JP3303336B2 - 磁気ディスク装置 - Google Patents
磁気ディスク装置Info
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- magnetic
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/4806—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed specially adapted for disk drive assemblies, e.g. assembly prior to operation, hard or flexible disk drives
- G11B5/484—Integrated arm assemblies, e.g. formed by material deposition or by etching from single piece of metal or by lamination of materials forming a single arm/suspension/head unit
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/54—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head into or out of its operative position or across tracks
- G11B5/55—Track change, selection or acquisition by displacement of the head
- G11B5/5521—Track change, selection or acquisition by displacement of the head across disk tracks
Landscapes
- Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
- Moving Of Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，磁気ディスク装置に関
するもので，特に小形・大容量・高速アクセスに最適な
磁気ディスク装置およびこれに使用する磁気ヘッド支持
装置に関するものである。
するもので，特に小形・大容量・高速アクセスに最適な
磁気ディスク装置およびこれに使用する磁気ヘッド支持
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気ディスク装置においては、小
形化，大容量化，高速アクセス化と高信頼性の確保が強
く要求されている。これを実現するために、種々の提案
がなされている。特に、磁気ディスク装置の小形化を達
成するために、磁気ディスクの径の小形化と共に磁気デ
ィスクの積層間隔が狭小化されている。最新の３．５イ
ンチの磁気ディスク装置では、その間隔が３ｍｍのもの
が市販されている。これに伴い、磁気ヘッド支持装置が
急激に小形化されている。その小形化の一例として、特
開平２−２２６５１２号公報に開示されているように、
磁気ヘッドが搭載されるスライダを膜形成プロセスによ
り、直接サスペンションの面上に形成する方法が提案さ
れている。
形化，大容量化，高速アクセス化と高信頼性の確保が強
く要求されている。これを実現するために、種々の提案
がなされている。特に、磁気ディスク装置の小形化を達
成するために、磁気ディスクの径の小形化と共に磁気デ
ィスクの積層間隔が狭小化されている。最新の３．５イ
ンチの磁気ディスク装置では、その間隔が３ｍｍのもの
が市販されている。これに伴い、磁気ヘッド支持装置が
急激に小形化されている。その小形化の一例として、特
開平２−２２６５１２号公報に開示されているように、
磁気ヘッドが搭載されるスライダを膜形成プロセスによ
り、直接サスペンションの面上に形成する方法が提案さ
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来技術におい
ては、スライダとサスペンションとを異なる材質で形成
している。すなわち、サスペンションはスライダを支持
するためのばね構造にする必要性から、一般的に金属材
で構成され、一方、スライダは磁気デイスクとの接触と
の関連により、耐摺動性の材料を使用するのが通常であ
った。
ては、スライダとサスペンションとを異なる材質で形成
している。すなわち、サスペンションはスライダを支持
するためのばね構造にする必要性から、一般的に金属材
で構成され、一方、スライダは磁気デイスクとの接触と
の関連により、耐摺動性の材料を使用するのが通常であ
った。
【０００４】このため、上記の従来技術のように、サス
ペンションに膜形成プロセスによりスライダを成形する
構成においては、スライダとサスペンションとの結合強
度の問題（異材質の結合強度問題）に付いて検討されて
いないため、スライダと磁気ディスクとの接触によるス
ライダの脱落の問題があった。また、スライダとサスペ
ンションとの異種材質に伴う熱膨張差などによるスライ
ダの変形が発生しやすく、スライダの浮上特性に悪影響
を及ぼす危険性があった。さらに、現在の膜形成プロセ
スでは、スライダの浮上面に必要とされるサスペンショ
ンからの厚さ（高さ）を確保しながら、平面粗さを１０
ｎｍ以下を達成することは難しいため、スライダの機能
を十分に発揮することができず、磁気デイスクの高信頼
性を確保することができないという問題があった。
ペンションに膜形成プロセスによりスライダを成形する
構成においては、スライダとサスペンションとの結合強
度の問題（異材質の結合強度問題）に付いて検討されて
いないため、スライダと磁気ディスクとの接触によるス
ライダの脱落の問題があった。また、スライダとサスペ
ンションとの異種材質に伴う熱膨張差などによるスライ
ダの変形が発生しやすく、スライダの浮上特性に悪影響
を及ぼす危険性があった。さらに、現在の膜形成プロセ
スでは、スライダの浮上面に必要とされるサスペンショ
ンからの厚さ（高さ）を確保しながら、平面粗さを１０
ｎｍ以下を達成することは難しいため、スライダの機能
を十分に発揮することができず、磁気デイスクの高信頼
性を確保することができないという問題があった。
【０００５】本発明の目的は、高信頼性の確保を実現す
ることができる磁気ディスク装置を提供するものでああ
る。
ることができる磁気ディスク装置を提供するものでああ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の１つの発明は、
磁気ディスクに磁気ヘッドにより情報の記録もしくは再
生を行う磁気ディスク装置において、前記磁気ヘッドを
備えるスライダと、このスライダを支持する可撓部と、
この可撓部に接続する支持部とを、同一材から一体に形
成した磁気ヘッド支持部と、この磁気ヘッド支持部を駆
動する駆動装置とを備えたことを特徴とする磁気ディス
ク装置にある。
磁気ディスクに磁気ヘッドにより情報の記録もしくは再
生を行う磁気ディスク装置において、前記磁気ヘッドを
備えるスライダと、このスライダを支持する可撓部と、
この可撓部に接続する支持部とを、同一材から一体に形
成した磁気ヘッド支持部と、この磁気ヘッド支持部を駆
動する駆動装置とを備えたことを特徴とする磁気ディス
ク装置にある。
【０００７】また、本発明のもう１つの発明は、磁気デ
ィスクに磁気ヘッドにより情報の記録もしくは再生を行
う磁気ディスク装置において、前記磁気ディスクの記録
面に対向するように配置した支持部と、この支持部にこ
れと一体に形成される磁気ヘッドを備える複数のスライ
ダと、これらのスライダをそれぞれ支持する複数の可撓
部からなる磁気ヘッド支持部と、この磁気ヘッド支持部
を駆動する駆動装置とを備えたことを特徴とする磁気デ
ィスク装置にある。
ィスクに磁気ヘッドにより情報の記録もしくは再生を行
う磁気ディスク装置において、前記磁気ディスクの記録
面に対向するように配置した支持部と、この支持部にこ
れと一体に形成される磁気ヘッドを備える複数のスライ
ダと、これらのスライダをそれぞれ支持する複数の可撓
部からなる磁気ヘッド支持部と、この磁気ヘッド支持部
を駆動する駆動装置とを備えたことを特徴とする磁気デ
ィスク装置にある。
【０００８】さらに、本発明のもう１つの発明は、磁気
ディスクに磁気ヘッドにより情報の記録もしくは再生を
行う磁気ディスク装置において、前記磁気ヘッドを備え
るスライダと、このスライダを支持する可撓部と、この
