JP3300455B2 - パターン認識装置 - Google Patents
パターン認識装置Info
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- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B28/00—Compositions of mortars, concrete or artificial stone, containing inorganic binders or the reaction product of an inorganic and an organic binder, e.g. polycarboxylate cements
- C04B28/02—Compositions of mortars, concrete or artificial stone, containing inorganic binders or the reaction product of an inorganic and an organic binder, e.g. polycarboxylate cements containing hydraulic cements other than calcium sulfates
- C04B28/08—Slag cements
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- Collating Specific Patterns (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、パターン認識などにお
ける空間フーリエ変換を用いた光情報処理技術に関す
る。
ける空間フーリエ変換を用いた光情報処理技術に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】パターン認識は、個人の識別をするのに
用いることができるため、例えば、指紋パターンを個人
情報として用い、これにより個人の識別をする装置が考
えられている（特開平３−２０４６２５など）。
用いることができるため、例えば、指紋パターンを個人
情報として用い、これにより個人の識別をする装置が考
えられている（特開平３−２０４６２５など）。
【０００３】パターンの相関を光演算で高速で行う方法
は種々提案されており、例えば、ホログラムを用いた方
法や合同変換相関法（Joint Transform Correlation:Ｊ
ＴＣ）と呼ばれるものがある（「光情報処理におけるフ
ーリエ変換」、光学 21,6,392-399 ）。この合同変換相
関法は、Vander-Lugt の光相関器を用いる方法（「光学
的相関系位相フィルタによるパターン認識」、応用物理
58,6(1989) ）と比較してパターンが書き込まれたホロ
グラム乾板の正確な位置合わせを必要としない、という
利点がある。
は種々提案されており、例えば、ホログラムを用いた方
法や合同変換相関法（Joint Transform Correlation:Ｊ
ＴＣ）と呼ばれるものがある（「光情報処理におけるフ
ーリエ変換」、光学 21,6,392-399 ）。この合同変換相
関法は、Vander-Lugt の光相関器を用いる方法（「光学
的相関系位相フィルタによるパターン認識」、応用物理
58,6(1989) ）と比較してパターンが書き込まれたホロ
グラム乾板の正確な位置合わせを必要としない、という
利点がある。
【０００４】図８は、合同変換相関法にて指紋パターン
の認識装置を構成したものである。高解像度の空間光変
調器（ＳＬＭ）を用いて構成し、入力パターン（入力
像）と参照パターン（参照像）とをＣＲＴに同時に描画
させて一致を検出しようとするものである。入力像と参
照像を空間光変調器に書き込み（図６（ａ）、入力像
（左），参照像（右））、フーリエ変換してフーリエパ
ターンがえられる（図６（ｂ））。これらのパターンを
もう一度ＳＬＭで読みだし、光フーリエ変換を行ってこ
れらのパターンの相関信号を得ている。
の認識装置を構成したものである。高解像度の空間光変
調器（ＳＬＭ）を用いて構成し、入力パターン（入力
像）と参照パターン（参照像）とをＣＲＴに同時に描画
させて一致を検出しようとするものである。入力像と参
照像を空間光変調器に書き込み（図６（ａ）、入力像
（左），参照像（右））、フーリエ変換してフーリエパ
ターンがえられる（図６（ｂ））。これらのパターンを
もう一度ＳＬＭで読みだし、光フーリエ変換を行ってこ
れらのパターンの相関信号を得ている。
【０００５】そして、入力像と参照像とが一致している
