JP3303454B2 - 半導体製造装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、部品出入口が高清浄度
な作業エリア側に配置され、メンテナンス用の開閉扉が
低清浄度なメンテナンスエリア側に配置されるスルーザ
ウォール型の半導体製造装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、薄膜形成装置やエッチング装置、
さらには各種洗浄装置のような半導体製造装置は、天井
全面にＦＦＵ（ＦＡＮ ＦＩＬＴＥＲ ＵＮＩＴ）等の
クリーンユニットを敷設した、いわゆる大部屋式クリー
ンルームに工程毎に並べて設置され、上記ＦＦＵからの
清浄空気の供給によってクリーンルーム全域が高清浄度
な空間に維持された環境下で稼働していた。しかしなが
ら、クリーンルーム全域を高清浄度な空間に維持するに
は、膨大な設備コストやランニングコストが必要とな
り、これに加えて半導体装置の高集積化や小型化への対
応として、より高い清浄度が要求されるようになってい
ることから、最近では高価なクリーンスペースを有効に
活用するため、製造エリア全体を、オペレータが生産に
従事する作業エリアと、半導体製造装置のメンテナンス
を行うメンテナンスエリアとに区分し、各エリア間をパ
ーティション等で仕切った、いわゆる局所クリーンゾー
ン方式が採用されるようになり、これに適応した種々の
半導体製造装置が開発されている。

【０００３】この種の半導体製造装置は、一般にスルー
ザウォール型（またはインザウォール型）と呼ばれるも
ので、基本的な構成部分としては、図４及び図５に示す
ように、装置本体１内の処理室２に対してウエハ等の半
導体部品を出し入れするための部品出入口３と、装置本
体１の上部に設けられたクリーンユニット４と、メンテ
ナンスを行うための開閉扉５とを備えている。これに対
して、半導体製造装置が設置される製造エリア全体は、
上述したようにＵＬＰＡフィルタ等の高性能フィルタの
採用により０．１μｍ以上の粒子数が１０個／ｍ³ 以下
といった、いわゆる高清浄度な作業エリア６と、例えば
０．５μｍ以上の粒子数が１０００〜１００００個／ｍ
³ 以下といった、いわゆる低清浄度なメンテナンスエリ
ア７とが、パーティション等の仕切り壁８を介して仕切
られており、こうした製造エリアの中で上記半導体製造
装置は、仕切り壁８を介してその部品出入口３が作業エ
リア６側に配置され、その開閉扉５がメンテナンスエリ
ア７側に配置されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、この種の半
導体製造装置では、装置の故障や定期点検などに伴って
メンテナンスが必要になった場合、メンテナンスエリア
７側に配置された開閉扉５を開放して、そこから装置内
の補修作業や点検作業などのメンテナンスを行ってい
た。しかしながら上記従来の半導体製造装置において
は、メンテナンス時に開閉扉を開放すると、図６に示す
ように、メンテナンスエリア７側の空気、すなわち清浄
度の低い空気が、図中矢印で示すように開放された開閉
扉５を介して装置本体１内に流れ込み、これによって装
置本体１の内部（特に処理室２）が汚染されてしまう不
都合があった。このため従来では、メンテナンス終了後
に、処理室２のクリーニングを行って塵埃などの汚染物
を取り除き、さらに装置本体１内の清浄度が規定のレベ
ル（例えば０．１μｍ以上の粒子数が１０個／ｍ³ 以下
の超クリーンレベル）に維持されるまで待ってから装置
の稼働を再開しなければならず、メンテナンス後の装置
の立ち上げに時間がかかるという問題があった。

【０００５】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、メンテナンスに際してメンテナンスエリア
から装置本体への汚染空気の流れ込みを阻止し、これに
よって塵埃等による装置本体内の汚染を防止することが
できる半導体製造装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、装置本体内の処理室に対
して半導体部品を出し入れするための部品出入口と、装
置本体の上部に設けられたクリーンユニットと、メンテ
ナンスを行うための開閉扉とを備え、作業エリアとメン
テナンスエリアとを仕切る仕切り壁を介して、部品出入
口が作業エリア側に配置されるとともに、開閉扉がメン
テナンスエリア側に配置されるスルーザウォール型の半
導体製造装置において、開閉扉を包囲する状態で装置本
体の外側にメンテナンス用の空間を形成する遮蔽幕を具
備したものである。また、上述したクリーンユニット
が、装置本体の上部とメンテナンス用の空間上部との間
で移動自在に構成されたものである。

【０００７】

【作用】本発明の半導体製造装置においては、メンテナ
ンスエリアの中で装置本体の開閉扉が遮蔽幕によって遮
蔽されるとともに、クリーンユニットから吹きつけれた
清浄空気が上記遮蔽幕によって形成されたメンテナンス
用の空間に供給されて、そのまま装置外部に排気される
ようになるため、メンテナンス時には、メンテナンスエ
リアから装置本体内への汚染空気の流れ込みが阻止さ
れ、これにより塵埃等による装置本体内の汚染が確実に
防止される。また、メンテナンス時にクリーンユニット
をメンテナンス用の空間上部に配置することにより、ク
リーンユニットから吹きつけられる清浄空気が遮蔽幕を
介して直にメンテナンス用の空間に供給されるようにな
り、これによって塵埃等による装置本体内の汚染が確実
に防止されるとともに、より高清浄度な環境下でメンテ
ナンスを行うことが可能となる。