可撓部に接続する支持部とを、同一材から一体に形成し
た磁気ヘッド支持部を備えたことを特徴とする磁気ヘッ
ド支持装置にある。
ディスクに磁気ヘッドにより情報の記録もしくは再生を
行う磁気ディスク装置において、前記磁気ヘッドを備え
るスライダと、このスライダを支持する可撓部と、この
可撓部に接続する支持部とを、同一材から一体に形成し
た磁気ヘッド支持部を備えたことを特徴とする磁気ヘッ
ド支持装置にある。
【０００９】また、本発明のもう１つの発明は、磁気デ
ィスクに磁気ヘッドにより情報の記録もしくは再生を行
う磁気ディスク装置において、前記磁気ディスクの記録
面に対向するように配置した支持部と、この支持部にこ
れと一体に形成される磁気ヘッドを備える複数のスライ
ダと、これらのスライダをそれぞれ支持する複数の可撓
部とを備えたことを特徴とする磁気ヘッド支持装置にあ
る。
ィスクに磁気ヘッドにより情報の記録もしくは再生を行
う磁気ディスク装置において、前記磁気ディスクの記録
面に対向するように配置した支持部と、この支持部にこ
れと一体に形成される磁気ヘッドを備える複数のスライ
ダと、これらのスライダをそれぞれ支持する複数の可撓
部とを備えたことを特徴とする磁気ヘッド支持装置にあ
る。
【００１０】
【作用】上述のように磁気ヘッド支持装置を一枚の薄板
材から一体成形することができるので、磁気ヘッド支持
装置を高精度かつ小形化にすることが可能になると共
に、その生産性を高めることができる。これにより、磁
気デイスク装置の高信頼性を確保することができる。
材から一体成形することができるので、磁気ヘッド支持
装置を高精度かつ小形化にすることが可能になると共
に、その生産性を高めることができる。これにより、磁
気デイスク装置の高信頼性を確保することができる。
【００１１】
【実施例】本発明の第１の実施例を図１から図６を用い
て説明する。
て説明する。
【００１２】図１は本発明の装置の第１の実施例の構成
を示すもので、この図１において、スピンドル１にはデ
−タを記憶するための磁気ディスク２が積層されてい
る。磁気ディスク２間にデ−タを書き込み／読みだしす
るための磁気ヘッド（図示せず）を搭載したスライダ３
が挿入されている。スライダ３はスライダ支持機構４に
より支持されている。スライダ支持機構４は磁気ヘッド
を磁気ディスク２の所定の半径位置に移動させ、位置決
めするための位置決め機構５に連接されている。位置決
め機構５は，リニア形アクチュエ−タと一般に呼ばれて
いる方式のもので、磁気ヘッドを磁気ディスク２の半径
方向に直線的（リニア）に移動させて、所定の半径位置
に位置決めする。位置決め機構５は駆動力を発生させる
ボイスコイルモ−タ、キャスタ−５３とガイドレ−ル５
４から構成されている。ガイドレ−ル５４は位置決め機
構支持台５５によりベ−ス６に固定されている。ボイス
コイルモ−タは磁石５１とコイル５２からなる。位置決
め機構制御手段（図示せず）は、磁気ヘッドからの電気
信号をフィ−ドバックしてコイル５２に流す電流をコン
トロ−ルすることにより、磁気ヘッドを所定の半径位置
に位置決めする。
を示すもので、この図１において、スピンドル１にはデ
−タを記憶するための磁気ディスク２が積層されてい
る。磁気ディスク２間にデ−タを書き込み／読みだしす
るための磁気ヘッド（図示せず）を搭載したスライダ３
が挿入されている。スライダ３はスライダ支持機構４に
より支持されている。スライダ支持機構４は磁気ヘッド
を磁気ディスク２の所定の半径位置に移動させ、位置決
めするための位置決め機構５に連接されている。位置決
め機構５は，リニア形アクチュエ−タと一般に呼ばれて
いる方式のもので、磁気ヘッドを磁気ディスク２の半径
方向に直線的（リニア）に移動させて、所定の半径位置
に位置決めする。位置決め機構５は駆動力を発生させる
ボイスコイルモ−タ、キャスタ−５３とガイドレ−ル５
４から構成されている。ガイドレ−ル５４は位置決め機
構支持台５５によりベ−ス６に固定されている。ボイス
コイルモ−タは磁石５１とコイル５２からなる。位置決
め機構制御手段（図示せず）は、磁気ヘッドからの電気
信号をフィ−ドバックしてコイル５２に流す電流をコン
トロ−ルすることにより、磁気ヘッドを所定の半径位置
に位置決めする。
【００１３】ここで、スライダ３とスライダ支持機構４
は、１枚の同一のＳｉウエハ等の薄板から連続的に形成
されている。
は、１枚の同一のＳｉウエハ等の薄板から連続的に形成
されている。
【００１４】前述したスライダ３部分の拡大図を図２に
示す。この図２において、スライダ３はテ−パ部３２と
フラット部３３からなる２本の浮上用レ−ル３４とブリ
−ド３５部から成り、浮上用レ−ル３４の後方端面３６
に磁気ヘッド３１を搭載している。スライダ３は可撓性
部４１であるジンバル４２，４３によりに支持され、剛
性部４２に連接されている。スライダ３とジンバル４
２，４３及び剛性部４４は同一材料から連続的に形成さ
れており、各部材の間には窓４５が設けられている。ス
ライダ３は磁気ディスク２との相対運動により、動圧空
気軸受の原理を応用して、浮上用レ−ル３４で静的圧力
を増加させて、磁気ディスク２の面に浮上する。可撓性
部材４１であるジンバル４２，４３はスライダ浮上面
（浮上用レ−ル３４の面）の面外方向の運動（浮上面に
対し直角方向の成分を持つ上下，ピッチング，ロ−リン
グ運動）を許容し、かつスライダ３の浮上面の面内方向
の運動（浮上面と平行のヨ−イング運動）を拘束する。
示す。この図２において、スライダ３はテ−パ部３２と
フラット部３３からなる２本の浮上用レ−ル３４とブリ
−ド３５部から成り、浮上用レ−ル３４の後方端面３６
に磁気ヘッド３１を搭載している。スライダ３は可撓性
部４１であるジンバル４２，４３によりに支持され、剛
性部４２に連接されている。スライダ３とジンバル４
２，４３及び剛性部４４は同一材料から連続的に形成さ
れており、各部材の間には窓４５が設けられている。ス
ライダ３は磁気ディスク２との相対運動により、動圧空
気軸受の原理を応用して、浮上用レ−ル３４で静的圧力
を増加させて、磁気ディスク２の面に浮上する。可撓性
部材４１であるジンバル４２，４３はスライダ浮上面
（浮上用レ−ル３４の面）の面外方向の運動（浮上面に
対し直角方向の成分を持つ上下，ピッチング，ロ−リン
グ運動）を許容し、かつスライダ３の浮上面の面内方向
の運動（浮上面と平行のヨ−イング運動）を拘束する。
【００１５】前述したスライダ３部分の構成を図３およ
び図４を用いて説明する。まず、図３において、上述し
たように、スライダ３は可撓性部のジンバル４２，４３
により支持されており、剛性部４４に連接されている。
これらは、同一材から連続的に形成されている。スライ
ダ３の浮上用レ−ル３４は、剛性部４４の上面４７より
突出して成形されている。また、スライダ３のブリ−ド
部３５は浮上用レ−ル３４のテ−パ部３２及びフラット
部３３から、スライダ３の背面３６の方向に段差を設け
て形成されている。そして、スライダ３の背面３６には
ジンバル４２がスライダ３と連続的に形成され、ジンバ
ル４２は同様に同一材から連続的に形成されたジンバル
４３を介して剛性部４４に連接されている。さらに、ス
ライダ支持機構４には、貫通窓が設けられており、ジン
バルにより上窓４５と下窓４６の２つの窓に分割されて
いる。
び図４を用いて説明する。まず、図３において、上述し
たように、スライダ３は可撓性部のジンバル４２，４３
により支持されており、剛性部４４に連接されている。
これらは、同一材から連続的に形成されている。スライ
ダ３の浮上用レ−ル３４は、剛性部４４の上面４７より
突出して成形されている。また、スライダ３のブリ−ド
部３５は浮上用レ−ル３４のテ−パ部３２及びフラット
部３３から、スライダ３の背面３６の方向に段差を設け
て形成されている。そして、スライダ３の背面３６には
ジンバル４２がスライダ３と連続的に形成され、ジンバ
ル４２は同様に同一材から連続的に形成されたジンバル
４３を介して剛性部４４に連接されている。さらに、ス
ライダ支持機構４には、貫通窓が設けられており、ジン
バルにより上窓４５と下窓４６の２つの窓に分割されて
いる。
【００１６】さらに、図４にからも分かるように、スラ
イダ３の浮上面は剛性４４の部上面より突出しており、
スライダ３の背面３６はジンバル４２と連続的に成形さ
れている。
イダ３の浮上面は剛性４４の部上面より突出しており、
スライダ３の背面３６はジンバル４２と連続的に成形さ
れている。
【００１７】図２から図４を用いて、スライダ３及びス
ライダ支持機構４を詳細に説明したが、次にこれらの製
