JP3302635B2 - Electrical connector and method of manufacturing the same - Google Patents

Electrical connector and method of manufacturing the same

Info

Publication number
JP3302635B2
JP3302635B2 JP01912498A JP1912498A JP3302635B2 JP 3302635 B2 JP3302635 B2 JP 3302635B2 JP 01912498 A JP01912498 A JP 01912498A JP 1912498 A JP1912498 A JP 1912498A JP 3302635 B2 JP3302635 B2 JP 3302635B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
substrate
electrical connector
insulating layer
wire
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP01912498A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH11211754A (en
Inventor
孝治 西沢
佑一 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Polymer Co Ltd filed Critical Shin Etsu Polymer Co Ltd
Priority to JP01912498A priority Critical patent/JP3302635B2/en
Publication of JPH11211754A publication Critical patent/JPH11211754A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3302635B2 publication Critical patent/JP3302635B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ボール・グリッド
・アレイ型のICパッケージの検査、試験、あるいは接
続等に使用される電気コネクタ及びその製造方法に関す
るものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an electrical connector used for inspection, test, connection or the like of a ball grid array type IC package and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】入出力端子数の多い表面実装型ICパッ
ケージとして、従来よりICパッケージ本体の周囲四辺
からそれぞれ端子を複数取り出した構造のクワット・フ
ラット・パッケージ(以下、QFPと略称する)17が
使用されている(図13参照)。このQFP17で最近
の端子数の増加に対応するには、実装面積をできるだけ
小さくするため、ICパッケージのサイズを一定の寸法
以下に抑制し、端子のピッチを小さくする必要がある。
このため最近においては、端子のピッチが0.4mm程
度まで小さくなってきている。
2. Description of the Related Art As a surface mount type IC package having a large number of input / output terminals, a quat flat package (hereinafter abbreviated as QFP) 17 having a structure in which a plurality of terminals are respectively taken out from four sides of an IC package body has been conventionally used. Used (see FIG. 13). To cope with the recent increase in the number of terminals in the QFP 17, it is necessary to reduce the IC package size to a certain size or less and to reduce the terminal pitch in order to reduce the mounting area as much as possible.
Therefore, recently, the pitch of the terminals has been reduced to about 0.4 mm.

【0003】しかしながら、このような多端子QFP1
7は、端子のピッチが非常に小さく、変形しやすいとい
う問題がある。さらに、多数の端子の位置合わせが実に
困難なので、製造工程、検査工程、及び又は実装工程等
の工程で多くの問題が生じることとなる。
However, such a multi-terminal QFP1
No. 7 has a problem that the terminal pitch is very small and the terminal is easily deformed. Furthermore, since it is very difficult to align a large number of terminals, many problems occur in processes such as a manufacturing process, an inspection process, and / or a mounting process.

【0004】そこで、最近においては上記に鑑み、図1
4や図15に示すように、ICパッケージ本体の裏面全
体に小さな半田ボール電極20からなる端子を格子形に
並べたボール・グリッド・アレイ型のICパッケージ
(以下、BGAと略称する)18が開発され、その実用
化が進んでいる。
Therefore, recently, in view of the above, FIG.
As shown in FIG. 4 and FIG. 15, a ball grid array type IC package (hereinafter abbreviated as BGA) 18 in which terminals made of small solder ball electrodes 20 are arranged in a grid pattern on the entire back surface of the IC package body is developed. And its practical use is progressing.

【0005】上記BGA18の検査等に際し、従来にお
いては、図16に示す電気コネクタが使用されている。
この電気コネクタは、同図に示すように、絶縁性のエラ
ストマー層19を備え、このエラストマー層19の厚み
方向に多数のワイヤ10が汎用のボールボンダにより貫
通して埋設されている。この電気コネクタの各ワイヤ1
0は、図17に示すように、その上端部に図示しないB
GA18の半田ボール電極(φ0.75mmが多い)2
0に接触するパッド13が拡径に形成され、下端部には
検査基板(以下、検査基板で代表する)21の電極22
に接触するボール接点部15が膨出形成されている。こ
のように構成された電気コネクタは、BGA18と検査
基板21との間に導通可能に介在配置され、BGA18
が押圧されることにより、エラストマー層19が圧縮さ
れ、BGA18と検査基板21とを導通して検査等に供
される。
In testing the BGA 18, the electric connector shown in FIG. 16 is conventionally used.
As shown in the figure, the electrical connector includes an insulating elastomer layer 19, and a large number of wires 10 are buried in a thickness direction of the elastomer layer 19 through a general-purpose ball bonder. Each wire 1 of this electrical connector
0 is a B (not shown) at its upper end, as shown in FIG.
GA18 solder ball electrode (often 0.75mm in diameter) 2
The pad 13 is formed in an enlarged diameter so as to be in contact with the electrode 22 of the inspection substrate 21 (hereinafter, referred to as an inspection substrate).
The ball contact portion 15 that contacts the bulge is formed. The electrical connector thus configured is disposed between the BGA 18 and the inspection board 21 so as to be able to conduct.
Is pressed, the elastomer layer 19 is compressed, and the BGA 18 and the inspection board 21 are conducted to be subjected to an inspection or the like.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従来の電気コネクタ
は、以上のように構成されているので、BGA18の半
田ボール電極20に対するパッド13の接触面積が実に
小さく、この結果、半田ボール電極20の位置精度やパ
ッド13の位置精度により、各端子の接続抵抗がばらつ
き易いという問題があった。また、端子の多数化に伴
い、安定した導通を得るのに必要な押圧力が増大する
が、BGA18の平坦度(最大0.2mm)を考慮する
と、電気コネクタには0.2mm以上の圧縮量が必要に
なる。しかしながら、この場合の圧縮荷重は大きいの
で、200ピン以上の多ピンBGAに電気コネクタを使
用することができないという問題があった。
Since the conventional electrical connector is configured as described above, the contact area of the pad 13 with the solder ball electrode 20 of the BGA 18 is very small. As a result, the position of the solder ball electrode 20 is reduced. There is a problem that the connection resistance of each terminal tends to vary depending on the accuracy and the positional accuracy of the pad 13. Further, as the number of terminals increases, the pressing force required to obtain stable conduction increases. However, in consideration of the flatness of the BGA 18 (maximum 0.2 mm), the electrical connector has a compression amount of 0.2 mm or more. Is required. However, since the compressive load in this case is large, there is a problem that the electric connector cannot be used for a multi-pin BGA having 200 pins or more.

【0007】さらに、0.2mm以上の圧縮量で繰り返
し検査をすると、図17に示すように、エラストマー層
19に対するパッド13の陥没、損傷(エラストマー層
19からのパッド13の剥離)、ワイヤ10の座屈、又
はボール接点部15の摩耗等により、接続抵抗が上昇
し、電気コネクタを繰り返して使用することができなく
なるという大きな問題があった。
Further, when the inspection is repeatedly performed with a compression amount of 0.2 mm or more, as shown in FIG. 17, the pad 13 is depressed and damaged (peeling of the pad 13 from the elastomer layer 19) to the elastomer layer 19, and the wire 10 is Due to buckling, wear of the ball contact portion 15, or the like, the connection resistance increases, and there is a large problem that the electrical connector cannot be used repeatedly.

【0008】本発明は、上記問題に鑑みなされたもの
で、各端子の接続抵抗のばらつきを抑制し、多ピンBG
A等にも使用することができ、しかも、繰り返して使用
することのできる電気コネクタ及びその製造方法を提供
することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and suppresses a variation in connection resistance of each terminal.
An object of the present invention is to provide an electrical connector that can be used for A and the like and that can be used repeatedly, and a method for manufacturing the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明にお
いては、上記課題を達成するため、複合層に複数の導電
線条体を埋設したものであって、上記複合層は弾性を有
する絶縁層を備え、この絶縁層の一方の面に複数の端子
部材を第一のコート層を介して設け、該絶縁層の他方の
面には第二のコート層を積層し、上記各導電線条体を上
記複合層の厚みよりも長くしてその両端部分をそれぞれ
該複合層の厚さ方向に指向する直線部とし、該各導電線
条体の残部を少なくとも該複合層の厚さ方向と交わる方
向に曲げて屈曲余長部を形成し、該各導電線条体の一端
部分を上記第一のコート層に保持させるとともに、該各
導電線条体の一端部分を上記端子部材に接合して該一端
部分よりも大きな端子部を形成し、該各導電線条体の他
端部をほぼ球状の接点部としてこの接点部を上記第二の
コート層に保持させ、該各接点部の少なくとも一部を該
第二のコート層から露出させてその露出面には硬質のメ
ッキを施し、上記複合層の一方の面に上記各端子部材の
周囲に位置する凹部を、該複合層の他方の面には上記各
接点部の周囲に位置する凹部をそれぞれ設けたことを特
徴としている。
According to the first aspect of the present invention, in order to achieve the above object, a plurality of conductive filaments are buried in a composite layer, and the composite layer has elastic insulation. A plurality of terminal members provided on one surface of the insulating layer via a first coat layer, and a second coat layer laminated on the other surface of the insulating layer. The body is longer than the thickness of the composite layer, and both end portions thereof are straight portions directed in the thickness direction of the composite layer, and the rest of each conductive wire intersects at least the thickness direction of the composite layer. Bending in the direction to form an extra bending portion, and holding one end of each conductive wire in the first coat layer, and joining one end of each conductive wire to the terminal member. A terminal portion larger than the one end portion is formed, and the other end portion of each of the conductive filaments is substantially spherical. The contact portions are held in the second coat layer as a point portion, at least a part of each contact portion is exposed from the second coat layer, and the exposed surface is hard-plated, and the composite layer is formed. A concave portion located around each of the terminal members on one surface thereof, and a concave portion located around each of the contact portions on the other surface of the composite layer.

