JP3274345B2 - Image display device and image display method in the device - Google Patents

Image display device and image display method in the device

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JP3274345B2
JP3274345B2 JP3988296A JP3988296A JP3274345B2 JP 3274345 B2 JP3274345 B2 JP 3274345B2 JP 3988296 A JP3988296 A JP 3988296A JP 3988296 A JP3988296 A JP 3988296A JP 3274345 B2 JP3274345 B2 JP 3274345B2
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2201/00Electrodes common to discharge tubes
    • H01J2201/30Cold cathodes
    • H01J2201/316Cold cathodes having an electric field parallel to the surface thereof, e.g. thin film cathodes
    • H01J2201/3165Surface conduction emission type cathodes

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  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に複数の電
子放出素子を備えた電子源とその駆動方法及び装置と、
前記電子源を用いた画像表示方法及びその装置に関する
ものである。
The present invention relates to an electron source having a plurality of electron-emitting devices on a substrate, a method and an apparatus for driving the electron source, and
The present invention relates to an image display method and an apparatus using the electron source.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、電子放出素子として熱陰極素
子と冷陰極素子の2種類が知られている。このうち冷陰
極素子では、例えば表面伝導型電子放出素子や、電界放
出型素子(以下FE型と記す)や、金属/絶縁層/金属
型放出素子(以下MIM型と記す)などが知られてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, two types of electron emitting devices, a hot cathode device and a cold cathode device, are known. Of these, among the cold cathode devices, for example, a surface conduction electron-emitting device, a field emission device (hereinafter referred to as an FE type), a metal / insulating layer / metal type emission device (hereinafter referred to as an MIM type) and the like are known. I have.

【0003】表面伝導型電子放出素子としては、例え
ば、M. I. Elinson, Radio E-ng. Electron Phys., 10,
1290, (1965)や、後述する他の例が知られている。
As surface conduction electron-emitting devices, for example, MI Elinson, Radio Eng. Electron Phys., 10,
1290, (1965) and other examples described below.

【0004】表面伝導型電子放出素子は、基板上に形成
された小面積の薄膜に、膜面に平行に電流を流すことに
より電子放出が生ずる現象を利用するものである。この
表面伝導型電子放出素子としては、前記エリンソン(Eli
nson)等によるSnO2薄膜を用いたものの他に、Au薄
膜によるもの[G. Dittmer:“Thin Solid Films”,9,3
17 (1972)]や、In2O3/SnO2薄膜によるもの[M.
Hartwell and C. G.Fonstad:”IEEE Trans. ED Con
f.”,519 (1975)]や、カーボン薄膜によるもの[荒木
久 他:真空、第26巻、第1号、22(1983)]
等が報告されている。
The surface conduction electron-emitting device utilizes a phenomenon in which electron emission occurs when a current flows in a thin film having a small area formed on a substrate in parallel with the film surface. As the surface conduction type electron-emitting device, the Elinson (Elison) is used.
nson), etc., and an Au thin film [G. Dittmer: “Thin Solid Films”, 9,3.
17 (1972)] and those based on In2O3 / SnO2 thin films [M.
Hartwell and CGFonstad: “IEEE Trans. ED Con
f. ", 519 (1975)] and those using carbon thin films [Hisashi Araki et al .: Vacuum, Vol. 26, No. 1, 22 (1983)]
Etc. have been reported.

【0005】これらの表面伝導型電子放出素子の素子構
成の典型的な例として、図28に前述のM. Hartwellら
による素子の平面図を示す。図28において、3001
は基板で、3004はスパッタで形成された金属酸化物
よりなる導電性薄膜である。導電性薄膜3004は図示
のようにH字形の平面形状に形成されている。この導電
性薄膜3004に、後述の通電フォーミングと呼ばれる
通電処理を施すことにより、電子放出部3005が形成
される。図中の間隔Lは、0.5〜1[mm],幅W
は、0.1[mm]に設定されている。尚、図示の便宜
から、電子放出部3005は導電性薄膜3004の中央
に矩形の形状で示したが、これは模式的なものであり、
実際の電子放出部の位置や形状を忠実に表現しているわ
けではない。
As a typical example of the device configuration of these surface conduction electron-emitting devices, FIG. 28 is a plan view of the device described by M. Hartwell et al. In FIG. 28, 3001
, A substrate; and 3004, a conductive thin film made of metal oxide formed by sputtering. The conductive thin film 3004 is formed in an H-shaped planar shape as shown. An electron emission portion 3005 is formed by applying an energization process called energization forming to be described later to the conductive thin film 3004. The interval L in the figure is 0.5 to 1 [mm] and the width W
Is set to 0.1 [mm]. For convenience of illustration, the electron emitting portion 3005 is shown in a rectangular shape at the center of the conductive thin film 3004, but this is a schematic one.
It does not faithfully represent the actual position and shape of the electron-emitting portion.

【0006】M. Hartwellらによる素子をはじめとして
上述の表面伝導型電子放出素子においては、電子放出を
行う前に導電性薄膜3004に通電フォーミングと呼ば
れる通電処理を施すことにより電子放出部3005を形
成するのが一般的であった。即ち、通電フォーミングと
は、前記導電性薄膜3004の両端に一定の直流電圧、
もしくは、例えば1V/分程度の非常にゆっくりとした
レートで昇圧する直流電圧を印加して通電し、導電性薄
膜3004を局所的に破壊もしくは変形もしくは変質せ
しめ、電気的に高抵抗な状態の電子放出部3005を形
成することである。尚、局所的に破壊もしくは変形もし
くは変質した導電性薄膜3004の一部には亀裂が発生
する。この通電フォーミング後に導電性薄膜3004に
適宜の電圧を印加した場合には、前記亀裂付近において
電子放出が行われる。
In the above-mentioned surface conduction type electron-emitting device including the device by M. Hartwell et al., An electron-emitting portion 3005 is formed by applying an energization process called energization forming to the conductive thin film 3004 before electron emission. It was common to do. That is, the energization forming means that a constant DC voltage is applied to both ends of the conductive thin film 3004,
Alternatively, a current is applied by applying a direct current voltage that is boosted at a very slow rate of, for example, about 1 V / min, and locally destroys, deforms, or alters the conductive thin film 3004, and the electrons in an electrically high resistance state That is, forming the emission part 3005. Note that a crack is generated in a part of the conductive thin film 3004 that is locally broken, deformed, or altered. When an appropriate voltage is applied to the conductive thin film 3004 after the energization forming, electron emission is performed in the vicinity of the crack.

【0007】またFE型の例としては、例えば、W. P.
Dyke & W. W. Dolan,“Field emission”, Advance in
Electron Physics, 8, 89 (1956)や、或は、C. A. Spi
ndt,“Physical properties of thin-film field emis
sion cathodes with molybdenium cones”, J. Appl. P
hys., 47, 5248 (1976)などが知られている。
As an example of the FE type, for example, WP
Dyke & WW Dolan, “Field emission”, Advance in
Electron Physics, 8, 89 (1956) or CA Spi
ndt, “Physical properties of thin-film field emis
sion cathodes with molybdenium cones ”, J. Appl. P
hys., 47, 5248 (1976).

【0008】FE型の素子構成の典型的な例として、図
29に前述のC. A. Spindtらによる素子の断面図を示
す。同図において、3010は基板で、3011は導電
材料よりなるエミッタ配線、3012はエミッタコー
ン、3013は絶縁層、3014はゲート電極である。
本素子は、エミッタコーン3012とゲート電極301
4の間に適宜の電圧を印加することにより、エミッタコ
ーン3012の先端部より電界放出を起こさせるもので
ある。
As a typical example of the FE-type device configuration, FIG. 29 is a cross-sectional view of the device by CA Spindt et al. In the figure, 3010 is a substrate, 3011 is an emitter wiring made of a conductive material, 3012 is an emitter cone, 3013 is an insulating layer, and 3014 is a gate electrode.
This device comprises an emitter cone 3012 and a gate electrode 301
By applying an appropriate voltage during the period 4, field emission is caused from the tip of the emitter cone 3012.

【0009】また、FE型の他の素子構成として、図2
9のような積層構造ではなく、基板上に基板平面とほぼ
平行にエミッタとゲート電極を配置した例もある。
As another element structure of the FE type, FIG.
There is also an example in which the emitter and the gate electrode are arranged on the substrate almost in parallel with the substrate plane, instead of the laminated structure as shown in FIG.

【0010】また、MIM型の例としては、例えば、C.
A. Mead,“Operation of tunnel-emission Devices,
J. Appl. Phys., 32,646 (1961)などが知られている。
MIM型の素子構成の典型的な例を図30に示す。同図
は断面図であり、図において、3020は基板で、30
21は金属よりなる下電極、3022は厚さ100オン
グストローム程度の薄い絶縁層、3023は厚さ80〜
300オングストローム程度の金属よりなる上電極であ
る。MIM型においては、上電極3023と下電極30
21の間に適宜の電圧を印加することにより、上電極3
023の表面より電子放出を起こさせるものである。
Examples of the MIM type include, for example, C.I.
A. Mead, “Operation of tunnel-emission Devices,
J. Appl. Phys., 32,646 (1961) and the like are known.
FIG. 30 shows a typical example of the MIM element configuration. The figure is a cross-sectional view, in which 3020 is a substrate,
21 is a lower electrode made of metal, 3022 is a thin insulating layer having a thickness of about 100 Å, and 3023 is a layer having a thickness of 80 to 80 Å.
The upper electrode is made of a metal of about 300 angstroms. In the MIM type, the upper electrode 3023 and the lower electrode 30
21 by applying an appropriate voltage to the upper electrode 3.
The electron emission is caused from the surface of H.023.

【0011】上述の冷陰極素子は、熱陰極素子と比較し
て低温で電子放出を得ることができるため加熱用ヒータ
を必要としない。従って、熱陰極素子よりも構造が単純
であり、微細な素子を作成可能である。また、基板上に
多数の素子を高い密度で配置しても基板の熱溶融などの
問題が発生しにくい。また、熱陰極素子がヒータの加熱
により動作するため応答速度が遅いのとは異なり、冷陰
極素子の場合には応答速度が速いという利点もある。こ
のような理由により冷陰極素子を応用するための研究が
盛んに行われてきている。
The above-described cold cathode device does not require a heater for heating because it can obtain electrons at a lower temperature than the hot cathode device. Therefore, the structure is simpler than that of the hot cathode element, and a fine element can be produced. Further, even if a large number of elements are arranged on the substrate at a high density, problems such as thermal melting of the substrate hardly occur. Also, unlike the hot cathode element, which operates by heating the heater, the response speed is slow, and the cold cathode element has the advantage that the response speed is fast. For these reasons, studies for applying the cold cathode device have been actively conducted.

【0012】例えば、表面伝導型電子放出素子は、冷陰
極素子の中でも特に構造が単純で製造も容易であること
から、大面積に亙り多数の素子を形成できる利点があ
る。そこで例えば本願出願人による特開昭64−313
32号公報において開示されるように、多数の素子を配
列して駆動するための方法が研究されている。
For example, a surface conduction electron-emitting device has the advantage that a large number of devices can be formed over a large area because it has a particularly simple structure and is easy to manufacture among cold cathode devices. Therefore, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-313 by the present applicant
As disclosed in Japanese Patent Publication No. 32, a method for arranging and driving a large number of elements has been studied.

【0013】また、表面伝導型電子放出素子の応用につ
いては、例えば、画像表示装置、画像記録装置などの画
像形成装置や、荷電ビーム源、等が研究されている。
With respect to the application of the surface conduction electron-emitting device, for example, image forming devices such as image display devices and image recording devices, and charged beam sources have been studied.

【0014】特に画像表示装置への応用としては、例え
ば本願出願人によるUSP5,066,883や特開平
2−257551号公報や特開平4−28137号公報
において開示されているように、表面伝導型電子放出素
子と電子ビームの照射により発光する蛍光体とを組み合
わせて用いた画像表示装置が研究されている。このよう
な表面伝導型電子放出素子と蛍光体とを組み合わせて用
いた画像表示装置は、従来の他の方式の画像表示装置よ
りも優れた特性が期待されている。例えば、近年普及し
てきた液晶表示装置と比較しても、自発光型であるため
バックライトを必要としない点や、視野角が広い点が優
れていると言える。
Particularly, as an application to an image display device, for example, as disclosed in US Pat. No. 5,066,883, JP-A-2-257551 and JP-A-4-28137 by the present applicant, a surface conduction type is disclosed. Image display devices using a combination of an electron-emitting device and a phosphor that emits light when irradiated with an electron beam have been studied. An image display device using a combination of such a surface conduction electron-emitting device and a phosphor is expected to have better characteristics than other conventional image display devices. For example, compared to a liquid crystal display device that has become widespread in recent years, it can be said that it is excellent in that it is a self-luminous type and does not require a backlight and has a wide viewing angle.

【0015】また、FE型を多数個ならべて駆動する方
法は、例えば、本願出願人によるUSP 4,904,895号に開
示されている。また、FE型を画像表示装置に応用した
例として、例えば、R. Meyerらにより報告された平板型
表示装置が知られている。[R. Meyer:“Recent Develop
ment on Microtips Display at LETI”, Tech. Digest
of 4th Int. Vacuum Microelectronics Conf., Nagaham
a, pp 6〜9(1991)]。
A method of driving a plurality of FE types in a row is disclosed, for example, in US Pat. No. 4,904,895 by the present applicant. Further, as an example of applying the FE type to an image display device, for example, a flat panel display device reported by R. Meyer et al. Is known. [R. Meyer: “Recent Develop
ment on Microtips Display at LETI ”, Tech. Digest
of 4th Int.Vacuum Microelectronics Conf., Nagaham
a, pp 6-9 (1991)].

【0016】また、MIM型を多数個並べて画像表示装
置に応用した例は、例えば本願出願人による特開平3−
55738号に開示されている。
An example in which a number of MIM types are arranged and applied to an image display device is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
No. 55738.

【0017】本願発明者らは、上記従来技術に記載した
ものを初めとして、種々の材料、製法、構造の冷陰極素
子を試みてきた。更に、多数の冷陰極素子を配列したマ
ルチ電子ビーム源、並びにこのマルチ電子ビーム源を応
用した画像表示装置について研究を行ってきた。
The inventors of the present application have tried cold cathode devices of various materials, manufacturing methods, and structures, including those described in the above prior art. Furthermore, research has been conducted on a multi-electron beam source in which a large number of cold cathode devices are arranged, and on an image display device using the multi-electron beam source.

【0018】本願発明者らは、例えば図31に示す電気
的な配線方法によるマルチ電子ビーム源を試みてきた。
即ち、冷陰極素子を2次元的に多数個配列し、これらの
素子を図示のようにマトリクス状に配線したマルチ電子
ビーム源である。
The inventors of the present application have tried a multi-electron beam source by an electric wiring method shown in FIG. 31, for example.
That is, it is a multi-electron beam source in which a large number of cold cathode devices are two-dimensionally arranged and these devices are wired in a matrix as shown in the figure.

【0019】図中、4001は冷陰極素子を模式的に示
したもの、4002は行方向配線、4003は列方向配
線を示している。行方向配線4002及び列方向配線4
003は、実際には有限の電気抵抗を有するものである
が、図においては配線抵抗4004及び4005として
示されている。上述のような配線方法を、単純マトリク
ス配線と呼ぶ。尚、図示の便宜上、6×6のマトリクス
で示しているが、マトリクスの規模はむろんこれに限っ
たわけではなく、例えば画像表示装置用のマルチ電子ビ
ーム源の場合には、所望の画像表示を行うのに足りるだ
けの素子を配列し配線するものである。
In the figure, 4001 schematically shows a cold cathode element, 4002 shows a row direction wiring, and 4003 shows a column direction wiring. Row direction wiring 4002 and column direction wiring 4
003 actually has a finite electrical resistance, but is shown as wiring resistances 4004 and 4005 in the figure. The above-described wiring method is called simple matrix wiring. Note that, for convenience of illustration, the matrix is shown as a 6 × 6 matrix, but the size of the matrix is not limited to this. For example, in the case of a multi-electron beam source for an image display device, a desired image is displayed. Only enough elements are arranged and wired.

【0020】表面伝導型電子放出素子を単純マトリクス
配線したマルチ電子ビーム源においては、所望の電子ビ
ームを出力させるため、行方向配線4002及び列方向
配線4003に適宜の電気信号を印加する。例えば、マ
トリクスの中の任意の1行の表面伝導型電子放出素子を
駆動するには、選択する行の行方向配線4002には選
択電圧Vsを印加し、同時に非選択の行の行方向配線4
002には非選択電圧Vnsを印加する。これと同期して
列方向配線4003に電子ビームを出力するための駆動
電圧Veを印加する。この方法によれば、配線抵抗40
04及び4005による電圧降下を無視すれば、選択す
る行の表面伝導型電子放出素子には、(Ve−Vs)の電
圧が印加され、また非選択行の表面伝導型電子放出素子
には(Ve−Vns)の電圧が印加される。ここで、これ
らVe,Vs,Vnsの電圧値を適宜の大きさの電圧にすれ
ば、選択する行の表面伝導型電子放出素子だけから所望
の強度の電子ビームが出力されるはずであり、また列方
向配線4003の各々に異なる駆動電圧Veを印加すれ
ば、選択する行の素子の各々から異なる強度の電子ビー
ムが出力されるはずである。また、表面伝導型電子放出
素子の応答速度は高速であるため、駆動電圧Veを印加
する時間の長さを変えれば、電子ビームが出力される時
間の長さも変えることができるはずである。
In a multi-electron beam source in which surface conduction electron-emitting devices are arranged in a simple matrix, an appropriate electric signal is applied to the row wiring 4002 and the column wiring 4003 in order to output a desired electron beam. For example, to drive a surface-conduction electron-emitting device of an arbitrary row in a matrix, a selection voltage Vs is applied to a row-directional wiring 4002 of a selected row, and at the same time, a row-directional wiring 4 of an unselected row is applied.
A non-selection voltage Vns is applied to 002. In synchronization with this, a driving voltage Ve for outputting an electron beam is applied to the column wiring 4003. According to this method, the wiring resistance 40
If the voltage drops caused by the elements 04 and 4005 are neglected, a voltage of (Ve−Vs) is applied to the surface conduction electron-emitting devices in the selected row, and (Ve−Vs) is applied to the surface conduction electron-emitting devices in the non-selected rows. −Vns). Here, if the voltage values of Ve, Vs, and Vns are set to appropriate voltages, an electron beam having a desired intensity should be output only from the surface conduction electron-emitting devices in the selected row. If a different drive voltage Ve is applied to each of the column-directional wirings 4003, an electron beam having a different intensity should be output from each of the elements in the selected row. Further, since the response speed of the surface conduction electron-emitting device is high, if the length of time for applying the drive voltage Ve is changed, the length of time for outputting the electron beam should be changed.

【0021】従って、表面伝導型電子放出素子を単純マ
トリクス配線したマルチ電子ビーム源には種々の応用で
きる可能性があり、例えば画像情報に応じた電気信号を
適宜印加すれば、画像表示装置用の電子源として好適に
用いることができる。
Therefore, there is a possibility that various applications can be applied to a multi-electron beam source in which surface conduction electron-emitting devices are arranged in a simple matrix. For example, if an electric signal corresponding to image information is appropriately applied, a multi-electron beam source for an image display device can be obtained. It can be suitably used as an electron source.

【0022】このような表面伝導型放出素子を用いたカ
ラー画像表示装置では、そのフェースプレート上にマル
チ電子源から放出された電子が衝突することにより発光
する赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の蛍光体が図
32に示す様にデルタ状に配列されている。このデルタ
配列は、同図に示すように上下の2ラインで蛍光体のピ
ッチが行方向に1/2ピッチずれている。そのため、図
33に示すように、各蛍光体に対応する放出素子部10
10も同様に水平方向に1/2ピッチずらして配置する
必要がある。しかしながらこのような配列にすると、列
方向配線1012を同図のように蛇行させる必要があ
る。
In a color image display device using such a surface conduction electron-emitting device, red (R), green (G), and red (R) light emitted when an electron emitted from a multi-electron source collides with its face plate. Phosphors of three colors of blue (B) are arranged in a delta shape as shown in FIG. In this delta arrangement, as shown in the figure, the pitch of the phosphor is shifted by 1/2 pitch in the row direction between the upper and lower two lines. Therefore, as shown in FIG. 33, the emission element section 10 corresponding to each phosphor
Similarly, it is necessary to displace 10 in the horizontal direction by ピ ッ チ pitch. However, in such an arrangement, it is necessary to meander the column direction wiring 1012 as shown in FIG.

【0023】[0023]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、放出
素子部を蛍光体の配置に合わせて各行毎に1/2ピッチ
ずつずらして配置すると、それに対応して列方向配線1
012を蛇行しなければならない。しかし、このように
配線が蛇行すると、配線が直線である場合に比べてパタ
ーンの引き回しが複雑になって製作しにくく、また、こ
のような配線の蛇行は配線そのものの長さを長くするこ
とになり配線抵抗が増大するという問題があった。
As described above, when the emission element portions are arranged at a pitch of 1/2 of each row in accordance with the arrangement of the phosphors, the column direction wiring 1 is correspondingly arranged.
012 must meander. However, if the wiring meanders in this way, the pattern routing becomes more complicated and difficult to manufacture than if the wiring is straight, and such wiring meandering increases the length of the wiring itself. There is a problem that the wiring resistance increases.

【0024】本発明は上記従来例に鑑みてなされたもの
で、列方向配線を蛇行させることなく複数の電子放出素
子をマトリクス上に配列した電子源とその駆動方法及び
装置と、前記電子源を用いた画像表示方法及びその装置
を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional example, and has an electron source in which a plurality of electron-emitting devices are arranged in a matrix without meandering a column-direction wiring, a method and a device for driving the electron source, and the electron source. It is an object of the present invention to provide an image display method and an apparatus therefor.