作方法を簡単に説明すると共に、この本発明の第１実施
例の特有の効果を述べる。
ライダ支持機構４を詳細に説明したが、次にこれらの製
作方法を簡単に説明すると共に、この本発明の第１実施
例の特有の効果を述べる。
【００１８】この本発明の第１実施例では、スライダ３
及びスライダ支持機構４は１枚のＳｉウエハから、エッ
チング加工の１つであるイオンミ−リング法を用いて連
続的に成形する。イオンミ−リング法は、加工面にイオ
ン原子（あるいは分子）を照射して加工（エッチング）
していく方法で、加工不要な面にはレジストと呼ばれる
被膜を形成して加工を防ぐことができる。レジストはＬ
ＳＩなどに広く使われているリソグラフィの技術を用い
て、被加工物上に高精度に、しかも容易に製作できる。
また、その形状に制約がないために、任意の形状のレジ
ストを成形できる。また、複数のレジストを組み合わせ
て、立体的な（３次元の）加工が可能であることが、Ｖ
ＬＳＩなどの加工から広く知られている。また、エッチ
ングの精度は高く、エッチング時間，温度，雰囲気中の
ガス成分，電圧などをコントロ−ルすることのより、加
工精度をミクロン（μｍ）レベルで実現することが可能
となる。
及びスライダ支持機構４は１枚のＳｉウエハから、エッ
チング加工の１つであるイオンミ−リング法を用いて連
続的に成形する。イオンミ−リング法は、加工面にイオ
ン原子（あるいは分子）を照射して加工（エッチング）
していく方法で、加工不要な面にはレジストと呼ばれる
被膜を形成して加工を防ぐことができる。レジストはＬ
ＳＩなどに広く使われているリソグラフィの技術を用い
て、被加工物上に高精度に、しかも容易に製作できる。
また、その形状に制約がないために、任意の形状のレジ
ストを成形できる。また、複数のレジストを組み合わせ
て、立体的な（３次元の）加工が可能であることが、Ｖ
ＬＳＩなどの加工から広く知られている。また、エッチ
ングの精度は高く、エッチング時間，温度，雰囲気中の
ガス成分，電圧などをコントロ−ルすることのより、加
工精度をミクロン（μｍ）レベルで実現することが可能
となる。
【００１９】このエッチング加工を用いて、スライダ３
及びスライダ支持機構４をミクロン（μｍ）レベルの高
精度で小形化することが可能となる。
及びスライダ支持機構４をミクロン（μｍ）レベルの高
精度で小形化することが可能となる。
【００２０】具体的には、従来の小形スライダ形状は、
長さが３ｍｍ、幅が２．４ｍｍ、高さが０．６４ｍｍで
ある。一般に、このサイズのスライダはマイクロスライ
ダと呼ばれているが、浮上用レ−ルのレ−ル幅は０．２
〜０．５ｍｍであり、その加工精度は機械加工を用いて
いたために数十ミクロン（μｍ）レベルであり、機械加
工の限界に達していた。その一方で、スライダ及びスラ
イダ支持機構の小形化が強く要求され、スライダの形状
は、過去のトレンドからも今後更なる小形化が必須であ
る。具体的にはナノスライダ、あるいは、ピコスライダ
（全長１ミリ以下）と呼ばれる超小形スライダの開発が
重要な技術課題と成っている。ピコスライダを実現する
ためにはレ−ル幅をミクロン（μｍ）レベル、あるいは
それ以下の高精度加工を行わなければならない。このよ
うな超小形スライダを製作することは機械加工では困難
であると考えられる。
長さが３ｍｍ、幅が２．４ｍｍ、高さが０．６４ｍｍで
ある。一般に、このサイズのスライダはマイクロスライ
ダと呼ばれているが、浮上用レ−ルのレ−ル幅は０．２
〜０．５ｍｍであり、その加工精度は機械加工を用いて
いたために数十ミクロン（μｍ）レベルであり、機械加
工の限界に達していた。その一方で、スライダ及びスラ
イダ支持機構の小形化が強く要求され、スライダの形状
は、過去のトレンドからも今後更なる小形化が必須であ
る。具体的にはナノスライダ、あるいは、ピコスライダ
（全長１ミリ以下）と呼ばれる超小形スライダの開発が
重要な技術課題と成っている。ピコスライダを実現する
ためにはレ−ル幅をミクロン（μｍ）レベル、あるいは
それ以下の高精度加工を行わなければならない。このよ
うな超小形スライダを製作することは機械加工では困難
であると考えられる。
【００２１】また、可撓性部材の剛性は、スライダの小
形化と共に、低下させる必要があり、マイクロスライダ
のジンバル厚さは５０〜７０μｍであることから、ピコ
スライダでは２０μｍ以下に薄肉化することが必須と考
えられる。このように薄肉化すると、従来のように別部
材で形成し、スライダ，サスペンションに組み立ててい
ては、組立て時のジンバルの変形、取扱の困難さから生
産性が著しく低下し、量産化できない。
形化と共に、低下させる必要があり、マイクロスライダ
のジンバル厚さは５０〜７０μｍであることから、ピコ
スライダでは２０μｍ以下に薄肉化することが必須と考
えられる。このように薄肉化すると、従来のように別部
材で形成し、スライダ，サスペンションに組み立ててい
ては、組立て時のジンバルの変形、取扱の困難さから生
産性が著しく低下し、量産化できない。
【００２２】前述したように、ジンバルの剛性が高い
と、スライダの自由な運動を拘束しディスクうねり、あ
るいは振動に追従することができないため、スライダの
安定低浮上化を実現できない。また、ジンバルとスライ
ダとを別部材で形成すると、温度変化により、スライダ
の浮上面が変化し、浮上量変動を発生するという問題も
あった。
と、スライダの自由な運動を拘束しディスクうねり、あ
るいは振動に追従することができないため、スライダの
安定低浮上化を実現できない。また、ジンバルとスライ
ダとを別部材で形成すると、温度変化により、スライダ
の浮上面が変化し、浮上量変動を発生するという問題も
あった。
【００２３】さらに、スライダの浮上姿勢と浮上特性に
大きな影響を及ぼすスライダとジンバルの位置決め精度
はマイクロスライダの場合約±５０μｍであるが、ピコ
スライダでは±２０μｍ程度には高精度化が必要と考え
られる。
大きな影響を及ぼすスライダとジンバルの位置決め精度
はマイクロスライダの場合約±５０μｍであるが、ピコ
スライダでは±２０μｍ程度には高精度化が必要と考え
られる。
【００２４】上記のような技術課題は、本発明の第１実
施例のような、スライダ３とスライダ支持機構４を同一
材からエッチングなどにより連続的に成形することによ
り解決することができる。換言すれば、スライダ３とス
ライダ支持機構４を同一材料から連続的に成形すること
により、エッチングなどを用いた高精度微細加工が可能
と成り、スライダ３の小形化、ジンバル４３の薄形化及
びスライダ３への高精度取付けが可能となる。また、ス
ライダ支持機構４全体の小形化が可能となる。さらに、
異種材料による熱膨張率の差に起因するスライダ３の変
形を無くすることが可能となる。そして、組立て、治
具、工程が不要となるために生産性を向上させることが
できる。
施例のような、スライダ３とスライダ支持機構４を同一
材からエッチングなどにより連続的に成形することによ
り解決することができる。換言すれば、スライダ３とス
ライダ支持機構４を同一材料から連続的に成形すること
により、エッチングなどを用いた高精度微細加工が可能
と成り、スライダ３の小形化、ジンバル４３の薄形化及
びスライダ３への高精度取付けが可能となる。また、ス
ライダ支持機構４全体の小形化が可能となる。さらに、
異種材料による熱膨張率の差に起因するスライダ３の変
形を無くすることが可能となる。そして、組立て、治
具、工程が不要となるために生産性を向上させることが
できる。
【００２５】さらに，エッチング加工により，スライ
ダ，ジンバルと剛性部を同一材から連続的に成形できる
ように，スライダ，ジンバルと剛性部の形状を適正化し
ている。具体的には，図２に示すように，スライダ３の
浮上用レ−ルフラット部３３に垂直な方向に，スライ
ダ，ジンバルと剛性部を投影したときに，各々の部材の
投影図はお互いに重なりあうことが無いような形状とし
ている。さらに詳細な説明をすると，スライダを浮上用
レ−ルフラット部３３に垂直な方向に投影した場合に，
スライダ３の投影図と剛性部４４の投影図が重なること
が無い。同様に，陣場る４２，４３を上記と同様に投影
した場合にも，ジンバル４２，４３と剛性部４４が重な
ることは無い。事実，図４，図３からわかるように，ス
ライダ３を浮上用レ−ルフラット部３３に垂直方向に投
影した場合に，スライダ３の投影図がジンバル４２及び
剛性部４４の投影図と重なることは無い。また，ジンバ
ル４２を上記と同様に投影した場合に，ジンバルの投影
図が剛性部４４の投影図と重なることは無い。
ダ，ジンバルと剛性部を同一材から連続的に成形できる
ように，スライダ，ジンバルと剛性部の形状を適正化し