【0010】また、請求項2記載の発明においては、上
記課題を達成するため、表裏両面にメッキ部を備えた基
板の表面におけるメッキ部に複数の導電線条体の下端部
を直立させて接合し、少なくとも該基板の厚み方向に交
わる方向に各導電線条体を曲げて屈曲余長部を形成し、
該各導電線条体の上端部を上下方向に向けてこの上端部
をほぼ球状の接点部に形成する工程と、上記基板の表面
に第一のコート層用樹脂及び絶縁層用樹脂を順次設けて
第一のコート層と弾性を有する絶縁層とを硬化形成し、
該絶縁層から各接点部を露出させ、該絶縁層に第二のコ
ート層用樹脂を設けて第二のコート層を硬化形成すると
ともに、この第二のコート層から該各接点部の少なくと
も一部を露出させる工程と、上記各接点部の露出面に硬
質のメッキを施す工程と、上記基板の非メッキ部を除去
する工程と、上記第一、第二のコート層、及び上記絶縁
層を切り欠いて該基板のメッキ部の周囲に位置する凹部
と、上記各接点部の周囲に位置する凹部とをそれぞれ形
成する工程とを含んでなることを特徴としている。
In order to achieve the above object, according to the second aspect of the present invention, the lower ends of a plurality of conductive strips are joined upright to the plated portions on the surface of the substrate having plated portions on both sides. Forming at least a bend excess portion by bending each conductive wire at least in a direction intersecting the thickness direction of the substrate;
A step of forming the upper end portion into a substantially spherical contact portion with the upper end portion of each of the conductive filaments facing vertically, and sequentially providing a resin for a first coating layer and a resin for an insulating layer on the surface of the substrate. Cured to form a first coat layer and an elastic insulating layer,
Each contact portion is exposed from the insulating layer, a second coat layer resin is provided on the insulating layer to cure and form the second coat layer, and at least one of the contact portions is formed from the second coat layer. Exposing a portion, a step of applying hard plating to the exposed surface of each of the contact portions, a step of removing a non-plated portion of the substrate, the first and second coat layers, and the insulating layer And a step of forming a recessed portion located around the plated portion of the substrate by cutting out and a recessed portion located around each of the contact portions.

【0011】ここで、特許請求の範囲における「絶縁
層」としては、硬化前に流動性を有し、硬化されること
により、架橋構造を形成する各種のエラストマー(常温
付近でゴム状弾性を有するものの総称)が好ましい。例
えば、シリコーン系ゴム、ポリプタジェンゴム、天然ゴ
ム、ポリイソプレンゴム、ウレタンゴム、クロロプレン
ゴム、ポリエステル系ゴム、スチレン−ブタジェン共重
合体ゴム、又はこれらの独立及び/又は連泡の発泡材料
等が該当する。特に、硬化後の電気絶縁性、耐熱性、及
び圧縮永久歪みに優れているシリコーンゴムが好まし
く、その中でも導電線条体の配列を崩さずに材料を注入
することができること、短時間でレベリングすることが
できること等から、硬化前の性状が液状で低粘度のもの
が良い。シリコーンゴムの場合、粘度が1000ポイズ
以下、より好ましくは200ポイズ以下、通常は5ポイ
ズ以上のものが良い。絶縁層の硬度は、高すぎると圧縮
接続時の荷重が大きくなり、低過ぎると圧縮時の歪量が
大きくなるので、10〜80°H、より好ましくは20
〜60°Hが望ましい。
Here, the term "insulating layer" in the claims refers to various elastomers which have fluidity before curing and form a crosslinked structure when cured (have rubber-like elasticity at around normal temperature). Are preferred. For example, silicone rubber, polyptadiene rubber, natural rubber, polyisoprene rubber, urethane rubber, chloroprene rubber, polyester rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, or an independent and / or open-cell foamed material thereof Applicable. In particular, silicone rubber which is excellent in electrical insulation after curing, heat resistance, and compression set is preferable, and among them, the material can be injected without breaking the arrangement of the conductive filaments, and leveling is performed in a short time. For this reason, it is preferable that the properties before curing are liquid and have low viscosity. In the case of silicone rubber, the viscosity is preferably 1000 poise or less, more preferably 200 poise or less, and usually 5 poise or more. If the hardness of the insulating layer is too high, the load during compression connection increases, and if it is too low, the amount of strain during compression increases.
~ 60 ° H is desirable.

【0012】「第一のコート層」、「第二のコート層」
としては、導電線条体の一端部分(パッド含む)や接点
部の陥没、若しくは損傷、導電線条体の座屈、又は一端
部分や接点部と絶縁層との剥離等を抑制する観点から、
絶縁層よりも堅く(ロックウェル硬さHRR90、ある
いはHRM60)、伸びにくく、(線膨張係数10×1
-5cm/cm/℃以下)、しかも、耐熱性や絶縁性に
優れるエンジニアプラスチック材料が好ましい。この材
料に該当するものとしては、例えば、ポリエステル系樹
脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリイミド系樹
脂、又はABS樹脂等の合成樹脂があげられる。このよ
うな第一、第二のコート層は、絶縁層に直接又は他の層
を介し間接的に設けられる。
"First coat layer", "second coat layer"
From the viewpoint of suppressing depression or damage of one end portion (including a pad) or a contact portion of the conductive wire body, buckling of the conductive wire body, or separation of the one end portion or the contact portion from the insulating layer,
Harder than the insulating layer (Rockwell hardness HRR90 or HRM60), hard to expand, (linear expansion coefficient 10 × 1
(0 −5 cm / cm / ° C. or less), and an engineering plastic material excellent in heat resistance and insulation properties is preferable. Examples of this material include synthetic resins such as a polyester resin, an epoxy resin, a urethane resin, a polyimide resin, and an ABS resin. Such first and second coat layers are provided directly on the insulating layer or indirectly via another layer.

【0013】「導電線条体」としては、金、金合金、
銅、アルミニウム、アルミニウム−ケイ素合金、真鍮、
リン青銅、ベリリウム銅、ニッケル、モリブデン、タン
グステン、若しくはステンレス等からなるワイヤ、これ
らに金や金合金等のメッキ加工を施したワイヤ、導電性
合成樹脂、炭素繊維からなる細線、又はこれらの金メッ
キ加工細線等を使用することができる。特に、ワイヤボ
ンディングによる接合方法に適し、導電性に優れるワイ
ヤが好ましい。導電線条体の線径については、特に制限
はないが、接続時の圧縮荷重をできるだけ小さくし、接
続安定性に悪影響を与えない範囲で細い方が好ましい。
具体的には、通常のワイヤボンディングで使用されてい
る100μm以下のワイヤが入手しやすいので望ましい
といえる。特に、線径が20〜80μm以下のワイヤを
使用することが望ましい。
[0013] As the "conductive wire", gold, gold alloy,
Copper, aluminum, aluminum-silicon alloy, brass,
Wires made of phosphor bronze, beryllium copper, nickel, molybdenum, tungsten, stainless steel, etc., wires plated with gold, gold alloy, etc., fine wires made of conductive synthetic resin, carbon fiber, or gold-plated thereof A thin line or the like can be used. In particular, a wire that is suitable for a bonding method by wire bonding and has excellent conductivity is preferable. There is no particular limitation on the wire diameter of the conductive wire, but it is preferable that the wire be as thin as possible so that the compressive load during connection is as small as possible and the connection stability is not adversely affected.
Specifically, it can be said that a wire having a diameter of 100 μm or less used in ordinary wire bonding is easily available, and thus is preferable. In particular, it is desirable to use a wire having a wire diameter of 20 to 80 μm or less.

【0014】導電線条体は、接合や接続時の荷重低減の
観点から、く字状、横S字状、横U字状、横Z字状、又
は横Ω字状等の各形状に形成される。また、直線部は、
電気コネクタの厚さが1.0〜2.0mmと薄く、検査
や接続時の圧縮に関して絶縁層の弾性特性を利用するこ
とから、0.2〜0.5mm、好ましくは0.2〜0.
3mmの長さが良い。また、端子部は、BGAの半田ボ
ール電極がφ0.5〜0.75mmが一般的であるこ
と、端子部間の絶縁性を確保しながら半田ボール電極の
位置精度やパッドの位置精度を考慮する必要性から、円
形、小判形、四角形、多角形、又は楕円形等の末端肥大
形状に適宜形成される。端子部は、円形の場合、φ0.
6〜0.8mmが良い。また、接点部は、球形に形成す
ることもできるし、おおよそ球形と認められる程度の形
に形成することもできる。
From the viewpoint of reducing the load at the time of joining and connection, the conductive wire is formed into various shapes such as a rectangular shape, a horizontal S shape, a horizontal U shape, a horizontal Z shape, and a horizontal Ω shape. Is done. Also, the straight line part
Since the thickness of the electrical connector is as thin as 1.0 to 2.0 mm and the elasticity of the insulating layer is utilized for compression during inspection and connection, the thickness is 0.2 to 0.5 mm, preferably 0.2 to 0.5 mm.
A length of 3 mm is good. In addition, the terminal portion generally has a BGA solder ball electrode having a diameter of 0.5 to 0.75 mm, and the position accuracy of the solder ball electrode and the position accuracy of the pad are taken into consideration while ensuring insulation between the terminal portions. Due to necessity, it is appropriately formed in a terminal enlarged shape such as a circle, an oval, a square, a polygon, or an ellipse. The terminal part is φ0.
6 to 0.8 mm is good. Further, the contact portion may be formed in a spherical shape, or may be formed in a shape that is approximately recognized as a spherical shape.

【0015】導電線条体の全体構成としては、例えばメ
ッキされた基板上に複数の導電線条体の一端部を汎用の
ボンダによりワイヤボンディングして一端部を0.2〜
0.5mm程度の直線部に形成し、各導電線条体をオフ
セットし、その後、他端部分を0.2〜0.5mm程度
の直線部に形成して各導電線条体をほぼN字形とし、各
導電線条体の他端部分を接点部に形成することができ
る。また、メッキされた基板上に各導電線条体の一端部
分をワイヤボンディングしてこの一端部分を0.2〜
0.5mm程度の直線部に形成し、各導電線条体を湾曲
させ、他端部分を0.2〜0.5mm程度の直線部に形
成し、各導電線条体の他端部分を接点部に形成すること
もできる。
[0015] As an overall configuration of the conductive wire, for example, one end of each of a plurality of conductive wires is wire-bonded on a plated substrate by a general-purpose bonder, and one end is formed to a thickness of 0.2 to 0.2 mm.
Formed in a linear part of about 0.5 mm, offset each conductive filament, and then formed the other end in a linear part of about 0.2 to 0.5 mm to form each conductive filament in a substantially N-shape. The other end portion of each conductive wire can be formed as a contact portion. Also, one end of each conductive strip is wire-bonded on the plated substrate and this one end is
Formed in a linear portion of about 0.5 mm, curved each conductive filament, formed the other end in a linear portion of about 0.2-0.5 mm, and contacted the other end of each conductive filament with a contact It can also be formed in a part.

