャンネル間のクロス
トークが増大して、X線強度を高精度に測定できない問
題がある。また、測定時間を短縮するために、チャンネ
ルを高密度化してチャンネル間隔を小さくすると、クロ
ストークが増大する。
A multi-channel type X-ray detector having a plurality of X-ray measurement channels in the same semiconductor crystal as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-36744 is disclosed in If the maximum range of the secondary electrons generated in the channel is larger than the channel interval, the crosstalk between the channels increases, and there is a problem that the X-ray intensity cannot be measured with high accuracy. Further, if the channel density is increased and the channel interval is reduced in order to shorten the measurement time, crosstalk increases.

【0006】また、特開平2−67999号公報のように2つ
のブロックの合わせ目が同一平面にあるコリメータにお
いては、被検体で散乱されたX線が、この合わせ目の隙
間を通り検出器に入射するストリーミングによって、X
線強度測定の精度が低下する問題がある。
In a collimator in which the joint of two blocks is on the same plane as in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-67999, X-rays scattered by the subject pass through the gap between the joints and reach the detector. By incoming streaming, X
There is a problem that the accuracy of the line intensity measurement is reduced.

【0007】本発明の目的は、クロストークの減少によ
る測定精度の向上を図ることができ、コリメータにおけ
るストリーミングを減少させることができるX線CT装
置を提供することにある。
An object of the present invention, it is possible to improve the measurement accuracy by reducing crosstalk, put the collimator
An object of the present invention is to provide an X-ray CT apparatus capable of reducing streaming .

【0008】本発明の他の目的は、撮影時間を短縮でき
るX線CT装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an X-ray CT apparatus capable of shortening an imaging time.

【0009】本発明の他の目的は、被検体の断層像の分
解能を向上できるX線CT装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an X-ray CT apparatus capable of improving the resolution of a tomographic image of a subject.

【0010】[0010]

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記本発明の目的を達成
する請求項1の特徴は、X線検出器が、電極を含みかつ
X線の入射によって電子および正孔を発生する半導体結
晶と、前記電極に接続される配線が設けられ、前記半導
体結晶と対向して設けられた基板とを有し、前記半導体
結晶および前記基板の一面がコリメータ側を向いてコリ
メータの各スリット毎に1つずつ前記X線検出器が配置
され、前記各X線検出器の前記半導体結晶は、隣接して
位置する他の前記X線検出器の前記基板と対向して
り、前記コリメータは、一方に突出した複数のブレード
及びブレード間に形成された溝を有する第1コリメータ
部及び第2コリメータ部を備え、前記第1コリメータ部
の前記ブレードの端面が前記第2コリメータ部の前記溝
の底面に、前記第2コリメータ部の前記ブレードの端面
が前記第1コリメータ部の前記溝の底面に、それぞれ接
合され、前記第1コリメータ部の前記ブレードと前記第
2コリメータ部の前記ブレードとの間にスリットが形成
されていることにある。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an X-ray detector comprising: a semiconductor crystal including an electrode and generating electrons and holes upon incidence of X-rays; A wiring connected to the electrode is provided, and a substrate provided to face the semiconductor crystal, one surface of the semiconductor crystal and one surface of the substrate facing a collimator side, one for each slit of the collimator; the X-ray detector is disposed, wherein the semiconductor crystal of the X-ray detector, contact with the substrate facing the adjacent other of said X-ray detector located
The collimator has a plurality of blades projecting to one side.
And a first collimator having a groove formed between blades
Unit and a second collimator unit, wherein the first collimator unit
The end face of the blade is the groove of the second collimator portion
An end face of the blade of the second collimator section
Are in contact with the bottom surfaces of the grooves of the first collimator portion, respectively.
And the blade of the first collimator section and the second
2 A slit is formed between the collimator and the blade.
Lies in that it is.

【0012】上記他の目的を達成する請求項2の特徴
は、請求項1の特徴に加えて、前記配線が前記半導体結
晶と前記基板との間に位置していることにある。
According to a second aspect of the present invention which achieves the other object, in addition to the features of the first aspect, the wiring is located between the semiconductor crystal and the substrate.

【0013】上記他の目的を達成する請求項3の特徴
は、請求項2の特徴に加えて、前記各X線検出器の前記
半導体結晶は一方向に長い形状を有し、この半導体結晶
の長手方向が前記スリットからのX線の出射方向に配置
されていることにある。
According to another aspect of the present invention, the semiconductor crystal of each of the X-ray detectors has a shape elongated in one direction. The longitudinal direction is arranged in the direction of emission of X-rays from the slit.

【0014】上記他の目的を達成する請求項4の特徴
は、請求項3の特徴に加えて複数の前記電極が前記半導
体結晶の長手方向に配置されたことにある。
According to a fourth aspect of the present invention which achieves the other object, in addition to the features of the third aspect, a plurality of the electrodes are arranged in a longitudinal direction of the semiconductor crystal.

【0015】[0015]

【0016】[0016]

【作用】請求項1の発明によれば、以下の作用が生じ
る。半導体結晶および基板の一面がコリメータ側を向い
ており、各X線検出器の半導体結晶は、隣接して位置す
る他のX線検出器の基板と対向しているので、基板がも
つX線遮蔽効果により1つの半導体結晶に入射されたX
線が他の半導体結晶に入射されることがない。このよう
に、クロストークが防止されるので、測定ノイズが低減
されX線検出器の測定精度が向上する。更に、第1コリ
メータ部のブレードの端面が第2コリメータ部の溝の底
面に、第2コリメータ部のブレードの端面が第1コリメ
ータ部の溝の底面に、それぞれ接合されているので、ブ
レードの端面と溝の底面との接続部がすべて同一レベル
に位置していない。この接合部で生じるストリーミング
は、少なくとも1つのブレードで遮蔽される。従って、
散乱X線のX線検出器への入射を減少でき、測定ノイズ
を低減できる。これによって、被検体の断層像の分解能
をより向上できる。
According to the first aspect of the present invention, the following operations occur. Since one surface of the semiconductor crystal and the substrate face the collimator side, and the semiconductor crystal of each X-ray detector faces the substrate of another adjacent X-ray detector, the X-ray shielding of the substrate X incident on one semiconductor crystal due to the effect
The line is not incident on another semiconductor crystal. As described above, since crosstalk is prevented, measurement noise is reduced, and measurement accuracy of the X-ray detector is improved. Furthermore, the first stiffness
The end face of the meter section blade is at the bottom of the groove of the second collimator section.
The end face of the blade of the second collimator section is
Since it is joined to the bottom of the
All connections between the end of the blade and the bottom of the groove are at the same level
Not located in Streaming that occurs at this junction
Is shielded by at least one blade. Therefore,
Measurement noise can be reduced by reducing the incidence of scattered X-rays on the X-ray detector.
Can be reduced. This allows the resolution of the tomographic image of the subject
Can be further improved.