ている。具体的には，図２に示すように，スライダ３の
浮上用レ−ルフラット部３３に垂直な方向に，スライ
ダ，ジンバルと剛性部を投影したときに，各々の部材の
投影図はお互いに重なりあうことが無いような形状とし
ている。さらに詳細な説明をすると，スライダを浮上用
レ−ルフラット部３３に垂直な方向に投影した場合に，
スライダ３の投影図と剛性部４４の投影図が重なること
が無い。同様に，陣場る４２，４３を上記と同様に投影
した場合にも，ジンバル４２，４３と剛性部４４が重な
ることは無い。事実，図４，図３からわかるように，ス
ライダ３を浮上用レ−ルフラット部３３に垂直方向に投
影した場合に，スライダ３の投影図がジンバル４２及び
剛性部４４の投影図と重なることは無い。また，ジンバ
ル４２を上記と同様に投影した場合に，ジンバルの投影
図が剛性部４４の投影図と重なることは無い。
【００２６】上述したヘッド支持機構の形状とすること
により，リソグラフィを用いたエッチング加工で，スラ
イダ，ジンバルと剛性部を同一材から連続的に成形でき
る。なお，本実施例で示したスライダ支持機構の形状は
一例であり，上述したような形状だけに限らない。具体
的には，浮上用レ−ルのフラット部に垂直方向にスライ
ダ，ジンバル，剛性部を投影したときに，各々の部材の
投影図がお互いに重なることが無いように成形すれば良
い。 さらに，スライダ支持機構（スライダ，ジンバル
と剛性部）をエッチングによりＳｉウエハから連続的に
成形することにより，機械加工・組立により発生する傷
（クラックなど），機械的変形（組成変形）が無くな
り，Ｓｉ材でも一般的な金属材料と同程度の機械強度を
実現することができる。具体的には，ヤング率Ｅ＝１７
０ＧＰ程度を実現できる（（１，０，０）の結晶構
造）。これにより，従来，ジンバルと剛性部は金属材料
（ステンレス材）から形成されていたが，Ｓｉ材からも
成形が可能となる。本実施例では，Ｓｉウエハを用いた
が，エッチング加工により一般的なセラッミクス材から
でも，スライダ支持機構の製作が可能である。
により，リソグラフィを用いたエッチング加工で，スラ
イダ，ジンバルと剛性部を同一材から連続的に成形でき
る。なお，本実施例で示したスライダ支持機構の形状は
一例であり，上述したような形状だけに限らない。具体
的には，浮上用レ−ルのフラット部に垂直方向にスライ
ダ，ジンバル，剛性部を投影したときに，各々の部材の
投影図がお互いに重なることが無いように成形すれば良
い。 さらに，スライダ支持機構（スライダ，ジンバル
と剛性部）をエッチングによりＳｉウエハから連続的に
成形することにより，機械加工・組立により発生する傷
（クラックなど），機械的変形（組成変形）が無くな
り，Ｓｉ材でも一般的な金属材料と同程度の機械強度を
実現することができる。具体的には，ヤング率Ｅ＝１７
０ＧＰ程度を実現できる（（１，０，０）の結晶構
造）。これにより，従来，ジンバルと剛性部は金属材料
（ステンレス材）から形成されていたが，Ｓｉ材からも
成形が可能となる。本実施例では，Ｓｉウエハを用いた
が，エッチング加工により一般的なセラッミクス材から
でも，スライダ支持機構の製作が可能である。
【００２７】スライダ３を小形化すると、磁気ディスク
２のうねりあるいは振動に対する浮上量変動が低減する
ため、安定低浮上化が可能となる。安定浮上を実現する
ことにより、高信頼性を、また、低浮上化により高記録
密度化かを実現できる。小形化に伴う、軽量化により高
速アクセスと高精度位置決めが可能となる。さらに、ス
ライダ３が小形化することにより、磁気ディスク装置の
小形化が可能になり、装置の大容量化が実現できる。
２のうねりあるいは振動に対する浮上量変動が低減する
ため、安定低浮上化が可能となる。安定浮上を実現する
ことにより、高信頼性を、また、低浮上化により高記録
密度化かを実現できる。小形化に伴う、軽量化により高
速アクセスと高精度位置決めが可能となる。さらに、ス
ライダ３が小形化することにより、磁気ディスク装置の
小形化が可能になり、装置の大容量化が実現できる。
【００２８】そして、小形化により、スライダ３と磁気
ディスク２が接触した場合にも、接触時の衝撃を低減す
ることができるために、高信頼性を実現することができ
る。
ディスク２が接触した場合にも、接触時の衝撃を低減す
ることができるために、高信頼性を実現することができ
る。
【００２９】前述した本発明の磁気ディスク装置の一実
施例におけるスライダ３の使用形態を図５および図６を
用いて説明する。図５に示すように、磁気ディスク２が
所定の回転数に達したときに、スライダ３の浮上用レ−
ル３４のテ−パ部３２とフラット部３３は、動圧空気軸
受の原理を利用して、微小化空気膜を形成し（圧力を大
気圧力より増加させ）、回転する磁気ディスク２上に浮
上する。スライダ３の後方端面３６には磁気ヘッド３１
がフラット部３３と同一面になるように搭載されてい
る。磁気ヘッド３１と磁気ディスク２との距離は、一般
に浮上量ｈ2と呼ばれている。この浮上量は記録密度の
向上と共に狭小化されており、最新の磁気ディスク装置
では約０．１μｍのものも開発されつつある。この浮上
量は、記録の高密度化と共に狭小化されている。この狭
小化のために、スライダ３は小形化されており、本実施
例により、スライダ３はさらに小形化が可能と成り、低
浮上化による記録密度の向上が可能となる。また、図６
に示すように、磁気ディスク２が静止時の状態のとき
に、スライダ３と磁気ディスク２は接触している。すな
わち、このスライダ３の動作方式はコンタクト・スタ−
ト・ストップ（ＣＳＳと略される）と呼ばれている。
施例におけるスライダ３の使用形態を図５および図６を
用いて説明する。図５に示すように、磁気ディスク２が
所定の回転数に達したときに、スライダ３の浮上用レ−
ル３４のテ−パ部３２とフラット部３３は、動圧空気軸
受の原理を利用して、微小化空気膜を形成し（圧力を大
気圧力より増加させ）、回転する磁気ディスク２上に浮
上する。スライダ３の後方端面３６には磁気ヘッド３１
がフラット部３３と同一面になるように搭載されてい
る。磁気ヘッド３１と磁気ディスク２との距離は、一般
に浮上量ｈ2と呼ばれている。この浮上量は記録密度の
向上と共に狭小化されており、最新の磁気ディスク装置
では約０．１μｍのものも開発されつつある。この浮上
量は、記録の高密度化と共に狭小化されている。この狭
小化のために、スライダ３は小形化されており、本実施
例により、スライダ３はさらに小形化が可能と成り、低
浮上化による記録密度の向上が可能となる。また、図６
に示すように、磁気ディスク２が静止時の状態のとき
に、スライダ３と磁気ディスク２は接触している。すな
わち、このスライダ３の動作方式はコンタクト・スタ−
ト・ストップ（ＣＳＳと略される）と呼ばれている。
【００３０】前述した浮上用レ−ル３４には、スライダ
３の保護膜として、Ｓｉの酸化被膜（ＳｉＯ2）が形成
されている。これにより、スライダ３と磁気ディスク２
とが磁気ディスク装置稼働中に間歇接触した場合にも、
スライダ３と磁気ディスク２との接触により、スライダ
３の浮上面が摩耗し浮上特性が変化することにより、磁
気ディスク２との連続接触が発生して、磁気ディスク２
のデ−タを破損する問題は無くなり、信頼性を向上させ
ることができる。
３の保護膜として、Ｓｉの酸化被膜（ＳｉＯ2）が形成
されている。これにより、スライダ３と磁気ディスク２
とが磁気ディスク装置稼働中に間歇接触した場合にも、
スライダ３と磁気ディスク２との接触により、スライダ
３の浮上面が摩耗し浮上特性が変化することにより、磁
気ディスク２との連続接触が発生して、磁気ディスク２
のデ−タを破損する問題は無くなり、信頼性を向上させ
ることができる。
【００３１】本実施例では、加工性に優れ、機械特性上
も金属と比較しても遜色の無いＳｉを用いたが、耐摺動
特性に優れたＳｉＣ，ＳｉＯ2，Ｓｉ2Ｎ4，Ａｌ2Ｏ3Ｔ
ｉＣ，Ａｌ2Ｏ3ＴｉＯ2，ＺｒＯ2，Ｆｅ−ＭｎＺｎを用
いてもよい。
も金属と比較しても遜色の無いＳｉを用いたが、耐摺動
特性に優れたＳｉＣ，ＳｉＯ2，Ｓｉ2Ｎ4，Ａｌ2Ｏ3Ｔ
ｉＣ，Ａｌ2Ｏ3ＴｉＯ2，ＺｒＯ2，Ｆｅ−ＭｎＺｎを用
いてもよい。
【００３２】さらに、窒素，炭素などのイオンを注入、
あるいはスパッタリングにより、スライダ３の浮上面を
改質して、耐摺動特性を向上させてもよい。
あるいはスパッタリングにより、スライダ３の浮上面を
改質して、耐摺動特性を向上させてもよい。
【００３３】本発明の磁気ディスク装置の第２の実施例
を図８を用いて説明する。本実施例では、複数のスライ
ダ３とスライダ支持機構４が同一材料で連続的に成形さ