【0016】「基板」としては、厚さ0.15〜0.5
mmの金、金合金、銅、アルミニウム、真鍮、又はリン
青銅の薄板を使用することができる。特に、加工性(ボ
ンディング性やエッチング性)、コスト、及び電気的特
性等の観点から、銅板のボンディング箇所に金メッキを
施すのが好ましい。また、電気コネクタの製造に際し、
基板の外周に成形用フレームをセットすれば、絶縁層を
保持し、電気コネクタの取り扱い性を向上させることが
でき、しかも、回路や検査基板等との位置決めを容易に
することができる。この成形用フレームとしては、汎用
のエンジニアリングプラスチック材、セラミック材、又
は金属材料等を適宜選択して使用することができる。エ
ンジニアリングプラスチック材としては、寸法安定性や
耐熱性に優れるポリエーテルイミド(PEI)、ポリフ
ェニレンサルファイド(PPS)、又はポリエーテルス
ルホン(PES)等の材料があげられる。
The "substrate" has a thickness of 0.15 to 0.5
mm of gold, gold alloy, copper, aluminum, brass, or phosphor bronze can be used. In particular, from the viewpoints of workability (bonding property and etching property), cost, and electrical characteristics, it is preferable to apply gold plating to the bonding portion of the copper plate. When manufacturing electrical connectors,
If the molding frame is set on the outer periphery of the substrate, the insulating layer can be held, the handleability of the electrical connector can be improved, and the positioning with the circuit, the inspection substrate, and the like can be facilitated. As the molding frame, a general-purpose engineering plastic material, a ceramic material, a metal material, or the like can be appropriately selected and used. Examples of the engineering plastic material include materials such as polyetherimide (PEI), polyphenylene sulfide (PPS), and polyether sulfone (PES) which are excellent in dimensional stability and heat resistance.

【0017】本発明によれば、BGAの半田ボール電極
や検査基板の電極等と接触しない第一のコート層、絶縁
層、及び第二のコート層の表面をそれぞれ切り欠いて低
くするので、例え電気コネクタが所定値以上圧縮された
場合でも荷重を抑制できる。また、導電線条体の一端部
分や接点部を第一、第二のコート層で保護するので、絶
縁層に導電線条体の一端部分が陥没したり、絶縁層から
一端部分が剥がれること等がない。また、各導電線条体
の両端部分以外を屈曲させたり、湾曲させるので、所定
値以上の座屈荷重が作用しても従来のような不適切な曲
がりの生じることがない。さらに、各接点部の露出面に
施された硬いメッキが表面性能を向上させるので、接点
部の損傷や摩耗を防止する。
According to the present invention, the surfaces of the first coat layer, the insulating layer, and the second coat layer which are not in contact with the BGA solder ball electrodes, the test board electrodes, and the like are cut out and lowered. Even when the electrical connector is compressed beyond a predetermined value, the load can be suppressed. In addition, since the one end portion and the contact portion of the conductive wire are protected by the first and second coat layers, one end of the conductive wire is depressed in the insulating layer, or one end is peeled off from the insulating layer. There is no. In addition, since the portions other than the both ends of each conductive wire are bent or bent, even if a buckling load of a predetermined value or more is applied, inappropriate bending unlike the related art does not occur. Further, the hard plating applied to the exposed surface of each contact portion improves the surface performance, thereby preventing the contact portion from being damaged or worn.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態を説明する。なお、本実施形態における電気コネ
クタは、製造時(図2ないし図10の状態)と使用時
(図1の状態)とでは表裏逆となる。本実施形態におけ
る電気コネクタは、図1ないし図10に示すように、基
本的には断面ほぼ板形の複合層1と、この複合層1の厚
さ方向に一定の配列ピッチで貫通埋設された多数のワイ
ヤ10とを備え、薄い板形に構成されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Note that the electrical connector according to the present embodiment is upside down when manufactured (the state shown in FIGS. 2 to 10) and when used (the state shown in FIG. 1). As shown in FIGS. 1 to 10, the electrical connector according to the present embodiment is basically embedded with a composite layer 1 having a substantially plate-shaped cross section and a fixed arrangement pitch in the thickness direction of the composite layer 1. It has a large number of wires 10 and is formed in a thin plate shape.

【0019】複合層1は、図10の下方から上方にかけ
て耐熱性に優れる第一のポリイミド樹脂層2、弾性に優
れるシリコーンゴム層3、及び第二のポリイミド樹脂層
4を積層構造に一体的に備え、裏面と表面の縦横方向に
は所定の間隔で多数の凹部5と横断面円形の凸部6とが
それぞれ交互に配設されており、裏面の各凸部6には端
子部材7が接着されてBGA18の半田ボール電極20
に接触する端子部を形成している。端子部材7は、ボン
ディング用の銅製の基板8からなり、この基板8の表裏
両面にニッケルがそれぞれメッキされるとともに、各ニ
ッケル上には金がメッキされ、これらのメッキがパター
ンメッキ部9を形成する。
The composite layer 1 is composed of a first polyimide resin layer 2 having excellent heat resistance, a silicone rubber layer 3 having excellent elasticity, and a second polyimide resin layer 4 integrated in a laminated structure from the bottom to the top in FIG. A large number of concave portions 5 and convex portions 6 having a circular cross section are alternately arranged at predetermined intervals in the vertical and horizontal directions of the rear surface and the front surface, and a terminal member 7 is bonded to each convex portion 6 on the rear surface. The solder ball electrode 20 of the BGA 18
Is formed in the terminal portion that comes into contact with. The terminal member 7 is composed of a copper substrate 8 for bonding. Nickel is plated on both sides of the substrate 8 and gold is plated on each nickel, and these platings form a pattern plating portion 9. I do.

【0020】各ワイヤ10は、複合層1の厚さよりも長
く伸長され、荷重低減等の観点から上下両端部分以外の
残部が屈曲余長部11として複合層1の縦方向と斜め横
方向とに折曲形成されており、全体としてほぼN字状を
呈している。各ワイヤ10の下端部分12は、垂直方向
に指向する直線部とされ、その最端部分が拡径のパッド
13として第一のポリイミド樹脂層2を貫通して端子部
材7にボンディングされている。また、各ワイヤ10の
上端部分14は、垂直方向に指向する直線部とされ、そ
の最端部分が拡径のボール接点部15に膨出形成されて
第二のポリイミド樹脂層4の凸部6の表面から部分的に
露出するとともに、このボール接点部15の露出面には
硬質の金メッキ16が摩耗防止の観点から施されてい
る。このように構成されたボール接点部15は、検査基
板21の電極22に接触するよう作用する。
Each wire 10 is extended longer than the thickness of the composite layer 1, and the rest other than the upper and lower ends is formed as a surplus bent portion 11 in the longitudinal direction and the oblique horizontal direction of the composite layer 1 from the viewpoint of load reduction and the like. It is bent and has a substantially N-shape as a whole. The lower end portion 12 of each wire 10 is a linear portion oriented in the vertical direction, and the end portion is bonded to the terminal member 7 through the first polyimide resin layer 2 as a pad 13 having an enlarged diameter. Further, the upper end portion 14 of each wire 10 is a linear portion oriented in the vertical direction, and the end portion is formed so as to bulge into a ball contact portion 15 having an enlarged diameter, and the convex portion 6 of the second polyimide resin layer 4 is formed. And a hard gold plating 16 is applied to the exposed surface of the ball contact portion 15 from the viewpoint of preventing abrasion. The ball contact portion 15 thus configured acts so as to contact the electrode 22 of the inspection board 21.

【0021】上記構成において、電気コネクタは、表裏
が引っ繰り返されて(図1の状態)BGA18と検査基
板21との間に導通可能に介在配置され、BGA18が
押圧されることにより、複合層1が圧縮されるととも
に、BGA18と検査基板21とをワイヤ10により導
通し、BGA18と検査基板21とを検査、試験、又は
実装接続する。なお、電気コネクタとBGA18とを接
続する場合には、BGA18の半田ボール電極20に赤
外線等を照射して半田ボール電極20を溶かせば良い。
In the above configuration, the electrical connector is placed between the BGA 18 and the inspection board 21 so as to be electrically conductive with the front and back turned upside down (the state shown in FIG. 1). Is compressed, the BGA 18 and the test board 21 are electrically connected by the wire 10, and the BGA 18 and the test board 21 are tested, tested, or mounted. When the electrical connector is connected to the BGA 18, the solder ball electrode 20 of the BGA 18 may be irradiated with infrared rays or the like to melt the solder ball electrode 20.

【0022】次に、本実施形態における電気コネクタの
製造方法を図2ないし図10を用いて説明する。先ず、
図3に示すように、ボンディング用の基板8の表面にお
ける多数のパターンメッキ部9の中心部にワイヤ10の
下端部分12を汎用のワイヤボンダによりそれぞれ直立
状態にボンディングして拡径のパッド13を形成し、各
ワイヤ10をほぼN字状に折曲形成して屈曲余長部11
を形成し、直線的に起立させた各ワイヤ10の上端部分
14に周知のレーザを照射し、図4に示すようにボール
接点部15を膨出形成し、ボンディング用の基板8の表
面から多数のワイヤ10のボール接点部15までの長さ
を1.2mmに均一に揃える。
Next, a method of manufacturing the electrical connector according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. First,
As shown in FIG. 3, a lower end portion 12 of a wire 10 is bonded to a central portion of a large number of pattern plating portions 9 on a surface of a bonding substrate 8 by a general-purpose wire bonder to form a pad 13 having an increased diameter. Then, each wire 10 is formed into a substantially N-shape to form a surplus bending portion 11.
Then, a known laser is applied to the upper end portion 14 of each wire 10 erected linearly to form a ball contact portion 15 as shown in FIG. The length of the wire 10 to the ball contact portion 15 is uniformly set to 1.2 mm.