【0025】本発明の目的は、デルタ状に配列された蛍
光体を列方向配線を直線にして正マトリクス状に配列さ
れた電子放出素子により照射駆動して画像を表示できる
電子源とその駆動方法及び装置と、前記電子源を用いた
画像表示方法及びその装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an electron source capable of displaying an image by irradiating and driving phosphors arranged in a delta shape by electron emission elements arranged in a positive matrix with straight line wiring in a column direction, and a driving method therefor. And an apparatus, and an image display method and an apparatus using the electron source.

【0026】また本発明は、1つの蛍光体を複数の電子
放出素子よりの放出電子で駆動することにより、発光輝
度を高めることができる電子源とその駆動方法及び装置
と、前記電子源を用いた画像表示方法及びその装置を提
供することにある。
Further, the present invention provides an electron source, a driving method and an apparatus for driving the same phosphor, which are driven by emitted electrons from a plurality of electron-emitting devices, thereby increasing the light emission luminance. To provide an image display method and an apparatus therefor.

【0027】本発明の他の目的は、表示に要する電子放
出素子の数を減らして製造コストの低下、製造工程の削
減を達成できる電子源とその駆動方法及び装置と、前記
電子源を用いた画像表示方法及びその装置を提供するこ
とにある。
Another object of the present invention is to reduce the number of electron-emitting devices required for display, thereby reducing the manufacturing cost and the number of manufacturing steps, an electron source driving method and apparatus, and the use of the electron source. It is an object of the present invention to provide an image display method and an apparatus therefor.

【0028】また本発明の他の目的は、1行に配列され
た電子放出素子からの放出電子で2行分の画像を表示で
きる電子源とその駆動方法及び装置と、前記電子源を用
いた画像表示方法及びその装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an electron source capable of displaying an image for two lines with electrons emitted from the electron-emitting devices arranged in one line, a method and a device for driving the electron source, and using the electron source. It is an object of the present invention to provide an image display method and an apparatus therefor.

【0029】[0029]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の電子源は以下のような構成を備える。即ち、
マトリクス状に配列された複数の電子放出素子を備える
電子源であって、列方向配線に対して時計回り方向と反
時計回り方向に所定角度回転させた電子放出素子を交互
に配置し、同一行に位置している前記電子放出素子の一
方の電極が共通の行方向配線に接続され、前記同一行に
位置している前記電子放出素子の他方の電極がそれぞれ
異なる列方向配線に接続されている。
In order to achieve the above object, an electron source according to the present invention has the following arrangement. That is,
An electron source including a plurality of electron-emitting devices arranged in a matrix, wherein the electron-emitting devices are rotated alternately by a predetermined angle in a clockwise direction and a counterclockwise direction with respect to a column wiring, and are arranged alternately in the same row. Are connected to a common row-direction wiring, and the other electrodes of the electron-emitting elements positioned on the same row are connected to different column-direction wirings, respectively. .

【0030】また上記目的を達成するために本発明の電
子源の駆動装置は以下のような構成を備える。即ち、請
求項1に記載の電子源の駆動装置であって、前記複数の
電子放出素子を行単位に選択する走査行選択手段と、前
記走査行選択手段による選択に同期して選択された行方
向配線に正極性の電位を印加する第1の行印加手段と、
前記第1の行印加手段により正極性の電位が印加された
行の電子放出素子の隣接する2個が接続されている列方
向配線に負極性で同じ電位の電圧信号を印加する第1の
列印加手段と、前記走査行選択手段による選択に同期し
て選択された行方向配線に負極性の電位を印加する第2
の行印加手段と、前記第2の行印加手段により負極性の
電位が印加された行の電子放出素子の、前記直前に印加
されたのとは異なる隣接する2個が接続されている列方
向配線に正極性で同じ電位の電圧信号を印加する第2の
列印加手段とを備える。
Further, in order to achieve the above object, a driving apparatus for an electron source according to the present invention has the following configuration. That is, the driving apparatus of the electron source according to claim 1, wherein the scanning line selecting means for selecting the plurality of electron-emitting devices on a row-by-row basis, and the row selected in synchronization with the selection by the scanning row selecting means. First row application means for applying a positive potential to the direction wiring;
A first column for applying a voltage signal of a negative polarity and the same potential to a column direction wiring to which two adjacent electron-emitting devices of a row to which a positive potential has been applied by the first row applying means are connected; Applying means for applying a negative potential to the selected row direction wiring in synchronization with the selection by the scanning row selecting means;
And a row direction in which two adjacent electron-emitting devices in a row to which a negative potential is applied by the second row applying means are connected, which are different from the two immediately preceding applied electron-emitting devices. A second column applying means for applying a voltage signal of the same potential with the positive polarity to the wiring.

【0031】更に上記目的を達成するために本発明の画
像表示装置は以下のような構成を備える。即ち、マトリ
クス状に配列された複数の電子放出素子を備える電子源
を用いた画像表示装置であって、前記複数の電子放出素
子と異なる形状に配置された複数の蛍光体を有する表示
用プレートと、列方向配線に対して時計回り方向と反時
計回り方向に所定角度回転させた電子放出素子を交互に
配置し、同一行に位置している前記電子放出素子の内の
1つおきに配置された第1の電子放出素子の一方の電極
が共通の行方向配線に接続され、前記同一行に位置して
いる前記第1の電子放出素子以外の第2の電子放出素子
の一方の電極が次の行方向配線に接続され、前記第1の
電子放出素子の他方の電極がそれぞれ異なる列方向配線
に接続され、前記第2の電子放出素子の他方の電極のそ
れぞれが前記列方向配線のそれぞれに接続した電子源
と、前記複数の電子放出素子を行単位に選択する走査行
選択手段と、前記走査行選択手段による選択に同期して
選択された行方向配線に正極性の電位を印加する第1の
行印加手段と、前記第1の行印加手段により正極性の電
位が印加された行の電子放出素子に接続されている列方
向配線に負極性の画像信号を印加する第1の列印加手段
と、前記走査行選択手段により次に行が選択されると、
当該選択された行方向配線に正極性の電位を印加する第
2の行印加手段と、前記第2の行印加手段により正極性
の電位が印加された行の電子放出素子に接続されている
列方向配線に負極性の画像信号を印加する第2の列印加
手段とを有する。
Further, in order to achieve the above object, the image display device of the present invention has the following configuration. That is, an image display device using an electron source including a plurality of electron-emitting devices arranged in a matrix, a display plate having a plurality of phosphors arranged in a different shape from the plurality of electron-emitting devices, The electron-emitting devices rotated clockwise and counterclockwise by a predetermined angle with respect to the column-directional wiring are alternately arranged, and are arranged every other one of the electron-emitting devices located in the same row. One electrode of the first electron-emitting device is connected to a common row direction wiring, and one electrode of a second electron-emitting device other than the first electron-emitting device located on the same row is connected to the next electrode. And the other electrodes of the first electron-emitting devices are connected to different column-direction wires, respectively, and the other electrodes of the second electron-emitting devices are connected to the column-direction wires, respectively. Connected electron source and front Scanning row selecting means for selecting a plurality of electron-emitting devices in row units, first row applying means for applying a positive potential to a selected row direction wiring in synchronization with the selection by the scanning row selecting means, First column applying means for applying a negative image signal to a column-directional wiring connected to the electron-emitting device of the row to which a positive potential has been applied by the first row applying means; When the next row is selected by means,
A second row applying unit for applying a positive potential to the selected row direction wiring, and a column connected to the electron-emitting device of the row to which the positive potential is applied by the second row applying unit Second column applying means for applying a negative image signal to the directional wiring.

【0032】更に上記目的を達成するために本発明の画
像表示方法は以下のような工程を備える。即ち、請求項
1に記載の電子源と、前記電子源の複数の電子放出素子
と異なる形状に配置された複数の蛍光体を有する表示用
プレートとを備えた画像表示装置における画像表示方法
であって、前記複数の電子放出素子を行単位に選択する
工程と、行の選択に同期して選択された行方向配線に負
極性の電位を印加する工程と、前記負極性の電位が印加
された行の1つおきに配置された第1の電子放出素子に
接続されている列方向配線に正極性の画像信号を印加す
る工程と、前記負極性の電位が印加された行の前記第1
の電子放出素子以外の電子放出素子に接続されている列
方向配線に正極性で、かつ次行の画像信号を印加する工
程とを備える。
Further, in order to achieve the above object, the image display method of the present invention comprises the following steps. That is, an image display method for an image display device comprising: the electron source according to claim 1; and a display plate having a plurality of phosphors arranged in different shapes from the plurality of electron-emitting devices of the electron source. Selecting the plurality of electron-emitting devices on a row-by-row basis, applying a negative potential to a selected row direction wiring in synchronization with the row selection, and applying the negative potential. Applying a positive-polarity image signal to a column-directional wiring connected to the first electron-emitting devices arranged every other row; and applying the first negative-polarity potential to the first row of the rows to which the negative-polarity potential is applied.
Applying a positive-polarity image signal of the next row to the column wiring connected to the electron-emitting devices other than the electron-emitting device.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の好適な実施の形態を詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0034】以下、本発明の実施の形態の画像表示装置
について説明するが、説明の便宜上本実施の形態の表示
パネル1000の基本的構成と製法、電子源の構成と製
造方法、電子源を駆動する電気回路の構成及び駆動の方
法の順で説明する。
Hereinafter, an image display device according to an embodiment of the present invention will be described. For convenience of explanation, the basic configuration and manufacturing method of the display panel 1000 according to the present embodiment, the configuration and manufacturing method of the electron source, and the driving of the electron source are described. The configuration and the driving method of the electric circuit will be described in this order.

【0035】(表示パネル1000の構成と製造方法)
まず最初に本実施の形態の表面伝導型電子放出素子を基
板上にマトリクス状に配列した表示パネル1000の構
成と製造法について具体的な例を示して説明する。
(Configuration and Manufacturing Method of Display Panel 1000)
First, the configuration and manufacturing method of a display panel 1000 in which the surface conduction electron-emitting devices of this embodiment are arranged in a matrix on a substrate will be described with reference to specific examples.

【0036】図1は、本実施の形態に用いた表示パネル
1000の外観斜視図であり、内部構造を示すためにパ
ネル1000の1部を切り欠いて示している。
FIG. 1 is an external perspective view of a display panel 1000 used in the present embodiment, in which a part of the panel 1000 is cut away to show the internal structure.

【0037】図中、1005はリアプレート、1006
は側壁、1007はフェースプレートであり、1005
〜1007により表示パネル1000の内部を真空に維
持するための気密容器を形成している。この気密容器を
組み立てるにあたっては、各部材の接合部に十分な強度
と気密性を保持させるため封着する必要があるが、例え
ばフリットガラスを接合部に塗布し、大気中或は窒素雰
囲気中で摂氏400〜500度で10分以上焼成するこ
とにより封着を達成した。この気密容器内部を真空に排
気する方法については後述する。
In the figure, 1005 is a rear plate, 1006
Is a side wall, 1007 is a face plate, 1005
1007 form an airtight container for maintaining the inside of the display panel 1000 in a vacuum. When assembling this airtight container, it is necessary to seal the joints of each member to maintain sufficient strength and airtightness.For example, frit glass is applied to the joints, and the joints are placed in the air or in a nitrogen atmosphere. Sealing was achieved by firing at 400 to 500 degrees Celsius for 10 minutes or more. A method for evacuating the inside of the airtight container will be described later.

【0038】リアプレート1005には基板1001が
固定されているが、該基板1001上には表面伝導型放
出素子1002が、図のように行及び列方向に対して斜
め方向に配置された状態でN×M個形成されている(こ
こでN,Mは2以上の正の整数であり、目的とする表示
画素数に応じて適宜設定される。例えば、高品位テレビ
ジョンの表示を目的とした表示装置においては、N=3
000,M=1000以上の数を設定することが望まし
い。本実施の形態においてはN=3072,M=102
4とした)。これらN×M個の表面伝導型放出素子10
02は、M本の行方向配線1003とN本の列方向配線
1004により単純マトリクス配線されている。これら
基板1001、表面伝導型電子放出素子1002、行方
向、列方向配線1003,1004によって構成される
部分をマルチ電子ビーム源と呼ぶ。なお、このマルチ電
子ビーム源の製造方法や構造については、後で詳しく述
べる。
A substrate 1001 is fixed to the rear plate 1005. On the substrate 1001, surface conduction electron-emitting devices 1002 are arranged obliquely with respect to the row and column directions as shown. N × M pixels are formed (where N and M are positive integers of 2 or more and are appropriately set according to the target number of display pixels. For example, for the purpose of displaying high-definition television) In the display device, N = 3
It is desirable to set a number of 000, M = 1000 or more. In this embodiment, N = 3072, M = 102
4). These N × M surface conduction electron-emitting devices 10
A simple matrix wiring 02 is formed by M row-directional wirings 1003 and N column-directional wirings 1004. The portion composed of the substrate 1001, the surface conduction electron-emitting device 1002, the row and column wirings 1003, 1004 is called a multi-electron beam source. The manufacturing method and structure of the multi-electron beam source will be described later in detail.

【0039】尚、本実施の形態においては、気密容器の
リアプレート1005にマルチ電子ビーム源の基板10
01を固定する構成としたが、マルチ電子ビーム源の基
板1001が十分な強度を有するものである場合には、
気密容器のリアプレートとしてマルチ電子ビーム源の基
板1001自体を用いてもよい。
In this embodiment, the substrate 10 of the multi-electron beam source is mounted on the rear plate 1005 of the hermetic container.
01 is fixed, but when the substrate 1001 of the multi-electron beam source has a sufficient strength,
The substrate 1001 of the multi-electron beam source may be used as the rear plate of the airtight container.

【0040】また、フェースプレート1007の下面に
は、蛍光膜1008が形成されている。本実施の形態は
カラー表示装置用の表示パネル1000であるため、蛍
光膜1008の部分にはCRTの分野で用いられる赤
(R)、緑(G)、青(B)の3原色の蛍光体が塗り分
けられている。各色の蛍光体は、例えば図2に示すよう
にデルタ状に塗り分けられ、各色の蛍光体の間には黒色
の導電体1010が設けてある。このような黒色の導電
体1010を設ける目的は、電子ビームの照射位置に多
少のずれがあっても表示色にずれが生じないようにする
ためや、外光の反射を防止して表示コントラストの低下
を防ぐため、電子ビームによる蛍光膜のチャージアップ
を防止するためなどである。黒色の導電体1010に
は、黒鉛を主成分として用いたが、上記の目的に適する
ものであればこれ以外の材料を用いても良い。
On the lower surface of the face plate 1007, a fluorescent film 1008 is formed. Since the present embodiment is a display panel 1000 for a color display device, the fluorescent film 1008 has three primary color phosphors of red (R), green (G), and blue (B) used in the field of CRT. Are painted separately. The phosphors of each color are separately applied in a delta shape as shown in FIG. 2, for example, and a black conductor 1010 is provided between the phosphors of each color. The purpose of providing such a black conductor 1010 is to prevent the display color from being shifted even if the electron beam irradiation position is slightly shifted, or to prevent the reflection of external light to improve the display contrast. This is to prevent a decrease, to prevent charge-up of the fluorescent film by an electron beam, and the like. Although graphite is used as a main component for the black conductor 1010, any other material may be used as long as it is suitable for the above purpose.

【0041】なお、モノクローム画像表示用の表示パネ
ルを作成する場合には、単色の蛍光体材料を蛍光膜10
08に用いれば良く、また黒色導電材料は必ずしも用い
なくともよい。
When a display panel for displaying a monochrome image is formed, a monochromatic phosphor material is applied to the phosphor film 10.
08, and the black conductive material need not always be used.

【0042】また、蛍光膜1008のリアプレート10
05側の面には、CRTの分野では公知のメタルバック
1009を設けてある。このメタルバック1009を設
けた目的は、蛍光膜1008が発する光の一部を鏡面反
射して光利用率を向上させるためや、負イオンの衝突か
ら蛍光膜1008を保護するため、電子ビーム加速電圧
を印加するための電極として作用させるため、更には蛍
光膜1008を励起した電子の導電路として作用させる
ためなどである。このメタルバック1009は、蛍光膜
1008をフェースプレート基板1007上に形成した
後、蛍光膜1008の表面を平滑化処理し、その上にA
l(アルミニウム)を真空蒸着する方法により形成し
た。なお、蛍光膜1008に低電圧用の蛍光体材料を用
いた場合にはメタルバック1009は用いない。
The rear plate 10 of the fluorescent film 1008
On the surface on the 05 side, a metal back 1009 known in the field of CRT is provided. The purpose of providing the metal back 1009 is to improve the light utilization rate by mirror-reflecting a part of the light emitted from the fluorescent film 1008, and to protect the fluorescent film 1008 from the collision of negative ions with the electron beam acceleration voltage. To act as an electrode for applying the electric field, and also to act as a conductive path for the excited electrons of the fluorescent film 1008. This metal back 1009 is formed by forming a fluorescent film 1008 on a face plate substrate 1007, then smoothing the surface of the fluorescent film 1008, and forming an A
1 (aluminum) was formed by a vacuum deposition method. Note that when a fluorescent material for low voltage is used for the fluorescent film 1008, the metal back 1009 is not used.

【0043】また、本実施の形態では用いなかったが、
加速電圧の印加用や蛍光膜の導電性向上を目的として、
フェースプレート基板1007と蛍光膜1008との間
に、例えば、ITOを材料とする透明電極を設けてもよ
い。
Although not used in the present embodiment,
For the purpose of applying acceleration voltage and improving the conductivity of the fluorescent film,
For example, a transparent electrode made of ITO may be provided between the face plate substrate 1007 and the fluorescent film 1008.

【0044】また、端子Dx1〜Dxm,Dy1〜Dynおよび
Hvは、この表示パネル1000と後述する駆動用電気
回路とを電気的に接続するために設けた気密構造の電気
接続用端子である。また、端子Dx1〜Dxmはマルチ電子
ビーム源の行方向配線1003と、端子Dy1〜Dynはマ
ルチ電子ビーム源の列方向配線1004と、Hvはフェ
ースプレート1007のメタルバック1009と電気的
に接続している。
The terminals Dx1 to Dxm, Dy1 to Dyn and Hv are electric connection terminals having an airtight structure provided for electrically connecting the display panel 1000 to a driving electric circuit described later. The terminals Dx1 to Dxm are electrically connected to the row wiring 1003 of the multi-electron beam source, the terminals Dy1 to Dyn are electrically connected to the column wiring 1004 of the multi-electron beam source, and Hv is electrically connected to the metal back 1009 of the face plate 1007. I have.

【0045】また、この気密容器内部を真空に排気する
には、気密容器を組み立てた後、不図示の排気管と真空
ポンプとを接続し、気密容器内を10のマイナス7乗
[torr]程度の真空度まで排気する。その後、排気管を
封止するが、気密容器内の真空度を維持するために、封
止の直前あるいは封止後に気密容器内の所定の位置にゲ
ッター膜(不図示)を形成する。このゲッター膜とは、
例えばBaを主成分とするゲッター材料をヒータもしく
は高周波加熱により加熱し蒸着して形成した膜であり、
このゲッター膜の吸着作用により気密容器内は1×10
のマイナス5乗ないしは1×10マイナス7乗[torr]
の真空度に維持される。
In order to evacuate the inside of the hermetic container to a vacuum, after assembling the hermetic container, an exhaust pipe (not shown) and a vacuum pump are connected, and the inside of the hermetic container is about 10 −7 [torr]. Evacuate to vacuum. Thereafter, the exhaust pipe is sealed, but a getter film (not shown) is formed at a predetermined position in the airtight container immediately before or after the sealing in order to maintain the degree of vacuum in the airtight container. This getter film is
For example, a film obtained by heating and depositing a getter material containing Ba as a main component by a heater or high-frequency heating,
The inside of the airtight container is 1 × 10
-5 or 1 × 10 -7 [torr]
Is maintained at a vacuum degree.

【0046】以上、本発明の実施の形態の表示パネル1
000の基本構成と製法を説明した。
As described above, the display panel 1 according to the embodiment of the present invention is described.
000 has been described.