【０００８】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら詳細に説明する。なお、本実施例においては、上
記従来例と同様の構成部分に同じ符号を付し、重複する
説明は省略する。図１は本発明に係わる半導体製造装置
の第１実施例を示す断面概略図である。図示した半導体
製造装置において、１は装置本体、２は装置本体１内に
設けられた処理室、４は装置本体１の上部に設けられた
クリーンユニット、５はメンテナンスを行うための開閉
扉であり、これらの基本的な構成部分については上記従
来例と同様である。本第１実施例では、メンテナンスエ
リア７側に配置された開閉扉５を包囲する状態で装置本
体１の外側にメンテナンス用の空間１０を形成する遮蔽
幕１１が具備されている。

【０００９】上述した遮蔽幕１１は、例えば巻取り部１
２によって装置本体１に収納できるようになっており、
メンテナンス時には巻取り部１２から外方に引き出され
ることにより、清浄度の低いメンテナンスエリア７と装
置本体１の開閉扉５とを遮蔽した状態で、メンテナンス
用の空間１０を形成するようになっている。また、遮蔽
幕１１を張設するにあたっては、例えば伸縮自在なサポ
ート枠１３が架設され、このサポート枠１３によって、
巻取り部１２から引き出された遮蔽幕１１が支持される
ようになっている。さらに、遮蔽幕１１の両側部は、例
えば図示せぬファスナー機構によって閉塞されるように
なっている。

【００１０】上記構成からなる本第１実施例の半導体製
造装置では、メンテナンスに際して、まず装置本体１の
外側に遮蔽幕１１によってメンテナンス用の空間１０を
形成して、装置本体１の開閉扉５をメンテナンスエリア
７から遮蔽した状態とし、この状態から開閉扉５を開放
することで、クリーンユニット４から吹きつけられた清
浄空気が、開放状態の開閉扉５を介してメンテナンス用
の空間１０に供給され、さらにグレーチング床１４や遮
蔽幕１１の下を通して装置外部に排気されるようにな
る。したがって、オペレータが開閉扉を開放してメンテ
ナンスを行っている間は、メンテナンス用の空間１０が
クリーンユニット４からの清浄空気の供給によって常に
清浄な状態に維持されるため、メンテナンスに際して
は、従来のようにメンテナンスエリア７の空気が開閉扉
５を介して装置本体１内に流れ込むことがなく、これに
より塵埃等による装置本体１内の汚染が確実に防止され
る。

【００１１】なお、上記第１実施例の構成では、装置本
体１に対して遮蔽幕１１を収納可能に構成し、メンテナ
ンス時に遮蔽幕１１を引き出してメンテナンス用の空間
１０を形成するようにしたが、本発明はこれに限らず、
例えば装置本体１に対して遮蔽幕１１を着脱自在に構成
し、メンテナンス時に遮蔽幕１１を装置本体１に装着し
てメンテナンス用の空間１０を形成するようにしたり、
或いは装置の稼働時やメンテナンス時にかかわらず、常
時、装置本体１に遮蔽幕１１をセットしてメンテナンス
用の空間１０が形成されるように構成してもよい。

【００１２】また、遮蔽幕１１の素材の選定にあたって
は、安易に通常のビニールシートを採用すると、気流の
摩擦によってシート表面に静電気が発生し、遮蔽幕１１
に塵埃などが付着しやすくなるため、例えば、導電性樹
脂からなるシート材や、細い金属線を張り巡らせたシー
ト材を採用して、帯電防止対策を施した方が好適であ
る。

【００１３】図２は本発明に係わる半導体製造装置の第
２実施例を示す断面概略図である。本第２実施例の半導
体製造装置では、上記第１実施例と同様に開閉扉５を包
囲する状態で装置本体１の外側にメンテナンス用の空間
１０を形成する遮蔽幕１１が具備され、これに加えて、
装置本体１に設けられたクリーンユニット４が、装置本
体１の上部とメンテナンス用の空間１０上部との間で移
動自在に構成されている。ここで、クリーンユニット４
を移動自在に構成する具体的な手段としては、例えば、
図示はしないが装置本体１の上部に一対のガイドレール
を取り付けて、このガイドレールにクリーンユニット４
をスライド自在に搭載するなど、種々の態様が考えられ
る。