ことから、２つの輝度の高い点が入力像，参照像の位置
に対応して左右に現れる（図６（ｃ））。これにより、
入力パターンと参照パターンの一致が検出される。図６
（ｂ）中央には、原パターンの強度に応じた０次光が現
れ、これと対称に図６（ｃ）の輝度の高い点（±１次
光）が現れる。
ことから、２つの輝度の高い点が入力像，参照像の位置
に対応して左右に現れる（図６（ｃ））。これにより、
入力パターンと参照パターンの一致が検出される。図６
（ｂ）中央には、原パターンの強度に応じた０次光が現
れ、これと対称に図６（ｃ）の輝度の高い点（±１次
光）が現れる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述の装置では、±１
次光が入力パターンと参照パターンの相関度を示す信号
になっているのであるが、±１次光と０次光の位置まで
の距離は、空間光変調器に書き込まれた入力像，参照像
の距離に比例する。そのため、入力パターンと参照パタ
ーンの位置によって±１次光の位置は変化するので、検
出器との間で位置ずれがあると相関度の検出は難しいこ
とになる。
次光が入力パターンと参照パターンの相関度を示す信号
になっているのであるが、±１次光と０次光の位置まで
の距離は、空間光変調器に書き込まれた入力像，参照像
の距離に比例する。そのため、入力パターンと参照パタ
ーンの位置によって±１次光の位置は変化するので、検
出器との間で位置ずれがあると相関度の検出は難しいこ
とになる。
【０００７】そこで、本発明は、上述の問題点に鑑み、
パターンの位置が変化しても良好に相関度の検出を可能
にすることを目的とする。
パターンの位置が変化しても良好に相関度の検出を可能
にすることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のパターン認識装置は、複数のパターンから
第１のフーリエ変換を行ってフーリエ変換像を形成し、
フーリエ変換像に第２のフーリエ変換を行ってパターン
の相関値を求めるパターン認識装置であって、第２のフ
ーリエ変換の結像面上に、相関値の強度を検出するため
の第１の検出器と、第２のフーリエ変換の結像面上に、
相関値の強度を検出するとともにその２次元的な位置を
検出する第２の検出器と、この第２の検出器で検出され
た位置に応じて、第１の検出器または前記複数のパター
ンのうち一つの位置を移動させる手段とを備える。
に、本発明のパターン認識装置は、複数のパターンから
第１のフーリエ変換を行ってフーリエ変換像を形成し、
フーリエ変換像に第２のフーリエ変換を行ってパターン
の相関値を求めるパターン認識装置であって、第２のフ
ーリエ変換の結像面上に、相関値の強度を検出するため
の第１の検出器と、第２のフーリエ変換の結像面上に、
相関値の強度を検出するとともにその２次元的な位置を
検出する第２の検出器と、この第２の検出器で検出され
た位置に応じて、第１の検出器または前記複数のパター
ンのうち一つの位置を移動させる手段とを備える。
【０００９】第１の検出器の検出出力が所定の閾値より
も大きく、かつ、第１及び第２の検出器で検出された相
関値の強度の比が所定の閾値よりも大きいことを検出す
る手段をさらに有することを特徴としても良い。
も大きく、かつ、第１及び第２の検出器で検出された相
関値の強度の比が所定の閾値よりも大きいことを検出す
る手段をさらに有することを特徴としても良い。
【００１０】第１及び第２の検出器は、第２のフーリエ
変換でえられる０次光をはさんで配置されていることを
特徴としても良い。
変換でえられる０次光をはさんで配置されていることを
特徴としても良い。
【００１１】
【作用】本発明のパターン認識装置では、フーリエ変換
にて複数のパターンからフーリエ変換像が得られ、フー
リエ変換像にフーリエ変換を行って相関値が求められ
る。ここで、パターンが一致していれば、中央の原パタ
ーンの強度に応じた０次光と対称に輝度の高い点が現
れ、一致していなければ、この点は広がり輝度の小さな
ものになる。
にて複数のパターンからフーリエ変換像が得られ、フー
リエ変換像にフーリエ変換を行って相関値が求められ
る。ここで、パターンが一致していれば、中央の原パタ
ーンの強度に応じた０次光と対称に輝度の高い点が現
れ、一致していなければ、この点は広がり輝度の小さな
ものになる。
【００１２】輝度の高い点と０次光の位置までの距離
は、パターン相互の距離に比例する。パターンのうち一
つの位置を移動させるか、又は検出器を移動させること
で、検出器の位置と輝度の高い点の位置とを一致させる
ことができる。
は、パターン相互の距離に比例する。パターンのうち一
つの位置を移動させるか、又は検出器を移動させること
で、検出器の位置と輝度の高い点の位置とを一致させる
ことができる。
【００１３】
【実施例】本発明の実施例を図面を参照して説明する。
図１は、本発明の一実施例の構成を示したもので、この
装置は、入力像，参照像からフーリエ変換を行ってこれ
らの相関値を求め、光相関演算で認識を行うものであ
る。入力像，参照像を映しだすＣＲＴ150 ，レンズ121,
122,123,124 、ＳＬＭ110,112 、フィルタ114 などで構
成される。指紋認識装置として使用する場合は、前述の
従来例と同様、プリズム320 ，ＬＥＤ330 ，レンズ312
，ＣＣＤカメラ310 などを設けて指紋パターンを入力
像とし予め記憶された参照パターンとの間でパターン認
識を行う。
図１は、本発明の一実施例の構成を示したもので、この
装置は、入力像，参照像からフーリエ変換を行ってこれ
らの相関値を求め、光相関演算で認識を行うものであ
る。入力像，参照像を映しだすＣＲＴ150 ，レンズ121,
122,123,124 、ＳＬＭ110,112 、フィルタ114 などで構
成される。指紋認識装置として使用する場合は、前述の
従来例と同様、プリズム320 ，ＬＥＤ330 ，レンズ312
，ＣＣＤカメラ310 などを設けて指紋パターンを入力
像とし予め記憶された参照パターンとの間でパターン認
識を行う。
【００１４】レンズ121,122 は入力像，参照像をＳＬＭ
110 上に結像させるものであり、レンズ123 はＳＬＭ11
0 から読み出された入力像，参照像をフーリエ変換する
ためのもので、フーリエパターンをＳＬＭ112 上に形成
する。レンズ124 はＳＬＭ112 上に形成されたフーリエ
パターン（フーリエ変換像）を再度フーリエ変換するた
めのもので、相関値に応じたパターンを形成する。
110 上に結像させるものであり、レンズ123 はＳＬＭ11
0 から読み出された入力像，参照像をフーリエ変換する
ためのもので、フーリエパターンをＳＬＭ112 上に形成
する。レンズ124 はＳＬＭ112 上に形成されたフーリエ
パターン（フーリエ変換像）を再度フーリエ変換するた
めのもので、相関値に応じたパターンを形成する。
【００１５】ＳＬＭ110 は、レンズ121,122 の結像面に
おかれ、書き込み光によって書き込まれた像を読み出し
光で読みだし、像のインコヒーレント＝コヒーレント変
換を行うためのものである（オプトロニクス(1985)No.
4）。書き込まれた入力像，参照像をレーザー光でコヒ
ーレント像に変換して再生するようになっている。これ
には、いわゆる液晶−ＳＬＭを用いることができる。Ｓ
ＬＭ112 も同様のものである。ＳＬＭ110,112 への読み
だし光の光学系として前述の従来例と同様に、偏光ビー
ムスプリッタ130 ，132 ，ハーフミラー133 ，ミラー13
4 で形成される。
おかれ、書き込み光によって書き込まれた像を読み出し
光で読みだし、像のインコヒーレント＝コヒーレント変
換を行うためのものである（オプトロニクス(1985)No.
4）。書き込まれた入力像，参照像をレーザー光でコヒ
ーレント像に変換して再生するようになっている。これ
には、いわゆる液晶−ＳＬＭを用いることができる。Ｓ
ＬＭ112 も同様のものである。ＳＬＭ110,112 への読み
だし光の光学系として前述の従来例と同様に、偏光ビー
ムスプリッタ130 ，132 ，ハーフミラー133 ，ミラー13
4 で形成される。
【００１６】検出器140bは、一致した場合±１次光を検
出しその強度信号を出力するためのフォトダイオード
（または、フォトトランジスタ）であり、検出器140a
は、±１次光の位置を検出するための検出器で、２次元
位置検出器（２次元ＰＳＤ）を用いている。検出器140a
の出力は、図２のような通常用いられる信号処理回路で
処理されて位置を示す信号Ｘ，Ｙ（位置信号）及び検出
器140aで受光した総光量の検出出力Σ（強度信号）を出
力する。検出器140a，140bは、レンズ124 の焦点面142
上におかれ、これらの重心はレンズ124 の焦点（０次光
の位置）にほぼ対称になるように配置されている（図
３）。図４は、配置を立体的に示したものである。アン
プ144a，144bはこれらの検出出力を増幅し、比較器146
は増幅された検出出力を比較する。この比較結果と検出
出力Σとでパターンの一致が判断される。
出しその強度信号を出力するためのフォトダイオード
（または、フォトトランジスタ）であり、検出器140a
は、±１次光の位置を検出するための検出器で、２次元
位置検出器（２次元ＰＳＤ）を用いている。検出器140a
の出力は、図２のような通常用いられる信号処理回路で
処理されて位置を示す信号Ｘ，Ｙ（位置信号）及び検出
器140aで受光した総光量の検出出力Σ（強度信号）を出
力する。検出器140a，140bは、レンズ124 の焦点面142
上におかれ、これらの重心はレンズ124 の焦点（０次光
の位置）にほぼ対称になるように配置されている（図
３）。図４は、配置を立体的に示したものである。アン
プ144a，144bはこれらの検出出力を増幅し、比較器146
は増幅された検出出力を比較する。この比較結果と検出
出力Σとでパターンの一致が判断される。
【００１７】入力像は、図５に示すように液晶ＴＶ150
に表示されるものとしている。液晶ＴＶ150 は、ｘ軸，
ｙ軸に移動可能な移動ステージ420 上に設けられ、コン
トローラ410 からの制御信号で移動するようになってい
る。コントローラ410 は、検出器140aの検出出力すなわ
ち信号Ｘ，Ｙから±１次光の重心位置を求め、入力像を
移動させて±１次光の重心が検出器140aの中央にくるよ
うに制御する。これによって±１次光及び検出器140bの
位置が一致するように調整される。
に表示されるものとしている。液晶ＴＶ150 は、ｘ軸，
ｙ軸に移動可能な移動ステージ420 上に設けられ、コン
トローラ410 からの制御信号で移動するようになってい
る。コントローラ410 は、検出器140aの検出出力すなわ
ち信号Ｘ，Ｙから±１次光の重心位置を求め、入力像を
移動させて±１次光の重心が検出器140aの中央にくるよ
うに制御する。これによって±１次光及び検出器140bの
位置が一致するように調整される。
【００１８】入力像（入力パターン），参照像（参照パ
ターン）は、レンズ121,122 によりＳＬＭ110 上に結像
しＳＬＭ110 にかきこまれる。これらの像（図６
（ａ）、入力像（左），参照像（右））がレーザ光によ
りＳＬＭ110 からコヒーレント像に変換されて読み出さ
れ、フーリエ変換されてフーリエパターン（図６
（ｂ））がＳＬＭ112 に書き込まれる。
ターン）は、レンズ121,122 によりＳＬＭ110 上に結像
しＳＬＭ110 にかきこまれる。これらの像（図６
（ａ）、入力像（左），参照像（右））がレーザ光によ
りＳＬＭ110 からコヒーレント像に変換されて読み出さ
れ、フーリエ変換されてフーリエパターン（図６
（ｂ））がＳＬＭ112 に書き込まれる。
【００１９】このフーリエパターンはＳＬＭ112 からレ
ーザ光で読み出され、相関値即ち合同フーリエ変換がさ
れた結果が輝点となってレンズ124 の焦点面142 上に現
れる（図６（ｃ））。図の中央部は０次光によるもので
あり、対象な位置にあるのが相関信号として検出される
±１次光である。入力パターン，参照パターンが同じも
のであれば、±１次光は鋭いピークをなし、検出器140
a，140bからはほぼ同じ光量が検出される。これに対
し、入力パターン，参照パターンが異なっていれば、±
１次光は広がったものになり、検出器140aの検出出力は
検出器140bの検出出力よりも大きくなる。これが検出器
140a，140bで検出されてアンプ144a，144bに出力され
る。検出器140bの検出出力が所定の値を越え、比較器14
6 の比較結果が検出器140bの検出出力が大きいものとな
っている場合パターンが一致しているものと判断され
る。
ーザ光で読み出され、相関値即ち合同フーリエ変換がさ
れた結果が輝点となってレンズ124 の焦点面142 上に現
れる（図６（ｃ））。図の中央部は０次光によるもので
あり、対象な位置にあるのが相関信号として検出される
±１次光である。入力パターン，参照パターンが同じも
のであれば、±１次光は鋭いピークをなし、検出器140
a，140bからはほぼ同じ光量が検出される。これに対
し、入力パターン，参照パターンが異なっていれば、±
１次光は広がったものになり、検出器140aの検出出力は
検出器140bの検出出力よりも大きくなる。これが検出器
140a，140bで検出されてアンプ144a，144bに出力され
る。検出器140bの検出出力が所定の値を越え、比較器14
6 の比較結果が検出器140bの検出出力が大きいものとな
っている場合パターンが一致しているものと判断され
る。
【００２０】パターンの一致の判断については、対象と
なるパターンの類似度や許容限度により決めることにな
る。例えば、指紋認識の際、他人を受容する確率（他人
受容率）を小さくする場合、強度比の閾値，強度の閾値
を上げれば良いし、反対に本人が認識されない確率（本
人排他率）を下げたければ、強度比の閾値，強度の閾値
を下げれば良い。これらはアンプ144a，144bの増幅率，
検出器140a，140bの検出効率などで調整される。
なるパターンの類似度や許容限度により決めることにな
る。例えば、指紋認識の際、他人を受容する確率（他人
受容率）を小さくする場合、強度比の閾値，強度の閾値
を上げれば良いし、反対に本人が認識されない確率（本
人排他率）を下げたければ、強度比の閾値，強度の閾値
を下げれば良い。これらはアンプ144a，144bの増幅率，
検出器140a，140bの検出効率などで調整される。
【００２１】ここで、レンズ124 の焦点面142 上の±１
次光の間隔は、入力パターン，参照パターンの間隔に比
例したものになっているので、入力パターン，参照パタ
ーンの相対的位置がずれた場合、検出器140a上の±１次
光の重心の位置が検出器の中央からずれたものになる。
これが信号Ｘ，Ｙとして検出され、コントローラ410の
制御により移動ステージ420 が入力像を移動させる。こ
れは、信号Ｘ，Ｙでコントローラ410 でモニタされてお
り、±１次光の重心の位置が検出器140bの中央にくるよ
うに制御される。
次光の間隔は、入力パターン，参照パターンの間隔に比
例したものになっているので、入力パターン，参照パタ
ーンの相対的位置がずれた場合、検出器140a上の±１次
光の重心の位置が検出器の中央からずれたものになる。
これが信号Ｘ，Ｙとして検出され、コントローラ410の
制御により移動ステージ420 が入力像を移動させる。こ
れは、信号Ｘ，Ｙでコントローラ410 でモニタされてお
り、±１次光の重心の位置が検出器140bの中央にくるよ
うに制御される。
【００２２】検出器140bの受光面の面積は小さいため、
パターンの相対位置が変化した場合、前述の従来例では
その相関信号の検出が確実でなくなる。しかし、上述の
ようにして、入力像と参照像の位置が異なっていても、
±１次光及び検出器140bの位置が一致するように調整さ
れ、より良好なパターンの一致の検出が可能になる。
パターンの相対位置が変化した場合、前述の従来例では
その相関信号の検出が確実でなくなる。しかし、上述の
ようにして、入力像と参照像の位置が異なっていても、
±１次光及び検出器140bの位置が一致するように調整さ
れ、より良好なパターンの一致の検出が可能になる。
【００２３】なお、検出器140aの大きさとしては、位置
変化の許容度を考慮した上で、検出器140bの受光面の面
積の数倍から１０倍程度の大きさにすれば良い。また、
±１次光の位置を調節する方法としては、レンズ１２４
を移動させる方法、ガルバノミラーでビームをふる方法
などがある。また、入力像にかえて参照像を移動させて
も同様である。さらに、ディスプレイ150 上に入力像，
参照像をともに表示し、スーパーインポーズを制御して
これらの表示位置を変えるようにしても良い。
変化の許容度を考慮した上で、検出器140bの受光面の面
積の数倍から１０倍程度の大きさにすれば良い。また、
±１次光の位置を調節する方法としては、レンズ１２４
を移動させる方法、ガルバノミラーでビームをふる方法
などがある。また、入力像にかえて参照像を移動させて
も同様である。さらに、ディスプレイ150 上に入力像，
参照像をともに表示し、スーパーインポーズを制御して
これらの表示位置を変えるようにしても良い。
【００２４】±１次光の位置を移動させるかわりに検出
器140bの位置を移動させることで±１次光及び検出器14
0bの位置を一致させることもできる。図７は、その場合
の構成を示したもので、移動ステージ420 を検出器140b
に設けたものである。この場合、コントローラ410 は検
出器140aで検出された±１次光の重心位置から検出器14
0bの位置を移動させる、という制御が行われる。
器140bの位置を移動させることで±１次光及び検出器14
0bの位置を一致させることもできる。図７は、その場合
の構成を示したもので、移動ステージ420 を検出器140b
に設けたものである。この場合、コントローラ410 は検
出器140aで検出された±１次光の重心位置から検出器14
0bの位置を移動させる、という制御が行われる。
【００２５】
【発明の効果】以上の通り本発明によれば、パターンの
うち一つの位置を移動させることで、検出器の位置と輝
度の高い点の位置とを一致させることができ、よりＳ／
Ｎのよいパターンの一致の検出を行うことができる。
うち一つの位置を移動させることで、検出器の位置と輝
度の高い点の位置とを一致させることができ、よりＳ／
Ｎのよいパターンの一致の検出を行うことができる。
【図１】実施例の構成図。
【図２】信号処理回路の回路図。
【図３】検出器の位置関係を示す図。
【図４】検出器の位置関係を示す図。
【図５】移動ステージを示す図。
【図６】パターンの相関を求める様子を示す図。但し、
０次光はマスクしてある（ｂ）。
０次光はマスクしてある（ｂ）。
【図７】変形例の構成図。
【図８】従来例の構成図。
１１０，１１２…ＳＬＭ、１２１，１２２，１２３，１
２４，３１２…レンズ、１４０ａ，ｂ…検出器、３１０
…ＣＣＤカメラ、３２０…プリズム、３３０…光源、４
１０…コントローラ。
２４，３１２…レンズ、１４０ａ，ｂ…検出器、３１０
…ＣＣＤカメラ、３２０…プリズム、３３０…光源、４
１０…コントローラ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 原 勉 静岡県浜松市市野町1126番地の１ 浜松 ホトニクス株式会社内 (56)参考文献 特開 平３−123983（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−253982（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−363617（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G06T 7/00 - 7/60 G02B 27/46 G06K 9/74 G06E 3/00
Claims (3)
- 【請求項１】 複数のパターンから第１のフーリエ変換
を行ってフーリエ変換像を形成し、前記フーリエ変換像
に第２のフーリエ変換を行って前記パターンの相関値を
求めるパターン認識装置であって、 第２のフーリエ変換の結像面上に、前記相関値の強度を
検出するための第１の検出器と、 第２のフーリエ変換の結像面上に、前記相関値の強度を
検出するとともにその２次元的な位置を検出する第２の
検出器と、 この第２の検出器で検出された位置に応じて、前記第１
の検出器または前記複数のパターンのうち一つの位置を
移動させる手段とを備えるパターン認識装置。 - 【請求項２】 前記第１の検出器の検出出力が所定の閾
値よりも大きく、かつ、前記第１及び第２の検出器で検
出された前記相関値の強度の比が所定の閾値よりも大き
いことを検出する手段をさらに有することを特徴とする
請求項１記載のパターン認識装置。 - 【請求項３】 前記第１及び第２の検出器は、前記第２
のフーリエ変換でえられる０次光をはさんで配置されて
いることを特徴とする請求項１記載のパターン認識装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04547593A JP3300455B2 (ja) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | パターン認識装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04547593A JP3300455B2 (ja) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | パターン認識装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPH06259562A JPH06259562A (ja) | 1994-09-16 |
| JP3300455B2 true JP3300455B2 (ja) | 2002-07-08 |
Family
ID=12720422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP04547593A Expired - Fee Related JP3300455B2 (ja) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | パターン認識装置 |
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| JP (1) | JP3300455B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001243474A (ja) * | 2000-02-29 | 2001-09-07 | Hamamatsu Photonics Kk | 画像検索装置及び画像検索方法 |
-
1993
- 1993-03-05 JP JP04547593A patent/JP3300455B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06259562A (ja) | 1994-09-16 |
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