【0047】次に、前述の実施の形態の表示パネル10
00に用いたマルチ電子ビーム源の製造方法について説
明する。本実施の形態の画像表示装置に用いるマルチ電
子ビーム源は、冷陰極素子を単純マトリクス配線した電
子源であれば、冷陰極素子の材料や形状或は製法に制限
はない。従って、例えば表面伝導型放出素子やFE型、
或はMIM型などの冷陰極素子を用いることができる。
但し、表示画面が大きくてしかも安価な表示装置が求め
られる状況の下では、これらの冷陰極素子の中でも表面
伝導型放出素子が特に好ましい。即ち、FE型ではエミ
ッタコーンとゲート電極の相対位置や形状が電子放出特
性を大きく左右するため、極めて高精度の製造技術を必
要とするが、これは大面積化や製造コストの低減を達成
するには不利な要因となる。またMIM型では、絶縁層
と上電極の膜厚を薄くてしかも均一にする必要がある
が、これも大面積化や製造コストの低減を達成するには
不利な要因となる。その点、本実施の形態の表面伝導型
放出素子は比較的製造方法が単純なため、大面積化や製
造コストの低減が容易である。また、本願発明者らは表
面伝導型放出素子の中でも、電子放出部もしくはその周
辺部を微粒子膜から形成したものがとりわけ電子放出特
性に優れ、しかも製造が容易に行えることを見出してい
る。従って、高輝度で大画面の画像表示装置のマルチ電
子ビーム源に用いるには最も好適であるといえる。そこ
で、上記実施の形態の表示パネル1000においては、
電子放出部もしくはその周辺部を微粒子膜から形成した
表面伝導型放出素子を用いた。
Next, the display panel 10 of the above-described embodiment will be described.
A method for manufacturing the multi-electron beam source used in the first embodiment will be described. The material, shape, or manufacturing method of the cold cathode device is not limited as long as the multi-electron beam source used in the image display device according to the present embodiment is an electron source in which cold cathode devices are arranged in a simple matrix. Therefore, for example, a surface conduction type emission element, an FE type,
Alternatively, a cold cathode device such as an MIM type can be used.
However, under a situation where a display device having a large display screen and an inexpensive display device is required, among these cold cathode devices, a surface conduction type emission device is particularly preferable. That is, in the FE type, since the relative position and the shape of the emitter cone and the gate electrode greatly affect the electron emission characteristics, an extremely high-precision manufacturing technique is required, but this achieves a large area and a reduction in manufacturing cost. Is a disadvantageous factor. In the case of the MIM type, it is necessary to make the thicknesses of the insulating layer and the upper electrode thin and uniform, which is also a disadvantageous factor in achieving a large area and a reduction in manufacturing cost. In this regard, since the surface conduction electron-emitting device of the present embodiment has a relatively simple manufacturing method, it is easy to increase the area and reduce the manufacturing cost. In addition, the present inventors have found that among the surface conduction electron-emitting devices, those in which the electron-emitting portion or its peripheral portion is formed of a fine particle film have particularly excellent electron-emitting characteristics and can be easily manufactured. Therefore, it can be said that it is most suitable for use in a multi-electron beam source of a high-luminance, large-screen image display device. Therefore, in the display panel 1000 of the above embodiment,
A surface conduction electron-emitting device in which the electron-emitting portion or its peripheral portion was formed from a fine particle film was used.

【0048】そこで、まず好適な表面伝導型放出素子に
ついて基本的な構成と製法および特性を説明し、その後
で多数の素子を単純マトリクス配線したマルチ電子ビー
ム源の構造について述べる。
The basic structure, manufacturing method and characteristics of a suitable surface conduction electron-emitting device will be described first, and then the structure of a multi-electron beam source in which many devices are arranged in a simple matrix will be described.

【0049】(表面伝導型電子放出素子の好適な素子構
成と製法)電子放出部もしくはその周辺部を微粒子膜か
ら形成する表面伝導型電子放出素子の代表的な構成に
は、平面型と垂直型の2種類があげられる。
(Preferable Device Configuration and Manufacturing Method of Surface Conduction Electron Emission Device) Typical configurations of a surface conduction electron emission device in which an electron emission portion or its peripheral portion is formed of a fine particle film include a planar type and a vertical type. There are two types.

【0050】図17は、本実施の形態の表示パネル10
00に使用されるマルチ電子源の製造工程の概略を示す
図である。
FIG. 17 shows a display panel 10 according to the present embodiment.
It is a figure which shows the outline of the manufacturing process of the multi-electron source used for 00.

【0051】まずステップS100で、後述するように
基板1001上に電極及び導電性薄膜を形成し、ステッ
プS101で、その基板を含む気密容器を作成し、その
気密容器内の排気した後、その電極間に電圧を印加して
電子放出部を形成する。そしてステップS102で、そ
の電子放出部に対して通電して活性化を実施する。
First, in step S100, an electrode and a conductive thin film are formed on the substrate 1001 as described later, and in step S101, an airtight container including the substrate is formed. A voltage is applied in between to form an electron emission portion. Then, in step S102, the electron emission portion is activated by energizing.

【0052】(平面型の表面伝導型電子放出素子)まず
平面型表面伝導型電子放出素子の素子構成と製法につい
て説明する。
(Flat-Type Surface Conduction Electron-Emitting Element) First, the structure and manufacturing method of a flat-type surface-conduction electron-emitting element will be described.

【0053】図18に示すのは、平面型の表面伝導型電
子放出素子の構成を説明するための平面図(a)および
断面図(b)である。
FIGS. 18A and 18B are a plan view and a sectional view, respectively, for explaining the structure of a flat surface-conduction electron-emitting device.

【0054】図中、1101は基板、1102と110
3は素子電極、1104は導電性薄膜、1105は通電
フォーミング処理により形成した電子放出部、1113
は通電活性化処理により形成した薄膜である。
In the figure, 1101 is a substrate, 1102 and 110
Reference numeral 3 denotes an element electrode; 1104, a conductive thin film; 1105, an electron-emitting portion formed by an energization forming process;
Is a thin film formed by the activation process.

【0055】基板1101としては、例えば、石英ガラ
スや青板ガラスをはじめとする各種ガラス基板や、アル
ミナをはじめとする各種セラミクス基板、あるいは上述
の各種基板上に、例えばSiO2を材料とする絶縁層を
積層した基板などを用いることができる。また、基板1
101上に基板面と平行に対向して設けられた素子電極
1102と1103は、導電性を有する材料によって形
成されている。例えば、Ni,Cr,Au,Mo,W,
Pt,Ti,Cu,Pd,Ag等をはじめとする金属、
或はこれらの金属の合金、或はIn2O3 −SnO2をは
じめとする金属酸化物、ポリシリコンなどの半導体、な
どの中から適宜材料を選択して用いればよい。これら電
極1102,1103を形成するには、例えば真空蒸着
などの製膜技術とフォトリソグラフィ、エッチングなど
のパターニング技術を組み合わせて用いれば容易に形成
できるが、それ以外の方法(例えば印刷技術)を用いて
形成してもさしつかえない。
As the substrate 1101, for example, various glass substrates such as quartz glass or blue plate glass, various ceramics substrates such as alumina, or an insulating layer made of, for example, SiO 2 is formed on the various substrates described above. A stacked substrate or the like can be used. Also, substrate 1
The element electrodes 1102 and 1103 provided on the substrate 101 in parallel with the substrate surface are formed of a conductive material. For example, Ni, Cr, Au, Mo, W,
Metals including Pt, Ti, Cu, Pd, Ag, etc.,
Alternatively, a material may be appropriately selected from alloys of these metals, metal oxides such as In 2 O 3 —SnO 2, semiconductors such as polysilicon, and the like. The electrodes 1102 and 1103 can be easily formed by using a combination of a film forming technique such as vacuum evaporation and a patterning technique such as photolithography and etching. However, other methods (eg, printing technique) are used. It can be formed even if it is formed.

【0056】素子電極1102と1103の形状は、こ
の表面伝導型電子放出素子の応用目的に合わせて適宜設
計される。一般的には、電極間隔Lは通常は数百オング
ストロームから数百マイクロメータの範囲から適当な数
値を選んで設計されるが、なかでも表示装置に応用する
ために好ましいのは数マイクロメータより数十マイクロ
メータの範囲である。また、素子電極の厚さdについて
は、通常は数百オングストロームから数マイクロメータ
の範囲から適当な数値が選ばれる。
The shapes of the device electrodes 1102 and 1103 are appropriately designed according to the application purpose of the surface conduction electron-emitting device. Generally, the electrode interval L is usually designed by selecting an appropriate value from the range of several hundreds of angstroms to several hundreds of micrometers. However, for application to a display device, it is preferable that the electrode spacing L be more than a few micrometers. It is in the range of ten micrometers. As for the thickness d of the device electrode, an appropriate numerical value is usually selected from a range of several hundred angstroms to several micrometers.

【0057】また、導電性薄膜1104の部分には微粒
子膜を用いる。ここで述べた微粒子膜とは、構成要素と
して多数の微粒子を含んだ膜(島状の集合体も含む)の
ことをさす。この微粒子膜を微視的に調べれば、通常
は、個々の微粒子が離間して配置された構造か、或は微
粒子が互いに隣接した構造か、或は微粒子が互いに重な
り合った構造が観測される。この微粒子膜に用いた微粒
子の粒径は、数オングストロームから数千オングストロ
ームの範囲に含まれるものであるが、なかでも好ましい
のは10オングストロームから200オングストローム
の範囲のものである。また、微粒子膜の膜厚は、以下に
述べるような諸条件を考慮して適宜設定される。即ち、
素子電極1102あるいは1103と電気的に良好に接
続するのに必要な条件、後述する通電フォーミングを良
好に行うのに必要な条件、微粒子膜自身の電気抵抗を後
述する適宜の値にするために必要な条件などである。具
体的には、数オングストロームから数千オングストロー
ムの範囲のなかで設定するが、なかでも好ましいのは1
0オングストロームから500オングストロームの間で
ある。
A fine particle film is used for the conductive thin film 1104. The fine particle film described here refers to a film including a large number of fine particles as constituent elements (including an island-shaped aggregate). When the fine particle film is examined microscopically, usually, a structure in which the individual fine particles are spaced apart from each other, a structure in which the fine particles are adjacent to each other, or a structure in which the fine particles overlap each other is observed. The particle size of the fine particles used in the fine particle film is in the range of several Angstroms to several thousand Angstroms, but is preferably in the range of 10 Angstroms to 200 Angstroms. Further, the thickness of the fine particle film is appropriately set in consideration of various conditions described below. That is,
Conditions necessary for good electrical connection with the device electrode 1102 or 1103, conditions necessary for good energization forming described later, and necessary for setting the electrical resistance of the fine particle film itself to an appropriate value described later. Conditions. Specifically, it is set within the range of several Angstroms to several thousand Angstroms.
It is between 0 Angstroms and 500 Angstroms.

【0058】また、微粒子膜を形成するのに用いられう
る材料としては、例えば、Pd,Pt,Ru,Ag,A
u,Ti,In,Cu,Cr,Fe,Zn,Sn,T
a,W,Pbなどをはじめとする金属や、PdO,Sn
O2,In2O3,PbO,Sb2O3などをはじめとする
酸化物や、HfB2,ZrB2,LaB6,CeB6,YB
4,GdB4などをはじめとする硼化物や、TiC,Zr
C,HfC,TaC,SiC,WCなどをはじめとする
炭化物や、TiN,ZrN,HfNなどをはじめとする
窒化物や、Si,Geなどをはじめとする半導体や、カ
ーボンなどがあげられ、これらの中から適宜選択され
る。
Materials that can be used to form the fine particle film include, for example, Pd, Pt, Ru, Ag, A
u, Ti, In, Cu, Cr, Fe, Zn, Sn, T
a, W, Pb and other metals, PdO, Sn
Oxides such as O2, In2O3, PbO, Sb2O3, etc .; HfB2, ZrB2, LaB6, CeB6, YB
4, borides such as GdB4, TiC, Zr
Carbides such as C, HfC, TaC, SiC, WC, etc .; nitrides such as TiN, ZrN, HfN, etc .; semiconductors such as Si, Ge, etc .; and carbon. It is appropriately selected from among them.

【0059】以上述べたように、導電性薄膜1104を
微粒子膜で形成したが、そのシート抵抗値については、
10の3乗から10の7乗[オーム/sq]の範囲に含
まれるよう設定した。
As described above, the conductive thin film 1104 is formed of a fine particle film.
It was set to be included in the range of 10 3 to 10 7 [Ohm / sq].

【0060】なお、導電性薄膜1104と素子電極11
02および1103とは、電気的に良好に接続されるの
が望ましいため、互いの一部が重なりあうような構造を
とっている。その重なり方は、図18の例においては、
下から、基板、素子電極、導電性薄膜の順序で積層した
が、場合によっては下から基板、導電性薄膜、素子電
極、の順序で積層してもさしつかえない。
The conductive thin film 1104 and the device electrode 11
Since it is desirable that the wires 02 and 1103 be electrically connected well, they have a structure in which a part of each overlaps with the other. In the example shown in FIG.
Although the substrate, the device electrode, and the conductive thin film are stacked in this order from the bottom, in some cases, the substrate, the conductive thin film, and the device electrode may be stacked in this order from the bottom.

【0061】また、電子放出部1105は、導電性薄膜
1104の一部に形成された亀裂状の部分であり、電気
的には周囲の導電性薄膜よりも高抵抗な性質を有してい
る。この亀裂は、導電性薄膜1104に対して、後述す
る通電フォーミングの処理を行うことにより形成する。
この亀裂内には、数オングストロームから数百オングス
トロームの粒径の微粒子を配置する場合がある。なお、
実際の電子放出部の位置や形状を精密かつ正確に図示す
るのは困難なため、図18においては模式的に示した。
The electron-emitting portion 1105 is a crack-like portion formed in a part of the conductive thin film 1104, and has an electrically higher resistance than the surrounding conductive thin film. The crack is formed by performing a later-described energization forming process on the conductive thin film 1104.
Fine particles having a particle size of several Angstroms to several hundred Angstroms may be arranged in the crack. In addition,
Since it is difficult to accurately and accurately show the actual position and shape of the electron-emitting portion, they are schematically shown in FIG.

【0062】また、薄膜1113は、炭素もしくは炭素
化合物よりなる薄膜で、電子放出部1105およびその
近傍を被覆している。薄膜1113は、通電フォーミン
グ処理後に、後述する通電活性化の処理を行うことによ
り形成する。
The thin film 1113 is a thin film made of carbon or a carbon compound, and covers the electron emitting portion 1105 and its vicinity. The thin film 1113 is formed by performing an energization activation process described later after the energization forming process.

【0063】薄膜1113は、単結晶グラファイト、多
結晶グラファイト、非晶質カーボンのいずれかか、もし
くはその混合物であり、膜厚は500[オングストロー
ム]以下とするが、300[オングストローム]以下と
するのがさらに好ましい。
The thin film 1113 is made of any one of single-crystal graphite, polycrystalline graphite, and amorphous carbon, or a mixture thereof, and has a thickness of 500 [Å] or less, but not more than 300 [Å]. Is more preferred.

【0064】なお、実際の薄膜1113の位置や形状を
精密に図示するのは困難なため、図18においては模式
的に示した。また、平面図(a)においては、薄膜11
13の一部を除去した素子を図示した。
Since it is difficult to accurately show the actual position and shape of the thin film 1113, it is schematically shown in FIG. Also, in the plan view (a), the thin film 11
13 shows a device in which a part of the device 13 is removed.

【0065】以上、好ましい素子の基本構成を述べた
が、実施の形態においては以下のような素子を用いた。
The basic structure of the preferred element has been described above. In the embodiment, the following element is used.

【0066】即ち、基板1101には青板ガラスを用
い、素子電極1102と1103にはNi薄膜を用い
た。素子電極の厚さdは1000[オングストロー
ム]、電極間隔Lは2[マイクロメータ]とした。
That is, blue glass was used for the substrate 1101, and Ni thin films were used for the device electrodes 1102 and 1103. The thickness d of the device electrode was 1000 [angstrom], and the electrode interval L was 2 [micrometer].

【0067】微粒子膜の主要材料としてPdもしくはP
dOを用い、微粒子膜の厚さは約100[オングストロ
ーム]、幅Wは100[マイクロメータ]とした。
Pd or P as the main material of the fine particle film
Using dO, the thickness of the fine particle film was set to about 100 [angstrom], and the width W was set to 100 [micrometer].

【0068】次に、好適な平面型の表面伝導型電子放出
素子の製造方法について説明する。図19(a)〜
(d)は、表面伝導型電子放出素子の製造工程を説明す
るための断面図で、各部材の表記は前記図18と同一で
ある。
Next, a method of manufacturing a preferred flat surface-conduction electron-emitting device will be described. FIG.
(D) is a cross-sectional view for explaining the manufacturing process of the surface conduction electron-emitting device. The notation of each member is the same as that in FIG.

【0069】(1)まず、図19(a)に示すように、
基板1101上に素子電極1102および1103を形
成する。この素子電極1102,1103を形成するに
あたっては、予め基板1101を洗剤、純水、有機溶剤
を用いて十分に洗浄した後、素子電極の材料を堆積させ
る。この材料を堆積する方法としては、例えば、蒸着法
やスパッタ法などの真空成膜技術を用ればよい。その
後、堆積した電極材料をフォトリソグラフィ・エッチン
グ技術を用いてパターニングし、(a)に示した一対の
素子電極(1102と1103)を形成する。
(1) First, as shown in FIG.
Element electrodes 1102 and 1103 are formed over a substrate 1101. In forming the element electrodes 1102 and 1103, the substrate 1101 is sufficiently washed in advance with a detergent, pure water, and an organic solvent, and then a material for the element electrodes is deposited. As a method for depositing this material, for example, a vacuum film forming technique such as an evaporation method or a sputtering method may be used. Thereafter, the deposited electrode material is patterned by using a photolithography / etching technique to form a pair of device electrodes (1102 and 1103) shown in FIG.

【0070】(2)次に、同図(b)に示すように、導
電性薄膜1104を形成する。
(2) Next, a conductive thin film 1104 is formed as shown in FIG.

【0071】この導電性薄膜を形成するにあたっては、
まず前記(a)の基板に有機金属溶液を塗布して乾燥
し、加熱焼成処理して微粒子膜を成膜した後、フォトリ
ソグラフィー・エッチングにより所定の形状にパターニ
ングする。ここで、有機金属溶液とは、導電性薄膜に用
いる微粒子の材料を主要元素とする有機金属化合物の溶
液である。具体的には、本実施の形態では主要元素とし
てPdを用いた。また、実施の形態では塗布方法とし
て、ディッピング法を用いたが、それ以外のたとえばス
ピンナー法やスプレー法を用いてもよい。
In forming this conductive thin film,
First, an organic metal solution is applied to the substrate (a), dried, heated and baked to form a fine particle film, and then patterned into a predetermined shape by photolithography and etching. Here, the organometallic solution is a solution of an organometallic compound whose main element is a material of fine particles used for the conductive thin film. Specifically, in the present embodiment, Pd is used as a main element. In the embodiment, a dipping method is used as a coating method, but other methods such as a spinner method and a spray method may be used.

【0072】また、微粒子膜で作られる導電性薄膜の成
膜方法としては、本実施の形態で用いた有機金属溶液の
塗布による方法以外の、例えば真空蒸着法やスパッタ
法、あるいは化学的気相堆積法などを用いる場合もあ
る。
As a method of forming a conductive thin film made of a fine particle film, a method other than the method of applying an organic metal solution used in the present embodiment, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, or a chemical vapor deposition method In some cases, a deposition method or the like is used.

【0073】(3)次に、同図(c)に示すように、フ
ォーミング用電源1110から素子電極1102と11
03の間に適宜の電圧を印加し、通電フォーミング処理
を行って、電子放出部1105を形成する。この通電フ
ォーミング処理とは、微粒子膜で作られた導電性薄膜1
104に通電を行って、その一部を適宜に破壊、変形も
しくは変質せしめ、電子放出を行うのに好適な構造に変
化させる処理のことである。微粒子膜で作られた導電性
薄膜のうち電子放出を行うのに好適な構造に変化した部
分(即ち、電子放出部1105)においては、薄膜に適
当な亀裂が形成されている。尚、この電子放出部110
5が形成される前と比較すると、形成された後は、素子
電極1102と1103の間で計測される電気抵抗は大
幅に増加する。
(3) Next, as shown in FIG. 9C, the forming electrodes 1110 and 1112 are supplied from the forming power supply 1110.
The electron emitting portion 1105 is formed by applying an appropriate voltage during the period 03 and performing the energization forming process. This energization forming process is a process for forming a conductive thin film 1 made of a fine particle film.
This is a process in which a current is applied to the electrode 104, a part of which is appropriately destroyed, deformed or deteriorated, and changed into a structure suitable for emitting electrons. In a portion of the conductive thin film made of the fine particle film which has been changed to a structure suitable for emitting electrons (that is, the electron emitting portion 1105), an appropriate crack is formed in the thin film. In addition, this electron emission part 110
After formation, the electrical resistance measured between the device electrodes 1102 and 1103 is significantly increased as compared to before the formation of 5.

【0074】このフォーミング時の通電方法をより詳し
く説明するために、図20に、フォーミング用電源11
10から印加する適宜の電圧波形の一例を示す。
FIG. 20 shows a forming power supply 11 in order to explain the energizing method at the time of forming in more detail.
An example of an appropriate voltage waveform applied from FIG.

【0075】微粒子膜で作られた導電性薄膜をフォーミ
ングする場合には、パルス状の電圧が好ましく、本実施
の形態の場合には、同図に示したようにパルス幅T1の
三角波パルスをパルス間隔T2で連続的に印加した。そ
の際には、三角波パルスの波高値Vpfを、順次昇圧し
た。また、電子放出部1105の形成状況をモニタする
ためのモニタパルスPmを適宜の間隔で三角波パルスの
間に挿入し、その際に流れる電流を電流計1111で計
測した。
When forming a conductive thin film made of a fine particle film, a pulse-like voltage is preferable. In the case of the present embodiment, a triangular pulse having a pulse width T1 is applied as shown in FIG. The voltage was continuously applied at the interval T2. At that time, the peak value Vpf of the triangular wave pulse was sequentially increased. In addition, monitor pulses Pm for monitoring the state of formation of the electron-emitting portion 1105 were inserted at appropriate intervals between the triangular-wave pulses, and the current flowing at that time was measured by the ammeter 1111.

【0076】本実施の形態においては、例えば10のマ
イナス5乗[torr]程度の真空雰囲気下において、例え
ばパルス幅T1を1[ミリ秒]、パルス間隔T2を10
[ミリ秒]とし、波高値Vpfを1パルスごとに0.1
[V]ずつ昇圧した。そして、三角波を5パルス印加す
るたびに1回の割りで、モニタパルスPmを挿入した。
ここでフォーミング処理に悪影響を及ぼすことがないよ
うに、モニタパルスの電圧Vpmは0.1[V]に設定し
た。そして、素子電極1102と1103の間の電気抵
抗が1×10の6乗[オーム]になった段階、即ち、モ
ニタパルス印加時に電流計1111で計測される電流が
1×10のマイナス7乗[A]以下になった段階で、フ
ォーミング処理にかかわる通電を終了した。
In this embodiment, for example, in a vacuum atmosphere of about 10 −5 [torr], for example, the pulse width T1 is set to 1 [millisecond] and the pulse interval T2 is set to 10
[Milliseconds] and the peak value Vpf is set to 0.1 for each pulse.
The voltage was increased by [V]. Then, each time five triangular waves were applied, the monitor pulse Pm was inserted at a rate of once.
Here, the monitor pulse voltage Vpm was set to 0.1 [V] so as not to adversely affect the forming process. Then, when the electric resistance between the element electrodes 1102 and 1103 becomes 1 × 10 6 [ohm], that is, the current measured by the ammeter 1111 when the monitor pulse is applied is 1 × 10 −7 [ohm]. A] When the following conditions were reached, the energization related to the forming process was terminated.