れている。スライダ支持機構４はロ−タリ−形位置決め
機構５７のガイドア−ム５４に連接されている。なお、
スライダ３と剛性部４４との接合は本発明の第１の実施
例と同様に、可撓性部（ジンバル）を介して行うため、
本実施例ではその説明を省略する。前述したロ−タリ−
形位置決め機構５７は、ボイスコイルモ−タの磁石５１
とコイル５２により回転中心５６を中心に回転し、スラ
イダ３を矢印５８の方向に回転させ、磁気ヘッド（図示
せず）を所定の半径位置に位置決めする。磁気ディスク
２は、ボイスコイルモ−タからスライダ３の方向に矢印
１１のようにに回転している。本実施例ではスライダ３
を複数化することにより、アクセス時間を短縮すると共
に、ロ−タリ−形位置決め機構５７を用いることによ
り、磁気ディスク装置全体を小形化することができる。
さらに、本発明の第１実施例と同様に、スライダ３及び
スライダ支持機構４を同一材料から連続的に形成するこ
とにより、本発明の第１実施例と同じ効果、すなわち、
スライダ３及びスライダ支持機構４の高精度小形化が可
能となり、小形・大容量、高速アクセスで信頼性の高い
磁気ディスク装置を提供することができる。
を図８を用いて説明する。本実施例では、複数のスライ
ダ３とスライダ支持機構４が同一材料で連続的に成形さ
れている。スライダ支持機構４はロ−タリ−形位置決め
機構５７のガイドア−ム５４に連接されている。なお、
スライダ３と剛性部４４との接合は本発明の第１の実施
例と同様に、可撓性部（ジンバル）を介して行うため、
本実施例ではその説明を省略する。前述したロ−タリ−
形位置決め機構５７は、ボイスコイルモ−タの磁石５１
とコイル５２により回転中心５６を中心に回転し、スラ
イダ３を矢印５８の方向に回転させ、磁気ヘッド（図示
せず）を所定の半径位置に位置決めする。磁気ディスク
２は、ボイスコイルモ−タからスライダ３の方向に矢印
１１のようにに回転している。本実施例ではスライダ３
を複数化することにより、アクセス時間を短縮すると共
に、ロ−タリ−形位置決め機構５７を用いることによ
り、磁気ディスク装置全体を小形化することができる。
さらに、本発明の第１実施例と同様に、スライダ３及び
スライダ支持機構４を同一材料から連続的に形成するこ
とにより、本発明の第１実施例と同じ効果、すなわち、
スライダ３及びスライダ支持機構４の高精度小形化が可
能となり、小形・大容量、高速アクセスで信頼性の高い
磁気ディスク装置を提供することができる。
【００３４】本発明の装置の第３の実施例を図９を用い
て説明する。この実施例は、スライダ３を複数化したこ
と、および位置決め機構として静止壁６１とスライダ支
持機構４の剛性部４４との間に積層圧電素子７を用いた
ことである。スライダ３とスライダ支持機構４の剛性部
４４との接合は本発明の第１の実施例と同様であるた
め、その説明を省略する。スライダ３は同図に示すよう
に、３列に形成されている。各々のスライダ３は磁気デ
ィスク２の半径方向に、少しずつシフトして取り付けら
れている。これにより、デ−タアクセス時のアクセス距
離を、スライダ３の個数に逆比例して短小化することが
可能となるために、アクセス時間を著しく短縮できる。
さらに、積層圧電素子７を用いることにより、サブミク
ロン（１μｍ以下）の高精度で、さらに１ミリ秒（ｍ
ｓ）以下の高精度で、磁気ヘッドを所定の半径位置に位
置決めすることが可能となる。
て説明する。この実施例は、スライダ３を複数化したこ
と、および位置決め機構として静止壁６１とスライダ支
持機構４の剛性部４４との間に積層圧電素子７を用いた
ことである。スライダ３とスライダ支持機構４の剛性部
４４との接合は本発明の第１の実施例と同様であるた
め、その説明を省略する。スライダ３は同図に示すよう
に、３列に形成されている。各々のスライダ３は磁気デ
ィスク２の半径方向に、少しずつシフトして取り付けら
れている。これにより、デ−タアクセス時のアクセス距
離を、スライダ３の個数に逆比例して短小化することが
可能となるために、アクセス時間を著しく短縮できる。
さらに、積層圧電素子７を用いることにより、サブミク
ロン（１μｍ以下）の高精度で、さらに１ミリ秒（ｍ
ｓ）以下の高精度で、磁気ヘッドを所定の半径位置に位
置決めすることが可能となる。
【００３５】さらに、本実施例では積層圧電素子とし
て、上部積層圧電素子７０１と下部積層圧電素子７０２
を設け、さらに、これらの素子の変位量を独立に制御す
るための制御手段７０３を設けている。これにより、磁
気ヘッドと磁気ディスク面上に同心円上に書かれた磁気
記録（トラック）との角度（一般にアジマス角と呼ばれ
ている）を調整することができるので、すべての磁気ヘ
ッドにおいて、磁気ヘッドの読みだし信号の最も大きく
なるアジマス角度０度において、デ−タの読みだし、書
き込みが可能となる。これにより、信頼性の高いデ−タ
の読みだし、書き込みが可能となり、高信頼性磁気ディ
スク装置を実現させることができる。
て、上部積層圧電素子７０１と下部積層圧電素子７０２
を設け、さらに、これらの素子の変位量を独立に制御す
るための制御手段７０３を設けている。これにより、磁
気ヘッドと磁気ディスク面上に同心円上に書かれた磁気
記録（トラック）との角度（一般にアジマス角と呼ばれ
ている）を調整することができるので、すべての磁気ヘ
ッドにおいて、磁気ヘッドの読みだし信号の最も大きく
なるアジマス角度０度において、デ−タの読みだし、書
き込みが可能となる。これにより、信頼性の高いデ−タ
の読みだし、書き込みが可能となり、高信頼性磁気ディ
スク装置を実現させることができる。
【００３６】さらに、本実施例においても、スライダ３
とスライダ支持機構４を同一材料から連続的に成形して
いるので、本発明の第１の実施例と同様の効果を期待す
ることができる。
とスライダ支持機構４を同一材料から連続的に成形して
いるので、本発明の第１の実施例と同様の効果を期待す
ることができる。
【００３７】本発明の装置の第４の実施例を図１０，図
１１，図１２を用いて説明する。この実施例と第３の実
施例との違いはは図１０，図１１に示すように、複数の
スライダ３をスライダ支持機構４に螺旋上に配置してい
る点と、積層された磁気ディスク２間に、複数のスライ
ダ支持機構４を設けた点である。スライダ３をスライダ
支持機構４に螺旋上に配置することにより、スライダ３
に搭載した磁気ヘッドと磁気ディスク２の面に記録され
ている磁気情報との角度（一般にアジマス角と呼ばれて
いる）を低減することができるために、磁気ヘッドの出
力が増加し良好な磁気記録特性を得ることができる。ま
た、積層した磁気ディスク２間に、本発明の小形スライ
ダ支持機構４を挿入することにより、多数の磁気ディス
ク２を積層することが可能と成り、磁気ディスク装置の
大きさが規定されているような小形磁気ディスク装置で
は、規定の大きさの中で（フォ−ムファクタ−と呼ばれ
ている）円板枚数を増加させることができるために、装
置の大容量化を達成することができる。
１１，図１２を用いて説明する。この実施例と第３の実
施例との違いはは図１０，図１１に示すように、複数の
スライダ３をスライダ支持機構４に螺旋上に配置してい
る点と、積層された磁気ディスク２間に、複数のスライ
ダ支持機構４を設けた点である。スライダ３をスライダ
支持機構４に螺旋上に配置することにより、スライダ３
に搭載した磁気ヘッドと磁気ディスク２の面に記録され
ている磁気情報との角度（一般にアジマス角と呼ばれて
いる）を低減することができるために、磁気ヘッドの出
力が増加し良好な磁気記録特性を得ることができる。ま
た、積層した磁気ディスク２間に、本発明の小形スライ
ダ支持機構４を挿入することにより、多数の磁気ディス
ク２を積層することが可能と成り、磁気ディスク装置の
大きさが規定されているような小形磁気ディスク装置で
は、規定の大きさの中で（フォ−ムファクタ−と呼ばれ
ている）円板枚数を増加させることができるために、装
置の大容量化を達成することができる。
【００３８】さらに、図１２に示すように、スライダ支
持機構４は、磁気ディスク２間に挿入され、上面の磁気
ディスク２と下面の磁気ディスク２に対応してデ−タの
読みだしと書き込みができるように、スライダ支持機構
４の上面４８と下面４９に、図１１に示すようにスライ
ダ３を配置している。
持機構４は、磁気ディスク２間に挿入され、上面の磁気
ディスク２と下面の磁気ディスク２に対応してデ−タの
読みだしと書き込みができるように、スライダ支持機構
４の上面４８と下面４９に、図１１に示すようにスライ
ダ３を配置している。
【００３９】これにより、１つのスライダ支持機構で、
積層された磁気ディスク間の上面と下面のデ−タがが同