【0017】請求項2の発明によれば、請求項1による
作用に加えて以下の作用が生じる。電極に接続される配
線が半導体結晶と基板との間に位置しているので、X線
検出器の厚みを薄くできる。これは、コリメータのスリ
ット間の間隔の減少によるX線検出器の高密度配置を可
能にする。このため、被検体の移動回数を低減でき、被
検体の撮影時間を短縮できる。
According to the second aspect of the present invention, the following operation occurs in addition to the operation of the first aspect. Since the wiring connected to the electrode is located between the semiconductor crystal and the substrate, the thickness of the X-ray detector can be reduced. This allows for high density placement of the X-ray detector by reducing the spacing between the slits of the collimator. For this reason, the number of movements of the subject can be reduced, and the imaging time of the subject can be reduced.

【0018】請求項3の発明によれば、請求項2による
作用に加えて以下の作用が生じる。半導体結晶は一方向
に長い形状を有しこの半導体結晶の長手方向がコリメー
タのスリットからのX線の出射方向に配置されているの
で、入射されたX線の半導体結晶内の透過距離が長くな
る。このため、半導体結晶内で発生する電子および正孔
が増加し、X線検出効率が増加する。これは、被検体断
層像の分解能向上につながる。
According to the third aspect of the present invention, the following operation occurs in addition to the operation of the second aspect. Since the semiconductor crystal has a shape that is long in one direction and the longitudinal direction of the semiconductor crystal is arranged in the direction in which the X-ray exits from the slit of the collimator, the transmission distance of the incident X-ray in the semiconductor crystal increases. . Therefore, the number of electrons and holes generated in the semiconductor crystal increases, and the X-ray detection efficiency increases. This leads to an improvement in the resolution of the tomographic image of the subject.

【0019】請求項4の発明によれば、請求項3による
作用に加えて以下の作用が生じる。電極が半導体結晶の
長手方向に配置されているので、半導体結晶内で発生す
る電子および正孔の検出効率が増加し、X線検出効率を
更に高めることになる。被検体断層像の分解能はより向
上する。
According to the fourth aspect of the present invention, the following operation occurs in addition to the operation of the third aspect. Since the electrodes are arranged in the longitudinal direction of the semiconductor crystal, the detection efficiency of electrons and holes generated in the semiconductor crystal increases, and the X-ray detection efficiency further increases. The resolution of the tomographic image of the subject is further improved.

【0020】[0020]

【0021】[0021]

【実施例】【Example】

(実施例1)本発明の好適な一実施例であるX線CT装
置を図2により説明する。
(Embodiment 1) An X-ray CT apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0022】本実施例のX線CT装置は、X線発生装置
1,スキャナ2,コリメータ400およびX線検出器5
00等を備える。被検体3が設置されるスキャナ2は、
X線発生装置1がX線を放射する方向に設置される。コ
リメータ400は、被検体3を間にX線発生装置1と対
向する位置に配置される。コリメータ400は、特定の
方向からのX線を通過させる複数のスリット410を備
えている。X線検出器500は、それぞれのスリット4
00ごとに設けられ、スリット400の延長線方向に配
置される。信号処理回路6は、X線検出器500と配線
で結ばれ、X線検出器500から出力される電気信号を
入力する。演算装置7は、X線発生装置1,スキャナ2
および信号処理回路6と配線で結ばれる。表示装置8
は、配線により演算装置7に接続される。
The X-ray CT apparatus of this embodiment comprises an X-ray generator 1, a scanner 2, a collimator 400, and an X-ray detector 5.
00 etc. The scanner 2 on which the subject 3 is installed
The X-ray generator 1 is installed in a direction to emit X-rays. The collimator 400 is arranged at a position facing the X-ray generator 1 with the subject 3 therebetween. The collimator 400 has a plurality of slits 410 for passing X-rays from a specific direction. The X-ray detector 500 is provided with each slit 4
The slits 400 are provided in the direction of an extension of the slit 400. The signal processing circuit 6 is connected to the X-ray detector 500 by wiring, and receives an electric signal output from the X-ray detector 500. The arithmetic unit 7 includes an X-ray generator 1, a scanner 2
And the signal processing circuit 6 by wiring. Display device 8
Are connected to the arithmetic unit 7 by wiring.

【0023】X線検出器500の詳細構造を図1に示
す。
FIG. 1 shows the detailed structure of the X-ray detector 500.

【0024】X線検出器500は、基板530およびこ
れに対向して設けられた半導体結晶510を有する。半
導体結晶510および基板530は、一方向に長い形状
を有する。半導体結晶510の基板530と対向する面
には、正電極511と負電極512が形成されている。
半導体結晶510には、拡散型シリコン半導体を用いる
のが一般的で、Si,Ge,GaAs,GaSe,Cd
Se,CdTe,HgI2 ,SiC,C,ZnTe,B
23,PbI2 ,AlSb,InS、など化合物半導
体も含み、単結晶と多結晶など様々な材料が利用でき
る。本実施例は、半導体結晶510としてn型半導体を
用いたX線検出器500を説明する。半導体結晶510
としてp型半導体を用いても同様にX線検出器500を
構成することができる。
X-ray detector 500 has a substrate 530 and a semiconductor crystal 510 provided to face the substrate. The semiconductor crystal 510 and the substrate 530 have shapes that are long in one direction. On the surface of the semiconductor crystal 510 facing the substrate 530, a positive electrode 511 and a negative electrode 512 are formed.
Generally, a diffusion-type silicon semiconductor is used for the semiconductor crystal 510, and Si, Ge, GaAs, GaSe, Cd
Se, CdTe, HgI 2 , SiC, C, ZnTe, B
Various materials such as single crystal and polycrystal can be used, including compound semiconductors such as i 2 S 3 , PbI 2 , AlSb, and InS. In this embodiment, an X-ray detector 500 using an n-type semiconductor as the semiconductor crystal 510 will be described. Semiconductor crystal 510
Even if a p-type semiconductor is used, the X-ray detector 500 can be similarly configured.

【0025】基板530は、ガラスエポキシ基板、紙フ
ェノール基板などで構成することが一般的である。密度
が高く、かつX線および電子を通しにくい物質(例え
ば、Pb,Au,Ag,Pt,Mo,W、タングステン
カーバイド)を基板に加えることにより、基板530の
X線遮蔽効果を高めることができる。
The substrate 530 is generally formed of a glass epoxy substrate, a paper phenol substrate, or the like. The X-ray shielding effect of the substrate 530 can be increased by adding a substance having a high density and hard to transmit X-rays and electrons (for example, Pb, Au, Ag, Pt, Mo, W, and tungsten carbide) to the substrate. .

【0026】X線検出器500は、コリメータ400の
スリット410を通過するX線が半導体結晶510の長
手方向に入射するように配置される。このため、基板5
30は、スリット410の延長線方向と交差しない。各
スリット420に対向して配置されるそれぞれのX線検
出器500の半導体結晶510は、このX線検出器50
0に隣接して配置された他のX線検出器500の基板5
30と対向している。これは、半導体結晶510と基板
530とが交互に配置されていることになる。
The X-ray detector 500 is arranged such that X-rays passing through the slit 410 of the collimator 400 are incident on the semiconductor crystal 510 in the longitudinal direction. Therefore, the substrate 5
30 does not intersect with the extension direction of the slit 410. The semiconductor crystal 510 of each X-ray detector 500 arranged opposite to each slit 420
Substrate 5 of another X-ray detector 500 arranged adjacent to
30. This means that the semiconductor crystals 510 and the substrates 530 are alternately arranged.