【0077】尚、上記の方法は、本実施の形態の表面伝
導型電子放出素子に関する好ましい方法であり、例えば
微粒子膜の材料や膜厚、或は素子電極間隔Lなど表面伝
導型電子放出素子の設計を変更した場合には、それに応
じて通電の条件を適宜変更するのが望ましい。
The above method is a preferable method for the surface conduction electron-emitting device of the present embodiment. For example, the material and film thickness of the fine particle film, or the distance L between the device electrodes, etc. When the design is changed, it is desirable to appropriately change the energization conditions accordingly.

【0078】(4)次に、図19(d)に示すように、
活性化用電源1112から素子電極1102と1103
の間に適宜の電圧を印加し、通電活性化処理を行って、
電子放出特性の改善を行う。この通電活性化処理とは、
前記通電フォーミング処理により形成された電子放出部
1105に適宜の条件で通電を行って、その近傍に炭素
もしくは炭素化合物を堆積せしめる処理のことである。
(図においては、炭素もしくは炭素化合物よりなる堆積
物を部材1113として模式的に示した。)なお、通電
活性化処理を行うことにより、行う前と比較して、同じ
印加電圧における放出電流を典型的には100倍以上に
増加させることができる。
(4) Next, as shown in FIG.
The device electrodes 1102 and 1103 are supplied from the activation power source 1112.
During the energization activation process, apply an appropriate voltage during
Improve electron emission characteristics. This energization activation process
This is a process of energizing the electron-emitting portion 1105 formed by the energization forming process under appropriate conditions to deposit carbon or a carbon compound in the vicinity thereof.
(In the figure, a deposit made of carbon or a carbon compound is schematically shown as a member 1113.) By performing the activation process, the emission current at the same applied voltage is typically smaller than that before the activation. Specifically, it can be increased by 100 times or more.

【0079】具体的には、10のマイナス2乗乃至10
のマイナス5乗[torr]の範囲内の真空雰囲気中で、電
圧パルスを定期的に印加することにより、真空雰囲気中
に存在する有機化合物を起源とする炭素もしくは炭素化
合物を堆積させる。堆積物1113は、単結晶グラファ
イト、多結晶グラファイト、非晶質カーボンのいずれか
か、もしくはその混合物であり、膜厚は500[オング
ストローム]以下、より好ましくは300[オングスト
ローム]以下である。
Specifically, 10 minus the square to 10
By applying a voltage pulse periodically in a vacuum atmosphere within the range of minus the fifth power [torr], carbon or a carbon compound originating from an organic compound existing in the vacuum atmosphere is deposited. The deposit 1113 is any of single crystal graphite, polycrystalline graphite, and amorphous carbon, or a mixture thereof, and has a thickness of 500 Å or less, and more preferably 300 Å or less.

【0080】この通電活性化における通電方法をより詳
しく説明するために、図21(a)に、活性化用電源1
112から印加する適宜の電圧波形の一例を示す。本実
施の形態においては、一定電圧の矩形波を定期的に印加
して通電活性化処理を行ったが、具体的には、矩形波の
電圧Vacは14[V]、パルス幅T3は1[ミリ
秒]、パルス間隔T4は10[ミリ秒]とした。尚、上
述の通電条件は、本実施の形態の表面伝導型電子放出素
子に関する好ましい条件であり、表面伝導型電子放出素
子の設計を変更した場合には、それに応じて条件を適宜
変更するのが望ましい。
FIG. 21A shows an activation power supply 1 in order to explain the energization method in the energization activation in more detail.
An example of an appropriate voltage waveform applied from 112 is shown. In the present embodiment, the energization activation process is performed by periodically applying a rectangular wave having a constant voltage. Specifically, the voltage Vac of the rectangular wave is 14 [V], and the pulse width T3 is 1 [ Milliseconds] and the pulse interval T4 was 10 milliseconds. Note that the above-described energization conditions are preferable conditions for the surface conduction electron-emitting device of the present embodiment, and when the design of the surface conduction electron-emitting device is changed, the conditions should be changed accordingly. desirable.

【0081】図19(d)に示す1114は該表面伝導
型電子放出素子から放出される放出電流Ieを捕捉する
ためのアノード電極で、直流高電圧電源1115および
電流計1116が接続されている。尚、基板1101を
表示パネル1000の中に組み込んでから活性化処理を
行う場合には、表示パネル1000の蛍光面をアノード
電極1114として用いる。そして活性化用電源111
2から電圧を印加する間、電流計1116で放出電流I
eを計測して通電活性化処理の進行状況をモニタし、活
性化用電源1112の動作を制御する。電流計1116
で計測された放出電流Ieの一例を図21(b)に示
す。
Reference numeral 1114 shown in FIG. 19D denotes an anode electrode for capturing an emission current Ie emitted from the surface conduction electron-emitting device. The anode electrode 1114 is connected to a DC high-voltage power supply 1115 and an ammeter 1116. When the activation process is performed after the substrate 1101 is incorporated into the display panel 1000, the phosphor screen of the display panel 1000 is used as the anode electrode 1114. And the activation power supply 111
While the voltage is applied from step 2, the emission current I is measured by the ammeter 1116.
By measuring e, the progress of the energization activation process is monitored, and the operation of the activation power supply 1112 is controlled. Ammeter 1116
FIG. 21 (b) shows an example of the emission current Ie measured in the step (a).

【0082】こうして活性化電源1112からパルス電
圧を印加しはじめると、時間の経過とともに放出電流I
eは増加するが、やがて飽和してほとんど増加しなくな
る。このように、放出電流Ieがほぼ飽和した時点で活
性化用電源1112からの電圧印加を停止し、通電活性
化処理を終了する。
When the application of the pulse voltage from the activation power supply 1112 starts, the emission current I
e increases, but eventually saturates and hardly increases. As described above, when the emission current Ie is substantially saturated, the application of the voltage from the activation power supply 1112 is stopped, and the energization activation process ends.

【0083】なお、上述の通電条件は、本実施の形態の
表面伝導型電子放出素子に関する好ましい条件であり、
表面伝導型電子放出素子の設計を変更した場合には、そ
れに応じて条件を適宜変更するのが望ましい。
The above-mentioned energization conditions are preferable conditions for the surface conduction electron-emitting device of the present embodiment.
When the design of the surface conduction electron-emitting device is changed, it is desirable to appropriately change the conditions accordingly.

【0084】以上のようにして、図19(e)に示す平
面型の表面伝導型電子放出素子を製造した。
As described above, the plane type surface conduction electron-emitting device shown in FIG. 19E was manufactured.

【0085】(垂直型の表面伝導型電子放出素子)次
に、電子放出部もしくはその周辺を微粒子膜から形成し
た表面伝導型電子放出素子のもうひとつの代表的な構
成、すなわち垂直型の表面伝導型電子放出素子の構成に
ついて説明する。
(Vertical Surface Conduction Electron-Emitting Element) Next, another typical structure of a surface conduction electron-emitting element in which the electron-emitting portion or its periphery is formed of a fine particle film, that is, a vertical surface conduction electron-emitting device. The configuration of the electron-emitting device will be described.

【0086】図22は、垂直型の基本構成を説明するた
めの模式的な断面図である。
FIG. 22 is a schematic sectional view for explaining the basic structure of the vertical type.

【0087】図において、1201は基板、1202と
1203は素子電極、1206は段差形成部材、120
4は微粒子膜を用いた導電性薄膜、1205は通電フォ
ーミング処理により形成した電子放出部、1213は通
電活性化処理により形成した薄膜である。
In the figure, 1201 is a substrate, 1202 and 1203 are device electrodes, 1206 is a step forming member,
Reference numeral 4 denotes a conductive thin film using a fine particle film, 1205 denotes an electron-emitting portion formed by an energization forming process, and 1213 denotes a thin film formed by an energization activation process.

【0088】この垂直型の表面伝導型電子放出素子が先
に説明した平面型の表面伝導型電子放出素子と異なる点
は、素子電極のうちの片方(1202)が段差形成部材
1206上に設けられており、導電性薄膜1204が段
差形成部材1206の側面を被覆している点にある。従
って、図18の平面型素子における素子電極間隔Lは、
垂直型においては、段差形成部材1206の段差高Ls
として設定される。尚、基板1201、素子電極120
2および1203、微粒子膜を用いた導電性薄膜120
4、については、前記平面型の説明中に列挙した材料を
同様に用いることが可能である。また、段差形成部材1
206には、たとえばSiO2 のような電気的に絶縁性
の材料を用いる。
This vertical surface conduction electron-emitting device is different from the above-mentioned flat surface conduction electron-emitting device in that one of the device electrodes (1202) is provided on the step forming member 1206. That is, the conductive thin film 1204 covers the side surface of the step forming member 1206. Therefore, the element electrode interval L in the planar element of FIG.
In the vertical type, the step height Ls of the step forming member 1206 is set.
Is set as The substrate 1201 and the device electrode 120
2 and 1203, conductive thin film 120 using fine particle film
For 4, the materials listed in the description of the planar type can be used in the same manner. Step forming member 1
For 206, an electrically insulating material such as SiO2 is used.

【0089】次に、垂直型の表面伝導型電子放出素子の
製法について説明する。図23(a)〜(f)は、製造
工程を説明するための断面図で、各部材の表記は前記図
22と同一である。
Next, a method of manufacturing a vertical surface conduction electron-emitting device will be described. FIGS. 23A to 23F are cross-sectional views for explaining a manufacturing process, and the notation of each member is the same as that in FIG.

【0090】(1)まず、図23(a)に示すように、
基板1201上に素子電極1203を形成する。
(1) First, as shown in FIG.
An element electrode 1203 is formed over a substrate 1201.

【0091】(2)次に、同図(b)に示すように、段
差形成部材を形成するための絶縁層を積層する。絶縁層
は、例えばSiO2をスパッタ法で積層すればよいが、
例えば、真空蒸着法や印刷法などの他の成膜方法を用い
てもよい。
(2) Next, as shown in FIG. 7B, an insulating layer for forming a step forming member is laminated. The insulating layer may be formed by stacking, for example, SiO2 by sputtering,
For example, another film formation method such as a vacuum evaporation method or a printing method may be used.

【0092】(3)次に、同図(c)に示すように、絶
縁層の上に素子電極1202を形成する。
(3) Next, as shown in FIG. 9C, an element electrode 1202 is formed on the insulating layer.

【0093】(4)次に、同図(d)に示すように、絶
縁層の一部を、例えばエッチング法を用いて除去し、素
子電極1203を露出させる。
(4) Next, as shown in FIG. 11D, a part of the insulating layer is removed by using, for example, an etching method, so that the element electrode 1203 is exposed.

【0094】(5)次に、同図(e)に示すように、微
粒子膜を用いた導電性薄膜1204を形成する。形成す
るには、前記平面型の場合と同じく、例えば塗布法など
の成膜技術を用いればよい。
(5) Next, as shown in FIG. 9E, a conductive thin film 1204 using a fine particle film is formed. For the formation, as in the case of the planar type, a film forming technique such as a coating method may be used.

【0095】(6)次に、前記平面型の場合と同じく、
通電フォーミング処理を行い、電子放出部を形成する
(図19(c)を用いて説明した平面型の通電フォーミ
ング処理と同様の処理を行えばよい)。
(6) Next, as in the case of the flat type,
An energization forming process is performed to form an electron-emitting portion (the same process as the planar energization forming process described with reference to FIG. 19C may be performed).

【0096】(7)次に、前記平面型の場合と同じく、
通電活性化処理を行い、電子放出部近傍に炭素もしくは
炭素化合物を堆積させる(図19(d)を用いて説明し
た平面型の通電活性化処理と同様の処理を行えばよ
い)。
(7) Next, as in the case of the flat type,
An energization activation process is performed to deposit carbon or a carbon compound in the vicinity of the electron emission portion (the same process as the planar energization activation process described with reference to FIG. 19D may be performed).

【0097】以上のようにして、図23(f)に示す垂
直型の表面伝導型電子放出素子を製造した。
As described above, the vertical surface conduction electron-emitting device shown in FIG. 23F was manufactured.

【0098】(表示装置に用いた表面伝導型電子放出素
子の特性)以上、平面型と垂直型の表面伝導型電子放出
素子について、その素子構成と製法を説明したが、次に
表示装置に用いた素子の特性について述べる。
(Characteristics of Surface Conduction Electron-Emitting Element Used in Display Device) The element structure and manufacturing method of the planar and vertical surface-conduction electron-emitting devices have been described above. The characteristics of the device will be described.

【0099】図24は、表示装置に用いた素子の、(放
出電流Ie)対(素子印加電圧Vf)特性、及び(素子電
流If)対(素子印加電圧Vf)特性の典型的な例を示
す。尚、放出電流Ieは素子電流Ifに比べて著しく小さ
く、同一尺度で図示するのが困難であるうえ、これらの
特性は素子の大きさや形状等の設計パラメータを変更す
ることにより変化するものであるため、2本のグラフは
各々任意の単位で図示した。
FIG. 24 shows typical examples of (emission current Ie) versus (device applied voltage Vf) characteristics and (device current If) versus (device applied voltage Vf) characteristics of the device used in the display device. . Note that the emission current Ie is significantly smaller than the device current If, and it is difficult to show them on the same scale. In addition, these characteristics are changed by changing design parameters such as the size and shape of the device. Therefore, the two graphs are shown in arbitrary units.

【0100】この表示装置に用いた表面伝導型電子放出
素子は、放出電流Ieに関して以下に述べる3つの特性
を有している。
The surface conduction electron-emitting device used in this display device has the following three characteristics regarding the emission current Ie.

【0101】第1に、ある電圧(これを閾値電圧Vthと
呼ぶ)以上の大きさの電圧を素子に印加すると急激に放
出電流Ieが増加するが、一方、閾値電圧Vth未満の電
圧では放出電流Ieはほとんど検出されない。即ち、放
出電流Ieに関して、明確な閾値電圧Vthを持った非線
形素子である。
First, when a voltage higher than a certain voltage (hereinafter referred to as a threshold voltage Vth) is applied to the element, the emission current Ie sharply increases. On the other hand, when the voltage is lower than the threshold voltage Vth, the emission current Ie increases. Ie is hardly detected. That is, it is a non-linear element having a clear threshold voltage Vth with respect to the emission current Ie.

【0102】第2に、放出電流Ieは素子に印加する電
圧Vfに依存して変化するため、電圧Vfで放出電流Ie
の大きさを制御できる。
Secondly, since the emission current Ie changes depending on the voltage Vf applied to the element, the emission current Ie depends on the voltage Vf.
Size can be controlled.

【0103】第3に、表面伝導型電子放出素子に印加す
る電圧Vfに対して素子から放出される電流Ieの応答速
度が速いため、電圧Vfを印加する時間の長さによって
素子から放出される電子の電荷量を制御できる。
Third, since the response speed of the current Ie emitted from the element is faster with respect to the voltage Vf applied to the surface conduction electron-emitting element, the electron is emitted from the element depending on the length of time for applying the voltage Vf. The amount of electron charge can be controlled.

【0104】以上のような特性を有するため、表面伝導
型電子放出素子を表示装置に好適に用いることができ
た。例えば、多数の素子を表示画面の画素に対応して設
けた表示装置において、第1の特性を利用すれば、表示
画面を順次走査して表示を行うことが可能である。即
ち、駆動中の素子には所望の発光輝度に応じて閾値電圧
Vth以上の電圧を適宜印加し、非選択状態の素子には閾
値電圧Vth未満の電圧を印加する。そして駆動する素子
を順次切り替えてゆくことにより、表示画面を順次走査
して表示を行うことが可能である。
Because of the characteristics described above, the surface conduction electron-emitting device could be suitably used for a display device. For example, in a display device in which a number of elements are provided corresponding to pixels of a display screen, if the first characteristic is used, display can be performed by sequentially scanning the display screen. That is, a voltage equal to or higher than the threshold voltage Vth is appropriately applied to the element being driven, and a voltage lower than the threshold voltage Vth is applied to the element in a non-selected state. By sequentially switching the elements to be driven, the display screen can be sequentially scanned and displayed.

【0105】また、第2の特性か、又は第3の特性を利
用することにより、発光輝度を制御することができるた
め、諧調表示を行うことが可能である。
Further, since the emission luminance can be controlled by using the second characteristic or the third characteristic, a gradation display can be performed.

【0106】(多数素子を単純マトリクス配線したマル
チ電子ビーム源の構造)次に、上述の表面伝導型電子放
出素子を基板上に配列して単純マトリクス配線したマル
チ電子ビーム源の構造について述べる。
(Structure of a multi-electron beam source in which a large number of elements are arranged in a simple matrix) Next, the structure of a multi-electron beam source in which the above-mentioned surface conduction electron-emitting devices are arranged on a substrate and arranged in a simple matrix will be described.

【0107】図25に示すのは、前述の図1の表示パネ
ル1000に用いたマルチ電子ビーム源の平面図であ
る。ここで、基板1001上には、図19で示したもの
と同様な表面伝導型電子放出素子が配列され、これらの
素子は行方向配線電極1003と列方向配線電極100
4とにより、単純マトリクス状に配線されている。行方
向配線電極1003と列方向配線電極1004の交差す
る部分には、電極間に絶縁層(不図示)が形成されてお
り、電気的な絶縁が保たれている。
FIG. 25 is a plan view of the multi-electron beam source used for the display panel 1000 of FIG. 1 described above. Here, surface conduction electron-emitting devices similar to those shown in FIG. 19 are arranged on a substrate 1001, and these devices are composed of row-direction wiring electrodes 1003 and column-direction wiring electrodes 100.
4 are arranged in a simple matrix. An insulating layer (not shown) is formed between the electrodes at the intersections of the row wiring electrodes 1003 and the column wiring electrodes 1004, so that electrical insulation is maintained.

【0108】図25のA−A’に沿った断面図を図26
に示す。
FIG. 26 is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG.
Shown in

【0109】尚、このような構造のマルチ電子源は、予
め基板上に行方向配線電極1003、列方向配線電極1
004、電極間絶縁層(不図示)および表面伝導型電子
放出素子の素子電極と導電性薄膜を形成した後、行方向
配線電極1003および列方向配線電極1004を介し
て各素子に給電して、前述したように、通電フォーミン
グ処理と通電活性化処理を行うことにより製造した。
Incidentally, the multi-electron source having such a structure is provided in advance by forming the row-direction wiring electrode 1003 and the column-direction wiring electrode 1 on a substrate.
004, after forming an interelectrode insulating layer (not shown) and device electrodes of a surface conduction electron-emitting device and a conductive thin film, power is supplied to each device via a row direction wiring electrode 1003 and a column direction wiring electrode 1004, As described above, it was manufactured by performing the energization forming process and the energization activation process.

【0110】[実施の形態1] (表示パネル1000の駆動回路の説明)次に、本実施
の形態の表示パネル1000を用いた実施の形態1の画
像表示装置の電気回路の構成を説明する。
[Embodiment 1] (Description of Driving Circuit of Display Panel 1000) Next, the configuration of an electric circuit of an image display device of Embodiment 1 using the display panel 1000 of the present embodiment will be described.

【0111】図3は、本実施の形態の表示パネル100
0を駆動するための実施の形態1の回路の基本構成を示
すブロック図である。
FIG. 3 shows display panel 100 of the present embodiment.
FIG. 3 is a block diagram illustrating a basic configuration of a circuit according to the first embodiment for driving 0.

【0112】図中、23はデコーダで、入力したテレビ
ジョン信号(NTSC信号等)から同期信号S1と画像
データ(RGB信号)を分離し、同期信号S1をタイミ
ング制御回路15に出力するとともに、画像データをデ
ータ配列変換器22に出力している。タイミング制御回
路15は、この同期信号S1からスイッチ切り換え信号
S2,S3を発生して、それぞれ切替回路18のスイッ
チ17及び電圧供給回路20のスイッチ21に出力して
いる。尚、信号S2,S3のそれぞれは、1水平走査
(1H)毎に各スイッチ17,21を切換えている。デ
ータ配列変換器22は、入力したRGB画像データをシ
リアル/パラレル変換器14にシリアルで出力してい
る。こうしてシリアル/パラレル変換器14でシリアル
からパラレルデータに変換された画像データ(D1〜D
n)は、パルス幅変調器13に入力されてパルス幅変調
され、パルス幅変調信号(D1'〜Dn')として変調信号
電圧変換器12に出力される。こうして電圧信号に変換
されたパルス信号が表示パネル1000の列方向端子
(Dy1〜Dyn)に入力される。スイッチ21はこの電圧
信号の極性を切り換えるためのスイッチで、電源26或
は27のいずれかからの電圧を変調信号電圧変換器12
に出力している。24は高圧端子Hvにアノード電圧
(加速電圧)Vaを入力するための電源である。
In the figure, reference numeral 23 denotes a decoder which separates a synchronization signal S1 and image data (RGB signals) from an input television signal (NTSC signal or the like), outputs the synchronization signal S1 to the timing control circuit 15, and The data is output to the data array converter 22. The timing control circuit 15 generates switch switching signals S2 and S3 from the synchronization signal S1 and outputs the signals to the switch 17 of the switching circuit 18 and the switch 21 of the voltage supply circuit 20, respectively. The signals S2 and S3 switch the switches 17 and 21 for each horizontal scan (1H). The data array converter 22 serially outputs the input RGB image data to the serial / parallel converter 14. The image data (D1 to D1) converted from serial data into parallel data by the serial / parallel converter 14 in this manner.
n) is input to the pulse width modulator 13 and pulse width modulated, and is output to the modulation signal voltage converter 12 as pulse width modulation signals (D1 'to Dn'). The pulse signal thus converted into a voltage signal is input to the column direction terminals (Dy1 to Dyn) of the display panel 1000. The switch 21 is a switch for switching the polarity of the voltage signal, and converts the voltage from either the power supply 26 or 27 into the modulation signal voltage converter 12.
Output to Reference numeral 24 denotes a power supply for inputting an anode voltage (acceleration voltage) Va to the high voltage terminal Hv.