【0023】ボンディング用の基板8は、図2に示すよ
うに、厚さ0.15〜0.5mm程度の銅製の基板を備
え、この基板の表裏両面における多数のパッド位置に1
〜3μm程度のニッケルがそれぞれ下地としてメッキさ
れるとともに、各ニッケル上には0.1〜0.3μm程
度の金がメッキされ、この金のメッキがパターンメッキ
部9を形成する。パッド位置は、BGA18の半田ボー
ル電極20のピッチ配列に整合するよう設けられてい
る。
As shown in FIG. 2, the bonding substrate 8 includes a copper substrate having a thickness of about 0.15 to 0.5 mm.
Nickel having a thickness of about 3 μm is plated as a base, and gold having a thickness of about 0.1 μm to 0.3 μm is plated on each nickel. The pad positions are provided so as to match the pitch arrangement of the solder ball electrodes 20 of the BGA 18.

【0024】次いで、図5に示すように、基板8の外周
縁に沿って図示しない枠形の成形用フレームを配置し、
この成形用フレーム中に厚さが0.1〜0.2mm程度
となるようポリイミド樹脂を注入し、このポリイミド樹
脂を150℃、1時間の条件で硬化させて基板8、多数
のワイヤ10、及びポリイミド樹脂を相互に接着状態と
するとともに、断面板形の第一のポリイミド樹脂層2を
形成する。こうして第一のポリイミド樹脂層2を形成し
たら、同図に示すように、第一のポリイミド樹脂層2上
にボール接点部15を覆うよう流動性のシリコーンゴム
を注入し、このシリコーンゴムを120℃、30分の条
件で硬化させて多数のワイヤ10、ポリイミド樹脂、及
びシリコーンゴムを相互に接着状態とするとともに、弾
性に優れる断面板形のシリコーンゴム層3を形成する。
Next, as shown in FIG. 5, a frame-shaped molding frame (not shown) is arranged along the outer peripheral edge of the substrate 8.
A polyimide resin is injected into the molding frame so as to have a thickness of about 0.1 to 0.2 mm, and the polyimide resin is cured at 150 ° C. for 1 hour to form a substrate 8, a large number of wires 10, The polyimide resins are bonded to each other, and a first polyimide resin layer 2 having a plate-shaped cross section is formed. After the first polyimide resin layer 2 is formed in this way, as shown in the figure, a flowable silicone rubber is injected onto the first polyimide resin layer 2 so as to cover the ball contact portions 15, and this silicone rubber is heated at 120 ° C. Curing for 30 minutes to form a large number of wires 10, polyimide resin, and silicone rubber in a mutually bonded state, and to form a silicone rubber layer 3 having a plate shape in cross section, which is excellent in elasticity.

【0025】次いで、周知のレーザを照射してシリコー
ンゴム層3の表面を削り、多数のボール接点部15をそ
れぞれ完全に露出させ(図6参照)、シリコーンゴム層
3上に多数のボール接点部15を完全に覆うよう流動性
のポリイミド樹脂を注入し、このポリイミド樹脂を15
0℃、1時間の条件で硬化させてボール接点部15、シ
リコーンゴム層3、及びポリイミド樹脂を相互に接着状
態とするとともに、断面板形の第二のポリイミド樹脂層
4を形成する(図7参照)。この硬化形成により、複合
層1が積層構成される。第二のポリイミド樹脂層4を形
成したら、周知のレーザを照射して第二のポリイミド樹
脂層4の表面を削り、多数のボール接点部15をそれぞ
れ直径の2/3程度(0.03〜0.1mm程度)露出
させる。
Next, the surface of the silicone rubber layer 3 is shaved by irradiating a known laser to completely expose each of the ball contact portions 15 (see FIG. 6). Inject a flowable polyimide resin so as to completely cover
The ball contact portion 15, the silicone rubber layer 3, and the polyimide resin are adhered to each other by curing at 0 ° C. for 1 hour to form the second polyimide resin layer 4 having a plate-shaped cross section. reference). By this curing, the composite layer 1 is laminated. After the second polyimide resin layer 4 is formed, the surface of the second polyimide resin layer 4 is shaved by irradiating a known laser, and a large number of ball contact portions 15 are each formed to have a diameter of about 2/3 (0.03 to 0.03). (About 1 mm).

【0026】次いで、電解法で露出させた多数のボール
接点部15の露出面に硬質の金メッキ16をそれぞれ
0.1〜0.3μm程度施し(図8参照)、その後、基
板8のパターンメッキ部9以外の非メッキ部を公知のエ
ッチング手段により除去し、φ0.65の金のパターン
メッキ部9を残存させる(図9参照)。このエッチング
により、ワイヤ10のパッド13よりも大きい多数の端
子部が形成される。
Next, hard gold plating 16 is applied to the exposed surfaces of the numerous ball contact portions 15 exposed by the electrolytic method, each having a thickness of about 0.1 to 0.3 μm (see FIG. 8). The non-plated portions other than 9 are removed by a known etching means to leave the gold pattern plated portion 9 of φ0.65 (see FIG. 9). By this etching, a large number of terminal portions larger than the pads 13 of the wire 10 are formed.

【0027】こうして、金のパターンメッキ部9を残し
たら、周知のレーザを照射して第一のポリイミド樹脂層
2、シリコーンゴム層3、及び第二のポリイミド樹脂層
4の表面をそれぞれ0.2〜0.4mm程度削り、各基
板8のパターンメッキ部9の周囲を囲む凹部5と、各ボ
ール接点部15の周囲を囲む凹部5とをそれぞれ形成す
るとともに、BGA18の半田ボール電極20に接触す
る大型の端子部を突出構造に形成すれば、電気コネクタ
を得ることができる(図10参照)。
After leaving the gold pattern plating portion 9 in this manner, the surface of the first polyimide resin layer 2, the silicone rubber layer 3, and the surface of the second polyimide resin layer 4 are each irradiated with a known laser beam by 0.2 mm. By shaving about 0.4 mm, a concave portion 5 surrounding the periphery of the pattern plating portion 9 of each substrate 8 and a concave portion 5 surrounding the periphery of each ball contact portion 15 are formed, respectively, and come into contact with the solder ball electrode 20 of the BGA 18. If the large terminal is formed in a protruding structure, an electric connector can be obtained (see FIG. 10).

【0028】上記構成及び製造方法によれば、大型の端
子部を形成し、ワイヤ10のパッド13を実質的に拡大
するので、BGA18の半田ボール電極20に対する接
触面積を大幅に増大させることができ、半田ボール電極
20の位置精度やパッド13の位置精度により、各端子
の接続抵抗がばらつくという問題を確実に解消すること
ができる。また、BGA18の半田ボール電極20や検
査基板21の電極22と接触しない第一のポリイミド樹
脂層2、シリコーンゴム層3、及び第二のポリイミド樹
脂層4の表面をそれぞれ大きく削るので、例え電気コネ
クタが0.2mm以上圧縮した場合でも荷重をきわめて
小さく抑制することができる。
According to the above configuration and manufacturing method, a large-sized terminal portion is formed and the pad 13 of the wire 10 is substantially enlarged, so that the contact area of the BGA 18 with the solder ball electrode 20 can be greatly increased. In addition, the problem that the connection resistance of each terminal varies due to the positional accuracy of the solder ball electrode 20 and the positional accuracy of the pad 13 can be surely solved. In addition, since the surfaces of the first polyimide resin layer 2, the silicone rubber layer 3, and the second polyimide resin layer 4 that do not contact the solder ball electrodes 20 of the BGA 18 and the electrodes 22 of the test board 21 are greatly shaved, for example, Can be suppressed to a very small value even when the pressure is 0.2 mm or more.

【0029】また、ワイヤ10のパッド13やボール接
点部15を第一、第二のポリイミド樹脂層2、4でコー
トするので、シリコーンゴム層3にパッド13が陥没し
たり、シリコーンゴム層3からパッド13が剥がれるこ
とが全くない。また、シリコーンゴム層3中の各ワイヤ
10をほぼN字状に折曲形成するので、ワイヤ10の座
屈の生じることが全くない。さらに、各ボール接点部1
5の露出面に硬質の金メッキ16を施すので、各ボール
接点部15の摩耗防止が期待できる。これらにより、例
え0.2mm以上の圧縮量で電気コネクタを継続的に使
用しても、各端子の接続抵抗の上昇を著しく抑制するこ
とが可能となり、電気コネクタの耐久性を大幅に向上さ
せることができる。
Further, since the pad 13 and the ball contact portion 15 of the wire 10 are coated with the first and second polyimide resin layers 2 and 4, the pad 13 is depressed in the silicone rubber layer 3 or the silicone rubber layer 3 The pad 13 does not peel off at all. In addition, since each wire 10 in the silicone rubber layer 3 is formed to be bent substantially in an N shape, buckling of the wire 10 does not occur at all. Further, each ball contact portion 1
Since the hard gold plating 16 is applied to the exposed surface of 5, the wear prevention of each ball contact portion 15 can be expected. As a result, even if the electrical connector is continuously used with a compression amount of 0.2 mm or more, it is possible to significantly suppress the increase in the connection resistance of each terminal, and to greatly improve the durability of the electrical connector. Can be.

【0030】上記実施形態の電気コネクタと従来の電気
コネクタの特性、具体的には圧縮時の接続抵抗、圧縮時
の荷重、及び繰り返し使用回数を比較したところ、表1
に示す結果を得ることができた。
The characteristics of the electrical connector of the above embodiment and the conventional electrical connector, specifically, the connection resistance at the time of compression, the load at the time of compression, and the number of times of repeated use were compared.
Can be obtained.

【表1】 [Table 1]

【0031】[0031]

【比較例】比較例1.先ず、厚さ0.15mm、縦50
mm、横50mmの銅製の基板における片面の中央部分
にφ0.15mm、ピッチ1.27mmで縦横それぞれ
20列(総数400列)のマトリックス状にニッケル1
μm、さらに金0.2μmをメッキし、これをワイヤボ
ンディング用の基板8とした。この基板8のパターンメ
ッキ部9の中心に汎用のボールボンダを使用して直径7
6μmのワイヤ10(金線)をピッチ1.27mmで縦
横それぞれ20列(総数400列)のマトリックス状に
ボンディングした。この際、ワイヤ10を垂直に0.3
mm、垂直方向より角度を60°傾斜させ、1.04m
mオフセットして屈曲余長部11を形成し、さらに垂直
方向に伸ばした構造とした(図3参照)。
Comparative Example Comparative Example 1. First, thickness 0.15mm, length 50
In a central portion of one side of a copper substrate having a width of 50 mm and a width of 50 mm, nickel 1 was formed in a matrix of 20 rows each in the vertical and horizontal directions (a total of 400 rows) at φ0.15 mm, pitch 1.27 mm.
μm and then gold 0.2 μm were plated to obtain a substrate 8 for wire bonding. Using a general-purpose ball bonder at the center of the pattern plating portion 9 of the
6 μm wires 10 (gold wires) were bonded at a pitch of 1.27 mm in a matrix of 20 rows and columns (400 rows in total). At this time, the wire 10 is vertically
mm, inclined at an angle of 60 ° from the vertical direction, 1.04m
An extra bending length portion 11 was formed by offsetting m, and the structure was further extended in the vertical direction (see FIG. 3).