【0027】半導体結晶510に設けられた正電極51
1および負電極512と基板530に設けられた配線と
の接続状態を図3および図4に示す。電極パッド20お
よび21が、基板530の半導体結晶510と対向する
面上に設けられる。電極パッド20の接続端22は半導
体結晶510に設けた正電極511に対向して設けられ
る。電極パッド21の接続端23は、半導体結晶510
に設けた負電極512に対向して設けられる。接続端22
および23以外の電極パッド20および21の部分は、
他方の電極パッドと接触しないように基板530の長手
方向の一端に向かって伸びる配線パターンとなってい
る。電極パッド20および21の表面は、接続端22お
よび23を除いて、絶縁保護膜で被ってもよい。
Positive electrode 51 provided on semiconductor crystal 510
FIGS. 3 and 4 show a connection state between the first and negative electrodes 512 and the wiring provided on the substrate 530. FIG. Electrode pads 20 and 21 are provided on a surface of substrate 530 facing semiconductor crystal 510. The connection end 22 of the electrode pad 20 is provided to face the positive electrode 511 provided on the semiconductor crystal 510. The connection end 23 of the electrode pad 21 is connected to the semiconductor crystal 510
Is provided so as to oppose the negative electrode 512 provided in the above. Connection end 22
The portions of the electrode pads 20 and 21 other than and 23 are
The wiring pattern extends toward one end in the longitudinal direction of the substrate 530 so as not to contact the other electrode pad. Except for the connection ends 22 and 23, the surfaces of the electrode pads 20 and 21 may be covered with an insulating protective film.

【0028】正電極511および負電極512は、半導
体結晶510の表面に設けたAl,Au,Ag,Ptあ
るいはこれらの合金から選ばれた1つの材料で構成され
る金属電極である。正電極511は、半導体結晶510
内に形成されたn+ 拡散電極521の部分に設けられ
る。負電極512は、半導体結晶510内に形成された
p+ 拡散電極522の部分に設けられる。n+ 拡散電極
521を電極パッド531と容易に接続するためのもので
ある。正電極511に対して負電極512を負にバイア
スしている。
The positive electrode 511 and the negative electrode 512 are metal electrodes provided on the surface of the semiconductor crystal 510 and made of one material selected from Al, Au, Ag, Pt or an alloy thereof. The positive electrode 511 is a semiconductor crystal 510
Provided at the portion of the n @ + diffusion electrode 521 formed therein. Negative electrode 512 is provided at a portion of p + diffusion electrode 522 formed in semiconductor crystal 510. This is for easily connecting the n + diffusion electrode 521 to the electrode pad 531. The negative electrode 512 is negatively biased with respect to the positive electrode 511.

【0029】p+ 拡散電極522はアクセプタ不純物の
拡散により、n+ 拡散電極521はドナー不純物の拡散
により、半導体結晶510内にそれぞれ形成される。電
界を半導体結晶510の内部に広く発生させて、電荷収
集の効率を向上させるために、p+ 拡散電極522とn
+ 拡散電極521は、半導体結晶510内に交互に配置
される。正電極511および負電極512も交互に半導
体結晶510に設けられる。正電極511と負電極51
2との間の電界の大きさが一様になり、電荷収集の効率
が半導体結晶510内で均一になるように、正電極51
1と負電極512は互いに平行に配置される。正電極51
1および負電極512の形状は、本実施例では長方形で
あるが、他の形状でもよい。また、本実施例は、1つの
正電極511および2つの負電極512を有するが、こ
れらの電極の数は必要に応じて他の数でもよい。絶縁被
膜513が、図4に示すように、正電極511および負
電極512の部分を除いた、半導体結晶510の基板5
30と対向する面に設けられる。この絶縁被膜513
は、正電極511と負電極512との間に存在する。絶
縁被膜513の形成は、正電極511と負電極512と
の間での漏洩電流を防止し、半導体結晶を保護する。
The p + diffusion electrode 522 is formed in the semiconductor crystal 510 by diffusion of acceptor impurities, and the n + diffusion electrode 521 is formed in the semiconductor crystal 510 by diffusion of donor impurities. In order to generate an electric field widely inside the semiconductor crystal 510 and improve the efficiency of charge collection, the p + diffusion electrodes 522 and n
+ Diffusion electrodes 521 are alternately arranged in semiconductor crystal 510. Positive electrodes 511 and negative electrodes 512 are also provided on semiconductor crystal 510 alternately. Positive electrode 511 and negative electrode 51
2 so that the magnitude of the electric field between them is uniform and the efficiency of charge collection is uniform within the semiconductor crystal 510.
1 and the negative electrode 512 are arranged in parallel with each other. Positive electrode 51
The shapes of the negative electrode 1 and the negative electrode 512 are rectangular in this embodiment, but may be other shapes. Further, although the present embodiment has one positive electrode 511 and two negative electrodes 512, the number of these electrodes may be another number as necessary. As shown in FIG. 4, the insulating film 513 is formed on the substrate 5 of the semiconductor crystal 510 except for the portions of the positive electrode 511 and the negative electrode 512.
It is provided on a surface facing 30. This insulating coating 513
Exists between the positive electrode 511 and the negative electrode 512. The formation of the insulating film 513 prevents leakage current between the positive electrode 511 and the negative electrode 512 and protects the semiconductor crystal.

【0030】正電極511は、銀ペーストなどの導電性
接着剤541によって電極パッド20の接続端22に電
気的に接続される。各負電極512は、導電性接着剤54
1によって電極パッド21の各接続端23に電気的に接
続される。このような接続によって半導体結晶510が
基板530に固定されることにより、X線検出器500
が得られる。正電極511および負電極512と接続端
22および接続端23との接続にワイヤボンディングを
用いないので、X線検出器500の厚みを著しく薄くで
きる。このため、コリメータ400内の隣接するスリッ
ト410相互間の間隔を狭くでき、隣接するX線検出器
500相互の間隔も狭くできる。従って、X線検出器5
00は高密度に配置できるので、撮影時間を短縮でき
る。
The positive electrode 511 is electrically connected to the connection end 22 of the electrode pad 20 by a conductive adhesive 541 such as a silver paste. Each negative electrode 512 is provided with a conductive adhesive 54.
1 electrically connects to each connection end 23 of the electrode pad 21. By fixing semiconductor crystal 510 to substrate 530 by such connection, X-ray detector 500
Is obtained. Since wire bonding is not used to connect the positive electrode 511 and the negative electrode 512 to the connection terminals 22 and 23, the thickness of the X-ray detector 500 can be significantly reduced. For this reason, the interval between the adjacent slits 410 in the collimator 400 can be reduced, and the interval between the adjacent X-ray detectors 500 can also be reduced. Therefore, the X-ray detector 5
Since 00 can be arranged at high density, the photographing time can be reduced.