【００１４】このように本第２実施例の半導体製造装置
では、クリーンユニット４が装置本体１の上部とメンテ
ナンス用の空間１０上部との間で移動自在に構成されて
いるので、メンテナンスに際しては、図２に示すように
クリーンユニット４を矢印方向に引き出して、処理室２
とメンテナンス用の空間１０とに跨がったかたちでクリ
ーンユニット４を配置したり、あるいはメンテナンス用
の空間１０側にクリーンユニット４を配置するようにす
れば、クリーンユニット４から吹きつけられた清浄空気
が遮蔽幕１１を介してメンテナンス用の空間１０に直に
供給されるようになるため、上記本第１実施例の場合に
比べてメンテナンス用の空間１０における空気の置換効
率が高められ、より高清浄度な環境下で装置のメンテナ
ンスを行うことが可能となる。

【００１５】図３は本発明に係わる半導体製造装置の第
３実施例を示す断面概略図である。これは、例えば薄膜
真空装置のように元々装置本体にクリーンユニットが設
けられていないタイプや、クリーンユニットが設けられ
ていてもそこから供給される清浄空気を開閉扉からメン
テナンス用の空間に供給できないようなタイプの半導体
製造装置に適用した例である。すなわち本第３実施例の
半導体製造装置では、メンテナンス専用のクリーンユニ
ット１５が装置本体１の上部に設けられており、このク
リーンユニット１５から供給される清浄空気が、遮蔽幕
１１によって形成されたメンテナンス用の空間１０に供
給されるようになっている。また本第３実施例において
も、メンテナンス専用に設けられたクリーンユニット１
５が装置本体１の上部とメンテナンス用の空間１０上部
との間で移動自在に構成され、これによりメンテナンス
時にはメンテナンス用の空間１０の上部から直に清浄空
気を供給できるようになっている。

【００１６】したがって本第３実施例の半導体製造装置
においても、クリーンユニット１５から吹きつけられた
清浄空気が、開放状態の開閉扉５や遮蔽幕１１を介して
メンテナンス用の空間１０に供給されるため、メンテナ
ンスエリア７から装置本体１内への汚染空気の流れ込み
が阻止されて、塵埃等による装置本体１内の汚染が確実
に防止されるとともに、クリーンユニット１５から吹き
つけられた清浄空気を直にメンテナンス用の空間１０に
供給できるため、より高清浄度な環境下でメンテナンス
を行うことが可能となる。

【００１７】

【発明の効果】以上、説明したように本発明の半導体製
造装置によれば、メンテナンスエリアと装置本体の開閉
扉とが遮蔽幕によって遮蔽されるとともに、クリーンユ
ニットから吹きつけられた空気が、遮蔽幕によって形成
されるメンテナンス用の空間に供給されるため、メンテ
ナンスに際しては、開閉扉を開放してもメンテナンスエ
リア内の汚染空気が開閉扉から装置本体内に流れ込むこ
とがなく、これにより塵埃等による装置本体内の汚染を
確実に防止することが可能となる。また、クリーンユニ
ットをメンテナンス用の空間上部に配置することによ
り、クリーンユニットから吹きつけられた清浄空気が直
にメンテナンス用の空間に供給されるようになるため、
より高清浄度な環境下でメンテナンスを行うことが可能
となる。その結果、メンテナンス終了後は、非常に短時
間で装置本体内の清浄度を規定のレベル以上に維持し
て、装置の稼働を再開することができるため、半導体製
造装置の稼働率の向上が図られるとともに、メンテナン
スに伴う装置本体内の汚染が殆どなくなるため、これに
起因した不良の発生が解消されて製品歩留りの向上も期
待できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わる半導体製造装置の第１実施例を
示す断面概略図である。

【図２】本発明に係わる半導体製造装置の第２実施例を
示す断面概略図である。

【図３】本発明に係わる半導体製造装置の第３実施例を
示す断面概略図である。

【図４】従来の半導体製造装置を説明する側面概略図で
ある。

【図５】従来の半導体製造装置を説明する平面概略図で
ある。

【図６】従来装置の問題を説明する図である。

【符号の説明】

１ 装置本体 ２ 処理室 ３ 部品出入口 ４，１５ クリーンユニット ５ 開閉扉 ６ 作業エリア ７ メンテナンスエリア １０ メンテナンス用の空間 １１ 遮蔽幕

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/02 F24F 7/06

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 装置本体内の処理室に対して半導体部品
   を出し入れするための部品出入口と、前記装置本体の上
   部に設けられたクリーンユニットと、メンテナンスを行
   うための開閉扉とを備え、作業エリアとメンテナンスエ
   リアとを仕切る仕切り壁を介して、前記部品出入口が前
   記作業エリア側に配置されるとともに、前記開閉扉が前
   記メンテナンスエリア側に配置されるスルーザウォール
   型の半導体製造装置において、 前記開閉扉を包囲する状態で前記装置本体の外側にメン
   テナンス用の空間を形成する遮蔽幕を具備したことを特
   徴とする半導体製造装置。
2. 【請求項２】 前記クリーンユニットは、前記装置本体
   の上部と前記メンテナンス用の空間上部との間で移動自
   在に構成されていることを特徴とする請求項１記載の半
   導体製造装置。