【0032】次いで、各ワイヤ10の上端部分14にア
ルゴンレーザを照射して上端部分14に直径150μm
のボール接点部15を形成し、多数のワイヤ10の高さ
が1.2mmで均一になるよう揃えた。多数のワイヤ1
0を揃えたら、基板8上に内寸で縦横それぞれ35m
m、高さ1.3mm、幅5mmのポリエーテルイミド
(以下、PEIと略称する)製の成形用フレームをセッ
トした。
Next, the upper end portion 14 of each wire 10 is irradiated with an argon laser so that the upper end portion 14 has a diameter of 150 μm.
The ball contact portions 15 were formed, and a number of the wires 10 were arranged so that the height was uniform at 1.2 mm. Many wires 1
After aligning 0, 35m in length and width on the substrate 8
A molding frame made of polyetherimide (hereinafter abbreviated as PEI) having a height of 1.3 mm and a width of 5 mm was set.

【0033】次いで、成形用フレームの内部にポリイミ
ド樹脂CRC−6061P(住友ベークライト(株)
製、商品名)を基板8から0.1mmの高さとなるよう
注入し、150℃で1時間加熱処理して硬化させ、第一
のポリイミド樹脂層2を形成した。そして、この第一の
ポリイミド樹脂層2上に、硬化後のゴム硬度が25°H
s(JIS A)になる2液製のシリコーンゴムKE1
216A/B(信越化学工業(株)製、商品名)各50
重量部に対して着色剤K−Color−Bk−02(信
越化学工業(株)製、商品名)を10重量部添加して混
合したものをワイヤ10のボール接点部15の上端部分
14より0.1mm高くなるよう注入し、120℃で3
0分加熱処理して硬化させ、弾性を有するシリコーンゴ
ム層3を形成した。
Next, a polyimide resin CRC-6061P (Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) is placed inside the molding frame.
(Trade name) was injected from the substrate 8 so as to have a height of 0.1 mm, and was cured by heating at 150 ° C. for 1 hour to form the first polyimide resin layer 2. Then, the rubber hardness after curing is 25 ° H. on the first polyimide resin layer 2.
s (JIS A) 2-component silicone rubber KE1
216A / B (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name) 50 each
10 parts by weight of a coloring agent K-Color-Bk-02 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is added to the parts by weight, and a mixture obtained by adding 10 parts by weight is 0 from the upper end portion 14 of the ball contact portion 15 of the wire 10. .1 mm higher and injected at 120 ° C.
Heat treatment was performed for 0 minutes to cure the silicone rubber layer 3 having elasticity.

【0034】次いで、シリコーンゴム層3の上方からY
AGレーザをスキャニング照射して各ワイヤ10のボー
ル接点部15がシリコーンゴム層3の表面から0.15
mm突出するまでシリコーンゴム層3を除去し、成形用
フレームの内部にポリイミド樹脂CRC−6061P
(住友ベークライト(株)製、商品名)をボール接点部
15から0.1mmの高さとなるよう注入し、150℃
で1時間加熱処理して硬化させ、第二のポリイミド樹脂
層4を形成した。続いて、第二のポリイミド樹脂層4の
上方からYAGレーザをスキャニング照射して各ワイヤ
10のボール接点部15が第二のポリイミド樹脂層4の
表面から0.05mm突出するまで第二のポリイミド樹
脂層4を除去した。
Next, from above the silicone rubber layer 3, Y
By scanning irradiation with an AG laser, the ball contact portion 15 of each wire 10 is moved 0.15 from the surface of the silicone rubber layer 3.
mm, the silicone rubber layer 3 is removed until it protrudes, and a polyimide resin CRC-6061P is placed inside the molding frame.
(Manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., trade name) at a height of 0.1 mm from the ball contact portion 15 and 150 ° C.
And cured by heating for 1 hour to form a second polyimide resin layer 4. Subsequently, a YAG laser is scanned and irradiated from above the second polyimide resin layer 4 so that the ball contact portions 15 of the wires 10 project from the surface of the second polyimide resin layer 4 by 0.05 mm. Layer 4 was removed.

【0035】次いで、基板8を塩化第二鉄溶液でエッチ
ング処理してφ0.15mmの金のパターンメッキ部9
を残存させ、十分洗浄した。そしてその後、200℃で
1時間のアフターキュア処理を行い、電気コネクタを製
造した。
Next, the substrate 8 is etched with a ferric chloride solution to form a gold pattern plating portion 9 having a diameter of 0.15 mm.
And washed thoroughly. After that, after-curing treatment was performed at 200 ° C. for 1 hour to manufacture an electrical connector.

【0036】そして、φ0.75mm、高さ0.6mm
の高さの半田ボール電極20を1.27mmのピッチで
縦横それぞれ20列(総数400列)のマトリックスに
配列したBGA18と検査基板21との間に電気コネク
タを介在配置し、0.25mm圧縮した。この結果、安
定した導通性を得ることができたが、圧縮荷重が大き
く、BGA18を均一に圧縮させるには圧縮装置を大型
化しなければならなかった。さらに、パッド13の径が
半田ボール電極20よりも小さいので、繰り返して圧縮
すると、パッド13から半田ボール電極20の外れる箇
所が発生し、安定した導通を得にくかった。
Then, φ0.75 mm, height 0.6 mm
An electrical connector is interposed between the BGA 18 and the inspection board 21 in which the solder ball electrodes 20 having a height of 20 mm are arranged in a matrix of 20 rows and rows (400 rows in total) at a pitch of 1.27 mm, and are compressed by 0.25 mm. . As a result, stable conductivity could be obtained, but the compression load was large, and the compression device had to be increased in size to uniformly compress the BGA 18. Further, since the diameter of the pad 13 is smaller than that of the solder ball electrode 20, when the pad is repeatedly compressed, a portion where the solder ball electrode 20 comes off from the pad 13 is generated, and it is difficult to obtain stable conduction.

【0037】比較例2.厚さ0.15mm、縦50m
m、横50mmの銅製の基板における表裏両面の中央部
分にφ0.65mm、ピッチ1.27mmで縦横それぞ
れ20列(総数400列)のマトリックス状にニッケル
1μm、さらに金0.2μmをメッキし、これをワイヤ
ボンディング用の基板8とした。そして、この基板8の
片面に実施例1と同じ方法で同じ加工を施し、0.15
mmの金メッキ16基板8のパッド13を備えた電気コ
ネクタを製造した。
Comparative Example 2 0.15mm thick, 50m long
A copper substrate having a diameter of 0.65 mm, a pitch of 1.27 mm, and a matrix of 20 rows each in a vertical direction and a horizontal direction (a total of 400 rows) is plated with nickel 1 μm and gold 0.2 μm in a central portion of both sides of a 50 mm wide copper substrate. Was used as a substrate 8 for wire bonding. Then, one surface of the substrate 8 is subjected to the same processing in the same manner as in the first embodiment, and
An electrical connector provided with the pad 13 of the substrate 8 having a gold plating of 16 mm was manufactured.

【0038】そして、φ0.75mm、高さ0.6mm
の高さの半田ボール電極20を1.27mmのピッチで
縦横それぞれ20列(総数400列)のマトリックスに
配列したBGA18と検査基板21との間に電気コネク
タを介在配置し、0.25mm圧縮した。この結果、安
定した導通性を得ることができ、しかも、繰り返して圧
縮してもパッド13から半田ボール電極20が外れるこ
とがなかった。しかしながら、圧縮荷重が大きいので、
ボール接点部15が繰り返しの圧縮時に削られ、変形し
てしまい、安定した導通を得にくかった。
Then, φ0.75 mm, height 0.6 mm
An electrical connector is interposed between the BGA 18 and the inspection board 21 in which the solder ball electrodes 20 having a height of 20 mm are arranged in a matrix of 20 rows and rows (400 rows in total) at a pitch of 1.27 mm, and are compressed by 0.25 mm. . As a result, stable conductivity could be obtained, and the solder ball electrode 20 did not come off from the pad 13 even after repeated compression. However, since the compression load is large,
The ball contact portion 15 was scraped and deformed during repeated compression, making it difficult to obtain stable conduction.

【0039】比較例3.実施例2で得られた電気コネク
タの各ワイヤ10のボール接点部15の表面に硬質の金
メッキ16を0.5μm電解法により施し、電気コネク
タを製造した。この電気コネクタは、パッド13とボー
ル接点部15とがそれぞれ金メッキされているので、安
定した接続が可能となった。さらに、ボール接点部15
の表面を金メッキ16としたので、繰り返し圧縮時の削
れや変形の問題が生じなかった。
Comparative Example 3 Hard gold plating 16 was applied to the surface of the ball contact portion 15 of each wire 10 of the electrical connector obtained in Example 2 by a 0.5 μm electrolytic method to manufacture an electrical connector. In this electrical connector, since the pads 13 and the ball contact portions 15 were each plated with gold, stable connection was possible. Further, the ball contact portion 15
Since the surface was gold plated 16, there was no problem of shaving or deformation during repeated compression.

