JP3291103B2 - 連続表面処理装置 - Google Patents
連続表面処理装置Info
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Description
び化学めっき等で導体化したプラスチックフィルム材の
片面に、電気めっきにより金属層及び合金層を形成する
連続めっき処理、あるいは連続電解研磨する連続表面処
理装置に係り、回転ドラムに円弧状に接触する被処理材
に浴液を含んだ円弧状の吸液構造物質層を押圧摺動させ
ながら陰極材となる被処理材と吸液構造物質層を支持す
る陽極材間に通電させることにより、大容量のめっき浴
槽が不要でかつ均一厚みのめっきが可能な連続表面処理
装置に関する。
板の間にめっき液を供給しながら、電気めっきする連続
めっき装置においては、陰極となる金属帯の被めっき面
全面に亘って均一膜厚のめっき層を形成するために、金
属帯と陽極材間に均一にめっき液を供給する必要があ
り、そのためには金属帯の進行方向に向かってその両側
部にめっき液の流出(漏液)を完全に防止するためのシ
ール装置が必要であり、装置が複雑化し、また均一な厚
みのめっき層を得ることが困難であった。
っき品を陰極とし、陽極治具に接続した筆先に脱脂綿を
固着させ、前記脱脂綿にめっき液を染みこませ、導体化
した被めっき品の所要箇所にめっき層を形成する筆めっ
き法が提案されているが、導体化した被めっき品は小物
品に限定され、部分的めっきには有効であるが、走行中
の広巾の金属板、金属線あるいは化学めっき等で導体化
したプラスチックフィルムに適用することは不可能であ
った。
きや電解研磨あるいは導体化したプラスチックフィルム
にめっきを連続して行うことができる連続表面処理装置
を目的とし、大容量のめっき浴槽が不要でかつ均一厚み
のめっきが可能な連続表面処理装置の提供を目的として
いる。
巾の金属板、金属線あるいは化学めっきなどで導体化し
たプラスチックフィルムに、従来装置のようにシール装
置を配設することなく均一に電気めっきできる装置につ
いて種々検討した結果、巻戻しされ清浄化処理した走行
中の被処理材に、樹脂で絶縁した回転ドラム表面を被処
理材のパスラインより突出させて円弧状に面接触させ、
めっき液貯蔵槽に連結したバルブ付配管を介してめっき
液を連続流出可能にしたポリウレタン製スポンジなどの
円弧状吸液構造物質層を円弧状陽極板に固着して、陰極
となる前記被処理材の円弧面に押圧摺動させる際、吸液
構造物質の毛細管現象により、めっき液が流出しイオン
が供給され電気めっきが行われることを知見し、この発
明を完成した。
し電気的に絶縁された回転ドラムに、陰極材となる被処
理材を走行中に円弧状に接触可能となし、回転ドラムに
円弧状に接触する前記被処理材に対向配置した円弧状陽
極材に、めっき液または電解研磨液の浴槽より供給され
た浴液を含んだ円弧状の吸液構造物質層を配設し、円弧
状陽極材にて前記吸液構造物質層を被処理材に押圧摺動
させながら陰極材と陽極材間に通電可能となしたことを
特徴とする連続表面処理装置である。また、この発明
は、吸液構造物質層に超音波を作用させる超音波発振装
置を有する連続表面処理装置を併せて提案する。
々の金属板または線材及び化学めっき等で導体化した各
種プラスチックフィルム材などが適用でき、これらに円
弧状に接触させるための回転ドラムは電気的に絶縁され
ればいずれの材質でもよいが、例えば、ステンレス鋼製
ドラムの外周面に、硬くて滑り性が良好かつ耐薬品性の
すぐれたフッ素樹脂、4フッ化エチレン等の樹脂が被覆
された構造が採用できる。回転ドラムの幅は被処理材の
幅より広くすることにより、被処理材全幅に電気めっき