【0031】X線発生装置1から放射状に発生したX線
は、スキャナ2上に設置された被検体3を透過する。被
検体3を透過したX線は、コリメータ400の各スリッ
ト410に入射する。コリメータ400は、被検体3に
よって散乱されたX線がX線検出器500に入射するこ
とを防止する。スリット410を通過したX線は、X線
検出器500の半導体結晶510に入射される。半導体
結晶510内には、X線強度に対応した数の電子および
正孔が発生する。本実施例は、X線が半導体結晶510
の長手方向に入射されるので、発生する電子および正孔
の数が多くなる。これは、半導体結晶510のX線透過
距離が長いからである。本実施例の半導体結晶510
は、一方にのみ長い直方体であるから、長手方向以外か
ら半導体結晶510にX線が入射しても、このX線が半
導体結晶510内を透過する距離は短い。長手方向以外
から半導体結晶510に入射されるX線によって発生す
る電子および正孔の数は少ない。従って、ストリーミン
グやクロストーク等によるノイズの発生が減少する。
The X-rays generated radially from the X-ray generator 1 pass through the subject 3 placed on the scanner 2. The X-ray transmitted through the subject 3 enters each slit 410 of the collimator 400. The collimator 400 prevents the X-ray scattered by the subject 3 from entering the X-ray detector 500. The X-ray that has passed through the slit 410 is incident on the semiconductor crystal 510 of the X-ray detector 500. In the semiconductor crystal 510, a number of electrons and holes corresponding to the X-ray intensity are generated. In this embodiment, the X-ray is applied to the semiconductor crystal 510.
, The number of generated electrons and holes increases. This is because the X-ray transmission distance of the semiconductor crystal 510 is long. Semiconductor crystal 510 of this embodiment
Is a rectangular parallelepiped that is long only on one side, so that even if X-rays enter the semiconductor crystal 510 from a direction other than the longitudinal direction, the distance that the X-rays pass through the semiconductor crystal 510 is short. The number of electrons and holes generated by X-rays incident on the semiconductor crystal 510 from a direction other than the longitudinal direction is small. Therefore, generation of noise due to streaming, crosstalk, and the like is reduced.

【0032】正電極511と負電極512の間には、外
部から電極パッド20および21を介して電圧が印加さ
れる。このため、半導体結晶510内の拡散電極521
と拡散電極522の間には電界が生じている。発生した
電子,正孔は電界に従って、それぞれ正電極511,負
電極512に移動する。本実施例では、半導体結晶51
0に正電極511および負電極512が交互に配置さ
れ、拡散電極521,522が半導体結晶510の表面
からその内部に向かって形成されているので、電界は半
導体結晶510内の広範囲にわたって分布する。従っ
て、X線の入射によって発生した電子および正孔の収集
効率が増加する。電子,正孔が正電極511,負電極51
2に到達すると、正電極511と負電極512の間に電
流が流れ、電気信号となる。すなわち、X線の入射によ
って、X線検出器500に電気信号が生じる。
A voltage is externally applied between the positive electrode 511 and the negative electrode 512 via the electrode pads 20 and 21. Therefore, the diffusion electrode 521 in the semiconductor crystal 510
An electric field is generated between and the diffusion electrode 522. The generated electrons and holes move to the positive electrode 511 and the negative electrode 512, respectively, according to the electric field. In this embodiment, the semiconductor crystal 51
Since the positive electrodes 511 and the negative electrodes 512 are alternately arranged at 0 and the diffusion electrodes 521 and 522 are formed from the surface of the semiconductor crystal 510 toward the inside thereof, the electric field is distributed over a wide range in the semiconductor crystal 510. Therefore, the collection efficiency of electrons and holes generated by the incidence of X-rays increases. Electrons and holes are positive electrode 511, negative electrode 51
2, the current flows between the positive electrode 511 and the negative electrode 512 and becomes an electric signal. That is, an electric signal is generated in the X-ray detector 500 by the incidence of the X-ray.

【0033】被検体3は、スキャナ2の回転によりの姿
勢を複数回に渡って変えられる。X線は、それぞれの姿
勢の被検体3に対して照射される。これらの複数回の照
射に対して、被検体3を透過したX線が各X線検出器5
00によって上記のように計測される。前述したように
X線検出器500相互の間隔を狭くして配置できるの
で、スキャナ2を回転して被検体3の姿勢を変える回数
が少なくなり、被検体3の撮影時間が短縮される。
The posture of the subject 3 can be changed a plurality of times by rotating the scanner 2. X-rays are emitted to the subject 3 in each posture. For these multiple irradiations, the X-rays that have passed through the subject 3 are reflected by each X-ray detector 5.
00 is measured as described above. As described above, since the X-ray detectors 500 can be arranged with a small interval therebetween, the number of times the scanner 2 is rotated to change the posture of the subject 3 is reduced, and the imaging time of the subject 3 is shortened.

【0034】上記のように、X線検出器500は、入射
したX線の強度に対応した電気信号を発生する。電気信
号は信号処理回路6に送られる。信号処理回路6は、複
数のX線検出器500からの電気信号と、図示しない補
正情報となる電気信号とをそれぞれディジタル値に変換
し、これらのディジタル値を演算装置7に伝送するまで
一時的に保持する。演算装置7は、信号処理回路6から
伝送されてくるデータ(上記ディジタル値)を蓄積し、ス
キャナの位置情報と対応させて再構成演算を行い、被検
体3の断層像を得る。この断層影は表示装置8に表示さ
れる。
As described above, the X-ray detector 500 generates an electric signal corresponding to the intensity of the incident X-ray. The electric signal is sent to the signal processing circuit 6. The signal processing circuit 6 converts each of the electric signals from the plurality of X-ray detectors 500 and an electric signal serving as correction information (not shown) into digital values, and temporarily converts these digital values to transmission to the arithmetic unit 7. To hold. The arithmetic unit 7 accumulates the data (the digital value) transmitted from the signal processing circuit 6 and performs a reconstruction operation in association with the position information of the scanner to obtain a tomographic image of the subject 3. This tomographic shadow is displayed on the display device 8.

【0035】本実施例のX線CT装置によれば、以下の
ような効果を得ることができる。
According to the X-ray CT apparatus of this embodiment, the following effects can be obtained.

【0036】(1)コリメータ400の各スリット41
0毎に1つずつ対応して配置された各X線検出器500
の半導体結晶510は、このX線検出器500の両側に
隣接して位置する他の2つのX線検出器500の基板5
30と対向している。従って、或いるX線検出器500
の半導体結晶510に入射されたX線は、その両側に隣
接して位置する他の2つのX線検出器500の基板53
0のX線遮蔽効果によって、他の2つのX線検出器50
0の半導体結晶510に入射されることがない。このよ
うに、X線のクロストークが防止されるので、測定ノイ
ズが低減し、X線検出器500の測定精度を向上させ
る。
(1) Each slit 41 of the collimator 400
X-ray detectors 500 correspondingly arranged one for each 0
Of the other two X-ray detectors 500 located adjacent to both sides of the X-ray detector 500
30. Therefore, some X-ray detectors 500
Of X-rays incident on the semiconductor crystal 510 of the other X-ray detectors are the substrates 53 of the other two X-ray detectors 500 located adjacent to both sides thereof.
With the X-ray shielding effect of 0, the other two X-ray detectors 50
0 is not incident on the semiconductor crystal 510. As described above, since the X-ray crosstalk is prevented, the measurement noise is reduced, and the measurement accuracy of the X-ray detector 500 is improved.