【0113】20は変調信号電圧発生器12に電圧を供
給する電圧供給回路である。19は走査行選択回路で、
表示パネル1000の表示駆動する行を選択して、その
選択した行にパルス信号S5を出力している。反転回路
25は、パルス発生器16から出力されるパルス信号S
4の極性を反転するための反転回路である。
A voltage supply circuit 20 supplies a voltage to the modulation signal voltage generator 12. 19 is a scanning row selection circuit,
A row to be driven for display of the display panel 1000 is selected, and the pulse signal S5 is output to the selected row. The inverting circuit 25 outputs a pulse signal S output from the pulse generator 16.
4 is an inverting circuit for inverting the polarity of No. 4.

【0114】以下、各部の機能について説明する。The function of each unit will be described below.

【0115】入力したテレビジョン信号は、デコーダ2
3により同期信号S1と画像データとに分離されて出力
されている。データ配列変換器22は、デコーダ23か
ら供給される3原色(RGB)の輝度信号を表示パネル
1000の画素配列に合わせてサンプリングし、シリア
ルな画像データとしてシリアル/パラレル変換器14に
出力している。タイミング制御回路15はデコーダ23
より供給される同期信号S1に基づいて各部の動作タイ
ミングを調整するためのタイミング制御信号(S2,S
3,および他の不図示の信号)を発生している。シリア
ル/パラレル変換器14は、データ配列変換器22から
出力された画像データを画像の1ライン分(即ち、n画
素)を蓄積し、シリアル信号からパラレル信号に変換し
てD1〜Dnで示されるn個の並列画像データを出力して
いる。パルス幅変調器13は、シリアル/パラレル変換
器14から入力されるn個の画素データに基づいてパル
ス幅変調信号D1'〜Dn'を変調信号電圧変換器12に出
力している。
The input television signal is supplied to the decoder 2
3, the signal is separated into a synchronization signal S1 and image data and output. The data array converter 22 samples the luminance signals of the three primary colors (RGB) supplied from the decoder 23 in accordance with the pixel array of the display panel 1000, and outputs the same to the serial / parallel converter 14 as serial image data. . The timing control circuit 15 includes a decoder 23
Timing control signals (S2, S2) for adjusting the operation timing of each unit based on the synchronization signal S1 supplied from
3 and other signals (not shown). The serial / parallel converter 14 accumulates the image data output from the data array converter 22 for one line of the image (that is, n pixels), converts a serial signal into a parallel signal, and is represented by D1 to Dn. It outputs n parallel image data. The pulse width modulator 13 outputs pulse width modulation signals D1 ′ to Dn ′ to the modulation signal voltage converter 12 based on n pieces of pixel data input from the serial / parallel converter 14.

【0116】変調信号電圧変換器12は、パルス幅変調
器13から出力された変調信号の電圧を、マルチ電子ビ
ーム源を駆動するのに適した電圧に変換するための電圧
変換回路である。この変調信号電圧変換器12には、電
圧供給回路20からそれぞれ極性の異なる電圧が供給さ
れる。この電圧供給回路20には切替えスイッチ21が
設けられており、スイッチ21は信号S3により1水平
同期時間(1H)ごとに切り替えられる。即ち、スイッ
チ21がa側の端子に接続されている場合は、変調パル
スがハイレベルの時に−Vf[V]が印加され、スイッ
チ21がb側端子に接続されている時には+Vf[V]
が印加されるようになっている。
The modulation signal voltage converter 12 is a voltage conversion circuit for converting the voltage of the modulation signal output from the pulse width modulator 13 into a voltage suitable for driving a multi electron beam source. Voltages having different polarities are supplied from the voltage supply circuit 20 to the modulation signal voltage converter 12. The voltage supply circuit 20 is provided with a changeover switch 21, and the switch 21 is switched every horizontal synchronization time (1H) by a signal S3. That is, when the switch 21 is connected to the terminal on the side a, -Vf [V] is applied when the modulation pulse is at a high level, and when the switch 21 is connected to the terminal on the side b, + Vf [V] is applied.
Is applied.

【0117】パルス発生器16は表示パネル1000の
1ラインを選択駆動するためのパルス信号S4を発生し
て切替回路18に出力している。この切替回路18は、
このパルス信号S4の極性を反転するための回路で、タ
イミング制御回路15からの信号S2により、切替えス
イッチ18が1Hごとに切り替えられる。この切替回路
18から出力される信号S5は、スイッチ17がa側端
子に接続されている時には、パルス発生器16からのパ
ルス信号S4がそのまま走査行選択回路19に出力さ
れ、スイッチ17がb側端子に接続されている時には、
反転器25を通って、その極性が反転された信号S5と
して走査行選択回路19に入力される。走査行選択回路
19は、タイミング制御回路15からの信号S2に応じ
て表示パネル1000の行方向端子Dx1〜Dxmのm本の
走査ラインのうち、1つの行方向ラインを選択して、そ
の選択した走査線に信号S5を伝達している。
The pulse generator 16 generates a pulse signal S 4 for selectively driving one line of the display panel 1000 and outputs the pulse signal S 4 to the switching circuit 18. This switching circuit 18
This is a circuit for inverting the polarity of the pulse signal S4. The changeover switch 18 is switched every 1H by the signal S2 from the timing control circuit 15. When the switch 17 is connected to the a-side terminal, the pulse signal S4 from the pulse generator 16 is output to the scanning row selection circuit 19 as it is when the switch 17 is connected to the a-side terminal. When connected to the terminal,
The signal passes through an inverter 25 and is input to the scanning row selection circuit 19 as a signal S5 whose polarity is inverted. The scanning row selection circuit 19 selects one of the m scanning lines of the row direction terminals Dx1 to Dxm of the display panel 1000 according to the signal S2 from the timing control circuit 15, and selects the selected one. The signal S5 is transmitted to the scanning line.

【0118】図4は、本実施の形態1の表示パネル10
00の電子源基板の構成を説明する図で、ここでは水平
型の電子放出素子の場合で示している。
FIG. 4 shows display panel 10 according to the first embodiment.
FIG. 4 is a diagram for explaining the configuration of an electron source substrate of No. 00, and here shows a case of a horizontal type electron-emitting device.

【0119】ここで例えば、表示パネル1000のi行
目の蛍光体1008−1に表示する際には、電子放出素
子1002の内、電子放出部1105が図のY軸に対し
て反時計回り方向にθ度の角度となるように配置され、
行方向配線1003−2に接続された電極1102と、
列方向配線1004−1に接続された電極1103とに
挟まれている放出素子が駆動される。また、表示パネル
1000の(i+1)行目の蛍光体1008−2に表示
する際には、電子放出素子1002の内、電子放出部1
105が図のY軸に対して時計回り方向にθ度の角度と
なるように配置され、列方向配線1004−1,100
4−2に接続された電極1103と行方向配線1003
−2に接続された電極1102とに挟まれている放出素
子が駆動される。従って、i行目に画像を表示する場合
には、走査行選択回路19で行方向配線1003−2を
選択して、その行方向配線に正の電位を印加し、列方向
配線の各対となっている線(例えば図4の1004−
1)に同じ負極性のパルス信号を印加することにより達
成でき、また(i+1)行を表示する際には、走査行選
択回路19で行方向配線1003−2を選択して、その
行方向配線に負の極性の電位を印加し、列方向配線の隣
接する2つの線(例えば図4の1004−1の右側の線
と1004−2の左側の線)に同じ正極性のパルス信号
を印加することにより達成できる。尚、図4において、
点線で示された部分1008は、フェースプレート10
07上の蛍光体位置を示している。
Here, for example, when displaying on the phosphor 1008-1 on the i-th row of the display panel 1000, the electron-emitting portion 1105 of the electron-emitting device 1002 is turned in a counterclockwise direction with respect to the Y-axis in FIG. Are arranged at an angle of θ degrees,
An electrode 1102 connected to the row direction wiring 1003-2;
The emission element sandwiched between the electrode 1103 connected to the column direction wiring 1004-1 is driven. Further, when displaying on the phosphor 1008-2 in the (i + 1) -th row of the display panel 1000, the electron emitting section 1 of the electron emitting elements 1002 is used.
105 are arranged at an angle of θ degrees clockwise with respect to the Y axis in the figure, and
The electrode 1103 connected to 4-2 and the row wiring 1003
The emission element sandwiched by the electrode 1102 connected to -2 is driven. Therefore, when displaying an image on the i-th row, the scanning row selection circuit 19 selects the row-direction wiring 1003-2, applies a positive potential to the row-direction wiring, and connects each pair of column-direction wirings with each other. Line (for example, 1004 in FIG. 4)
By applying the same negative pulse signal to 1), when displaying the (i + 1) -th row, the scanning row selection circuit 19 selects the row-direction wiring 1003-2, and the row-direction wiring 1003-2 is selected. , And the same positive pulse signal is applied to two adjacent lines (for example, the line on the right side of 1004-1 and the line on the left side of 1004-2 in FIG. 4) of the column wiring. This can be achieved by: In FIG. 4,
The portion 1008 indicated by the dotted line is the face plate 10
7 shows the position of the phosphor on 07.

【0120】尚、変調信号電圧変換器12は、常に隣接
する2本の列方向端子を選択して、これら2つの端子に
同じ映像信号に基づくパルス幅変調信号を印加してい
る。また走査行選択回路19は、例えばノンインターレ
ースで表示する際には、2行表示すると次の走査行を選
択し、インターレース表示の場合は各行を表示するごと
に次の走査行を選択するように動作する。
The modulation signal voltage converter 12 always selects two adjacent column direction terminals, and applies a pulse width modulation signal based on the same video signal to these two terminals. For example, the scanning row selection circuit 19 selects the next scanning row when displaying two rows when displaying non-interlaced, and selects the next scanning row every time each row is displayed when displaying interlaced. Operate.

【0121】図5は、1つの電子放出素子1002の電
子放出部1105を図4の断面A−A’で切った場合の
断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view when the electron-emitting portion 1105 of one electron-emitting device 1002 is cut along the cross section AA ′ in FIG.

【0122】本実施の形態の表示パネル1000では、
フェースプレート1007の内側には蛍光体1008が
塗布されている。電極1102,1103はそれぞれ行
方向配線1003、列方向配線1004と接続されてお
り、ある値以上の素子電圧(Vf[V])が印加される
と、電子放出部1105から電子が放出される。こうし
て放出された電子は、フェースプレート1007と電子
放出部1105との間に印加されたアノード電圧Va
[V]によりフェースプレート1007方向に加速され
てフェースプレート1007に照射される。この時、放
出された電子は中心軸100に沿って電子放出部110
5の真上方向に進むのではなく、電子軌道101で示す
ように進む。この電子軌道101は、電極1102が正
極性で電極1103が負極性となるよう素子電圧Vfを
印加した場合のものである。この場合、中心軸100と
電子のランディング位置との間の距離Lefは次式(1)
により算出できる。
In the display panel 1000 of the present embodiment,
A phosphor 1008 is applied on the inside of the face plate 1007. The electrodes 1102 and 1103 are connected to the row wiring 1003 and the column wiring 1004, respectively, and when an element voltage (Vf [V]) equal to or higher than a certain value is applied, electrons are emitted from the electron emitting portion 1105. The electrons thus emitted correspond to the anode voltage Va applied between the face plate 1007 and the electron emitting portion 1105.
[V] accelerates in the direction of the face plate 1007 and irradiates the face plate 1007. At this time, the emitted electrons travel along the central axis 100 in the electron emitting portion 110.
5, rather than proceeding just above 5, proceed as shown by the electron trajectory 101. The electron trajectory 101 is obtained when the element voltage Vf is applied such that the electrode 1102 has a positive polarity and the electrode 1103 has a negative polarity. In this case, the distance Lef between the central axis 100 and the landing position of the electron is expressed by the following equation (1).
Can be calculated by

【0123】[0123]

【数1】(Equation 1)

【0124】 Lef=2×K×Lh×SQRT(Vf/Va) (1) 但し、Lh[m]は、放出素子と蛍光体との距離 Kは、放出素子の種類や形状により決まる定数 SQRT(A)は、Aの平方根を示している。Lef = 2 × K × Lh × SQRT (Vf / Va) (1) where Lh [m] is the distance between the emitting element and the phosphor K is a constant determined by the type and shape of the emitting element SQRT ( A) shows the square root of A.

【0125】定電圧源24は、端子Hvを介して表示パ
ネル1000の蛍光膜1008にVa[V]のアノード
電圧を印加している。
The constant voltage source 24 applies an anode voltage of Va [V] to the fluorescent film 1008 of the display panel 1000 via the terminal Hv.

【0126】次に、本実施の形態1の表示駆動回路にお
ける動作タイミングを図6のタイミングチャートを参照
して説明する。図中、図3と共通する信号を示す記号は
同じものを使用している。
Next, the operation timing of the display drive circuit according to the first embodiment will be described with reference to the timing chart of FIG. In the drawing, the same symbols as those in FIG. 3 indicate the same signals.

【0127】NTSC信号等の映像信号は、デコーダ2
3、データ配列変換器22、シリアル/パラレル変換器
14、パルス幅変調器13を通ってパルス幅変調信号D
1'〜Dn'に変換される。図6のパルス幅信号D'jは列方
向のj番目の信号を示し、D'j+1は同じ列方向の(j+
1)番目の信号を、D'j+2は(j+2)番目の列方向信
号を示したものである。これらのパルス信号は、最初の
1水平走査期間(1H)では、列方向信号D'jとD'j+1
に同じ信号が入力され、次の1水平走査期間(1H)で
は信号D'j+1とD'j+2に同じ信号が入力されるというパ
ターンが繰り返される。
A video signal such as an NTSC signal is supplied to a decoder 2.
3, through the data array converter 22, the serial / parallel converter 14, and the pulse width modulator 13, the pulse width modulation signal D
It is converted to 1 'to Dn'. The pulse width signal D'j in FIG. 6 indicates the j-th signal in the column direction, and D'j + 1 indicates (j +
The 1) th signal and D'j + 2 indicate the (j + 2) th column direction signal. These pulse signals are generated during the first horizontal scanning period (1H) by the column direction signals D′ j and D′ j + 1.
And the same signal is input to the signals D′ j + 1 and D′ j + 2 in the next one horizontal scanning period (1H).

【0128】タイミング制御回路15から出力されるス
イッチ切替え信号S2,S3は、1Hごとに発生されて
スイッチ17,21のそれぞれを切り換えている。図6
において、各信号S2,S3における“a”“b”は、
各スイッチにおいて接続される端子を表している。電圧
供給回路20から変調信号電圧変換器12に供給される
電圧は、スイッチ21が端子aに接続されている時には
負極性に、端子bに接続されている時には正極性にな
る。このため表示パネル1000に入力される映像信号
Dyj,Dyj+1,Dyj+2は、図6に示す様になる。
The switch switching signals S2 and S3 output from the timing control circuit 15 are generated every 1H and switch each of the switches 17 and 21. FIG.
, “A” and “b” in the signals S2 and S3 are
The terminals connected in each switch are shown. The voltage supplied from the voltage supply circuit 20 to the modulation signal voltage converter 12 has a negative polarity when the switch 21 is connected to the terminal a, and has a positive polarity when the switch 21 is connected to the terminal b. Therefore, the video signals Dyj, Dyj + 1, and Dyj + 2 input to the display panel 1000 are as shown in FIG.

【0129】また、パルス発生器16から出力されるパ
ルス信号S4は、1H周期で発生する。本実施の形態1
では、パルス信号S4の極性を正極性とする。このパル
ス信号S4の極性を切り換えるための切替回路18のス
イッチ17を切り換えるための信号S2は、タイミング
制御回路15から1H周期で出力されるので、スイッチ
17は1Hごとに端子aと端子bとに交互に接続され
る。これにより切替回路18から出力される走査信号D
xiは、図6に示すように、1Hごとに極性が反転した信
号となる。この時、映像信号Dyj,Dyj+1,Dyj+2と走
査信号S5の極性とは常に反対でなければならない。
The pulse signal S4 output from the pulse generator 16 is generated in a 1H cycle. Embodiment 1
Here, the polarity of the pulse signal S4 is positive. The signal S2 for switching the switch 17 of the switching circuit 18 for switching the polarity of the pulse signal S4 is output from the timing control circuit 15 in a 1H cycle, so that the switch 17 is connected to the terminal a and the terminal b every 1H. Connected alternately. As a result, the scanning signal D output from the switching circuit 18
xi is a signal whose polarity is inverted every 1H as shown in FIG. At this time, the polarities of the video signals Dyj, Dyj + 1, Dyj + 2 and the scanning signal S5 must always be opposite.

【0130】このようなタイミングで表示パネル100
0を駆動すると、表示パネル1000のi行目の電子放
出素子には、最初の1Hでは映像信号(Dy1〜Dyn)が
負極性で、走査信号(Dx1〜Dxm)が正極性となって電
圧が印加され、次の1Hでは映像信号(Dy1〜Dyn)が
正極性で、走査信号(Dx1〜Dxm)が負極性となって電
圧が印加される。
At such a timing, the display panel 100
When 0 is driven, the electron emission elements on the i-th row of the display panel 1000 have negative video signals (Dy1 to Dyn) and positive scan signals (Dx1 to Dxm) in the first 1H, and a voltage is applied. In the next 1H, the video signals (Dy1 to Dyn) have a positive polarity and the scanning signals (Dx1 to Dxm) have a negative polarity, and a voltage is applied.

【0131】図5を参照して前述したように、本実施の
形態の表面伝導型素子は電極1102が正極性、電極1
103が負極性の時は、電子放出部1105から放出さ
れる電子は電子軌道101を描いて蛍光体1008に到
達する。ここで電極1102を負極性、電極1103を
正極性というように、電極1102,1103の極性を
反対にすると、電子軌道は102(図の破線)で示すよ
うになる。
As described above with reference to FIG. 5, in the surface conduction element of the present embodiment, the electrode 1102 has a positive polarity,
When 103 has a negative polarity, the electrons emitted from the electron emitting portion 1105 reach the phosphor 1008 along the electron trajectory 101. Here, if the polarities of the electrodes 1102 and 1103 are reversed such that the electrode 1102 has a negative polarity and the electrode 1103 has a positive polarity, the electron orbit will be as shown by 102 (broken line in the figure).

【0132】図7は、以上の様にして実施の形態1の表
示パネル1000を駆動した際、各々の電子放出部11
05からどのように蛍光体1008に電子が照射される
かを示した図である。
FIG. 7 shows that each of the electron-emitting portions 11 is driven when the display panel 1000 of the first embodiment is driven as described above.
FIG. 14 is a diagram showing how electrons are irradiated to the phosphor 1008 from 05.

【0133】図7は、表示パネル1000を図1のZ軸
方向から見た図であり、蛍光体1008はフェースプレ
ート1007の内側に設けられており、列方向配線10
04、行方向配線1003、電極1102,1103及
び放出素子1002はリアプレート(基板)1001上
に配置されている。
FIG. 7 is a view of the display panel 1000 as viewed from the Z-axis direction in FIG. 1. The phosphor 1008 is provided inside the face plate 1007,
04, row direction wirings 1003, electrodes 1102 and 1103, and emission elements 1002 are arranged on a rear plate (substrate) 1001.

【0134】図7において、矢印は電子放出部1105
から放出される電子の軌道を示しており、矢印の始点は
電子放出部1105、終点は蛍光体1008上にある。
In FIG. 7, the arrow indicates the electron emitting portion 1105
The starting point of the arrow is on the electron emitting portion 1105, and the ending point of the arrow is on the phosphor 1008.

【0135】最初の1Hでは、i行目の放出素子100
2に、列方向配線1004より映像信号(Dy1〜Dyn)
が負極性で、行方向配線1003より走査信号(Dx1〜
Dxn)が正極性で印加される。すると電子の軌道は図の
実線で示す矢印のようになり、2i行目の蛍光体100
8に照射される。この時、j列目の蛍光体1008に
は、2つの放出素子からの電子が照射される。ここでj
列目の蛍光体を照射している2つの放出素子の映像信号
線には同じ映像信号(パルス幅変調信号)が入力されて
いるので、j列目の蛍光体1008は1つの放出素子か
らの電子で発光する場合に比べて2倍の輝度で発光する
ことになる。
In the first 1H, the emission element 100 in the i-th row
2, a video signal (Dy1 to Dyn) from the column direction wiring 1004
Is a negative polarity, and scanning signals (Dx1 to Dx1 to
Dxn) is applied with a positive polarity. Then, the trajectory of the electrons becomes like the arrow shown by the solid line in FIG.
8 is irradiated. At this time, the electrons from the two emission elements are irradiated to the phosphor 1008 in the j-th column. Where j
Since the same video signal (pulse width modulation signal) is input to the video signal lines of the two emission devices that irradiate the phosphors in the column, the phosphor 1008 in the j-th column is output from one emission device. It emits light with twice the brightness as compared with the case of emitting light by electrons.

【0136】このようにして1Hごとに走査信号(Dx1
〜Dxn)と映像信号(Dy1〜Dyn)の極性を入れ変え、
最初の1Hと次の1Hで対になる2本の列方向配線を変
えながら、隣合う列方向配線1004に同じ映像信号を
印加することにより、デルタ配列の蛍光体1008を使
用して2倍の輝度の画像を表示することができる。
In this way, the scanning signal (Dx1
~ Dxn) and the video signal (Dy1 ~ Dyn)
The same video signal is applied to the adjacent column-direction wiring 1004 while changing the two column-direction wirings forming a pair in the first 1H and the next 1H, thereby using the delta-arranged phosphor 1008 to double the same. An image with brightness can be displayed.

【0137】[実施の形態2]次に、実施の形態2の表
示装置の表示回路の構成について図8を参照して説明す
る。図8は、本実施の形態2の表示回路の基本構成を示
すブロック図で、前述の図3と共通する部分は同じ番号
で示し、その説明を省略している。
[Second Embodiment] Next, the configuration of a display circuit of a display device according to a second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a block diagram showing a basic configuration of a display circuit according to the second embodiment. Portions common to those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

【0138】図9は、表示パネル1000における素子
配列を説明するための図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining the element arrangement in the display panel 1000.

【0139】表示パネル1000のj列目の素子は、放
出素子1002の電子放出部1105が図のY軸に対し
て反時計回り方向に60度の角度となるように配置さ
れ、行方向配線1003に接続された電極1102と列
方向配線1004に接続された電極1103とに挟まれ
ている。また表示パネル1000の(j+1)列目の素
子は、放出素子1002の電子放出部1105が図のY
軸に対して時計回り方向に60度の角度となるように配
置され、列方向配線1004に接続された電極1103
と行方向配線1003に接続された電極1102とに挟
まれている。各放出素子1002は、蛍光体1008の
2行に対して1行の割合で配置され、かつ1行における
放出素子の数は、i行の蛍光体1008の数と(i+
1)行の蛍光体1008の数との和に等しくなってい
る。また、行方向配線1003の数は放出素子の行数と
同じ数であり、列方向配線1004の数は1行中の放出
素子の数と同じになっている。
The elements in the j-th column of the display panel 1000 are arranged such that the electron emission portions 1105 of the emission elements 1002 are at an angle of 60 degrees counterclockwise with respect to the Y axis in FIG. And the electrode 1103 connected to the column direction wiring 1004. In the element on the (j + 1) -th column of the display panel 1000, the electron emission portion 1105 of the emission element 1002
An electrode 1103 arranged at an angle of 60 degrees clockwise with respect to the axis and connected to the column wiring 1004
And an electrode 1102 connected to the row wiring 1003. Each emission element 1002 is arranged in a ratio of one row to two rows of the phosphor 1008, and the number of emission elements in one row is equal to the number of the phosphor 1008 in the i row and (i +
1) It is equal to the sum of the number of phosphors 1008 in a row. Further, the number of row direction wirings 1003 is the same as the number of rows of emission elements, and the number of column direction wirings 1004 is the same as the number of emission elements in one row.

【0140】尚、この実施の形態2においても、表示パ
ネル1000における放出素子1002と放出電子のラ
ンディング位置との関係は、前述の図5の場合と同様で
ある。
Note that also in the second embodiment, the relationship between the emitting element 1002 and the landing position of the emitted electrons in the display panel 1000 is the same as that in FIG.

【0141】走査信号発生器29は、画像を表示するタ
イミングに合わせて、表示パネル1000が内蔵するマ
ルチ電子ビーム源を順次走査するための走査信号を発生
している。具体的には、表示パネル1000の行方向端
子Dx1〜Dxmに接続されたm本の走査線の内の1ライン
に選択電圧Vs[V]を、他の(m−1)ラインに非選
択電圧を印加している。このラインの切替は、タイミン
グ制御回路15aから出力される走査タイミング制御信
号S2に基づいて行われる。
The scanning signal generator 29 generates a scanning signal for sequentially scanning the multi-electron beam source built in the display panel 1000 in accordance with the timing of displaying an image. Specifically, the selection voltage Vs [V] is applied to one of the m scanning lines connected to the row direction terminals Dx1 to Dxm of the display panel 1000, and the non-selection voltage is applied to the other (m-1) lines. Is applied. This line switching is performed based on a scanning timing control signal S2 output from the timing control circuit 15a.

【0142】図10は、以上のように表示装置を駆動し
た際、各々の電子放出部1105からどのように蛍光体
1008に電子が照射されるのかを示した図である。
FIG. 10 is a diagram showing how electrons are emitted from each of the electron-emitting portions 1105 to the phosphor 1008 when the display device is driven as described above.

【0143】図10は、表示パネル1000を図1のZ
軸方向から見た図であり、蛍光体1008はフェースプ
レート1007の内側に設けられており、列方向配線1
004、行方向配線1003、電極1102,1103
及び放出素子1002は、基板1001上に配置されて
いる。
FIG. 10 shows the display panel 1000 in the Z direction of FIG.
FIG. 10 is a view as seen from the axial direction, in which the phosphor 1008 is provided inside the face plate 1007 and the column-direction wiring 1
004, row direction wiring 1003, electrodes 1102, 1103
The emission element 1002 is disposed on the substrate 1001.

【0144】図10において、矢印は電子放出部110
5から放出される電子の軌道を示し、矢印の始点は電子
放出部1105、終点は蛍光体1008上に位置してい
る。以下、この図を参照して表示パネル1000のi行
目に表示する場合を説明する。
In FIG. 10, the arrow indicates the electron emitting portion 110.
5 shows the trajectory of the electrons emitted from 5, the starting point of the arrow is located on the electron emitting portion 1105, and the ending point is located on the phosphor 1008. Hereinafter, a case where the display is performed on the i-th row of the display panel 1000 will be described with reference to FIG.

【0145】走査信号発生器29によりi行目の走査線
1003−iが選択されると、そのi行目の行方向配線
1003−iの電位はVs[V]に、列方向配線100
4の電位がVf[V]になる。これにより放出素子10
02から電子が放出され、その軌道は図10の矢印のよ
うになる。
When the i-th scanning line 1003-i is selected by the scanning signal generator 29, the potential of the i-th row direction wiring 1003-i becomes Vs [V], and the column direction wiring 100
4 becomes Vf [V]. Thereby, the emission element 10
Electrons are emitted from 02, and their orbits are as shown by arrows in FIG.

【0146】即ち、図10に示すように、i行目の放出
素子の内、列方向配線1004−1,1004−3,1
004−5等に接続された放出素子から放出された電子
は2i行目の蛍光体1008に照射され、同じi行目の
放出素子の内、列方向配線1004−2,1004−4
等に接続された放出素子から放出された電子は(2i+
1)行目の蛍光体1008に照射されている。同様に、
(i+1)行目の放出素子の内、列方向配線1004−
1,1004−3,1004−5等に接続された放出素
子から放出された電子は(2i+2)行目の蛍光体10
08に照射され、同じ(i+1)行目の放出素子の内、
列方向配線1004−2,1004−4等に接続された
放出素子から放出された電子は(2i+3)行目の蛍光
体1008に照射されている。ここで2i行目の蛍光体
1008と(2i+1)行目の蛍光体1008とは、行
方向に1/2ピッチずれて配置されているため、デルタ
配列をした2行の蛍光体が1度で照射されて発光するこ
とになる。
That is, as shown in FIG. 10, among the emission elements in the i-th row, the column direction wirings 1004-1, 1004-3, 1
Electrons emitted from the emission elements connected to 004-5 and the like are irradiated on the phosphor 1008 in the 2i-th row, and among the emission elements in the same i-th row, the column direction wirings 1004-2 and 1004-4.
The electrons emitted from the emission device connected to the device (2i +
1) The phosphor 1008 in the row is irradiated. Similarly,
(I + 1) row direction wiring 1004-
The electrons emitted from the emission elements connected to 1,1004-3, 1004-5, etc. are the phosphors 10 in the (2i + 2) -th row.
08, and among the emission elements in the same (i + 1) th row,
The electrons emitted from the emission elements connected to the column wirings 1004-2 and 1004-4 are radiated to the phosphor 1008 in the (2i + 3) -th row. Here, the phosphors 1008 in the 2i-th row and the phosphors 1008 in the (2i + 1) -th row are arranged with a shift of ず れ pitch in the row direction. It will emit light when irradiated.

【0147】図11は、本発明の実施の形態2の表示回
路の動作タイミングを示すタイミング図である。
FIG. 11 is a timing chart showing operation timing of the display circuit according to the second embodiment of the present invention.

【0148】このようにして1行に配列された放出素子
の電子放出部1105の角度を、j列目では画面の鉛直
方向に対して反時計回りに−60度、(j+1)列目で
は60度というように交互に傾けて配置することによ
り、電子放出素子を正マトリクス状に配列して列方向配
線1004を蛇行させることなく、デルタ状に配列され
た蛍光体1008に電子を照射させて画像を表示するこ
とができる。また、1行の放出素子を選択して2行分の
蛍光体1008を同時に発光させることができるため1
行当たりの発光時間を約2倍にでき、その発光輝度を約
2倍にすることができる。
The angle of the electron emission portions 1105 of the emission elements arranged in one row in this manner is -60 degrees counterclockwise with respect to the vertical direction of the screen in the jth column, and 60 degrees in the (j + 1) th column. By arranging them alternately in degrees, the electron-emitting devices are arranged in a positive matrix and the phosphors 1008 arranged in a delta are irradiated with electrons without meandering the column-directional wiring 1004, thereby forming an image. Can be displayed. In addition, since one row of emission elements can be selected and the phosphors 1008 for two rows can be emitted simultaneously,
The light emission time per row can be approximately doubled, and the light emission luminance can be doubled.

【0149】[実施の形態3]次に本発明の実施の形態
3について説明する。本実施の形態3の場合も、表示パ
ネル1000の製法、その好ましい電子放出素子100
2の構造と製法、電気回路の構成については前述の実施
の形態と同じである。但し、前述の実施の形態において
は、図3の列方向配線1004の本数が1行中の放出素
子の個数と同数で、行方向配線1003の本数が放出素
子の行数と同数であったのに対して、本実施の形態3で
は列方向配線1004の本数は1行中の蛍光体1008
の数と同数、行方向配線1003の数は蛍光体1008
の行数と同じであるという点が異なる。このため前述の
実施の形態1における図1の構成は本実施の形態3では
図12のようになり、前述の図25は図13のようにな
る。
Third Embodiment Next, a third embodiment of the present invention will be described. Also in the case of the third embodiment, the manufacturing method of the display panel 1000 and the preferable electron-emitting device 100
The structure, manufacturing method, and configuration of the electric circuit of the second embodiment are the same as those of the above-described embodiment. However, in the above-described embodiment, the number of column direction wirings 1004 in FIG. 3 is the same as the number of emission elements in one row, and the number of row direction wirings 1003 is the same as the number of rows of emission elements. On the other hand, in the third embodiment, the number of column direction wirings 1004 is less than the number of phosphors 1008 in one row.
And the number of row direction wirings 1003 is equal to the number of phosphors 1008.
The difference is that the number of rows is the same. Therefore, the configuration of FIG. 1 in the first embodiment is as shown in FIG. 12 in the third embodiment, and FIG. 25 is as shown in FIG.

【0150】また、前述の実施の形態2においては、走
査線(行方向配線1003)側が負極性で、映像信号
(列方向配線1004)側が正極性となるように信号を
入力していたが、本実施の形態3においては、これとは
逆に走査線側を正極性、映像信号側を負極性となるよう
に信号を入力する。尚、この実施の形態3における画像
表示回路の構成は、前述の図8の構成において、電源2
8の出力を負極性にし、走査信号発生器29の出力信号
を正極性とすることで実現できるため、その説明を省略
する。
In the second embodiment, signals are input such that the scanning line (row direction wiring 1003) has a negative polarity and the video signal (column direction wiring 1004) has a positive polarity. In the third embodiment, on the contrary, a signal is input such that the scanning line side has a positive polarity and the video signal side has a negative polarity. The configuration of the image display circuit according to the third embodiment is similar to the configuration of FIG.
8 can be realized by setting the output signal of the scan signal generator 8 to a negative polarity and the output signal of the scanning signal generator 29 to a positive polarity.

【0151】本実施の形態3の表示パネル1000aの
構成を図14に示す。
FIG. 14 shows a configuration of a display panel 1000a according to the third embodiment.

【0152】表示パネル1000aのi行目を表示する
際には、放出素子の電子放出部1105が図のY軸に対
して反時計回り方向に60度の角度で配置された放出素
子が選択駆動され、(i+1)行目を表示する際には、
同じく電子放出部1105が図のY軸に対して時計回り
方向に60度の角度となるように配置された放出素子が
選択駆動されて表示が行われる。この表示パネル100
0aでは、電子放出素子は蛍光体1008の2行に対し
て1行の割合で配置され、かつ1行における放出素子の
数はi行の蛍光体1008の数と(i+1)行の蛍光体
1008の数との和となっている。また、行方向配線1
003の数は、蛍光体1008の行数と同じ数、更に列
方向配線1004の数は1行中の蛍光体1008の数と
同じ数である。
When displaying the i-th row of the display panel 1000a, the emission element in which the electron emission portion 1105 of the emission element is arranged at an angle of 60 degrees counterclockwise with respect to the Y axis in the drawing is selectively driven. When displaying the (i + 1) th line,
Similarly, an emission element in which the electron emission unit 1105 is arranged at an angle of 60 degrees clockwise with respect to the Y axis in the drawing is selectively driven to perform display. This display panel 100
In 0a, the electron-emitting devices are arranged in a ratio of one row to two rows of the phosphor 1008, and the number of the emission elements in one row is equal to the number of the phosphor 1008 in the i-th row and the phosphor 1008 in the (i + 1) -th row. And the sum of the numbers. In addition, row direction wiring 1
The number of 003 is the same as the number of rows of the phosphors 1008, and the number of column direction wirings 1004 is the same as the number of phosphors 1008 in one row.

【0153】次に、この表示パネル1000aを用いて
表示を行う場合の動作を図15を用いて説明する。
Next, the operation in the case of performing display using the display panel 1000a will be described with reference to FIG.

【0154】図15は、前述の図10と同様に図12の
表示パネル1000aをZ軸方向から見た図である。
FIG. 15 is a view of the display panel 1000a of FIG. 12 viewed from the Z-axis direction, similarly to FIG. 10 described above.

【0155】2i行目の蛍光体1008を発光させる際
には、2i行目の行方向配線1003−1を選択し、列
方向配線1004から映像信号を入力する。これにより
i行目の放出素子の内、2i行目の行方向配線1003
−1に接続された放出素子から電子が図の実線矢印のよ
うに放出され、この放出された電子は2i行目の蛍光体
1008に照射される。
When the phosphor 1008 in the 2i-th row emits light, the row-direction wiring 1003-1 in the 2i-th row is selected, and a video signal is input from the column-direction wiring 1004. As a result, of the emission elements in the i-th row, the row direction wiring 1003 in the 2i-th row
Electrons are emitted from the emission element connected to -1 as shown by the solid arrow in the figure, and the emitted electrons are irradiated to the phosphor 1008 in the 2i-th row.

【0156】次に(2i+1)行目の蛍光体1008を
発光させる際には、(2i+1)行目の行方向配線10
03−2を選択し、列方向配線1004から映像信号を
入力する。これにより、i行目の放出素子の内、(2i
+1)行目の行方向配線1003−2に接続された放出
素子から電子が図の破線矢印のように放出され、この放
出された電子は(2i+1)行目の蛍光体1008に照
射される。
Next, when the phosphor 1008 in the (2i + 1) -th row is caused to emit light, the row-direction wiring 10 in the (2i + 1) -th row is used.
03-2 is selected, and a video signal is input from the column direction wiring 1004. As a result, (2i) of the emission elements in the i-th row
Electrons are emitted from the emission element connected to the (+1) th row direction wiring 1003-2 as shown by the dashed arrow in the figure, and the emitted electrons are irradiated to the (2i + 1) th row phosphor 1008.

【0157】この実施の形態3における動作タイミング
を図16に示す。
FIG. 16 shows the operation timing in the third embodiment.

【0158】このようにして列方向配線を配線を蛇行さ
せることなく、デルタ状に配列された蛍光体1008に
電子を照射して画像表示を行うことができる。更に、本
実施の形態3の場合、前述の実施の形態2に比べて、列
方向配線1004の配線ピッチを2倍にとることができ
るため、表示パネルの製作がより容易となる。
In this way, an image can be displayed by irradiating electrons to the phosphors 1008 arranged in a delta shape without meandering the wiring in the column direction wiring. Furthermore, in the case of the third embodiment, the wiring pitch of the column-directional wiring 1004 can be doubled as compared with the above-described second embodiment, so that the display panel can be manufactured more easily.

【0159】図27は、本実施の形態の表面伝導型電子
放出素子を電子ビーム源として用いた表示パネル100
0に、例えばテレビジョン放送をはじめとする種々の画
像情報源より提供される画像情報を表示できるように構
成した多機能表示装置の一例を示すブロック図である。
FIG. 27 shows a display panel 100 using the surface conduction electron-emitting device of this embodiment as an electron beam source.
FIG. 1 is a block diagram showing an example of a multi-function display device configured to display image information provided from various image information sources such as television broadcasts.

【0160】図中、1000は本実施の形態の表示(デ
ィスプレイ)パネル、2101は表示パネル1000の
駆動回路、2102はディスプレイコントローラ、21
03はマルチプレクサ、2104はデコーダ、2105
は入出力インターフェース回路、2106はCPU、2
107は画像生成回路、2108および2109および
2110は画像メモリインターフェース回路、2111
は画像入力インターフェース回路、2112および21
13はTV信号受信回路、2114は入力部である。
尚、本実施の形態の表示装置は、例えばテレビジョン信
号のように映像情報と音声情報の両方を含む信号を受信
する場合には、当然映像の表示と同時に音声を再生する
ものであるが、本実施の形態の表示パネル1000の特
徴と直接関係しない音声情報の受信、分離、再生、処
理、記憶などに関する回路やスピーカなどについては説
明を省略する。以下、画像信号の流れに沿って各部の機
能を説明する。
In the figure, reference numeral 1000 denotes a display (display) panel of the present embodiment, 2101 denotes a drive circuit of the display panel 1000, 2102 denotes a display controller, and 21 denotes a display controller.
03 is a multiplexer, 2104 is a decoder, 2105
Is an input / output interface circuit, 2106 is a CPU, 2
107 is an image generation circuit, 2108 and 2109 and 2110 are image memory interface circuits, 2111
Are image input interface circuits, 2112 and 21
13 is a TV signal receiving circuit, and 2114 is an input unit.
Note that the display device of the present embodiment, when receiving a signal including both video information and audio information, such as a television signal, naturally reproduces audio simultaneously with the display of video. Descriptions of circuits, speakers, and the like relating to reception, separation, reproduction, processing, storage, and the like of audio information that are not directly related to the characteristics of the display panel 1000 of this embodiment are omitted. Hereinafter, the function of each unit will be described along the flow of the image signal.

【0161】まず、TV信号受信回路2113は、例え
ば電波や空間光通信などのような無線伝送系を用いて伝
送されるTV画像信号を受信するための回路である。受
信するTV信号の方式は特に限られるものではなく、例
えば、NTSC方式、PAL方式、SECAM方式など
の諸方式でもよい。また、これらより更に多数の走査線
よりなるTV信号(例えばMUSE方式をはじめとする
いわゆる高品位TV)は、大面積化や大画素数化に適し
た前記表示パネル1000の利点を生かすのに好適な信
号源である。TV信号受信回路2113で受信されたT
V信号は、デコーダ2104に出力される。TV信号受
信回路2112は、例えば同軸ケーブルや光ファイバな
どのような有線伝送系を用いて伝送されるTV画像信号
を受信するための回路である。またTV信号受信回路2
113と同様に、受信するTV信号の方式は特に限られ
るものではなく、また本回路で受信されたTV信号もデ
コーダ2104に出力される。
First, the TV signal receiving circuit 2113 is a circuit for receiving a TV image signal transmitted using a wireless transmission system such as radio waves or spatial optical communication. The format of the received TV signal is not particularly limited, and may be, for example, various systems such as the NTSC system, the PAL system, and the SECAM system. In addition, a TV signal (for example, a so-called high-definition TV including the MUSE system) including a larger number of scanning lines is suitable for taking advantage of the display panel 1000 suitable for a large area and a large number of pixels. Signal source. T received by the TV signal receiving circuit 2113
The V signal is output to the decoder 2104. The TV signal receiving circuit 2112 is a circuit for receiving a TV image signal transmitted using a wired transmission system such as a coaxial cable or an optical fiber. TV signal receiving circuit 2
As in the case of 113, the format of the received TV signal is not particularly limited, and the TV signal received by the present circuit is also output to the decoder 2104.

【0162】画像入力インターフェース回路2111
は、例えばTVカメラや画像読み取りスキャナなどの画
像入力装置から供給される画像信号を取り込むための回
路で、取り込まれた画像信号はデコーダ2104に出力
される。画像メモリインターフェース回路2110は、
ビデオテープレコーダ(以下VTRと略す)に記憶され
ている画像信号を取り込むための回路で、取り込まれた
画像信号はデコーダ2104に出力される。画像メモリ
インターフェース回路2109は、ビデオディスクに記
憶されている画像信号を取り込むための回路で、取り込
まれた画像信号はデコーダ2104に出力される。画像
メモリインターフェース回路2108は、いわゆる静止
画ディスクのように、静止画像データを記憶している装
置から画像信号を取り込むための回路で、取り込まれた
静止画像データはデコーダ2104に出力される。入出
力インターフェース回路2105は、本表示装置と、外
部のコンピュータもしくはコンピュータネットワークも
しくはプリンタなどの出力装置とを接続するための回路
である。画像データや文字データ・図形情報の入出力を
行うのはもちろんのこと、場合によっては本表示装置の
備えるCPU2106と外部との間で制御信号や数値デ
ータの入出力などを行うことも可能である。
Image input interface circuit 2111
Is a circuit for capturing an image signal supplied from an image input device such as a TV camera or an image reading scanner. The captured image signal is output to the decoder 2104. The image memory interface circuit 2110 includes:
This is a circuit for capturing an image signal stored in a video tape recorder (hereinafter abbreviated as VTR). The captured image signal is output to a decoder 2104. The image memory interface circuit 2109 is a circuit for taking in an image signal stored in the video disk, and the taken-in image signal is output to the decoder 2104. The image memory interface circuit 2108 is a circuit for taking in an image signal from a device storing still image data, such as a so-called still image disk, and the taken still image data is output to the decoder 2104. The input / output interface circuit 2105 is a circuit for connecting the display device to an external computer, a computer network, or an output device such as a printer. In addition to inputting and outputting image data, character data, and graphic information, control signals and numerical data can be input and output between the CPU 2106 included in the display device and the outside in some cases. .

【0163】また、画像生成回路2107は、前記入出
力インターフェース回路2105を介して外部から入力
される画像データや文字・図形情報や、或はCPU21
06より出力される画像データや文字・図形情報に基づ
き表示用画像データを生成するための回路である。本回
路の内部には、例えば画像データや文字・図形情報を蓄
積するための書き換え可能メモリや、文字コードに対応
する画像パターンが記憶されている読み出し専用メモリ
や、画像処理を行うためのプロセッサなどをはじめとし
て画像の生成に必要な回路が組み込まれている。本回路
により生成された表示用画像データは、デコーダ210
4に出力されるが、場合によっては前記入出力インター
フェース回路2105を介して外部のコンピュータネッ
トワークやプリンタ入出力することも可能である。
The image generation circuit 2107 is provided with image data and character / graphic information input from the outside via the input / output interface circuit 2105, or the CPU 21.
This is a circuit for generating display image data based on the image data and character / graphic information output from the controller 06. The circuit includes, for example, a rewritable memory for storing image data and character / graphic information, a read-only memory storing an image pattern corresponding to a character code, and a processor for performing image processing. And other circuits necessary for generating an image. The display image data generated by this circuit is
4, but it is also possible to input / output an external computer network or a printer via the input / output interface circuit 2105 in some cases.

【0164】CPU2106は、主として本表示装置の
動作制御や、表示画像の生成や選択や編集に関わる作業
を行う。例えば、マルチプレクサ2103に制御信号を
出力し、表示パネル1000に表示する画像信号を適宜
選択したり組み合わせたりする。また、その際には表示
する画像信号に応じてディスプレイパネル・コントロー
ラ2102に対して制御信号を発生し、画面表示周波数
や走査方法(例えばインターレースか、ノンインターレ
ースか)や一画面の走査線の数など表示装置の動作を適
宜制御する。そして画像生成回路2107に対して画像
データや文字・図形情報を直接出力したり、あるいは前
記入出力インターフェース回路2105を介して外部の
コンピュータやメモリをアクセスして画像データや文字
・図形情報を入力する。なお、CPU2106は、むろ
んこれ以外の目的の作業にも関わるものであっても良
い。例えば、パーソナルコンピュータやワードプロセッ
サなどのように、情報を生成したり処理する機能に直接
関わっても良い。あるいは、前述したように入出力イン
ターフェース回路2105を介して外部のコンピュータ
ネットワークと接続し、例えば数値計算などの作業を外
部機器と協動して行っても良い。
The CPU 2106 mainly performs operation control of the present display device and operations related to generation, selection, and editing of a display image. For example, a control signal is output to the multiplexer 2103, and image signals to be displayed on the display panel 1000 are appropriately selected or combined. At that time, a control signal is generated for the display panel controller 2102 according to the image signal to be displayed, and the screen display frequency, the scanning method (for example, interlaced or non-interlaced), the number of scanning lines on one screen, For example, the operation of the display device is appropriately controlled. Then, image data and character / graphic information are directly output to the image generation circuit 2107, or image data and character / graphic information are input by accessing an external computer or memory via the input / output interface circuit 2105. . The CPU 2106 may, of course, be involved in work for other purposes. For example, it may be directly related to a function of generating and processing information, such as a personal computer or a word processor. Alternatively, as described above, the computer may be connected to an external computer network via the input / output interface circuit 2105 and work such as numerical calculation may be performed in cooperation with an external device.

【0165】入力部2114は、前記CPU2106に
使用者が命令やプログラム、あるいはデータなどを入力
するためのものであり、例えばキーボードやマウスのほ
か、ジョイスティック、バーコードリーダ、音声認識装
置など多様な入力機器を用いる事が可能である。また、
デコーダ2104は、前記2107ないし2113より
入力される種々の画像信号を3原色信号、または輝度信
号とI信号、Q信号に逆変換するための回路である。な
お、同図中に点線で示すように、デコーダ2104は内
部に画像メモリを備えるのが望ましい。これは、例えば
MUSE方式をはじめとして、逆変換するに際して画像
メモリを必要とするようなテレビ信号を扱うためであ
る。また、画像メモリを備えることにより、静止画の表
示が容易になる、あるいは前記画像生成回路2107お
よびCPU2106と協同して画像の間引き、補間、拡
大、縮小、合成をはじめとする画像処理や編集が容易に
行えるようになるという利点が生まれるからである。
The input unit 2114 is used by a user to input commands, programs, data, and the like to the CPU 2106. For example, in addition to a keyboard and a mouse, various input devices such as a joystick, a barcode reader, and a voice recognition device can be used. It is possible to use equipment. Also,
The decoder 2104 is a circuit for inversely converting various image signals input from the above 2107 to 2113 into three primary color signals or a luminance signal and an I signal and a Q signal. It is to be noted that the decoder 2104 desirably includes an image memory therein, as indicated by a dotted line in FIG. This is for handling television signals that require an image memory when performing inverse conversion, such as the MUSE method. Further, the provision of the image memory facilitates the display of a still image, or enables image processing and editing including image thinning, interpolation, enlargement, reduction, and synthesis in cooperation with the image generation circuit 2107 and the CPU 2106. This is because there is an advantage that it can be easily performed.

【0166】マルチプレクサ2103は、CPU210
6より入力される制御信号に基づき表示画像を適宜選択
するものである。即ち、マルチプレクサ2103はデコ
ーダ2104から入力される逆変換された画像信号のう
ちから所望の画像信号を選択して駆動回路2101に出
力する。その場合には、一画面表示時間内で画像信号を
切り替えて選択することにより、いわゆる多画面テレビ
のように、一画面を複数の領域に分けて領域によって異
なる画像を表示することも可能である。ディスプレイパ
ネル・コントローラ2102は、CPU2106より入
力される制御信号に基づき駆動回路2101の動作を制
御するための回路である。
The multiplexer 2103 includes a CPU 210
The display image is appropriately selected based on the control signal input from the control unit 6. That is, the multiplexer 2103 selects a desired image signal from the inversely converted image signals input from the decoder 2104 and outputs the selected image signal to the drive circuit 2101. In that case, by switching and selecting an image signal within one screen display time, it is possible to divide one screen into a plurality of areas and display different images depending on the areas, as in a so-called multi-screen TV. . The display panel controller 2102 is a circuit for controlling the operation of the drive circuit 2101 based on a control signal input from the CPU 2106.

【0167】まず、表示パネル1000の基本的な動作
にかかわるものとして、例えば表示パネル1000の駆
動用電源(図示せず)の動作シーケンスを制御するため
の信号を駆動回路2101に対して出力する。また、表
示パネル1000の駆動方法に関わるものとして、例え
ば画面表示周波数や走査方法(例えばインターレースか
ノンインターレースか)を制御するための信号を駆動回
路2101に対して出力する。また場合によっては表示
画像の輝度やコントラストや色調やシャープネスといっ
た画質の調整に関わる制御信号を駆動回路2101に対
して出力する場合もある。駆動回路2101は、表示パ
ネル1000に印加する駆動信号を発生するための回路
であり、マルチプレクサ2103から入力される画像信
号と、前記ディスプレイパネル・コントローラ2102
より入力される制御信号に基づいて動作するものであ
る。
First, as a signal related to the basic operation of the display panel 1000, a signal for controlling an operation sequence of a drive power supply (not shown) of the display panel 1000, for example, is output to the drive circuit 2101. In addition, a signal for controlling, for example, a screen display frequency and a scanning method (for example, interlaced or non-interlaced) is output to the driving circuit 2101 as a component related to the driving method of the display panel 1000. In some cases, a control signal related to adjustment of image quality such as luminance, contrast, color tone, and sharpness of a display image may be output to the drive circuit 2101. The drive circuit 2101 is a circuit for generating a drive signal to be applied to the display panel 1000, and includes an image signal input from the multiplexer 2103 and the display panel controller 2102.
It operates based on a control signal input from the controller.

【0168】以上、各部の機能を説明したが、図27に
例示した構成により、本実施の形態の表示装置において
は、多様な画像情報源より入力される画像情報を表示パ
ネル1000に表示することが可能である。即ち、テレ
ビジョン放送をはじめとする各種の画像信号はデコーダ
2104において逆変換された後、マルチプレクサ21
03において適宜選択され、駆動回路2101に入力さ
れる。一方、ディスプレイコントローラ2102は、表
示する画像信号に応じて駆動回路2101の動作を制御
するための制御信号を発生する。駆動回路2101は、
上記画像信号と制御信号に基づいて表示パネル1000
に駆動信号を印加する。これにより、表示パネル100
0において画像が表示される。これらの一連の動作は、
CPU2106により統括的に制御される。
The function of each section has been described above. With the configuration illustrated in FIG. 27, in the display device of this embodiment, image information input from various image information sources is displayed on the display panel 1000. Is possible. That is, various image signals such as television broadcasts are inversely converted by the decoder 2104 and then converted by the multiplexer 21.
03 is selected as appropriate and input to the drive circuit 2101. On the other hand, the display controller 2102 generates a control signal for controlling the operation of the driving circuit 2101 according to the image signal to be displayed. The driving circuit 2101 includes:
Display panel 1000 based on the image signal and the control signal
Is applied with a drive signal. Thereby, the display panel 100
At 0, an image is displayed. These series of actions are:
The CPU 2106 controls the entire system.

【0169】また、本実施の形態の表示装置において
は、前記デコーダ2104に内蔵する画像メモリや、画
像生成回路2107およびCPU2106が関与するこ
とにより、単に複数の画像情報の中から選択したものを
表示するだけでなく、表示する画像情報に対して、例え
ば拡大、縮小、回転、移動、エッジ強調、間引き、補
間、色変換、画像の縦横比変換などをはじめとする画像
処理や、合成、消去、接続、入れ換え、はめ込みなどを
はじめとする画像編集を行う事も可能である。また、本
実施の形態の説明では特に触れなかったが、上記画像処
理や画像編集と同様に、音声情報に関しても処理や編集
を行うための専用回路を設けても良い。
Further, in the display device of the present embodiment, an image memory incorporated in the decoder 2104, an image generation circuit 2107 and a CPU 2106 are involved, so that a display selected from a plurality of pieces of image information is simply displayed. In addition to the image information to be displayed, image processing such as enlargement, reduction, rotation, movement, edge enhancement, thinning, interpolation, color conversion, image aspect ratio conversion, etc. It is also possible to perform image editing such as connection, replacement, and fitting. Although not particularly described in the description of the present embodiment, a dedicated circuit for processing and editing audio information may be provided as in the above-described image processing and image editing.

【0170】従って、本実施の形態の表示装置は、テレ
ビジョン放送の表示機器、テレビ会議の端末機器、静止
画像および動画像を扱う画像編集機器、コンピュータの
端末機器、ワードプロセッサをはじめとする事務用端末
機器、ゲーム機などの機能を一台で兼ね備える事が可能
で、産業用あるいは民生用として極めて応用範囲が広
い。尚、この図27は、表面伝導型電子放出素子を電子
ビーム源とする表示パネル1000を用いた表示装置の
構成の一例を示したにすぎず、これのみに限定されるも
のではない。例えば、図27の構成要素のうち使用目的
上必要のない機能に関わる回路は省いても差し支えな
い。またこれとは逆に、使用目的によってはさらに構成
要素を追加しても良い。例えば、この表示装置をテレビ
電話機として応用する場合には、テレビカメラ、音声マ
イク、照明機、モデムを含む送受信回路などを構成要素
に追加するのが好適である。
Therefore, the display device of the present embodiment can be used as a display device for television broadcasting, a terminal device for video conference, an image editing device for handling still images and moving images, a terminal device for computers, and office equipment such as word processors. It is possible to combine the functions of a terminal device and a game machine by one unit, and it has a very wide application range for industrial or consumer use. FIG. 27 shows only an example of the configuration of a display device using the display panel 1000 using a surface conduction electron-emitting device as an electron beam source, and the present invention is not limited to this. For example, among the components shown in FIG. 27, circuits relating to functions that are not necessary for the purpose of use may be omitted. Conversely, additional components may be added depending on the purpose of use. For example, when this display device is applied as a videophone, it is preferable to add a transmission / reception circuit including a television camera, an audio microphone, an illuminator, and a modem to the components.

【0171】この表示装置においては、とりわけ表面伝
導型電子放出素子を電子ビーム源とする表示パネル10
00が容易に薄形化できるため、表示装置全体の奥行き
を小さくすることが可能である。それに加えて、表面伝
導型電子放出素子を電子ビーム源とする表示パネル10
00は大画面化が容易で輝度が高く視野角特性にも優れ
るため、本表示装置は臨場感あふれ迫力に富んだ画像を
視認性良く表示することが可能である。
In this display device, in particular, the display panel 10 using a surface conduction electron-emitting device as an electron beam source.
Since 00 can be easily made thin, the depth of the entire display device can be reduced. In addition, a display panel 10 using a surface conduction electron-emitting device as an electron beam source.
Since 00 is easy to enlarge the screen, has high luminance, and has excellent viewing angle characteristics, the present display device can display an image full of a sense of reality and full of power with good visibility.

【0172】なお、本発明は、複数の機器(例えばホス
トコンピュータ、インタフェイス機器、リーダ、プリン
タなど)から構成されるシステムに適用しても、一つの
機器からなる装置(例えば、複写機、ファクシミリ装置
など)に適用してもよい。
Even if the present invention is applied to a system including a plurality of devices (for example, a host computer, an interface device, a reader, a printer, etc.), an apparatus including one device (for example, a copying machine, a facsimile, etc.) Device).

【0173】また、本発明の目的は、前述した実施形態
の機能を実現するソフトウェアのプログラムコードを記
録した記憶媒体を、システムあるいは装置に供給し、そ
のシステムあるいは装置のコンピュータ(またはCPU
やMPU)が記憶媒体に格納されたプログラムコードを
読出し実行することによっても、達成されることは言う
までもない。
Further, an object of the present invention is to supply a storage medium storing a program code of software for realizing the functions of the above-described embodiments to a system or an apparatus, and to provide a computer (or CPU) of the system or the apparatus.
And MPU) read and execute the program code stored in the storage medium.

【0174】この場合、記憶媒体から読出されたプログ
ラムコード自体が本発明の新規な機能を実現することに
なり、そのプログラムコードを記憶した記憶媒体は本発
明を構成することになる。
In this case, the program code itself read from the storage medium realizes the novel function of the present invention, and the storage medium storing the program code constitutes the present invention.

【0175】プログラムコードを供給するための記憶媒
体としては、例えば、フロッピディスク、ハードディス
ク、光ディスク、光磁気ディスク、CD−ROM、CD
−R、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ROMな
どを用いることができる。
As a storage medium for supplying the program code, for example, a floppy disk, hard disk, optical disk, magneto-optical disk, CD-ROM, CD
-R, a magnetic tape, a nonvolatile memory card, a ROM, or the like can be used.

【0176】また、コンピュータが読出したプログラム
コードを実行することにより、前述した実施形態の機能
が実現されるだけでなく、そのプログラムコードの指示
に基づき、コンピュータ上で稼働しているOS(オペレ
ーティングシステム)などが実際の処理の一部または全
部を行い、その処理によって前述した実施形態の機能が
実現される場合も含まれる。
When the computer executes the readout program code, not only the functions of the above-described embodiment are realized, but also the OS (Operating System) running on the computer based on the instruction of the program code. ) Performs part or all of the actual processing, and the processing realizes the functions of the above-described embodiments.

【0177】さらに、記憶媒体から読出されたプログラ
ムコードが、コンピュータに挿入された機能拡張ボード
やコンピュータに接続された機能拡張ユニットに備わる
メモリに書込まれた後、そのプログラムコードの指示に
基づき、その機能拡張ボードや機能拡張ユニットに備わ
るCPUなどが実際の処理の一部または全部を行い、そ
の処理によって前述した実施形態の機能が実現される場
合も含まれる。
Further, after the program code read from the storage medium is written into a memory provided in a function expansion board inserted into the computer or a function expansion unit connected to the computer, based on the instruction of the program code, The case where the CPU of the function expansion board or the function expansion unit performs part or all of the actual processing, and the function of the above-described embodiment is realized by the processing.

【0178】以上説明したように本実施の形態によれ
ば、デルタ配列の蛍光体を持つ表示装置において、列方
向配線を蛇行させる必要がなくなる。そのため、列方向
配線は直線でよく、配線作成の負荷を軽減できる。
As described above, according to the present embodiment, it is not necessary to meander the column direction wiring in the display device having the phosphors in the delta arrangement. Therefore, the column direction wiring may be a straight line, and the load of wiring creation can be reduced.

【0179】また本実施の形態によれば、蛍光体の数に
対して電子放出素子の数を少なくできるため、製造コス
トの低減、装置の小型化を実現できる。
According to the present embodiment, the number of electron-emitting devices can be reduced with respect to the number of phosphors, so that the manufacturing cost can be reduced and the device can be downsized.

【0180】また1つの蛍光体に複数の電子放出素子か
らの放出電子を照射できるため、消費電力を増大させる
ことなく、その発光輝度を高めることができる。
In addition, since one phosphor can be irradiated with electrons emitted from a plurality of electron-emitting devices, the emission luminance can be increased without increasing power consumption.

【0181】[0181]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、列
方向配線を蛇行させることなく複数の電子放出素子をマ
トリクス上に配列した電子源とその駆動方法及び装置
と、前記電子源を用いた画像表示方法及びその装置を提
供できる。
As described above, according to the present invention, an electron source in which a plurality of electron-emitting devices are arranged in a matrix without meandering a column-direction wiring, a method and an apparatus for driving the electron source, and a method using the electron source And an apparatus for displaying the same.

【0182】また本発明によれば、デルタ状に配列され
た蛍光体を列方向配線を直線にして正マトリクス状に配
列された電子放出素子により照射駆動して画像を表示で
きるという効果がある。
Further, according to the present invention, there is an effect that an image can be displayed by irradiating the phosphors arranged in a delta shape with the electron-emitting devices arranged in a positive matrix by making the column-direction wiring straight.

【0183】また本発明によれば、1つの蛍光体を複数
の電子放出素子よりの放出電子で駆動することにより発
光輝度を高めることができる。
Further, according to the present invention, the emission luminance can be increased by driving one phosphor with the electrons emitted from a plurality of electron-emitting devices.

【0184】更に本発明によれば、表示に要する電子放
出素子の数を減らして製造コストの低下、製造工程の削
減を達成できるという効果がある。
Further, according to the present invention, there is an effect that the number of electron-emitting devices required for display can be reduced, thereby reducing the manufacturing cost and the number of manufacturing steps.

【0185】また本発明によれば、1行に配列された電
子放出素子からの放出電子で2行分の画像を表示でき
る。
Further, according to the present invention, images of two rows can be displayed by the electrons emitted from the electron-emitting devices arranged in one row.

【0186】[0186]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施の形態の表示パネルの一部を切り欠いて
示す外観斜視図である。
FIG. 1 is an external perspective view showing a part of a display panel according to an embodiment of the present invention.

【図2】本実施の形態の表示パネルに使用される蛍光体
の配列状態を説明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating an arrangement state of phosphors used in the display panel of the present embodiment.

【図3】本実施の形態1の画像表示回路の構成を示すブ
ロック図である。
FIG. 3 is a block diagram illustrating a configuration of an image display circuit according to the first embodiment.

【図4】本実施の形態1の電子源の構成を示す平面図で
ある。
FIG. 4 is a plan view showing a configuration of the electron source according to the first embodiment.

【図5】電子放出素子から放出された電子が蛍光体に到
達する位置関係を説明する図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a positional relationship in which electrons emitted from an electron-emitting device reach a phosphor.

【図6】本実施の形態1の回路の動作を示すタイミング
チャートである。
FIG. 6 is a timing chart showing the operation of the circuit according to the first embodiment.

【図7】本実施の形態1における電子放出素子から蛍光
体への電子放出を説明する図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating electron emission from the electron-emitting device to the phosphor in the first embodiment.

【図8】本実施の形態2の画像表示回路の構成を示すブ
ロック図である。
FIG. 8 is a block diagram illustrating a configuration of an image display circuit according to a second embodiment.

【図9】本実施の形態2の電子放出素子の配列を説明す
る図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating an arrangement of electron-emitting devices according to the second embodiment.

【図10】本実施の形態2における電子放出素子から蛍
光体への電子放出を説明する図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating electron emission from an electron-emitting device to a phosphor according to the second embodiment.

【図11】本実施の形態1の回路の動作を示すタイミン
グチャートである。
FIG. 11 is a timing chart showing the operation of the circuit of the first embodiment.

【図12】本実施の形態3の表示パネルの一部を切り欠
いて示す外観斜視図である。
FIG. 12 is an external perspective view of the display panel according to the third embodiment with a part cut away.

【図13】本実施の形態3の電子源の電子放出素子の配
列を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing an arrangement of electron-emitting devices of the electron source according to the third embodiment.

【図14】本実施の形態3の表示パネルにおける電子放
出素子の配列を説明する図である。
FIG. 14 is a diagram illustrating an arrangement of electron-emitting devices in the display panel according to the third embodiment.

【図15】本実施の形態3における電子放出素子から蛍
光体への電子放出を説明する図である。
FIG. 15 is a diagram illustrating electron emission from an electron-emitting device to a phosphor in the third embodiment.

【図16】本実施の形態3の回路の動作を示すタイミン
グチャートである。
FIG. 16 is a timing chart showing the operation of the circuit according to the third embodiment.

【図17】本実施の形態におけるマルチ電子源の製造工
程を示すフローチャートである。
FIG. 17 is a flowchart illustrating a manufacturing process of the multi-electron source according to the present embodiment.

【図18】本実施の形態で用いた平面型の表面伝導型電
子放出素子の平面図(a)、断面図(b)である。
FIGS. 18A and 18B are a plan view and a cross-sectional view, respectively, of a planar surface conduction electron-emitting device used in the present embodiment.

【図19】平面型の表面伝導型電子放出素子製造工程を
示す断面図である。
FIG. 19 is a cross-sectional view showing a step of manufacturing a planar type surface conduction electron-emitting device.

【図20】通電フォーミング処理の際の印加電圧波形例
を示す図である。
FIG. 20 is a diagram showing an example of an applied voltage waveform during energization forming processing.

【図21】通電活性化処理の際の印加電圧波形(a)、
放出電流Ieの変化(b)例を示す図である。
FIG. 21 shows an applied voltage waveform (a) during energization activation processing;
FIG. 7 is a diagram illustrating an example of a change (b) of an emission current Ie.

【図22】本実施の形態で用いた垂直型の表面伝導型電
子放出素子の断面図である。
FIG. 22 is a sectional view of a vertical surface conduction electron-emitting device used in the present embodiment.

【図23】垂直型の表面伝導型電子放出素子の製造工程
を示す断面図である。
FIG. 23 is a cross-sectional view showing a step of manufacturing the vertical surface conduction electron-emitting device.

【図24】本実施の形態で用いた表面伝導型電子放出素
子の典型的な特性を示すグラフ図である。
FIG. 24 is a graph showing typical characteristics of the surface conduction electron-emitting device used in the present embodiment.

【図25】本実施の形態で用いたマルチ電子ビーム源の
基板の平面図である。
FIG. 25 is a plan view of a substrate of the multi-electron beam source used in the present embodiment.

【図26】本実施の形態で用いたマルチ電子ビーム源の
基板の一部断面図である。
FIG. 26 is a partial cross-sectional view of the substrate of the multi-electron beam source used in the present embodiment.

【図27】本発明の実施の形態である多機能画像表示装
置の構成を示すブロック図である。
FIG. 27 is a block diagram illustrating a configuration of a multi-function image display device according to an embodiment of the present invention.

【図28】従来の表面伝導型電子放出素子の構成を示す
図である。
FIG. 28 is a view showing a configuration of a conventional surface conduction electron-emitting device.

【図29】従来のFE型電子放出素子の構成を示す図で
ある。
FIG. 29 is a diagram showing a configuration of a conventional FE type electron-emitting device.

【図30】従来のMIM型電子放出素子の構成を示す図
である。
FIG. 30 is a diagram showing a configuration of a conventional MIM type electron-emitting device.

【図31】従来のマルチ電子源のマトリクス配線を説明
する図である。
FIG. 31 is a diagram illustrating matrix wiring of a conventional multi-electron source.

【図32】デルタ配列の蛍光体を説明する図である。FIG. 32 is a diagram illustrating a delta-arranged phosphor.

【図33】蛍光体の配列に合わせて電子放出素子を配列
した際、電子放出素子が水平方向に1/2ピッチずれる
ことによる列方向配線の蛇行を説明する図である。
FIG. 33 is a view for explaining the meandering of the wiring in the column direction due to a shift of the electron emitting elements by ず れ pitch in the horizontal direction when the electron emitting elements are arranged in accordance with the arrangement of the phosphors.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 変調信号電圧変換器 13 パルス幅変調器 14 シリアル/パラレル変換器 15,15a タイミング制御回路 16 パルス発生器 17,21 切替スイッチ 19 走査行選択回路 22 データ配列変換器 24,26,27 電源 25 反転回路 29 走査信号発生器 1000,1000a 表示パネル 1001 絶縁性基板 1002 表面伝導型放出素子 1003 行方向配線 1004 列方向配線 1005 リアプレート 1007 フェースプレート 1008 蛍光膜 1010 黒色導電体 1102,1103,1202,1203 素子電極 1105、1205 電子放出部 1110 フォーミング用電源 1111,1116 電流計 1112 活性化用電源 Reference Signs List 12 Modulation signal voltage converter 13 Pulse width modulator 14 Serial / parallel converter 15, 15a Timing control circuit 16 Pulse generator 17, 21 Changeover switch 19 Scanning row selection circuit 22 Data array converter 24, 26, 27 Power supply 25 Inversion Circuit 29 Scanning signal generator 1000, 1000a Display panel 1001 Insulating substrate 1002 Surface conduction type emission device 1003 Row direction wiring 1004 Column direction wiring 1005 Rear plate 1007 Face plate 1008 Fluorescent film 1010 Black conductor 1102, 1103, 1202, 1203 Element Electrode 1105, 1205 Electron emission section 1110 Power supply for forming 1111, 1116 Ammeter 1112 Power supply for activation

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−198003(JP,A) 特開 平9−199064(JP,A) 特開 平9−213246(JP,A) 特開 平6−342636(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 31/12 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-9-198003 (JP, A) JP-A-9-199064 (JP, A) JP-A-9-213246 (JP, A) JP-A-6-1990 342636 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H01J 31/12

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 それぞれが対向する一対の電極を有する
複数の電子放出素子を複数の行方向配線及び列方向配線
を用いてマトリクス状に配列した電子源を用いた画像表
示装置であって、 前記複数の電子放出素子の配列形態とは異なるデルタ
状に配置された複数の蛍光体を有する表示用プレート
と、各電子放出素子の前記一対の電極が対向する方向と前記
列方向配線の各方向とが交差し、1つの行において、隣
接する電子放出素子間で、前記一対の電極が対向する方
向が交差するように電子放出素子を 配置し、同一行に位
置している前記電子放出素子の一方の電極が共通の行方
向配線に接続され、前記同一行に位置している前記電子
放出素子の他方の電極がそれぞれ異なる列方向配線に接
された電子源と、 前記複数の電子放出素子を行単位に選択する走査行選択
手段と、 前記走査行選択手段による選択に同期して選択された行
方向配線に正極性の電位を印加する第1の行印加手段
と、 前記第1の行印加手段により正極性の電位が印加された
方向配線に接続された電子放出素子の隣接する各2個
からなる第1の素子対群のそれぞれを接続する隣接する
各2本の列方向配線のそれぞれに負極性で走査行の画像
信号に応じたパルス幅の同じ電位を印加する第1の列印
加手段と、 前記走査行選択手段による選択に同期して選択された
行方向配線に負極性の電位を印加する第2の行印加手
段と、 前記第2の行印加手段により負極性の電位が印加された
前記方向配線に接続された電子放出素子の内、前記
1の素子対群とは異なる電子放出素子の隣接する各2個
からなる第2の素子対群のそれぞれを接続する隣接する
各2本の列方向配線のそれぞれに正極性で前記走査行の
次の走査行の画像信号に応じたパルス幅の同じ電位の画
像信号を印加する第2の列印加手段とを有し、前記第1及び第2の素子対群の各素子対 からの放出電子
前記複数の蛍光体のそれぞれを照射することを特徴と
する画像表示装置。
1. A semiconductor device comprising a pair of electrodes, each of which is opposed to each other.
A plurality of electron-emitting devices are connected to a plurality of row wirings and column wirings.
An image display device using an electron source arranged in a matrix by using a plurality of phosphors arranged in a delta shape different from the arrangement form of the plurality of electron-emitting devices. Plate, the direction in which the pair of electrodes of each electron-emitting device face each other, and
Each direction of the column wiring crosses, and in one row,
The pair of electrodes facing each other between the contacting electron-emitting devices
The electron-emitting devices are arranged so that their directions intersect , and one electrode of the electron-emitting devices located on the same row is connected to a common row-direction wiring, and the electron-emitting devices located on the same row The other electrode of each of which is connected to a different column-directional wiring, a scanning row selecting unit for selecting the plurality of electron-emitting devices on a row-by-row basis, and a selection in synchronization with the selection by the scanning row selecting unit. A first row applying means for applying a positive potential to the row wiring, and two adjacent electron emitting elements connected to the row wiring to which the positive potential is applied by the first row applying means. Pieces
Adjacent to each other to connect the first group of element pairs
Image of the scanned line with a negative polarity to each of the two column wirings
A first row applying means for applying the same potential with a pulse width corresponding to the signal, before being selected in synchronism with selection by the scanning line selection means
A second row applying means for applying a negative potential to the serial row wiring, a negative potential is applied by the second row application means
Of the connected electron-emitting devices on the row wiring, the second
Two adjacent electron-emitting devices different from one device pair group
Adjacent to each other connecting the second element pair group consisting of
Of the scanning line in the positive polarity to each of the two column wirings
Second column applying means for applying an image signal of the same potential having a pulse width corresponding to the image signal of the next scanning row, and emitted electrons from each element pair of the first and second element pairs. And irradiating each of the plurality of phosphors.
【請求項2】 それぞれが対向する一対の電極を有する
複数の電子放出素子 を複数の行方向配線及び列方向配線
を用いてマトリクス状に配列した電子源を用いた画像表
示装置であって、 前記複数の電子放出素子の配列形態とは異なるデルタ
状に配置された複数の蛍光体を有する表示用プレート
と、一つの行において、隣接する 列方向配線に対して時計回
り方向と反時計回り方向に所定角度回転させた電子放出
素子を交互に配置し、同一行に位置している前記電子放
出素子の一方の電極が共通の行方向配線に接続され、前
記同一行に位置している前記電子放出素子の他方の電極
がそれぞれ列方向配線に接続された電子源と、 前記複数の電子放出素子を行単位に選択する走査行選択
手段と、 前記走査行選択手段による選択に同期して選択された
記共通の行方向配線に電圧を印加する行印加手段と、 前記共通の行方向配線に印加された電圧と逆極性で走査
行の画像信号に応じたパルス幅の電圧を前記列方向配線
の一つおきに印加する第1列印加手段と、前記共通の行方向配線に印加された電圧と逆極性で前記
走査行の次の走査行の画像信号に応じたパルス幅の電圧
を、前記第1列印加手段で印加した列方向の配線以外の
配線に印加する第2印加手段と、 を備えることを特徴とする画像表示装置。
2. A semiconductor device comprising a pair of electrodes, each facing each other.
A plurality of electron-emitting devices are connected to a plurality of row wirings and column wirings.
An image display device using an electron source arranged in a matrix by using a plurality of phosphors arranged in a delta shape different from the arrangement form of the plurality of electron-emitting devices. Plate and, in one row, electron emitting elements rotated clockwise and counterclockwise by a predetermined angle with respect to an adjacent column direction wiring are alternately arranged, and the electron emission elements located in the same row An electron source in which one electrode of the element is connected to a common row-direction wiring, and the other electrode of the electron-emitting element located in the same row is connected to each column-direction wiring; and a scanning line selection means for selecting the element in row, before being selected in synchronism with selection by the scanning line selection means
And line applying means for applying a voltage to the serial common row direction wirings, said common row wiring to the voltage applied to the scan in the reverse polarity
A voltage having a pulse width corresponding to the image signal of the row is applied to the column direction wiring.
A first column applying means for applying every other one of the first and second columns, and the first column applying means having a polarity opposite to that of the voltage applied to the common row direction wiring.
Voltage of pulse width according to image signal of the next scanning line after scanning line
Other than the wiring in the column direction applied by the first column applying means.
An image display device comprising: a second application unit that applies a voltage to a wiring .
【請求項3】 それぞれが対向する一対の電極を有する
複数の電子放出素子を複数の行方向配線及び列方向配線
を用いてマトリクス状に配列した電子源を用いた画像表
示装置であって、一つの行において、 時計回り方向と反時計回り方向に所
定角度回転させた電子放出素子を交互に配置して共通の
列方向配線に接続し、同一行に位置している前記電子放
出素子の内の1つおきに配置された第1の電子放出素子
の一方の電極が共通の行方向配線に接続され、前記同一
行に位置している前記第1の電子放出素子以外の第2の
電子放出素子の一方の電極が前記共通の行方向配線の次
行方向配線に接続され、前記第1の電子放出素子の他
方の電極がそれぞれ異なる列方向配線に接続され、前記
第2の電子放出素子の他方の電極のそれぞれが前記複数
列方向配線のそれぞれに接続された電子源と、 前記複数の電子放出素子を行単位に選択する走査行選択
手段と、 前記走査行選択手段による選択に同期して、選択された
電子放出素子を接続する前記共通の行方向配線に電圧を
印加し、次の行走査のタイミングで前記共通の行方向配
線の次の行方向配線に電圧を印加する行印加手段と、前記共通の行印加手段への電圧の印加に同期して、 前記
共通の行方向配線に印加された電圧と逆極性で走査行の
画像信号に応じたパルス幅の電圧を前記列方向配線のそ
れぞれに印加し、前記共通の行方向配線の次の行方向配
線への電圧の印加に同期して、前記走査行の次の行の画
像信号に応じたパルス幅の電圧を前記列方向配線のそれ
ぞれに印加する列印加手段と、 を有することを特徴とする画像表示装置。
3. A device having a pair of electrodes, each facing each other.
A plurality of electron-emitting devices are connected to a plurality of row wirings and column wirings.
An image display device using an electron source arranged in a matrix by using , in one row, the electron emitting elements rotated clockwise and counterclockwise by a predetermined angle are alternately arranged, a common
One electrode of the first electron-emitting device, which is connected to the column-directional wiring and is arranged every other one of the electron-emitting devices located on the same row, is connected to a common row-directional wiring, and One electrode of the second electron-emitting device other than the first electron-emitting device located in the row is connected to the next row of the common row direction wiring.
Is connected to the row wiring, the other electrode of the first electron-emitting device is connected to a different column direction wirings, respectively, wherein the plurality of the other electrode of the second electron-emitting device
An electron source connected to respective column wirings, and a scanning line selection means for selecting the plurality of electron-emitting devices on a row-by-row basis, in synchronization with the selection by the scanning line selecting means, the selected
A voltage is applied to the common row-direction wiring connecting the electron-emitting devices, and the common row-direction wiring is applied at the next row scanning timing.
A row applying means for applying a voltage to the next row direction wiring of the line, and in synchronization with the application of the voltage to the common row applying means,
The polarity of the scanning row is opposite to the voltage applied to the common row direction wiring .
A voltage having a pulse width corresponding to the image signal is applied to the column wiring.
Applied to each of them, and the next row direction wiring of the common row direction wiring is applied.
In synchronization with the application of voltage to the line, the image of the next line
A voltage having a pulse width corresponding to an image signal is applied to that of the column-directional wiring.
The image display apparatus characterized by having a column applying means for applying to, respectively.
【請求項4】 前記所定角度は60度であることを特徴
とする請求項2又は3に記載の画像表示装置。
4. The image display device according to claim 2, wherein the predetermined angle is 60 degrees.
【請求項5】 前記電子放出素子の電子放出部の略中心
が前記蛍光体の2行の間に位置し、かつ電子放出素子の
行数は蛍光体の行数の半分であることを特徴とする請求
項1乃至3のいずれか1項に記載の画像表示装置
5. positioned between approximately the center of the electron emission portion of the electron-emitting devices of two rows of the phosphor, and the number of rows electron-emitting devices and characterized in that half the number of lines of phosphor Request
Item 4. The image display device according to any one of Items 1 to 3 .
【請求項6】 前記電子放出素子の電子放出部の略中心
が行方向に対して蛍光体の行方向の長さを約1:3に分
割する位置に設けられていることを特徴とする請求項1
乃至3のいずれか1項に記載の画像表示装置
6. A substantially center of the electron emission portion of the electron-emitting devices in the row direction of the phosphor length about the row direction 1: claims, characterized in that are provided at positions divided into 3 Item 1
The image display device according to any one of claims 1 to 3 .
【請求項7】 前記電子放出素子は表面伝導型放出素子
であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項
に記載の画像表示装置
7. any one of claims 1 to 6, characterized in that said electron-emitting devices are surface conduction electron-emitting devices
An image display device according to claim 1 .
【請求項8】 請求項1に記載の画像表示装置における
画像表示方法であって、 前記複数の電子放出素子を行単位に選択する工程と、 行の選択に同期して選択された行方向配線に正極性の電
位を印加する工程と、 前記正極性の電位が印加された行の電子放出素子の隣接
する前記第1の素子対群のそれぞれが接続されている
2本の列方向配線のそれぞれに負極性で走査行の画像信
号に応じたパルス幅の同じ電位の画像信号を印加する工
程と、 行の選択に同期して選択された行方向配線に負極性の電
位を印加する工程と、 前記負極性の電位が印加された行の電子放出素子の内、
前記直前に印加された前記第1の素子対群とは異なる
記第2の素子対群のそれぞれが接続されている各2本の
列方向配線のそれぞれに正極性で前記走査行の次の走査
行の画像信号に応じたパルス幅の同じ電位の画像信号を
印加する工程とを有し、前記第1及び第2の素子対群のそれぞれ素子対 からの放
出電子で前記複数の蛍光体のそれぞれを照射することを
特徴とする画像表示方法。
8. The image display method in the image display device according to claim 1, wherein the step of selecting the plurality of electron-emitting devices on a row-by-row basis, and a row-directional wiring selected in synchronization with the row selection. in the step of applying a positive potential, each respective said first element pair group adjacent electron-emitting devices of the line potential of the positive polarity is applied are connected
Each of the two column wirings has a negative polarity image signal of a scanning row.
Applying an image signal of the same potential having a pulse width corresponding to the signal, applying a negative potential to a selected row direction wiring in synchronization with the selection of a row, and applying the negative potential. Row of electron-emitting devices
Before being different from the first element pair group applied immediately before
Serial next scan of the scanning line in the positive polarity to each of the second element pair group of the two, each being connected <br/> column wirings
And a step of applying an image signal of the same potential having a pulse width corresponding to the image signal lines, each of the plurality of phosphor electrons emitted from each element pair of said first and second element pair group the image display method characterized by irradiating.
【請求項9】 請求項2に記載の画像表示装置における
画像表示方法であって、 前記複数の電子放出素子を行単位に選択する工程と、 行の選択に同期して選択された行方向配線に電圧を印加
する工程と、 前記行方向配線に印加された電圧と逆極性で走査行の画
像信号に応じたパルス幅の電圧を前記複数の列方向配線
の一つおきにに印加する第1印加工程と、前記行方向配線に印加された電圧と逆極性で前記走査行
の次の走査行の画像信号に応じたパルス幅の電圧を、前
記第1印加工程で印加していない前記列方向配線に印加
する第2印加工程と、 を有することを特徴とする画像表示方法。
9. The image display method according to claim 2, wherein the plurality of electron-emitting devices are selected in units of rows, and a row-directional wiring selected in synchronization with the selection of the rows. Applying a voltage to the scan line image with a polarity opposite to the voltage applied to the row direction wiring.
Applying a voltage having a pulse width corresponding to an image signal to the plurality of column-direction wirings;
A first application step of applying every other of the scan lines,
Of the pulse width corresponding to the image signal of the next scanning line
Applying to the column direction wiring not applied in the first applying step
And a second applying step .
【請求項10】 請求項に記載の画像表示装置におけ
る画像表示方法であって、 前記複数の電子放出素子を行単位に選択する工程と、 行選択に同期して選択された電子放出素子を接続する前
記共通の行方向配線に電圧を印加する第1印加工程と、 前記共通の行方向配線に接続された電子放出素子に接続
されている前記複数の列方向配線のそれぞれに前記電圧
と逆極性で走査行の画像信号に応じたパルス幅の電圧を
印加する工程と、前記共通の行方向配線の次の行方向配線に電圧を印加す
る第2印加工程と、 前記次の行方向配線に接続された 電子放出素子に接続さ
れている前記列方向配線のそれぞれに、前記第2印加に
おける前記電圧と逆極性で前記走査行の次の走査行の画
像信号に応じたパルス幅の電圧の画像信号を印加する工
程と、 を有することを特徴とする画像表示方法。
10. An image display method in an image display apparatus according to claim 3, the step of selecting the plurality of electron-emitting devices on a row-by-row basis, an electron-emitting device that is selected in synchronization with the row selection Before connecting
A first applying step of applying a voltage to the common row-directional wiring; and applying a reverse polarity to the voltage to each of the plurality of column-directional wirings connected to the electron-emitting devices connected to the common row-directional wiring. Applying a voltage having a pulse width corresponding to the image signal of the scanning row; and applying a voltage to a row-direction wiring next to the common row-direction wiring.
A second application step that each of said column direction wiring connected to the connected electron-emitting element to the next row wirings, the second application
Image of the next scan line of the scan lines in the voltage having a polarity opposite to the polarity of definitive
Applying an image signal of a voltage having a pulse width according to the image signal.
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