でき、また、幅の狭い複数の被処理材を同時に電気めっ
きすることもできる。
っき液または電解研磨液の浴槽より供給された浴液を含
み、連続して流出させることができれば、公知のいずれ
の材質も利用でき、例えば、ポリウレタンフォーム、ポ
リエチレンフォーム、ポリスチレンフォーム、カーボ
ン、脱脂綿、フェルト、ガラス繊維発泡アルミ等の有機
物、無機物からなるものが適用でき、その性状としては
比重が0.02%/cm3〜0.05%/cm3、気孔率
が60%〜90%、気孔径が0.05mm〜1.0m
m、引張強さ4kg/mm2〜6kg/mm2のものが好
ましく、厚みは10mm〜100mmが好ましい。ま
た、厚みは同一厚でもよいが、被処理材の入口側の厚み
を厚くし、出口側の厚みを薄くして、厚みを不同にする
ことにより、電流密度を変化させて、合金比率を変化さ
せることもでき、さらに、一体物でもよいが、被処理材
の進行方向に分割にして、各分割ごとに浴液温度、濃
度、電圧を変えることにより、各分割部における電流密
度をそれぞれの条件を変化させて合金比率を変えること
ができる。
円弧状の角度は吸液構造物質層の入口側、出口側の両端
部と前記回転ドラムの中心点を結ぶ角度は60度〜12
0度が好ましい。また、吸液構造物質層を被処理材へ押
圧する方法としては、吸液構造物質層を配設する円弧状
陽極材自体あるいは円弧状陽極材を別の円弧状押圧部材
にて、ねじ式、ばね式、エアシリンダー等を介して、種
々の押圧力に調整することができ、押圧力は100g/
cm2〜200g/cm2が好ましく、100g/cm2
未満では得られるめっきの光沢性が乏しく、200g/
cm2を越えると光沢性、平滑性が悪くなり、キズ等の
発生の問題があるので好ましくない。
被処理材であり、各種の金属板や金属線の外にプラスチ
ックフィルム材の表面に導電性コーティングや化学めっ
き等で導体化したものも使用でき、前処理として、表面
の脱脂、化学研削、洗浄等の清浄化処理を施すことが好
ましい。また、陽極板としては溶解電極、未溶解電極の
いずれも使用することができ、溶解電極として、電解気
銅、無酸素銅、含燐銅、電解気ニッケル、高硫黄ニッケ
ル、カーボナイズドニッケル、亜鉛、錫、半田、黄銅を
用いることができ、不溶解電極としては鉛合金、純鉛フ
ェライト、白金被覆チタン、炭素、純鉛、白金等を用い
ることができる。さらに、電解研磨にはステンレス、白
金被覆チタン、電気ニッケル等を用いることができる。
めっきあるいは研磨速度を向上させるためには、吸液構
造物質層の金属帯出口側に超音波発振装置を配設するこ
とが好ましく、超音波発振装置の設置により被処理材に
発生するH2ガス、O2ガスなどを速やかに除去すること
ができる。超音波発振装置の発振周波数は20kHz〜
47kHz、出力は30W〜300Wが好ましい。ま
た、吸液構造物質層の幅は、被処理材の全面に電気めっ
きする場合は、少なくとも被処理材と同等以上にする
が、吸液構造物質層と陽極板の幅を被処理材の幅より狭
くすることにより、被処理材の所要位置に部分ストライ
プめっきすることができ、さらに被処理材の所要位置に
マスキングを施しておけば、飛び飛びで部分めっきする
ことができる。なお、吸液構造物質層及び回転ドラムの
幅は陽極板、被処理材幅より広くする必要があるが、前
記吸液構造物質層が陰極板の被処理材に押圧摺動する場
合は陰極板の幅と同一になるようにしなければならな
い。
動中にコロイド状に除去されると同時に新しいめっき液
の供給により、平滑な光沢あるめっき被膜が得られ、そ
の後水洗処理する。めっき被膜厚は0.1μm〜10μ
mであり、被処理材の走行速度は0.03m/分〜0.
3m/分が好ましい。また、めっき被膜厚は、被処理材
の走行速度と電流密度を適宜選定することにより制御で
きる。
こでは、被処理材が金属板の場合について説明する。図
1はこの発明による連続表面処理装置の構成を示す説明
図である。図2は図1の連続表面処理装置の要部の構成
を示す縦断説明図である。巻戻しドラム1から巻戻しさ
れた被めっき金属帯2は金属の清浄化処理のために連続
処理装置3を通過後、ドライブローラー4、テンション
ローラー5を介して、入口側給電ガイドローラー6に送
られる。表面に絶縁樹脂を被覆した回転ドラム7の上表
面は前記給電ガイドローラー6の位置より高位置に配設
され、金属帯2は陰極として、前記回転ドラム7の上表
面に円弧状に面接触しながら、出口側給電ガイドローラ
ー8、ドライブローラー9を介して水洗乾燥連続装置1
0に送られて、巻取りドラム17にて巻き取られる。前
記回転ドラム7に円弧状に面接触された陰極の金属帯2
の上面には、円弧状陽極板13に固着された円弧状吸液
構造物質層14が当接し、めっき液貯蔵槽11よりバブ
ル付パイプ12を介して吸液構造物質層14にめっき液
が供給され、また、円弧状陽極板13の支持具15がエ
アーシリンダ16にて押圧可能に構成され、めっき液は
前記エアーシリンダ16にて吸液構造物質層14が金属
帯2に押圧摺動する際に毛細管現象により流出されると
共に電気めっきが行われ、前記吸液構造物質層側の金属
帯2面に電気めっき層が形成される。なお、吸液構造物
質層14及び円弧状陽極板13の上部に超音波発振装置
18を設置して金属帯2に発生するH2ガス、O2ガスな
どの除去を行い、めっき液貯蔵槽11では、ヒーターと
撹拌機を備え、温度計で液温を所定温度に保持し、ま
た、回転ドラム7下方には水槽を設けて、出口側で回転
ドラム7を水洗するとともに、入口側ではエアーブロー
で水切りを行っている。
面側を回転ドラム7にて円弧状に突出させて、吸液構造
物質層14を当接させる例を示したが、図3のA,Bに
示すごとく、逆の配置とすることもできる。すなわち、
図3のAに示す例では、走行する金属帯2の下面側を回
転ドラム7にて円弧状に突出させて、吸液構造物質層2
4を当接させるもので、支持具21を上下動可能に保持
する圧力調整装置22を用い、内面に円弧状吸液構造物
質層24を固着した円弧状陽極板23を円弧状の支持具
21に載置して、金属帯2の円弧面に所定の圧力で押圧
し、めっき液貯蔵槽25から配管で供給されるめっき液
が金属帯2に押圧摺動する際に毛細管現象により流出さ
れると共に電気めっきが行われる。図3のBに示す例で
は、めっき液浴槽30内に配置する円弧状支持台31
に、内面に円弧状吸液構造物質層32を固着した円弧状
陽極板33を載置して、走行する金属帯2の下面側を回
転ドラム7にて所定の圧力で押圧して円弧状に突出させ
ることにより、浴槽30内のめっき液を吸い上げている
吸液構造物質層32に金属帯2が押圧摺動する際に毛細
管現象により流出されると共に電気めっきが行われる。
比率を変化させるための装置例であり、前述した図1及
び図2の構成において、円弧状陽極板13及び吸液構造
物質層14を走行方向に所要数に分割し、分割した吸液
構造物質層141,142,143にそれぞれ供給するめ
っき液の浴液温度、濃度を変えることにより、また、分
割した陽極板131,132,133にそれぞれ供給する
電圧を変えることにより、各分割部における電流密度を
それぞれの条件を変化させて合金比率を変えることがで
きる。
×厚み0.2mmの表1に示す円弧状の金属板を用い、
また絶縁樹脂回転ドラムとしては直径998mmのステ
ンレス製ドラム外周面に厚み2mmのフッ素樹脂コーテ
ィングした直径1mのものを用いた。前記回転ドラムを
回転数0.3rpmにて回転させながら、幅26mm×
厚み0.2m寸法は表2に示す各種の金属板を陰極板と
して、表3に示す送り速度で移送し、また前記陽極板に
固着し、前記回転ドラムの中心点より60°の開度を有
する幅48mm×厚み70mmの円弧状ポリウレタン製
スポンジ層を前記陰極板に接触圧150g/cm2にて
押圧摺動させながら、上方のめっき液貯蔵層よりパイプ
を介して、前記陽極板を貫通して、前記スポンジ層に充
満しためっき液は前記スポンジ層の押圧摺動の間、前記
スポンジ層よりめっき液は毛細管現象により流出し、表
3に示すめっき条件にて電気めっきした。
表4に示す。密着性はめっき面に設けた1mm角の碁盤
目に粘着テープを張り、剥離した目の数で評価した。光
沢は目視検査により、良好が○、一部に変色が見られる
場合は△で評価した。また、被膜欠陥は400倍の光学
顕微鏡似て目視検査し、良好が○、一部に欠陥が見られ
る場合は△で評価した。さらに、ウイスカーは400倍
の光学顕微鏡似て目視検査し、0.1mm以上の本数で
評価した。
長さ100mm×幅50mm×厚さ0.3mmのCu板
(比較例1)及び同寸法のCu/ステンレス/Niの3
層クラッド板(比較例2)を陰極板とし、陽極板として
寸法長さ180mm×巾90mm厚み2mmの黄銅板
(比較例1)、Sn板(比較例2)を用い、表1に示す
めっき条件にて、電気めっきを行い、陰極板に被覆され
た黄色めっき槽(比較例1)及び錫めっき層(比較例
2)の性状を実施例と同一方法で評価し、表4に示す。
来のごとき大容量のめっき槽が不要で装置を小型化で
き、かつ作業環境を良好にすることができる。また、電
極間距離が一定となることから、めっき膜厚みのばらつ
きを少なくでき、さらに、吸液構造物質層厚みを被処理
材の入口側を厚く、出口側を薄くと相違させることによ
り、合金めっきの場合、合金比率を変えることができ
る。また、連続表面処理装置の回転ドラム幅を広くし、
陽極板、被処理材の幅を狭くすることにより、同時に数
条の被処理材にめっき処理することができ、めっき被膜
欠陥が少なく、光沢平滑性が向上し、さらに、高速度め
っき処理を実施することができる。
説明図である。
の構成を示す縦断説明図である。
処理装置の要部の他の構成を示す縦断説明図である。
質層 15 支持具 16 エアーシリンダ 17 巻取りドラム 18 超音波発振装置 21 支持具 22 圧力調整装置 30 めっき液浴槽31 支持台
Claims (2)
- 【請求項1】 被処理材と同等以上の幅を有し電気的に
絶縁された回転ドラムに、陰極材となる被処理材を走行
中に円弧状に接触可能となし、回転ドラムに円弧状に接
触する前記被処理材に対向配置した円弧状陽極材に、め
っき液または電解研磨液の浴槽より供給された浴液を含
んだ円弧状の吸液構造物質層を配設し、円弧状陽極材に
て前記吸液構造物質層を被処理材に押圧摺動させながら
陰極材と陽極材間に通電可能となしたことを特徴とする
連続表面処理装置。 - 【請求項2】 吸液構造物質層に超音波を作用させる超
音波発振装置を有することを特徴とする請求項1に記載
の連続表面処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP34627293A JP3291103B2 (ja) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | 連続表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34627293A JP3291103B2 (ja) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | 連続表面処理装置 |
Publications (2)
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JPH07180092A JPH07180092A (ja) | 1995-07-18 |
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Family
ID=18382284
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34627293A Expired - Lifetime JP3291103B2 (ja) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | 連続表面処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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-
1993
- 1993-12-22 JP JP34627293A patent/JP3291103B2/ja not_active Expired - Lifetime
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