【0037】(2)半導体結晶510の長手方向がスリ
ット410の延長線方向に配置されるので、半導体結晶
510を透過するX線の割合が減少する。このため、入
射されたX線によって半導体結晶510内に発生する電
子および正孔の量が増大する。電子および正孔の増加
は、X線検出器500の測定精度をより向上させる。
(2) Since the longitudinal direction of the semiconductor crystal 510 is arranged in the direction of the extension of the slit 410, the proportion of X-rays transmitted through the semiconductor crystal 510 is reduced. Therefore, the amount of electrons and holes generated in semiconductor crystal 510 by the incident X-rays increases. The increase in the number of electrons and holes further improves the measurement accuracy of the X-ray detector 500.

【0038】(3)正電極511,負電極512が半導
体結晶510に交互に配置され、これらに対応して拡散
電極521,522が半導体結晶510の表面から内部
へ設けられているために、電界が半導体結晶510内で
広範囲に生じ、電子および正孔の収集効率が増加する。
これは、X線の検出効率の増加につながり、被検体3の
断層像の分解能を向上させることができる。
(3) Since the positive electrodes 511 and the negative electrodes 512 are alternately arranged on the semiconductor crystal 510 and the diffusion electrodes 521 and 522 are provided from the surface of the semiconductor crystal 510 to the inside thereof, the electric field is increased. Occur in a wide range in the semiconductor crystal 510, and the collection efficiency of electrons and holes increases.
This leads to an increase in the X-ray detection efficiency, and can improve the resolution of the tomographic image of the subject 3.

【0039】(4)X線検出器500の厚みが著しく薄
いので、スリット410相互の間隔を狭くでき、それだ
けX線検出器500は高密度に配置できる。このため、
スキャナ2の回転による被検体3の姿勢の変化回数が少
なくなり、被検体3の撮影時間が著しく短縮される。
(4) Since the thickness of the X-ray detector 500 is extremely thin, the interval between the slits 410 can be reduced, and the X-ray detector 500 can be arranged at a higher density. For this reason,
The number of changes in the posture of the subject 3 due to the rotation of the scanner 2 is reduced, and the imaging time of the subject 3 is significantly reduced.

【0040】また、X線CT装置において、X線検出器
500の替りに図5に示すX線検出器501を用いても
よい。X線検出器501は、基板530の半導体結晶5
10と対向する面上にフレキシブルな屈曲性のある絶縁
フィルム532を設け、この絶縁フィルム532に電極
パッド20および21を設けている。絶縁フィルム53
2の厚みは、基板530のそれに比べて著しく薄い。X
線検出器500を高密度に実装するとX線検出器500
相互の間隔が狭くなるので、電極パッド20および21
への信号線(信号処理回路6に接続)の接続がしずらく
なる。しかし、本実施例のX線検出器501のように屈
曲性のある絶縁フィルム532を用いて電極パッド20
および21を長くすることによって、後段の信号処理回
路6への接続のための電気的接続点を自由な空間まで引
き出すことができる。これは、電極パッド20および2
1への信号線の接続を容易にする。
In the X-ray CT apparatus, an X-ray detector 501 shown in FIG. 5 may be used instead of the X-ray detector 500. The X-ray detector 501 is provided on the semiconductor crystal 5 of the substrate 530.
A flexible and flexible insulating film 532 is provided on a surface facing 10, and electrode pads 20 and 21 are provided on the insulating film 532. Insulating film 53
2 is significantly thinner than that of the substrate 530. X
When the X-ray detector 500 is mounted at a high density,
Since the distance between them is reduced, the electrode pads 20 and 21
To the signal line (connected to the signal processing circuit 6). However, a flexible insulating film 532 such as the X-ray detector 501 of the present embodiment is used to form the electrode pad 20.
By increasing the lengths of and, an electrical connection point for connection to the subsequent signal processing circuit 6 can be drawn out to a free space. This is because the electrode pads 20 and 2
1 is easily connected to the signal line.

【0041】図6に示すように、基板530と半導体結
晶510が交互に並ぶように単位X線検出器500を実
装すれば、基板530がもつX線遮蔽効果により、クロ
ストークを防止し、測定ノイズを低減して、測定精度を
増加させることができる。
As shown in FIG. 6, if the unit X-ray detector 500 is mounted so that the substrate 530 and the semiconductor crystal 510 are alternately arranged, crosstalk can be prevented by the X-ray shielding effect of the substrate 530, and measurement can be performed. Noise can be reduced and measurement accuracy can be increased.

【0042】図2に示すX線CT装置において、X線検
出器500の替りに図7に示すX線検出器502を用い
てもよい。X線検出器502は、半導体結晶510の、
n+拡散電極521,p+ 拡散電極522を形成した基
板530と対向する面とは反対の面に、n+ 拡散電極5
23を形成している。n+ 拡散電極523は、より広い
電界を半導体結晶510内に発生させる。このため、半
導体結晶510内で発生する電子および正孔の収集効率
が更に向上する。
In the X-ray CT apparatus shown in FIG. 2, an X-ray detector 502 shown in FIG. The X-ray detector 502 is provided for the semiconductor crystal 510.
On the surface opposite to the surface facing the substrate 530 on which the n + diffusion electrode 521 and the p + diffusion electrode 522 are formed, the n + diffusion electrode 5
23 are formed. N + diffusion electrode 523 generates a wider electric field in semiconductor crystal 510. Therefore, the collection efficiency of electrons and holes generated in semiconductor crystal 510 is further improved.

【0043】(実施例2)本発明の実施例2に係るX線
CT装置を図8により説明する。
(Embodiment 2) An X-ray CT apparatus according to Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to FIG.

【0044】本実施例のX線CT装置は、図2に示すX
線CT装置のX線検出器500をX線検出器503に替
えたものである。X線検出器503は、X線検出器50
0の基板530の、半導体結晶510と対向する面とは
反対の面に、X線および電子を通しにくい物質からなる
遮蔽材550を接着したものである。遮蔽材550の材
質としては、密度が高いことが望ましく、例えば、P
b,Au,Ag,Pt,Mo,W、およびタングステン
カーバイドなどが有効である。X線検出器503の上記
以外の構造は、X線検出器500の構造と同じである。
The X-ray CT apparatus according to the present embodiment
This is an X-ray CT apparatus in which the X-ray detector 500 is replaced with an X-ray detector 503. The X-ray detector 503 is an X-ray detector 50.
A shielding material 550 made of a substance that hardly transmits X-rays and electrons is bonded to the surface of the substrate 530 of the “0” opposite to the surface facing the semiconductor crystal 510. It is desirable that the material of the shielding member 550 has a high density.
b, Au, Ag, Pt, Mo, W, and tungsten carbide are effective. The other structure of the X-ray detector 503 is the same as the structure of the X-ray detector 500.

【0045】本実施例のX線CT装置は、全てのX線検
出器503の短尺方向(スリット410の延長線方向に
直交する方向)での両側面側に、X線遮蔽材を配置して
いる。このため、その短尺方向において、各X線検出器
503は、2つのX線遮蔽材によって挟まれている。
In the X-ray CT apparatus of this embodiment, X-ray shielding members are arranged on both side surfaces of all the X-ray detectors 503 in the short direction (the direction orthogonal to the extension of the slit 410). I have. For this reason, in the short direction, each X-ray detector 503 is sandwiched between two X-ray shielding members.

【0046】本実施例のX線CT装置は、実施例1と同
様の効果を得ることができる。更に、X線検出器503
の短尺方向における両側面側にX線遮蔽材550が配置
されているので、これらの側面側から入射するX線を減
少させるので、X線検出器のクロストークがより低減さ
れる。このため、測定ノイズが更に低減され、測定精度
がより向上する。
The X-ray CT apparatus of this embodiment can provide the same effects as those of the first embodiment. Further, the X-ray detector 503
Since the X-ray shielding members 550 are arranged on both side surfaces in the short direction, X-rays incident from these side surfaces are reduced, so that the crosstalk of the X-ray detector is further reduced. Therefore, measurement noise is further reduced, and measurement accuracy is further improved.

【0047】(実施例3)本発明の実施例3であるX線
CT装置を図2及び図9により説明する。実施例3のX
線CT装置は、実施例1においてコリメータ400を図
9に示すコリメータ405に替えたものである。コリメ
ータ405は、コリメータ上部420及びコリメータ下
部430を有し、コリメータ上部420とコリメータ下
部430との間に貫通孔である複数のスリット410を
形成したものである。
Embodiment 3 An X-ray CT apparatus according to Embodiment 3 of the present invention will be described with reference to FIGS. X of Example 3
The line CT apparatus is obtained by replacing the collimator 400 in the first embodiment with a collimator 405 shown in FIG. The collimator 405 has a collimator upper portion 420 and a collimator lower portion 430, and has a plurality of slits 410 as through holes formed between the collimator upper portion 420 and the collimator lower portion 430.

【0048】コリメータ405の組立てを図10により
説明する。X線吸収材であるコリメータ上部420は、
下方に向かって突出する複数のブレード412を有し、
ブレード412間に溝411が形成される。X線吸収材
であるコリメータ下部430は、上方に向かって突出す
る複数のブレード414を有し、ブレード414間に溝
413が形成される。ブレード412が溝413内に、
ブレード414が溝411内にそれぞれ挿入される。各
ブレード412及び414の端面は、該当する溝411
または413の底面にシール材415によって接合され
る。シール材415はX線吸収材である。スリット41
0はブレード412とブレード414との間に形成され
る。
The assembly of the collimator 405 will be described with reference to FIG. The collimator upper 420, which is an X-ray absorber,
It has a plurality of blades 412 projecting downward,
A groove 411 is formed between the blades 412. The lower collimator 430, which is an X-ray absorber, has a plurality of blades 414 projecting upward, and a groove 413 is formed between the blades 414. The blade 412 is in the groove 413,
Blades 414 are inserted into grooves 411, respectively. The end face of each blade 412 and 414 is
Or, it is joined to the bottom surface of the 413 by a sealing material 415. The sealing material 415 is an X-ray absorbing material. Slit 41
0 is formed between blade 412 and blade 414.

【0049】X線発生装置1から放射されたX線は、被
検体3を透過し、コリメータ405のスリット410内
に入射される。コリメータ405のスリット410は特
定の方向からのX線だけを通過させる。本実施例に用い
られるコリメータ405は、シール材415によるコリ
メータ上部420とコリメータ下部430との接合部4
16が、同一線上に連続して配置されていなく、上部と
下部に交互に配置されるので、ストリーミングを抑制で
きる。これは、1つの接合部416を介して隣のスリッ
ト410内に達したX線がブレード412(またはブレ
ード414)によって遮蔽されるからである。また、各
接合部416には、X線を吸収するシール材415が塗
布されているので、ストリーミングの強度は減少し、散
乱X線のX線検出器500への入射を減少できる。
The X-rays emitted from the X-ray generator 1 pass through the subject 3 and enter the slit 410 of the collimator 405. The slit 410 of the collimator 405 allows only X-rays from a specific direction to pass. The collimator 405 used in this embodiment is a joint 4 between the collimator upper part 420 and the collimator lower part 430 by the sealing material 415.
Since the 16 are not arranged continuously on the same line but are alternately arranged at the upper part and the lower part, streaming can be suppressed. This is because X-rays that have reached the adjacent slit 410 via one joint 416 are blocked by the blade 412 (or the blade 414). In addition, since a sealing material 415 that absorbs X-rays is applied to each joint 416, the intensity of streaming is reduced, and the incidence of scattered X-rays on the X-ray detector 500 can be reduced.

【0050】本実施例は、実施例1の効果を得ることが
でき、かつストリミングの抑制によりX線検出器の測定
ノイズを減少できる。測定ノイズの減少は、被検体3の
断層像の分解能を更に向上できる。
In this embodiment, the effects of the first embodiment can be obtained, and the measurement noise of the X-ray detector can be reduced by suppressing the stripping. The reduction of the measurement noise can further improve the resolution of the tomographic image of the subject 3.

【0051】本実施例におけるX線検出器500を、X
線検出器501,502または503に替えてもよい。
The X-ray detector 500 in this embodiment is
The line detector 501, 502, or 503 may be used instead.

【0052】(実施例4)本発明の実施例4のX線CT
装置を図2および図11により説明する。実施例4は、
実施例3のコリメータ405を図11に示すコリメータ
401に替えたものである。
(Embodiment 4) X-ray CT according to Embodiment 4 of the present invention
The apparatus will be described with reference to FIGS. Example 4
The collimator 405 of the third embodiment is replaced with a collimator 401 shown in FIG.

【0053】コリメータ401は、複数の貫通孔416
を有する複数の板440を重ね合わせて構成する。板4
40はX線を吸収する材質によって構成される。各板4
40は、各貫通孔416が一致するように配置される。
複数の板を440を貫く貫通孔416により、コリメー
タ401を貫通するスリット410が形成される。この
コリメータ401は、スリット410間に接合部が存在
しないので、ストリーミングによる散乱X線のX線検出
器500への入射が防止できる。
The collimator 401 has a plurality of through holes 416.
Are constructed by stacking a plurality of plates 440 each having a. Board 4
40 is made of a material that absorbs X-rays. Each board 4
40 are arranged such that the respective through holes 416 coincide with each other.
A slit 410 penetrating the collimator 401 is formed by a through hole 416 passing through the plurality of plates 440. Since the collimator 401 has no joint between the slits 410, it is possible to prevent scattered X-rays from being incident on the X-ray detector 500 due to streaming.

【0054】実施例4は、上記以外に実施例1で得られ
る効果も生じる。
In the fourth embodiment, the effects obtained in the first embodiment also occur in addition to the above.