【0040】[0040]

【実施例】実施例1.先ず、厚さ0.15mm、縦50
mm、横50mmの銅製の基板における表裏両面の中央
部分にφ0.65mm、ピッチ1.27mmで縦横それ
ぞれ20列(総数400列)のマトリックス状にニッケ
ル1μm、さらに金0.2μmをメッキし、これをワイ
ヤボンディング用の基板8とした。この基板8のパター
ンメッキ部9の中心に汎用のボールボンダを使用して直
径76μmのワイヤ10(金線)をピッチ1.27mm
で縦横それぞれ20列(総数400列)のマトリックス
状にボンディングした。この際、ワイヤ10を垂直に
0.3mm、垂直方向より角度を60°傾斜させ、1.
04mmオフセットして屈曲余長部11を形成し、さら
に垂直方向に伸ばした構造とした(図3参照)。
[Embodiment 1] First, thickness 0.15mm, length 50
1 mm of nickel and 0.2 mm of gold are plated in a matrix of 20 rows each in vertical and horizontal directions (total of 400 rows) at φ0.65 mm and pitch 1.27 mm on the center of both sides of a copper substrate of 50 mm and 50 mm width. Was used as a substrate 8 for wire bonding. Using a general-purpose ball bonder, a wire 10 (gold wire) having a diameter of 76 μm is formed at the center of the pattern plating portion 9 of the substrate 8 at a pitch of 1.27 mm.
In this manner, bonding was performed in a matrix of 20 rows and columns (400 rows in total). At this time, the wire 10 was vertically inclined by 0.3 mm and the angle was inclined by 60 ° from the vertical direction.
An extra-flexion length portion 11 was formed by offsetting by 04 mm, and further extended vertically (see FIG. 3).

【0041】次いで、各ワイヤ10の上端部分14にア
ルゴンレーザ(出力5W)を照射して上端部分14に直
径150μmのボール接点部15を形成し、多数のワイ
ヤ10の高さが1.2mmで均一になるよう揃えた。多
数のワイヤ10を揃えたら、基板8上に内寸で縦横それ
ぞれ35mm、高さ1.3mm、幅5mmのPEI製の
成形用フレームをセットした。
Next, the upper end portion 14 of each of the wires 10 is irradiated with an argon laser (output 5 W) to form a ball contact portion 15 having a diameter of 150 μm on the upper end portion 14. We arranged to be uniform. After many wires 10 were aligned, a PEI molding frame 35 mm in length, 1.3 mm in height and 5 mm in width was set on the substrate 8.

【0042】次いで、成形用フレームの内部にポリイミ
ド樹脂CRC−6061P(住友ベークライト(株)
製、商品名)を基板8から0.1mmの高さとなるよう
注入し、150℃で1時間加熱処理して硬化させ、第一
のポリイミド樹脂層2を形成した。そして、この第一の
ポリイミド樹脂層2上に、硬化後のゴム硬度が25°H
s(JIS A)になる2液製のシリコーンゴムKE1
216A/B(信越化学工業(株)製、商品名)各50
重量部に対して着色剤K−Color−Bk−02(信
越化学工業(株)製、商品名)を10重量部添加して混
合したものをワイヤ10のボール接点部15の上端部分
14より0.1mm高くなるよう注入し、120℃で3
0分加熱処理して硬化させ、弾性を有するシリコーンゴ
ム層3を形成した。
Next, a polyimide resin CRC-6061P (Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) is placed inside the molding frame.
(Trade name) was injected from the substrate 8 so as to have a height of 0.1 mm, and was cured by heating at 150 ° C. for 1 hour to form the first polyimide resin layer 2. Then, the rubber hardness after curing is 25 ° H. on the first polyimide resin layer 2.
s (JIS A) 2-component silicone rubber KE1
216A / B (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name) 50 each
10 parts by weight of a coloring agent K-Color-Bk-02 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is added to the parts by weight, and a mixture obtained by adding 10 parts by weight is 0 from the upper end portion 14 of the ball contact portion 15 of the wire 10. .1 mm higher and injected at 120 ° C.
Heat treatment was performed for 0 minutes to cure the silicone rubber layer 3 having elasticity.

【0043】次いで、シリコーンゴム層3の上方からY
AGレーザ(出力100W)をスキャニング照射(照射
時間60秒)して隠蔽された各ワイヤ10のボール接点
部15がシリコーンゴム層3の表面から0.15mm突
出するまでシリコーンゴム層3を除去し、成形用フレー
ムの内部にポリイミド樹脂CRC−6061P(住友ベ
ークライト(株)製、商品名)をボール接点部15から
0.1mmの高さとなるよう注入し、150℃で1時間
加熱処理して硬化させ、第二のポリイミド樹脂層4を形
成した。続いて、第二のポリイミド樹脂層4の上方から
YAGレーザをスキャニング照射して隠蔽状態の各ワイ
ヤ10のボール接点部15が第二のポリイミド樹脂層4
の表面から0.05mm突出するまで第二のポリイミド
樹脂層4を除去した。
Next, from above the silicone rubber layer 3, Y
Scanning irradiation (irradiation time: 60 seconds) with an AG laser (output: 100 W) removes the silicone rubber layer 3 until the concealed ball contact portion 15 of each wire 10 protrudes from the surface of the silicone rubber layer 3 by 0.15 mm, Polyimide resin CRC-6061P (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., trade name) is injected into the inside of the molding frame so as to have a height of 0.1 mm from the ball contact portion 15 and is cured by heating at 150 ° C. for 1 hour. Then, a second polyimide resin layer 4 was formed. Subsequently, the YAG laser is scanned and irradiated from above the second polyimide resin layer 4 so that the ball contact portions 15 of the respective wires 10 in the concealed state are changed to the second polyimide resin layer 4.
The second polyimide resin layer 4 was removed until it protruded 0.05 mm from the surface of.

【0044】次いで、電解法で露出させた各ワイヤ10
のボール接点部15に0.5μmの硬質の金メッキ16
を施した。続いて、基板8を塩化第二鉄溶液でエッチン
グ処理してφ0.65mmの金のパターンメッキ部9を
残存させ、十分洗浄した。そして、200℃で1時間ア
フターキュア処理した。そしてその後、基板8を残した
面の上方からYAGレーザ(出力100W)をスキャニ
ング照射(照射時間150秒)して第一のポリイミド樹
脂層2、及びシリコーンゴム層3を0.3mmの深さで
除去し、反対側の第二のポリイミド樹脂層4、及びシリ
コーンゴム層3を幅0.6mm、深さ0.3mmで除去
し、図1ないし図10の電気コネクタを製造した。
Next, each of the wires 10 exposed by the electrolytic method
0.5 μm hard gold plating 16 on the ball contact portion 15
Was given. Subsequently, the substrate 8 was etched with a ferric chloride solution to leave the gold pattern plated portion 9 having a diameter of 0.65 mm and sufficiently washed. Then, after-curing treatment was performed at 200 ° C. for 1 hour. Then, after that, the first polyimide resin layer 2 and the silicone rubber layer 3 are subjected to scanning irradiation (irradiation time: 150 seconds) from above the surface on which the substrate 8 is left so as to have a depth of 0.3 mm. After removal, the second polyimide resin layer 4 and the silicone rubber layer 3 on the opposite side were removed with a width of 0.6 mm and a depth of 0.3 mm, and the electrical connector of FIGS. 1 to 10 was manufactured.

【0045】そして、φ0.75mm、高さ0.6mm
の高さの半田ボール電極20を1.27mmのピッチで
縦横それぞれ20列(総数400列)のマトリックスに
配列したBGA18と検査基板21との間に電気コネク
タを介在配置し、0.25mm圧縮した。この結果、安
定した導通性を得ることができ、各電極のばらつきが1
5〜25mΩと小さく、BGA18の電気的特性試験を
行う上でなんら問題が発生しなかった。さらに、0.3
mmの圧縮量で繰り返し圧縮を行い、電気的接続を継続
的に確認したところ、5万回を越えても抵抗が100m
Ωを越えるポイントが全く発生しなかった。
Then, φ0.75 mm, height 0.6 mm
An electrical connector is interposed between the BGA 18 and the inspection board 21 in which the solder ball electrodes 20 having a height of 20 mm are arranged in a matrix of 20 rows and rows (400 rows in total) at a pitch of 1.27 mm, and are compressed by 0.25 mm. . As a result, stable conductivity can be obtained, and the variation of each electrode is 1
The resistance was as small as 5 to 25 mΩ, and no problem occurred in conducting an electrical characteristic test of BGA18. In addition, 0.3
The compression was repeatedly performed with the compression amount of mm, and the electrical connection was continuously confirmed.
No point exceeding Ω occurred.

【0046】実施例2.先ず、厚さ0.15mm、縦5
0mm、横50mmの銅製の基板における表裏両面の中
央部分にφ0.65mm、ピッチ1.5mmで縦横それ
ぞれ30列(総数900列)のマトリックス状にニッケ
ル1μm、さらに金0.2μmをメッキし、これをワイ
ヤボンディング用の基板8とした。この基板8のパター
ンメッキ部9の中心に汎用のボールボンダを使用して直
径76μmのワイヤ10(金線)をピッチ1.5mmで
縦横それぞれ30列(総数900列)のマトリックス状
にボンディングした。この際、ワイヤ10を図11に示
すように基板8の横方向に0.4mmの範囲で緩やかに
湾曲させ、屈曲余長部11Aを形成した。
Embodiment 2 FIG. First, thickness 0.15mm, length 5
A central portion of both sides of a copper substrate of 0 mm and 50 mm in width is plated with nickel 1 μm and gold 0.2 μm in a matrix of 30 rows each in vertical and horizontal directions (total 900 rows) at φ0.65 mm, pitch 1.5 mm, and total of 900 rows. Was used as a substrate 8 for wire bonding. Using a general-purpose ball bonder, wires 10 (gold wires) having a diameter of 76 μm were bonded at a pitch of 1.5 mm in a matrix of 30 rows vertically and horizontally (total 900 rows) at the center of the pattern plating portion 9 of the substrate 8. At this time, as shown in FIG. 11, the wire 10 was gently curved in the lateral direction of the substrate 8 within a range of 0.4 mm to form a surplus bent portion 11A.

【0047】次いで、各ワイヤ10の上端部分14にア
ルゴンレーザ(出力5W)を照射して上端部分14に直
径150μmのボール接点部15を形成し、多数のワイ
ヤ10の高さが1.2mmで均一になるよう揃えた。多
数のワイヤ10を揃えたら、基板8上に内寸で縦横それ
ぞれ35mm、高さ1.3mm、幅5mmのPEI製の
成形用フレームをセットした。
Next, the upper end portion 14 of each of the wires 10 is irradiated with an argon laser (output 5 W) to form a ball contact portion 15 having a diameter of 150 μm on the upper end portion 14. We arranged to be uniform. After many wires 10 were aligned, a PEI molding frame 35 mm in length, 1.3 mm in height and 5 mm in width was set on the substrate 8.