時に、読みだしと書き込みをすることが可能と成り、磁
気ディスクの間隔を狭小化して装置の小形化、あるいは
記憶容量の増加を実現することができる。さらに、本実
施例では、本発明の第３の実施例と同様にスライダを複
数化すると共に、位置決め機構に圧電素子を用いるの
で、本発明の第３の実施例と同様の効果（高速・高精度
のデ−タアクセス，及びアジマス角の調整による磁気記
録の高信頼化）を期待することができる。
積層された磁気ディスク間の上面と下面のデ−タがが同
時に、読みだしと書き込みをすることが可能と成り、磁
気ディスクの間隔を狭小化して装置の小形化、あるいは
記憶容量の増加を実現することができる。さらに、本実
施例では、本発明の第３の実施例と同様にスライダを複
数化すると共に、位置決め機構に圧電素子を用いるの
で、本発明の第３の実施例と同様の効果（高速・高精度
のデ−タアクセス，及びアジマス角の調整による磁気記
録の高信頼化）を期待することができる。
【００４０】本発明の装置の第５の実施例を図１３，図
１４を用いて説明する。この実施例においては図１３に
示すように、スライダ支持機構４は２枚の磁気ディスク
２間に挿入されている。スライダ支持機構４の側面に
は、位置決め機構として積層圧電素子７２が設けられて
いる。この圧電素子７２は静止壁６３を介してベ−ス６
に固定されている。２枚の磁気ディスク２はスピンドル
１に固定されており、同一回転速度で回転する。一方、
スライダ支持機構４は、静止壁６３に固定されているた
めに回転しない。スライダ支持機構４は、磁気ディスク
２と略同一直径のＳｉウエハをそのまま用いており、ウ
エハ中心には、スピンドル１の直径よりも大きな円形穴
８を設け、スピンドル１により回転しないようにしてい
る。さらに、スライダ支持機構４には放射状に６本のス
ライダ３の列を配置している。
１４を用いて説明する。この実施例においては図１３に
示すように、スライダ支持機構４は２枚の磁気ディスク
２間に挿入されている。スライダ支持機構４の側面に
は、位置決め機構として積層圧電素子７２が設けられて
いる。この圧電素子７２は静止壁６３を介してベ−ス６
に固定されている。２枚の磁気ディスク２はスピンドル
１に固定されており、同一回転速度で回転する。一方、
スライダ支持機構４は、静止壁６３に固定されているた
めに回転しない。スライダ支持機構４は、磁気ディスク
２と略同一直径のＳｉウエハをそのまま用いており、ウ
エハ中心には、スピンドル１の直径よりも大きな円形穴
８を設け、スピンドル１により回転しないようにしてい
る。さらに、スライダ支持機構４には放射状に６本のス
ライダ３の列を配置している。
【００４１】このため、各スライダ列に、各６個、合計
３６個のスライダ３が同心円上に配置されている。この
スライダ支持機構４の下面にも、同様にスライダ３を配
置している（図示せず）。
３６個のスライダ３が同心円上に配置されている。この
スライダ支持機構４の下面にも、同様にスライダ３を配
置している（図示せず）。
【００４２】このように、１枚のＳｉウエハ自体にスラ
イダ３とスライダ支持機構４を連続的に成形し、さら
に、ウエハそれ自体を一切の加工をすることなく用いる
ことにより、生産性を向上させることができる。さら
に、放射状にスライダ３の列を配置することにより、ア
クセス時間の大部分を占める磁気ディスク回転待ち時間
を短縮することが可能となる。また、本実施例では、ス
ライダ３の位置決め機構として３つの圧電素子を用いる
ことにより、すべてのスライダ３に対して、磁気ディス
ク面の所定の半径位置に高精度に、高速で位置決めする
ことができる。このため、本発明の第３の実施例と同様
の効果を期待することができる。
イダ３とスライダ支持機構４を連続的に成形し、さら
に、ウエハそれ自体を一切の加工をすることなく用いる
ことにより、生産性を向上させることができる。さら
に、放射状にスライダ３の列を配置することにより、ア
クセス時間の大部分を占める磁気ディスク回転待ち時間
を短縮することが可能となる。また、本実施例では、ス
ライダ３の位置決め機構として３つの圧電素子を用いる
ことにより、すべてのスライダ３に対して、磁気ディス
ク面の所定の半径位置に高精度に、高速で位置決めする
ことができる。このため、本発明の第３の実施例と同様
の効果を期待することができる。
【００４３】本発明の装置を構成するスライダおよびス
ライダ支持機構の他の例を、図１５を用いて説明する。
本実施例では、図１５に示すように、スライダ３はスラ
イダ支持機構４の薄板状の可撓性部４１により支持され
ている。可撓性支持部４１は剛性部４４に連接されてい
る。剛性部４４は位置決め機構（図示せず）に連結され
ている。本実施例のスライダ形状は第１の実施例と同じ
でテ−パ部３２とフラット部３３からなる浮上用レ−ル
４３を２本持ち、このレ−ル４３間にブリ−ド３５が設
けられている。
ライダ支持機構の他の例を、図１５を用いて説明する。
本実施例では、図１５に示すように、スライダ３はスラ
イダ支持機構４の薄板状の可撓性部４１により支持され
ている。可撓性支持部４１は剛性部４４に連接されてい
る。剛性部４４は位置決め機構（図示せず）に連結され
ている。本実施例のスライダ形状は第１の実施例と同じ
でテ−パ部３２とフラット部３３からなる浮上用レ−ル
４３を２本持ち、このレ−ル４３間にブリ−ド３５が設
けられている。
【００４４】このスライダ３およびスライダ支持機構４
は、図１６に示すようにスライダ３を磁気ディスク２に
装着すると、可撓性部４１が撓み、可撓性部４１のばね
剛性ｋと撓み量δとの積の大きさの押し付け荷重ｗがス
ライダ３に働く。
は、図１６に示すようにスライダ３を磁気ディスク２に
装着すると、可撓性部４１が撓み、可撓性部４１のばね
剛性ｋと撓み量δとの積の大きさの押し付け荷重ｗがス
ライダ３に働く。
【００４５】本実施例では、ばね剛性ｋと撓み量δをコ
ントロ−ルすることにより、所定の押し付け荷重ｗを与
えることができる。押し付け荷重ｗと浮上量とは逆比例
の関係にあることから、荷重ｗにより浮上量をコントロ
−ルすることができる。さらに、重要なことはを可撓性
部４１のばね作用によりディスクに大きなうねり、ある
いは上下振動が起こった場合にも、スライダ３は磁気デ
ィスク２面に十分追従することができるので、安定浮上
を実現できる。このため、信頼性の高い磁気ディスク装
置を供給することができる。また、スライダ３とスライ
ダ支持機構４を同一材料から連続的に成形するために、
本発明の第１実施例と同様の効果を期待できる。
ントロ−ルすることにより、所定の押し付け荷重ｗを与
えることができる。押し付け荷重ｗと浮上量とは逆比例
の関係にあることから、荷重ｗにより浮上量をコントロ
−ルすることができる。さらに、重要なことはを可撓性
部４１のばね作用によりディスクに大きなうねり、ある
いは上下振動が起こった場合にも、スライダ３は磁気デ
ィスク２面に十分追従することができるので、安定浮上
を実現できる。このため、信頼性の高い磁気ディスク装
置を供給することができる。また、スライダ３とスライ
ダ支持機構４を同一材料から連続的に成形するために、
本発明の第１実施例と同様の効果を期待できる。
【００４６】本発明の装置の第６の実施例を図１７を用
いて説明する。この実施例においては図１３に示すよう
に、磁気ディスク２は圧電素子７２により支持され静止
壁６３を介してベ−ス６に固定されている。このため、
磁気ディスクは静止壁６３に固定され、回転しない。一
方、スライダ支持機構４はスピンドル（図示せず）に固
定されており、同一回転速度で回転する。図中の矢印４
００はスライダ支持機構４の回転方向を示している。ま
た、スライダ支持機構４は、磁気ディスク２と略同一直
径のＳｉウエハをそのまま用いており、放射状にスライ
ダ３を配置している。
いて説明する。この実施例においては図１３に示すよう
に、磁気ディスク２は圧電素子７２により支持され静止
壁６３を介してベ−ス６に固定されている。このため、
磁気ディスクは静止壁６３に固定され、回転しない。一
方、スライダ支持機構４はスピンドル（図示せず）に固
定されており、同一回転速度で回転する。図中の矢印４
００はスライダ支持機構４の回転方向を示している。ま
た、スライダ支持機構４は、磁気ディスク２と略同一直
径のＳｉウエハをそのまま用いており、放射状にスライ
ダ３を配置している。
【００４７】このように、１枚のＳｉウエハ自体にスラ
イダ３とスライダ支持機構４を連続的に成形し、さら
に、ウエハそれ自体を一切の加工をすることなく用いる
ことにより、生産性を向上させることができる。さら
に、放射状にスライダ３の列を配置することにより、ア