【0055】本実施例におけるコリメータ401の替り
に図12に示すコリメータ402を用いてもよい。この
コリメータ402は、コリメータ401におけるスリッ
ト410を二次元的に配置したものであり、実質的にコ
リメータ401と同じである。図11および図12のコ
リメータは、平板を用いたが、複数の湾曲した板を重ね
合わせて構成してもよい。
A collimator 402 shown in FIG. 12 may be used instead of the collimator 401 in this embodiment. The collimator 402 is obtained by arranging the slits 410 in the collimator 401 two-dimensionally, and is substantially the same as the collimator 401. Although the collimators in FIGS. 11 and 12 use flat plates, a plurality of curved plates may be overlapped.

【0056】[0056]

【発明の効果】請求項1の発明によれば、基板によって
クロストークが減少しX線検出器の測定精度を向上でき
ると共に、散乱X線のX線検出器への入射を減少でき、
被検体の断層像の分解能をより向上できる。
According to the first aspect of the present invention, the crosstalk can be reduced by the substrate and the measurement accuracy of the X-ray detector can be improved.
And reduce the incidence of scattered X-rays on the X-ray detector,
The resolution of the tomographic image of the subject can be further improved.

【0057】請求項2の発明によれば、請求項1によっ
て得られる効果に加えて、X線検出器の高密度配置が可
能になることにより被検体の撮影時間を短縮できる。
According to the second aspect of the invention, in addition to the effect obtained by the first aspect, the imaging time of the subject can be reduced by enabling the X-ray detectors to be arranged at a high density.

【0058】請求項3の発明によれば、請求項2によっ
て得られる効果に加えて、半導体結晶内で発生する電子
および正孔の増加に伴うX線検出効率の増大により、被
検体断層像の分解能が向上する。
According to the third aspect of the invention, in addition to the effect obtained by the second aspect, the X-ray detection efficiency is increased due to the increase in the number of electrons and holes generated in the semiconductor crystal. Resolution is improved.

【0059】請求項4の発明によれば、請求項3によっ
て得られる効果に加えて、電極が半導体結晶の長手方向
に配置されているので、半導体結晶内で発生する電子お
よび正孔の検出効率が増加する。このため、X線検出効
率が更に高くなり、被検体断層像の分解能はより向上す
る。
According to the fourth aspect of the invention, in addition to the effect obtained by the third aspect, since the electrodes are arranged in the longitudinal direction of the semiconductor crystal, the efficiency of detecting electrons and holes generated in the semiconductor crystal is improved. Increase. Therefore, the X-ray detection efficiency is further increased, and the resolution of the tomographic image of the subject is further improved.

【0060】[0060]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図2に示す本発明の実施例1に係るX線CT装
置のX線検出器およびコリメータの構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of an X-ray detector and a collimator of an X-ray CT apparatus according to a first embodiment of the present invention shown in FIG.

【図2】本発明の実施例1に係るX線CT装置の構成図
である。
FIG. 2 is a configuration diagram of the X-ray CT apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図3】図1に示すX線検出器における半導体結晶に設
けた電極と基板に設けた配線との接合状態を示す模式図
である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a bonding state between an electrode provided on a semiconductor crystal and a wiring provided on a substrate in the X-ray detector shown in FIG.

【図4】図1に示すX線検出器の縦断面図である。FIG. 4 is a longitudinal sectional view of the X-ray detector shown in FIG.

【図5】X線検出器の他の実施例の斜視図である。FIG. 5 is a perspective view of another embodiment of the X-ray detector.

【図6】X線検出器の他の実施例の縦断面図である。FIG. 6 is a longitudinal sectional view of another embodiment of the X-ray detector.

【図7】X線検出器の他の実施例の縦断面図である。FIG. 7 is a longitudinal sectional view of another embodiment of the X-ray detector.

【図8】本発明の実施例2に係るX線CT装置に用いら
れるX線検出器の縦断面図である。
FIG. 8 is a longitudinal sectional view of an X-ray detector used in an X-ray CT apparatus according to Embodiment 2 of the present invention.

【図9】本発明の実施例3に係るX線CT装置に用いら
れるコリメータの斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view of a collimator used in an X-ray CT apparatus according to Embodiment 3 of the present invention.

【図10】図9のコリメータの製造過程を示す説明図で
ある。
FIG. 10 is an explanatory diagram showing a manufacturing process of the collimator of FIG. 9;

【図11】本発明の実施例4に係るX線CT装置に用い
られるコリメータの斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view of a collimator used in an X-ray CT apparatus according to Embodiment 4 of the present invention.

【図12】実施例4に用いられるコリメータの他の実施
例の斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view of another embodiment of the collimator used in the fourth embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…X線発生装置、2…スキャナ、3…被検体、6…信
号処理回路、7…演算装置、8…表示装置、20,21
…電極パッド、400,401,402,405…コリメ
ータ、410…スリット、411,413…溝、41
2,414…ブレード、413…接合部、420…コリ
メータ上部、430…コリメータ下部、500,50
1,502,503…X線検出器、510…半導体結
晶、511…正電極、512…負電極、521…n+ 拡
散電極、522…p+ 拡散電極、530…基板。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... X-ray generator, 2 ... Scanner, 3 ... Subject, 6 ... Signal processing circuit, 7 ... Calculation device, 8 ... Display device, 20 and 21
... electrode pads, 400, 401, 402, 405 ... collimators, 410 ... slits, 411, 413 ... grooves, 41
2,414: blade, 413: joint, 420: upper collimator, 430: lower collimator, 500, 50
1, 502, 503 X-ray detector, 510 semiconductor crystal, 511 positive electrode, 512 negative electrode, 521 n + diffusion electrode, 522 p + diffusion electrode, 530 substrate.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 出海 滋 茨城県日立市大みか町七丁目2番1号 株式会社 日立製作所 エネルギー研究 所内 (72)発明者 川崎 智 茨城県日立市大みか町七丁目2番1号 株式会社 日立製作所 エネルギー研究 所内 (72)発明者 佐藤 克利 茨城県日立市大みか町七丁目2番1号 株式会社 日立製作所 エネルギー研究 所内 (56)参考文献 特開 平6−235770(JP,A) 特開 昭56−133671(JP,A) 特開 昭53−101989(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) A61B 6/03 320 G01T 1/20 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Shigeru Deumi 7-2-1, Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Inside the Energy Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Satoshi Kawasaki 7-2, Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture No. 1 Hitachi, Ltd. Energy Research Laboratory (72) Inventor Katsutoshi Sato 7-2-1, Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Hitachi, Ltd. Energy Research Laboratory (56) References JP-A-6-235770 (JP, A JP-A-56-133361 (JP, A) JP-A-53-101989 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) A61B 6/03 320 G01T 1/20

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】X線発生装置と、前記X線発生装置から放
出されたX線が通過する複数のスリットを有するコリメ
ータと、前記スリットを通過するX線を検出するX線検
出器とを備え、 前記X線検出器が、電極を含みかつX線の入射によって
電子および正孔を発生する半導体結晶と、前記電極に接
続される配線が設けられ、前記半導体結晶と対向して設
けられた基板とを有し、 前記半導体結晶および前記基板の一面が前記コリメータ
側を向いて前記各スリット毎に1つずつ前記X線検出器
が配置され、前記各X線検出器の前記半導体結晶は、隣
接して位置する他の前記X線検出器の前記基板と対向し
おり、 前記コリメータは、一方に突出した複数のブレード及び
ブレード間に形成された溝をそれぞれ有する第1コリメ
ータ部及び第2コリメータ部を備え、前記第1コリメー
タ部の前記ブレードの端面が前記第2コリメータ部の前
記溝の底面に、前記第2コリメータ部の前記ブレードの
端面が前記第1コリメータ部の前記溝の底面に、それぞ
れ接合され、前記第1コリメータ部の前記ブレードと前
記第2コリメータ部の前記ブレードとの間にスリットが
形成されている ことを特徴とするX線CT装置。
With a 1. A X-ray generator, a collimator having a plurality of slits X-rays emitted from said X-ray generator to pass through, the X-ray detector for detecting X-rays passing through the slit A substrate provided with a semiconductor crystal including an electrode, wherein the X-ray detector includes an electrode and generates electrons and holes by X-ray incidence, and a wiring connected to the electrode; And the X-ray detector is arranged one for each slit with one surface of the semiconductor crystal and the substrate facing the collimator side, and the semiconductor crystal of each X-ray detector is adjacent to the X-ray detector. and has the substrate facing the other of said X-ray detector positioned, the collimator has a plurality of blades and projecting into one
First collimators each having a groove formed between the blades
A first collimator, and a second collimator.
The end face of the blade of the data section is in front of the second collimator section.
On the bottom surface of the groove, the blade of the second collimator section
An end face is formed on the bottom surface of the groove of the first collimator portion.
And joined with the blade of the first collimator section.
The slit is formed between the second collimator and the blade.
An X-ray CT apparatus characterized by being formed .
【請求項2】X線発生装置と、前記X線発生装置から放
出されたX線が通過する複数のスリットを有するコリメ
ータと、前記スリットを通過するX線を検出するX線検
出器とを備え、 前記X線検出器が、電極を含みかつX線の入射によって
電子および正孔を発生する半導体結晶と、前記電極に接
続される配線が設けられ、前記半導体結晶と対向して設
けられた基板とを有し、 前記配線が前記半導体結晶と前記基板との間に位置し、
前記半導体結晶および前記基板の一面が前記コリメータ
側を向いて前記各スリット毎に1つずつ前記X線検出器
が配置され、前記各X線検出器の前記半導体結晶は、隣
接して位置する他の前記X線検出器の前記基板と対向し
おり、 前記コリメータは、一方に突出した複数のブレード及び
ブレード間に形成された溝をそれぞれ有する第1コリメ
ータ部及び第2コリメータ部を備え、前記第1コリメー
タ部の前記ブレードの端面が前記第2コリメータ部の前
記溝の底面に、前記第2コリメータ部の前記ブレードの
端面が前記第1コリメータ部の前記溝の底面に、それぞ
れ接合され、前記第1コリメータ部の前記ブレードと前
記第2コリメータ部の前記ブレードとの間にスリットが
形成されている ことを特徴とするX線CT装置。
Provided 2. A X-ray generator, a collimator having a plurality of slits X-rays emitted from said X-ray generator to pass through, the X-ray detector for detecting X-rays passing through the slit A substrate provided with a semiconductor crystal including an electrode, wherein the X-ray detector includes an electrode and generates electrons and holes by X-ray incidence, and a wiring connected to the electrode; And wherein the wiring is located between the semiconductor crystal and the substrate,
The X-ray detectors are arranged one for each slit with one surface of the semiconductor crystal and the substrate facing the collimator side, and the semiconductor crystals of the X-ray detectors are located adjacent to each other. said has the substrate facing the X-ray detector, said collimator has a plurality of blades and projecting into one
First collimators each having a groove formed between the blades
A first collimator, and a second collimator.
The end face of the blade of the data section is in front of the second collimator section.
On the bottom surface of the groove, the blade of the second collimator section
An end face is formed on the bottom surface of the groove of the first collimator portion.
And joined with the blade of the first collimator section.
The slit is formed between the second collimator and the blade.
An X-ray CT apparatus characterized by being formed .
【請求項3】X線発生装置と、前記X線発生装置から放
出されたX線が通過する複数のスリットを有するコリメ
ータと、前記スリットを通過するX線を検出するX線検
出器とを備え、 前記X線検出器が、電極を含みかつX線の入射によって
電子および正孔を発生する半導体結晶と、前記電極に接
続される配線が設けられ、前記半導体結晶と対向して設
けられた基板とを有し、 前記配線が前記半導体結晶と前記基板との間に位置し、
前記半導体結晶および前記基板の一面が前記コリメータ
側を向いて前記各スリット毎に1つずつ前記X線検出器
が配置され、 前記各X線検出器の前記半導体結晶は一方向に長い形状
を有し、この半導体結晶の長手方向が前記スリットから
のX線の出射方向に配置され、前記各X線検出器の前記
半導体結晶は、隣接して位置する他の前記X線検出器の
前記基板と対向しており、 前記コリメータは、一方に突出した複数のブレード及び
ブレード間に形成された溝をそれぞれ有する第1コリメ
ータ部及び第2コリメータ部を備え、前記第1コリメー
タ部の前記ブレードの端面が前記第2コリメータ部の前
記溝の底面に、前記第2コリメータ部の前記ブレードの
端面が前記第1コリメータ部の前記溝の底面に、それぞ
れ接合され、前記第1コリメータ部の前記ブレードと前
記第2コリメータ部の前記ブレードとの間にスリットが
形成されている ことを特徴とするX線CT装置。
3. An X-ray generator, comprising: a collimator having a plurality of slits through which X-rays emitted from the X-ray generator pass; and an X-ray detector for detecting X-rays passing through the slit. A substrate provided with a semiconductor crystal including an electrode, wherein the X-ray detector includes an electrode and generates electrons and holes by X-ray incidence, and a wiring connected to the electrode; And wherein the wiring is located between the semiconductor crystal and the substrate,
The X-ray detectors are arranged one for each slit with one surface of the semiconductor crystal and the substrate facing the collimator side, and the semiconductor crystal of each X-ray detector has a shape elongated in one direction. The longitudinal direction of the semiconductor crystal is arranged in the direction of emission of X-rays from the slit, and the semiconductor crystal of each of the X-ray detectors is in contact with the substrate of another adjacent X-ray detector. Opposed to each other, the collimator has a plurality of blades protruding to one side and
First collimators each having a groove formed between the blades
A first collimator, and a second collimator.
The end face of the blade of the data section is in front of the second collimator section.
On the bottom surface of the groove, the blade of the second collimator section
An end face is formed on the bottom surface of the groove of the first collimator portion.
And joined with the blade of the first collimator section.
The slit is formed between the second collimator and the blade.
An X-ray CT apparatus characterized by being formed .
【請求項4】複数の前記電極が前記半導体結晶の長手方
向に配置された請求項3のX線CT装置。
4. The X-ray CT apparatus according to claim 3, wherein a plurality of said electrodes are arranged in a longitudinal direction of said semiconductor crystal.
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