【0048】次いで、成形用フレームの内部にポリイミ
ド樹脂CRC−6061P(住友ベークライト(株)
製、商品名)を基板8から0.1mmの高さとなるよう
注入し、150℃で1時間加熱処理して硬化させ、第一
のポリイミド樹脂層2を形成した。そして、この第一の
ポリイミド樹脂層2上に、硬化後のゴム硬度が25°H
s(JIS A)になる2液製のシリコーンゴムKE1
216A/B(信越化学工業(株)製、商品名)各50
重量部に対して着色剤K−Color−Bk−02(信
越化学工業(株)製、商品名)を10重量部添加して混
合したものをワイヤ10のボール接点部15の上端部分
14より0.1mm高くなるよう注入し、120℃で3
0分加熱処理して硬化させ、弾性を有するシリコーンゴ
ム層3を形成した。
Next, a polyimide resin CRC-6061P (Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) is placed inside the molding frame.
(Trade name) was injected from the substrate 8 so as to have a height of 0.1 mm, and was cured by heating at 150 ° C. for 1 hour to form the first polyimide resin layer 2. Then, the rubber hardness after curing is 25 ° H. on the first polyimide resin layer 2.
s (JIS A) 2-component silicone rubber KE1
216A / B (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name) 50 each
10 parts by weight of a coloring agent K-Color-Bk-02 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is added to the parts by weight, and a mixture obtained by adding 10 parts by weight is 0 from the upper end portion 14 of the ball contact portion 15 of the wire 10. .1 mm higher and injected at 120 ° C.
Heat treatment was performed for 0 minutes to cure the silicone rubber layer 3 having elasticity.

【0049】次いで、シリコーンゴム層3の上方から実
施例1と同条件でYAGレーザをスキャニング照射して
隠蔽された各ワイヤ10のボール接点部15がシリコー
ンゴム層3の表面から0.15mm突出するまでシリコ
ーンゴム層3を除去し、成形用フレームの内部にポリイ
ミド樹脂CRC−6061P(住友ベークライト(株)
製、商品名)をボール接点部15から0.1mmの高さ
となるよう注入し、150℃で1時間加熱処理して硬化
させ、第二のポリイミド樹脂層4を形成した。続いて、
第二のポリイミド樹脂層4の上方からYAGレーザをス
キャニング照射して隠蔽状態の各ワイヤ10のボール接
点部15が第二のポリイミド樹脂層4の表面から0.0
5mm突出するまで第二のポリイミド樹脂層4を除去し
た。
Then, a ball contact portion 15 of each wire 10 concealed by scanning irradiation with a YAG laser under the same conditions as in Example 1 from the top of the silicone rubber layer 3 projects from the surface of the silicone rubber layer 3 by 0.15 mm. The silicone rubber layer 3 is removed until the inside of the molding frame, and the polyimide resin CRC-6061P (Sumitomo Bakelite Co., Ltd.)
(Trade name) was injected from the ball contact portion 15 so as to have a height of 0.1 mm, and was heated and cured at 150 ° C. for 1 hour to form a second polyimide resin layer 4. continue,
The YAG laser is scanned and irradiated from above the second polyimide resin layer 4 so that the ball contact portion 15 of each wire 10 in the concealed state is 0.0 mm from the surface of the second polyimide resin layer 4.
The second polyimide resin layer 4 was removed until it protruded by 5 mm.

【0050】次いで、電解法で露出させた各ワイヤ10
のボール接点部15に0.5μmの硬質の金メッキ16
を施した。続いて、基板8を塩化第二鉄溶液でエッチン
グ処理してφ0.5mmの金のパターンメッキ部9を残
存させ、十分洗浄した。そして、200℃で1時間アフ
ターキュア処理した。そしてその後、基板8を残した面
の上方から実施例1と同条件でYAGレーザをスキャニ
ング照射して第一のポリイミド樹脂層2、及びシリコー
ンゴム層3を0.2mmの深さで除去し、反対側の第二
のポリイミド樹脂層4、及びシリコーンゴム層3を幅
1.0mm、深さ0.2mmで除去し、図12の電気コ
ネクタを製造した。
Next, each of the wires 10 exposed by the electrolytic method
0.5 μm hard gold plating 16 on the ball contact portion 15
Was given. Subsequently, the substrate 8 was etched with a ferric chloride solution to leave the gold pattern plating portion 9 having a diameter of 0.5 mm and sufficiently washed. Then, after-curing treatment was performed at 200 ° C. for 1 hour. Then, after that, the first polyimide resin layer 2 and the silicone rubber layer 3 were removed at a depth of 0.2 mm by scanning irradiation with a YAG laser under the same conditions as in Example 1 from above the surface where the substrate 8 was left. The opposite side second polyimide resin layer 4 and silicone rubber layer 3 were removed at a width of 1.0 mm and a depth of 0.2 mm to produce the electrical connector shown in FIG.

【0051】そして、φ0.75mm、高さ0.6mm
の高さの半田ボール電極20を1.5mmのピッチで縦
横それぞれ30列(総数900列)のマトリックスに配
列したBGA18と検査基板21との間に電気コネクタ
を介在配置し、0.25mm圧縮した。この結果、安定
した導通性を得ることができ、各電極のばらつきが15
〜25mΩと小さく、BGA18の電気的特性試験を行
う上でなんら問題が発生しなかった。さらに、0.3m
mの圧縮量で繰り返し圧縮を行い、電気的接続を継続的
に確認したところ、5万回を越えても抵抗が100mΩ
を越えるポイントが全く発生しなかった。
Then, φ0.75 mm, height 0.6 mm
An electrical connector is interposed between the BGA 18 and the test board 21 in which the solder ball electrodes 20 having a height of 1.5 mm are arranged in a matrix of 30 rows each vertically and horizontally (a total of 900 rows) at a pitch of 1.5 mm, and compressed by 0.25 mm. . As a result, stable conductivity can be obtained, and the variation of each electrode is reduced by 15%.
-25 mΩ, no problem occurred in conducting the electrical characteristics test of BGA18. In addition, 0.3m
The compression was repeatedly performed with a compression amount of m, and the electrical connection was continuously confirmed. As a result, the resistance was 100 mΩ even after exceeding 50,000 times.
No points were exceeded.

【0052】以上の比較例1〜3ないし実施例1、2の
結果をまとめたものを表2に示す。
Table 2 summarizes the results of Comparative Examples 1 to 3 to Examples 1 and 2 described above.

【表2】 [Table 2]

【0053】[0053]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、各端子の
接続抵抗のばらつきを抑制し、多ピンBGA等にも適用
することができ、しかも、繰り返して使用することが可
能になるという効果がある。さらに、所定値以上の圧縮
量で電気コネクタを繰り返し使用しても、各端子の接続
抵抗の上昇を抑制することができ、電気コネクタの耐久
性を向上させることができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to suppress the variation in the connection resistance of each terminal, apply it to a multi-pin BGA or the like, and furthermore, it is possible to use it repeatedly. effective. Furthermore, even if the electrical connector is repeatedly used with a compression amount equal to or greater than a predetermined value, an increase in the connection resistance of each terminal can be suppressed, and the durability of the electrical connector can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る電気コネクタの実施形態における
使用状態を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a use state of an embodiment of an electric connector according to the present invention.

【図2】本発明に係る電気コネクタの製造方法の実施形
態におけるボンディング用の基板を示す断面説明図であ
る。
FIG. 2 is an explanatory sectional view showing a bonding substrate in an embodiment of the method for manufacturing an electrical connector according to the present invention.

【図3】本発明に係る電気コネクタの製造方法の実施形
態におけるワイヤボンディング工程を示す断面説明図で
ある。
FIG. 3 is an explanatory sectional view showing a wire bonding step in the embodiment of the method for manufacturing an electrical connector according to the present invention.

【図4】本発明に係る電気コネクタの製造方法の実施形
態におけるボール接点部の形成工程を示す断面説明図で
ある。
FIG. 4 is an explanatory sectional view showing a step of forming a ball contact portion in the embodiment of the method for manufacturing an electrical connector according to the present invention.

【図5】本発明に係る電気コネクタの製造方法の実施形
態における第一のポリイミド樹脂層、及びシリコーンゴ
ム層の形成工程を示す断面説明図である。
FIG. 5 is an explanatory sectional view showing a step of forming a first polyimide resin layer and a silicone rubber layer in the embodiment of the method for manufacturing an electrical connector according to the present invention.

【図6】本発明に係る電気コネクタの製造方法の実施形
態におけるボール接点部の露出工程を示す断面説明図で
ある。
FIG. 6 is an explanatory sectional view showing a step of exposing a ball contact portion in the embodiment of the method for manufacturing an electrical connector according to the present invention.

【図7】本発明に係る電気コネクタの製造方法の実施形
態における第二のポリイミド樹脂層の形成工程を示す断
面説明図である。
FIG. 7 is an explanatory sectional view showing a step of forming a second polyimide resin layer in the embodiment of the method for manufacturing an electrical connector according to the present invention.

【図8】本発明に係る電気コネクタの製造方法の実施形
態におけるボール接点部の露出工程、及び硬質の金メッ
キ工程を示す断面説明図である。
FIG. 8 is an explanatory sectional view showing a ball contact portion exposing step and a hard gold plating step in the embodiment of the method for manufacturing an electrical connector according to the present invention.

【図9】本発明に係る電気コネクタの製造方法の実施形
態におけるエッチング処理工程を示す断面説明図であ
る。
FIG. 9 is an explanatory cross-sectional view showing an etching step in the embodiment of the method for manufacturing an electrical connector according to the present invention.

【図10】本発明に係る電気コネクタの製造方法の実施
形態における凹部形成工程を示す断面説明図である。
FIG. 10 is an explanatory sectional view showing a recess forming step in the embodiment of the method for manufacturing an electrical connector according to the present invention.

【図11】実施例2で使用した電気コネクタを示す部分
断面説明図である。
FIG. 11 is an explanatory partial sectional view showing an electric connector used in the second embodiment.

【図12】実施例2で使用した電気コネクタの使用状態
を示す部分断面説明図である。
FIG. 12 is a partial cross-sectional explanatory view showing a use state of the electrical connector used in the second embodiment.

【図13】QFPパッケージを示す斜視説明図である。FIG. 13 is an explanatory perspective view showing a QFP package.

【図14】BGAパッケージを示す斜視説明図である。FIG. 14 is an explanatory perspective view showing a BGA package.