クセス時間の大部分を占める磁気ディスク回転待ち時間
を短縮することが可能となる。また、本実施例では、デ
ィスク２の位置決め機構として３つの圧電素子を用いる
ことにより、すべてのスライダ３に対して、磁気ディス
クを高精度に、高速で位置決めすることができる。この
ため、本発明の第５の実施例と同様の効果を期待するこ
とができる。さらに、磁気ディスクをスピンドルに固定
する必要が無くなり、磁気ディスクを容易に交換するこ
とが可能となり、ディスク交換形の磁気ディスク装置を
実現することができる。
イダ３とスライダ支持機構４を連続的に成形し、さら
に、ウエハそれ自体を一切の加工をすることなく用いる
ことにより、生産性を向上させることができる。さら
に、放射状にスライダ３の列を配置することにより、ア
クセス時間の大部分を占める磁気ディスク回転待ち時間
を短縮することが可能となる。また、本実施例では、デ
ィスク２の位置決め機構として３つの圧電素子を用いる
ことにより、すべてのスライダ３に対して、磁気ディス
クを高精度に、高速で位置決めすることができる。この
ため、本発明の第５の実施例と同様の効果を期待するこ
とができる。さらに、磁気ディスクをスピンドルに固定
する必要が無くなり、磁気ディスクを容易に交換するこ
とが可能となり、ディスク交換形の磁気ディスク装置を
実現することができる。
【００４８】本発明の第７の実施例を図１８を用いて説
明する。本実施例の特徴とするところは、ガイドア−ム
５４に２つの積層圧電素子（上部圧電素子７３，下部圧
電素子７４）とそれらの制御手段７５を設けた点であ
る。これにより、２つの積層圧電素子の変位量を調整で
きるので、本発明の第３の実施例と同様にアジマス角を
調整することが可能となる。このため、ロ−タリ−形位
置決め機構５７においてもアジマス角を０にすることが
できるので、信頼性の高い磁気記録を実現することがで
きる。さらに、本発明の第２の実施例と同様の効果を期
待することができる。
明する。本実施例の特徴とするところは、ガイドア−ム
５４に２つの積層圧電素子（上部圧電素子７３，下部圧
電素子７４）とそれらの制御手段７５を設けた点であ
る。これにより、２つの積層圧電素子の変位量を調整で
きるので、本発明の第３の実施例と同様にアジマス角を
調整することが可能となる。このため、ロ−タリ−形位
置決め機構５７においてもアジマス角を０にすることが
できるので、信頼性の高い磁気記録を実現することがで
きる。さらに、本発明の第２の実施例と同様の効果を期
待することができる。
【００４９】
【発明の効果】本発明によれば、スライダ及びスライダ
支持機構を同一材で一体に構成したので、これを高精度
に小形化できる。このため、スライダの安定低浮上化が
可能となり、記録密度の向上と高速アクセスと高い信頼
性を確保し得ると共に、装置を大容量化できる。
支持機構を同一材で一体に構成したので、これを高精度
に小形化できる。このため、スライダの安定低浮上化が
可能となり、記録密度の向上と高速アクセスと高い信頼
性を確保し得ると共に、装置を大容量化できる。
【図１】本発明の磁気デイスク装置の第１実施例の構成
を一部断面にて示す正面図である。
を一部断面にて示す正面図である。
【図２】図１に示す本発明の磁気デイスク装置の第１実
施例に用いられるスライダ支持機構の部分を拡大して示
す正面図である。
施例に用いられるスライダ支持機構の部分を拡大して示
す正面図である。
【図３】図２のＩ−Ｉ線からスライダ支持機構を見た断
面図である。
面図である。
【図４】図２のII−II線からスライダ支持機構を見た断
面図である。
面図である。
【図５】図１に示す本発明の磁気デイスク装置の第１実
施例に用いられるスライダ支持機構の動作状態を示す断
面面図である。
施例に用いられるスライダ支持機構の動作状態を示す断
面面図である。
【図６】図１に示す本発明の磁気デイスク装置の第１実
施例に用いられるスライダ支持機構の静止状態を示す断
面面図である。
施例に用いられるスライダ支持機構の静止状態を示す断
面面図である。
【図７】図１に示す本発明の磁気デイスク装置の第１実
施例に用いられるスライダの断面面図である。
施例に用いられるスライダの断面面図である。
【図８】本発明の磁気デイスク装置の第２実施例の構成
を示す正面図である。
を示す正面図である。
【図９】本発明の磁気デイスク装置の第３実施例の構成
を示す正面図である。
を示す正面図である。
【図１０】本発明の磁気デイスク装置の第４実施例の構
成を示す斜視図である。
成を示す斜視図である。
【図１１】図１０に示す本発明の磁気デイスク装置の第
４実施例の構成を示す平面図である。
４実施例の構成を示す平面図である。
【図１２】図１０に示す本発明の磁気デイスク装置の第
４実施例の構成を示す正面図である。
４実施例の構成を示す正面図である。
【図１３】本発明の磁気デイスク装置の第５実施例の構
成を示す斜視図である。
成を示す斜視図である。
【図１４】図１３に示す本発明の磁気デイスク装置の第
５実施例の構成を示す平面図である。
５実施例の構成を示す平面図である。
【図１５】本発明の磁気デイスク装置に用いられるスラ
イダ支持機構の他の例を示す斜視面図である。
イダ支持機構の他の例を示す斜視面図である。
【図１６】図１５に示す本発明の磁気デイスク装置に用
いられるスライダ支持機構の他の例の動作を説明する側
面図である。
いられるスライダ支持機構の他の例の動作を説明する側
面図である。
【図１７】本発明の磁気デイスク装置の第６実施例の構
成を示す斜視面図である。
成を示す斜視面図である。
【図１８】本発明の磁気デイスク装置の第７実施例の構
成を示す平面図である。
成を示す平面図である。
１…スピンドル、２…磁気ディスク、３…スライダ、４
…スライダ支持機構、５…位置決め機構、６…ベ−ス、
３１…磁気ヘッド、３２…テ−パ部、３３…フラット
部、３４…浮上用レ−ル、３５…ブリ−ド部、４１…可
撓性部、４２，４３…ジンバル、４４…剛性部、７，７
１，７２…積層圧電素子。
…スライダ支持機構、５…位置決め機構、６…ベ−ス、
３１…磁気ヘッド、３２…テ−パ部、３３…フラット
部、３４…浮上用レ−ル、３５…ブリ−ド部、４１…可
撓性部、４２，４３…ジンバル、４４…剛性部、７，７
１，７２…積層圧電素子。
フロントページの続き (72)発明者 清水 利彦 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社 日立製作所 機械研究所内 (72)発明者 平井 洋武 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社 日立製作所 機械研究所内 (72)発明者 寺山 孝男 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社 日立製作所 機械研究所内 (56)参考文献 特開 平２−227813（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−123376（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−219610（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−198115（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−182386（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/49 G11B 21/02 G11B 21/16 G11B 21/21
Claims (6)
- 【請求項１】磁気ディスクにスライダに設けた磁気ヘッ
ドにより情報の記録もしくは再生を行う磁気ディスク装
置において、 前記スライダを複数備え、前記スライダと前記スライダ
を支持する可撓部と、前記可撓部に接続する支持部とを
同一材料で一体的に形成した磁気ヘッド支持部と、前記
磁気ヘッド支持部を駆動する駆動装置とを備えたことを
特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項２】請求項１に記載の磁気ディスク装置におい
て、前記磁気ヘッド支持部の可撓部は、前記スライダの
両側に接続する第１の可撓部と、前記第１の可撓部と前
記支持部とを接続する第２の可撓部とを備えたことを特
徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項３】請求項１に記載の磁気ディスク装置におい
て、 前記スライダ及び可撓部は、前記支持部に直線状に配置
したことを特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項４】請求項１に記載の磁気ディスク装置におい
て、 前記駆動装置と磁気ヘッド支持部との間に圧電素子で形
成された駆動機構を設けたことを特徴とする磁気ディス
ク装置。 - 【請求項５】請求項３に記載の磁気ディスク装置におい
て、 前記スライダ及び可撓部は、前記支持部に直線状に複数
列配置したことを特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項６】請求項１に記載の磁気ディスク装置におい
て、 前記支持部は、ＡｌとＴｉを主成分とするセラミクス化
合物、あるいはＺｒを主成分とするセラミクス化合物、
あるいは、ＦｅにＭｎとＺｎを添加したセラミクス化合
物のあるいは、Ｓｉ又はＳｉ化合物の薄板で構成したこ
とを特徴とする磁気ディスク装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15779692A JP3303336B2 (ja) | 1992-06-17 | 1992-06-17 | 磁気ディスク装置 |
| US08/533,450 US6181524B1 (en) | 1992-06-17 | 1995-09-25 | Magnetic disk apparatus with slider and slider supporting mechanism including flexible section integrally formed from same material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15779692A JP3303336B2 (ja) | 1992-06-17 | 1992-06-17 | 磁気ディスク装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH065026A JPH065026A (ja) | 1994-01-14 |
| JP3303336B2 true JP3303336B2 (ja) | 2002-07-22 |
Family
ID=15657478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15779692A Expired - Fee Related JP3303336B2 (ja) | 1992-06-17 | 1992-06-17 | 磁気ディスク装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6181524B1 (ja) |
| JP (1) | JP3303336B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8411271B2 (en) | 2005-12-28 | 2013-04-02 | Nikon Corporation | Pattern forming method, pattern forming apparatus, and device manufacturing method |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7248444B1 (en) * | 2000-07-21 | 2007-07-24 | Lauer Mark A | Electromagnetic heads, flexures, gimbals and actuators formed on and from a wafer substrate |
| ITTO20010519A1 (it) * | 2001-05-31 | 2002-12-01 | St Microelectronics Srl | Dispositivo orientabile, in particolare dispositivo attuatore di dischi rigidi, con controllo dell'angolo di rollio e di beccheggio. |
| GB0224779D0 (en) * | 2002-10-24 | 2002-12-04 | Barnes Charles F J | Information storage system |
| GB2422243B (en) * | 2002-10-24 | 2007-05-09 | Charles Frederick James Barnes | Information storage systems |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4001889A (en) * | 1972-10-05 | 1977-01-04 | Digital Equipment Corporation | Moving carriage for disk head positioner |
| US4245267A (en) * | 1979-06-01 | 1981-01-13 | New World Computer Company, Inc. | Suspension device for magnetic transducers |
| US4422115A (en) * | 1980-02-29 | 1983-12-20 | Digital Equipment Corporation | Lightweight dual head support assembly for magnetic disk drives |
| US5041932A (en) * | 1989-11-27 | 1991-08-20 | Censtor Corp. | Integrated magnetic read/write head/flexure/conductor structure |
| JPH0467308A (ja) * | 1990-07-09 | 1992-03-03 | Canon Electron Inc | 磁気ヘッド |
| US5198945A (en) * | 1990-11-09 | 1993-03-30 | Hutchinson Technology Incorporated | Magnetic head suspension |
| JP3158487B2 (ja) * | 1991-05-23 | 2001-04-23 | 株式会社日立製作所 | ヘッド支持機構 |
| US5282102A (en) * | 1992-02-27 | 1994-01-25 | Hutchinson Technology Incorporated | Gimbal for magnetic head suspension systems |
| US5353181A (en) * | 1992-11-10 | 1994-10-04 | International Business Machines Corporation | Etched suspension system |
| USH1424H (en) * | 1993-01-07 | 1995-04-04 | Hutchinson Technology Incorporated | Transducer gimbal structure |
-
1992
- 1992-06-17 JP JP15779692A patent/JP3303336B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-09-25 US US08/533,450 patent/US6181524B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8411271B2 (en) | 2005-12-28 | 2013-04-02 | Nikon Corporation | Pattern forming method, pattern forming apparatus, and device manufacturing method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6181524B1 (en) | 2001-01-30 |
| JPH065026A (ja) | 1994-01-14 |
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