【図15】図14のBGAパッケージの斜視裏面図であ
る。
FIG. 15 is a perspective rear view of the BGA package of FIG. 14;

【図16】従来の電気コネクタを示す説明図である。FIG. 16 is an explanatory view showing a conventional electric connector.

【図17】従来の電気コネクタを示す使用状態説明図で
ある。
FIG. 17 is an explanatory view of a use state showing a conventional electric connector.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 複合層 2 第一のポリイミド樹脂層(第一のコート層) 3 シリコーンゴム層(絶縁層) 4 第二のポリイミド樹脂層(第二のコート層) 5 凹部 6 凸部 7 端子部材 8 基板 9 パターンメッキ部(メッキ部) 10 ワイヤ(導電線条体) 11 屈曲余長部 11A 屈曲余長部 12 下端部分 13 パッド 14 上端部分 15 ボール接点部(接点部) 16 金メッキ(メッキ) 18 BGA 20 半田ボール電極 21 検査基板 22 電極 Reference Signs List 1 composite layer 2 first polyimide resin layer (first coat layer) 3 silicone rubber layer (insulating layer) 4 second polyimide resin layer (second coat layer) 5 concave portion 6 convex portion 7 terminal member 8 substrate 9 Pattern plating part (plating part) 10 Wire (conductive strip) 11 Extra bending part 11A Extra bending part 12 Lower end part 13 Pad 14 Upper end part 15 Ball contact part (Contact part) 16 Gold plating (Plating) 18 BGA 20 Solder Ball electrode 21 Inspection board 22 Electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平10−19931(JP,A) 特開 平9−229963(JP,A) 実開 平6−84379(JP,U) 特表2000−502812(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01R 1/06 - 1/073 G01R 31/26 G01R 31/28 - 31/3193 H01R 33/76 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) References JP-A-10-19931 (JP, A) JP-A-9-229963 (JP, A) JP-A-6-84379 (JP, U) Table 2000-502812 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01R 1/06-1/073 G01R 31/26 G01R 31/28-31/3193 H01R 33/76

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複合層に複数の導電線条体を埋設した電
気コネクタであって、 上記複合層は弾性を有する絶縁層を備え、この絶縁層の
一方の面に複数の端子部材を第一のコート層を介して設
け、該絶縁層の他方の面には第二のコート層を積層し、 上記各導電線条体を上記複合層の厚みよりも長くしてそ
の両端部分をそれぞれ該複合層の厚さ方向に指向する直
線部とし、該各導電線条体の残部を少なくとも該複合層
の厚さ方向と交わる方向に曲げて屈曲余長部を形成し、
該各導電線条体の一端部分を上記第一のコート層に保持
させるとともに、該各導電線条体の一端部分を上記端子
部材に接合して該一端部分よりも大きな端子部を形成
し、該各導電線条体の他端部をほぼ球状の接点部として
この接点部を上記第二のコート層に保持させ、該各接点
部の少なくとも一部を該第二のコート層から露出させて
その露出面には硬質のメッキを施し、 上記複合層の一方の面に上記各端子部材の周囲に位置す
る凹部を、該複合層の他方の面には上記各接点部の周囲
に位置する凹部をそれぞれ設けたことを特徴とする電気
コネクタ。
1. An electrical connector having a plurality of conductive wires embedded in a composite layer, the composite layer including an elastic insulating layer, and a plurality of terminal members on one surface of the insulating layer. A second coat layer is laminated on the other surface of the insulating layer, and each of the conductive filaments is longer than the thickness of the composite layer. A straight portion directed in the thickness direction of the layer, the remaining portion of each conductive wire is bent at least in a direction intersecting with the thickness direction of the composite layer to form a bend excess portion,
While holding one end portion of each conductive wire on the first coat layer, joining one end of each conductive wire to the terminal member to form a terminal portion larger than the one end, The other end of each of the conductive filaments is a substantially spherical contact portion, and the contact portion is held on the second coat layer, and at least a part of each contact portion is exposed from the second coat layer. The exposed surface is subjected to hard plating, and a concave portion located around each of the terminal members on one surface of the composite layer, and a concave portion located around each of the contact portions on the other surface of the composite layer. An electrical connector, characterized in that:
【請求項2】 表裏両面にメッキ部を備えた基板の表面
におけるメッキ部に複数の導電線条体の下端部を直立さ
せて接合し、少なくとも該基板の厚み方向に交わる方向
に各導電線条体を曲げて屈曲余長部を形成し、該各導電
線条体の上端部を上下方向に向けてこの上端部をほぼ球
状の接点部に形成する工程と、 上記基板の表面に第一のコート層用樹脂及び絶縁層用樹
脂を順次設けて第一のコート層と弾性を有する絶縁層と
を硬化形成し、該絶縁層から各接点部を露出させ、該絶
縁層に第二のコート層用樹脂を設けて第二のコート層を
硬化形成するとともに、この第二のコート層から該各接
点部の少なくとも一部を露出させる工程と、 上記各接点部の露出面に硬質のメッキを施す工程と、 上記基板の非メッキ部を除去する工程と、 上記第一、第二のコート層、及び上記絶縁層を切り欠い
て該基板のメッキ部の周囲に位置する凹部と、上記各接
点部の周囲に位置する凹部とをそれぞれ形成する工程と
を含んでなることを特徴とする電気コネクタの製造方
法。
2. The method according to claim 1, wherein the lower ends of the plurality of conductive strips are joined upright to the plated portions on the surface of the substrate having plated portions on both front and back surfaces, and each of the conductive strips is connected at least in a direction intersecting the thickness direction of the substrate. A step of bending the body to form an extra bending portion, forming the upper end portion into a substantially spherical contact portion with the upper end portion of each of the conductive filaments facing upward and downward, and forming a first on the surface of the substrate. A resin for a coating layer and a resin for an insulating layer are sequentially provided to form a first coating layer and an insulating layer having elasticity by curing, exposing each contact portion from the insulating layer, and forming a second coating layer on the insulating layer. A step of providing a resin for curing to form a second coat layer and exposing at least a part of each of the contact portions from the second coat layer; and applying a hard plating to an exposed surface of each of the contact portions. Removing the non-plated portion of the substrate; Forming a second coat layer, a concave portion located around the plated portion of the substrate by cutting out the insulating layer, and a concave portion located around each of the contact portions. Method of manufacturing an electrical connector.
JP01912498A 1998-01-30 1998-01-30 Electrical connector and method of manufacturing the same Expired - Fee Related JP3302635B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP01912498A JP3302635B2 (en) 1998-01-30 1998-01-30 Electrical connector and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP01912498A JP3302635B2 (en) 1998-01-30 1998-01-30 Electrical connector and method of manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11211754A JPH11211754A (en) 1999-08-06
JP3302635B2 true JP3302635B2 (en) 2002-07-15

Family

ID=11990725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP01912498A Expired - Fee Related JP3302635B2 (en) 1998-01-30 1998-01-30 Electrical connector and method of manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3302635B2 (en)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4486248B2 (en) * 1999-12-28 2010-06-23 株式会社日本マイクロニクス Probe card and manufacturing method thereof
JP4330778B2 (en) * 2000-09-05 2009-09-16 信越ポリマー株式会社 Electrical connector and manufacturing method thereof
JP2002107416A (en) * 2000-09-27 2002-04-10 Kamotekku Kk Semiconductor inspecting jig
KR100765977B1 (en) * 2007-01-02 2007-10-12 주식회사 리뷰텍 Manufacturing method for probe head and wire wounding structure for the method
JP2010054463A (en) * 2008-08-29 2010-03-11 Shinko Electric Ind Co Ltd Semiconductor inspection system and method for manufacturing the same
JP2012220451A (en) * 2011-04-13 2012-11-12 Seiken Co Ltd Inspection unit
JP6246507B2 (en) * 2012-11-05 2017-12-13 新光電気工業株式会社 Probe card and manufacturing method thereof
KR101344802B1 (en) * 2012-11-30 2014-01-16 임영재 Wired contactor with dummy for wire-cutting and manufacturing method thereof
JP7257415B2 (en) * 2018-11-21 2023-04-13 三井化学株式会社 Anisotropic conductive sheet, anisotropic conductive composite sheet, anisotropic conductive sheet set, electrical inspection device and electrical inspection method

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2600745Y2 (en) * 1993-05-13 1999-10-25 株式会社エイト工業 Jig for integrated circuit inspection equipment
JP3307823B2 (en) * 1996-02-23 2002-07-24 松下電器産業株式会社 Manufacturing method of contact parts for electronic component inspection
JP3128199B2 (en) * 1996-06-28 2001-01-29 信越ポリマー株式会社 Inspection probe
EP0925510B1 (en) * 1996-09-13 2007-04-11 International Business Machines Corporation Integrated compliant probe for wafer level test and burn-in

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11211754A (en) 1999-08-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5624268A (en) Electrical connectors using anisotropic conductive films
JP3038859B2 (en) Anisotropic conductive sheet
TWI336156B (en) Ic socket and manufacturing method for the same
KR101105948B1 (en) Packaging method and system of electric component
CN1241298C (en) Contact piece
JP2001004698A5 (en)
JP3302635B2 (en) Electrical connector and method of manufacturing the same
JPH0935789A (en) Anisotropic conductive sheet and its manufacture
JP2876292B2 (en) Connector and connector manufacturing method
JP2020027859A (en) Manufacturing method of electrical connector
JP4236367B2 (en) Semiconductor socket and manufacturing method thereof
JP2986364B2 (en) Method of manufacturing electrical connector
JP2001050983A (en) Probe card
JP3020432B2 (en) Electrical connector and manufacturing method thereof
JPH1010191A (en) Connector and method and equipment for testing semiconductor using connector
JP2000294311A (en) Electric connector and manufacture thereof
JP2953984B2 (en) Electrical connector and manufacturing method thereof
JP2000348793A (en) Electric connector
JPH11167945A (en) Electrical connector and its manufacture
JPH0661419A (en) Electronic component and its connection
JPH08185943A (en) Electric connector
JPH07161426A (en) Socket for bare chip burn-in test and its manufacture
JP3009667U (en) Grooved electrical connector
JP2020027725A (en) Electric connector and manufacturing method thereof
JP2001155799A (en) Electric connector and method of manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080426

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090426

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110426

Year of fee payment: 9

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140426

Year of fee payment: 12

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees